KR101943707B1 - 감광성 도전 페이스트 조성물 및 이를 이용하여 제조된 터치 스크린 패널 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 도전성 미립자, 아크릴계 공중합체, 광중합성 모노머, 광중합개시제 및 용제를 포함하고, 상기 아크릴계 공중합체가 하기 화학식 1로 표시되는 반복단위, 하기 화학식 2로 표시되는 반복단위 및 하기 화학식 3으로 표시되는 반복단위를 포함하는 것인 감광성 도전 페이스트 조성물 및 이를 이용하여 제조된 터치 스크린 패널에 관한 것이다.
[화학식 1]
Figure 112016082950566-pat00019

상기 화학식 1에서 R1은 수소 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이다.
[화학식 2]
Figure 112016082950566-pat00020

상기 화학식 2에서, 상기 A 및 B는 각각 독립적으로 단일 결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 알케닐렌기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 알키닐렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로 아릴렌기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로 고리기 또는 이들의 조합이고, 상기 R2는 수소 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이다.
[화학식 3]
Figure 112016082950566-pat00021

상기 화학식 3에서, X는 수소 원자, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, 아민기, 아미노기, 히드록시기, 카르복시기, 에스테르기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 알키닐기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로 고리기 또는 이들의 조합이다.

Description

감광성 도전 페이스트 조성물 및 이를 이용하여 제조된 터치 스크린 패널{PHOTOSENSITIVE CONDUCTIVE PASTE COMPOSITION AND TOUCH SCREEN PANEL PREPARED BY USING THE SAME}
본 발명은 감광성 도전 페이스트 조성물 및 이를 이용하여 제조된 터치 스크린 패널에 관한 것이다. 보다 구체적으로는 상온저장안정성이 우수하고, 경시변화특성이 개선된 감광성 도전 페이스트 조성물 및 이를 이용하여 제조된 터치 스크린 패널에 관한 것이다.
터치스크린패널(Touch Screen Panel)은 스크린에 사용자가 손가락이나 펜 등으로 화면을 누르면, 접촉된 위치를 인지하여 시스템에 전달하는 입력장치이다. 대표적인 터치스크린패널로 정전용량(靜電容量)방식의 터치스크린패널을 들 수 있다. 정전용량 방식의 터치스크린패널은 플라스틱 필름 또는 유리 등으로 이루어진 기재의 일면에 도전성 페이스트를 패터닝하여 투명 전극층을 형성한 다음, 일정량의 전류를 흐르게 하고, 손가락이나 펜 등이 터치스크린패널의 표면을 터치할 때 발생하는 미세한 정전용량의 변화를 감지하여 터치된 위치를 계산하는 방식이다.
종래에는 투명전극층을 형성하기 위한 도전성 페이스트의 패터닝 방법으로 스크린 인쇄 또는 그라비어 오프셋 인쇄법이 주로 사용되었다. 그러나, 스크린 인쇄의 경우, 전극 선폭을 줄이는데 한계가 있으며, 그라비어 오프셋 인쇄법의 경우 기재가 유리인 경우에만 적용이 가능하다는 문제점이 있었다. 또한, 상기 방법들의 경우, 인쇄 매수가 증가할 수록 전극 패턴의 선명도(sharpness)가 떨어지고, 저항치의 변화가 심하게 된다는 문제점이 있다.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위해, 포토레지스트 공정을 적용하여 투명 전극층을 형성하는 방안이 개발되고 있으며, 이를 위해 감광성을 갖는 도전성 페이스트 조성물이 개발되고 있다. 감광성 도전 페이스트 조성물을 이용하여 전극층을 형성할 경우, 스크린 인쇄법이나 그라비어 오프셋 인쇄법에 비해 미세한 선폭을 구현할 수 있을 뿐 아니라, 연속하여 패턴을 형성하여도 패턴의 선명도나 저항치의 불균일 문제가 발생하지 않는다는 장점이 있다.
한국공개특허 제2014-0094030호에는 도전성 입자, 감광성 성분, 광중합개시제 및 에폭시 수지를 포함하는 감광성 도전 페이스트가 개시되어 있다. 이때 상기 감광성 성분으로는 카르복시산 등의 불포화산을 모노머로 사용하여 얻어진 아크릴 폴리머 중의 불포화산 일부와 글리시딜(메타)아크릴산 등을 부가 반응시켜 얻어지는 알칼리 가용성 폴리머가 사용될 수 있다.
그러나, 상기와 같이 아크릴 폴리머와 글리시딜 (메타)아크릴산을 부가반응시켜 제조된 폴리머를 사용할 경우, 미반응 글리시딜 (메타)아크릴산 및 반응에 사용된 촉매가 페이스트 내에 잔존하여 시간이 지남에 따라 점도가 변화되는 점도 경시 특성이 발생하고 되고, 이로 인해 인쇄성, 알카리 현상성, 기재와의 부착성 등이 저하된다는 문제점이 있다. 또한 상온에서 경시 변화가 잘 일어나기 때문에 냉동 보관을 하여야 하고, 상온에서 일정 시간 이상 사용될 경우, 경시 변화 현상으로 인해 페이스트를 폐기하여야 하는 사례가 빈번하게 발생하고 있다.
따라서, 경시변화 특성이 개선된 감광성 도전 페이스트 조성물의 개발이 요구되고 있다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 상온저장안정성이 우수하고, 경시변화특성이 개선된 감광성 도전 페이스트 조성물 및 이를 이용하여 제조된 터치 스크린 패널을 제공하고자 한다.
일 측면에서, 본 발명은 도전성 미립자, 아크릴계 공중합체, 광중합성 모노머, 광중합개시제 및 용제를 포함하고, 상기 아크릴계 공중합체가 하기 화학식 1로 표시되는 반복단위, 하기 화학식 2로 표시되는 반복단위 및 하기 화학식 3으로 표시되는 반복단위를 포함하는 것인 감광성 도전 페이스트 조성물을 제공한다.
[화학식 1]
Figure 112016082950566-pat00001
상기 화학식 1에서 R1은 수소 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이다.
[화학식 2]
Figure 112016082950566-pat00002
상기 화학식 2에서, 상기 A 및 B는 각각 독립적으로 단일 결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 알케닐렌기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 알키닐렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로 아릴렌기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로 고리기 또는 이들의 조합이고, 상기 R2는 수소 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이다.
[화학식 3]
Figure 112018087532154-pat00022
상기 화학식 3에서, X는 수소 원자, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, 아민기, 아미노기, 히드록시기, 카르복시기, 에스테르기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 알키닐기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로 고리기 또는 이들의 조합이다.
바람직하게는, 상기 화학식 2에서 A 및 B는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기일 수 있으며, 더 바람직하게는, 상기 화학식 2에서, A는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이고, B는 에스테르기로 치환된 C1 내지 C20 알킬렌기일 수 있다.
일 구체예에 따르면, 상기 아크릴계 공중합체는 하기 화학식 4로 표시되는 것일 수 있다.
[화학식 4]
Figure 112018087532154-pat00023
상기 화학식 4에서, A 및 B는 각각 독립적으로 단일 결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 알케닐렌기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 알키닐렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로 아릴렌기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로 고리기 또는 이들의 조합이며; 상기 R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로, 수소 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고; 상기 R5는 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로아릴기, 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로 고리기이고; 상기 a는 0.1 내지 0.3, 상기 b는 0.05 내지 0.1, 상기 c는 0.3 내지 0.75, 상기 d는 0.1 내지 0.3이다.
다른 구체예에 따르면, 상기 아크릴계 공중합체는 하기 화학식 5 또는 화학식 6으로 표시되는 것일 수 있다.
[화학식 5]
Figure 112018087532154-pat00024
[화학식 6]
Figure 112018087532154-pat00025
상기 화학식 5 및 화학식 6에서, 상기 a는 0.1 내지 0.3, 상기 b는 0.05 내지 0.1, 상기 c는 0.3 내지 0.75, 상기 d는 0.1 내지 0.3이다.
한편, 상기 아크릴계 공중합체는, 상기 화학식 1로 표시되는 반복단위, 상기 화학식 3으로 표시되는 반복단위 및 히드록시기 함유 (메트)아크릴계 모노머로부터 유도된 단위를 포함하는 중합체에 이소시아네이트기를 갖는 (메트)아크릴계 모노머를 부가 반응시켜 형성되는 것일 수 있다.
이때, 상기 히드록시기를 갖는 (메트)아크릴계 모노머는 2-히드록시에틸 아크릴레이트, 2-히드록시 에틸 메타아크릴레이트, 히드록시 부틸 아크릴레이트, 히드록시 포로필 (메타)아크릴레이트 및 비닐 카프로락탐 으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있고, 상기 이소시아네이트기를 갖는 (메트)아크릴계 모노머는 2-이소시아네이트 에틸 (메트)아크릴레이트, 트리메티롤프로판 트릴렌 디이소시아네이트, 3-이소시아네이토프로필 (메타)아크릴레이트로부터 선택되는 1종 이상일 수 있다.
또한, 상기 화학식 3으로 표시되는 반복단위는 알킬 (메트)아크릴레이트, 이소보닐 (메트)아크릴레이트, 아크릴로모르폴린, 스타이렌, 사이클로 헥실 메타크릴레이트, 메타크릴레이트, 글리시딜 메타 크릴레이트, n-부틸메타크릴레이트, iso-부틸메타크릴레이트, t-부틸메타크릴레이트, 비닐크로라이드, 비닐아세테이트 및 아크릴로니트릴로부터 선택되는 1종 이상의 모노머로부터 유도되는 것일 수 있다.
상기 감광성 도전 페이스트 조성물은 고형분 함량을 기준으로, 65 내지 70중량%의 도전성 미립자, 1 내지 15중량%의 아크릴계 공중합체, 1 내지 10중량%의 상기 광중합성 모노머, 및 0.1 내지 5중량%의 광중합개시제를 포함할 수 있으며, 필요에 따라, 커플링제, 계면 활성제, 분산제, 레벨링제, 광증감제, 또는 이들의 조합을 더 포함할 수 있다.
다른 측면에서, 본 발명은 상기한 본 발명에 따른 감광성 도전 페이스트 조성물을 이용하여 제조된 터치스크린 패널을 제공한다.
본 발명에 따른 감광성 도전 페이스트 조성물은 상온에서 경시 변화의 발생이 적어 상온 저장 안정성이 우수하고, 이로 인해 우수한 보관성, 저장성 및 재사용성을 구현할 수 있다.
이하, 본 발명에 대해 보다 구체적으로 설명한다.
본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "치환"이란 작용기 중 적어도 하나의 수소 원자가 할로겐 원자(F, Cl, Br, I), 히드록시기, C1 내지 C20 알콕시기, 니트로기, 시아노기, 아민기, 이미노기, 아지도기, 아미디노기, 히드라지노기, 히드라조노기, 카르보닐기, 카르바밀기, 티올기, 에스테르기, 에테르기, 카르복실기, 술폰산기, C1 내지 C20 알킬기, C2 내지 C20 알케닐기, C2 내지 C20 알키닐기, C6 내지 C30 아릴기, C3 내지 C20 사이클로알킬기, C3 내지 C20 사이클로알케닐기, C3 내지 C20 사이클로알키닐기, C2 내지 C20 헤테로사이클로알킬기, C2 내지 C20 헤테로사이클로알케닐기, C2 내지 C20 헤테로사이클로알키닐기, C3 내지 C30 헤테로아릴기, 또는 이들의 조합의 치환기로 치환된 것을 의미한다.
또한, 본 명세서에서 "헤테로"는 화학식 내에 N, O, S 및 P 중 적어도 하나의 원자가 적어도 하나 이상 포함된 것을 의미한다.
또한, 본 명세서에서, "(메트)아크릴"은 메타크릴 및 아크릴을 의미한다.
또한, 본 명세서에서 *는 결합 사이트(bonding site)를 의미한다.
일 구체예에 따르면, 본 발명의 감광성 도전 페이스트 조성물은 (A) 도전성 미립자, (B) 아크릴계 공중합체, (C) 광중합성 모노머, (D) 광중합개시제 및 (E) 용제를 포함한다.
이하, 본 발명의 감광성 도전 페이스트 조성물의 각 성분에 대해 구체적으로 설명한다.
(A) 도전성 미립자
상기 도전성 미립자(A)는 전기 전도성을 부여하기 위한 것으로, 다양한 금속 미립자들, 예를 들면, Ag, Au, Cu, Pt, Pb, Sn, Ni, Al, W, Mi, Cr, Ti, In, 이들의 합금, 이들의 산화물 또는 이들의 혼합물 등이 사용될 수 있다. 도전성의 관점에서, 이들 중에서도 Ag, Cu, Au, 인듐주석산화물(ITO) 등이 바람직하며, Ag 및 인듐주석산화물(ITO)의 혼합물이 특히 바람직하다.
상기 도전성 미립자의 체적 평균 입자 지름은 0.1 ~ 10㎛ 정도일 수 있으며, 바람직하게는 1 ~ 5㎛ 정도일 수 있다. 상기 수치 범위에서, 전극층 형성 후 우수한 저항 특성을 나타내며, 미세 패턴 형성이 용이하다.
상기 도전성 미립자의 함량은 감광성 도전 페이스트 조성물의 고형분 함량을 기준으로 50중량% 내지 80중량%, 바람직하게는 60중량% 내지 80중량%, 더 바람직하게는 65중량% 내지 75중량%일 수 있다. 도전성 미립자의 함량이 상기 수치 범위를 만족할 경우, 전극층 형성 후 우수한 저항 특성을 나타낼 수 있다.
(B) 아크릴계 공중합체
상기 아크릴계 공중합체(B)는 감광성을 부여하기 위한 것으로, 본 발명에서 사용되는 아크릴계 공중합체는 하기 화학식 1로 표시되는 반복단위, 하기 화학식 2로 표시되는 반복단위 및 하기 화학식 3으로 표시되는 반복단위를 포함한다.
[화학식 1]
Figure 112016082950566-pat00007
상기 화학식 1에서 R1은 수소 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이며, 바람직하게는 C1 내지 C20 알킬기, 더 바람직하게는 메틸기이다.
상기 화학식 1로 표시되는 반복단위는 아크릴계 공중합체에 알칼리 가용성을 부여하기 위한 것으로, 예를 들면, 아크릴산, 메타크릴산 등으로부터 유도된 단위일 수 있다.
[화학식 2]
Figure 112016082950566-pat00008
상기 화학식 2에서, 상기 A 및 B는 각각 독립적으로 단일 결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 알케닐렌기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 알키닐렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로 아릴렌기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로 고리기 또는 이들의 조합이고, 상기 R2는 수소 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이다. 바람직하게는, 상기 화학식 2에서 A 및 B는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기일 수 있으며, 더 바람직하게는, 상기 화학식 2에서, A는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이고, B는 에스테르기로 치환된 C1 내지 C20 알킬렌기일 수 있다.
상기 화학식 2로 표시되는 반복단위는 아크릴계 공중합체(B)의 경시 변화를 억제하고, 상온 저장 안정성을 향상시키기 위한 것으로, 이로써 한정되는 것은 아니나, 예를 들면, 히드록시 함유 모노머로부터 유래된 단위와 이소시아네이트 함유 모노머가 반응하여 형성되는 것일 수 있다.
이때, 상기 히드록시기 함유 모노머로는, 예를 들면, 2-히드록시에틸 아크릴레이트, 2-하이드록시 에틸 메타아크릴레이트, 하이드록시 부틸 아크릴레이트, 하이드록시 포로필 (메타)아크릴레이트, 비닐 카프로락탐 또는 이들의 조합이 사용될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
한편, 상기 이소시아네이트기를 갖는 (메트)아크릴계 모노머로는, 예를 들면, 2-이소시아네이트 에틸 (메트)아크릴레이트, 트리메티롤프로판 트릴렌 디이소시아네이트, 3-이소시아네이토프로필 (메타)아크릴레이트 또는 이들의 조합 등이 사용될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
[화학식 3]
Figure 112018087532154-pat00026
상기 화학식 3에서, X는 수소 원자, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, 아민기, 아미노기, 히드록시기, 카르복시기, 에스테르기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 알케닐기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 알키닐기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로 고리기 또는 이들의 조합이다. 바람직하게는, 상기 X는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로아릴기 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로 고리기일 수 있다.
상기 화학식 3으로 표시되는 반복단위는 감광성 도전 페이스트 조성물의 감광성, 점도 등의 물성을 개선하기 위한 것으로, C1 내지 C20 알킬 (메트)아크릴레이트, 이소보닐 (메트)아크릴레이트, 아크릴로모르폴린, 스타이렌, 사이클로 헥실 메타크릴레이트, 메타크릴레이트, 글리시딜 메타 크릴레이트, n-부틸메타크릴레이트, iso-부틸메타크릴레이트, t-부틸메타크릴레이트, 비닐크로라이드, 비닐아세테이트 및 아크릴로니트릴로부터 선택되는 1종 이상의 모노머로부터 유도되는 것일 수 있다.
상기와 같이 화학식 1 ~ 3의 반복단위를 갖는 아크릴계 공중합체를 사용할 경우, 감광성 도전 페이스트 조성물의 상온 저장성 및 경시 특성이 개선되는 효과가 있다.
일 구체예에 따르면, 상기 아크릴계 공중합체는 하기 화학식 4로 표시되는 것일 수 있다.
[화학식 4]
Figure 112018087532154-pat00027
상기 화학식 4에서, A 및 B는 각각 독립적으로 단일 결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 알케닐렌기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 알키닐렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로 아릴렌기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로 고리기 또는 이들의 조합일 수 있다. 바람직하게는, 상기 A 및 B는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기일 수 있으며, 더 바람직하게는, 상기 화학식 2에서, A는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이고, B는 에스테르기로 치환된 C1 내지 C20 알킬렌기일 수 있다.
또한, 상기 R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로, 수소 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고, 상기 R5는 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로아릴기, 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로 고리기일 수 있다.
또한, 상기 a는 0.1 내지 0.3이고, 상기 b는 0.05 내지 0.1이며, 상기 c는 0.3 내지 0.75, 상기 d는 0.1 내지 0.3이다. a가 0.1 미만인 경우에는 현상 후 패턴의 직진성 및 잔사특성이 나빠질 수 있으며, 0.3을 초과하는 경우에는 과현상 특성으로 인해 언더컷이 커질 수 있고, 패턴의 패임 현상이 심화될 수 있다. b가 0.05 미만인 경우에는 광경화 특성이 나빠져 현상 시 패턴이 불균일하게 될 수 있고, 0.1을 초과하는 경우에는 과노광 특성이 발생되어 현상 후 패턴 번짐이 발생할 수 있다. c가 0.3 미만인 경우에는 기재와의 접착력이 나빠질 수 있으며, 0.75를 초과하는 경우에는 현상특성이 떨어질 수 있다. d의 함량이 0.1 미만인 경우에는 건조특성이 나빠지며, 0.3을 초과하는 경우에는 건조특성이 빠르게 되는 문제가 발생하게 된다.
다른 구체예에 따르면, 상기 아크릴계 공중합체는 하기 화학식 5 또는 화학식 6으로 표시되는 것일 수 있다.
[화학식 5]
Figure 112018087532154-pat00028
[화학식 6]
Figure 112018087532154-pat00029
상기 화학식 5 및 화학식 6에서, 상기 a는 0.1 내지 0.3, 상기 b는 0.05 내지 0.1, 상기 c는 0.3 내지 0.75, 상기 d는 0.1 내지 0.3이다.
상기와 같은 본 발명의 아크릴계 공중합체는, 상기 화학식 1로 표시되는 반복단위, 상기 화학식 3으로 표시되는 반복단위 및 히드록시기 함유 (메트)아크릴계 모노머로부터 유도된 단위를 포함하는 중합체에 이소시아네이트기를 갖는 (메트)아크릴계 모노머를 부가 반응시켜 형성될 수 있다.
상기 아크릴계 공중합체의 함량은 감광성 도전 페이스트 조성물의 고형분 함량을 기준으로 1 내지 15중량%, 바람직하게는 4 내지 12중량%, 더 바람직하게는 6 내지 10중량%일 수 있다. 상기 범위에서 전기적 저항특성이 양호한 효과가 있다.
(C) 광중합성 모노머
상기 광중합성 모노머(C)는 패턴 형성 공정에서 노광시 충분한 중합을 일어날 수 있도록 하기 위한 것이다. 상기 광중합성 모노머(C)로는 적어도 1개의 에틸렌성 불포화 이중결합을 가지는 (메트)아크릴산의 일관능 또는 다관능 에스테르가 단독 또는 혼합하여 사용될 수 있다.
예를 들면, 상기 광중합성 모노머로는, 에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리에틸에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올 디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 디(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A 디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 노볼락에폭시 (메타)아크릴레이트, 카르복실기를 갖는 디펜타에리트리톨 펜타(메타)아크릴레이트 유도체, 에틸렌옥사이드화글리세린트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 프로필렌옥사이드화글리세린트리(메타)아크릴레이트 등으로부터 1종 이상을 선택 또는 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 광중합성 모노머의 함량은, 감광성 도전 페이스트 조성물의 고형분 함량을 기준으로, 1 내지 10중량%, 바람직하게는 1 내지 8중량%, 더 바람직하게는 2 내지 6중량%일 수 있다. 광중합성 모노머의 함량이 상기 범위를 만족할 때 광경화 가교도 특성이 우수하면서, 알칼리 현상특성도 우수한 특성이 나타나는 효과가 있다.
(D) 광중합개시제
상기 광중합개시제는 감광성 수지 조성물에 일반적으로 사용되는　것으로서 예를 들어 트리아진계 화합물, 아세토페논계 화합물,　비이미다졸계 화합물,　벤조인계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티옥산톤계 화합물 및 옥심계 화합물 등으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 사용할 수 있으나, 반드시 이에 제한되는 것은 아니다.
상기 트리아진계 화합물의 구체적인 예를 들면, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(5-메틸퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리클로로-s-트리아진, 2-페닐-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-(3',4'-디메톡시 스티릴)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-(4'-메톡시 나프틸)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-(p-메톡시 페닐)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-(p-톨릴)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-비페닐-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 비스(트리클로로 메틸)-6-스티릴-s-트리아진, 2-(나프토 1-일)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시 나프토 1-일)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-4-트리클로로 메틸(피페로닐)-6-트리아진, 2-4-트리클로로 메틸(4'-메톡시 스티릴)-6-트리아진 등이 있고, 이 중에서, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진 또는 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-1,3,5-트리아진, 특히, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-1,3,5-트리아진을 사용할 수 있다. 　
상기 아세토페논계 화합물의 구체적인 예를 들면, 디에톡시아세토페논, 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 2-하이드록시-2-메틸-1-[4-(2-하이드록시에톡시)페닐]프로판-1-온, 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-(4-메틸벤질)-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-하이드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판-1-온 등을 들 수 있고, 이 중에서, 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온 또는 2-(4-메틸벤질)-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 특히, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온 또는 2-(4-메틸벤질)-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온을 사용할 수 있다.
상기 비이미다졸계 화합물로는, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(4-카르보에톡시페닐)비이미다졸, 2,2',-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(4-브로모페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(2,4-디클로로페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(m-메톡시페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,6-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2-니트로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸 및 2,2'-비스(2-메틸페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸가 있고, 이 중에서, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸 또는 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸이 사용될 수 있다.
상기 벤조인계 화합물로는 벤조인, 벤조인 메틸에테르, 벤조인 에틸에테르, 벤조인 이소프로필에테르, 벤조인 이소부틸에테르, 벤질디메틸케탈　등이 있다. 　
상기 벤조페논계 화합물로는 벤조페논, 벤조일 안식향산, o-벤조일 안식향산 메틸, 4-페닐 벤조페논, 히드록시 벤조페논, 아크릴화 벤조페논, 3,3'-디메틸-2-메톡시 벤조페논, 4,4'-디클로로 벤조페논, 4,4'-비스(디메틸아미노) 벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노) 벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술파이드, 3,3',4,4'-테트라(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논 및 2,4,6-트리메틸벤조페논　등이 있다.
상기 티오크산톤계 화합물로는 티오크산톤, 2-메틸 티오크산톤, 2-이소프로필 티오크산톤, 4-이소프로필 티오크산톤, 2,4-디에틸 티오크산톤, 2,4-디이소프로필 티오크산톤, 2-클로로 티오크산톤, 1-클로로-4-프로폭시티옥산톤　등이 있다.
상기 옥심계 화합물로는 O-아실옥심계 화합물, 1,2-옥탄디온, 2-(O-벤조일옥심)-1-[4-(페닐티오)페닐]-1,2-옥탄디온, 1-(O-아세틸옥심)-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]에탄온, 0-에톡시카르보닐-α-옥시아미노-1-페닐프로판-1-온 등이 있다. 　상기 O-아실옥심계 화합물의 구체 예로서는, 1-(4-페닐술파닐페닐)-부탄-1,2-디온2-옥심-O-벤조에이트, 1-(4-페닐술파닐페닐)-옥탄-1,2-디온2-옥심-O-벤조에이트, 1-(4-페닐술파닐페닐)-옥탄-1-온옥심-O-아세테이트 및 1-(4-페닐술파닐페닐)-부탄-1-온옥심-0-아세테이트가 있다. 　
상기 열거한 화합물 이외에도 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 10-부틸-2-클로로아크리돈, 2-에틸안트라퀴논, 벤질, 9,10-페난스렌퀴논, 캄파퀴논, 페닐글리옥실산메틸, 티타노센화합물 등을 사용할 수도 있다.
또한, 상기 광중합개시제는 빛을 흡수하여 들뜬 상태가 된 후, 에너지를 전달함으로써 화학반응을 일으키는 광 증감제와 병용하여 사용될 수도 있다. 　
상기 광중합개시제의 함량은 감광성 도전 페이스트 조성물의 고형분 함량을 기준으로 0.1 내지 5중량%, 바람직하게는 0.1 내지 4중량%, 더 바람직하게는 0.5 내지 3중량%일 수 있다. 광중합개시제의 함량이 상기 범위를 만족할 경우, 패턴 형성 공정에서 중합이 충분히 일어나고, 미반응 개시제로 인한 부작용이 발생하지 않는다.
(E) 용제
상기 용제는 상기 아크릴계 공중합체 및 다른 구성 성분 물질들과 상용성을 갖는 것이며 되고, 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 상기 용제로는 메탄올, 에탄올 등의 알코올류; 디클로로에틸 에테르, n-부틸 에테르, 디이소아밀 에테르, 메틸페닐 에테르, 테트라히드로퓨란 등의 에테르류; 에틸렌 글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌 글리콜 모노에틸에테르 등의 글리콜 에테르류; 메틸 셀로솔브 아세테이트, 에틸 셀로솔브 아세테이트, 디에틸 셀로솔브 아세테이트 등의 셀로솔브 아세테이트류; 메틸에틸 카르비톨, 디에틸 카르비톨, 디에틸렌 글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌 글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 메틸에틸에테르, 디에틸렌 글리콜 디에틸에테르 등의 카르비톨류; 프로필렌 글리콜 메틸에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 프로필에테르 아세테이트 등의 프로필렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화 수소류; 메틸에틸케톤, 사이클로헥사논, 4-히드록시-4-메틸-2-펜타논, 메틸-n-프로필케톤, 메틸-n-부틸케톤, 메틸-n-아밀케톤, 2-헵타논 등의 케톤류; 초산 에틸, 초산-n-부틸, 초산 이소부틸 등의 포화 지방족 모노카르복실산 알킬 에스테르류; 젖산 메틸, 젖산 에틸 등의 젖산 에스테르류; 옥시 초산 메틸, 옥시 초산 에틸, 옥시 초산 부틸 등의 옥시 초산 알킬 에스테르류; 메톡시 초산 메틸, 메톡시 초산 에틸, 메톡시 초산 부틸, 에톡시 초산 메틸, 에톡시 초산 에틸 등의 알콕시 초산 알킬 에스테르류; 3-옥시 프로피온산 메틸, 3-옥시 프로피온산 에틸 등의 3-옥시 프로피온산 알킬에스테르류; 3-메톡시 프로피온산 메틸, 3-메톡시 프로피온산 에틸, 3-에톡시 프로피온산 에틸, 3-에톡시 프로피온산 메틸 등의 3-알콕시 프로피온산 알킬 에스테르류; 2-옥시 프로피온산 메틸, 2-옥시 프로피온산 에틸, 2-옥시 프로피온산 프로필 등의 2-옥시 프로피온산 알킬 에스테르류; 2-메톡시 프로피온산 메틸, 2-메톡시 프로피온산 에틸, 2-에톡시 프로피온산 에틸, 2-에톡시 프로피온산 메틸 등의 2-알콕시 프로피온산 알킬 에스테르류; 2-옥시-2-메틸 프로피온산 메틸, 2-옥시-2-메틸 프로피온산 에틸 등의 2-옥시-2-메틸 프로피온산 에스테르류, 2-메톡시-2-메틸 프로피온산 메틸, 2-에톡시-2-메틸 프로피온산 에틸 등의 2-알콕시-2-메틸 프로피온산 알킬류의 모노옥시 모노카르복실산 알킬 에스테르류; 2-히드록시 프로피온산 에틸, 2-히드록시-2-메틸 프로피온산 에틸, 히드록시 초산 에틸, 2-히드록시-3-메틸 부탄산 메틸 등의 에스테르류; 피루빈산 에틸 등의 케톤산 에스테르류 등이 사용될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 용제는 상기 감광성 도전 페이스트 조성물 총량에 대하여 다른 성분을 투입하고 나서, 용해도와 점도를 적절히 조절하고, 제품 적용 시 물리적, 광학적 특성에 유리하도록 잔부량으로 사용할 수 있다. 　
(F) 첨가제
상기 감광성 도전 페이스트 조성물은 필요에 따라, 커플링제, 계면 활성제, 분산제, 레벨링제, 또는 이들의 조합을 더 포함할 수 있다.상기 첨가제는 감광성 도전 페이스트 조성물의 고형분 함량을 기준으로 0.1 내지 5중량%로 포함될 수 있다.
상기와 같은 본 발명의 감광성 도전 페이스트 조성물은 터치 스크린 패널의 전극층을 형성하는데 유용하게 사용될 수 있다. 구체적으로는, 기판 상에 상기한 본 발명의 감광성 도전 페이스트 조성물을 도포하고, 70 내지 110℃로 가열하여 용제를 휘발시켜 건조한다. 그런 다음, 패턴 형성용 마스크를 통해 상기 감광성 도전 페이스트 조성물을 노광하고, 현상하여 기판 상에 패턴을 형성한다. 그런 다음, 상기 패턴을 경화시켜 터치 스크린 패널의 전극층을 형성할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
이때, 상기 기판로는, 당해 기술 분야에서 터치 스크린 패널용 기판으로 사용되는 기판들이 사용될 수 있으며, 특별히 제한되지 않는다. 예를 들면, 상기 기판으로는, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리이미드 필름, 폴리에스테르 필름, 아라미드 필름, 에폭시 수지 기판, 폴리에테르이미드 수지 기판, 폴리에테르케톤 수지 기판, 폴리설폰계 수지 기판, 유리 기판 등이 사용될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예 및 비교예를 통하여 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하고자 한다. 그러나, 하기의 실시예들은 단지 설명의 목적을 위한 것이며, 본 발명을 제한하는 것은 아니다.
제조예 1 - 아크릴계 공중합체 A
2L의 4구 플라스크에 유기용매인 에틸 카비톨 아세테이트(ethyl carbitol acetate, 삼전화학) 400g을 먼저 투입하고, 한쪽에는 환류냉각기를 설치하였고, 다른 한쪽에는 온도계를, 또 다른 한쪽에는 드롭핑 판넬을 설치하였다. 플라스크 용액 온도를 환류온도(90~100℃)로 올린 후, 이소보닐아크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 메타아크릴산, 하이드록시에틸아크릴레이트 혼합액 400g, 아조비스이소부틸로나이트릴 9g 혼합액을 제조한 다음, 혼합액을 드롭핑 판넬을 사용하여 90~100℃에서 3시간 동안 적하하였다. 상기 적하 시의 교반속도는 250rpm으로 하였으며, 적하 종료 후 80~85℃에서 온도에서 4시간 동안 반응물을 숙성시킨 다음, 에틸 카비톨 아세테이트 100g, 아조비스이소부틸로나이트릴 0.2g을 20분 동안 투입하고, 4시간 동안 유지한 후 에틸 카비톨 아세테이트 100g 투입 후 고형분 측정을 하고 반응을 중지시켜 아크릴 공중합체 I을 제조하였다. 중합 후의 고형분의 함량을 40%로 보정하였다.
2L의 4구 플라스크에 상기와 같이 제조된 아크릴 공중합체 I을 투입하고, 여기에 2-이소시아네이트 에틸 메타크릴레이트(상품명: Karenz MOI, 昭和電工(日))를 상기 아크릴 공중합체 I의 고형분 대비 5wt%로 넣고 40~50℃로 8시간동안 반응시켜 2-이소시아네이트 에틸 메타크릴레이트 모노머의 이소시아네이트 기가 아크릴계 공중합체 I의 수산기와 반응하여 FT-IR상에서 없어짐을 반응의 종말점으로 하여, 고형분 42%, 중량평균 분자량 35,000인 아크릴계 공중합체 A를 제조하였다.
제조예 2 - 아크릴계 공중합체 B
이소보닐아크릴레이트 대신 아크릴로모르폴린을 사용한 점을 제외하고는, 제조예 1과 동일한 방법으로 고형분 42%, 중량평균 분자량 35,000인 아크릴계 공중합체 B를 제조하였다.
실시예 및 비교예
하기 표 1의 조성으로 각 성분을 혼합하여 감광성 수지 조성물을 제조하였다. 실시예 및 비교예에서 사용한 각 성분의 사양은 아래와 같다.
(A) 도전성 미립자
(a1) 평균입경 2㎛의 은 분말(4-8F, Dowa社)을 사용하였다.
(a2) 평균입경(D50) 10 내지 50nm 및 비표면적 30m2/g인 ITO분말(ITO Powder(Yellow), 나노신소재 社)을 사용하였다.
(B) 아크릴계 공중합체
(b1) 상기 제조예 1에 의해 제조된 아크릴계 공중합체 A를 사용하였다.
(b2) 상기 제조예 2에 의해 제조된 아크릴계 공중합체 B를 사용하였다.
(b3) 글리시딜 메타크릴레이트 부가 반응 구조의 아크릴계 공중합체인 PSA-1641(soltech社)(고형분 함량: 50%)를 사용하였다.
(C) 광개시제 : PBG-304(Changzhou Tronly New Electronic Materials 社)을 사용하였다.
(D) 광중합 모노머: TMPEOTA(soltech社)를 사용하였다.
(E) 용매: 텍사놀(soltech社)을 사용하였다.
(F) 첨가제: BYK3700(BYK社)을 사용하였다.
실시예 1 실시예 2 실시예 3 실시예 4 비교예 1 비교예 2
(A) (a1) 68 75 68 75 68 75
(a2) 1 1 1 1 1 1
(B) (b1) 26.2 19.2 - - - -
(b2) - - 26.2 19.2 - -
(b3) - - - - 26.2 19.2
(C) 0.3 0.3 0.3 0.3 0.3 0.3
(D) 2 2 2 2 2 2
(E) 2 2 2 2 2 2
(F) 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5
(단위: 중량%)
상기 실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 2에 의해 제조된 감광성 도전 페이스트 조성물의 물성을 하기 방법으로 측정하였다.
물성측정방법
(1) 접촉저항: 실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 2에 의해 제조된 감광성 도전 페이스트 조성물을 ITO필름 위에 스크린 인쇄 후 100℃ 오븐에서 10분간 건조하여 10㎛ 내지 100㎛까지 10㎛ 단위로 패턴이 형성된 포토마스크를 통해 UV 노광 후 알칼리 현상하여 오븐에서 140℃에서 60분간 경화를 진행하였다. 초기 접촉저항을 측정한 후, 85℃, 85%RH의 항온항습조에 투입하여 시간대 별로 접촉저항을 측정하여 저항변화율을 계산하였다.
(2) 상온 저장안정성: 차광 또는 자외선 차단공간에서 25℃±3℃ 오븐에 실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 2에 의해 제조된 감광성 도전 페이스트 조성물을 차광통에 보관하면서, 5일, 10일, 30일, 60일 상온점도 변화를 측정하여, 점도변화율이 초기 점도 측정값 대비 20%가 되는데 걸리는 일수로 상온저장안정성을 나타내었다. 점도 측정은 HBDV- Ⅱ Pro(Brookfield社) 를 이용하여, 23℃, #14 spindle, 120rpm 의 조건으로 3분 유지 후의 점도 값을 기준으로 하였다.
(3) 접착력: ITO코팅된 PET 필름(Nitto(日)에 실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 2에 의해 제조된 감광성 도전 페이스트 조성물을 인쇄한 후 컨벡션 오븐에서 100℃로 10분 건조 후 메탈 할라이드 램프에서 40mW, 20sec로 경화 후에 0.2wt% 탄산나트륨액으로 현상 후 140℃으로 1시간 경화 후 두께 3.5~4.5um의 코팅층을 얻은 후에 1mm간격으로 가로세로 100개의 구간을 만든다. 접착테이프를 100개의 구간을 덮을 수 있도록 한 후 2kg 하중의 압착 롤러를 이용하여 300mm/min의 속도로 1회 왕복시켜 압착하였다. 압착 후 30분 경과 후에 시험편의 접은 부분을 180°로 뒤집어 약 25mm를 벗긴 후, 시험판 아래쪽을 고정시키고, 평가 당겨서, 100개 구간에서의 손실된 영역의 수를 세어 접착력을 확인하였다.
실시예 1 실시예 2 실시예 3 실시예 4 비교예 1 비교예 2
접촉저항 상승률
(%)		 48hr 1.06 1.04 1.08 1.03 1.15 1.06
120hr 1.09 1.08 1.11 1.07 1.24 1.12
상온저장안정성
(日)		 60 70 60 70 5 8
접착력 100 95 100 94 93 73
상기 [표 2]에 나타난 바와 같이, 본 발명의 아크릴계 공중합체를 사용한 실시예 1 ~ 4의 조성물은 상온저장 안정성이 우수하고, 고온 고습 조건 하에서도 저항 상승률이 낮으며, PET 필름에 대한 접착성도 우수함을 확인할 수 있다.
이에 비해, 글리시딜 메타크릴레이트 부가 타입의 바인더를 사용한 비교예 1의 경우, 접촉 저항 상승률, 상온저장안정성 및 접착성이 모두 실시예 1 ~ 4에 비해 저하되었다. 또한, 비교예 2의 경우, 접촉저항 상승률은 양호하나, 상온저장 안정성 및 접착력이 떨어졌다.

Claims (12)

  1. 도전성 미립자, 아크릴계 공중합체, 광중합성 모노머, 광중합개시제 및 용제를 포함하고,
    상기 아크릴계 공중합체가 하기 화학식 5 또는 화학식 6으로 표시되는 것인 감광성 도전 페이스트 조성물.
    [화학식 5]
    Figure 112018087532154-pat00030

    [화학식 6]
    Figure 112018087532154-pat00031

    상기 화학식 5 및 화학식 6에서, 상기 a는 0.1 내지 0.3, 상기 b는 0.05 내지 0.1, 상기 c는 0.3 내지 0.75, 상기 d는 0.1 내지 0.3임.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 삭제
  8. 삭제
  9. 삭제
  10. 제1항에 있어서,
    상기 감광성 도전 페이스트 조성물은 고형분 함량을 기준으로, 65 내지 70중량%의 도전성 미립자, 1 내지 15중량%의 아크릴계 공중합체, 1 내지 10중량%의 상기 광중합성 모노머, 및 0.1 내지 5중량%의 광중합개시제를 포함하는 감광성 도전 페이스트 조성물.
  11. 제1항에 있어서,
    상기 감광성 도전 페이스트 조성물은 커플링제, 계면 활성제, 분산제, 레벨링제 또는 이들의 조합을 더 포함하는 것인 감광성 도전 페이스트 조성물.
  12. 제1항, 제10항 및 제11항 중 어느 한 항의 감광성 도전 페이스트 조성물을 이용하여 제조된 터치스크린 패널.
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