KR101955005B1 - Layer system for use in a touch screen panel, method for manufacturing a layer system for use in a touch screen panel, and touch screen panel - Google Patents

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Abstract

터치 스크린 패널에서 사용하도록 적응된 층 시스템(100)이 제공된다. 층 시스템(100)은 동일한 구조화 프로세스에서 구조화된 3개 또는 그 초과의 층들을 갖는 적어도 하나의 층 스택을 포함한다. 3개 또는 그 초과의 층들은 알루미늄 또는 알루미늄 합금을 포함하는 금속 층(110), 및 2개 또는 그 초과의 추가적인 층들을 포함한다. 2개 또는 그 초과의 추가적인 층들은 인듐 갈륨 아연 산화물(IGZO) 층 또는 인듐 아연 산화물(IZO) 층; 및 몰리브덴 또는 몰리브덴 합금을 포함하는 제 1 층(120)을 포함한다.A layer system 100 adapted for use in a touch screen panel is provided. The layer system 100 includes at least one layer stack having three or more layers structured in the same structuring process. The three or more layers include a metal layer 110 comprising aluminum or an aluminum alloy, and two or more additional layers. Two or more additional layers may be formed of an indium gallium zinc oxide (IGZO) layer or an indium zinc oxide (IZO) layer; And a first layer 120 comprising a molybdenum or molybdenum alloy.

Description

터치 스크린 패널에서 사용하기 위한 층 시스템, 터치 스크린 패널에서 사용하기 위한 층 시스템을 제조하기 위한 방법, 및 터치 스크린 패널{LAYER SYSTEM FOR USE IN A TOUCH SCREEN PANEL, METHOD FOR MANUFACTURING A LAYER SYSTEM FOR USE IN A TOUCH SCREEN PANEL, AND TOUCH SCREEN PANEL}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a floor system for use in a touch screen panel, a method for manufacturing a floor system for use in a touch screen panel, and a touch screen panel TOUCH SCREEN PANEL, AND TOUCH SCREEN PANEL}

[0001] 본 개시내용의 실시예들은 터치 스크린 패널(touch screen panel)에서 사용하도록 적응된 층 시스템(layer system), 터치 스크린 패널에서 사용하도록 적응된 층 시스템을 제조하기 위한 방법, 및 터치 스크린 패널에 관한 것이다.[0001] Embodiments of the present disclosure relate to a layer system adapted for use in a touch screen panel, a method for manufacturing a layer system adapted for use in a touch screen panel, .

[0002] 터치 스크린 패널들은 디스플레이 영역 내에서 터치를 검출하고 위치결정할 수 있는 전자 시각 디스플레이의 특정한 종류이다. 터치 스크린 패널들은, 스크린 디바이스 위에 배치되고 터치를 감지하도록 구성된 층 시스템을 포함할 수 있다. 그러한 층 시스템은 실질적으로 투명할 수 있고, 그에 따라, 스크린에 의해 방출된 가시 스펙트럼에서의 광이 그러한 층 시스템을 통해 투과될 수 있다. 적어도 몇몇 알려진 터치 스크린 패널들은 기판 위에 형성된 구조화된 층들을 갖는 층 시스템을 포함한다. 그러한 터치 스크린 패널의 디스플레이 영역 상의 터치는 층 시스템의 구역에서의 캐패시턴스의 측정가능한 변화를 발생시킬 수 있다. 캐패시턴스에서의 변화는 터치의 위치가 결정될 수 있도록 상이한 기술들을 사용하여 측정될 수 있다.[0002] Touch screen panels are a specific kind of electronic visual display that can detect and position touch within the display area. The touch screen panels may include a layer system arranged over the screen device and configured to sense the touch. Such a layer system can be substantially transparent, so that light in the visible spectrum emitted by the screen can be transmitted through such a layer system. At least some known touch screen panels include a layer system having structured layers formed on a substrate. The touch on the display area of such a touch screen panel can cause a measurable change in capacitance in the area of the layer system. The change in capacitance can be measured using different techniques so that the location of the touch can be determined.

[0003] 터치 스크린 패널과 함께 사용하기 위한 층 시스템은 몇몇 특정한 요건들에 종속된다. 예로서, 광학 특성들, 예컨대 사용자에 대한 외관(appearance)이 터치 스크린 패널들에 대해 고려되어야 한다. 특히, 예컨대 구조화된 전도체와 같은 층 시스템의 층들의 구조들은 사용자에 대해 가시적(visible)이지 않아야 한다. 고려되어야 하는 추가적인 양상은 디스플레이들의 지속적으로 증가되는 사이즈이고, 여기에서, 위에서 설명된 광학 특성들 이외에, 또한, 전기 특성들에 대한 관심이 증가되고 있다. 특히, 구조화된 전도체의 높은 전도율이 큰 터치 패널 사이즈들에 대해 유익한 것으로 고려된다.[0003] Layer systems for use with touch screen panels are subject to some specific requirements. By way of example, optical properties, e.g., appearance for a user, should be considered for touch screen panels. In particular, the structures of layers of a layer system, such as a structured conductor, should not be visible to the user. An additional aspect to be considered is the ever-increasing size of the displays, where, in addition to the optical properties described above, there is also increasing interest in electrical properties. In particular, the high conductivity of structured conductors is considered beneficial for large touch panel sizes.

[0004] 상기된 바를 고려하면, 통상적인 구조들과 비교하여 향상된 광학 및 전기 성능을 제공하는, 터치 스크린 패널에서 사용하기 위한 층 시스템에 대한 필요성이 존재한다.[0004] In view of the foregoing, there is a need for a layer system for use in touch screen panels that provides improved optical and electrical performance as compared to conventional structures.

[0005] 상기된 바를 고려하면, 터치 스크린 패널에서 사용하도록 적응된 층 시스템, 터치 스크린 패널에서 사용하도록 적응된 층 시스템을 제조하기 위한 방법, 및 터치 스크린 패널이 제공된다. 본 개시내용의 추가적인 양상들, 이익들, 및 특징들은 청구항들, 설명, 및 첨부 도면들로부터 명백하다.[0005] In view of the foregoing, there is provided a layer system adapted for use in a touch screen panel, a method for manufacturing a layer system adapted for use in a touch screen panel, and a touch screen panel. Further aspects, benefits, and features of the present disclosure are apparent from the claims, the description, and the accompanying drawings.

[0006] 본 개시내용의 양상에 따르면, 터치 스크린 패널에서 사용하도록 적응된 층 시스템이 제공된다. 층 시스템은 동일한 구조화 프로세스에서 구조화된 3개 또는 그 초과의 층들을 갖는 적어도 하나의 층 스택(layer stack)을 포함한다. 3개 또는 그 초과의 층들은 알루미늄 또는 알루미늄 합금을 포함하는 금속 층, 및 2개 또는 그 초과의 추가적인 층들을 포함한다. 2개 또는 그 초과의 추가적인 층들은 인듐 갈륨 아연 산화물(IGZO) 층 또는 인듐 아연 산화물(IZO) 층; 및 몰리브덴 또는 몰리브덴 합금을 포함하는 제 1 층을 포함한다.[0006] According to aspects of the present disclosure, a layer system adapted for use in a touch screen panel is provided. The layer system comprises at least one layer stack having three or more layers structured in the same structuring process. The three or more layers include a metal layer comprising aluminum or an aluminum alloy, and two or more additional layers. Two or more additional layers may be formed of an indium gallium zinc oxide (IGZO) layer or an indium zinc oxide (IZO) layer; And a first layer comprising a molybdenum or molybdenum alloy.

[0007] 본 개시내용의 다른 양상에 따르면, 터치 스크린 패널이 제공된다. 터치 스크린 패널은 스크린 디바이스, 특히 액정 디스플레이; 및 본원에서 설명되는 바와 같은 층 시스템을 포함한다. 층 시스템은 동일한 구조화 프로세스에서 구조화된 3개 또는 그 초과의 층들을 갖는 적어도 하나의 층 스택을 포함한다. 3개 또는 그 초과의 층들은 알루미늄 또는 알루미늄 합금을 포함하는 금속 층, 및 2개 또는 그 초과의 추가적인 층들을 포함한다. 2개 또는 그 초과의 추가적인 층들은 인듐 갈륨 아연 산화물(IGZO) 층 또는 인듐 아연 산화물(IZO) 층; 및 몰리브덴 또는 몰리브덴 합금을 포함하는 제 1 층을 포함한다.[0007] According to another aspect of the present disclosure, a touch screen panel is provided. Touch screen panels include screen devices, particularly liquid crystal displays; And a layer system as described herein. The layer system comprises at least one layer stack having three or more layers structured in the same structuring process. The three or more layers include a metal layer comprising aluminum or an aluminum alloy, and two or more additional layers. Two or more additional layers may be formed of an indium gallium zinc oxide (IGZO) layer or an indium zinc oxide (IZO) layer; And a first layer comprising a molybdenum or molybdenum alloy.

[0008] 본 개시내용의 또 다른 양상에 따르면, 터치 스크린 패널에서 사용하도록 적응된 층 시스템을 제조하기 위한 방법이 제공된다. 방법은, 기판 위에 알루미늄 또는 알루미늄 합금을 포함하는 금속 층을 제공하는 단계; 금속 층 위에 제 1 층을 제공하는 단계 ― 제 1 층은 몰리브덴 또는 몰리브덴 합금을 포함함 ―; 제 1 층 위에 인듐 갈륨 아연 산화물(IGZO) 층 또는 인듐 아연 산화물(IZO) 층을 제공하는 단계; 및 금속 층, 제 1 층, 및 IGZO 층 또는 IZO 층을 구조화하는 단계를 포함한다.[0008] According to yet another aspect of the present disclosure, a method is provided for manufacturing a layer system adapted for use in a touch screen panel. The method includes the steps of providing a metal layer comprising aluminum or an aluminum alloy on a substrate; Providing a first layer over the metal layer, the first layer comprising a molybdenum or molybdenum alloy; Providing an indium gallium zinc oxide (IGZO) layer or an indium zinc oxide (IZO) layer over the first layer; And structuring the metal layer, the first layer, and the IGZO layer or the IZO layer.

[0009] 실시예들은 또한, 개시되는 방법들을 수행하기 위한 장치들에 관한 것이고, 각각의 설명되는 방법 양상을 수행하기 위한 장치 부분들을 포함한다. 그러한 방법 양상들은 하드웨어 컴포넌트들, 적절한 소프트웨어에 의해 프로그래밍된 컴퓨터, 이들 둘의 조합, 또는 임의의 다른 방식에 의해 수행될 수 있다. 게다가, 본 개시내용에 따른 실시예들은 또한, 설명되는 장치를 동작시키기 위한 방법들에 관한 것이다. 이는 장치의 모든 각각의 기능을 수행하기 위한 방법 양상들을 포함한다.[0009] Embodiments also relate to devices for performing the disclosed methods and apparatus portions for performing each of the described method aspects. Such method aspects may be performed by hardware components, a computer programmed by suitable software, a combination of the two, or any other method. In addition, embodiments in accordance with the present disclosure also relate to methods for operating the described apparatus. This includes aspects of the method for performing all of the respective functions of the device.

[0010] 본 개시내용의 상기 열거된 특징들이 상세히 이해될 수 있는 방식으로, 앞서 간략히 요약된 본 개시내용의 보다 구체적인 설명이 실시예들을 참조로 하여 이루어질 수 있다. 첨부 도면들은 본 개시내용의 실시예들과 관련되고, 다음에서 설명된다.
도 1은 본원에서 설명되는 실시예들에 따른, 터치 스크린 패널에서 사용하도록 적응된 층 시스템의 개략적인 단면도를 도시한다.
도 2a는 본원에서 설명되는 추가적인 실시예들에 따른, 터치 스크린 패널에서 사용하도록 적응된 층 시스템의 개략적인 단면도를 도시한다.
도 2b는 커버 렌즈를 갖는 도 2a의 층 시스템의 개략적인 단면도를 도시한다.
도 2c는 도 2a 및 도 2b의 층 시스템들의 반사율을 예시하는 그래프를 도시한다.
도 3a는 본원에서 설명되는 또한 추가적인 실시예들에 따른, 터치 스크린 패널에서 사용하도록 적응된 층 시스템의 개략적인 단면도를 도시한다.
도 3b는 커버 렌즈를 갖는 도 3a의 층 시스템의 개략적인 단면도를 도시한다.
도 3c는 도 3a 및 도 3b의 층 시스템들의 반사율을 예시하는 그래프를 도시한다.
도 4는 본원에서 설명되는 실시예들에 따른 층 시스템을 갖는 터치 스크린 패널의 개략도를 도시한다.
도 5는 본원에서 설명되는 추가적인 실시예들에 따른 층 시스템을 갖는 터치 스크린 패널의 개략도를 도시한다.
도 6은 본원에서 설명되는 또한 추가적인 실시예들에 따른 층 시스템을 갖는 터치 스크린 패널의 개략도를 도시한다.
도 7은 본원에서 설명되는 실시예들에 따른 층 시스템을 제조하기 위한 증착 장치의 개략도를 도시한다.
도 8은 본원에서 설명되는 실시예들에 따른, 터치 스크린 패널에서 사용하도록 적응된 층 시스템을 제조하기 위한 방법의 흐름도를 도시한다.
[0010] In the manner in which the above-recited features of the present disclosure can be understood in detail, a more particular description of the present disclosure, briefly summarized above, may be had by reference to embodiments. The accompanying drawings relate to embodiments of the present disclosure and are described below.
Figure 1 shows a schematic cross-sectional view of a layer system adapted for use in a touch screen panel, in accordance with the embodiments described herein.
Figure 2a shows a schematic cross-sectional view of a layer system adapted for use in a touch screen panel, in accordance with further embodiments described herein.
Figure 2b shows a schematic cross-sectional view of the layer system of Figure 2a with a cover lens.
Figure 2C shows a graph illustrating the reflectivity of the layer systems of Figures 2A and 2B.
Figure 3a shows a schematic cross-sectional view of a layer system adapted for use in a touch screen panel, in accordance with further additional embodiments described herein.
Figure 3b shows a schematic cross-sectional view of the layer system of Figure 3a with a cover lens.
Figure 3c shows a graph illustrating the reflectivity of the layer systems of Figures 3a and 3b.
4 shows a schematic diagram of a touch screen panel with a layer system according to embodiments described herein.
5 shows a schematic diagram of a touch screen panel with a layer system according to further embodiments described herein.
Figure 6 illustrates a schematic diagram of a touch screen panel having a layer system in accordance with further embodiments described herein.
Figure 7 shows a schematic view of a deposition apparatus for manufacturing a layer system according to embodiments described herein.
Figure 8 shows a flow diagram of a method for manufacturing a layer system adapted for use in a touch screen panel, in accordance with embodiments described herein.

[0011] 이제, 본 개시내용의 다양한 실시예들이 상세히 참조될 것이고, 그러한 다양한 실시예들의 하나 또는 그 초과의 예들이 도면들에서 예시된다. 도면들의 다음의 설명 내에서, 동일한 참조 번호들은 동일한 컴포넌트들을 지칭한다. 일반적으로, 개별적인 실시예들에 대한 차이들만이 설명된다. 각각의 예는 본 개시내용의 설명을 통해 제공되고, 본 개시내용의 제한으로서 의도되지 않는다. 추가로, 일 실시예의 부분으로서 예시 또는 설명되는 특징들이, 또한 추가적인 실시예를 산출하기 위해, 다른 실시예들에 대해 또는 다른 실시예들과 함께 사용될 수 있다. 설명은 그러한 변형들 및 변동들을 포함하도록 의도된다.[0011] Reference will now be made in detail to the various embodiments of the present disclosure, and one or more examples of such various embodiments are illustrated in the drawings. In the following description of the drawings, like reference numerals refer to like components. In general, only differences for the individual embodiments are described. Each example is provided by way of illustration of the present disclosure and is not intended as a limitation of the present disclosure. In addition, features illustrated or described as part of one embodiment may also be used in conjunction with other embodiments or with other embodiments to produce further embodiments. The description is intended to cover such modifications and variations.

[0012] 본원에서 사용되는 바와 같은 "기판"이라는 용어는 글라스 또는 플라스틱 기판들과 같은 디스플레이 제조를 위해 사용될 수 있는 기판들을 포함할 것이다. 예컨대, 본원에서 설명되는 바와 같은 기판들은 LCD(액정 디스플레이), PDP(플라즈마 디스플레이 패널), OLED 디스플레이 등을 위해 사용될 수 있는 기판들을 포함할 것이다. 설명에서 다르게 명시적으로 특정되지 않는 한, "기판"이라는 용어는 본원에서 특정되는 바와 같이 "대면적 기판"으로서 이해되어야 한다. 본 개시내용에 따르면, 대면적 기판들은 적어도 0.174 m2의 사이즈를 가질 수 있다. 예로서, 사이즈는 약 1.4 m2 내지 약 8 m2, 그리고 구체적으로는 약 2 m2 내지 약 9 m2 또는 심지어 최대 12 m2일 수 있다. 그러나, 본 개시내용은 이에 제한되지 않고, "기판"이라는 용어는 또한, 웹 또는 포일과 같은 가요성 기판들을 포함할 수 있다.[0012] The term "substrate " as used herein will include substrates that can be used for the manufacture of displays such as glass or plastic substrates. For example, the substrates as described herein will include substrates that can be used for LCD (liquid crystal display), PDP (plasma display panel), OLED display, and the like. Unless otherwise explicitly specified in the description, the term "substrate" should be understood as a "large area substrate" as specified herein. According to the present disclosure, large area substrates may have a size of at least 0.174 m 2 . By way of example, the size may be from about 1.4 m 2 to about 8 m 2 , and specifically from about 2 m 2 to about 9 m 2 or even up to 12 m 2 . However, the present disclosure is not so limited, and the term "substrate" may also include flexible substrates such as webs or foils.

[0013] 본원에서 사용되는 바와 같은 "투명한"이라는 용어는 특히, 비교적 낮은 스캐터링으로 광을 투과시키는 구조의 능력을 포함할 것이고, 그에 따라, 예컨대, 그러한 구조를 통해 투과된 광은 실질적으로 투명한 방식으로 보여질 수 있다. 예로서, 기판은 글라스 또는 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET)를 포함한다. PET는 약 90 %의 투과율을 가질 수 있다.The term "transparent ", as used herein, will in particular include the ability of the structure to transmit light through relatively low scattering so that, for example, light transmitted through such a structure is substantially transparent . ≪ / RTI > By way of example, the substrate comprises glass or polyethylene terephthalate (PET). PET can have a transmittance of about 90%.

[0014] 도 1은 본원에서 설명되는 실시예들에 따른 터치 스크린 패널에서 사용하도록 적응된 층 시스템(100)의 개략적인 단면도를 도시한다.[0014] FIG. 1 illustrates a schematic cross-sectional view of a layer system 100 adapted for use in a touch screen panel in accordance with embodiments described herein.

[0015] 층 시스템(100)은, 예컨대 에칭 프로세스와 같은 동일한 구조화 프로세스에서 구조화된 3개 또는 그 초과의 층들을 갖는 적어도 하나의 층 스택을 포함한다. 3개 또는 그 초과의 층들은 알루미늄 또는 알루미늄 합금을 포함하는 금속 층(110), 및 2개 또는 그 초과의 추가적인 층들을 포함한다. 2개 또는 그 초과의 추가적인 층들은 인듐 갈륨 아연 산화물(IGZO) 층 또는 인듐 아연 산화물(IZO) 층; 및 몰리브덴 또는 몰리브덴 합금을 포함하는 제 1 층(120)을 포함한다. 몇몇 구현들에서, 층 시스템(100)은 터치 검출을 위해 구성된다. 다음에서, "IGZO 층 또는 IZO 층"이라는 용어는 또한, "IGZO 또는 IZO 층(130)"으로서 표현된다.[0015] The layer system 100 includes at least one layer stack having three or more layers structured in the same structuring process, such as an etching process. The three or more layers include a metal layer 110 comprising aluminum or an aluminum alloy, and two or more additional layers. Two or more additional layers may be formed of an indium gallium zinc oxide (IGZO) layer or an indium zinc oxide (IZO) layer; And a first layer 120 comprising a molybdenum or molybdenum alloy. In some implementations, the layer system 100 is configured for touch detection. In the following, the term "IGZO layer or IZO layer" is also expressed as "IGZO or IZO layer 130 ".

[0016] 몇몇 구현들에서, 알루미늄 합금은 AlNd일 수 있다.[0016] In some implementations, the aluminum alloy may be AlNd.

[0017] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 몇몇 실시예들에 따르면, 층 시스템(100)은 제 1 기판(10)과 같은 적어도 하나의 기판을 포함한다. 도 1의 예에서 도시된 바와 같이, 금속 층(110) 및 2개 또는 그 초과의 추가적인 층들은 제 1 기판(10) 위에 배치될 수 있다.[0017] According to some embodiments that may be combined with other embodiments described herein, the layer system 100 includes at least one substrate, such as a first substrate 10. As shown in the example of FIG. 1, a metal layer 110 and two or more additional layers may be disposed on the first substrate 10.

[0018] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 몇몇 실시예들에 따르면, 2개 또는 그 초과의 추가적인 층들은, 금속 층(110)의 구조가 인간의 눈에 대해 실질적으로 비가시적(invisible)이도록, 금속 층(110)을 흑화(blacken)시키도록 구성된다. 본원에서 이해되는 바와 같은 "흑화"라는 용어는, 특히 가시 파장 범위(예컨대, 약 350 내지 약 800 nm)에서의 층 시스템(100)의 낮은 표면 반사율을 지칭할 수 있다. 낮은 표면 반사율은 IGZO 또는 IZO 층(130)과 제 1 층(120)의 조합으로부터 기인할 수 있다. 본 개시내용의 층 시스템의 표면 반사율은 가시 파장 범위의 적어도 일부에 걸쳐 20 % 미만, 구체적으로는 10 % 미만, 그리고 더 구체적으로는 5 % 미만일 수 있다. 몇몇 실시예들에 따른 층 시스템의 표면 반사율의 예들은 도 2c 및 도 3c를 참조하여 주어진다.[0018] According to some embodiments, which may be combined with other embodiments described herein, two or more additional layers may be formed on the metal layer 110, the metal layer 110 is blackened so that the metal layer 110 is invisible. The term "blackening" as understood herein may refer to the low surface reflectance of the layer system 100, particularly in the visible wavelength range (e.g., from about 350 to about 800 nm). The low surface reflectance can be attributed to the combination of the IGZO or IZO layer 130 and the first layer 120. The surface reflectance of the layer systems of this disclosure may be less than 20%, particularly less than 10%, and more specifically less than 5% over at least a portion of the visible wavelength range. Examples of surface reflectance of a layer system according to some embodiments are given with reference to Figures 2c and 3c.

[0019] 본 개시내용의 층 시스템(100)은 향상된 광학 특성들, 예컨대 사용자에 대한 외관을 갖는다. 특히, 층들, 예컨대 금속 층(110)의 구조들은 사용자에 대해 가시적이지 않다. 층 시스템(100)은 추가로, 개선된 전기 특성들을 제공한다. 특히, 터치 검출을 위한 구조화된 전도체는 높은 전도율을 갖는 Al 합금 또는 Al을 포함하는 금속 층(110)이다. 이는 큰 터치 패널 사이즈들에 대해 특히 유익하다. 이를 고려하면, 본 개시내용은 통상적인 구조들과 비교하여 향상된 광학 및 전기 성능을 제공하는, 터치 스크린 패널에서 사용하기 위한 층 시스템을 제공한다. 하나의 단일 구조화 프로세스에서 층들을 구조화함으로써, 층 시스템은 감소된 노력 및 비용들로 제조될 수 있다.[0019] The layer system 100 of the present disclosure has improved optical properties, such as appearance to the user. In particular, the structures of the layers, such as the metal layer 110, are not visible to the user. The layer system 100 further provides improved electrical properties. In particular, the structured conductor for touch detection is a metal layer 110 comprising an Al alloy or Al with high conductivity. This is particularly beneficial for large touch panel sizes. With this in mind, the present disclosure provides a layer system for use in a touch screen panel that provides improved optical and electrical performance compared to conventional structures. By structuring the layers in one single structuring process, the layer system can be fabricated with reduced effort and costs.

[0020] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 몇몇 실시예들에 따르면, 금속 층(110)은 500 마이크로 미터 미만, 구체적으로는 300 마이크로 미터 미만의 두께를 갖고, 더 구체적으로는, 약 200 마이크로 미터의 두께를 갖는다. 몇몇 구현들에서, 금속 층(110)은 적어도 2*107 S*m, 그리고 구체적으로는 약 3.5*107 S*m의 전도율을 갖는다. 몇몇 실시예들에서, 금속 층(110)은 5*10-8 옴*m, 그리고 구체적으로는 약 3*10-8 옴*m 또는 2.8*10-8 옴*m의 전기 저항률을 갖는다.[0020] According to some embodiments that may be combined with other embodiments described herein, the metal layer 110 has a thickness of less than 500 micrometers, specifically less than 300 micrometers, and more specifically, , And a thickness of about 200 micrometers. In some implementations, the metal layer 110 has a conductivity of at least 2 * 10 7 S * m, and specifically about 3.5 * 10 7 S * m. In some embodiments, the metal layer 110 has an electrical resistivity of 5 * 10 -8 ohm * m, and specifically about 3 * 10 -8 ohm * m or 2.8 * 10 -8 ohm * m.

[0021] 몇몇 구현들에서, 금속 층(110)은 하나 또는 그 초과의 라인들을 갖는 라인 패턴을 제공한다. 라인들은 평행한 라인들, 예컨대 수평 라인들 또는 수직 라인들일 수 있다. 예로서, 라인 패턴은, 특히 다른 라인 패턴과 조합되어, 터치 검출을 위해 구성될 수 있다. 라인 패턴들 양자 모두는 절연성 층에 의해 분리될 수 있다. 라인 패턴들 양자 모두의 라인들은 매트릭스(matrix)를 형성하도록 실질적으로 수직인 방향들로 연장될 수 있다. 매트릭스는, 예컨대, 2개의 라인 패턴들 사이의 캐패시턴스에서의 변화를 검출함으로써, 터치 검출을 위해 구성될 수 있다.[0021] In some implementations, metal layer 110 provides a line pattern with one or more lines. The lines may be parallel lines, e.g., horizontal lines or vertical lines. By way of example, the line pattern can be configured for touch detection, in particular in combination with other line patterns. Both of the line patterns can be separated by an insulating layer. The lines of both line patterns may extend in substantially perpendicular directions to form a matrix. The matrix may be configured for touch detection, for example, by detecting a change in capacitance between two line patterns.

[0022] 몇몇 실시예들에 따르면, 라인들은 10 마이크로 미터 미만, 구체적으로는 5 마이크로 미터 미만의 폭을 가질 수 있고, 더 구체적으로는 약 2 마이크로 미터 내지 약 3 마이크로 미터의 범위에서의 폭을 가질 수 있다. IGZO 또는 IZO 층(130)과 제 1 층(120)의 조합은, 라인들이 인간의 눈에 대해 실질적으로 비가시적이도록, 라인들을 흑화시킬 수 있다(예컨대, 라인들을 블랙(black)이 되게 할 수 있다).[0022] According to some embodiments, the lines may have a width less than 10 micrometers, specifically less than 5 micrometers, and more specifically, a width in the range of about 2 micrometers to about 3 micrometers Lt; / RTI > The combination of the IGZO or IZO layer 130 and the first layer 120 can blacken the lines such that the lines are substantially invisible to the human eye (e.g., the lines can be black have).

[0023] 몇몇 구현들에서, 제 1 층(120)은 금속 층(110) 상에 또는 위에 제공되고, 그리고/또는 IGZO 또는 IZO 층(130)은 제 1 층(120) 상에 또는 위에 제공된다. 즉, 금속 층(110), 제 1 층(120), 및 IGZO 또는 IZO 층(130)이, 이러한 순서로, 특히 제 1 기판(10) 상에 또는 위에 배열된다. 금속 층(110)과 제 1 층(120) 및/또는 제 1 층(120)과 IGZO 또는 IZO 층(130)이 서로 상에 직접적으로 배치될 수 있다. 대안적으로, 적어도 하나의 부가적인 층이 금속 층(110)과 제 1 층(120) 사이에 그리고/또는 제 1 층(120)과 IGZO 또는 IZO 층(130) 사이에 제공될 수 있다.In some implementations, a first layer 120 is provided on or on the metal layer 110, and / or an IGZO or IZO layer 130 is provided on or on the first layer 120 . That is, the metal layer 110, the first layer 120, and the IGZO or IZO layer 130 are arranged in this order, especially on or on the first substrate 10. The metal layer 110 and the first layer 120 and / or the first layer 120 and the IGZO or IZO layer 130 may be directly disposed on each other. Alternatively, at least one additional layer may be provided between the metal layer 110 and the first layer 120 and / or between the first layer 120 and the IGZO or IZO layer 130.

[0024] "상" 또는 "위"라는 용어들이 언급되는 경우에, 즉, 하나의 층이 다른 층 상에 또는 위에 있는 경우에, 예컨대, 제 1 기판(10)으로부터 시작하여, 하나의 층이 제 1 기판(10) 상에 또는 위에 증착되고, 그러한 하나의 층 후에 증착되는 다른 층은 그에 따라 그러한 하나의 층 상에 또는 위에 있고, 제 1 기판(10) 위에 있는 것으로 이해된다. 즉, "상" 또는 "위"라는 용어들은 시작 포인트가 제 1 기판(10)일 수 있는 층들, 층 스택들, 및/또는 막들의 순서를 정의하기 위해 사용된다. 이는 층 시스템이 뒤집혀서 도시되거나 또는 그렇지 않거나 무관하다. 추가로, "위"라는 용어는 하나 또는 그 초과의 부가적인 층들이 하나의 층과 다른 층 사이에 제공되는 실시예들을 포함해야 한다. "상"이라는 용어는 부가적인 층들이 하나의 층과 다른 층 사이에 제공되지 않는 실시예들, 즉, 하나의 층과 다른 층이 서로 상에 직접적으로 배치되거나, 또는 즉, 서로 접촉하는 실시예들을 포함해야 한다.It will be understood that when the terms "phase" or "stomach" are mentioned, that is, if one layer is on or on another layer, for example, starting from the first substrate 10, It is understood that other layers that are deposited on or on the first substrate 10, and which are deposited after such one layer, are on or on one such layer and are on the first substrate 10. That is, the terms "top" or "top" are used to define the order of layers, layer stacks, and / or films, where the starting point may be the first substrate 10. This is irrelevant whether the layer system is shown upside down or not. Additionally, the term "above" should include embodiments in which one or more additional layers are provided between one layer and another layer. The term "phase" means that embodiments in which additional layers are not provided between one layer and another layer, that is, one layer and another layer are disposed directly on top of each other, .

[0025] 몇몇 실시예들에서, 제 1 층(120)은 MoOx 층, (Mo-합금)Ox 층, MoOxNx 층, (Mo-합금)OxNx 층, MoNbOx 층, 및 MoNb 층을 포함하는 그룹으로부터 선택된다. IGZO 또는 IZO 층(130)과 제 1 층(120)의 조합은 금속 층(110)의 흑화 효과를 제공한다. 즉, 금속 층(110)의 구조는 블랙이 되고, 따라서, 사용자에 대해 가시적이지 않다.In some embodiments, the first layer 120 includes a MoO x layer, a (Mo-alloy) O x layer, a MoO x N x layer, a (Mo-alloy) O x N x layer, a MoNbO x layer, And a MoNb layer. The combination of the IGZO or IZO layer 130 and the first layer 120 provides the blackening effect of the metal layer 110. That is, the structure of the metal layer 110 becomes black, and thus is not visible to the user.

[0026] 인듐 주석 산화물(ITO)이 터치 패널 애플리케이션들을 위한 전도성 층(전극)으로서 사용될 수 있다. 그러나, ITO 층의 저항률은 제한되고, (예컨대, 증착 또는 포스트 어닐링 프로세스 동안의) 기판 온도에 따라 좌우된다. 더 높은 전도율은 더 큰 터치 패널 사이즈들(예컨대, 노트북들 및 TV)에 대해 유익하고, 온 셀/인 셀 터치 패널 솔루션들은 저온 증착을 사용할 수 있다. 본 개시내용의 금속 층은 제한된 기판 온도에서의 층 증착으로 높은 전도율을 제공하여 그러한 양상들을 충족시킬 수 있다.Indium tin oxide (ITO) can be used as a conductive layer (electrode) for touch panel applications. However, the resistivity of the ITO layer is limited and depends on the substrate temperature (e.g., during the deposition or post-annealing process). Higher conductivity is beneficial for larger touch panel sizes (e.g., notebooks and TVs), and on-cell / in-cell touch panel solutions can use low temperature deposition. The metal layers of the present disclosure can meet such aspects by providing high conductivity with layer deposition at a limited substrate temperature.

[0027] 금속 층의 (비활성) 높은 반사율은 터치 패널 구조들이 인간의 눈들에 대해 가시적이 되게 할 수 있다. 층 시스템의 2개 또는 그 초과의 추가적인 층들은 알루미늄 및/또는 알루미늄 합금 금속 층의 표면 반사와 비교하여 층 시스템의 표면 반사를 감소시킨다. 2개 또는 그 초과의 추가적인 층들은 전도성 및/또는 광학 활성 층들일 수 있고, 최종 사용자에 대해 수용가능한 레벨로 구조화된 알루미늄 및/또는 알루미늄 합금 층의 가시성을 감소시킬 수 있다. 2개 또는 그 초과의 추가적인 층들은 하나의 프로세스 블록에서 완전한 블랙 금속 층 구조의 습식 에칭을 가능하게 하도록 선택될 수 있다. 그러한 블랙 금속 층 구조는, 예컨대, 컬러 필터 글라스(color filter glass) 또는 커버 렌즈(cover lens) 상에 배치될 수 있고, 터치 패널 구조의 비가시성(invisibility)이 달성될 수 있다.[0027] The (inactive) high reflectivity of the metal layer can make the touch panel structures visible to the human eye. Two or more additional layers of the layer system reduce the surface reflection of the layer system as compared to the surface reflection of the aluminum and / or aluminum alloy metal layer. Two or more additional layers may be conductive and / or optically active layers and may reduce the visibility of the structured aluminum and / or aluminum alloy layers to an acceptable level for the end user. Two or more additional layers may be selected to enable wet etching of the entire black metal layer structure in one process block. Such a black metal layer structure can be disposed, for example, on a color filter glass or a cover lens, and the invisibility of the touch panel structure can be achieved.

[0028] 도 2a는 본원에서 설명되는 추가적인 실시예들에 따른, 터치 스크린 패널에서 사용하도록 적응된 층 시스템(200)의 개략적인 단면도를 도시한다.[0028] FIG. 2a illustrates a schematic cross-sectional view of a layer system 200 adapted for use in a touch screen panel, in accordance with additional embodiments described herein.

[0029] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 몇몇 실시예들에 따르면, 층 시스템(200), 그리고 특히 2개 또는 그 초과의 추가적인 층들은 몰리브덴 또는 몰리브덴 합금을 포함하는 제 2 층(240)을 포함한다. 예로서, 제 2 층(240)은 Mo 층 또는 MoNb 층일 수 있다. 몇몇 실시예들에 따르면, 몰리브덴 또는 몰리브덴 합금을 포함하는 제 2 층(240)은, 예컨대, 제 1 기판(10)과 같은 기판과 금속 층(110) 사이의 접착성 층으로서 구성될 수 있다.[0029] According to some embodiments that may be combined with other embodiments described herein, the layer system 200, and in particular two or more additional layers, may comprise a second layer comprising a molybdenum or molybdenum alloy (240). By way of example, the second layer 240 may be a Mo layer or a MoNb layer. According to some embodiments, the second layer 240 comprising a molybdenum or molybdenum alloy can be configured as an adhesive layer between the substrate and the metal layer 110, such as, for example, the first substrate 10.

[0030] 몇몇 구현들에서, 제 2 층(240)은 금속 층(110) 상에 또는 위에 제공된다. 제 2 층(240)은 제 1 층(120)이 제공되는 측 반대편의 금속 층(110)의 측 상에 제공될 수 있다. 예로서, 제 2 층(240)은 예컨대 제 1 기판(10)과 같은 적어도 하나의 기판과 금속 층(110) 사이에 제공된다.[0030] In some implementations, the second layer 240 is provided on or on the metal layer 110. The second layer 240 may be provided on the side of the metal layer 110 opposite the side where the first layer 120 is provided. For example, the second layer 240 is provided between the metal layer 110 and at least one substrate, such as the first substrate 10, for example.

[0031] 도 2b는 커버 렌즈(20)를 갖는 도 2a의 층 시스템의 개략적인 단면도를 도시한다.[0031] Figure 2b shows a schematic cross-sectional view of the layer system of Figure 2a with a cover lens 20.

[0032] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 몇몇 실시예들에 따르면, 층 시스템은 커버 렌즈(20)를 더 포함한다. 커버 렌즈(20)는 IGZO 또는 IZO 층(130) 상에 또는 위에 제공될 수 있다. 예로서, 예컨대 광학적으로 투명한 접착제(OCA)를 포함하는 투명한 접착성 층(15)이 IGZO 또는 IZO 층(130)에 커버 렌즈(20)를 부착하기 위해 커버 렌즈(20)와 IGZO 또는 IZO 층(130) 사이에 제공될 수 있다. 몇몇 구현들에서, "커버 렌즈"라는 용어는 터치 스크린 패널의 최상단 글라스를 지칭할 수 있다. 커버 렌즈(20)는 0.1 mm 또는 그 초과, 예컨대 약 0.5 mm, 0.7 mm, 0.9 mm, 또는 1 mm의 두께를 갖는 글라스로 제조될 수 있다.[0032] According to some embodiments that may be combined with other embodiments described herein, the layer system further includes a cover lens 20. The cover lens 20 may be provided on or on the IGZO or IZO layer 130. As an example, a transparent adhesive layer 15 comprising, for example, an optically transparent adhesive (OCA) may be applied to the cover lens 20 and the IGZO or IZO layer (not shown) to attach the cover lens 20 to the IGZO or IZO layer 130 130, respectively. In some implementations, the term "cover lens" may refer to the top glass of the touch screen panel. The cover lens 20 may be made of a glass having a thickness of 0.1 mm or more, such as about 0.5 mm, 0.7 mm, 0.9 mm, or 1 mm.

[0033] 도 2c는 도 2a 및 도 2b의 층 시스템들의 반사율(R)을 예시하는 그래프를 도시한다.[0033] FIG. 2C shows a graph illustrating the reflectivity (R) of the layer systems of FIGS. 2A and 2B.

[0034] 그래프의 x-축은 나노 미터의 단위로 파장을 표시하고, y-축은 반사율(R)을 표시한다. 제 1 커브(250)는 도 2a의 IGZO 층 상에서 직접적으로 측정된 반사율을 표시한다. 제 2 커브(260)는 도 2b의 커버 렌즈(20) 상에서 측정된 반사율을 표시한다. 층 시스템은, 특히 가시 파장 범위(예컨대, 약 350 내지 약 800 nm)에서 낮은 표면 반사율을 제공한다. 낮은 표면 반사율은 IGZO 또는 IZO 층(130)과 제 1 층(120)의 조합, 및 제 2 층(240)과 같은 선택적인 부가적인 층들로부터 기인할 수 있다.The x-axis of the graph represents the wavelength in units of nanometers, and the y-axis represents the reflectance (R). The first curve 250 represents the measured reflectance directly on the IGZO layer of FIG. 2A. The second curve 260 represents the reflectance measured on the cover lens 20 of FIG. 2B. Layer system provides a low surface reflectance, particularly in the visible wavelength range (e.g., from about 350 to about 800 nm). The low surface reflectance may result from a combination of the IGZO or IZO layer 130 and the first layer 120, and optional additional layers such as the second layer 240.

[0035] 도 3a는 본원에서 설명되는 또한 추가적인 실시예들에 따른, 터치 스크린 패널에서 사용하도록 적응된 층 시스템(30)의 개략적인 단면도를 도시한다.[0035] FIG. 3a shows a schematic cross-sectional view of a layer system 30 adapted for use in a touch screen panel, in accordance with further additional embodiments described herein.

[0036] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 몇몇 실시예들에 따르면, 층 시스템(300), 그리고 특히 2개 또는 그 초과의 추가적인 층들은 몰리브덴 또는 몰리브덴 합금을 포함하는 제 3 층(350)을 포함하고, 특히 여기에서, 제 3 층(350)은 Mo 층 또는 MoNb 층이다. 몇몇 구현들에서, 제 3 층(350)은 금속 층(110) 상에 또는 위에 제공된다. 예로서, 제 3 층(350)은 금속 층(110)과 제 1 층(120) 사이에 제공될 수 있다.[0036] According to some embodiments, which may be combined with other embodiments described herein, the layer system 300, and in particular two or more additional layers, may comprise a third layer comprising a molybdenum or molybdenum alloy (350), wherein the third layer (350) is a Mo layer or a MoNb layer. In some implementations, a third layer 350 is provided on or on the metal layer 110. As an example, a third layer 350 may be provided between the metal layer 110 and the first layer 120.

[0037] 제 1 층(120), IGZO 또는 IZO 층(130), 제 2 층(240), 및 제 3 층(350)의 조합은 표면 반사율을 더 감소시킬 수 있고, 층 시스템(300)의 광학 특성들이 더 개선된다.The combination of the first layer 120, the IGZO or IZO layer 130, the second layer 240, and the third layer 350 may further reduce the surface reflectivity, Optical properties are further improved.

[0038] 도 3b는 커버 렌즈(20)를 갖는 도 3a의 층 시스템의 개략적인 단면도를 도시한다.[0038] Figure 3b shows a schematic cross-sectional view of the layer system of Figure 3a with a cover lens 20.

[0039] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 몇몇 실시예들에 따르면, 층 시스템은 커버 렌즈(20)를 더 포함한다. 커버 렌즈(20)는 IGZO 또는 IZO 층(130) 상에 또는 위에 제공될 수 있다. 예로서, 예컨대 광학적으로 투명한 접착제(OCA)를 포함하는 투명한 접착성 층(15)이 IGZO 또는 IZO 층(130)에 커버 렌즈(20)를 부착하기 위해 커버 렌즈(20)와 IGZO 또는 IZO 층(130) 사이에 제공될 수 있다. 몇몇 구현들에서, "커버 렌즈"라는 용어는 터치 스크린 패널의 최상단 글라스를 지칭할 수 있다. 커버 렌즈(20)는 0.1 mm 또는 그 초과, 예컨대 약 0.5 mm, 0.7 mm, 0.9 mm, 또는 1 mm의 두께를 갖는 글라스로 제조될 수 있다.[0039] According to some embodiments that may be combined with other embodiments described herein, the layer system further includes a cover lens 20. The cover lens 20 may be provided on or on the IGZO or IZO layer 130. As an example, a transparent adhesive layer 15 comprising, for example, an optically transparent adhesive (OCA) may be applied to the cover lens 20 and the IGZO or IZO layer (not shown) to attach the cover lens 20 to the IGZO or IZO layer 130 130, respectively. In some implementations, the term "cover lens" may refer to the top glass of the touch screen panel. The cover lens 20 may be made of a glass having a thickness of 0.1 mm or more, such as about 0.5 mm, 0.7 mm, 0.9 mm, or 1 mm.

[0040] 도 3c는 도 3a 및 도 3b의 층 시스템들의 반사율을 예시하는 그래프를 도시한다.[0040] FIG. 3C shows a graph illustrating the reflectivity of the layer systems of FIGS. 3A and 3B.

[0041] 그래프의 x-축은 나노 미터의 단위로 파장을 표시하고, y-축은 반사율을 표시한다. 제 1 커브(351)는 도 3a의 IGZO 층 상에서 직접적으로 측정된 반사율(R)을 표시한다. 제 2 커브(360)는 도 3b의 커버 렌즈(20) 상에서 측정된 반사율(R)을 표시한다. 층 시스템은, 특히 가시 파장 범위(예컨대, 약 350 내지 약 800 nm)에서 낮은 표면 반사율을 제공한다. 낮은 표면 반사율은 IGZO 또는 IZO 층(130)과 제 1 층(120)의 조합, 및 제 2 층(240) 및 제 3 층(350)과 같은 선택적인 층들로부터 기인할 수 있다.The x-axis of the graph represents the wavelength in nanometers, and the y-axis represents the reflectance. The first curve 351 represents the reflectance R measured directly on the IGZO layer of FIG. 3A. The second curve 360 represents the reflectance R measured on the cover lens 20 of Figure 3B. Layer system provides a low surface reflectance, particularly in the visible wavelength range (e.g., from about 350 to about 800 nm). The low surface reflectance may result from the combination of the IGZO or IZO layer 130 and the first layer 120 and from the optional layers such as the second layer 240 and the third layer 350.

[0042] 도 4 내지 도 6에서 도시된 실시예들의 다음의 설명들은 적어도 하나의 층 스택이 제 1 기판, 제 2 기판(예컨대, 컬러 필터 기판 또는 컬러 필터 글라스), 및 제 3 기판(예컨대, TFT 기판 또는 TFT 글라스)과 같은 하나 또는 그 초과의 상이한 기판들 상에 또는 위에 배치되는 예들을 예시한다.[0042] The following description of the embodiments shown in FIGS. 4-6 illustrate that at least one layer stack may comprise a first substrate, a second substrate (e.g., a color filter substrate or color filter glass), and a third substrate TFT substrate or TFT glass) on or above one or more different substrates.

[0043] 도 4는 본원에서 설명되는 실시예들에 따른 층 시스템을 갖는 터치 스크린 패널(400)의 개략도를 도시한다.[0043] FIG. 4 shows a schematic diagram of a touch screen panel 400 having a layer system according to embodiments described herein.

[0044] 본 개시내용의 양상에 따르면, 터치 스크린 패널(400)은 스크린 디바이스 및 본원에서 설명되는 바와 같은 층 시스템을 포함한다. 예로서, 도 4 내지 도 6의 예들에서 예시되는 바와 같이, 스크린 디바이스는 액정 디스플레이(LCD)일 수 있다. 그러나, 본 개시내용은 LCD들로 제한되지 않고, 예컨대 OLED 디스플레이들과 같은 다른 스크린 기술들이 본 개시내용의 층 시스템과 조합되어 채용될 수 있다.[0044] According to aspects of the present disclosure, touch screen panel 400 includes a screen device and a layer system as described herein. By way of example, and as illustrated in the examples of Figs. 4-6, the screen device may be a liquid crystal display (LCD). However, the present disclosure is not limited to LCDs, and other screen technologies such as, for example, OLED displays may be employed in combination with the layer system of the present disclosure.

[0045] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 몇몇 실시예들에 따르면, 층 시스템은 하나 또는 그 초과의 제 1 라인들을 갖는 제 1 라인 패턴(430), 및 하나 또는 그 초과의 제 2 라인들을 갖는 제 2 라인 패턴(440)을 포함하고, 여기에서, 제 1 라인 패턴(430)과 제 2 라인 패턴(440)은 절연성 층(435)에 의해 분리된다. 제 1 라인 패턴(430) 및 제 2 라인 패턴(440)은 터치 검출을 위해 구성될 수 있다.[0045] According to some embodiments that may be combined with other embodiments described herein, the layer system may include a first line pattern 430 having one or more first lines, and one or more Wherein the first line pattern 430 and the second line pattern 440 are separated by an insulating layer 435. The first line pattern 430 and the second line pattern 440 are separated by an insulating layer 435. [ The first line pattern 430 and the second line pattern 440 may be configured for touch detection.

[0046] 제 1 라인 패턴(430)의 하나 또는 그 초과의 제 1 라인들 및/또는 제 2 라인 패턴(440)의 하나 또는 그 초과의 제 2 라인들은 평행한 라인들, 예컨대 수평 라인들 또는 수직 라인들일 수 있다. 제 1 라인 패턴(430)의 하나 또는 그 초과의 제 1 라인들 및 제 2 라인 패턴(440)의 하나 또는 그 초과의 제 2 라인들은 매트릭스를 형성하도록 실질적으로 수직인 방향들로 연장될 수 있다. 예로서, 제 1 라인 패턴(430)의 하나 또는 그 초과의 제 1 라인들은 제 1 방향, 예컨대 x-방향으로 연장될 수 있다. 제 2 라인 패턴(440)의 하나 또는 그 초과의 제 2 라인들은 제 2 방향, 예컨대 y-방향으로 연장될 수 있다. 제 1 방향과 제 2 방향은 실질적으로 수직일 수 있다. 매트릭스는, 예컨대 제 1 라인 패턴(430)과 제 2 라인 패턴(440) 사이의 캐패시턴스에서의 변화를 검출함으로써, 터치 검출을 위해 구성될 수 있다.One or more first lines of the first line pattern 430 and / or one or more second lines of the second line pattern 440 may be parallel lines, eg, horizontal lines or Vertical lines. One or more of the first lines of the first line pattern 430 and one or more of the second lines of the second line pattern 440 may extend in substantially perpendicular directions to form a matrix . By way of example, one or more first lines of the first line pattern 430 may extend in a first direction, e.g., an x-direction. One or more of the second lines of the second line pattern 440 may extend in a second direction, e.g., the y-direction. The first direction and the second direction may be substantially perpendicular. The matrix may be configured for touch detection, for example, by detecting a change in capacitance between the first line pattern 430 and the second line pattern 440.

[0047] "실질적으로 수직"이라는 용어는, 예컨대 제 1 라인 패턴(430)의 하나 또는 그 초과의 제 1 라인들과 제 2 라인 패턴(440)의 하나 또는 그 초과의 제 2 라인들의 실질적으로 수직인 배향(orientation)과 관련되고, 여기에서, 정확한 수직 배향으로부터의 수 도, 예컨대, 최대 10° 또는 심지어 최대 15°의 편차가 여전히 "실질적으로 수직"으로 고려된다.The term " substantially vertical "refers to a direction in which one or more of the first lines of the first line pattern 430 and the second lines of the second line pattern 440 are substantially Where the deviation from the correct vertical orientation, e.g., a deviation of up to 10 degrees, or even up to 15 degrees, is still considered "substantially vertical ".

[0048] 몇몇 구현들에서, 제 1 라인 패턴(430)의 하나 또는 그 초과의 제 1 라인들은 투명한 전도성 산화물, 특히 인듐 주석 산화물(ITO)에 의해 제공되고, 제 2 라인 패턴(440)의 하나 또는 그 초과의 제 2 라인들은 층 시스템의 적어도 하나의 층 스택에 의해 제공된다. 다른 구현들에서, 제 2 라인 패턴(440)의 하나 또는 그 초과의 제 2 라인들은 투명한 전도성 산화물, 특히 인듐 주석 산화물에 의해 제공되고, 제 1 라인 패턴(430)의 하나 또는 그 초과의 제 1 라인들은 층 시스템의 적어도 하나의 층 스택에 의해 제공된다.In some implementations, one or more of the first lines of the first line pattern 430 are provided by a transparent conductive oxide, particularly indium tin oxide (ITO), and one of the second line patterns 440 Or more of the second lines are provided by at least one layer stack of the layer system. In other implementations, one or more of the second lines of the second line pattern 440 may be provided by a transparent conductive oxide, particularly indium tin oxide, and may be provided by one or more first The lines are provided by at least one layer stack of layer systems.

[0049] 층 시스템의 적어도 하나의 층 스택에 의해 제공되는 라인 패턴, 예컨대 제 2 라인 패턴(440)은 본원에서 설명되는 실시예들에 따라 구성될 수 있다. 예로서, 제 2 라인 패턴(440)(또는 제 1 라인 패턴(430))은 제 1 기판(10), 금속 층(110), 및 2개 또는 그 초과의 추가적인 층들을 포함할 수 있다. 2개 또는 그 초과의 추가적인 층들은 IGZO 층 또는 IZO 층, 및 제 1 층(참조 번호(470)로 표시됨), 그리고 선택적으로 제 2 층(참조 번호(460)로 표시됨)을 포함할 수 있다.[0049] The line pattern provided by at least one layer stack of the layer system, such as the second line pattern 440, may be constructed in accordance with the embodiments described herein. By way of example, the second line pattern 440 (or the first line pattern 430) may include a first substrate 10, a metal layer 110, and two or more additional layers. Two or more additional layers may include an IGZO layer or IZO layer, and a first layer (denoted by reference numeral 470), and optionally a second layer (denoted by reference numeral 460).

[0050] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 몇몇 실시예들에 따르면, 투명한 전도성 산화물은 인듐 주석 산화물(ITO) 층, 도핑된 ITO 층, 불순물-도핑된 ZnO, In2O3, SnO2 및 CdO, ITO(In2O3:Sn), AZO(ZnO:Al), IZO(ZnO:In), GZO(ZnO:Ga), ZnO, In2O3 및 SnO2의 조합들을 포함하거나 또는 그러한 조합들로 구성된 다-성분 산화물들, 예컨대 ITO/금속/ITO-스택 또는 금속/ITO/금속-스택과 같은 적어도 ITO 층과 금속 층으로부터의 층 스택일 수 있다.[0050] According to some embodiments that may be combined with other embodiments described herein, the transparent conductive oxide may include an indium tin oxide (ITO) layer, a doped ITO layer, impurity-doped ZnO, In 2 O 3 , Combinations of SnO 2 and CdO, ITO (In 2 O 3 : Sn), AZO (ZnO: Al), IZO (ZnO: In), GZO (ZnO: Ga), ZnO, In 2 O 3 and SnO 2 Or multi-component oxides composed of such combinations, such as a layer stack from at least an ITO layer and a metal layer, such as an ITO / metal / ITO-stack or a metal / ITO / metal-stack.

[0051] LCD에서, 액정들의 층이 2개의 전극들 사이에서 정렬되고, 2개의 편광 층들 또는 편광 필터들(예컨대, 평행 및 수직)(이들의 투과의 축들은 서로에 대해 수직임)이 제공된다. 액정들의 배향에 따라, 하나의 편광 필터를 통과하는 광은 다른 편광 필터에 의해 차단되거나 또는 차단되지 않는다. 몇몇 실시예들에서, 층 시스템은 편광 층(450)을 포함하고, 여기에서, 제 1 라인 패턴(430)의 제 1 라인들 또는 제 2 라인 패턴(440)의 제 2 라인들이 편광 층(450)에 매립된다(embedded).[0051] In an LCD, a layer of liquid crystals is aligned between two electrodes and two polarizing layers or polarization filters (eg, parallel and perpendicular) (their transmission axes are perpendicular to each other) are provided . Depending on the orientation of the liquid crystals, light passing through one polarizing filter is not blocked or blocked by another polarizing filter. In some embodiments, the layer system includes a polarizing layer 450 wherein the first lines of the first line pattern 430 or the second lines of the second line pattern 440 are aligned with the polarizing layer 450 ).

[0052] 몇몇 실시예들에 따르면, 층 시스템은 제 2 기판(425)과 같은 적어도 하나의 기판을 포함한다. 제 2 기판(425)은 스크린 디바이스의 컬러 필터 매트릭스(420)가 위에 배치된 기판일 수 있다. 제 2 기판(425)은 "컬러 필터 기판" 또는 "컬러 필터(CF) 글라스"라고 지칭될 수 있다. 제 2 기판(425)은 제 1 측 및 제 2 측을 가질 수 있다. 제 1 라인 패턴(430), 절연성 층(435), 제 2 라인 패턴(440), 편광 층(450), 그리고 선택적으로 접착성 층(15) 및 커버 렌즈(20)가 제 2 기판(425)의 제 1 측 상에 또는 위에 배열될 수 있다. 컬러 필터 매트릭스(420)(또는 컬러 필터 층)가 제 2 기판(425)의 제 2 측 상에 또는 위에 배열될 수 있다. 제 2 기판(425)의 제 1 측은 제 2 기판(425)의 제 2 측의 반대편에 있을 수 있다.[0052] According to some embodiments, the layer system includes at least one substrate, such as a second substrate 425. The second substrate 425 may be a substrate on which the color filter matrix 420 of the screen device is disposed. The second substrate 425 may be referred to as a "color filter substrate" or a "color filter (CF) glass ". The second substrate 425 may have a first side and a second side. The first line pattern 430, the insulating layer 435, the second line pattern 440, the polarizing layer 450 and optionally the adhesive layer 15 and the cover lens 20 are disposed on the second substrate 425, Or on the first side of the < / RTI > A color filter matrix 420 (or a color filter layer) may be arranged on or above the second side of the second substrate 425. The first side of the second substrate 425 may be opposite the second side of the second substrate 425.

[0053] 몇몇 구현들에서, 터치 스크린 패널(400)은 스크린 디바이스를 포함한다. 스크린 디바이스는 예컨대 글라스 기판("TFT-글라스")과 같은 제 3 기판(405)을 포함할 수 있다. 박막 트랜지스터들(TFT들)의 어레이 또는 층(410)이 제 3 기판(405) 상에 또는 위에 배열될 수 있고, 액정 층(415)이 박막 트랜지스터들(TFT들)의 어레이 또는 층(410) 상에 또는 위에 배열될 수 있다. TFT들의 어레이 또는 층(410)은 스크린 디바이스의 픽셀들을 구동시키도록 구성될 수 있다. 스크린 디바이스는 백라이트를 더 포함할 수 있다. 컬러 필터 매트릭스(420)는 액정 층(415) 상에 또는 위에 배열될 수 있다.[0053] In some implementations, touch screen panel 400 includes a screen device. The screen device may include a third substrate 405, such as a glass substrate ("TFT-glass"). An array or layer 410 of thin film transistors (TFTs) may be arranged on or on a third substrate 405 and a liquid crystal layer 415 may be arranged on an array or layer 410 of thin film transistors (TFTs) Or on top of it. An array or layer of TFTs 410 may be configured to drive the pixels of the screen device. The screen device may further include a backlight. The color filter matrix 420 may be arranged on or above the liquid crystal layer 415.

[0054] 도 5는 본원에서 설명되는 추가적인 실시예들에 따른 층 시스템을 갖는 터치 스크린 패널(500)의 개략도를 도시한다. 도 5의 실시예는 도 4의 실시예와 유사하고, 유사한 또는 동일한 엘리먼트들의 설명들은 생략되었다. 도 5의 실시예는 제 1 라인 패턴의 구성에서 도 4의 실시예와 상이하다. 도 5에서의 제 1 라인 패턴(530)은 투명한 전도성 산화물을 포함하지 않지만, 본 개시내용의 층 시스템의 층 스택을 포함한다.[0054] FIG. 5 illustrates a schematic diagram of a touch screen panel 500 having a layer system in accordance with further embodiments described herein. The embodiment of FIG. 5 is similar to the embodiment of FIG. 4, and the descriptions of similar or identical elements are omitted. The embodiment of FIG. 5 differs from the embodiment of FIG. 4 in the construction of the first line pattern. The first line pattern 530 in FIG. 5 does not include a transparent conductive oxide, but includes a layer stack of the layer system of the present disclosure.

[0055] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 몇몇 실시예들에 따르면, 적어도 하나의 층 스택은 제 1 층 스택 및 제 2 층 스택을 포함하고, 여기에서, 제 1 라인 패턴(530)의 하나 또는 그 초과의 제 1 라인들은 제 1 층 스택에 의해 제공되고, 제 2 라인 패턴(440)의 하나 또는 그 초과의 제 2 라인들은 제 2 층 스택에 의해 제공된다.[0055] According to some embodiments that may be combined with other embodiments described herein, the at least one layer stack includes a first layer stack and a second layer stack, wherein the first line pattern 530 are provided by a first layer stack and one or more second lines of a second line pattern 440 are provided by a second layer stack.

[0056] 제 1 라인 패턴(530) 및/또는 제 2 라인 패턴(440)은 본원에서 설명되는 실시예들에 따른 층 시스템, 예컨대, 도 4에서 참조 번호(440)로 표시된 층 시스템을 포함할 수 있다. 본 개시내용의 층 시스템의 층 스택을 갖는 제 2 라인 패턴(440) 및 제 1 라인 패턴(430)은 라인 패턴들 양자 모두에서 높은 전도율을 제공하여, 터치 검출 기능의 개선된 성능을 발생시킨다.The first line pattern 530 and / or the second line pattern 440 may comprise a layer system according to the embodiments described herein, for example, a layer system denoted by reference numeral 440 in FIG. 4 . The second line pattern 440 and the first line pattern 430 having a layer stack of the layer system of the present disclosure provide a high conductivity in both the line patterns, resulting in improved performance of the touch detection function.

[0057] 몇몇 구현들에서, 층 시스템은 제 2 기판(425)과 같은 적어도 하나의 기판을 포함한다. 적어도 하나의 기판은 제 1 측 및 제 2 측을 가질 수 있고, 여기에서, 제 1 층 스택 및 제 2 층 스택이 (양자 모두) 제 1 측 위에 제공된다. 제 1 층은, 예컨대, 터치 검출을 위한 층들, 편광 층(들), 및/또는 커버 렌즈(20)가 제공되는, 제 2 기판(425)의 측일 수 있다. 제 2 기판(425)의 제 2 측은 스크린 디바이스가 제공되는, 제 2 기판(425)의 측일 수 있다. 스크린 디바이스는, 예컨대 글라스 기판("TFT-글라스")과 같은 제 3 기판(405), 박막 트랜지스터들(TFT들)의 어레이 또는 층(410), 및 액정 층(415)을 포함할 수 있다.[0057] In some implementations, the layer system includes at least one substrate, such as a second substrate 425. The at least one substrate may have a first side and a second side, wherein a first layer stack and a second layer stack are both provided on the first side. The first layer may be the side of the second substrate 425, e.g., provided with layers for touch detection, polarizing layer (s), and / or cover lens 20. The second side of the second substrate 425 may be the side of the second substrate 425 where the screen device is provided. The screen device may include a third substrate 405, such as a glass substrate ("TFT-glass"), an array or layer 410 of thin film transistors (TFTs), and a liquid crystal layer 415.

[0058] 도 6은 본원에서 설명되는 또한 추가적인 실시예들에 따른 층 시스템을 갖는 터치 스크린 패널(600)의 개략도를 도시한다. 도 6의 실시예는 도 4 및 도 5의 실시예들과 유사하고, 유사한 또는 동일한 엘리먼트들의 설명은 생략된다. 도 6의 실시예는 제 2 라인 패턴의 구성에서 도 4 및 도 5의 실시예들과 상이하다. 도 6에서의 제 2 라인 패턴(640)은 컬러 필터 매트릭스(420)에 매립된다.[0058] FIG. 6 illustrates a schematic diagram of a touch screen panel 600 having a layer system in accordance with further embodiments described herein. The embodiment of Fig. 6 is similar to the embodiments of Figs. 4 and 5, and a description of similar or identical elements is omitted. The embodiment of Fig. 6 differs from the embodiments of Figs. 4 and 5 in the configuration of the second line pattern. The second line pattern 640 in FIG. 6 is embedded in the color filter matrix 420.

[0059] 몇몇 구현들에서, 층 시스템은 제 2 기판(425)과 같은 적어도 하나의 기판을 포함한다. 적어도 하나의 기판은 제 1 측 및 제 2 측을 가질 수 있고, 여기에서, 제 1 층 스택이 제 1 측 위에 제공되고, 제 2 층 스택이 제 2 측 위에 제공된다. 몇몇 실시예들에 따르면, 층 시스템은 컬러 필터 매트릭스(420)를 포함할 수 있고, 여기에서, 제 1 라인 패턴(530)의 하나 또는 그 초과의 제 1 라인들 또는 제 2 라인 패턴(640)의 하나 또는 그 초과의 제 2 라인들이 컬러 필터 매트릭스(420)에 매립된다. 도 6의 예에서, 제 2 라인 패턴(640)이 컬러 필터 매트릭스(420)에 매립된다.[0059] In some implementations, the layer system includes at least one substrate, such as a second substrate 425. The at least one substrate may have a first side and a second side, wherein a first layer stack is provided on the first side and a second layer stack is provided on the second side. According to some embodiments, the layer system may include a color filter matrix 420, wherein one or more first lines or second line patterns 640 of the first line pattern 530, One or more second lines of the color filter matrix 420 are embedded in the color filter matrix 420. In the example of FIG. 6, the second line pattern 640 is embedded in the color filter matrix 420.

[0060] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 몇몇 실시예들에 따르면, 컬러 필터 매트릭스(420)에 매립된 제 2 라인 패턴(640)의 하나 또는 그 초과의 제 2 라인들 또는 제 1 라인 패턴(530)의 하나 또는 그 초과의 제 1 라인들은 블랙 매트릭스로서 구성된다. 블랙 매트릭스는 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B) 컬러들 또는 세그먼트들과 같은, 컬러 필터 매트릭스의 개별적인 컬러들 또는 세그먼트들을 공간적으로 분리시키도록 구성될 수 있다. 제 1 라인 패턴(530)의 하나 또는 그 초과의 제 1 라인들, 또는 제 2 라인 패턴(640)의 하나 또는 그 초과의 제 2 라인들을 블랙 매트릭스로서 제공함으로써, 별개의 블랙 매트릭스를 형성하기 위한 프로세스 단계가 생략될 수 있고, 제조 복잡성 및 비용들이 감소될 수 있다.[0060] According to some embodiments that may be combined with other embodiments described herein, one or more second lines of the second line pattern 640 embedded in the color filter matrix 420, One or more first lines of the first line pattern 530 are configured as a black matrix. The black matrix may be configured to spatially separate the individual colors or segments of the color filter matrix, such as red (R), green (G), and blue (B) colors or segments. By providing one or more first lines of the first line pattern 530 or one or more second lines of the second line pattern 640 as black matrices, The process steps can be omitted, and the manufacturing complexity and costs can be reduced.

[0061] 도 4 내지 도 6의 위의 예들에서, 제 1 라인 패턴 및 제 2 라인 패턴이 터치 검출을 위해 매트릭스(x-y 패턴)를 정의할 수 있지만, 하나의 라인 패턴, 예컨대 제 1 라인 패턴 또는 제 2 라인 패턴이 제공될 수 있고, 터치 검출을 위해 구성될 수 있다는 것이 이해되어야 한다. 그러한 경우에서, 라인 패턴들의 매트릭스가 존재하지 않을 수 있지만, 하나의 라인 패턴만이 존재할 수 있다. 예로서, 하나의 라인 패턴은 본 개시내용의 층 스택을 포함할 수 있다. 하나의 라인 패턴의 하나 또는 그 초과의 라인들은, 예컨대, 콘택 라인들일 수 있다. 특히 x-y 패턴이 존재하지 않기 때문에, 제조 프로세스가 용이하게 될 수 있다.[0061] In the above examples of Figs. 4 to 6, the first line pattern and the second line pattern can define a matrix (xy pattern) for touch detection, but one line pattern, e.g., It should be appreciated that a second line pattern may be provided and configured for touch detection. In such a case, there may not be a matrix of line patterns, but only one line pattern may be present. By way of example, one line pattern may comprise a layer stack of the present disclosure. One or more lines of one line pattern may be, for example, contact lines. In particular, since there is no x-y pattern, the manufacturing process can be facilitated.

[0062] 도 7은 본원에서 설명되는 실시예들에 따른 층 시스템을 제조하기 위한 증착 장치(700)의 개략도를 도시한다.[0062] FIG. 7 shows a schematic diagram of a deposition apparatus 700 for manufacturing a layer system according to embodiments described herein.

[0063] 예시적으로, 내부에서의 층들의 증착을 위한 진공 챔버(702)가 도시된다. 도 7에서 표시된 바와 같이, 추가적인 챔버들이 진공 챔버(702) 근처에 제공될 수 있다. 진공 챔버(702)는 밸브 하우징(704) 및 밸브 유닛(705)을 갖는 밸브에 의해, 인접한 챔버들로부터 분리될 수 있다. 기판(701)을 위에 갖는 캐리어(714)가, 화살표(1)에 의해 표시된 바와 같이, 진공 챔버(702) 내로 삽입된 후에, 밸브 유닛(705)이 폐쇄될 수 있다. 진공 챔버들(702)에서의 분위기는, 예컨대 진공 챔버(702)에 연결된 진공 펌프들로 기술적인 진공을 생성함으로써, 그리고/또는 진공 챔버(702)에서의 증착 구역에 프로세스 가스들을 삽입함으로써, 개별적으로 제어될 수 있다.[0063] Illustratively, a vacuum chamber 702 is shown for deposition of layers therein. As indicated in FIG. 7, additional chambers may be provided near the vacuum chamber 702. The vacuum chamber 702 can be separated from the adjacent chambers by valves having the valve housing 704 and the valve unit 705. [ The valve unit 705 can be closed after the carrier 714 having the substrate 701 on it is inserted into the vacuum chamber 702 as indicated by the arrow 1. The atmosphere in vacuum chambers 702 can be controlled individually by creating a technical vacuum with, for example, vacuum pumps connected to vacuum chamber 702 and / or by inserting process gases into the deposition zone in vacuum chamber 702, Lt; / RTI >

[0064] 몇몇 실시예들에 따르면, 프로세스 가스들은 비활성 가스들, 예컨대 아르곤, 및/또는 반응성 가스들, 예컨대 산소, 질소, 수소 및 암모니아(NH3), 오존(O3), 활성화된 가스들 등을 포함할 수 있다. 진공 챔버(702) 내에서, 기판(701)을 위에 갖는 캐리어(714)를 진공 챔버(702) 내로 그리고 밖으로 운송하기 위해, 롤러들(710)이 제공된다.[0064] According to some embodiments, the process gases may include inert gases such as argon and / or reactive gases such as oxygen, nitrogen, hydrogen and ammonia (NH 3 ), ozone (O 3 ) And the like. Within the vacuum chamber 702, rollers 710 are provided to transport the carrier 714 having the substrate 701 thereon into and out of the vacuum chamber 702.

[0065] 도 7의 예가 동일한 진공 챔버(702) 내의 증착 소스들(722 및 724)의 2개의 상이한 그룹들을 도시하지만, 증착 소스들(722 및 724)의 그룹들에 의해 상이한 증착 프로세스들이 제공되는 경우에, 증착 소스들(722 및 724)의 그룹들이 상이한 진공 챔버들(702)에 제공될 수 있다는 것이 이해되어야 한다. 증착 소스들(722 및 724)은 층 시스템의 층들, 예컨대, 금속 층, 및 2개 또는 그 초과의 추가적인 층들, 예를 들어, 인듐 갈륨 아연 산화물(IGZO) 층 및/또는 인듐 아연 산화물(IZO) 층, 및 몰리브덴 또는 몰리브덴 합금을 포함하는 제 1 층을 증착하도록 구성될 수 있다.Although the example of FIG. 7 shows two different groups of deposition sources 722 and 724 in the same vacuum chamber 702, different deposition processes are provided by groups of deposition sources 722 and 724 It is to be understood that groups of deposition sources 722 and 724 may be provided in different vacuum chambers 702. [ The deposition sources 722 and 724 may be formed by depositing layers of a layer system such as a metal layer and two or more additional layers such as an indium gallium zinc oxide (IGZO) layer and / or indium zinc oxide (IZO) Layer, and a first layer comprising a molybdenum or molybdenum alloy.

[0066] 증착 소스들(722 및 724)은, 예컨대, 기판(701) 상에 증착될 재료의 타겟들을 갖는 회전가능한 캐소드들일 수 있다. 캐소드들은 내부에 마그네트론을 갖는 회전가능한 캐소드들일 수 있다. 마그네트론 스퍼터링이 층들의 증착을 위해 실시될 수 있다. 증착 소스들(722 및 724)은, 증착 소스들(722 및 724)이 교번 방식으로 바이어싱될 수 있도록, AC 전력 공급부(723)에 연결된다.[0066] Deposition sources 722 and 724 can be, for example, rotatable cathodes with targets of material to be deposited on substrate 701. The cathodes may be rotatable cathodes having a magnetron therein. Magnetron sputtering may be performed for deposition of the layers. The deposition sources 722 and 724 are connected to the AC power supply 723 so that the deposition sources 722 and 724 can be biased alternately.

[0067] 본원에서 사용되는 바와 같이, "마그네트론 스퍼터링"은 자석 어셈블리, 즉, 자기장을 생성할 수 있는 유닛을 사용하여 수행되는 스퍼터링을 지칭한다. 그러한 자석 어셈블리는 영구 자석으로 구성될 수 있다. 그러한 영구 자석은, 회전가능한 타겟 표면 아래에 생성되는 생성된 자기장 내에 자유 전자들이 트랩핑되도록 하는 방식으로, 평면 타겟에 커플링될 수 있거나, 또는 회전가능한 타겟 내에 배열될 수 있다. 그러한 자석 어셈블리는 또한, 평면 캐소드에 커플링되어 배열될 수 있다. 마그네트론 스퍼터링은, 이중 마그네트론 캐소드, 즉, TwinMagTM 캐소드 어셈블리와 같지만 이에 제한되지는 않는 증착 소스들(722 및 724)에 의해 실현될 수 있다.[0067] As used herein, "magnetron sputtering" refers to sputtering performed using a magnet assembly, ie, a unit capable of generating a magnetic field. Such a magnet assembly may consist of a permanent magnet. Such permanent magnets may be coupled to the planar target or may be arranged in a rotatable target in a manner that allows free electrons to be trapped within the generated magnetic field generated below the rotatable target surface. Such a magnet assembly may also be arranged coupled to the planar cathode. Magnetron sputtering may be realized by deposition sources 722 and 724, such as, but not limited to, a dual magnetron cathode, i.e., a TwinMag TM cathode assembly.

[0068] 실시예들에 따르면, 층 시스템의 층들은 AC 전력 공급부를 갖는 회전가능한 캐소드들의 예컨대 마그네트론 스퍼터링과 같은 스퍼터링에 의해 증착될 수 있다. 추가로, 투명한 전도성 산화물 층을 위한 타겟으로부터의 스퍼터링은 DC 스퍼터링으로서 실시될 수 있다. 증착 소스들(722 및 724)은 스퍼터링 동안에 전자들을 수집하는 애노드들(725)과 함께 DC 전력 공급부(726)에 연결된다. 따라서, 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 또한 추가적인 실시예들에 따르면, 투명한 전도성 산화물 층들, 예컨대 ITO 층들은 DC 스퍼터링, 즉, 증착 소스들(722 및 724)을 갖는 어셈블리에 의해 스퍼터링될 수 있다.[0068] According to embodiments, the layers of the layer system may be deposited by sputtering, such as magnetron sputtering, of rotatable cathodes having an AC power supply. Additionally, sputtering from the target for the transparent conductive oxide layer can be performed as DC sputtering. Deposition sources 722 and 724 are connected to DC power supply 726 along with anodes 725 that collect electrons during sputtering. Thus, according to further embodiments, which may be combined with other embodiments described herein, transparent conductive oxide layers, such as ITO layers, may be formed by DC sputtering, i.e., by an assembly having deposition sources 722 and 724 Can be sputtered.

[0069] 간략화를 위해, 증착 소스들(722 및 724)이 하나의 진공 챔버(702)에 제공되는 것으로 예시된다. 층 시스템의 상이한 층들을 증착하기 위한 증착 소스들은, 도 7에서 예시된 바와 같이, 예컨대 진공 챔버(702) 및 진공 챔버(702)에 인접한 다른 진공 챔버와 같은 상이한 진공 챔버들(702)에 제공될 수 있다. 상이한 진공 챔버들(702)에 증착 소스들(722 및 724)의 그룹들을 제공함으로써, 적절한 프로세싱 가스 및/또는 기술적인 진공의 적절한 정도를 갖는 분위기가 각각의 증착 영역에 제공될 수 있다.[0069] For simplicity, deposition sources 722 and 724 are illustrated as being provided in one vacuum chamber 702. Deposition sources for depositing the different layers of the layer system may be provided in different vacuum chambers 702, such as, for example, as shown in FIG. 7, such as a vacuum chamber 702 and another vacuum chamber adjacent to the vacuum chamber 702 . By providing groups of deposition sources 722 and 724 in different vacuum chambers 702, an appropriate processing gas and / or atmosphere with a suitable degree of technical vacuum can be provided in each deposition region.

[0070] 몇몇 실시예들에 따르면, 증착은 하나 또는 그 초과의 회전가능한 타겟들의 스퍼터링에 의해 수행된다. 더 구체적으로, 본원에서의 실시예들에 따르면, 위에서 언급된 층 시스템의 층들 중 적어도 하나는, 고 품질의 안정적인 층 시스템의 형성이 용이하게 되도록, 회전가능한 타겟의 스퍼터링에 의해 증착된다. 예컨대, 본원에서의 실시예들에 따르면, 더 높은 균일성을 갖고, 낮은 밀도의 결함들 및 오염 입자들을 갖는 층이 증착될 수 있다. 고-품질 층 시스템의 제조는 적절한 광학 및 전기 특성들을 산출할 뿐만 아니라, 시간에 걸친 안정적인 성능을 산출한다. 게다가, 하나 또는 그 초과의 회전가능한 타겟들의 스퍼터링을 포함하는 제조 프로세스는 추가로, 다른 증착 방법들과 비교하여 더 높은 제조 레이트 및 더 적은 수의 오염물 입자들의 생성을 용이하게 할 수 있다.[0070] According to some embodiments, deposition is performed by sputtering one or more rotatable targets. More specifically, in accordance with embodiments herein, at least one of the layers of the above-mentioned layer system is deposited by sputtering of a rotatable target to facilitate the formation of a high quality stable layer system. For example, according to embodiments herein, a layer with higher uniformity and low density of defects and contaminating particles can be deposited. The manufacture of high-quality layer systems not only yields appropriate optical and electrical properties, but also yields stable performance over time. In addition, the fabrication process involving sputtering of one or more rotatable targets can further facilitate production of a higher production rate and fewer contaminant particles as compared to other deposition methods.

[0071] 도 8은 본원에서 설명되는 실시예들에 따른, 터치 스크린 패널에서 사용하도록 적응된 층 시스템을 제조하기 위한 방법(800)의 흐름도를 도시한다.[0071] FIG. 8 shows a flow diagram of a method 800 for manufacturing a layer system adapted for use in a touch screen panel, in accordance with the embodiments described herein.

[0072] 방법(800)은 기판 위에 알루미늄 또는 알루미늄 합금을 포함하는 금속 층을 제공하는 단계(블록(810)); 금속 층 위에 제 1 층을 제공하는 단계 ― 제 1 층은 몰리브덴 또는 몰리브덴 합금을 포함함 ― (블록(820)); 제 1 층 위에 인듐 갈륨 아연 산화물(IGZO) 층 또는 인듐 아연 산화물(IZO) 층을 제공하는 단계(블록(830)); 및 특히 하나의 단계로, 금속 층, 제 1 층, 및 IGZO 층 또는 IZO 층을 구조화하는 단계(블록(840))를 포함한다.[0072] The method 800 includes the steps of providing a metal layer comprising aluminum or an aluminum alloy on a substrate (block 810); Providing a first layer over the metal layer, the first layer comprising a molybdenum or molybdenum alloy (block 820); Providing an indium gallium zinc oxide (IGZO) layer or indium zinc oxide (IZO) layer over the first layer (block 830); And structuring the metal layer, the first layer, and the IGZO layer or the IZO layer (block 840), especially in one step.

[0073] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 몇몇 실시예들에 따르면, 금속 층, 제 1 층, 및 IGZO 층 또는 IZO 층의 구조화는 동일한 구조화 프로세스에서 실시된다. 예로서, 구조화 프로세스는 에칭 프로세스, 특히 습식 에칭 프로세스이다. 하나의 단일 구조화 프로세스에서 모든 층들을 구조화함으로써, 층 시스템이 감소된 노력 및 비용들로 제조될 수 있다.[0073] According to some embodiments that may be combined with other embodiments described herein, the structuring of the metal layer, the first layer, and the IGZO layer or the IZO layer is performed in the same structuring process. By way of example, the structuring process is an etching process, in particular a wet etching process. By structuring all layers in one single structuring process, the layer system can be fabricated with reduced effort and costs.

[0074] 본원에서 설명되는 실시예들에 따르면, 터치 스크린 패널에서 사용하도록 적응된 층 시스템을 제조하기 위한 방법은, 컴퓨터 프로그램들, 소프트웨어, 컴퓨터 소프트웨어 제품들, 및 CPU, 메모리, 사용자 인터페이스 및 대면적 기판을 프로세싱하기 위한 장치의 대응하는 컴포넌트들과 통신하는 입력 및 출력 수단을 가질 수 있는 상관된 제어기들의 수단에 의해 실시될 수 있다.[0074] According to embodiments described herein, a method for manufacturing a layered system adapted for use in a touch screen panel comprises the steps of: providing a computer program, software, computer software products, and a CPU, memory, May be implemented by means of correlated controllers that may have input and output means for communicating with corresponding components of an apparatus for processing an area substrate.

[0075] 본 개시내용의 층 시스템은 향상된 광학 특성들, 예컨대 사용자에 대한 외관을 갖는다. 특히, 층들, 예컨대 구조화된 금속 층의 구조들은 사용자에 대해 가시적이지 않다. 층 시스템은 개선된 전기 특성들을 제공한다. 특히, 구조화된 전도체는 높은 전도율을 갖는 Al 합금 또는 Al을 포함하는 금속 층이다. 이는 큰 터치 패널 사이즈들에 대해 유익하다. 이를 고려하면, 본 개시내용은 통상적인 구조들과 비교하여 향상된 광학 및 전기 성능을 제공하는, 터치 스크린 패널에서 사용하기 위한 층 시스템을 제공한다. 하나의 단일 구조화 프로세스에서 층들을 구조화함으로써, 층 시스템이 감소된 노력 및 비용들로 제조될 수 있다.[0075] The layer system of the present disclosure has improved optical properties, such as appearance to the user. In particular, the structures of the layers, such as the structured metal layer, are not visible to the user. The layer system provides improved electrical properties. In particular, the structured conductor is a metal layer comprising an Al alloy or Al with high conductivity. This is beneficial for large touch panel sizes. With this in mind, the present disclosure provides a layer system for use in a touch screen panel that provides improved optical and electrical performance compared to conventional structures. By structuring the layers in a single unified structuring process, the layer system can be fabricated with reduced effort and costs.

[0076] 전술한 바가 본 개시내용의 실시예들에 관한 것이지만, 본 개시내용의 다른 및 추가적인 실시예들이 본 개시내용의 기본적인 범위로부터 벗어나지 않으면서 고안될 수 있고, 본 개시내용의 범위는 다음의 청구항들에 의해 결정된다.While the foregoing is directed to embodiments of the present disclosure, other and further embodiments of the present disclosure may be devised without departing from the basic scope thereof, and the scope of the present disclosure is defined by the following claims Is determined by the claims.

Claims (15)

터치 스크린 패널에서 사용하도록 적응된 층 시스템(layer system)으로서,
동일한 구조화 프로세스에서 구조화된 3개 또는 그 초과의 층들을 갖는 적어도 하나의 층 스택(layer stack)
을 포함하며,
상기 3개 또는 그 초과의 층들은,
알루미늄 또는 알루미늄 합금을 포함하고, 터치 검출을 위해 구성되는 라인 패턴을 제공하는 금속 층; 및
2개 또는 그 초과의 추가적인 층들
을 포함하고,
상기 2개 또는 그 초과의 추가적인 층들은,
인듐 갈륨 아연 산화물(IGZO) 층 또는 인듐 아연 산화물(IZO) 층; 및
몰리브덴 또는 몰리브덴 합금을 포함하는 제 1 층
을 포함하고,
상기 2개 또는 그 초과의 추가적인 층들은, 상기 금속 층의 구조가 인간의 눈에 대해 실질적으로 비가시적(invisible)이도록, 상기 금속 층을 흑화(blacken)시키도록 구성되는,
층 시스템.
A layer system adapted for use in a touch screen panel,
At least one layer stack having three or more layers structured in the same structuring process,
/ RTI >
The three or more layers may be < RTI ID = 0.0 >
A metal layer comprising aluminum or an aluminum alloy and providing a line pattern configured for touch detection; And
Two or more additional layers
/ RTI >
The two or more additional layers,
An indium gallium zinc oxide (IGZO) layer or an indium zinc oxide (IZO) layer; And
A first layer comprising a molybdenum or molybdenum alloy
/ RTI >
Wherein the two or more additional layers are configured to blacken the metal layer such that the structure of the metal layer is substantially invisible to the human eye.
Layer system.
삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 제 1 층은 상기 금속 층 상에 또는 위에 제공되고, 또는 상기 IGZO 층 또는 상기 IZO 층은 상기 제 1 층 상에 또는 위에 제공되는,
층 시스템.
The method according to claim 1,
Wherein the first layer is provided on or above the metal layer, or the IGZO layer or the IZO layer is provided on or above the first layer,
Layer system.
제 1 항에 있어서,
상기 제 1 층은 MoOx 층, (Mo-합금)Ox 층, MoOxNx 층, (Mo-합금)OxNx 층, MoNbOx 층, 및 MoNb 층을 포함하는 그룹으로부터 선택되는,
층 시스템.
The method according to claim 1,
Wherein the first layer is selected from the group consisting of a MoO x layer, a (Mo-alloy) O x layer, a MoO x N x layer, a (Mo- alloy) O x N x layer, a MoNbO x layer,
Layer system.
제 1 항에 있어서,
몰리브덴 또는 몰리브덴 합금을 포함하는 제 2 층; 및
몰리브덴 또는 몰리브덴 합금을 포함하는 제 3 층
중 적어도 하나를 더 포함하는,
층 시스템.
The method according to claim 1,
A second layer comprising a molybdenum or molybdenum alloy; And
A third layer comprising a molybdenum or molybdenum alloy
≪ / RTI >
Layer system.
제 5 항에 있어서,
상기 제 2 층은 상기 금속 층 상에 또는 위에 제공되는,
층 시스템.
6. The method of claim 5,
Said second layer being provided on or on said metal layer,
Layer system.
제 5 항에 있어서,
상기 제 3 층은 상기 금속 층 상에 또는 위에 제공되는,
층 시스템.
6. The method of claim 5,
Said third layer being provided on or on said metal layer,
Layer system.
제 1 항 및 제 3항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
하나 또는 그 초과의 제 1 라인들을 갖는 제 1 라인 패턴 또는 하나 또는 그 초과의 제 2 라인들을 갖는 제 2 라인 패턴 중 적어도 하나를 포함하며, 상기 제 1 라인 패턴 또는 상기 제 2 라인 패턴 중 적어도 하나는 터치 검출을 위해 구성되는,
층 시스템.
8. The method according to any one of claims 1 to 7,
At least one of a first line pattern having one or more first lines or a second line pattern having one or more second lines, wherein at least one of the first line pattern or the second line pattern Which is configured for touch detection,
Layer system.
제 8 항에 있어서,
상기 하나 또는 그 초과의 제 1 라인들이 상기 적어도 하나의 층 스택에 의해 제공되거나, 또는 상기 하나 또는 그 초과의 제 2 라인들이 투명한 전도성 산화물에 의해 제공되거나, 또는
상기 하나 또는 그 초과의 제 2 라인들이 상기 적어도 하나의 층 스택에 의해 제공되거나, 또는 상기 하나 또는 그 초과의 제 1 라인들이 상기 투명한 전도성 산화물에 의해 제공되는,
층 시스템.
9. The method of claim 8,
Wherein the one or more first lines are provided by the at least one layer stack or the one or more second lines are provided by a transparent conductive oxide,
Wherein the one or more second lines are provided by the at least one layer stack or the one or more first lines are provided by the transparent conductive oxide,
Layer system.
제 8 항에 있어서,
상기 적어도 하나의 층 스택은 제 1 층 스택 및 제 2 층 스택을 포함하며, 상기 제 1 라인 패턴의 상기 하나 또는 그 초과의 제 1 라인들은 상기 제 1 층 스택에 의해 제공되고, 상기 제 2 라인 패턴의 상기 하나 또는 그 초과의 제 2 라인들은 상기 제 2 층 스택에 의해 제공되는,
층 시스템.
9. The method of claim 8,
Wherein the at least one layer stack comprises a first layer stack and a second layer stack, wherein the one or more first lines of the first line pattern are provided by the first layer stack, Said one or more second lines of the pattern being provided by said second layer stack,
Layer system.
제 10 항에 있어서,
적어도 하나의 기판을 더 포함하며,
상기 적어도 하나의 기판은 제 1 측 및 제 2 측을 갖고,
상기 제 1 층 스택이 상기 제 1 측 위에 제공되고, 상기 제 2 층 스택이 상기 제 2 측 위에 제공되거나, 또는
상기 제 1 층 스택 및 상기 제 2 층 스택이 상기 제 1 측 위에 제공되는,
층 시스템.
11. The method of claim 10,
Further comprising at least one substrate,
The at least one substrate having a first side and a second side,
Wherein the first layer stack is provided on the first side, the second layer stack is provided on the second side, or
Wherein the first layer stack and the second layer stack are provided on the first side,
Layer system.
제 8 항에 있어서,
편광 층 ― 상기 제 1 라인 패턴의 상기 하나 또는 그 초과의 제 1 라인들, 또는 상기 제 2 라인 패턴의 상기 하나 또는 그 초과의 제 2 라인들이 상기 편광 층에 매립됨(embedded) ―, 및
컬러 필터 매트릭스(color filter matrix) ― 상기 제 1 라인 패턴의 상기 하나 또는 그 초과의 제 1 라인들, 또는 상기 제 2 라인 패턴의 상기 하나 또는 그 초과의 제 2 라인들이 상기 컬러 필터 매트릭스에 매립됨 ―
중 적어도 하나를 더 포함하는,
층 시스템.
9. The method of claim 8,
The polarizing layer - the one or more first lines of the first line pattern, or the one or more second lines of the second line pattern are embedded in the polarizing layer; and
A color filter matrix, wherein the one or more first lines of the first line pattern, or the one or more second lines of the second line pattern are embedded in the color filter matrix -
≪ / RTI >
Layer system.
터치 스크린 패널로서,
스크린 디바이스; 및
상기 스크린 디바이스 위의 제 1 항에 기재된 층 시스템
을 포함하는,
터치 스크린 패널.
As a touch screen panel,
Screen devices; And
The layer system of claim 1,
/ RTI >
Touch screen panel.
터치 스크린 패널에서 사용하도록 적응된 층 시스템을 제조하기 위한 방법으로서,
기판 위에 알루미늄 또는 알루미늄 합금을 포함하는 금속 층을 제공하는 단계;
상기 금속 층 위에 제 1 층을 제공하는 단계 ― 상기 제 1 층은 몰리브덴 또는 몰리브덴 합금을 포함함 ―;
상기 제 1 층 위에 인듐 갈륨 아연 산화물(IGZO) 층 또는 인듐 아연 산화물(IZO) 층을 제공하는 단계; 및
상기 금속 층, 상기 제 1 층, 및 상기 IGZO 층 또는 상기 IZO 층을 구조화하는 단계를 포함하고,
상기 금속층은 터치 검출을 위해 구성되는 라인 패턴을 제공하며, 상기 제 1 층, 및 상기 IGZO 층 또는 상기 IZO 층은 상기 금속 층의 구조가 인간의 눈에 대해 실질적으로 비가시적이도록, 상기 금속 층을 흑화시키도록 구성되는,
층 시스템을 제조하기 위한 방법.
A method for fabricating a layer system adapted for use in a touch screen panel,
Providing a metal layer over the substrate comprising aluminum or an aluminum alloy;
Providing a first layer over the metal layer, the first layer comprising a molybdenum or molybdenum alloy;
Providing an indium gallium zinc oxide (IGZO) layer or an indium zinc oxide (IZO) layer over the first layer; And
Structuring the metal layer, the first layer, and the IGZO layer or the IZO layer,
Wherein the metal layer provides a line pattern configured for touch detection, wherein the first layer, and the IGZO layer or the IZO layer are formed such that the structure of the metal layer is substantially invisible to the human eye, And a black-
Layer system.
제 14 항에 있어서,
상기 금속 층, 상기 제 1 층, 및 상기 IGZO 층 또는 상기 IZO 층을 구조화하는 단계는 동일한 구조화 프로세스에서 실시되는,
층 시스템을 제조하기 위한 방법.
15. The method of claim 14,
Wherein the step of structuring the metal layer, the first layer, and the IGZO layer or the IZO layer is performed in the same structuring process,
Layer system.
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