KR101983776B1 - Light emitting device package - Google Patents

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Abstract

실시예는 적어도 일부분에 상부가 개방된 캐비티가 형성된 패키지 몸체; 상기 캐비티의 개방된 영역을 통하여 광을 방출하도록 상기 캐비티에 배치되는 발광소자; 상기 패키지 몸체의 적어도 일부 상에 위치하여 상기 발광소자의 온도를 측정하는 열센서를 포함하고, 상기 열센서는 상기 패키지 몸체와 절연층을 사이에 두고 접촉하는 발광소자 패키지를 제공한다.Embodiments include a package body having a cavity open at least in part; A light emitting element disposed in the cavity to emit light through the open area of the cavity; Located on at least a portion of the package body includes a thermal sensor for measuring the temperature of the light emitting device, the thermal sensor provides a light emitting device package in contact with the package body and the insulating layer therebetween.

Description

발광소자 패키지{LIGHT EMITTING DEVICE PACKAGE}Light emitting device package {LIGHT EMITTING DEVICE PACKAGE}

실시예는 발광소자 패키지에 관한 것이다.An embodiment relates to a light emitting device package.

반도체의 3-5족 또는 2-6족 화합물 반도체 물질을 이용한 발광 다이오드(Ligit Emitting Diode)나 레이저 다이오드와 같은 발광소자는 박막 성장 기술 및 소자 재료의 개발로 적색, 녹색, 청색 및 자외선 등 다양한 색을 구현할 수 있으며, 형광 물질을 이용하거나 색을 조합함으로써 효율이 좋은 백색 광선도 구현이 가능하며, 형광등, 백열등 등 기존의 광원에 비해 저 소비 전력, 반영구적인 수명, 빠른 응답속도, 안전성, 환경친화성의 장점을 가진다.Light emitting devices such as light emitting diodes or laser diodes using semiconductors of Group 3-5 or 2-6 compound semiconductor materials of semiconductors have various colors such as red, green, blue and ultraviolet rays due to the development of thin film growth technology and device materials. By using fluorescent materials or combining colors, efficient white light can be realized, and low power consumption, semi-permanent life, fast response speed, safety, and environmental friendliness compared to conventional light sources such as fluorescent and incandescent lamps. Has the advantage of sex.

따라서, 광 통신 수단의 송신 모듈, LCD(Liquid Crystal Display) 표시 장치의 백라이트를 구성하는 냉음극관(CCFL: Cold Cathode Fluorescence Lamp)을 대체하는 발광 다이오드 백라이트, 형광등이나 백열 전구를 대체할 수 있는 백색 발광 다이오드 조명 장치, 자동차 헤드 라이트 및 신호등에까지 응용이 확대되고 있다.Therefore, a white light emitting device that can replace a fluorescent light bulb or an incandescent bulb that replaces a Cold Cathode Fluorescence Lamp (CCFL) constituting a backlight of a transmission module of an optical communication means and a liquid crystal display (LCD) display device. Applications are expanding to diode lighting devices, automotive headlights and traffic lights.

도 1은 종래의 발광소자 패키지를 나타낸 도면이다.1 is a view showing a conventional light emitting device package.

발광소자 패키지(100)는 패키지 몸체(110)에 캐비티 구조가 형성되고, 캐비티의 바닥 면에 발광소자(10)가 배치되고, 패키지 몸체(110)의 하부에는 방열부(미도시)가 배치될 수 있다.In the light emitting device package 100, a cavity structure is formed in the package body 110, a light emitting device 10 is disposed on a bottom surface of the cavity, and a heat dissipation unit (not shown) is disposed below the package body 110. Can be.

패키지 몸체에는 제1 리드 프레임(121)과 제2 리드 프레임(122)이 배치되는데, 제1,2 리드 프레임(121, 122)은 캐비티의 바닥면에 연장되어 배치되어 발광소자(10)와 전기적으로 연결될 수 있다.The first lead frame 121 and the second lead frame 122 are disposed in the package body, and the first and second lead frames 121 and 122 are extended to the bottom surface of the cavity to be electrically connected to the light emitting device 10. Can be connected.

발광소자(10)는 제1 리드 프레임(121)과 도전성 접착제(130)로 전기적으로 연결될 수 있고, 제2 리드 프레임(122)과는 와이어(140)로 연결될 수 있다.The light emitting device 10 may be electrically connected to the first lead frame 121 and the conductive adhesive 130, and may be connected to the second lead frame 122 by a wire 140.

캐비티의 내부에는 형광체(150)를 포함하는 몰딩부(160)가 채워져서 발광소자(10)와 와이어(140) 등을 외력으로부터 보호할 수 있고, 발광소자(10)로부터 방출되는 제1 파장 영역의 광에 의하여 형광체(150)가 여기되어 제2 파장 영역의 광이 방출될 수 있다.The molding unit 160 including the phosphor 150 is filled in the cavity to protect the light emitting device 10, the wire 140, and the like from an external force, and the first wavelength region emitted from the light emitting device 10. The phosphor 150 may be excited by the light to emit light in the second wavelength region.

그러나, 종래의 발광소자 패키지는 다음과 같은 문제점이 있다.However, the conventional light emitting device package has the following problems.

발광소자에서 상술한 제1 파장 영역의 광 외에 열도 방출되며, 이러한 열에 의하여 발광소자의 구동 환경에 영향을 줄 수 있으며, 동일한 스펙으로 제조되는 발광소자라도 방출되는 열량이 조금씩 상이할 수 있다. 통상 발광소자는 구동시에 섭씨 60도 내지 80도 정도까지 온도가 상승할 수 있고, 발광소자 패키지가 배치되는 장소의 밝기 등 외부 환경에 따라 발광소자 패키지의 온도를 조절해야 할 때도 있다. 따라서, 발광소자 또는 주변의 열을 측정하여, 발광소자 패키지의 온도를 조절할 필요가 있다.Heat is also emitted from the light emitting device in addition to the light of the first wavelength region described above, and the heat may affect the driving environment of the light emitting device, and even the light emitting devices manufactured to the same specification may have slightly different amounts of heat emitted. In general, the light emitting device may increase in temperature to about 60 to 80 degrees Celsius during driving, and there may be times when the temperature of the light emitting device package needs to be adjusted according to an external environment such as brightness of a place where the light emitting device package is disposed. Therefore, it is necessary to adjust the temperature of the light emitting device package by measuring the heat of the light emitting device or the surroundings.

실시예는 발광소자 패키지에서 발광소자 내지 주변의 온도/열을 감지하여 발광소자의 발열을 조절하고자 한다.The embodiment is intended to control the heat generation of the light emitting device by sensing the temperature / heat of the light emitting device to the surroundings in the light emitting device package.

실시예는 적어도 일부분에 상부가 개방된 캐비티가 형성된 패키지 몸체; 상기 캐비티의 개방된 영역을 통하여 광을 방출하도록 상기 캐비티에 배치되는 발광소자; 상기 패키지 몸체의 적어도 일부 상에 위치하여 상기 발광소자의 온도를 측정하는 열센서를 포함하고, 상기 열센서는 상기 패키지 몸체와 절연층을 사이에 두고 접촉하는 발광소자 패키지를 제공한다.Embodiments include a package body having a cavity open at least in part; A light emitting element disposed in the cavity to emit light through the open area of the cavity; Located on at least a portion of the package body includes a thermal sensor for measuring the temperature of the light emitting device, the thermal sensor provides a light emitting device package in contact with the package body and the insulating layer therebetween.

열센서는 열감지부와 전극 패드를 포함할 수 있다.The thermal sensor may include a heat sensing unit and an electrode pad.

열감지부와 전극 패드는 열전달부를 사이에 두고 접촉할 수 있다.The heat sensing unit and the electrode pad may contact each other with the heat transfer unit therebetween.

열전달부는 티타늄(Ti)을 포함하고, 상기 열전달부는 25 나노미터 내지 100 나노미터의 두께를 가질 수 있다.The heat transfer part may include titanium (Ti), and the heat transfer part may have a thickness of 25 nanometers to 100 nanometers.

열감지부는 니켈(Ni)을 포함하고, 상기 열감지부는 100 나노미터 내지 500 나노미터의 두께를 가질 수 있다.The heat sensing part may include nickel (Ni), and the heat sensing part may have a thickness of 100 nanometers to 500 nanometers.

전극층은 알루미늄(Al)을 포함하고, 100 나노미터 내지 500 나노미터의 두께를 가질 수 있다.The electrode layer may include aluminum (Al) and have a thickness of 100 nanometers to 500 nanometers.

열센서는 0.5 마이크로 미터 내지 1.5 마이크로 미터의 크기일 수 있다.The thermal sensor may range in size from 0.5 micrometers to 1.5 micrometers.

실시예에 따른 발광소자 패키지는 얇은 막(membrane) 형상의 열센서가 패키지 몸체의 제조공정과 일체로 간편히 형성되어, 발광소자나 주변의 열 감지에 유리할 수 있다.In the light emitting device package according to the embodiment, a thermal sensor having a thin film shape may be easily formed integrally with a manufacturing process of the package body, and thus may be advantageous for light sensing of the light emitting device or the surroundings.

도 1은 종래의 발광소자 패키지를 나타낸 도면이고,
도 2는 발광소자 패키지의 일실시예의 구성을 나타낸 블럭도이고,
도 3a 및 도 3b는 발광소자 패키지의 일실시예를 나타낸 도면이고,
도 4a 내지 도 4c는 각각 도 3a의 A-A'선과 B-B'선과 C-C'선을 따른 단면도이고,
도 5는 도 3a의 열센서를 상세히 나타낸 도면이고,
도 6a 및 도 6b는 발광소자 패키지의 다른 실시예를 나타낸 도면이고,
도 7a 및 도 7b는 발광소자 패키지의 또 다른 실시예를 나타낸 도면이고,
도 8a 및 도 8b는 도 7a의 광센서를 상세히 나타낸 도면이고,
도 9a 내지 도 9d는 광센서의 제조 공정을 나타낸 도면이고,
도 10은 발광소자 패키지가 배치된 조명장치의 일실시예를 나타낸 도면이고,
도 11은 발광소자 패키지가 배치된 영상표시장치의 일실시예를 나타낸 도면이다.
1 is a view showing a conventional light emitting device package,
Figure 2 is a block diagram showing the configuration of an embodiment of a light emitting device package,
3A and 3B illustrate an embodiment of a light emitting device package.
4A to 4C are cross-sectional views taken along lines A-A ', B-B', and C-C 'of FIG. 3A, respectively;
5 is a view showing in detail the thermal sensor of Figure 3a,
6a and 6b are views showing another embodiment of the light emitting device package,
7a and 7b are views showing another embodiment of the light emitting device package,
8A and 8B are detailed views of the optical sensor of FIG. 7A;
9A to 9D are views illustrating a manufacturing process of an optical sensor,
10 is a view illustrating an embodiment of a lighting device in which a light emitting device package is disposed;
11 is a diagram illustrating an embodiment of an image display apparatus in which a light emitting device package is disposed.

이하 상기의 목적을 구체적으로 실현할 수 있는 본 발명의 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings an embodiment of the present invention that can specifically realize the above object.

본 발명에 따른 실시예의 설명에 있어서, 각 element의 " 상(위) 또는 하(아래)(on or under)"에 형성되는 것으로 기재되는 경우에 있어, 상(위) 또는 하(아래)(on or under)는 두개의 element가 서로 직접(directly)접촉되거나 하나 이상의 다른 element가 상기 두 element사이에 배치되어(indirectly) 형성되는 것을 모두 포함한다. 또한 “상(위) 또는 하(아래)(on or under)”으로 표현되는 경우 하나의 element를 기준으로 위쪽 방향 뿐만 아니라 아래쪽 방향의 의미도 포함할 수 있다.In the description of the embodiment according to the present invention, when described as being formed on the "on or under" of each element, the above (on) or below (on) or under) includes both two elements being directly contacted with each other or one or more other elements are formed indirectly between the two elements. In addition, when expressed as “on” or “under”, it may include the meaning of the downward direction as well as the upward direction based on one element.

도 2는 발광소자 패키지의 일실시예의 구성을 나타낸 블럭도이다.2 is a block diagram showing a configuration of an embodiment of a light emitting device package.

실시예에 따른 발광소자 패키지는 하나의 웨이퍼로 제조된 패키지 내에 발광소자와, 상술한 웨이퍼와 일체로 형성된 열센서(Thermo sensor)와 제어 회로(Control circuit)를 배치할 수 있다. 패키지 몸체를 이루는 웨이퍼와 일체로 열센서를 형성하면, 후술하는 바와 같이 패키지 몸체의 일부에 열센서가 배치되어 제조 비용과 시간도 줄일 수 있다.The light emitting device package according to the embodiment may include a light emitting device, a thermal sensor and a control circuit integrally formed with the above-described wafer in a package made of one wafer. When the thermal sensor is integrally formed with the wafer constituting the package body, the thermal sensor may be disposed on a portion of the package body as described below, thereby reducing manufacturing cost and time.

도 3a 및 도 3b는 발광소자 패키지의 일실시예를 나타낸 도면이고, 도 4a 내지 도 4c는 각각 도 3a의 A-A'선과 B-B'선과 C-C'선을 따른 단면도이다. 이하에서, 도 3a 내지 도 4c를 참조하여 발광소자 패키지의 일실시예를 설명한다.3A and 3B are views illustrating an embodiment of a light emitting device package, and FIGS. 4A to 4C are cross-sectional views taken along lines A-A ', B-B', and C-C ', respectively, of FIG. 3A. Hereinafter, an embodiment of the light emitting device package will be described with reference to FIGS. 3A to 4C.

도시된 바와 같이, 실시예에 따른 발광소자 패키지(200)는 패키지 몸체(210)에 발광소자(10)와 열센서(400)가 배치된다. 패키지 몸체(210)는 실리콘 웨이퍼(silicon wafer)로 이루어질 수 있으며, 일부분에 상부가 개방된 캐비티(cavity)가 형성되어 있을 수 있다.As shown, in the light emitting device package 200 according to the embodiment, the light emitting device 10 and the thermal sensor 400 are disposed on the package body 210. The package body 210 may be formed of a silicon wafer, and a cavity having an open upper portion may be formed in a portion thereof.

캐비티는 패키지 몸체(200)를 이루는 실리콘 웨이퍼 상에 열센서(400)의 증착 내지 형성한 후에 실리콘 웨이퍼를 식각하여 형성할 수 있다. 그리고, 도시되지는 않았으나 캐비티의 내부에는 형광체 등을 포함하는 레진 등이 몰딩부를 이루어, 발광소자와 와이어 등을 보호하고 발광소자에서 방출된 제1 파장 영역의 광에 의하여 형광체가 여기되어 제2 파장 영역의 광을 방출할 수 있다.The cavity may be formed by etching or forming the silicon wafer after depositing or forming the thermal sensor 400 on the silicon wafer forming the package body 200. Although not shown, a resin or the like including a phosphor or the like is formed inside the cavity to protect the light emitting device and the wire, and the phosphor is excited by the light in the first wavelength region emitted from the light emitting device so that the second wavelength is excited. It can emit light of the area.

패키지 몸체(210)가 직육면체의 형상으로 도시되어 있으나, 패키지 몸체(210)는 임의의 다면체의 형태를 가질 수 있다.Although the package body 210 is shown in the shape of a cuboid, the package body 210 may have the shape of any polyhedron.

패키지 몸체(210)의 가운데 부분이 함몰되어 캐비티가 형성되어 캐비티의 바닥면에 발광소자(10)가 배치되며, 캐비티의 바닥면에는 측벽이 형성되고, 바닥면과 측벽으로 이루어지는 캐비티의 외곽에서 패키지 몸체(210)가 상대적으로 높게 배치되어 돌출부를 이룰 수 있으며, 상기 돌출부 상에 열센서(400)가 배치될 수 있다.The center portion of the package body 210 is recessed to form a cavity so that the light emitting device 10 is disposed on the bottom surface of the cavity, and sidewalls are formed on the bottom surface of the cavity, and the package is formed at the outside of the cavity consisting of the bottom surface and the sidewalls. The body 210 may be disposed relatively high to form a protrusion, and the thermal sensor 400 may be disposed on the protrusion.

캐비티의 표면형상은 도시된 형상 외에, 다각형, 원형 또는 타원형 등이 될 수 있으며 바닥면의 면적보다 윗부분의 면적이 넓은 형상일 수 있다. 캐비티는 패키지 몸체(210)에 대한 건식 식각이나 습식 식각 공정 외에, 다른 방식의 공정에 의해서도 형성될 수 있다.The surface shape of the cavity may be polygonal, circular or elliptical in addition to the shape shown, and may have a shape having a larger area than the area of the bottom surface. The cavity may be formed by another method in addition to the dry etching or the wet etching process for the package body 210.

절연층(215)은 패키지 몸체(210)를 감싸며 형성될 수 있는데, 반도체 물질인 실리콘 등으로 패키지 몸체(210)가 이루어질 경우 패키지 몸체(210)를 발광소자(10)나 열센서(400) 또는 제1 전극층(221) 및 제2 전극층(222) 등과 전기적으로 절연시킬 수 있다.The insulating layer 215 may be formed to surround the package body 210. When the package body 210 is made of silicon, which is a semiconductor material, the package body 210 may be formed of the light emitting device 10, the thermal sensor 400, or the like. The first electrode layer 221 and the second electrode layer 222 may be electrically insulated from each other.

절연층(215)은 SiO2 등의 실리콘 산화물이나, Si3N4 등의 실리콘 질화물이나, 질화 알루미늄(AlN) 또는 탄화 규소(SiC) 등의 절연 물질로 형성될 수 있다.The insulating layer 215 may be formed of silicon oxide such as SiO 2 , silicon nitride such as Si 3 N 4 , or an insulating material such as aluminum nitride (AlN) or silicon carbide (SiC).

발광 소자(10)로 발광 다이오드(LED: Light Emitting Diode)가 이용될 수 있으며, 방출하는 빛의 파장 영역에 따라 청색 발광 다이오드 또는 자외선이나 심자외선을 방출하는 발광 다이오드일 수 있고, 형상이나 전극 배치에 따라 수평형 발광소자나 수직형 발광소자 또는 플립 칩 타입의 발광소자일 수 있으며, 2개 이상의 발광소자가 배치될 수도 있다.A light emitting diode (LED) may be used as the light emitting device 10, and may be a blue light emitting diode or a light emitting diode emitting ultraviolet rays or deep ultraviolet rays, depending on the wavelength region of the emitted light. The light emitting device may be a horizontal light emitting device, a vertical light emitting device, or a flip chip type light emitting device, and two or more light emitting devices may be disposed.

발광소자(10)가 발광 다이오드일 때, 제1 도전형 반도체층과 활성층 및 제2 도전형 반도체층을 포함하는 발광 구조물을 포함할 수 있다.When the light emitting device 10 is a light emitting diode, the light emitting device 10 may include a light emitting structure including a first conductive semiconductor layer, an active layer, and a second conductive semiconductor layer.

제1 도전형 반도체층은 반도체 화합물로 형성될 수 있으며, 예를 들어 3족-5족 또는 2족-6족 등의 화합물 반도체로 형성될 수 있다. 또한, 제1 도전형 도펀트가 도핑될 수 있다. 제1 도전형 반도체층이 n형 반도체층인 경우, 상기 제1 도전형 도펀트는 n형 도펀트로서 Si, Ge, Sn, Se, Te를 포함할 수 있으나 이에 한정되지 않는다.The first conductivity type semiconductor layer may be formed of a semiconductor compound, for example, may be formed of a compound semiconductor such as Groups 3-5 or 2-6. In addition, the first conductivity type dopant may be doped. When the first conductivity type semiconductor layer is an n type semiconductor layer, the first conductivity type dopant may include Si, Ge, Sn, Se, Te as an n type dopant, but is not limited thereto.

상기 제1 도전형 반도체층은 제1 도전형 반도체층으로만 형성되거나, 상기 제1 도전형 반도체층 아래에 언도프트 반도체층을 더 포함할 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.The first conductive semiconductor layer may be formed of only the first conductive semiconductor layer or may further include an undoped semiconductor layer under the first conductive semiconductor layer, but is not limited thereto.

상기 언도프트 반도체층은 상기 제1 도전형 반도체층의 결정성 향상을 위해 형성되는 층으로, 상기 n형 도펀트가 도핑되지 않아 상기 제1 도전형 반도체층에 비해 낮은 전기전도성을 갖는 것을 제외하고는 상기 제1 도전형 반도체층과 같을 수 있다.The undoped semiconductor layer is a layer formed to improve the crystallinity of the first conductivity type semiconductor layer, except that the n-type dopant is not doped and thus has lower electrical conductivity than the first conductivity type semiconductor layer. It may be the same as the first conductive semiconductor layer.

제1 도전형 반도체층 상에 활성층이 형성될 수 있다. 활성층은 제1 도전형 반도체층을 통해서 주입되는 전자와 이후 형성되는 제2 도전형 반도체층을 통해서 주입되는 정공이 서로 만나서 활성층(발광층) 물질 고유의 에너지 밴드에 의해서 결정되는 에너지를 갖는 빛을 방출하는 층이다.An active layer may be formed on the first conductive semiconductor layer. In the active layer, electrons injected through the first conductive semiconductor layer and holes injected through the second conductive semiconductor layer formed thereafter meet each other to emit light having energy determined by an energy band inherent to the active layer (light emitting layer) material. It is a layer.

상기 활성층은 이중 접합 구조(Double Hetero Junction Structure), 단일 우물 구조, 다중 우물 구조, 양자선(Quantum-Wire) 구조, 또는 양자 점(Quantum Dot) 구조 중 적어도 어느 하나로 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 활성층은 트리메틸 갈륨 가스(TMGa), 암모니아 가스(NH3), 질소 가스(N2), 및 트리메틸 인듐 가스(TMIn)가 주입되어 다중 양자 우물 구조가 형성될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.The active layer may be formed of at least one of a double junction structure, a single well structure, a multi well structure, a quantum-wire structure, or a quantum dot structure. For example, the active layer may be injected with trimethyl gallium gas (TMGa), ammonia gas (NH 3 ), nitrogen gas (N 2 ), and trimethyl indium gas (TMIn) to form a multi-quantum well structure, but is not limited thereto. It is not.

상기 활성층의 우물층/장벽층은 예를 들어, InGaN/GaN, InGaN/InGaN, GaN/AlGaN, InAlGaN/GaN, GaAs(InGaAs)/AlGaAs, GaP(InGaP)/AlGaP 중 어느 하나 이상의 페어 구조로 형성될 수 있으나 이에 한정되지 않는다. 상기 우물층은 상기 장벽층의 밴드 갭보다 작은 밴드 갭을 갖는 물질로 형성될 수 있다.The well layer / barrier layer of the active layer is formed of, for example, a pair structure of at least one of InGaN / GaN, InGaN / InGaN, GaN / AlGaN, InAlGaN / GaN, GaAs (InGaAs) / AlGaAs, GaP (InGaP) / AlGaP. It may be, but is not limited to such. The well layer may be formed of a material having a band gap smaller than the band gap of the barrier layer.

상기 활성층의 위 또는/및 아래에는 도전형 클래드층(미도시)이 형성될 수 있다. 도전형 클래드층은 활성층의 장벽층의 밴드갭보다 더 넓은 밴드갭을 갖는 반도체로 형성될 수 있다. 예를 들어, 도전형 클래드층은 GaN, AlGaN, InAlGaN 또는 초격자 구조를 포함할 수 있다. 또한, 도전형 클래드층은 n형 또는 p형으로 도핑될 수 있다. A conductive clad layer (not shown) may be formed on or under the active layer. The conductive cladding layer may be formed of a semiconductor having a bandgap wider than the bandgap of the barrier layer of the active layer. For example, the conductive clad layer may include GaN, AlGaN, InAlGaN, or superlattice structure. In addition, the conductive clad layer may be doped with n-type or p-type.

그리고, 활성층 상에 제2 도전형 반도체층이 형성될 수 있다. 제2 도전형 반도체층은 반도체 화합물로 형성될 수 있으며, 예를 들어 제2 도전형 도펀트가 도핑된 3족-5족 화합물 반도체로 형성될 수 있다. 상기 제2 도전형 반도체층은 예를 들어, InxAlyGa1 -x- yN (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 물질을 포함할 수 있다. 제2 도전형 반도체층이 p형 반도체층인 경우, 상기 제2도전형 도펀트는 p형 도펀트로서, Mg, Zn, Ca, Sr, Ba 등을 포함할 수 있으나 이에 한정하지 않는다.In addition, a second conductivity type semiconductor layer may be formed on the active layer. The second conductivity type semiconductor layer may be formed of a semiconductor compound, for example, a group III-V compound semiconductor doped with a second conductivity type dopant. The second conductive semiconductor layer, for example, semiconductor material having a compositional formula of In x Al y Ga 1 -x- y N (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x + y≤1) It may include. When the second conductive semiconductor layer is a p-type semiconductor layer, the second conductive dopant may be a p-type dopant and may include Mg, Zn, Ca, Sr, and Ba, but is not limited thereto.

여기서, 상술한 바와 다르게, 제1 도전형 반도체층이 p형 반도체층을 포함하고 상기 제2 도전형 반도체층이 n형 반도체층을 포함할 수도 있다. 또한, 상기 제1 도전형 반도체층 상에는 n형 또는 p형 반도체층을 포함하는 제3 도전형 반도체층이 형성될 수도 있는데, 이에 따라 상술한 발광소자는 n-p, p-n, n-p-n, p-n-p 접합 구조 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.Here, unlike the above, the first conductive semiconductor layer may include a p-type semiconductor layer and the second conductive semiconductor layer may include an n-type semiconductor layer. In addition, a third conductive semiconductor layer including an n-type or p-type semiconductor layer may be formed on the first conductive semiconductor layer. Accordingly, the above-described light emitting device may include at least one of np, pn, npn, and pnp junction structures. It may include any one.

발광소자(10)는 캐비티의 바닥면에 배치되며, 제1 전극층(221) 및 제2 전극층(222)과 전기적으로 각각 연결될 수 있다. 본 실시예에서 발광소자(10)는 제1 전극층(221)과 도전성 접착제(미도시)로 전기적으로 연결되고, 제2 전극층(222)과는 와이어(240)로 전기적으로 연결되고 있다.The light emitting device 10 may be disposed on the bottom surface of the cavity and may be electrically connected to the first electrode layer 221 and the second electrode layer 222, respectively. In the present embodiment, the light emitting device 10 is electrically connected to the first electrode layer 221 by a conductive adhesive (not shown), and is electrically connected to the second electrode layer 222 by a wire 240.

제1 전극층(221)과 제2 전극층(222)은 도전성 물질로 이루어질 수 있고, 구체적으로 금속 또는 도전성 합금 등일 수 있으며, 보다 상세하게는 구리(Cu)나 알루미늄(Al) 또는 은(Ag) 등으로 이루어질 수 있다. 제1 전극층(221)과 제2 전극층(222)은 절연층(215)을 사이에 두고 패키지 몸체(210)와 전기적으로 분리될 수 있고, 도시된 바와 같이 제1 전극층(221)과 제2 전극층(222)은 패키지 몸체(210)의 아랫면과 캐비티의 바닥면에서 전기적으로 분리될 수 있다.The first electrode layer 221 and the second electrode layer 222 may be made of a conductive material, specifically, may be a metal or a conductive alloy, and more specifically, copper (Cu), aluminum (Al), silver (Ag), or the like. Can be made. The first electrode layer 221 and the second electrode layer 222 may be electrically separated from the package body 210 with the insulating layer 215 interposed therebetween, and as shown, the first electrode layer 221 and the second electrode layer. 222 may be electrically separated from the bottom surface of the package body 210 and the bottom surface of the cavity.

제1 전극층(221)과 제2 전극층(222)은 도시된 단층 구조 외에 다층 구조로 이루어질 수도 있다. 제1 전극층(221)과 제2 전극층(222)은 도시된 발광소자 패키지가 회로 기판 등에 표면실장기술(SMT: Surface Mount Technology) 공정 등으로 실장될 때, 기판 배선에 전기적이나 기계적으로 결합될 수 있다.The first electrode layer 221 and the second electrode layer 222 may have a multilayer structure in addition to the illustrated single layer structure. The first electrode layer 221 and the second electrode layer 222 may be electrically or mechanically coupled to the substrate wiring when the illustrated light emitting device package is mounted on a circuit board or the like by a surface mount technology (SMT) process. have.

열센서(400)는 열전도체, 반도체 접합 측정 소자 및 금속-반도체 접합 측정 소자 중 어느 하나 일 수 있다.The thermal sensor 400 may be any one of a thermal conductor, a semiconductor junction measuring element, and a metal-semiconductor junction measuring element.

열센서(400)는 상술한 바와 같이 패키지 몸체(210)의 돌출부 상에 배치되어 발광소자(10)로부터 방출되는 열 내지는 발광소자 패키지(200)의 온도를 측정할 수 있으며, 발광소자 패키지(200)가 배치되는 장소의 광량을 측정할 수도 있고, 실리콘 웨이퍼로 이루어진 패키지 몸체(210)의 성장 공정에서 일체로 형성될 수 있다. 열센서(400)는 패키지 몸체(200) 위에 절연층(215)을 사이에 두고 배치될 수 있다.As described above, the thermal sensor 400 may be disposed on the protrusion of the package body 210 to measure the heat emitted from the light emitting device 10 or the temperature of the light emitting device package 200. ) May measure the amount of light at the location where the) is placed, or may be integrally formed in the growth process of the package body 210 made of a silicon wafer. The thermal sensor 400 may be disposed on the package body 200 with the insulating layer 215 interposed therebetween.

도 5는 도 3a의 열센서를 상세히 나타낸 도면이다.FIG. 5 is a detailed view of the thermal sensor of FIG. 3A.

열센서(400)는 패키지 몸체(210)의 제조공정에서 일체로 형성될 수 있는데, 구체적으로 패키지 몸체(210) 상에 절연층(215)을 사이에 두고 배치될 수 있고, 열감지부(420)와 전극 패드(460)와, 열감지부(420)와 전극 패드(460)의 사이에 배치되는 열전달부(440)를 포함할 수 있다.The thermal sensor 400 may be integrally formed in the manufacturing process of the package body 210. Specifically, the thermal sensor 400 may be disposed on the package body 210 with an insulating layer 215 interposed therebetween. And an electrode pad 460 and a heat transfer part 440 disposed between the heat sensing part 420 and the electrode pad 460.

열센서(400)는 0.3 마이크로 미터 내지 1 마이크로 미터의 크기를 가질 수 있는데, 패키지 몸체(210)의 돌출부의 폭이 1 밀리미터 정도인 것을 고려하면 돌출부 위에 충분히 배치될 수 있다.The thermal sensor 400 may have a size of 0.3 micrometer to 1 micrometer, and may be sufficiently disposed on the protrusion considering that the width of the protrusion of the package body 210 is about 1 millimeter.

열감지부(420)는 니켈(Ni)을 포함하고, 100 나노미터 내지 500 나노미터의 두께(ta)를 가질 수 있다. 열감지부(420)의 두께가 너무 얇으면 열감지에 충분하지 않을 수 있고, 너무 두꺼우면 제조 공정과 비용이 증가할 수 있다. 니켈은 온도에 따라 저항치가 다르므로 열감지부(420)를 이룰 수 있으며, 온도에 따라 저항치가 다른 물질로 대체가 가능하다.The heat sensing unit 420 may include nickel (Ni) and have a thickness t a of 100 nanometers to 500 nanometers. If the thickness of the heat detection unit 420 is too thin, it may not be sufficient for heat detection, and if too thick, the manufacturing process and cost may increase. Since nickel has a different resistance value according to temperature, the heat sensing unit 420 may be formed, and nickel may be replaced with a material having a different resistance value according to temperature.

전극층(460)은 도전성 물질로 이루어지고 일 예로 알루미늄(Al)을 포함할 수 있고, 100 나노미터 내지 500 나노미터의 두께(tc)를 가질 수 있다. 전극층(460)의 두께가 너무 얇으면 열감지부(420)에 전류가 제대로 인가되지 않을 수 있고 너무 두꺼우면 제조공정과 비용이 증가하거나 빛의 반사 효과가 클 수 있다.The electrode layer 460 may be made of a conductive material and may include, for example, aluminum (Al), and may have a thickness t c of 100 nanometers to 500 nanometers. If the thickness of the electrode layer 460 is too thin, the current may not be properly applied to the heat sensing unit 420. If the electrode layer 460 is too thick, the manufacturing process and the cost may be increased or the light reflection effect may be large.

열전달부(440)는 티타늄(Ti) 등 열전도성이 큰 물질을 포함할 수 있고, 25 나노미터 내지 100 나노미터의 두께(tb)를 가질 수 있다. 열전달부(440)의 두께가 너무 두꺼우면 열전달에는 유리하나 자체에서 열이 흡수되어 열원이 될 수 있고, 너무 얇으면 전극층(460)과 열감지부(420)의 컨택 특성이 저하될 수 있다.The heat transfer part 440 may include a material having high thermal conductivity, such as titanium (Ti), and may have a thickness t b of 25 nanometers to 100 nanometers. If the thickness of the heat transfer part 440 is too thick, it is advantageous for heat transfer, but heat may be absorbed by itself to become a heat source. If too thin, the contact characteristics of the electrode layer 460 and the heat sensing unit 420 may be degraded.

상술한 전극층(460)의 적어도 2개의 지점에 전압을 가하면 열감지부(420)에서 주위의 열을 감지하여 발광소자 내지 발광소자 패키지 내부의 온도를 측정할 수 있다.When a voltage is applied to at least two points of the electrode layer 460 described above, the heat sensing unit 420 may sense the surrounding heat to measure the temperature of the light emitting device to the inside of the light emitting device package.

상술한 티타늄과 알루미늄은 후술하는 광센서 내의 광감지부 및 전극층과 동일한 물질로 이루어질 수 있으며, 광센서와 동일한 공정으로 제조하므로 광센서 내의 광감지부 및 전극층의 재료를 다르게 하면 동일하게 다른 물질로 대체가 가능하다.The above-described titanium and aluminum may be made of the same material as the light sensing unit and the electrode layer in the optical sensor described below, and are manufactured in the same process as the light sensor. Replacement is possible.

도 6a 및 도 6b는 발광소자 패키지의 다른 실시예를 나타낸 도면이다.6A and 6B illustrate another embodiment of a light emitting device package.

본 실시예는 열센서(400)가 돌출부가 아닌 캐비티의 바닥면에 배치된 점에서 상술한 실시예와 상이하며, 공정 상으로 실리콘 웨이퍼 등의 패키지 몸체에 캐비티를 식각하여 형성한 후에 열센서를 형성하는 점에서 차이가 있다.This embodiment is different from the above embodiment in that the thermal sensor 400 is disposed on the bottom surface of the cavity rather than the protrusion, and the thermal sensor is formed by etching the cavity on a package body such as a silicon wafer. There is a difference in forming.

본 실시예에서 캐비티의 바닥면에 열센서를 형성하는데, 발광소자의 바로 아래에 형성할 수도 있다. 또한, 열센서의 크기는 1 마이크로 미터 정도일 수 있으므로, 발광소자 패키지의 몰딩부 위에 배치되어도 광차단 효과는 매우 작으면서도 열감지에 유리할 수 있다.In the present embodiment, the thermal sensor is formed on the bottom surface of the cavity, which may be formed directly under the light emitting device. In addition, since the size of the thermal sensor may be about 1 micrometer, even if disposed on the molding of the light emitting device package, the light blocking effect may be very small and advantageous for heat detection.

상술한 실시예들에 따른 발광소자 패키지는 얇은 막(membrane) 형상의 열센서가 패키지 몸체의 제조공정과 일체로 간편히 형성되어, 발광소자나 주변의 열 감지에 유리하고, 감지 결과를 제어회로에서 반영하여 발광소자의 구동 전압이나 전류를 조절할 수 있다.In the light emitting device package according to the above-described embodiments, a thin film-shaped thermal sensor is easily formed integrally with the manufacturing process of the package body, which is advantageous for heat sensing of the light emitting device or the surroundings, and the detection result is controlled by the control circuit. By reflecting, the driving voltage or the current of the light emitting device can be adjusted.

도 7a 및 도 7b는 발광소자 패키지의 또 다른 실시예를 나타낸 도면이고, 도 8a 및 도 8b는 도 7a의 광센서를 상세히 나타낸 도면이고, 도 9a 내지 도 9d는 광센서의 제조 공정을 나타낸 도면이다.7A and 7B illustrate another embodiment of a light emitting device package. FIGS. 8A and 8B illustrate the optical sensor of FIG. 7A in detail, and FIGS. 9A to 9D illustrate a manufacturing process of the optical sensor. to be.

본 실시예에 따른 발광소자 패키지는 광센서(300)가 돌출부 상에 배치된 점에서 도 3a의 실시예와 상이하며, 광센서(300)는 발광소자(10)를 사이에 두고 열센서(400)와 마주보는 위치에 배치되어 있다.The light emitting device package according to the present embodiment is different from the embodiment of FIG. 3A in that the optical sensor 300 is disposed on the protrusion, and the optical sensor 300 has the thermal sensor 400 with the light emitting device 10 interposed therebetween. ) Is positioned opposite to).

광센서(300)는 광전도체, 반도체 접합 측정 소자 및 금속-반도체 접합 측정 소자 중 어느 하나 일 수 있으며, 광센서(300)는 광전도체(photoconductor), PN구조 광다이오드(PN type photodiode), PIN 구조 광다이오드, APD(Avalanche photodiode) 또는 MSM(Metal Semiconductor Metal) 구조 광 다이오드 중 적어도 어느 하나일 수 있다.The optical sensor 300 may be any one of a photoconductor, a semiconductor junction measuring element, and a metal-semiconductor junction measuring element. The optical sensor 300 may include a photoconductor, a PN type photodiode, and a PIN. It may be at least one of a structured photodiode, an Avalanche photodiode (APD), or a metal semiconductor metal (MSM) structured photodiode.

광센서(300)는 상술한 바와 같이 패키지 몸체(210)의 돌출부 상에 배치되어 발광소자(10)로부터 방출되는 빛의 광량 내지 세기를 측정할 수 있으며 발광소자 패키지(200)가 배치되는 장소의 광량을 측정할 수도 있고, 실리콘 웨이퍼로 이루어진 패키지 몸체(210)의 성장 공정에서 일체로 형성될 수 있다. 광센서(300)은 상술한 돌출부 상에 배치되되, 일부는 캐비티에 노출되어 발광소자(10)로부터 방출되는 빛을 감지할 수 있다.As described above, the optical sensor 300 may be disposed on the protrusion of the package body 210 to measure the light amount or intensity of the light emitted from the light emitting device 10, and may be located at the place where the light emitting device package 200 is disposed. The amount of light may be measured or may be integrally formed in the growth process of the package body 210 made of a silicon wafer. The optical sensor 300 is disposed on the above-described protrusion, and part of the light sensor 300 may be exposed to the cavity to detect light emitted from the light emitting device 10.

광센서(300)는 패키지 몸체(200) 위에 절연층(215)을 사이에 두고 배치될 수 있으며, 일부는 돌출부에 고정되고 일부는 캐비티에 노출되는 외팔보 형상일 수 있고, 캐비티에 광센서(300)의 일부가 노출되면 발광소자(10)로부터의 광량을 정확히 측정할 수 있다.The optical sensor 300 may be disposed on the package body 200 with an insulating layer 215 interposed therebetween, a part of which may be a cantilever shape that is fixed to the protrusion and part of which is exposed to the cavity, and the optical sensor 300 in the cavity. When a portion of) is exposed, the amount of light from the light emitting device 10 can be measured accurately.

광센서(300)는 패키지 몸체와 일체로 형성될 수 있는데, 여기서 일체로 형성된다 함은 별개로 제조되어 패키지 몸체에 접합되지 않고 패키지 몸체의 제조 공정에서 함께 형성된다는 의미이다. 광센서(300) 전체의 크기가 50 마이크로 미터 내지 150 마이크로 미터일 수 있는데, 크기가 너무 작으면 후술하는 전극층의 라인 형상의 배치 등에 충분하지 않을 수 있고, 크기가 너무 크면 광흡수에 의한 광감지에는 유리하나 빛의 흡수가 증가될 수 있다. 여기서, 광센서(300)의 크기는 광센서(300)가 사각형일 경우 한 변의 크기를 뜻한다.The optical sensor 300 may be integrally formed with the package body, wherein the integrally formed sensor means that the optical sensor 300 is formed separately and is formed together in the manufacturing process of the package body without being bonded to the package body. The entire size of the optical sensor 300 may be 50 micrometers to 150 micrometers, but if the size is too small, it may not be sufficient for the arrangement of the line shape of the electrode layer, which will be described later, and if the size is too large, light sensing by light absorption Although advantageous, light absorption can be increased. Here, the size of the optical sensor 300 refers to the size of one side when the optical sensor 300 is a square.

광센서(300)는 패키지 몸체 상에 절연층을 사이에 두고 접착되며, 제1 절연막(315)과 광센서 몸체(330)와 제2 절연막(335)과 광감지부(340) 및 전극층(360)을 포함하여 이루어질 수 있다.The optical sensor 300 is bonded to the package body with an insulating layer interposed therebetween, the first insulating film 315, the optical sensor body 330, the second insulating film 335, the light sensing unit 340, and the electrode layer 360. It can be made, including).

제1 절연막(315)과 제2 절연막(335)은 광센서 몸체(330)의 서로 다른 방향의 제1 면과 제2 면에 배치되고 있고, Si3N4 등의 실리콘 질화물로 이루어질 수 있으며, 기타 SiO2 등의 실리콘 산화물이나, 질화 알루미늄(AlN) 또는 탄화 규소(SiC) 등의 절연 물질로 이루어질 수 있다. 제1 절연막(315)과 제2 절연막(335)은 30 나노미터 내지 100 나노미터의 두께로 증착될 수 있으며, 60 나노미터의 두께일 수 있다. 제1 절연막(315)과 제2 절연막(335)의 두께(t4)가 너무 얇으면 절연 효과가 충분하지 않을 수 있고, 너무 두꺼우면 재료비의 증가 내지 빛의 차단 효과가 있을 수 있다.The first insulating film 315 and the second insulating film 335 are disposed on the first and second surfaces of the optical sensor body 330 in different directions, and may be made of silicon nitride such as Si 3 N 4 , Other silicon oxides, such as SiO 2 , or an insulating material such as aluminum nitride (AlN) or silicon carbide (SiC). The first insulating layer 315 and the second insulating layer 335 may be deposited to a thickness of 30 nanometers to 100 nanometers, and may be 60 nanometers thick. If the thickness t 4 of the first insulating film 315 and the second insulating film 335 is too thin, the insulating effect may not be sufficient. If the thickness of the first insulating film 315 and the second insulating film 335 is too thin, the thickness may be increased or the light blocking effect may be sufficient.

광센서 몸체(330)는 광흡수가 뛰어난 물질로 이루어질 수 있고, 구체적으로 반도체 물질일 수 있으며, 빛의 파장 대역에 따라 해당 파장 대역의 광 흡수율이 높은 물질이 사용될 수 있고, 구체적으로는 실리콘(silicon), 다결정 실리콘(poly-silicon) 또는 비정질 실리콘(Amorphous silicon)과 같은 실리콘 반도체와 GaN과 같은 질화물 반도체 등을 포함할 수 있다.The optical sensor body 330 may be made of a material having excellent light absorption, specifically, may be a semiconductor material, and a material having a high light absorption of a corresponding wavelength band may be used according to the wavelength band of light, and specifically, silicon ( silicon semiconductors such as silicon, poly-silicon, or amorphous silicon, and nitride semiconductors such as GaN.

광센서 몸체(330)는 0.5 마이크로 미터 내지 5 마이크로 미터의 두께일 수 있으며, 1 마이크로의 두께일 수 있다. 광센서 몸체(330)의 두께(t3)가 너무 얇으면 빛의 흡수가 충분히 이루어지지 않아서 광센서(300)의 동작에 충분하지 않을 수 있고, 너무 두꺼우면 광이 일부 흡수되어 발광소자 패키지에서 광센서(300)가 배치된 방향으로 방출되는 빛이 줄어들 수 있다.The optical sensor body 330 may be 0.5 micrometers to 5 micrometers thick and 1 micrometer thick. If the thickness t 3 of the optical sensor body 330 is too thin, light may not be absorbed sufficiently to be sufficient for the operation of the optical sensor 300. Light emitted in the direction in which the light sensor 300 is disposed may be reduced.

광감지부(340)는 광감성이 우수한 물질로 이루어질 수 있으며, 구체적으로는 티타늄(Ti)을 포함할 수 있다. 광감지부(340)는 광센서 몸체(330)로 흡수된 빛을 감지하고 전극층(360)으로 전달할 수 있으며, 광센서 몸체(330)와 전극층(360)에 각각 전기적으로 연결될 수 있다. 광감지부(340)는 25 나노미터 내지 100 나노미터의 두께를 가질 수 있으며, 50 나노미터의 두께로 이루어질 수 있다. 광감지부(340)의 두께가 너무 얇으면 광감지에 충분하지 않을 수 있고, 너무 두꺼우면 재료비가 증가되거나 진행하는 빛을 차단할 수 있다. 여기서, 광감지부(340)의 두께는 패터닝되지 않은 부분의 두께(t2)이거나 전체의 두께일 수도 있다.The light sensing unit 340 may be made of a material having excellent photosensitivity, and specifically, may include titanium (Ti). The light detecting unit 340 may detect light absorbed by the light sensor body 330 and transmit the light to the electrode layer 360, and may be electrically connected to the light sensor body 330 and the electrode layer 360, respectively. The light sensing unit 340 may have a thickness of 25 nanometers to 100 nanometers, and may be 50 nanometers thick. If the thickness of the light sensing unit 340 is too thin, it may not be sufficient for light sensing. If the thickness of the light sensing unit 340 is too thick, the material cost may increase or block the traveling light. Here, the thickness of the light sensing unit 340 may be the thickness t2 of the unpatterned portion or the entire thickness.

전극층(360)은 광센서(300)에 흐르는 전류를 감지할 수 있으며, 도전성 물질로 이루어지고, 상세하게는 금속 또는 반도체 물질일 수 있으며, 보다 상세하게는 알루미늄(Al)일 수 있다. 전극층(360)은 300 나노미터의 두께를 가질 수 있으며, 100 나노미터 내지 500 나노미터의 두께를 가질 수 있다. 전극층(360)은 증착 공정으로 형성되며 너무 얇으면 고른 증착이 어려우므로 100 나노미터의 두께로 증착되면 충분하고, 전극층(360)의 두께(t1)가 너무 두꺼우면 하부에서 진행한 빛을 반사시킬 수 있으므로 500 나노미터의 두께로 증착되면 충분하며, 패키지 몸체에 배치되는 제1,2 전극층(221, 222)와 함께 증착될 수 있고, 열센서(400) 내의 전극층(460)과 동일한 공정으로 제조될 수 있다.The electrode layer 360 may sense a current flowing in the optical sensor 300, may be made of a conductive material, and may be, in detail, a metal or a semiconductor material, and more specifically, may be aluminum (Al). The electrode layer 360 may have a thickness of 300 nanometers and may have a thickness of 100 nanometers to 500 nanometers. The electrode layer 360 is formed by a deposition process, and if it is too thin, even deposition is difficult, so it is sufficient to deposit a thickness of 100 nanometers, and if the thickness t 1 of the electrode layer 360 is too thick, it reflects light propagated from the bottom. Since it is possible to deposit to a thickness of 500 nanometers, it is sufficient, and can be deposited with the first and second electrode layers 221 and 222 disposed on the package body, the same process as the electrode layer 460 in the thermal sensor 400 Can be prepared.

도 9d에서 광감지부(340) 또는 제2 절연막(335)가 패터닝되어, 광감지부(340)가 일부 영역에서 광센서 몸체(330)와 연결되어 빛에 의하여 전류가 광감지부(340)에 흐를 수 있다.In FIG. 9D, the light sensing unit 340 or the second insulating layer 335 is patterned, so that the light sensing unit 340 is connected to the optical sensor body 330 in some regions so that a current is transmitted by the light. Can flow on.

전극층(360)은 도 8a 내지 도 8b에 도시된 바와 같이 서로 마주보는 복수 개의 라인 형상으로 배치되면, 광감지부(240)에 인가된 전류가 전극층(360)으로 고루 전달될 수 있다. 그리고, 본딩 패드(bonding pad)는 전극층(360)과 양끝단에서 접촉하며 배치될 수 있으며, 본딩 패드 양끝단에 전압을 가하면 광센서가 동작할 수 있다.When the electrode layer 360 is disposed in a plurality of line shapes facing each other as shown in FIGS. 8A to 8B, current applied to the light sensing unit 240 may be evenly transmitted to the electrode layer 360. In addition, the bonding pad may be disposed in contact with the electrode layer 360 at both ends, and an optical sensor may operate when a voltage is applied at both ends of the bonding pad.

도 8b에서 전극층(300) 중 액티브 영역(300a)를 상세히 도시하고 있는데, 여기서 액티브 영역(300a)은 광감지부(340)로부터 전류를 전달받는 영역을 뜻한다. 액티브 영역(300a)에서 전극층은 복수 개의 서로 마주보는 라인(Al1, Al2,...,Aln -1, Aln)으로 이루어져 있고, 각각의 라인(Al1, Al2,...,Aln -1, Aln)은 복수 개의 연결부(C1, C2,...Cn -1, Cn)로 연결될 수 있으며, 복수 개의 연결부(C1, C2,...Cn -1, Cn)는 상술한 각각의 라인(Al1, Al2,...,Aln -1, Aln의 양 끝에 서로 교번하여 배치될 수 있다.In FIG. 8B, the active region 300a of the electrode layer 300 is illustrated in detail, where the active region 300a refers to a region in which current is transmitted from the photosensitive unit 340. In the active region 300a, the electrode layer is composed of a plurality of opposing lines Al 1 , Al 2 ,..., Al n- 1 , Al n , and each of the lines Al 1 , Al 2 ,. , Al n -1 , Al n ) may be connected to a plurality of connection parts (C 1 , C 2 , ... C n -1 , C n ), and a plurality of connection parts (C 1 , C 2 , ... C n −1 , C n may be alternately arranged at both ends of each of the lines Al 1 , Al 2 ,..., Al n −1 , Al n .

도 8a에 도시된 바와 같이 광센서(300)는 패키지 몸체와 접촉하는 제1 영역과 캐비티의 바닥면과 마주보는 제2 영역을 포함하며, 제2 영역에서 전극층이 배치되어 발광소자에서 방출된 빛을 감지할 수 있다.As shown in FIG. 8A, the optical sensor 300 includes a first region in contact with the package body and a second region facing the bottom surface of the cavity, in which the electrode layer is disposed to emit light emitted from the light emitting device. Can be detected.

도 9a 내지 도 9d에서 광센서의 제조 공정이 간략히 도시되어 있다.9A to 9D, the manufacturing process of the optical sensor is briefly shown.

도 9a에서 패키지 몸체(210)가 p-타입의 실리콘 웨이퍼 등으로 성장되고, 도 6b에서 절연층(215)이 증착되고 이어서 제1 절연막(315)이 LPCVD 등의 방법으로 증착되어, 후에 실리콘 웨이퍼 등을 식각할 때 마스크로 작용할 수 있다. 여기서, 실리콘 웨이퍼의 식각은 상술한 캐비티의 형성공정일 수 있다.In FIG. 9A, the package body 210 is grown on a p-type silicon wafer or the like, in FIG. 6B, an insulating layer 215 is deposited, and then a first insulating film 315 is deposited by LPCVD or the like method, and then the silicon wafer. It can act as a mask when etching back. Here, the etching of the silicon wafer may be the process of forming the cavity described above.

도 9c에서 제1 절연막(315) 위에 폴리 실리콘 등으로 광센서 몸체(330)을 증학하고, 제2 절연막(335)을 형성하는데 광센서 몸체(330)의 패시베이션(passivation) 층으로 작용할 수 있다. 그리고, 도 9d에서 광감지부(340) 및 전극층(360)을 증착하고 패터닝할 수 있다.In FIG. 9C, the optical sensor body 330 may be extended on the first insulating layer 315 with polysilicon, and the second insulating layer 335 may serve as a passivation layer of the optical sensor body 330. In addition, in FIG. 9D, the light sensing unit 340 and the electrode layer 360 may be deposited and patterned.

상술한 발광소자 패키지는 얇은 막(membrane) 형상의 광센서가 패키지 몸체의 제조공정과 일체로 간편히 형성되어, 발광소자나 주변의 광 감지에 유리할 수 있다.In the above-described light emitting device package, a thin film-shaped optical sensor is simply formed integrally with the manufacturing process of the package body, and thus may be advantageous for light sensing of the light emitting device or the surroundings.

실시 예에 따른 발광소자 패키지는 복수 개가 회로 기판 상에 어레이되며, 상기 발광소자 패키지의 광 경로 상에 광학 부재인 도광판, 프리즘 시트, 확산 시트 등이 배치될 수 있다. 이러한 발광소자 패키지, 기판, 광학 부재는 라이트 유닛으로 기능할 수 있다. 또 다른 실시 예는 상술한 실시 예들에 기재된 반도체 반도체 소자 또는 발광소자 패키지를 포함하는 표시 장치, 지시 장치, 조명 시스템으로 구현될 수 있으며, 예를 들어, 조명 시스템은 램프, 가로등을 포함할 수 있다. 이하에서는 상술한 발광소자 패키지가 배치된 조명 시스템의 일실시 예로서, 헤드 램프와 백라이트 유닛을 설명한다.A plurality of light emitting device packages according to the embodiment may be arranged on a circuit board, and a light guide plate, a prism sheet, a diffusion sheet, and the like, which are optical members, may be disposed on an optical path of the light emitting device package. The light emitting device package, the substrate, and the optical member may function as a light unit. Another embodiment may be implemented as a display device, an indicator device, or a lighting system including the semiconductor semiconductor device or the light emitting device package described in the above embodiments, for example, the lighting system may include a lamp and a street lamp. . Hereinafter, a head lamp and a backlight unit will be described as an embodiment of the lighting system in which the above-described light emitting device package is disposed.

도 10은 발광소자 패키지를 포함하는 헤드 램프의 일실시 예를 나타낸 도면이다.10 is a diagram illustrating an embodiment of a head lamp including a light emitting device package.

실시 예에 따른 헤드 램프(500)는 발광소자 패키지가 배치된 발광소자 모듈(501)에서 방출된 빛이 리플렉터(502)와 쉐이드(503)에서 반사된 후 렌즈(504)를 투과하여 차체 전방을 향할 수 있다.The head lamp 500 according to the embodiment is a light emitted from the light emitting device module 501 in which the light emitting device package is disposed is reflected by the reflector 502 and the shade 503 and then transmitted through the lens 504 to the front of the vehicle body. Can head.

상술한 바와 같이, 상기 발광소자 모듈(501)에 사용되는 발광소자 패키지는 얇은 막(membrane) 형상의 열센서가 패키지 몸체의 제조공정과 일체로 간편히 형성되어, 발광소자나 주변의 열 감지에 유리할 수 있다.As described above, the light emitting device package used in the light emitting device module 501 has a thin film-shaped heat sensor is easily formed integrally with the manufacturing process of the package body, it is advantageous to the heat detection of the light emitting device or the surroundings Can be.

도 11은 발광소자 패키지를 포함하는 영상 표시장치의 일실시 예를 나타낸 도면이다.11 is a diagram illustrating an embodiment of an image display apparatus including a light emitting device package.

도시된 바와 같이, 본 실시 예에 따른 영상표시장치(600)는 광원 모듈과, 바텀 커버(610) 상의 반사판(620)과, 상기 반사판(620)의 전방에 배치되며 상기 광원모듈에서 방출되는 빛을 영상표시장치 전방으로 가이드하는 도광판(640)과, 상기 도광판(640)의 전방에 배치되는 제1 프리즘시트(650)와 제2 프리즘시트(660)와, 상기 제2 프리즘시트(660)의 전방에 배치되는 패널(670)과 상기 패널(670)의 전반에 배치되는 컬러필터(680)를 포함하여 이루어진다.As shown, the image display device 600 according to the present exemplary embodiment includes a light source module, a reflector 620 on the bottom cover 610, and light emitted from the light source module in front of the reflector 620. The light guide plate 640 for guiding the front of the image display device, the first prism sheet 650 and the second prism sheet 660 disposed in front of the light guide plate 640, and the second prism sheet 660. And a color filter 680 disposed in front of the panel 670 disposed in front of the panel 670.

광원 모듈은 회로 기판(630) 상의 발광소자 패키지(635)를 포함하여 이루어진다. 여기서, 회로 기판(630)은 PCB 등이 사용될 수 있고, 발광소자 패키지(635)는 상술한 바와 같다.The light source module includes a light emitting device package 635 on the circuit board 630. Here, the circuit board 630 may be a PCB, etc., the light emitting device package 635 is as described above.

바텀 커버(610)는 영상표시장치(600) 내의 구성 요소들을 수납할 수 있다. 반사판(620)은 본 도면처럼 별도의 구성요소로 마련될 수도 있고, 도광판(640)의 후면이나, 상기 바텀 커버(610)의 전면에 반사도가 높은 물질로 코팅되는 형태로 마련되는 것도 가능하다.The bottom cover 610 may receive components in the image display device 600. The reflective plate 620 may be provided as a separate component as shown in the figure, or may be provided in the form of a high reflectivity coating on the rear surface of the light guide plate 640 or the front surface of the bottom cover 610.

반사판(620)은 반사율이 높고 초박형으로 사용 가능한 소재를 사용할 수 있고, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PolyEthylene Terephtalate; PET)를 사용할 수 있다.The reflective plate 620 may use a material having high reflectance and being extremely thin, and may use polyethylene terephthalate (PET).

도광판(640)은 발광소자 패키지 모듈에서 방출되는 빛을 산란시켜 그 빛이 액정 표시 장치의 화면 전영역에 걸쳐 균일하게 분포되도록 한다. 따라서, 도광판(630)은 굴절률과 투과율이 좋은 재료로 이루어지는데, 폴리메틸메타크릴레이트(PolyMethylMethAcrylate; PMMA), 폴리카보네이트(PolyCarbonate; PC), 또는 폴리에틸렌(PolyEthylene; PE) 등으로 형성될 수 있다. 또한, 도광판(640)이 생략되면 에어 가이드 방식의 표시장치가 구현될 수 있다.The light guide plate 640 scatters the light emitted from the light emitting device package module so that the light is uniformly distributed over the entire screen of the liquid crystal display. Accordingly, the light guide plate 630 may be formed of a material having good refractive index and high transmittance, and may be formed of polymethyl methacrylate (PMMA), polycarbonate (PC), polyethylene (PE), or the like. In addition, when the light guide plate 640 is omitted, an air guide type display device may be implemented.

상기 제1 프리즘 시트(650)는 지지필름의 일면에, 투광성이면서 탄성을 갖는 중합체 재료로 형성되는데, 상기 중합체는 복수 개의 입체구조가 반복적으로 형성된 프리즘층을 가질 수 있다. 여기서, 상기 복수 개의 패턴은 도시된 바와 같이 마루와 골이 반복적으로 스트라이프 타입으로 구비될 수 있다.The first prism sheet 650 is formed of a translucent and elastic polymer material on one surface of the support film, and the polymer may have a prism layer in which a plurality of three-dimensional structures are repeatedly formed. Here, the plurality of patterns may be provided in the stripe type and the valley repeatedly as shown.

상기 제2 프리즘 시트(660)에서 지지필름 일면의 마루와 골의 방향은, 상기 제1 프리즘 시트(650) 내의 지지필름 일면의 마루와 골의 방향과 수직할 수 있다. 이는 광원 모듈과 반사시트로부터 전달된 빛을 상기 패널(570)의 전방향으로 고르게 분산하기 위함이다.In the second prism sheet 660, the direction of the floor and the valley of one surface of the support film may be perpendicular to the direction of the floor and the valley of one surface of the support film in the first prism sheet 650. This is to evenly distribute the light transmitted from the light source module and the reflective sheet in all directions of the panel 570.

본 실시 예에서 상기 제1 프리즘시트(650)과 제2 프리즘시트(660)가 광학시트를 이루는데, 상기 광학시트는 다른 조합 예를 들어, 마이크로 렌즈 어레이로 이루어지거나 확산시트와 마이크로 렌즈 어레이의 조합 또는 하나의 프리즘 시트와 마이크로 렌즈 어레이의 조합 등으로 이루어질 수 있다.In the present embodiment, the first prism sheet 650 and the second prism sheet 660 form an optical sheet, and the optical sheet is composed of another combination, for example, a micro lens array or a diffusion sheet and a micro lens array. Or a combination of one prism sheet and a micro lens array.

상기 패널(670)은 액정 표시 패널(Liquid crystal display)가 배치될 수 있는데, 액정 표시 패널(660) 외에 광원을 필요로 하는 다른 종류의 디스플레이 장치가 구비될 수 있다.The liquid crystal display panel (Liquid Crystal Display) may be disposed on the panel 670, and other types of display devices requiring a light source may be provided in addition to the liquid crystal display panel 660.

상기 패널(670)은, 유리 바디 사이에 액정이 위치하고 빛의 편광성을 이용하기 위해 편광판을 양 유리바디에 올린 상태로 되어있다. 여기서, 액정은 액체와 고체의 중간적인 특성을 가지는데, 액체처럼 유동성을 갖는 유기분자인 액정이 결정처럼 규칙적으로 배열된 상태를 갖는 것으로, 상기 분자 배열이 외부 전계에 의해 변화되는 성질을 이용하여 화상을 표시한다.The panel 670 is in a state where the liquid crystal is located between the glass bodies and the polarizing plates are placed on both glass bodies in order to use the polarization of light. Here, the liquid crystal has an intermediate characteristic between the liquid and the solid, and the liquid crystal, which is an organic molecule having fluidity like a liquid, has a state in which the liquid crystal is regularly arranged like a crystal, and uses the property that the molecular arrangement is changed by an external electric field. Display an image.

표시장치에 사용되는 액정 표시 패널은, 액티브 매트릭스(Active Matrix) 방식으로서, 각 화소에 공급되는 전압을 조절하는 스위치로서 트랜지스터를 사용한다.The liquid crystal display panel used in the display device uses a transistor as an active matrix method as a switch for adjusting a voltage supplied to each pixel.

상기 패널(670)의 전면에는 컬러 필터(680)가 구비되어 상기 패널(670)에서 투사된 빛을, 각각의 화소마다 적색과 녹색 및 청색의 빛만을 투과하므로 화상을 표현할 수 있다.The front surface of the panel 670 is provided with a color filter 680 to transmit the light projected by the panel 670, only the red, green and blue light for each pixel can represent an image.

본 실시 예에 따른 영상표시장치에 배치된 발광소자 패키지는 얇은 막(membrane) 형상의 열센서가 패키지 몸체의 제조공정과 일체로 간편히 형성되어, 발광소자나 주변의 열 감지에 유리할 수 있다.In the light emitting device package disposed in the image display device according to the present exemplary embodiment, a thin film-shaped thermal sensor may be easily formed integrally with the manufacturing process of the package body, and thus may be advantageous for light sensing of the light emitting device or the surroundings.

이상에서 실시예를 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부된 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.Although described above with reference to the embodiment is only an example and is not intended to limit the invention, those of ordinary skill in the art to which the present invention does not exemplify the above within the scope not departing from the essential characteristics of this embodiment It will be appreciated that many variations and applications are possible. For example, each component specifically shown in the embodiment can be modified. And differences relating to such modifications and applications will have to be construed as being included in the scope of the invention defined in the appended claims.

10: 발광소자 100, 200: 발광소자 패키지
110. 210: 패키지 몸체 121, 122: 제1,2 리드 프레임
130: 도전성 접착제 140, 240: 와이어
150: 몰딩부 160: 형광체
215: 절연층 221, 222: 제1,2 전극층
300: 광센서 300a: 액티브 영역
315, 335: 제1,2 절연막 330: 광센서 몸체
340:광감지부 360, 460: 전극층
400: 열센서 420: 열감지부
440: 열전달부
10: light emitting device 100, 200: light emitting device package
110. 210: package body 121, 122: first and second lead frame
130: conductive adhesive 140, 240: wire
150: molding 160: phosphor
215: insulating layer 221, 222: first and second electrode layer
300: light sensor 300a: active area
315 and 335: first and second insulating films 330: optical sensor body
340: light sensing unit 360, 460: electrode layer
400: heat sensor 420: heat detection unit
440: heat transfer unit

Claims (14)

적어도 일부분이 함몰되어 상부가 개방된 캐비티 및 상기 캐비티의 개방된 영역의 외곽에 배치된 돌출부를 포함하는 패키지 몸체;
절연층을 사이에 두고 상기 패키지 몸체와 전기적으로 분리 된 제 1 전극층 및 제 2 전극층을 포함하며, 상기 제 1 전극층 및 상기 제 2 전극층은 상기 캐비티의 바닥면에서 전기적으로 분리되고, 상기 캐비티의 개방된 영역을 통해 광을 방출하도록 구성된 캐비티의 바닥면에 배치되는 발광소자;
상기 패키지 몸체의 적어도 일부 상에 위치하여 상기 발광소자의 온도를 측정하는 열센서; 및
상기 패키지 몸체의 적어도 일부 상에 위치하여 상기 발광소자의 광의 세기를 측정하는 광센서를 포함하고,
상기 제 1 전극층 및 상기 제 2 전극층은 상기 캐비티의 측면에 배치되고,
상기 캐비티의 측면에는 상기 제 1 전극층의 상면과 상기 제 2 전극층의 상면이 노출되고,
상기 광센서는
광센서 몸체, 상기 광센서 몸체의 제1 면과 제2 면에 배치된 제1 절연막과 제2 절연막, 제3 전극층, 상기 광센서 몸체와 상기 제3 전극층을 전기적으로 연결하는 광감지부을 포함하고,
상기 제3 전극층은 복수 개의 서로 마주보는 라인을 포함하고, 상기 복수 개의 서로 마주보는 라인은 복수의 연결부를 통해 서로 접속되며, 상기 복수의 연결부는 각각의 상기 서로 마주보는 라인의 양 끝에 교번하여 배치되고,
상기 패키지 몸체의 상면과 접촉하는 제1 영역과 상기 캐비티의 바닥면과 마주보는 제2 영역을 더 포함하고, 일부는 상기 돌출부에 고정되며, 일부는 상기 캐비티에 노출되는 외팔보 형상이고,
상기 열센서는
열감지부, 전극 패드 및 상기 열감지부와 상기 전극 패드의 사이에 배치되는 열전달부를 포함하고,
상기 열 센서는 상기 제1,2 전극층 중 어느 하나의 상부에 위치되고,
상기 패키지 몸체와 절연층을 사이에 두고 접촉하는 발광소자 패키지.
A package body including a cavity in which at least a portion is recessed to open the top and a protrusion disposed outside the open area of the cavity;
And a first electrode layer and a second electrode layer electrically separated from the package body with an insulating layer interposed therebetween, wherein the first electrode layer and the second electrode layer are electrically separated from the bottom surface of the cavity, and the cavity is opened. A light emitting element disposed on the bottom surface of the cavity configured to emit light through the recessed area;
A thermal sensor positioned on at least a portion of the package body to measure a temperature of the light emitting device; And
Located on at least a portion of the package body includes an optical sensor for measuring the intensity of the light of the light emitting device,
The first electrode layer and the second electrode layer is disposed on the side of the cavity,
An upper surface of the first electrode layer and an upper surface of the second electrode layer are exposed on the side surface of the cavity,
The optical sensor is
An optical sensor body, a first insulating film and a second insulating film disposed on first and second surfaces of the optical sensor body, a third electrode layer, and an optical sensing unit electrically connecting the optical sensor body and the third electrode layer; ,
The third electrode layer includes a plurality of opposing lines, the plurality of opposing lines are connected to each other through a plurality of connecting portions, and the plurality of connecting portions are alternately arranged at both ends of each of the opposing lines. Become,
A first region in contact with the top surface of the package body and a second region facing the bottom surface of the cavity, the portion being fixed to the protrusion, the portion being a cantilever shape exposed to the cavity,
The thermal sensor is
A heat sensing unit, an electrode pad, and a heat transfer unit disposed between the heat sensing unit and the electrode pad,
The thermal sensor is positioned above one of the first and second electrode layers,
The light emitting device package is in contact with the package body and the insulating layer therebetween.
삭제delete 삭제delete 제1 항에 있어서,
상기 열전달부는 티타늄(Ti)을 포함하고, 상기 열전달부는 25 나노미터 내지 100 나노미터의 두께를 가지고,
상기 열감지부는 니켈(Ni)을 포함하고, 상기 열감지부는 100 나노미터 내지 500 나노미터의 두께를 가지고,
상기 제3 전극층은 알루미늄(Al)을 포함하고, 100 나노미터 내지 500 나노미터의 두께를 가지는 발광소자 패키지.
According to claim 1,
The heat transfer part comprises titanium (Ti), the heat transfer part has a thickness of 25 nanometers to 100 nanometers,
The heat detection unit includes nickel (Ni), the heat detection unit has a thickness of 100 nanometers to 500 nanometers,
The third electrode layer includes aluminum (Al), the light emitting device package having a thickness of 100 nanometers to 500 nanometers.
삭제delete 삭제delete 제1 항 또는 제4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 열센서는 0.3 마이크로 미터 내지 1 마이크로 미터의 크기인 발광소자 패키지.
The method according to any one of claims 1 to 4,
The thermal sensor is a light emitting device package of the size of 0.3 micrometers to 1 micrometer.
제1항 또는 제4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 광센서는 상기 패키지 몸체와 일체로 형성되는 발광소자 패키지
The method according to any one of claims 1 to 4,
The optical sensor is a light emitting device package formed integrally with the package body
삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항 또는 제4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 광센서의 제2 영역에서, 상기 제3 전극층은 서로 마주보는 평행한 복수 개의 라인 형상으로 배치된 발광소자 패키지.
The method according to any one of claims 1 to 4,
In the second region of the optical sensor, the third electrode layer is disposed in a plurality of parallel line shape facing each other.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2009010044A (en) * 2007-06-26 2009-01-15 Panasonic Electric Works Co Ltd Light emitting device
JP2011101052A (en) * 2005-07-20 2011-05-19 Samsung Led Co Ltd Led package and method of manufacturing the same

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011101052A (en) * 2005-07-20 2011-05-19 Samsung Led Co Ltd Led package and method of manufacturing the same
JP2009010044A (en) * 2007-06-26 2009-01-15 Panasonic Electric Works Co Ltd Light emitting device

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