KR101977756B1 - 기판 처리 장치 및 그의 액 공급량 제어 방법 - Google Patents

기판 처리 장치 및 그의 액 공급량 제어 방법 Download PDF

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Abstract

기판 처리 장치가 개시된다. 기판 처리 장치는, 기판을 처리하는 장치에 있어서, 기판을 지지하는 지지유닛 및 지지유닛에 지지된 기판으로 액을 공급하는 액 공급 유닛을 포함하되, 액 공급 유닛은, 액을 공급하는 액 공급부, 액 공급부와 연결되어 액의 유동 경로를 형성하는 액 공급관, 액 공급관에 설치되어 액을 토출시키는 노즐, 액 공급부와 노즐 사이의 액 공급관 상에 배치되어 노즐에서 토출되는 액을 제어하는 밸브 및 PID 제어를 이용하여 노즐에서 토출되는 액의 공급량에 대한 제1 및 제2 전압값을 획득하고, 제1 및 제2 전압값을 이용하여 산출되는 제3 전압값에 대한 근사치를 이용하여 노즐에서 토출되는 액의 공급량에 대한 제3 전압값을 획득하며, 제1 내지 제3 전압값에 기초하여 밸브를 제어하는 제어부를 포함한다.

Description

기판 처리 장치 및 그의 액 공급량 제어 방법{SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND METHOD FOR SUPPLYING CHEMICAL THEREOF}
본 발명은 기판 처리 장치 및 그의 액 공급량 제어 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 노즐에서 토출되는 액의 공급량에 대응되는 전압값을 신속하게 획득할 수 있는 기판 처리 장치 및 그의 액 공급량 제어 방법에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체 장치의 제조 공정에 있어서 다양한 액 공급 유닛이 이용된다. 액 공급 유닛은 원액을 순수로 희석하여 생성한 액 및 복수의 원액을 혼합하여 생성되는 액을 반도체 장치를 처리하는 처리 장치에 공급한다. 액 공급 유닛에 의해 공급되는 액의 양은 밸브에 의해 제어되며, 필요한 액의 유량에 따라 대응되는 전압을 밸브에 공급한다.
종래에는 공정 프로세스에서 필요한 액의 목표 유량에 대한 전압 출력값을 획득하기 위하여 순차적으로 PID 제어를 적용하여 N개의 액의 목표 유량에 대한 전압 출력값을 획득하였다. 다만, 순차적 PID 제어를 이용하는 경우 모든 목표 유량에 대한 전압 출력값을 획득하는데 소요되는 시간이 길어지고, 전압 출력값을 획득하는 과정에서 불필요한 액이 과도하게 사용되는 문제가 있었다.
본 발명의 목적은 액의 목표 유량에 대한 전압 출력값의 근사치를 산출하고 근사치를 이용하여 전압 출력값을 획득함으로써, 신속하게 모든 목표 유량에 대한 전압 출력값을 획득할 수 있는 기판 처리 장치 및 그의 액 공급량 제어 방법을 제공함에 있다.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치는, 기판을 처리하는 장치에 있어서, 기판을 지지하는 지지유닛 및 상기 지지유닛에 지지된 기판으로 액을 공급하는 액 공급 유닛을 포함하되, 상기 액 공급 유닛은, 액을 공급하는 액 공급부, 상기 액 공급부와 연결되어 상기 액의 유동 경로를 형성하는 액 공급관, 상기 액 공급관에 설치되어 상기 액을 토출시키는 노즐, 상기 액 공급부와 상기 노즐 사이의 상기 액 공급관 상에 배치되어 상기 노즐에서 토출되는 상기 액을 제어하는 밸브 및 PID 제어를 이용하여 상기 노즐에서 토출되는 액의 공급량에 대한 제1 및 제2 전압값을 획득하고, 상기 제1 및 제2 전압값을 이용하여 산출되는 제3 전압값에 대한 근사치를 이용하여 상기 노즐에서 토출되는 액의 공급량에 대한 제3 전압값을 획득하며, 상기 제1 내지 제3 전압값에 기초하여 상기 밸브를 제어하는 제어부를 포함한다.
여기서, 상기 제어부는, 상기 제3 전압값에 대한 근사치에 PID 제어를 적용하여 상기 노즐에서 토출되는 액의 공급량에 대한 상기 제3 전압값을 획득할 수 있다.
여기서, 상기 제어부는, V3 = 2*V2 - V1 을 이용하여 상기 제3 전압값에 대한 근사치를 산출하며, 여기서, V1은 상기 제1 전압값, V2는 상기 제2 전압값, V3는 상기 제3 전압값에 대한 근사치일 수 있다.
또한, 상기 제어부는, 상기 제1 및 제2 전압값을 이용하여 제4 전압값을 획득하고, 상기 제1 전압값 및 상기 제4 전압값의 중간값을 이용하여 상기 제3 전압값을 획득할 수 있다.
여기서, 상기 제어부는, 상기 제1 및 제2 전압값을 이용하여 제4 전압값에 대한 근사치를 산출하고, 상기 제4 전압값에 대한 근사치에 PID 제어를 적용하여 상기 제4 전압값을 획득할 수 있다.
여기서, 상기 제어부는, V9 = V1 + (V2 - V1)*8 을 이용하여 상기 제4 전압값에 대한 근사치를 산출하며, 여기서, V1은 상기 제1 전압값, V2는 상기 제2 전압값, V9는 상기 제4 전압값에 대한 근사치일 수 있다.
여기서, 상기 제어부는, 상기 제1 전압값 및 상기 제4 전압값의 중간값을 제5 전압값에 대한 근사치로 산출하고, 상기 제1 전압값 및 상기 제5 전압값의 중간값을 상기 제3 전압값의 근사치로 산출하며, 상기 제3 전압값의 근사치에 PID 제어를 적용하여 상기 제3 전압값을 획득할 수 있다.
여기서, 상기 제어부는, V5 = (V9 + V1)/2 를 이용하여 상기 제5 전압값에 대한 근사치를 산출하고, V3 = (V5 + V1)/2를 이용하여 상기 제3 전압값에 대한 근사치를 산출하며, 여기서, V1은 상기 제1 전압값, V3은 상기 제2 전압값에 대한 근사치, V5는 상기 제5 전압값에 대한 근사치, V9는 상기 제4 전압값일 수 있다.
한편, 본 발명의 일 실시 예에 따른 액 공급량 제어 방법은, 액을 토출시키는 노즐 및 상기 노즐에서 토출되는 액을 제어하는 밸브를 포함하는 기판 처리 장치의 액 공급량 제어 방법에 있어서, PID 제어를 이용하여 상기 노즐에서 토출되는 액의 공급량에 대한 제1 및 제2 전압값을 획득하는 단계, 상기 제1 및 제2 전압값을 이용하여 제3 전압값에 대한 근사치를 산출하는 단계, 상기 제3 전압값에 대한 근사치를 이용하여 상기 노즐에서 토출되는 액의 공급량에 대한 제3 전압값을 획득하는 단계 및 상기 제1 내지 제3 전압값에 기초하여 상기 밸브를 제어하는 단계를 포함한다.
여기서, 상기 제3 전압값을 획득하는 단계는, 상기 제3 전압값에 대한 근사치에 PID 제어를 적용하여 상기 노즐에서 토출되는 액의 공급량에 대한 상기 제3 전압값을 획득할 수 있다.
여기서, 상기 제3 전압값에 대한 근사치를 산출하는 단계는, V3 = 2*V2 - V1 을 이용하여 상기 제3 전압값에 대한 근사치를 산출하며, 여기서, V1은 상기 제1 전압값, V2는 상기 제2 전압값, V3는 상기 제3 전압값에 대한 근사치일 수 있다.
또한, 상기 제3 전압값을 획득하는 단계는, 상기 제1 및 제2 전압값을 이용하여 제4 전압값을 획득하는 단계 및 상기 제1 전압값 및 상기 제4 전압값의 중간값을 이용하여 상기 제3 전압값을 획득하는 단계를 포함할 수 있다.
여기서, 상기 제4 전압값을 획득하는 단계는, 상기 제1 및 제2 전압값을 이용하여 제4 전압값에 대한 근사치를 산출하고, 상기 제4 전압값에 대한 근사치에 PID 제어를 적용하여 상기 제4 전압값을 획득할 수 있다.
여기서, 상기 제4 전압값을 획득하는 단계는, V9 = V1 + (V2 - V1)*8 을 이용하여 상기 제4 전압값에 대한 근사치를 산출하며, 여기서, V1은 상기 제1 전압값, V2는 상기 제2 전압값, V9는 상기 제4 전압값에 대한 근사치일 수 있다.
여기서, 상기 제3 전압값에 대한 근사치를 산출하는 단계는, 상기 제1 전압값 및 상기 제4 전압값의 중간값을 제5 전압값에 대한 근사치로 산출하는 단계 및 상기 제1 전압값 및 상기 제5 전압값의 중간값을 상기 제3 전압값의 근사치로 산출하는 단계를 포함하고, 상기 제3 전압값을 획득하는 단계는, 상기 제3 전압값의 근사치에 PID 제어를 적용하여 상기 제3 전압값을 획득할 수 있다.
여기서, 상기 제1 전압값 및 상기 제4 전압값의 중간값을 제5 전압값에 대한 근사치로 산출하는 단계는, V5 = (V9 + V1)/2 를 이용하여 상기 제5 전압값에 대한 근사치를 산출하고, 상기 제1 전압값 및 상기 제5 전압값의 중간값을 상기 제3 전압값의 근사치로 산출하는 단계는, V3 = (V5 + V1)/2를 이용하여 상기 제3 전압값에 대한 근사치를 산출하며, 여기서, V1은 상기 제1 전압값, V3은 상기 제2 전압값에 대한 근사치, V5는 상기 제5 전압값에 대한 근사치, V9는 상기 제4 전압값일 수 있다.
이상과 같은 본 발명의 다양한 실시 예에 따르면 근사치를 이용하여 신속하게 공정 프로세스에서 필요한 액의 공급량에 대한 전압값을 획득할 수 있으며, 액이 과도하게 소모되는 것을 방지할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치에 포함되는 액 공급 유닛을 나타내는 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치의 액 공급량 제어 방법을 나타내는 흐름도이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 기판 처리 장치의 액 공급량 제어 방법을 나타내는 흐름도이다.
도 4는 도 3에 따른 액 공급량 제어 방법으로 액 공급량에 대응되는 전압값을 획득한 결과를 나타내는 도면이다.
본 발명의 다른 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술 되는 실시 예를 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시 예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시 예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.
만일 정의되지 않더라도, 여기서 사용되는 모든 용어들(기술 혹은 과학 용어들을 포함)은 이 발명이 속한 종래 기술에서 보편적 기술에 의해 일반적으로 수용되는 것과 동일한 의미를 가진다. 일반적인 사전들에 의해 정의된 용어들은 관련된 기술 그리고/혹은 본 출원의 본문에 의미하는 것과 동일한 의미를 갖는 것으로 해석될 수 있고, 그리고 여기서 명확하게 정의된 표현이 아니더라도 개념화되거나 혹은 과도하게 형식적으로 해석되지 않을 것이다.
본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치는 내부에 처리공간을 갖는 공정 챔버, 상기 처리 공간 내에서 기판을 지지하는 기판 지지 유닛, 상기 처리 공간으로 가스를 공급하는 가스 공급 유닛, 상기 처리 공간의 상벽으로 제공되는 유전판, 상기 유전판의 상부에 배치되고 마이크로파를 방사하며, 제1 슬롯들이 형성된 메인 슬롯 안테나, 상기 메인 슬롯 안테나로 마이크로파를 인가하는 마이크로파 인가 유닛 및 상기 메인 슬롯 안테나의 하부에 상기 메인 슬롯 안테나와 이격되어 배치되고, 제2 슬롯들이 형성된 조절 슬롯 안테나를 포함하는 것을 특징으로 한다. 즉 본 발명은 메인 슬롯 안테나의 하부에 메인 슬롯 안테나와 이격 배치된 조절 슬롯 안테나를 회전시킴으로써, 마이크로파의 정상파의 구조 및 전계 밀도 분포를 조절할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치에 포함되는 액 공급 유닛을 나타내는 도면이다.
도 1을 참조하면, 액 공급 유닛(100)은 액 공급부(110), 액 공급관(120), 밸브(130), 노즐(140) 및 제어부(150)를 포함한다.
액 공급부(110)는 액을 저장하고, 액 공급관(120)을 통해 액을 공급한다. 액 공급부(110)는 펌프를 이용하거나, 외부로부터 공급되는 가스의 압력을 이용하여 액을 이동시킨다. 이때, 상기 액 공급부(110)는 반도체 제조 공정에 필요한 액을 공정에 적합한 온도와 농도로 관리하여 공급한다.
액 공급관(120)은 액 공급부(110)의 출력단에 연통 설치되어 액 공급부(110)로부터 배출되는 액의 유동 경로를 형성한다.
밸브(130)는 액 공급부(110)와 노즐(140) 사이의 액 공급관(120) 상에 배치된다. 밸브(130)는 액 공급부(110)로부터 공급되는 액을 조절하여 노즐(140)에서 배출되는 액의 양을 조절할 수 있다. 또한, 밸브(130)는 액이 노즐(140)을 통해 토출된 직후 노즐(140)에 남아있는 액을 액 공급관(120)으로 역류시킬 수도 있다. 예를 들어, 밸브(130)는 액 공급관(120)을 통해 공급된 감광 물질이 노즐(140)에서 토출된 후 노즐(140)의 끝단에 남아있을 경우, 이물질과 접촉되어 변질되거나 오염될 수 있으므로 감광 물질을 액 공급관(120)으로 역류시킬 수 있다.
노즐(140)은 액 공급관(120)에 연통 설치되어 밸브(130)에 의하여 공급되는 액을 토출시킨다. 노즐(140)은 다양한 형상으로 형성될 수 있으며, 일 예로 폭이 좁고 길이가 긴 슬릿 형상으로 형성될 수 있다.
제어부(150)는 PID(Proportional Integral Derivative) 제어를 이용하여 노즐(140)에서 토출되는 액의 공급량에 대한 제1 및 제2 전압값을 획득한다. 구체적으로, 밸브(130)에 인가되는 전압값을 변경하면서 노즐(140)에서 토출되는 액의 공급량을 측정하며, PID 제어를 이용하여 각각의 액 공급량에 대한 전압값을 획득할 수 있다. 여기서, 제1 전압값 및 제2 전압값은 서로 다른 액 공급량에 대한 전압값일 수 있다.
또한, 제어부(150)는 제1 및 제2 전압값이 획득되면, 획득된 제1 및 제2 전압값을 이용하여 제3 전압값에 대한 근사치를 산출한다. 구체적으로, 아래의 수학식 1에 의하여, 제3 전압값에 대한 근사치를 산출할 수 있다.
Figure 112017041767692-pat00001
여기서, V1은 제1 전압값, V2는 제2 전압값, V3는 제3 전압값에 대한 근사치이다.
제어부(150)는 산출된 제3 전압값에 대한 근사치를 이용하여 노즐(140)에서 토출되는 액의 공급량에 대한 제3 전압값을 획득할 수 있다. 구체적으로, 제어부(150)는 산출된 제3 전압값에 대한 근사치에 PID 제어를 적용하여 신속하게 제3 전압값을 획득할 수 있다. 이후, 제어부(150)는 획득된 제1 내지 제3 전압값에 기초하여 밸브를 제어한다. 예를 들어, 10ml에 대한 제1 전압값이 5V, 20ml에 대한 제2 전압값이 10V, 30ml에 대한 제3 전압값이 15V로 획득된 경우, 공정 프로세스에 따라 20ml의 액이 공급되어야 하는 경우, 제어부(150)는 밸브(130)에 10V를 인가하여 노즐(140)에서 20ml의 액이 토출되도록 제어할 수 있다. 이 경우, 제어부(150)는 제3 전압값을 획득할 때, 제3 전압값의 근사치를 이용하여 제3 전압값을 획득하여 보다 신속하게 제3 전압값을 획득할 수 있으며, 액 사용량을 감소시킬 수 있다. 또한, 제어부(150)가 제1 내지 제3 전압값을 획득한다고 하였으나, 이에 한정되지 않고 공정 프로세스에 따라 4개 이상의 전압값을 획득할 수도 있다.
일 예로, 노즐(140)에서 토출되는 액의 공급량에 대한 9개의 전압값(V1 ~ V9)이 획득되어야 하는 경우, 제1 및 제2 전압값(V1, V2)은 PID 제어를 이용하여 획득한 후, 제3 내지 제9 전압값(V3 ~ V9)은 근사치를 산출하고 근사치에 PID 제어를 이용하여 획득할 수 있다. 이 경우, 제3 내지 제9 전압값에 대한 근사치를 산출하는 수학식은 아래 표 1과 같다.
V3 V3 = 2*V2 - V1
V4 V4 = 2*V3 - V2
V5 V5 = 2*V4 - V3
V6 V6 = 2*V5 - V4
V7 V7 = 2*V6 - V5
V8 V8 = 2*V7 - V6
V9 V9 = 2*V8 - V7
여기서, V1, V2는 제1 및 제2 전압값이고, V3 내지 V9는 제3 내지 제9 전압값에 대한 근사치이다.
상기와 같이 본 발명의 일 실시 예에 따르면, 제3 내지 제9 전압값에 대한 근사치를 산출하고, 근사치에 PID 제어를 적용하여 제3 내지 제9 전압값을 획득함으로써, 보다 신속히 노즐(130)에서 토출되는 액에 대응되는 전압값을 획득할 수 있으며, 소모되는 액 사용량을 감소시킬 수 있다.
또한, 제어부(150)는 획득된 전압값들의 중간값을 이용하여 전압값에 대한 근사치를 산출하고, 산출된 근사치를 이용하여 전압값을 획득할 수 있다. 구체적으로, PID 제어를 이용하여 제1 및 제2 전압값을 획득한 후, 제1 및 제2 전압값을 이용하여 제4 전압값을 획득한다. 이 경우, 아래의 수학식 2를 이용하여 제4 전압값에 대한 근사치를 산출하고, 산출된 제4 전압값에 대한 근사치에 PID 제어를 적용하여 제4 전압값을 획득할 수 있다.
Figure 112017041767692-pat00002
여기서, V1은 제1 전압값, V2는 제2 전압값, V9는 제4 전압값에 대한 근사치이다.
제어부(150)는 제4 전압값이 획득되면, 제1 전압값 및 제4 전압값의 중간값을 이용하여 제3 전압값을 획득할 수 있다. 구체적으로, 제1 전압값 및 제4 전압값의 중간값을 제5 전압값에 대한 근사치로 산출하고, 제1 전압값 및 제5 전압값의 중간값을 제3 전압값의 근사치로 산출할 수 있다. 이 경우, 아래의 수학식 3 및 수학식 4를 이용하여 제5 전압값에 대한 근사치 및 제3 전압값에 대한 근사치를 각각 산출할 수 있다.
Figure 112017041767692-pat00003
여기서, V1은 제1 전압값, V9는 제4 전압값, V5는 제5 전압값에 대한 근사치이다.
Figure 112017041767692-pat00004
여기서, V1은 제1 전압값, V5는 제5 전압값, V3은 제3 전압값에 대한 근사치이다.
제어부(150)는 제5 전압값에 대한 근사치 및 제3 전압값에 대한 근사치에 PID 제어를 적용하여 제5 전압값, 제3 전압값을 획득할 수 있다. 이후, 제어부(150)는 획득된 제1 내지 제5 전압값에 기초하여 밸브를 제어한다. 또한, 제어부(150)는 제1 내지 제5 전압값을 획득하는 것에 한정되지 않고, 공정 프로세스에 따라 6개 이상의 전압값을 획득할 수 있다.
일 예로, 노즐(140)에서 토출되는 액의 공급량에 대한 9개의 전압값(V1 ~ V9)이 획득되어야 하는 경우, 제1 및 제2 전압값(V1, V2)은 PID 제어를 이용하여 획득한 후, 제1 및 제2 전압값을 이용하여 제9 전압값을 획득한 후, 중간값을 이용하여 제3 내지 제8 전압값에 대한 근사치를 산출하고 근사치에 PID 제어를 적용하여 제3 내지 제8 전압값을 획득할 수 있다. 중간값을 이용하여 전압값에 대한 근사치를 산출하는 경우, 표 1의 수학식을 이용할 때보다 더 빠르게 근사치를 산출할 수 있다. 중간값을 이용하여 전압값에 대한 근사치를 산출하는 수학식은 아래의 표 2와 같다.
V3 V9 = V1 + (V2 - V1)*8
V4 V5 = (V9 + V1)/2
V5 V3 = (V5 + V1)/2
V6 V7 = (V9 + V5)/2
V7 V4 = (V5 + V3)/2
V8 V6 = (V7 + V5)/2
V9 V8 = (V9 + V7)/2
여기서, V1, V2는 제1 및 제2 전압값이고, V3 내지 V9는 제3 내지 제9 전압값에 대한 근사치이다.
이상과 같은 본 발명의 다양한 실시 예에 따르면 근사치를 이용하여 신속하게 공정 프로세스에서 필요한 액의 공급량에 대한 전압값을 획득할 수 있으며, 액이 과도하게 소모되는 것을 방지할 수 있다.
도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 액 공급 방법을 나타내는 흐름도이다.
도 2를 참조하면, 우선, PID 제어를 이용하여 노즐에서 토출되는 액의 공급량에 대한 제1 전압값 및 제2 전압값을 획득한다(S210).
이어서, 획득된 제1 전압값 및 제2 전압값을 이용하여 제3 전압값에 대한 근사치를 산출한다(S220). 구체적으로, V3 = 2*V2 - V1 을 이용하여 제3 전압값에 대한 근사치를 산출할 수 있으며, 여기서, V1은 제1 전압갑, V2는 제2 전압값, V3은 제3 전압값에 대한 근사치이다.
이어서, 산출된 제3 전압값에 대한 근사치를 이용하여 제3 전압값을 획득한다(S230). 구체적으로, 제3 전압값에 대한 근사치에 PID 제어를 적용하여 제3 전압값을 획득할 수 있다. 근사치에 PID 제어를 적용하여 전압값을 획득하므로, 실측에 의할 때보다 신속하게 전압값을 획득할 수 있는 이점이 있다.
이어서, 획득된 제1 전압값 내지 제3 전압값에 기초하여 밸브를 제어하여(S240), 노즐에서 토출되는 액의 양을 조절할 수 있다.
도 3은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 액 공급 방법을 나타내는 흐름도이다.
도 3을 참조하면, 도 2의 실시 예와 다른 수학식을 이용하여 제3 전압값에 대한 근사치를 산출할 수 있다. 우선, PID 제어를 이용하여 획득된 제1 전압값 및 제2 전압값을 이용하여 제4 전압값을 획득한다(S310). 구체적으로, V9 = V1 + (V2 - V1)*8 을 이용하여 제4 전압값에 대한 근사치를 산출할 수 있으며, 여기서, V1은 제1 전압값, V2는 제2 전압값, V9는 제4 전압값에 대한 근사치이다. 또한, 제4 전압값에 대한 근사치에 PID 제어를 적용하여 제4 전압값을 획득할 수 있다.
이어서, 획득된 제1 전압값 및 제4 전압값의 중간값을 제5 전압값에 대한 근사치로 산출한다(S320). 구체적으로, V5 = (V9 + V1)/2 를 이용하여 제5 전압값에 대한 근사치를 산출할 수 있으며, 여기서, V1은 제1 전압값, V5는 제5 전압값에 대한 근사치, V9는 제4 전압값이다.
이어서, 획득된 제1 전압값 및 제5 전압값의 중간값을 제3 전압값에 대한 근사치로 산출한다(S330). 구체적으로, V3 = (V5 + V1)/2 를 이용하여 제3 전압값에 대한 근사치를 산출할 수 있으며, 여기서, V1은 제1 전압값, V5는 제5 전압값, V3는 제3 전압값에 대한 근사치이다. 또한, 제5 전압값은 산출된 제5 전압값에 대한 근사치에 PID 제어를 적용하여 획득할 수 있다.
이어서, 제3 전압값에 대한 근사치에 PID 제어를 적용하여 제3 전압값을 획득한다(S340). 도 3과 같이, 중간값을 이용하여 전압값에 대한 근사치를 산출하는 경우, 도 2의 경우보다 빠르게 근사치를 산출할 수 있으며, 소모되는 액의 양을 더욱 줄일 수 있다.
한편, 본 발명의 일 실시 예에 따른 액 공급 유닛의 제어 방법을 순차적으로 수행하는 프로그램이 저장된 비일시적 컴퓨터 판독 가능 매체(non-transitory computer readable medium)가 제공될 수 있다.
비일시적 컴퓨터 판독 가능 매체란 레지스터, 캐쉬, 메모리 등과 같이 짧은 순간 동안 데이터를 저장하는 매체가 아니라 반영구적으로 데이터를 저장하며, 컴퓨터에 의해 판독(reading)이 가능한 매체를 의미한다. 구체적으로는, 상술한 다양한 어플리케이션 또는 프로그램들은 CD, DVD, 하드 디스크, 블루레이 디스크, USB, 메모리카드, ROM 등과 같은 비일시적 판독 가능 매체에 저장되어 제공될 수 있다.
도 4는 본 발명의 다른 실시 예에 따른 액 공급 방법으로 전압값을 획득한 결과를 나타내는 도면이다.
도 4를 참조하면, 제1 전압값 및 제2 전압값을 획득한 이후, 제4 전압값을 획득하고, 제1 전압값 및 제4 전압값의 중간값을 이용하여 제5 전압값을 획득하며, 제1 전압값 및 제5 전압값의 중간값을 이용하여 제3 전압값을 획득한 결과가 나타난다. 즉, 중간값을 이용하여 전압값의 근사치를 산출한 후, 이를 이용하여 정확한 전압값을 도출하므로, 보다 신속하게 전압값을 획득할 수 있다.
이상의 실시 예들은 본 발명의 이해를 돕기 위하여 제시된 것으로, 본 발명의 범위를 제한하지 않으며, 이로부터 다양한 변형 가능한 실시 예들도 본 발명의 범위에 속할 수 있음을 이해하여야 한다. 예를 들어, 본 발명의 실시 예에 도시된 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 반대로 여러 개로 분산된 구성 요소들은 결합되어 실시될 수 있다. 따라서, 본 발명의 기술적 보호범위는 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이며, 본 발명의 기술적 보호범위는 특허청구범위의 문언적 기재 그 자체로 한정되는 것이 아니라 실질적으로는 기술적 가치가 균등한 범주의 발명에 대하여까지 미치는 것임을 이해하여야 한다.
100: 액 공급 유닛 110: 액 공급부
120: 액 공급관 130: 밸브
140: 노즐 150: 제어부

Claims (16)

  1. 기판을 처리하는 장치에 있어서,
    기판을 지지하는 지지 유닛; 및
    상기 지지 유닛에 지지된 기판으로 액을 공급하는 액 공급 유닛을 포함하되,
    상기 액 공급 유닛은,
    액을 공급하는 액 공급부;
    상기 액 공급부와 연결되어 상기 액의 유동 경로를 형성하는 액 공급관;
    상기 액 공급관에 설치되어 상기 액을 토출시키는 노즐;
    상기 액 공급부와 상기 노즐 사이의 상기 액 공급관 상에 배치되어 상기 노즐에서 토출되는 상기 액을 제어하는 밸브; 및
    PID 제어를 이용하여 상기 노즐에서 토출되는 액의 공급량에 대한 제1 및 제2 전압값을 획득하고, 상기 제1 및 제2 전압값을 이용하여 산출되는 제3 전압값에 대한 근사치를 이용하여 상기 노즐에서 토출되는 액의 공급량에 대한 제3 전압값을 획득하며, 상기 제1 내지 제3 전압값에 기초하여 상기 밸브를 제어하는 제어부;를 포함하는 기판 처리 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제어부는,
    상기 제3 전압값에 대한 근사치에 PID 제어를 적용하여 상기 노즐에서 토출되는 액의 공급량에 대한 상기 제3 전압값을 획득하는 기판 처리 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 제어부는,
    V3 = 2*V2 - V1 을 이용하여 상기 제3 전압값에 대한 근사치를 산출하며,
    여기서, V1은 상기 제1 전압값, V2는 상기 제2 전압값, V3는 상기 제3 전압값에 대한 근사치인 기판 처리 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 제어부는,
    상기 제1 및 제2 전압값을 이용하여 제4 전압값을 획득하고, 상기 제1 전압값 및 상기 제4 전압값의 중간값을 이용하여 상기 제3 전압값을 획득하는 기판 처리 장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 제어부는,
    상기 제1 및 제2 전압값을 이용하여 제4 전압값에 대한 근사치를 산출하고, 상기 제4 전압값에 대한 근사치에 PID 제어를 적용하여 상기 제4 전압값을 획득하는 기판 처리 장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 제어부는,
    V9 = V1 + (V2 - V1)*8 을 이용하여 상기 제4 전압값에 대한 근사치를 산출하며,
    여기서, V1은 상기 제1 전압값, V2는 상기 제2 전압값, V9는 상기 제4 전압값에 대한 근사치인 기판 처리 장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 제어부는,
    상기 제1 전압값 및 상기 제4 전압값의 중간값을 제5 전압값에 대한 근사치로 산출하고, 상기 제1 전압값 및 상기 제5 전압값의 중간값을 상기 제3 전압값의 근사치로 산출하며, 상기 제3 전압값의 근사치에 PID 제어를 적용하여 상기 제3 전압값을 획득하는 기판 처리 장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 제어부는,
    V5 = (V9 + V1)/2 를 이용하여 상기 제1 전압값 및 상기 제4 전압값의 중간값을 산출하고, V3 = (V5 + V1)/2를 이용하여 상기 제1 전압값 및 상기 제5 전압값의 중간값을 산출하며,
    여기서, V1은 상기 제1 전압값, V3은 상기 제2 전압값에 대한 근사치, V5는 상기 제5 전압값에 대한 근사치, V9는 상기 제4 전압값인 기판 처리 장치.
  9. 액을 토출시키는 노즐 및 상기 노즐에서 토출되는 액을 제어하는 밸브를 포함하는 기판 처리 장치의 액 공급량 제어 방법에 있어서,
    PID 제어를 이용하여 상기 노즐에서 토출되는 액의 공급량에 대한 제1 및 제2 전압값을 획득하는 단계;
    상기 제1 및 제2 전압값을 이용하여 제3 전압값에 대한 근사치를 산출하는 단계;
    상기 제3 전압값에 대한 근사치를 이용하여 상기 노즐에서 토출되는 액의 공급량에 대한 제3 전압값을 획득하는 단계; 및
    상기 제1 내지 제3 전압값에 기초하여 상기 밸브를 제어하는 단계;를 포함하는 액 공급량 제어 방법.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 제3 전압값을 획득하는 단계는,
    상기 제3 전압값에 대한 근사치에 PID 제어를 적용하여 상기 노즐에서 토출되는 액의 공급량에 대한 상기 제3 전압값을 획득하는 액 공급량 제어 방법.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 제3 전압값에 대한 근사치를 산출하는 단계는,
    V3 = 2*V2 - V1 을 이용하여 상기 제3 전압값에 대한 근사치를 산출하며,
    여기서, V1은 상기 제1 전압값, V2는 상기 제2 전압값, V3는 상기 제3 전압값에 대한 근사치인 액 공급량 제어 방법.
  12. 제9항에 있어서,
    상기 제3 전압값을 획득하는 단계는,
    상기 제1 및 제2 전압값을 이용하여 제4 전압값을 획득하는 단계; 및
    상기 제1 전압값 및 상기 제4 전압값의 중간값을 이용하여 상기 제3 전압값을 획득하는 단계;를 포함하는 액 공급량 제어 방법.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 제4 전압값을 획득하는 단계는,
    상기 제1 및 제2 전압값을 이용하여 제4 전압값에 대한 근사치를 산출하고, 상기 제4 전압값에 대한 근사치에 PID 제어를 적용하여 상기 제4 전압값을 획득하는 액 공급량 제어 방법.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 제4 전압값을 획득하는 단계는,
    V9 = V1 + (V2 - V1)*8 을 이용하여 상기 제4 전압값에 대한 근사치를 산출하며,
    여기서, V1은 상기 제1 전압값, V2는 상기 제2 전압값, V9는 상기 제4 전압값에 대한 근사치인 액 공급량 제어 방법.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 제3 전압값에 대한 근사치를 산출하는 단계는,
    상기 제1 전압값 및 상기 제4 전압값의 중간값을 제5 전압값에 대한 근사치로 산출하는 단계; 및
    상기 제1 전압값 및 상기 제5 전압값의 중간값을 상기 제3 전압값의 근사치로 산출하는 단계;를 포함하는 액 공급량 제어 방법.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 제1 전압값 및 상기 제4 전압값의 중간값을 제5 전압값에 대한 근사치로 산출하는 단계는,
    V5 = (V9 + V1)/2 를 이용하여 상기 제1 전압값 및 상기 제4 전압값의 중간값을 산출하는 단계를 포함하고,
    상기 제1 전압값 및 상기 제5 전압값의 중간값을 상기 제3 전압값의 근사치로 산출하는 단계는,
    V3 = (V5 + V1)/2 를 이용하여 상기 제1 전압값 및 상기 제5 전압값의 중간값을 산출하는 단계를 포함하며,
    여기서, V1은 상기 제1 전압값, V3은 상기 제2 전압값에 대한 근사치, V5는 상기 제5 전압값에 대한 근사치, V9는 상기 제4 전압값인 액 공급량 제어 방법.


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