KR102020248B1 - Method of manufacturing pellicle - Google Patents

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Abstract

[과제] 1회의 성막 공정으로 복수의 펠리클을 제조하는 방법과 펠리클막의 장력을 균일하게 해서 펠리클을 제조함으로써 프레임의 휨과 펠리클막으로의 주름의 발생을 방지하는 방법을 제공한다.
[해결 수단] 임시 프레임(21)에 임시 부착된 1매의 펠리클막(3)에 결합된 분할 프레임(41)을 첩부한 후에 펠리클막(3)을 절단해서 분할 프레임(41)을 분리하고 프레임에 첩부한 후에 분할 프레임(41)을 제거하는 펠리클의 제조 방법.[PROBLEMS] To provide a method for producing a plurality of pellicles in a single film forming step and a method for preventing warpage of the frame and generation of wrinkles into the pellicle film by producing pellicles by uniformly tensioning the pellicle film.
[Solution] After affixing the split frame 41 bonded to one pellicle film 3 temporarily attached to the temporary frame 21, the pellicle film 3 is cut to separate the split frame 41, and the frame The manufacturing method of the pellicle which removes a division frame 41 after affixing on.

Description

펠리클의 제조 방법{METHOD OF MANUFACTURING PELLICLE}Manufacturing method of the pellicle {METHOD OF MANUFACTURING PELLICLE}

본 발명은 LSI나 액정 디스플레이의 회로를 제조하는 리소그래피의 포토 마스크 등의 방진 커버로서 이용되는 펠리클의 제조 방법에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD This invention relates to the manufacturing method of the pellicle used as a dustproof cover, such as a photomask of lithography which manufactures a circuit of LSI and a liquid crystal display.

LSI나 초LSI 등의 반도체 제조 또는 액정 디스플레이 등의 제조에 있어서 반도체 웨이퍼 또는 액정용 원판에 광을 조사해서 패턴을 제작하는 리소그래피의 작업이 행하여진다. 이때, 포토 마스크 또는 레티클에 먼지가 부착되어 있으면 먼지가 사입(寫入)되어 전사한 패턴이 변형되거나 에지가 울퉁불퉁하게 되는 것 외에 하지가 검게 오염되는 등의 현상이 발생할 수 있다. 이 작업은 주로 클린룸에서 행해지고 있지만 포토 마스크를 항상 청정하게 유지하는 것은 어렵다. 예를 들면, 리소그래피시에 펠리클을 포토 마스크 상에 탑재해서 포토 마스크의 이물 부착을 방지하면서 초점을 포토 마스크의 패턴 상에 맞추어 노광함으로써 펠리클막 상에 부착된 먼지에 의해 영향을 받지 않고 전사할 수 있다.In the manufacture of semiconductors such as LSI and ultra-LSI, or the manufacture of liquid crystal displays, a lithography operation is performed in which light is irradiated onto a semiconductor wafer or a liquid crystal display plate to form a pattern. At this time, when dust adheres to the photo mask or reticle, dust may be inserted and the transferred pattern may be deformed or the edges may be rugged, and the lower surface may be contaminated black. This operation is mainly done in a clean room, but it is difficult to keep the photo mask clean at all times. For example, during lithography, a pellicle can be mounted on a photo mask to prevent foreign matter from adhering to the photo mask while exposing the focal point to the pattern of the photo mask to expose the transfer without being affected by the dust deposited on the pellicle film. have.

최근, 펠리클에도 저비용화가 강하게 요구되도록 되어 오고 있다. 펠리클의 제조 비용 중 가장 높은 비율을 차지하고 있는 것은 펠리클막의 제조 공정이다. 종래의 펠리클의 제조 공정 중 펠리클막의 성막 공정은 1회의 공정으로 1매의 펠리클막밖에 얻어지지 않고 또한 이 공정에는 적어도 몇 시간이 필요로 되었다. 특허문헌 1에는 펠리클막의 제조 방법이 기재되어 있다.In recent years, pellicles have also been strongly demanded for cost reduction. The highest proportion of the manufacturing cost of the pellicle is the manufacturing process of the pellicle film. In the conventional pellicle manufacturing process, only one pellicle film is obtained in one process, and the process requires at least several hours. Patent Document 1 describes a method for producing a pellicle film.

또한, 프레임의 휨은 가능한 한 작은 것이 바람직하고, 이에 첩부(貼付)된 펠리클막에는 주름이 있어서는 안된다. 특허문헌 2에는 펠리클막의 장력을 조정해서 주름의 발생을 방지하는 방법이 기재되어 있다.In addition, it is preferable that the warping of the frame is as small as possible, and the pellicle film affixed thereto should not have wrinkles. Patent Document 2 describes a method of preventing the occurrence of wrinkles by adjusting the tension of the pellicle film.

일본 특허 공개 제 2004-157229 호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2004-157229 일본 특허 공개 제 2011-158585 호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2011-158585

성막 공정에서 얻어진 펠리클막은 면내에 있어서의 장력이 균일한 것이 요구되지만 1회의 성막 공정으로 얻어진 1매의 펠리클막을 복수로 분할했을 경우에는 그 방향 및 분포, 또는 그 어느 하나가 불균일하게 된다. 장력의 큰 팽팽한 변이 존재할 경우에는 장력의 작용에 의해 프레임에 휨이 발생한다. 또한, 장력의 작은 이완된 변이 존재할 경우에는 프레임의 휨은 발생하지 않지만 프레임으로의 약간의 힘에 의해 펠리클막에 주름이 발생한다. 이들이 발생된 펠리클은 광학적인 노광 품질에 악영향을 주고 노광 영역을 감소시키는 문제점을 초래하고 있다.The pellicle film obtained in the film forming step is required to have a uniform in-plane tension, but when one pellicle film obtained in one film forming step is divided into a plurality, the direction and distribution, or any one of them, becomes uneven. When there is a large taut side of tension, warpage occurs in the frame by the action of tension. In addition, when there is a small relaxed side of tension, warping of the frame does not occur, but wrinkles occur in the pellicle film due to a slight force to the frame. The generated pellicle adversely affects the optical exposure quality and causes a problem of reducing the exposure area.

본 발명은 상기의 과제를 해결하기 위해서 이루어진 것으로 1회의 성막 공정으로 복수의 펠리클을 제조하는 방법과, 펠리클막의 장력의 불균일을 해소해서 펠리클을 제조함으로써 프레임의 휨과 펠리클막으로의 주름의 발생을 방지하는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and a method of manufacturing a plurality of pellicles in one film forming process and a pellicle manufacturing by eliminating the unevenness of the tension of the pellicle film to prevent warpage of the frame and generation of wrinkles into the pellicle film. It is an object to provide a method of preventing.

상기의 목적을 달성하기 위해서 이루어진 특허청구 범위의 청구항 1에 기재된 펠리클의 제조 방법은 펠리클막을 프레임에 팽팽히 체결해서 첩부하는 펠리클의 제조 방법에 있어서, 1매의 펠리클막을 임시 프레임 상에 첩부하고, 상기 임시 프레임의 내측 치수보다도 작은 외측 치수의 복수 나열하여 결합된 분할 프레임을 임시 프레임 상의 펠리클막에 접착하고나서 펠리클막을 분할 프레임의 외변을 따라 임시 프레임으로부터 잘라냄과 아울러 결합된 분할 프레임을 분리하며, 각각의 분할 프레임 상에 접착된 펠리클막을 프레임에 첩부하고나서 분할 프레임을 제거하는 것을 특징으로 한다.In the method for producing a pellicle according to claim 1 of the claims made in order to achieve the above object, in the method for producing a pellicle in which a pellicle film is tightly fastened to a frame, the pellicle film is attached to a temporary frame, and Attaching the combined divided frames having a plurality of outer dimensions smaller than the inner dimensions of the temporary frame to the pellicle film on the temporary frame, cutting the pellicle film from the temporary frame along the outer side of the divided frame, and separating the combined divided frames, A pellicle film adhered on each divided frame is attached to the frame, and then the divided frame is removed.

청구항 2에 기재된 펠리클막의 제조 방법은 펠리클막을 프레임에 팽팽히 체결해서 첩부하는 펠리클의 제조 방법에 있어서, 성막 기판 상의 1매의 펠리클막을 복수 나열하여 결합된 분할 프레임에 첩부하고, 펠리클막을 분할 프레임의 외변을 따라 성막 기판으로부터 잘라냄과 아울러 결합된 분할 프레임을 분리하고, 각각의 분할 프레임 상에 접착된 펠리클막을 프레임에 첩부하고나서 분할 프레임을 제거하는 것을 특징으로 하는 펠리클의 제조 방법이다.In the method for producing a pellicle film according to claim 2, in the method for producing a pellicle in which a pellicle film is tightly fastened to a frame, the pellicle film is attached to a divided frame in which a plurality of pellicle films on a film-forming substrate are arranged and bonded to each other. The method of manufacturing a pellicle is characterized in that it cuts out from the film-forming substrate along with it, separates the divided split frames, and attaches a pellicle film adhered to each divided frame to the frames, and then removes the divided frames.

청구항 3에 기재된 펠리클막의 제조 방법은 청구항 1 또는 2에 기재의 펠리클의 제조 방법으로서, 분할 프레임 상에 접착된 펠리클막을 프레임에 첩부할 때 분할 프레임에 압축 또는 인장의 힘을 가해서 펠리클막을 첩부하고나서 상기 힘을 해방하는 것을 특징으로 한다.The manufacturing method of the pellicle film of Claim 3 is a manufacturing method of the pellicle of Claim 1 or 2, Comprising: When a pellicle film adhere | attached on a split frame is applied to a frame by applying the force of compression or tension to a split frame, It is characterized by releasing the force.

청구항 4에 기재된 펠리클막의 제조 방법은 청구항 1 또는 2에 기재의 펠리클의 제조 방법으로서 분할 프레임 상에 접착된 펠리클막을 프레임에 첩부할 때 프레임에 압축 또는 인장의 힘을 가해서 펠리클막을 첩부하고나서 상기 힘을 해방하는 것을 특징으로 한다.The manufacturing method of the pellicle film of Claim 4 is a manufacturing method of the pellicle of Claim 1 or 2, When a pellicle film | membrane adhered on a split frame is affixed to a frame, the pellicle film | membrane is applied after applying a force of compression or tension to a frame. It characterized in that the liberation.

청구항 5에 기재된 펠리클은 청구항 1 내지 4 중 어느 한 항에 기재된 방법에 의해 제조된 것을 특징으로 한다.The pellicle of Claim 5 was produced by the method of any one of Claims 1-4, It is characterized by the above-mentioned.

[발명의 효과][Effects of the Invention]

본 발명의 펠리클의 제조 방법에 의하면, 1회의 성막 공정으로 복수의 펠리클막을 취득할 수 있다. 또한, 펠리클막을 프레임에 접착할 때에 펠리클막의 장력을 균일하게 함으로써 프레임의 휨량이 요구 정밀도를 만족함과 아울러 펠리클막에 주름이 발생할 일도 없는 충분히 실용에 제공할 수 있는 펠리클을 취득할 수 있다.According to the method for producing a pellicle of the present invention, a plurality of pellicle films can be obtained in one film forming step. In addition, by uniformizing the tension of the pellicle film when adhering the pellicle film to the frame, it is possible to obtain a pellicle which can be provided for practical use in which the amount of warpage of the frame satisfies the required precision and the wrinkles do not occur in the pellicle film.

도 1은 본 발명에 의한 제조 방법에 의해 제조된 펠리클의 일례를 나타내는 사시도이다.
도 2는 펠리클막의 성막 공정의 일례를 나타내는 공정도이다.
도 3은 분할 프레임을 펠리클막에 접착한 후 펠리클막을 분할하는 방법의 일례를 나타내는 사시도이다.
도 4는 압축 또는 인장의 힘을 가한 분할 프레임을 프레임에 첩부하는 방법의 일례를 나타내는 사시도이다.
도 5는 분할 프레임을 펠리클막에 접착한 후 펠리클막을 분할하는 방법의 다른 예를 설명하는 사시도이다.
도 6은 인장의 힘을 가해서 변형시킨 프레임에 펠리클막을 첩부함으로써 펠리클막의 각 변의 장력의 불균일을 해소하는 방법의 일례를 설명하는 사시도이다.1 is a perspective view showing an example of a pellicle manufactured by a manufacturing method according to the present invention.
2 is a process chart showing an example of a film formation process of a pellicle film.
3 is a perspective view showing an example of a method of dividing a pellicle film after attaching the split frame to the pellicle film.
It is a perspective view which shows an example of the method of affixing a dividing frame which applied compression or tension force to a frame.
5 is a perspective view illustrating another example of a method of dividing a pellicle film after attaching the split frame to the pellicle film.
FIG. 6 is a perspective view illustrating an example of a method of eliminating the unevenness in tension of each side of the pellicle film by attaching the pellicle film to the frame deformed by applying the tensile force.

이하, 본 발명을 실시하기 위한 바람직한 형태에 대해서 상세하게 설명하지만 본 발명의 범위는 이것들의 형태에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, although the preferable form for implementing this invention is demonstrated in detail, the scope of the present invention is not limited to these forms.

본 발명에 의한 제조 방법에 의해 제조된 펠리클(10)의 사시도를 도 1에 나타낸다. 프레임(2)의 상단면에는 펠리클막 접착층(8)이 형성되고, 이것을 통해서 펠리클막(3)이 팽팽히 체결하여 첩부되어 있다. 프레임(2)의 장변부의 측면에는 통기공(4)과 지그 구멍(5)이 형성되어 있다. 통기공(4)에는 먼지 막이의 필터(7)가 설치되어 있다. 프레임(2)의 하단면에는 포토 마스크에 장착하기 위한 마스크 접착층(6)이 형성되고, 또한 이것을 보호하기 위한 이형층인 세퍼레이터(9)가 형성되어 있다.The perspective view of the pellicle 10 manufactured by the manufacturing method by this invention is shown in FIG. The pellicle film adhesive layer 8 is formed in the upper end surface of the frame 2, and the pellicle film 3 is tightened and affixed through this. Vent holes 4 and jig holes 5 are formed on the side surfaces of the long sides of the frame 2. The vent hole 4 is provided with a dust filter 7. The mask adhesive layer 6 for attaching to a photomask is formed in the lower surface of the frame 2, and the separator 9 which is a release layer for protecting this is formed.

도 2에 본 발명에서 이용되는 펠리클막의 성막 공정의 일례를 나타낸다. 도 2(a)에 나타낸 바와 같이, 성막 기판(24)에 다이(31)를 수평으로 이동시켜서 펠리클막 재료 용액(3a)을 도포한다. 도 2(b)에 나타낸 바와 같이, 성막 기판(24)을 가열 장치(32)에 탑재, 가열해서 펠리클막 재료 용액(3a)에 포함되는 용매를 증발시킨 후 냉각한다. 도 2(c)에 나타낸 바와 같이, 펠리클막(3)에 접착층(22)이 일단면에 도포된 임시 프레임(21)(일부 노치 단면)을 접착한다. 도 2(d)에 나타낸 바와 같이, 임시 프레임(21)을 들어올려 펠리클막(3)을 성막 기판(24)으로부터 박리하고, 임시 프레임(21)에 임시 부착된 펠리클막(3)을 얻는다.An example of the film formation process of the pellicle film used by this invention is shown in FIG. As shown in Fig. 2 (a), the pellicle film material solution 3a is applied by moving the die 31 horizontally to the film formation substrate 24. As shown in FIG.2 (b), the film-forming board | substrate 24 is mounted in the heating apparatus 32, it heats, the solvent contained in the pellicle film material solution 3a is evaporated, and it cools. As shown in FIG.2 (c), the temporary frame 21 (part notch cross section) by which the adhesive layer 22 was apply | coated to the pellicle film 3 at one end surface is adhere | attached. As shown in FIG. 2 (d), the temporary frame 21 is lifted up, the pellicle film 3 is peeled off from the film formation substrate 24, and the pellicle film 3 temporarily attached to the temporary frame 21 is obtained.

도 3(a)에 나타내는 분할 프레임(41)은 약간의 휨성이 있는 재질로 이루어지고, 일단면에 접착층(42)이 형성되어 있다. 또한, 복수 나열하여 핀(45)과 위치 결정 구멍(46)[도 3(b) 참조]에 의해 위치 결정되고, 내측 방향으로 홀딩하는 클립(43)에 의해 결합되어 있다. 결합된 분할 프레임(41)의 외측 치수는 임시 프레임(21)의 내측 치수보다도 작게 형성되어 있다. 임시 프레임(21)에 임시 부착된 펠리클막(3)에 접착층(42)을 통해서 분할 프레임(41)을 접착한다. 커터를 이용해서 분할 프레임(41)의 외변을 따라 펠리클막(3)을 절단하고, 임시 프레임(21)으로부터 떼어낸 후 클립(43)을 떼어내고 분할선 X-X, Y-Y로 절단한다. 도 3(b)에 나타낸 바와 같이, 펠리클막(3)은 분할 프레임(41)에 접착된 상태에서 분할된다.The divided frame 41 shown in Fig. 3A is made of a material having a slight warpage, and an adhesive layer 42 is formed on one end surface. In addition, a plurality of pins 45 and a positioning hole 46 (see Fig. 3 (b)) are positioned, and are engaged by a clip 43 that is held in an inward direction. The outer dimension of the combined split frame 41 is smaller than the inner dimension of the temporary frame 21. The split frame 41 is adhered to the pellicle film 3 temporarily attached to the temporary frame 21 through the adhesive layer 42. The pellicle film 3 is cut along the outer side of the split frame 41 using a cutter, and after removing from the temporary frame 21, the clip 43 is removed and cut by the dividing lines X-X and Y-Y. As shown in Fig. 3B, the pellicle film 3 is divided in a state in which the pellicle film 3 is adhered to the split frame 41. Figs.

도 4에 막 첩부 장치(50)를 이용해서 펠리클막(3)을 프레임(2)에 첩부하는 공정의 사시도를 나타낸다. 프레임(2)에는 본 도면에서는 생략되었지만 마스크 접착층(6), 펠리클막 접착층(8) 및 세퍼레이터(9)(도 1 참조)가 부착되어 있다. 막 첩부 장치(50)는 사각 형상이며 분할 프레임(41)을 탑재하는 탑재대(51)와, 이것의 각 모서리부 중 적어도 1개에 설치된 고정부(52)와, 탑재대(51)의 내측에 설치된 승강 탑재대(53)와, 탑재대(51)의 각 변 중 적어도 1개에 설치된 압축 인장 장치(55)로 이루어진다.The perspective view of the process of sticking the pellicle film 3 to the frame 2 using the film sticking apparatus 50 is shown. Although not shown in the drawing, the frame 2 is attached with a mask adhesive layer 6, a pellicle film adhesive layer 8, and a separator 9 (see Fig. 1). The membrane pasting device 50 has a rectangular shape and has a mounting table 51 on which the split frame 41 is mounted, a fixing part 52 provided on at least one of the corner portions thereof, and an inside of the mounting table 51. It consists of the lifting mounting base 53 provided in the inside, and the compression tension apparatus 55 provided in at least one of each side of the mounting base 51. As shown in FIG.

분할 프레임(41)은 고정부(52)에 의해 위치 결정되어서 탑재대(51)에 탑재된다. 승강 탑재대(53)의 하면에는 승강 기구(도시되지 않음)가 설치되어 있고, 상승함으로써 탑재된 프레임(2)이 상방으로 이동하고 펠리클막(3)에 부착된다.The divided frame 41 is positioned by the fixing portion 52 and mounted on the mounting table 51. An elevating mechanism (not shown) is provided on the lower surface of the elevating mounting table 53, and when mounted, the mounted frame 2 moves upward and is attached to the pellicle film 3.

압축 인장 장치(55)는 분할 프레임(41) 각 변과 직교하는 방향으로 가동하고, 로드셀(57)에서 검출한 압축 또는 인장의 힘을 연결부(56)를 통해서 파지부(54)에 가한다. 여기서, 압축은 힘을 가하는 방향이 프레임의 변에 대하여 외측으로부터 내측 방향인 것을, 인장은 그 반대인 것을 의미한다. 2점 쇄선은 힘을 가한 상태를 나타내고 있고, 분할 프레임(41)의 한 쌍의 장변에 압축의 힘을, 단변에 인장의 힘을 가했을 경우를 나타내고 있다. 펠리클막(3)의 장력이 각 변에서 불균일할 때는 스테이지(58)를 이동시킴으로써 분할 프레임(41)에 압축 또는 인장의 힘을 가하여 장력이 각 변에서 균일해지도록 한 후 프레임(2)을 펠리클막(3)에 첩부한다. 그 후, 힘을 해방하고 펠리클막(3)의 잉여부를 커터로 잘라냄으로써 도 1에 나타내는 펠리클(10)이 완성된다.The compression tension device 55 operates in a direction orthogonal to each side of the divided frame 41, and applies the compression or tension force detected by the load cell 57 to the grip portion 54 through the connection portion 56. Here, compression means that the direction in which the force is applied is from the outside to the inward direction with respect to the side of the frame, and the tension is the reverse. The dashed-dotted line shows the state which applied the force, and has shown the case where the compression force is applied to the pair of long sides of the divided frame 41, and the tension force is applied to the short side. When the tension of the pellicle film 3 is uneven at each side, the stage 58 is moved to apply a compression or tension force to the divided frame 41 so that the tension is uniform at each side, and then the frame 2 is pellicleed. It affixes to the film | membrane 3. Then, the pellicle 10 shown in FIG. 1 is completed by releasing a force and cutting out the excess part of the pellicle film 3 with a cutter.

도 5에 본 발명에 의한 펠리클막을 분할하는 방법에 대한 다른 실시형태를 나타낸다. 분할 프레임(41)을 성막 기판(24) 상의 펠리클막(3)에 접착하고 성막 기판(24)으로부터 이간시키면 펠리클막(3)은 분할 프레임(41)에 지지된다. 그 다음에 클립(43)을 떼어내고, 펠리클막(3)을 분할선 X-X, Y-Y와 분할 프레임(41)의 외변을 따라 절단해서 펠리클막(3)이 접착된 분할 프레임(41)을 얻는다. 본 실시형태에 의하면, 임시 프레임을 이용하지 않기 때문에 상기한 실시형태와 비교해서 공정수가 적고 펠리클막의 분할을 신속하게 행할 수 있다는 이점이 있다.5 shows another embodiment of the method for dividing the pellicle film according to the present invention. When the dividing frame 41 is adhered to the pellicle film 3 on the film forming substrate 24 and separated from the film forming substrate 24, the pellicle film 3 is supported by the dividing frame 41. Then, the clip 43 is removed and the pellicle film 3 is cut along the outer sides of the dividing lines X-X, Y-Y and the dividing frame 41 to obtain a dividing frame 41 to which the pellicle film 3 is adhered. According to this embodiment, since the temporary frame is not used, there is an advantage that the number of steps is small and the pellicle film can be divided quickly as compared with the above-described embodiment.

도 4의 펠리클막을 프레임에 접착하는 공정에 있어서의 다른 실시형태로서는 프레임(2) 대신에 압축 또는 인장의 힘을 가해서 변형시킨 프레임을 이용할 수도 있다.As another embodiment in the process of adhering the pellicle film of FIG. 4 to the frame, a frame modified by applying compression or tensioning force may be used instead of the frame 2.

도 6에 프레임을 변형시켜서 펠리클막의 장력의 불균일을 해소하는 방법의 예를 나타낸다. 펠리클막의 장력이 높을 경우에는 프레임(2a)의 외측에 대하여 볼록 형상의 원호 형상이 되도록 각 변에 인장의 힘을 가해서 변형시켜 둔다. 펠리클막을 첩부시킨 후에 인장의 힘을 해방하면 각 변에는 내측으로 리턴하려고 하는 힘 (F)이 발생되므로 직선 형상으로 추이(推移)하고, 이에 따라 펠리클막의 장력은 감소해서 프레임의 휨을 방지할 수 있다. 힘을 가하는 수단으로서는 도 4에 나타내는 압축 인장 장치(55)와 동일한 것을 이용할 수 있다. 로드셀 등의 하중 검출 기구에 의해 프레임의 각 변에 가하는 힘의 방향 및 크기를 적절히 조절함으로써 펠리클막의 장력의 불균일을 해소한다.6 shows an example of a method of deforming the tension of the pellicle film by deforming the frame. When the tension of the pellicle film is high, it is deformed by applying a tensile force to each side so as to have a convex arc shape with respect to the outside of the frame 2a. When the tensile force is released after the pellicle film is affixed, a force (F) that tries to return to the inner side is generated on each side, so that it is converted into a straight shape, and the tension of the pellicle film is reduced, thereby preventing warpage of the frame. . As a means for applying a force, the same thing as the compression tension apparatus 55 shown in FIG. 4 can be used. The tension nonuniformity of the pellicle film is eliminated by appropriately adjusting the direction and magnitude of the force applied to each side of the frame by a load detection mechanism such as a load cell.

또한, 도 4의 막 첩부 장치(50)를 이용해서 펠리클막의 장력을 균일하게 하는 방법과 도 6의 프레임을 변형시켜서 펠리클막의 장력을 균일하게 하는 방법 중 어느 하나를 이용해도 좋고 양방을 조합시켜 동시에 이용해도 좋다. 또한, 프레임 각 변이 외측에 대하여 볼록 형상의 원호 형상이 되도록 미리 제작하고, 펠리클막의 장력에 의해 대략 직선 형상으로 추이시키는 방법을 조합시키는 것도 좋다.In addition, either the method of making the tension of the pellicle film uniform using the film sticking device 50 of FIG. 4 or the method of making the tension of the pellicle film uniform by deforming the frame of FIG. 6 may be used. You may use it. In addition, it is also possible to combine the method of making each side of a frame into a convex circular arc shape with respect to the outer side, and making a transition to substantially linear shape by the tension of a pellicle film | membrane.

프레임(2)의 재질로서는 알루미늄, 스테인레스, 폴리에틸렌 등을 이용할 수 있다. 광을 투과하는 펠리클막(3)은 니트로셀룰로오스, 초산 셀룰오로스 또는 불소 수지 등을 이용할 수 있다. 마스크 접착층(6)은 폴리부텐 수지, 폴리 초산 비닐 수지, 아크릴 수지, 실리콘 수지 등을 이용할 수 있다.As the material of the frame 2, aluminum, stainless steel, polyethylene, or the like can be used. As the pellicle film 3 that transmits light, nitrocellulose, cellulose acetate, or a fluororesin may be used. The mask adhesive layer 6 may be made of polybutene resin, polyvinyl acetate resin, acrylic resin, silicone resin, or the like.

성막 기판(24)은 석영, 저팽창 글라스 등을 이용할 수 있다. 펠리클막 재료 용액(3a)을 도포하는 방법에 대해서는 슬릿 코트법, 스핀 코트법, 슬릿 앤드 스핀법 및 롤 코트법을 이용할 수 있다. 가열 장치(32)는 핫 플레이트, 적외선 램프 및 오븐 등을 이용할 수 있다.The film deposition substrate 24 may be made of quartz, low expansion glass, or the like. As the method of applying the pellicle film material solution 3a, the slit coat method, the spin coat method, the slit and spin method and the roll coat method can be used. The heating device 32 may use a hot plate, an infrared lamp, an oven, or the like.

임시 프레임(21)과 분할 프레임(41)의 휨성이 있는 재질로서는 알루미늄 합금, 마그네슘 합금 등의 경합금, 스테인레스강, 탄소강, 공구강 등의 철계 합금 외에 GFRP, CFRP 등의 수지 복합재 등을 이용할 수 있다. 임시 프레임(21)은 각 변의 휨을 적게 해서 펠리클막(3)의 장력을 높게 하는 관점으로부터 높은 강성을 갖는 스테인레스강이 바람직하다. 분할 프레임(41)은 집광 램프를 이용한 이물 검사로 행하는 것이므로 경량 또한 흑색으로 착색이 용이한 알루미늄 합금이 바람직하다.As the warpable material of the temporary frame 21 and the divided frame 41, resin composite materials such as GFRP, CFRP, etc. can be used in addition to light alloys such as aluminum alloys and magnesium alloys, iron alloys such as stainless steel, carbon steel, and tool steel. The temporary frame 21 is preferably stainless steel having high rigidity from the viewpoint of reducing the warpage of each side to increase the tension of the pellicle film 3. Since the dividing frame 41 is carried out by a foreign material inspection using a condensing lamp, an aluminum alloy that is light in weight and easily colored in black is preferable.

도 3 및 도 5에 있어서는 분할 프레임(41)이 4체로 형성되어 있지만 필요에 따라 적절히 수를 증감할 수 있어 예를 들면 2체이여도, 6체이여도 그 이상이여도 좋다.In FIG.3 and FIG.5, although the division frame 41 is formed into four pieces, the number can be increased or decreased suitably as needed, for example, two pieces, six pieces, or more may be sufficient.

도 4 중 파지부(54)는 コ자 형상 또는 훅 형상의 지그이고 분할 프레임(41)의 각 변에 하나 또는 복수 설치해도 좋다. 또한, 힘을 가하는 방향은 도시된 방향으로 한정되는 것이 아니고 대향하는 변에서 힘을 가하는 방향이나 크기가 달라도 좋다.In FIG. 4, the holding part 54 is a U-shaped or hook-shaped jig | tool, and you may install one or more in each side of the division frame 41. As shown in FIG. In addition, the direction of applying force is not limited to the direction shown in the drawing, and the direction or magnitude of applying force on opposite sides may be different.

[실시예]EXAMPLE

이하에 실시예를 들어서 본 발명을 구체적으로 설명하지만 본 발명은 이들에 전혀 제한되는 것은 아니다.Although an Example is given to the following and this invention is concretely demonstrated to it, this invention is not restrict | limited to these at all.

클래스(10)의 클린룸 내에 있어서 도 2(a)~(d)에 나타내는 공정으로 펠리클막을 제조했다. 도 2(a)에 나타내는 성막 기판(24)에는 1220×1400mm의 평활하게 연마한 석영 기판을 이용하고, 용매에 희석한 불소 수지[상품명: 사이탑 아사히 글라스(주) 제]로 이루어진 펠리클막 재료 용액(3a)을 다이(31)로부터 토출하면서 이동시켜 도포했다. 그 상태에서 클린룸의 기류하에서 용매를 건조시킨 후 도 2(b)와 같이 가열 장치(32)(알루미늄 합금제 핫플레이트) 상에 성막 기판(24)을 이동해서 가열하고, 도포한 펠리클막 재료 용액(3a)에 포함되는 용매를 완전히 증발시켜서 펠리클막(3)을 성막했다.In the clean room of class 10, the pellicle film | membrane was manufactured by the process shown to FIG. 2 (a)-(d). A pellicle film material made of a fluorine resin (trade name: manufactured by Saitop Asahi Glass Co., Ltd.) diluted in a solvent using a 1220 x 1400 mm smoothly polished quartz substrate as the film forming substrate 24 shown in FIG. The solution 3a was applied while moving while discharging from the die 31. In this state, the solvent is dried under the airflow of the clean room, and then the film-forming substrate 24 is moved and heated on the heating device 32 (hot plate made of aluminum alloy) as shown in FIG. The pellicle film 3 was formed by evaporating the solvent contained in the solution 3a completely.

성막 기판(24)이 실온까지 냉각된 후, 도 2(c)와 같이 펠리클막(3)에 임시 프레임(21)을 접착층(22)을 통해서 접착했다. 그리고 도 2(d)와 같이 제전 수단(도시되지 않음)에 의해 제전을 행하면서 임시 프레임(21)을 천천히 상방으로 들어올려 성막 기판(24)으로부터 박리하고, 임시 프레임(21)에 첩부된 펠리클막(3)을 얻었다.After the film-forming substrate 24 was cooled to room temperature, the temporary frame 21 was adhered to the pellicle film 3 through the adhesive layer 22 as shown in Fig. 2C. Then, as shown in FIG. 2 (d), the temporary frame 21 is slowly lifted upward while being discharged by the static eliminating means (not shown) to be peeled off from the film formation substrate 24, and the pellicle attached to the temporary frame 21. The membrane (3) was obtained.

상기 펠리클막(3)을 암실 내에서 집광 램프를 이용한 이물 검사를 행한 후, 도 3(a)와 같이 스탠드(도시되지 않음)를 이용해서 수직으로 유지했다. 복수 나열하여 결합된 분할 프레임(41)(외측 치수 1190×1360mm)의 일단면에 접착층(42)을 도포해서 펠리클막(3)에 접착했다. 그 후, 클립(43)을 모두 떼어내서 도 3(b)와 같이 분할 프레임(41)의 외변, 분할선 X-X, Y-Y를 따라 커터로 펠리클막(3)을 절단했다.The pellicle film 3 was held in a dark room using a condensing lamp and then held vertically using a stand (not shown) as shown in Fig. 3A. The adhesive layer 42 was apply | coated to the one end surface of the split frame 41 (outer dimension 1190 * 1360mm) joined in multiple numbers, and it adhere | attached on the pellicle film 3. Thereafter, all of the clips 43 were removed, and the pellicle film 3 was cut by a cutter along the outer edges of the divided frames 41, the divided lines X-X, and Y-Y as shown in Fig. 3B.

상기의 4체의 펠리클막(3)이 접착된 분할 프레임(41) 중 1체를 이용해서 펠리클을 제작했다. 도 4에 나타낸 바와 같이 분할 프레임(41)의 각 변 중앙에 훅 형상의 파지부(54)를 부착해서 탑재대(51)에 탑재하고, 압축 인장 장치(55)에 의해 압축 또는 인장의 힘을 가했다. 이 가한 힘은 사전 실험에 의해 값을 구했다. 힘을 가한 상태를 유지한 채로 프레임(2)을 펠리클막(3)에 첩부하고, 주위의 잉여막을 커터로 절단했다. 프레임(2)은 알루미늄 합금제로 외측 치수 353×592mm, 내측 치수 340×580mm, 높이 4.8mm로서, 표면은 흑색 알루마이트 처리를 실시했다. 펠리클막 접착층(8)과 마스크 접착층(6)(도 1 참조)으로서는 실리콘 점착제[신에쓰 가가꾸 고교(주) 제]를 이용하고, 마스크 접착층(6)의 표면은 보호를 위한 PET 필름제의 세퍼레이터(9)로 피복했다. 또한, 통기공(4)은 PTFE제의 멤브레인 필터(7)를 아크릴 접착층을 통해서 설치했다.A pellicle was produced using one of the divided frames 41 to which the four pellicle films 3 were bonded. As shown in FIG. 4, the hook-shaped holding part 54 is attached to the center of each side of the division frame 41, and it mounts on the mounting table 51, and the compression or tension force is applied by the compression tension apparatus 55. As shown in FIG. Added. This applied force was found by preliminary experiments. The frame 2 was affixed to the pellicle film 3, maintaining the state which applied the force, and the surrounding excess film was cut | disconnected with the cutter. The frame 2 was made of aluminum alloy, and had an outer dimension of 353 × 592 mm, an inner dimension of 340 × 580 mm, and a height of 4.8 mm. The surface was subjected to black anodize. As the pellicle film adhesive layer 8 and the mask adhesive layer 6 (see Fig. 1), a silicone adhesive (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was used, and the surface of the mask adhesive layer 6 was made of PET film for protection. It covered with the separator 9. In addition, the ventilation hole 4 provided the membrane filter 7 made from PTFE through an acrylic adhesive layer.

이렇게 해서 도 1에 나타낸 펠리클(10)이 완성되었다. 이 펠리클(10)에 대해서 정반 상에서 프레임(2)의 휨량을 측정했다. 그 결과, 한변의 휨량은 0.3mm 및 0.25mm, 이것과 서로 이웃하는 다른 변의 휨량은 0.2mm 및 0.23mm로 되어 있어 휨량이 허용 범위임과 아울러 대향하는 변끼리는 거의 동등한 정도의 휨량으로 되어 있었다. 아울러, 펠리클(10)을 핸들링할 때에 프레임(2)에 접착된 펠리클막(3)에 주름이 발생하는 등의 문제점은 일체 관찰되지 않았다.Thus, the pellicle 10 shown in FIG. 1 was completed. About this pellicle 10, the curvature amount of the frame 2 was measured on the surface plate. As a result, the warpage amount of one side was 0.3mm and 0.25mm, and the warpage amount of the other side adjacent to each other was 0.2mm and 0.23mm, and the warpage amount was an allowable range, and the opposite sides had almost the same warpage amount. In addition, the problem that wrinkles generate | occur | produced in the pellicle film 3 adhere | attached to the frame 2 at the time of handling the pellicle 10 was not observed at all.

[비교예][Comparative Example]

상기 실시예에서 동일한 공정으로 펠리클막을 성막하고 그 후 펠리클막의 장력을 균일하게 하지 않고 상기 실시예와 동일한 펠리클을 제작했다.A pellicle film was formed in the same manner as in the above example, and then the same pellicle as in the above example was produced without uniformizing the tension of the pellicle film.

완성된 펠리클에 대해서 프레임의 휨량을 측정한 결과 한 변의 휨량은 0.9mm 및 0.1mm, 이것과 서로 이웃하는 다른 변의 휨량은 0.5mm 및 0.15mm 이었다. 이것은 허용할 수 없는 크기의 휨량임과 아울러 매우 불균일한 휨 상태가 되어 있었다. 또한, 이 펠리클을 수직으로 세우고 휨량이 0.1mm가 되어 있었던 장변을 상측으로 향하게 하면 펠리클막의 장변 중앙 근방에 몇개의 주름이 관찰되었다. 프레임의 형상과 펠리클막에 발생한 주름의 상태로부터 이것은 펠리클로서 이용할 수 없는 것이었다.As a result of measuring the bending amount of the frame with respect to the finished pellicle, the bending amount of one side was 0.9 mm and 0.1 mm, and the bending amount of this and the other side adjacent to each other was 0.5 mm and 0.15 mm. This was an unacceptable amount of warpage and a very uneven warpage. Moreover, when this pellicle was erected vertically and the long side which was bent at 0.1 mm was turned upward, some wrinkles were observed in the vicinity of the long side center of a pellicle membrane. From the shape of the frame and the state of wrinkles occurring in the pellicle film, this was not available as a pellicle.

액정 제조 용도로 이용되는 대형의 펠리클뿐만 아니라 프린트 기판용, IC 패키지용 또는 반도체 제조용의 소형의 펠리클막을 1매의 액정 제조용의 대형 펠리클막으로부터 다수 분할해서 이용하는 것도 가능하다.Not only the large pellicle used for liquid crystal manufacturing but also a large number of small pellicle films for printed circuit boards, IC packages, or semiconductor manufacturing can be used by dividing a large number from the large pellicle films for liquid crystal production.

2 : 프레임 2a : 변형시킨 프레임
3 : 펠리클막 3a : 펠리클막 재료 용액
4 : 통기공 5 : 지그 구멍
6 : 마스크 접착층 7 : 필터
8 : 펠리클막 접착층 9 : 세퍼레이터
10 : 펠리클 21 : 임시 프레임
22 : 접착층 24 : 성막 기판
31 : 다이 32 : 가열 장치
41 : 분할 프레임 42 : 접착층
43 : 클립 50 : 막 첩부 장치
51 : 탑재대 52 : 고정부
53 : 승강 탑재대 54 : 파지부
55 : 압축 인장 장치 56 : 연결부
57 : 로드셀 58 : 스테이지
X-X, Y-Y는 분할 프레임의 분할선2: frame 2a: deformed frame
3: pellicle film 3a: pellicle film material solution
4: ventilator 5: jig hole
6: mask adhesive layer 7: filter
8: pellicle film adhesive layer 9: separator
10: pellicle 21: temporary frame
22 adhesive layer 24 film formation substrate
31: die 32: heating device
41: split frame 42: adhesive layer
43: clip 50: membrane sticking device
51: mounting table 52: fixed part
53 lifting platform 54: holding part
55: compression tension device 56: connection
57: load cell 58: stage
XX, YY are dividing lines for split frame

Claims (5)

펠리클막을 프레임에 팽팽히 체결해서 첩부하는 펠리클의 제조 방법에 있어서,
1매의 펠리클막을 임시 프레임 상에 첩부하고,
상기 임시 프레임의 내측 치수보다도 작은 외측 치수의 복수 나열하여 결합된 분할 프레임을 임시 프레임 상의 펠리클막에 접착하고나서,
펠리클막을 분할 프레임의 외변을 따라 임시 프레임으로부터 잘라냄과 아울러 결합된 분할 프레임을 분리하고,
각각의 분할 프레임 상에 접착된 펠리클막을 프레임에 첩부하고나서 분할 프레임을 제거하는 것을 특징으로 하는 펠리클의 제조 방법.In the manufacturing method of the pellicle which tightens and sticks a pellicle film | membrane to a frame,
One pellicle film is affixed on a temporary frame,
After adhering a plurality of divided frames of the outer dimension smaller than the inner dimension of the temporary frame to be bonded to the pellicle film on the temporary frame,
The pellicle film is cut from the temporary frame along the outer side of the split frame, and the combined split frame is separated.
A method of producing a pellicle, characterized in that the split frame is removed after affixing a pellicle film adhered onto each split frame to the frame. 펠리클막을 프레임에 팽팽히 체결해서 첩부하는 펠리클의 제조 방법에 있어서,
성막 기판 상의 1매의 펠리클막을 복수 나열해서 결합된 분할 프레임에 첩부하고,
펠리클막을 분할 프레임의 외변을 따라 성막 기판으로부터 잘라냄과 아울러 결합된 분할 프레임을 분리하며,
각각의 분할 프레임 상에 접착된 펠리클막을 프레임에 첩부하고나서 분할 프레임을 제거하는 것을 특징으로 하는 펠리클의 제조 방법.In the manufacturing method of the pellicle which tightens and sticks a pellicle film | membrane to a frame,
A plurality of pellicle films on the film formation substrate are attached to the divided frames bonded together in a row,
The pellicle film is cut along the outer side of the splitting frame from the film formation substrate and the combined splitting frame is separated.
A method of producing a pellicle, characterized in that the split frame is removed after affixing a pellicle film adhered onto each split frame to the frame. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
분할 프레임 상에 접착된 펠리클막을 프레임에 첩부할 때 분할 프레임에 압축 또는 인장의 힘을 가해서 펠리클막을 첩부하고나서 상기 힘을 해방하는 것을 특징으로 하는 펠리클의 제조 방법.The method according to claim 1 or 2,
A method for producing a pellicle, wherein the pellicle film adhered on the divided frame is released by applying a compression or tensile force to the divided frame and then attaching the pellicle film to release the force. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
분할 프레임 상에 접착된 펠리클막을 프레임에 첩부할 때 프레임에 압축 또는 인장의 힘을 가해서 펠리클막을 첩부하고나서 상기 힘을 해방하는 것을 특징으로 하는 펠리클의 제조 방법.The method according to claim 1 or 2,
A method for producing a pellicle, wherein the pellicle film adhered on the split frame is applied to the frame by applying a compressive or tensile force to the pellicle film, and then the force is released. 삭제delete
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI566033B (en) * 2015-04-17 2017-01-11 Micro Lithography Inc Mask dustproof frame structure
CN108123671A (en) * 2017-11-29 2018-06-05 北京创昱科技有限公司 A kind of frame compression set and film drawing process
KR20230054032A (en) 2021-10-15 2023-04-24 주식회사 이솔 Method of pellicle for EUV lithography, and appartus of fabricating of the same

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20050157288A1 (en) 2003-11-26 2005-07-21 Sematech, Inc. Zero-force pellicle mount and method for manufacturing the same
JP2010145264A (en) 2008-12-19 2010-07-01 Pioneer Electronic Corp Method for manufacturing mems device, mems device and junction mother board

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06230561A (en) * 1993-01-29 1994-08-19 Shin Etsu Chem Co Ltd Production of pellicle for lithography
JPH09258433A (en) * 1996-03-19 1997-10-03 Nikon Corp Mask
JP3386693B2 (en) * 1997-06-09 2003-03-17 信越化学工業株式会社 Pellicle manufacturing method
JP2004157229A (en) 2002-11-05 2004-06-03 Shin Etsu Chem Co Ltd Pellicle for lithography and its manufacturing method
JP5481106B2 (en) * 2009-06-24 2014-04-23 信越化学工業株式会社 Pellicle frame and lithography pellicle
JP2011107230A (en) * 2009-11-13 2011-06-02 Shin-Etsu Chemical Co Ltd Pellicle and method of manufacturing the same
JP2011158585A (en) * 2010-01-29 2011-08-18 Shin-Etsu Chemical Co Ltd Pellicle and method for manufacturing the same

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20050157288A1 (en) 2003-11-26 2005-07-21 Sematech, Inc. Zero-force pellicle mount and method for manufacturing the same
JP2010145264A (en) 2008-12-19 2010-07-01 Pioneer Electronic Corp Method for manufacturing mems device, mems device and junction mother board

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