KR101926693B1 - Substrate processing apparatus - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판처리장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 기판에 마스크를 밀착시킨 상태에서 기판처리를 수행하는 기판처리장치에 관한 것이다.
본 발명은 밀폐된 내부공간을 형성하며 기판의 입출을 위한 하나 이상의 게이트가 형성된 챔버와; 상기 챔버에 설치되어 기판이 안착되는 기판안착부와; 상기 챔버에 설치되어 상기 게이트를 통하여 기판이 입출될 때 기판의 지지를 위하여 상기 기판안착부를 상하로 관통하여 승하강하도록 설치된 복수의 리프트핀들을 포함하는 기판리프팅부와; 상기 게이트를 통하여 기판이 입출될 때 상기 기판안착부에 안착된 기판에 밀착되는 하나 이상의 개구부가 형성된 마스크를 승강시키는 마스크승하강부와; 상기 챔버에 설치되어 상기 게이트를 통하여 도입된 기판과 마스크를 얼라인하는 얼라인부와; 상기 마스크의 상측에 설치되어 상기 얼라인부에 의하여 기판 및 마스크를 얼라인할 때 자력에 의하여 마스크의 처짐을 방지하는 마스크처짐방지부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치를 개시한다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a substrate processing apparatus, and more particularly, to a substrate processing apparatus that performs substrate processing while a mask is in close contact with a substrate.
The present invention provides a semiconductor device comprising: a chamber which forms a closed inner space and in which one or more gates are formed for entrance and exit of a substrate; A substrate mounting part installed in the chamber and on which a substrate is mounted; A substrate lifting unit installed in the chamber and including a plurality of lift pins installed vertically through the substrate seating unit to support the substrate when the substrate is input / output through the gate; A mask raising and lowering portion for raising and lowering a mask having at least one opening portion which is brought into close contact with a substrate placed on the substrate seating portion when the substrate is passed through the gate; An alignment part installed in the chamber and aligning the mask and the substrate introduced through the gate; And a mask deflection preventing portion provided on the mask to prevent deflection of the mask by magnetic force when aligning the substrate and the mask by the alignment portion.

Description

기판처리장치 {Substrate processing apparatus}[0001] Substrate processing apparatus [

본 발명은 기판처리장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 기판에 마스크를 밀착시킨 상태에서 기판처리를 수행하는 기판처리장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a substrate processing apparatus, and more particularly, to a substrate processing apparatus that performs substrate processing while a mask is in close contact with a substrate.

기판처리장치란 밀폐된 처리공간을 형성하는 챔버를 구비하여, 기판표면을 식각하거나 증착하는 등 기판처리를 수행하는 장치를 말한다.The substrate processing apparatus refers to an apparatus that includes a chamber for forming a closed processing space and performs substrate processing such as etching or vapor deposition of the substrate surface.

여기서 상기 기판처리장치에 의하여 처리되는 기판은 반도체용 웨이퍼, LCD패널용 유리기판, OLDE패널용 유리기판, 태양전지용 기판 등이 있다.Here, the substrate to be processed by the substrate processing apparatus may be a semiconductor wafer, a glass substrate for an LCD panel, a glass substrate for an OLDE panel, or a substrate for a solar cell.

그리고 기판처리의 종류에 따라서 기판은 마스크가 밀착된 후 기판처리가 수행될 수 있으며, 기판처리장치는 정밀한 기판처리를 위하여 마스크가 기판에 밀착되기 전에 마스크 및 기판의 정렬, 즉 얼라인과정을 수행한다.According to the type of the substrate processing, the substrate can be subjected to the substrate processing after the mask is adhered, and the substrate processing apparatus performs alignment and alignment of the mask and the substrate before the mask is adhered to the substrate for precise substrate processing do.

그런데 기판처리대상인 기판이 대형화되면서, 마스크 또한 대형화되어 기판 및 마스크의 지지구조에 따라서 처짐이 발생하고, 그 결과로 마스크 및 기판의 얼라인이 원활하지 못한 문제점이 있다.However, as the size of the substrate to be processed becomes larger, the size of the mask becomes larger, so that deflection occurs depending on the support structure of the substrate and the mask. As a result, alignment of the mask and the substrate is not smooth.

특히 기판의 경우 기판을 지지하는 리프트핀들의 수를 늘려 기판의 처짐을 완화시킬 수 있으나, 기판의 상측에 위치된 마스크는 기판을 관통하여 마스크를 지지하는 것이 불가한바 가장자리 부분에서만 지지되는 마스크의 처짐을 방지하는데 한계가 있어 마스크 및 기판의 얼라인에 대한 정밀도의 향상 및 신뢰성을 확보하는데 문제점이 있다.In particular, in the case of a substrate, the number of lift pins supporting the substrate can be increased to alleviate sagging of the substrate. However, since the mask positioned on the upper side of the substrate can not support the mask through the substrate, There is a problem in improving accuracy and reliability of mask and substrate alignment.

본 발명의 목적은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 마스크의 상측에서 자력에 의하여 마스크의 처짐을 방지하여 기판 및 마스크의 얼라인에 대한 정밀도 및 신뢰성을 향상시킬 수 있는 기판처리장치를 제공하는 데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus capable of improving the accuracy and reliability of aligning a substrate and a mask by preventing a mask from sagging by a magnetic force from above the mask have.

본 발명은 상기와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위하여 창출된 것으로서, 본 발명은 밀폐된 내부공간을 형성하며 기판의 입출을 위한 하나 이상의 게이트가 형성된 챔버와; 상기 챔버에 설치되어 기판이 안착되는 기판안착부와; 상기 챔버에 설치되어 상기 게이트를 통하여 기판이 입출될 때 기판의 지지를 위하여 상기 기판안착부를 상하로 관통하여 승하강하도록 설치된 복수의 리프트핀들을 포함하는 기판리프팅부와; 상기 게이트를 통하여 기판이 입출될 때 상기 기판안착부에 안착된 기판에 밀착되는 하나 이상의 개구부가 형성된 마스크를 승강시키는 마스크승하강부와; 상기 챔버에 설치되어 상기 게이트를 통하여 도입된 기판과 마스크를 얼라인하는 얼라인부와; 상기 마스크의 상측에 설치되어 상기 얼라인부에 의하여 기판 및 마스크를 얼라인할 때 자력에 의하여 마스크의 처짐을 방지하는 마스크처짐방지부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치를 개시한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to accomplish the above object of the present invention, and it is an object of the present invention to provide a plasma display panel in which a chamber having a closed inner space and having one or more gates for input / A substrate mounting part installed in the chamber and on which a substrate is mounted; A substrate lifting unit installed in the chamber and including a plurality of lift pins installed vertically through the substrate seating unit to support the substrate when the substrate is input / output through the gate; A mask raising and lowering portion for raising and lowering a mask having at least one opening portion which is brought into close contact with a substrate placed on the substrate seating portion when the substrate is passed through the gate; An alignment part installed in the chamber and aligning the mask and the substrate introduced through the gate; And a mask deflection preventing portion provided on the mask to prevent deflection of the mask by magnetic force when aligning the substrate and the mask by the alignment portion.

상기 마스크처짐방지부는, 하나 이상의 자력발생부재와, 상기 공정챔버에 설치되어 상기 자력발생부재를 지지하도록 상기 자력발생부재와 결합되는 본체를 포함할 수 있다.The mask deflection preventing portion may include at least one magnetic force generating member and a body installed in the process chamber and coupled with the magnetic force generating member to support the magnetic force generating member.

상기 마스크처짐방지부는, 기판 및 마스크의 얼라인시 하측으로 상기 본체를 하측으로 이동시키고, 기판 및 마스크의 얼라인을 마친 후 상기 본체를 상측으로 이동시키는 상하구동부를 추가로 포함할 수 있다.The mask deflection preventing part may further include a vertical driving part for moving the main body downward to a lower side when the substrate and the mask are aligned and moving the main body upward after the substrate and the mask are aligned.

상기 상하구동부는, 기판 및 마스크의 얼라인을 마친 후 마스크가 하측으로 하강하기 전에 상기 본체를 상측으로 이동시키도록 구성될 수 있다.The up and down driving unit may be configured to move the main body upward after the substrate and the mask are aligned and before the mask is lowered.

상기 자력발생부재는 전자석을 포함하며, 상기 전자석은 기판 및 마스크의 얼라인시 자력을 발생시켜 마스크의 처짐을 방지하도록 제어되고, 기판 및 마스크의 얼라인을 마친 후 마스크에 가해지는 자력을 오프되도록 제어될 수 있다.The magnetic force generating member includes an electromagnet, and the electromagnet is controlled to generate a magnetic force when the substrate and the mask are aligned to prevent deflection of the mask, and after the substrate and the mask are aligned, the magnetic force applied to the mask is turned off Lt; / RTI >

상기 자력발생부재는 기판 및 마스크의 얼라인을 마친 후 마스크가 하측으로 하강하기 전에 자력을 오프되도록 제어될 수 있다.The magnetic force generating member may be controlled so that the magnetic force is turned off before the mask is lowered after finishing the alignment of the substrate and the mask.

상기 자력발생부재는 복수 개로 마스크 중 개구되지 않은 부분에 대응되어 설치될 수 있다.The plurality of magnetic force generating members may be provided so as to correspond to portions of the mask which are not open.

상기 자력발생부재는 복수개로 설치되며, 상기 복수개의 자력발생부재는 이웃하는 자력발생부재와의 피치가 마스크의 평면을 기준으로 중앙부분보다 외곽부분에서 더 큰 것이 바람직하다.It is preferable that a plurality of the magnetic force generating members are provided, and the pitch of the plurality of magnetic force generating members with respect to the neighboring magnetic force generating member is larger in a peripheral portion than a central portion with respect to a plane of the mask.

상기 자력발생부재는 복수개로 설치되며, 상기 복수개의 자력발생부재는 마스크에 작용하는 자력이 상이하도록 마스크의 평면으로부터 설치높이를 달리하여 설치될 수 있다.The plurality of magnetic force generating members may be provided at different installation heights from the plane of the mask so that the magnetic force acting on the mask is different.

상기 자력발생부재는 복수개로 설치되며, 상기 복수개의 자력발생부재는 자속밀도의 크기가 서로 다르게 배치될 수 있다.The plurality of magnetic force generating members may be disposed such that the plurality of magnetic force generating members have different magnetic flux densities.

상기 자력발생부재는 복수개로 설치되며, 상기 복수개의 자력발생부재는 마스크에 작용하는 자력이 상이하도록 두께가 서로 다르게 배치될 수 있다.The plurality of magnetic force generating members may be disposed in different thicknesses so that the magnetic force acting on the mask is different.

상기 자력발생부재는 복수개로 설치되며, 상기 복수개의 자력발생부재는 마스크의 평면을 향하는 면의 표면적의 크기가 서로 다르게 배치될 수 있다.The plurality of magnetic force generating members may be arranged such that the surface area of the surface of the plurality of magnetic force generating members facing the plane of the mask is different from each other.

상기 마스크처짐방지부는 상기 마스크의 상면을 기준으로 중심부분이 외곽부분보다 더 큰 자력이 작용하도록 설치될 수 있다.The mask deflection preventing portion may be provided such that a magnetic force greater than a peripheral portion of the central portion acts on the upper surface of the mask.

상기 기판안착부는 상기 마스크를 자력에 의하여 기판에 밀착시키는 마스크홀더가 설치될 수 있다.The substrate mount part may be provided with a mask holder for bringing the mask into close contact with the substrate by a magnetic force.

상기 마스크는 직사각형의 프레임과, 상기 프레임에 결합되며 기판의 표면에 밀착되는 마스크시트를 포함하며, 상기 마스크처짐방지부는 상기 프레임 및 상기 마스크시트 중 적어도 어느 하나에 대하여 자력을 가하도록 설치될 수 있다.The mask may include a rectangular frame and a mask sheet coupled to the frame and in close contact with the surface of the substrate, wherein the mask deflection preventing portion may be installed to apply a magnetic force to at least one of the frame and the mask sheet .

상기 기판안착부는, 상기 챔버 내에 고정되어 설치되거나, 상기 챔버 내에서 기판이 안착된 상태로 선형이동되도록 설치될 수 있다.The substrate seating part may be fixedly installed in the chamber, or may be installed so as to linearly move in a state where the substrate is seated in the chamber.

상기 기판안착부는, 상기 챔버 내에 선형이동가능하게 설치되며, 상기 챔버는, 상기 기판안착부에 의하여 이송되는 기판의 이송경로의 상부에 위치되어 기판처리를 위한 가스를 분사하는 가스분사부가 설치될 수 있다.The substrate seating part is installed linearly movably in the chamber, and the chamber is provided with a gas injection part positioned above the conveyance path of the substrate conveyed by the substrate seating part and injecting gas for substrate processing have.

상기 기판처리장치는 상기 챔버 내에 설치되어 상기 기판안착부의 선형이동을 가이드하는 한 쌍의 가이드레일과; 상기 가이드레일을 따라서 상기 기판안착부를 선형이동시키기 위한 선형구동부를 포함할 수 있다.The substrate processing apparatus includes a pair of guide rails installed in the chamber and guiding linear movement of the substrate seating part; And a linear driving unit for linearly moving the substrate seating unit along the guide rails.

본 발명에 따른 기판처리장치는 기판 및 마스크의 얼라인시 마스크, 특히 하나 이상의 개구가 형성된 마스크시트를 자력에 의하여 처짐을 방지함으로써, 마스크 처짐에 따른 얼라인 오차를 최소화하여 미스얼라인(misalign)에 따른 기판처리의 불량을 방지하고, 보다 정밀한 기판처리가 가능한 이점이 있다.The substrate processing apparatus according to the present invention prevents misalignment due to the deflection of the mask by deflecting the mask and the mask sheet having at least one opening, It is possible to prevent defects in the substrate processing and to perform more accurate substrate processing.

또한 본 발명에 따른 기판처리장치는 기판 및 마스크의 얼라인시 마스크 중 마스크의 중앙부분을 집중적으로 지지함으로써 마스크의 처짐을 보다 효과적으로 방지할 수 있는 이점이 있다.Further, the substrate processing apparatus according to the present invention has an advantage that it can more effectively prevent deflection of the mask by intensively supporting the central portion of the mask during alignment of the substrate and the mask.

또한 본 발명에 따른 기판처리장치는 기판 및 마스크의 얼라인시 마스크 중 마스크를 자력에 의하여 비접촉을 통하여 처짐을 방지함으로써 기판 및 마스크의 얼라인을 방해하지 않고 보다 정밀하게 얼라인을 수행할 수 있는 이점이 있다.Further, the substrate processing apparatus according to the present invention prevents the substrate and the mask from being deflected through non-contact by a magnetic force during alignment of the mask and the mask, thereby performing alignment more precisely without disturbing the alignment of the substrate and the mask There is an advantage.

도 1은 본 발명에 따른 기판처리장치를 보여주는 측단면도이다.
도 2는 도 1의 기판처리장치를 보여주는 평단면도이다.
도 3a 및 도 3b는 각각 도 2에서 Ⅲ-Ⅲ 방향에서의 기판안착부의 단면을 보여주는 일부단면도로서, 도 3a는 기판 및 마스크 사이에 기판이 도입된 상태를 보여주는 단면도이며, 도 3b는 기판이 기판안착부에 안착된 상태에서 기판 및 마스크의 얼라인을 수행하는 상태를 보여주는 단면도이고, 도 3c는 기판 및 마스크의 얼라인을 마친 후 마스크가 기판에 밀착된 상태를 보여주는 단면도이다.
도 4a 내지 도 4c는 도 1의 기판처리장치 중 마스크처짐방지부의 예들을 보여주는 일부단면도이다.1 is a side sectional view showing a substrate processing apparatus according to the present invention.
2 is a plan sectional view showing the substrate processing apparatus of FIG.
FIG. 3A is a cross-sectional view showing a state in which a substrate is introduced between a substrate and a mask, and FIG. 3B is a cross-sectional view illustrating a state in which a substrate is transferred to a substrate FIG. 3C is a cross-sectional view showing a state in which the mask is in close contact with the substrate after finishing the alignment of the substrate and the mask. FIG. 3C is a cross-sectional view showing a state in which the substrate and the mask are aligned.
4A to 4C are partial cross-sectional views showing examples of the mask deflection preventing portion of the substrate processing apparatus of FIG.

이하 본 발명에 따른 기판처리장치에 관하여 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a substrate processing apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명에 따른 기판처리장치는 도 1 내지 도 3c에 도시된 바와 같이, 밀폐된 내부공간(S)을 형성하며 기판(10)의 입출을 위한 하나 이상의 게이트(101)가 형성된 챔버(100)와; 챔버(100)에 설치되어 기판(10)이 안착되는 기판안착부(200)와; 챔버(100)에 설치되어 게이트(101)를 통하여 기판(10)이 입출될 때 기판(10)의 지지를 위하여 기판안착부(200)를 상하로 관통하여 승하강하도록 설치된 복수의 리프트핀(421)들을 포함하는 기판리프팅부(420)와; 게이트(101)를 통하여 기판(10)이 입출될 때 기판안착부(200)에 안착된 기판(10)에 밀착되는 하나 이상의 개구부가 형성된 마스크(20)를 승강시키는 마스크승하강부(410)와; 챔버(100)에 설치되어 기판(10)과 마스크(20)를 얼라인하는 얼라인부(430)와; 마스크(20)의 상측에 설치되어 얼라인부(430)에 의하여 기판(10) 및 마스크(20)를 얼라인할 때 자력에 의하여 마스크(20)의 처짐을 방지하는 마스크처짐방지부(300)를 포함한다.1 to 3C, a substrate processing apparatus according to the present invention includes a chamber 100 having a closed internal space S and having at least one gate 101 formed therein for inputting and outputting a substrate 10, ; A substrate mounting part 200 installed in the chamber 100 and on which the substrate 10 is mounted; A plurality of lift pins 421 installed in the chamber 100 to vertically penetrate the substrate seating part 200 to support the substrate 10 when the substrate 10 is moved in and out through the gate 101 A substrate lifting portion 420 including a plurality of spacers 420; A mask lifting and lowering portion 410 for lifting and lowering a mask 20 having at least one opening which is in close contact with a substrate 10 mounted on a substrate seating portion 200 when the substrate 10 is moved in and out through the gate 101; An alignment part 430 installed in the chamber 100 and aligning the substrate 10 and the mask 20; A mask deflection preventing part 300 is provided on the upper side of the mask 20 to prevent deflection of the mask 20 by magnetic force when the substrate 10 and the mask 20 are aligned by the alignment part 430 .

여기서 본 발명에 따른 기판처리장치는 식각공정, 증착공정 등 기판처리공정을 수행하며, 특히 ALD공정, 더 구체적으로 OLED기판에 대한 봉지공정을 수행할 수 있다.Here, the substrate processing apparatus according to the present invention performs a substrate processing process such as an etching process and a deposition process, and in particular, can perform an ALD process, more specifically, an encapsulation process for an OLED substrate.

또한 본 발명에 따른 기판처리장치는 식각, 증착 등의 기판처리를 수행하는 대신에 기판(10) 및 마스크(20)의 얼라인 만을 수행하는 로드락챔버, 언로드락챔버, 버퍼챔버 등으로 구성될 수 있다.In addition, the substrate processing apparatus according to the present invention may include a load lock chamber, an unload lock chamber, a buffer chamber, or the like that performs only alignment of the substrate 10 and the mask 20, instead of performing substrate processing such as etching or vapor deposition .

그리고 본 발명에 따른 기판처리장치는 기판처리대상이 반도체용 웨이퍼, LCD패널용 유리기판, OLDE패널용 유리기판, 태양전지용 기판 등 기판처리가 필요한 기판이면 어떠한 기판도 가능하다.The substrate processing apparatus according to the present invention can be any substrate as long as the substrate to be processed is a substrate for processing a substrate, such as a semiconductor wafer, a glass substrate for an LCD panel, a glass substrate for an OLDE panel, or a solar cell substrate.

또한 상기 마스크(20)는 기판(10)의 지지, 기판(10)의 기판처리면에 소정 패턴의 기판처리 등을 위하여 기판(10)에 밀착되는 구성으로서 다양한 구성이 가능하다.The mask 20 can be variously configured as a structure in which the mask 20 is closely attached to the substrate 10 for supporting the substrate 10, treating the substrate 10 with a predetermined pattern, or the like.

예로서, 상기 마스크(20)는 도 3a 내지 도 3c에 도시된 바와 같이, 직사각형의 프레임(21)과, 프레임(21)에 결합되며 기판(10)의 표면에 밀착되는 마스크시트(22)를 포함할 수 있다.3A to 3C, the mask 20 includes a rectangular frame 21 and a mask sheet 22 which is joined to the frame 21 and is in close contact with the surface of the substrate 10 .

상기 프레임(21)은 마스크(20)가 충분한 강성을 가지도록 판상의 구조, 단면이 직사각형인 직사각형관 등 다양한 구성이 가능하며, 후술하는 강성 및 자력에 반응하는 SUS재질, 인바(Invar)재질 등을 가질 수 있다.The frame 21 may have various structures such as a plate-like structure and a rectangular tube having a rectangular cross section so that the mask 20 has sufficient rigidity. The frame 21 may be made of an SUS material, an Invar material, etc. Lt; / RTI >

상기 마스크시트(22)는 프레임(21)에 용접 등에 의하여 결합되며 하나 이상의 개구부가 형성되어 기판(10)의 기판처리면에 밀착되는 구성으로서 자력에 의하여 마스크(20)를 기판(10)에 밀착시키는 마스크홀더(180)에 인력이 작용할 수 있도록 자력에 반응하는 SUS재질, 인바(Invar)재질 등을 가질 수 있다.The mask sheet 22 is bonded to the frame 21 by welding or the like and has at least one opening formed in close contact with the substrate processing surface of the substrate 10. The mask sheet 22 is closely contacted with the substrate 10 An invar material, or the like, which reacts with a magnetic force so that an attractive force may act on the mask holder 180.

한편 상기 마스크시트(22)에 형성되는 하나 이상의 개구부는 기판처리면에 처리될 기판처리의 종류에 따라서 하나의 개구, 격자모양의 개구, 복수의 개구 등 다양한 패턴으로 형성될 수 있다.On the other hand, one or more openings formed in the mask sheet 22 may be formed in various patterns such as one opening, a grid opening, and a plurality of openings depending on the type of substrate processing to be processed on the substrate processing surface.

상기 챔버(100)는 내부에 처리공간(S)이 형성되며 기판처리에 따라서 다양한 구조가 가능하며, 예로서, 도 1에 도시된 바와 같이, 서로 착탈가능하게 결합되어 밀폐된 처리공간(S)을 형성하는 챔버본체(120) 및 상부리드(110)를 포함하여 구성될 수 있다. 여기서 상기 챔버(100)는 도 1에 도시된 바와 같이, 지지프레임(190)에 의하여 지지되어 설치될 수 있다.1, the chamber 100 is detachably coupled to the closed processing space S, and the processing space S is formed in the processing chamber S, A chamber body 120 and an upper lead 110 which form the upper and lower chambers. Here, the chamber 100 may be supported by a support frame 190, as shown in FIG.

상기 챔버본체(120)에는 반송로봇(미도시) 등에 의하여 반송되어 기판(10)이 도입되거나 배출될 수 있도록 하나 이상의 게이트(101)가 형성될 수 있으며, 처리공간(S) 내의 배기 및 압력제어를 위하여 배기시스템과 연결될 수 있다. One or more gates 101 may be formed in the chamber body 120 so that the substrate 10 may be transferred or discharged by a transfer robot (not shown) And may be connected to the exhaust system.

상기 기판리프팅부(420)는 기판(10) 입출시 기판을 지지하기 위한 구성으로서, 챔버(100)에 설치되어 게이트(101)를 통하여 기판(10)이 입출될 때 기판(10)의 지지를 위하여 기판안착부(200)를 상하로 관통하여 승하강하도록 설치된 복수의 리프트핀(421)들을 포함한다.The substrate lifting unit 420 is configured to support the substrate 10 when the substrate 10 is moved in and out. The substrate lifting unit 420 supports the substrate 10 when the substrate 10 is moved in and out of the chamber 100 through the gate 101 And a plurality of lift pins 421 installed vertically through the substrate seating part 200 so as to move up and down.

상기 리프트핀(421)은 기판안착부(200)를 상하로 관통하여 승하강하여 상단에서 기판(10)의 저면을 지지하는 구성으로서, 기판(10)을 지지할 수 있는 구성이면 어떠한 구성도 가능하다. 여기서 상기 리프트핀(421)들은 도 3b 및 도 3c에 도시된 바와 같이, 기판처리를 위하여 기판안착부(200)가 이동될 때 기판안착부(200)의 이동에 간섭되지 않도록 그 끝단은 충분하게 하강된다.The lift pins 421 are configured to support the bottom surface of the substrate 10 at the upper end by vertically penetrating the substrate seating part 200 and may have any structure as long as it can support the substrate 10 . 3B and 3C, the ends of the lift pins 421 are sufficiently moved so as not to interfere with the movement of the substrate seating part 200 when the substrate seating part 200 is moved for substrate processing Down.

상기 복수의 리프트핀(421)들은 그 끝단에서 기판(10)을 지지하는 구성으로서, 로드 형상을 가질 수 있다.The plurality of lift pins 421 are configured to support the substrate 10 at the ends thereof, and may have a rod shape.

그리고 상기 복수의 리프트핀(421)들이 설치되는 숫자 및 배치는 기판(10)을 안정적으로 지지할 수 있도록 적절하게 선택 및 설계될 수 있다.The number and arrangement in which the plurality of lift pins 421 are installed can be appropriately selected and designed so as to stably support the substrate 10.

한편 상기 기판리프팅부(420)는 복수의 리프트핀(421)들을 상하로 선형구동하는 선형구동부(423)를 포함할 수 있다.The substrate lifting unit 420 may include a linear driving unit 423 for linearly driving a plurality of lift pins 421 up and down.

상기 선형구동부(423)는 리프트핀(421)들의 상하 이동을 구동하기 위한 구성으로서 다양한 구성이 가능하다.The linear driving unit 423 may be configured to drive the lift pins 421 up and down in various manners.

일예로서, 상기 선형구동부(423)는 리프트핀(421)들이 고정 결합되는 리프트플레이트(422)와, 리프트플레이트(422)를 상하로 이동시켜 리프트핀(421)들을 상하구동하는 상하구동부(424)를 포함할 수 있다.The linear driving unit 423 includes a lift plate 422 to which the lift pins 421 are fixedly coupled and a vertical driving unit 424 that vertically moves the lift plates 422 to move the lift pins 421 up and down. . ≪ / RTI >

상기 리프트플레이트(422)는 복수의 리프트핀(421)들의 하단이 고정 결합됨으로써 서로 연동하여 상하 이동을 구동하기 위한 구성으로서, 챔버(100) 내 또는 외부에 설치되는 등 다양한 구성이 가능하다.The lift plate 422 is configured to drive the vertical movement of the lift pins 421 in cooperation with the lower ends of the lift pins 421. The lift plates 422 can be installed in the chamber 100 or outside.

상기 상하구동부(424)는 리프트플레이트(422)를 상하로 구동하여 복수의 리프트핀(421)들을 상하로 이동시키는 구성으로서 스크류잭, 유압실린더 등 다양한 구성이 가능하다.The up and down driving unit 424 is configured to move the lift pins 421 up and down by driving the lift plate 422 up and down, and can have various configurations such as a screw jack, a hydraulic cylinder, and the like.

상기 기판안착부(200)는 챔버(100)에 설치되어 기판(10)이 안착되는 구성으로서, 기판(10) 및 마스크(20)의 얼라인 수행시 더 나아가 기판처리시 기판(10)이 안착되는 구성으로서 다양한 구성이 가능하다.The substrate seating part 200 is installed in the chamber 100 to seat the substrate 10 so that the substrate 10 can be seated when the substrate 10 and the mask 20 are aligned, Various configurations are possible.

특히 상기 기판안착부(200)는 챔버(100)에 고정되어 설치되거나, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 챔버(100)에 선형이동이 가능하도록 셔틀로서 설치될 수 있다.In particular, the substrate seating part 200 may be fixedly installed in the chamber 100, or may be installed as a shuttle to allow linear movement in the chamber 100, as shown in FIGS.

예로서, 상기 기판안착부(200)는 챔버(100) 내에 설치되어 기판(10)을 지지하는 구성으로서, 도 1 내지 도 3c에 도시된 바와 같이, 기판(10)이 안착되는 기판안착면을 가지는 서셉터부(210)와; 서셉터부(210)의 저면에 탈착가능하게 결합되고, 서로 탈착가능하게 결합된 복수의 프레임부재들을 포함하는 프레임부(220)를 포함하는 등 다양한 구성이 가능하다.For example, the substrate seating part 200 is provided in the chamber 100 to support the substrate 10, and as shown in FIGS. 1 to 3C, the substrate seating surface 200 on which the substrate 10 is placed A susceptor portion 210; And a frame part 220 detachably coupled to the bottom surface of the susceptor part 210 and including a plurality of frame members detachably coupled to each other.

상기 서셉터부(210)는 기판안착면을 구비하여, 반송로봇(미도시)과 같은 기판이송장치에 의하여 챔버(100) 내에 도입된 기판(10)이 안착되는 구성으로서 기판(10)이 안착될 수 있는 구성이면 어떠한 구성도 가능하다.The susceptor unit 210 has a substrate seating surface and is configured such that a substrate 10 introduced into the chamber 100 by a substrate transfer device such as a transfer robot (not shown) Any configuration is possible.

여기서 상기 기판안착면은 기판(10)의 형상에 대응되는 형상, 예를 들면 직사각형 형상을 가지며, 기판처리면과 반대면인 기판(10)을 지지하기 위한 구성으로서 기판처리를 위하여 기판(10)을 가열하거나 냉각하는 등 기판(10)에 대한 열전달이 용이하도록 형성됨이 바람직하다.The substrate mounting surface has a shape corresponding to the shape of the substrate 10, for example, a rectangular shape. The substrate mounting surface has a structure for supporting the substrate 10 opposite to the substrate processing surface. Such as heating or cooling, to facilitate heat transfer to the substrate 10.

상기 서셉터부(210)의 재질은 공정에 따라서 공정에 영향을 주지 않는 재질의 사용이 바람직하며, 예로서, 알루미늄, 알루미늄 합금 등의 재질이 사용될 수 있으며, 통상 처리되는 기판의 형상이 직사각형임을 고려하여 직사각형의 형상을 가지는 것이 바람직하다.The material of the susceptor unit 210 is preferably a material that does not affect the process depending on the process. For example, materials such as aluminum and aluminum alloy may be used. It is preferable to have a rectangular shape.

상기 서셉터부(210)의 저면 쪽에는 자력에 의하여 마스크(20), 특히 마스크시트(22)를 기판(10)에 밀착시키는 마스크홀더(미도시)가 설치될 수 있다.A mask holder (not shown) may be provided on the bottom surface of the susceptor 210 to closely contact the mask 20 and the mask sheet 22 with the substrate 10 by a magnetic force.

또한 상기 서셉터부(210)의 저면 쪽에는 기판(10)을 가열하기 위한 히터(미도시)가 설치될 수 있다.A heater (not shown) for heating the substrate 10 may be installed on the bottom surface of the susceptor unit 210.

상기 프레임부(220)는 서셉터부(210)의 저면에 탈착가능하게 결합되고, 서로 탈착가능하게 결합된 복수의 프레임부재들을 포함하여 기판안착부(200)를 경량화 및 유지보수시 교체가 원활하게 하기 위한 구성으로서 다양한 구성이 가능하다.The frame unit 220 includes a plurality of frame members detachably coupled to the bottom surface of the susceptor unit 210 and detachably coupled to each other to reduce the weight of the substrate seating unit 200, Various configurations are possible.

예로서, 상기 프레임부(220)를 구성하는 복수의 프레임부재들은 그 재질이 서셉터부(210)에 비하여 강도가 높지만 열변형이 작은, 즉 열팽창률이 작은 재질, 예를 들면 FRP(fiber reinforced plastic)재질의 사용이 바람직하다. 그리고 FRP로는 유리강화섬유(GFRP), 탄소강화섬유(CFRP) 등이 있다.For example, a plurality of frame members constituting the frame portion 220 may be made of a material having a higher strength than the susceptor portion 210 but a smaller thermal deformation, that is, a material having a lower coefficient of thermal expansion, such as FRP plastic material is preferred. And FRP is glass reinforced fiber (GFRP) and carbon reinforced fiber (CFRP).

한편 종방향(X축 방향)을 기준으로 서셉터부(210)의 전방 및 후방 가장자리 부근에서 균일한 공정분위기를 형성하기 위하여, 상기 기판안착부(200)는 종방향(X축 방향)을 기준으로 서셉터부(210)의 전방 및 후방 중 적어도 어느 하나에 결합되어 기판안착면 상에 안착된 기판(10), 또는 마스크(20)가 설치된 경우 마스크(20)의 상면과 동일한 평면을 형성하는 윙부(240)를 추가로 포함할 수 있다.In order to form a uniform process atmosphere in the vicinity of the front and rear edges of the susceptor 210 with respect to the longitudinal direction (X-axis direction), the substrate seating part 200 has a longitudinal (X-axis direction) A substrate 10 coupled to at least one of a front side and a rear side of the susceptor 210 and seated on a substrate seating surface of the susceptor 210 or a top surface of the mask 20 when the mask 20 is installed And may further include a wing portion 240.

상기 윙부(240)는 가스흐름의 왜곡 등으로 인하여 서셉터부(210)의 가장자리 부근에서 기판처리가 불균하게 이루어질 수 있는바 이를 보완하기 위한 구성으로서 서셉터부(210)의 가장자리 부근에서 균일한 공정분위기를 형성하기 위하여 기판안착면 상에 안착된 기판(10), 또는 마스크(20)가 설치된 경우 마스크(20)의 상면과 동일한 평면을 형성하는 구성이면 어떠한 구성도 가능하다.The wing portion 240 may be made unevenly in the vicinity of the edge of the susceptor portion 210 due to the distortion of the gas flow or the like. The wing portion 240 may be uniformly arranged near the edge of the susceptor portion 210 Any configuration is possible as long as the substrate 10 is placed on the substrate seating surface to form a process atmosphere or the upper surface of the mask 20 is formed in the same plane as the mask 20 is provided.

예로서, 상기 윙부(240)는 프레임부(220)에 지지되어 탈착가능하게 설치되는 플레이트 형상을 가질 수 있으며, 그 재질은 기판안착부(200)와 동일한 재질, 즉 알루미늄 또는 알루미늄합금 재질을 가지는 것이 바람직하다.For example, the wing part 240 may have a plate shape supported by the frame part 220 and detachably installed. The material of the wing part 240 may be the same material as the substrate seating part 200, that is, an aluminum or aluminum alloy material .

한편, 상기 기판안착부(200)가 선형이동 가능하게 챔버(100)에 설치되는 경우, 챔버(100)는 기판안착부(200)의 선형이동을 위하여, 챔버(100) 내에 설치된 한 쌍의 가이드레일(130)과; 가이드레일(130)을 따라서 기판안착부(200)를 선형이동시키기 위한 선형구동부(150)를 더 포함할 수 있다.The chamber 100 may include a pair of guides installed in the chamber 100 for linear movement of the substrate seating part 200. The chamber 100 may be formed as a single piece, A rail 130; And may further include a linear driving unit 150 for linearly moving the substrate seating unit 200 along the guide rails 130.

상기 가이드레일(130)은 후술하는 선형구동부(150)의 선형구동에 의하여 기판안착부(200)의 선형이동을 가이드하는 구성으로서, 기판안착부(200)의 이동을 가이드할 수 있는 구성이면 어떠한 구성도 가능하다.The guide rail 130 is a structure for guiding the linear movement of the substrate seating part 200 by linearly driving the linear driving part 150 to be described later and may be configured to guide the movement of the substrate seating part 200 The configuration is also possible.

상기 선형구동부(150)는 기판안착부(200)의 선형이동을 구동할 수 있는 구성이면 어떠한 구성도 가능하다.The linear driving unit 150 may have any structure as long as it can drive the linear movement of the substrate seating unit 200.

상기 선형구동부(150)는 스크류잭, 유압실린더 등 그 구동방식에 따라서 다양한 방식이 가능하며, 파티클에 민감한 공정이 수행됨을 고려하여 파티클의 발생이 가장 적은 자기를 이용한 선형구동장치가 사용됨이 바람직하다.The linear driving unit 150 may be a screw jack, a hydraulic cylinder, or the like, and may be driven by various driving methods. In consideration of particle-sensitive processes, a linear driving apparatus using magnetic particles, .

상기 마스크승하강부(410)는 게이트(101)를 통하여 기판(10)이 입출될 때 기판안착부(200)에 안착된 기판(10)에 밀착되는 하나 이상의 개구부가 형성된 마스크(20)를 승강시키는 구성으로서 다양한 구성이 가능하다.The mask lifting and lowering portion 410 is configured to raise and lower the mask 20 having at least one opening portion which is in contact with the substrate 10 placed on the substrate seating portion 200 when the substrate 10 is moved in and out through the gate 101 Various configurations are possible as the configuration.

예로서, 상기 마스크승하강부(410)는 승하강에 의하여 마스크(20)의 가장자리, 특히 마스크(20)의 프레임(21)을 지지하는 마스크지지부재(411)와, 마스크지지부재(411)의 상하이동을 구동하는 상하구동부(413)을 포함할 수 있다.For example, the mask ascending / descending section 410 includes a mask supporting member 411 for supporting the edge of the mask 20, in particular, the frame 21 of the mask 20, And an up-and-down driving unit 413 for driving up-and-down movement.

상기 마스크지지부재(411)는 마스크(20)를 지지하여 상승시키거나 하강시키기 위한 구성으로서 마스크(20)의 가장자리, 특히 마스크(20)의 프레임(21)을 지지할 수 있는 구성이면 어떠한 구성도 가능하다.The mask support member 411 may have any structure as long as it can support the edge of the mask 20, in particular, the frame 21 of the mask 20, as a structure for supporting and lifting the mask 20 It is possible.

예로서, 상기 마스크지지부재(411)는 앞서 설명한 리프트핀(421)과 유사한 구조를 이룰 수 있으며, 기판안착부(200)를 관통하여 상하로 이동되도록 설치될 수 있다. 여기서 상기 마스크지지부재(411)는 도 3a 및 도 3b에 도시된 바와 같이, 기판(10)의 도입, 기판(10) 및 마스크(20)의 얼라인시 마스크(20)를 지지하도록 상승된 상태에 있다가, 도 3c에 도시된 바와 같이, 기판처리를 위하여 기판안착부(200)가 이동될 때 기판안착부(200)의 이동에 간섭되지 않도록 그 끝단은 충분하게 하강된다.For example, the mask support member 411 may have a structure similar to that of the lift pin 421 described above, and may be installed to move up and down through the substrate seating portion 200. 3A and 3B, the mask support member 411 is in an elevated state to support the introduction of the substrate 10, the substrate 10, and the mask 20 upon alignment of the mask 20 The end is sufficiently lowered so as not to interfere with the movement of the substrate seating portion 200 when the substrate seating portion 200 is moved for substrate processing, as shown in FIG. 3C.

상기 상하구동부(413)는 마스크지지부재(411)를 상하로 이동시키기 위한 구성으로서, 스크류잭, 유압실린더 등 다양한 구성이 가능하다.The up-and-down driving unit 413 is configured to move the mask supporting member 411 up and down, and can have various configurations such as a screw jack and a hydraulic cylinder.

상기 얼라인부(430)는 챔버(100)에 설치되어 기판(10)이 게이트(101)를 통하여 기판안착부(200) 및 마스크(20) 사이에 도입된 후 기판(10)과 마스크(20)를 얼라인하는 구성으로서 다양한 구성이 가능하다.The alignment section 430 is installed in the chamber 100 to introduce the substrate 10 between the substrate seating section 200 and the mask 20 through the gate 101 and then to the substrate 10 and the mask 20, And various configurations are possible.

예로서, 상기 얼라인부(430)는 마스크지지부재(411)에 지지된 마스크(20)를 기판(10)에 대하여 서로 평행하게 상대 이동시켜 기판(10)과 마스크(20)를 얼라인하는 구성으로서 다양한 구성이 가능하며, 마스크승하강부(410)에 설치되어 마스크(20)를 기판(10)에 대하여 평면방향(예를 들면, X1, X2, Y, 또는 X, Y, θ 등)으로 상대 이동, 즉 마스크지지부재(411)를 상대 이동시켜 기판(10)과 마스크(20)를 얼라인을 수행하도록 구성되는 등 다양한 구성이 가능하다.For example, the alignment portion 430 may be configured to align the substrate 10 and the mask 20 by relatively moving the mask 20 supported on the mask support member 411 in parallel with the substrate 10 And the mask 20 is provided on the mask ascending / descending section 410 so as to be opposed to the substrate 10 in a planar direction (for example, X1, X2, Y, or X, Y, The mask support member 411 is moved relative to the substrate 10 to align the substrate 10 and the mask 20, and so on.

여기서 상기 챔버(100)는 얼라인부(430)에 의한 기판(10) 및 마스크(20)의 얼라인을 위하여 기판(10) 및 마스크(20)에 대한 이미지를 획득하기 위한 복수의 카메라장치(미도시)가 설치된다.Wherein the chamber 100 includes a plurality of camera devices for acquiring an image of the substrate 10 and the mask 20 for alignment of the substrate 10 and the mask 20 by the alignment portion 430 City) is installed.

그리고 상기 기판(10)은 마스크(20)와의 얼라인시 리프트핀(421)에 의하여 지지된 상태에 있거나, 도 3b에 도시된 바와 같이, 기판안착부(200)에 안착된 상태에 있는 것이 보다 바람직하다.The substrate 10 is supported by the lift pins 421 at the time of alignment with the mask 20 or is in a state of being seated in the substrate seating portion 200 as shown in FIG. desirable.

상기 마스크처짐방지부(300)는 마스크(20)의 상측에 설치되어 얼라인부(430)에 의하여 기판(10) 및 마스크(20)를 얼라인할 때 자력에 의하여 마스크(20)의 처짐을 방지하는 구성으로서 다양한 구성이 가능하다.The mask deflection preventing portion 300 is provided on the upper side of the mask 20 to prevent deflection of the mask 20 by a magnetic force when aligning the substrate 10 and the mask 20 by the alignment portion 430. [ Various configurations are possible.

예로서, 상기 마스크처짐방지부(300)는, 하나 이상의 자력발생부재(330)와, 챔버(100)에 설치되어 자력발생부재(330)를 지지하도록 자력발생부재(330)와 결합되는 본체(310)를 포함할 수 있다.For example, the mask deflection preventing part 300 may include at least one magnetic force generating member 330, a main body installed in the chamber 100 and coupled to the magnetic force generating member 330 to support the magnetic force generating member 330 310).

상기 자력발생부재(330)는 마스크(20)를 자력에 의하여 지지하기 위한 구성으로서, 전자석, 영구자석 등 자력을 발생시킬 수 있는 구성이면 어떠한 구성도 가능하다.The magnetic force generating member 330 is configured to support the mask 20 by a magnetic force, and any structure can be used as long as it can generate a magnetic force such as an electromagnet or a permanent magnet.

상기 본체(310)는 자력발생부재(330)와 결합됨으로써 자력발생부재(330)를 지지하기 위한 구성으로서 자력발생부재(330)를 지지할수 있는 구성이면 어떠한 구성도 가능하다.The main body 310 may have any structure as long as it can support the magnetic force generating member 330 as a structure for supporting the magnetic force generating member 330 by being coupled with the magnetic force generating member 330.

예로서, 상기 본체(310)는 복수의 자력발생부재(330)들이 설치되었을 때, 복수의 자력발생부재(330)들에 대응되어 복수의 자력발생부재(330)들 각각이 삽입되는 부재삽입홈(311)들이 형성될 수 있으며, 자력발생부재(330)들이 삽입된 후 부재삽입홈(311)을 복개하는 커버부재(312)와 볼트(313) 등에 의하여 결합될 수 있다.For example, when the plurality of magnetic force generating members 330 are installed, the main body 310 may include a plurality of magnetic force generating members 330 corresponding to the plurality of magnetic force generating members 330, The magnetic force generating members 330 may be coupled with the cover member 312 and the bolts 313 to cover the member insertion groove 311 after the magnetic force generating members 330 are inserted.

상기 본체(310)는 챔버(100)에 다양하게 설치될 수 있으며, 도 1 내지 도 3c에 도시된 바와 같이, 지지부재(350) 등에 의하여 챔버(100)에 설치될 수 있다. The body 310 may be installed in the chamber 100 in various ways and may be installed in the chamber 100 by a supporting member 350 or the like as shown in FIGS.

한편 상기 마스크처짐방지부(300)는, 마스크(20)가 외곽부분보다는 중앙부분에서 처짐이 더 크게 발생되는 바 마스크(20), 특히 마스크시트(22) 중 외곽부분에 비하여 중앙부분을 더 집중적으로 지지할 필요가 있다.The mask deflection preventing portion 300 is formed on the outer side of the mask 20 such that the central portion of the mask 20 is more concentrated than the outermost portion of the mask 20, . ≪ / RTI >

따라서, 상기 마스크처짐방지부(300)는, 마스크(20)의 상면을 기준으로 중심부분이 외곽부분보다 더 큰 자력이 작용하도록 구성됨이 바람직하다. 여기서 상기 마스크처짐방지부(300)는, 마스크(20)의 상면을 기준으로 적어도 마스크(20)의 중심부분에만 자력이 작용하도록 구성될 수도 있다.Therefore, it is preferable that the mask deflection preventing portion 300 is configured such that a magnetic force greater than a peripheral portion of the central portion acts on the upper surface of the mask 20. Here, the mask deflection preventing portion 300 may be configured to apply a magnetic force to at least a central portion of the mask 20 based on the upper surface of the mask 20.

즉, 상기 마스크처짐방지부(300)는, 복수의 자력발생부재(330)들이 마스크(20)의 상면을 기준으로 중심부분이 외곽부분보다 더 큰 자력이 작용하도록 다양한 방법에 의하여 설치될 수 있다.That is, the mask deflection preventing part 300 may be installed by various methods such that a plurality of magnetic force generating members 330 apply a magnetic force greater in magnitude than a peripheral part of the central part with respect to the upper surface of the mask 20 .

예로서, 상기 복수의 자력발생부재(330)들은 도 3a 및 도 3c에 도시된 바와 같이, 이웃하는 자력발생부재(330)와의 피치가 마스크(20)의 평면을 기준으로 중앙부분보다 외곽부분에서 더 크게 배치될 수 있다.3A and 3C, the plurality of magnetic force generating members 330 are arranged such that the pitch with the neighboring magnetic force generating member 330 is smaller than the center of the mask 20 Can be arranged larger.

또한 상기 복수의 자력발생부재(330)는 도 4a에 도시된 바와 같이, 마스크(20)에 작용하는 자력이 상이하도록 마스크(20)의 평면으로부터 설치높이를 달리하여 설치될 수 있다. 이때 상기 부재삽입홈(311) 내에서 자력발생부재(330)의 설치 높이를 조절하기 위하여 자력발생부재(330)의 상부 및 하부 중 적어도 어느 하나에는 비자성재질을 가지는 스페이서(340)이 설치될 수 있다.4A, the plurality of magnetic force generating members 330 may be installed at different installation heights from the plane of the mask 20 so that the magnetic force acting on the mask 20 is different. At this time, a spacer 340 having a non-magnetic material is installed on at least one of the upper and lower portions of the magnetic force generating member 330 to adjust the installation height of the magnetic force generating member 330 in the member insertion groove 311 .

또한 상기 복수의 자력발생부재(330)는 도 4b에 도시된 바와 같이, 마스크(20)의 평면을 향하는 면의 표면적의 크기가 서로 다르게 배치될 수 있다.Further, as shown in FIG. 4B, the plurality of magnetic force generating members 330 may be arranged so that the surface area of the surface facing the plane of the mask 20 is different from each other.

또한 상기 복수의 자력발생부재(330)는 도 4c에 도시된 바와 같이, 마스크(20)에 작용하는 자력이 상이하도록 두께가 서로 다르게 배치될 수 있다.4C, the plurality of magnetic force generating members 330 may have different thicknesses so that the magnetic force acting on the mask 20 is different.

또한 상기 복수의 자력발생부재(330)는 형성하는 자속밀도의 크기가 서로 다르게 배치될 수 있다.Further, the plurality of magnetic force generating members 330 may be arranged to have different magnetic flux densities.

한편 상기 마스크처짐방지부(300)에 의하여 지지되는 마스크(20)는 하나 이상의 개구를 구비하는바, 마스크(20)를 지지함에 있어서 마스크(20) 중 자력이 작용하는 부분, 즉 마스크시트(22), 특히 마스크(20) 중 개구되지 않은 부분에 자력이 작용함이 바람직하다.The mask 20 supported by the mask deflection preventing part 300 has one or more openings. In supporting the mask 20, a portion of the mask 20 where a magnetic force acts, that is, a portion of the mask sheet 22 ), In particular, a portion of the mask 20 which is not opened.

즉, 상기 복수의 자력발생부재(330)들은 효율적인 마스크(20) 지지를 위하여 마스크(20) 중 개구되지 않은 부분에 대응되어 설치됨이 바람직하다.That is, it is preferable that the plurality of magnetic force generating members 330 are installed in correspondence with the portions of the mask 20 that are not open to support the mask 20 efficiently.

한편 상기 마스크(20) 및 기판(10)의 얼라인을 마친 후 마스크(20)는 하강하여 기판(10)에 밀착되는데, 마스크(20)의 하강시 마스크처짐방지부(300)에 의하여 지속적으로 자력이 작용하여 마스크(20) 및 기판(10)의 정렬상태를 흩트릴 수 있다.After the alignment of the mask 20 and the substrate 10 is finished, the mask 20 is lowered and brought into close contact with the substrate 10. When the mask 20 is lowered, A magnetic force acts to disturb the alignment state of the mask 20 and the substrate 10.

따라서 상기 마스크처짐방지부(300)는 마스크(20) 및 기판(10)의 얼라인을 마친 후 마스크(20)가 하강할 때에는 마스크(20)에 작용하는 자력이 극히 제한적이거나 없는 것이 바람직하다.Therefore, it is preferable that the mask deflection preventing part 300 has a very limited or no magnetic force acting on the mask 20 when the mask 20 descends after completing alignment of the mask 20 and the substrate 10.

이에 상기 마스크처짐방지부(300)는 챔버(100) 내에서 상하로 승하강이 가능하도록 설치되고, 마스크(20) 및 기판(10)의 얼라인을 마친 후 마스크(20)가 하강 전에 마스크(20)에 대한 자력을 제한하기 위하여 상측으로 이동될 수 있다.The mask deflection preventing part 300 is provided so as to be vertically movable up and down in the chamber 100. The mask deflection preventing part 300 is provided so as to be movable up and down in the chamber 100. After the mask 20 and the substrate 10 are aligned, 20 in order to limit the magnetic force to the upper side.

여기서 상기 마스크처짐방지부(300)는 기판처리를 위한 새로운 기판(10)이 도입되고, 기판(10) 및 마스크(20)에 대한 얼라인이 다시 수행되어야 하는 경우 마스크(20)의 처짐을 방지하도록 하강 될 수 있음은 물론이다.The mask deflection preventing portion 300 prevents the mask 20 from sagging when a new substrate 10 for substrate processing is introduced and the alignment of the substrate 10 and the mask 20 is to be performed again Of course.

즉, 상기 마스크처짐방지부(300)는 기판(10) 및 마스크(20)의 얼라인시 하측으로 본체(310)를 하측으로 이동시키고, 기판(10) 및 마스크(20)의 얼라인을 마친 후 마스크(20)가 하측으로 하강하기 전에 상측으로 본체(310)를 이동시키는 상하구동부(320)를 추가로 포함할 수 있다.That is, the mask deflection preventing part 300 moves the main body 310 downward to the lower side when the substrate 10 and the mask 20 are aligned, and when the substrate 10 and the mask 20 are aligned And a vertical driving unit 320 for moving the main body 310 upward before the rear mask 20 is lowered.

상기 상하구동부(320)는 챔버(100)에 설치되어 마스크처짐방지부(300)의 본체(310)를 상하로 이동시키기 위한 구성으로서, 다양한 구성이 가능하다.The up and down driving unit 320 is installed in the chamber 100 to move the main body 310 of the mask sag prevention unit 300 up and down.

한편 상기 마스크처짐방지부(300)는 마스크(20) 및 기판(10)의 얼라인을 마친 후 마스크(20)가 하강 전에 마스크(20)에 대한 자력을 제한하기 위한 다른 방법으로서, 자력발생부재(330)가 온오프가 제어되는 전자석을 포함할 수 있다.The mask deflection preventing portion 300 is an alternative method for limiting the magnetic force with respect to the mask 20 before the mask 20 is lowered after the mask 20 and the alignment of the substrate 10 are completed, (330) may include an electromagnet whose on / off is controlled.

상기 자력발생부재(330)는 온오프가 제어되는 전자석을 포함함으로써, 전자석은 기판(10) 및 마스크(20)의 얼라인시 자력을 발생시켜 마스크(20)의 처짐을 방지하도록 제어되고, 기판(10) 및 마스크(20)의 얼라인을 마친 후 마스크(20)가 하측으로 하강하기 전에 마스크(20)에 가해지는 자력을 오프되도록 제어될 수 있다.The electromagnet is controlled to generate a magnetic force when the substrate 10 and the mask 20 are aligned to prevent sagging of the mask 20, The mask 20 can be controlled so that the magnetic force applied to the mask 20 is turned off before the mask 20 is lowered after finishing alignment of the mask 10 and the mask 20.

한편 상기 챔버(100)는 도 1에 도시된 바와 같이, 기판안착부(200)에 의하여 이송되는 기판(10)의 이송경로의 상부에 위치되어 기판처리를 위한 가스를 분사하는 가스분사부(140)가 설치될 수 있다.1, the chamber 100 includes a gas spraying unit 140 for spraying a gas for substrate processing, which is positioned above a conveyance path of the substrate 10 conveyed by the substrate seating unit 200, Can be installed.

또한 공정처리에 따른 전원이 인가를 위하여 상기 챔버(100)는 접지되거나 RF전원이 인가되는 등 다양한 전원이 인가될 수도 있다.In addition, the chamber 100 may be grounded or an RF power source may be applied thereto in order to apply power according to the process.

또한 상기 기판리프팅부(420), 마스크승하강부(410), 마스크처짐방지부(300) 및 가스분사부(140)의 위치와 관련하여, 본 발명에 따른 기판처리장치는 기판안착부(200)에 의하여 기판(10)이 이송되면서 기판처리가 이루어질 때, 기판리프팅부(420), 마스크승하강부(410) 및 마스크처짐방지부(300)는 기판(10)이 도입되거나 배출되는 위치 즉, 게이트(101) 부근에 설치되며, 가스분사부(140)는 기판안착부(200)의 이동에 연동하여 기판(10) 전체에 걸쳐 골고루 기판처리가 이루어질 수 있도록 셔틀(200)의 이동경로를 기준으로 그 중앙에 배치될 수 있다.
The substrate processing apparatus according to the present invention includes a substrate mounting part 200 and a substrate mounting part 200. The substrate mounting part 200 includes a substrate lifting part 420, a mask lifting part 410, a mask sag preventing part 300, The substrate lifting portion 420, the mask lifting portion 410 and the mask deflection preventing portion 300 are positioned at a position where the substrate 10 is introduced or discharged, that is, The gas spraying unit 140 is installed in the vicinity of the shuttle 200 so that the substrate can be uniformly processed over the entire substrate 10 in conjunction with the movement of the substrate seating unit 200 And may be disposed in the center thereof.

이상은 본 발명에 의해 구현될 수 있는 바람직한 실시예의 일부에 관하여 설명한 것에 불과하므로, 주지된 바와 같이 본 발명의 범위는 위의 실시예에 한정되어 해석되어서는 안 될 것이며, 위에서 설명된 본 발명의 기술적 사상과 그 근본을 함께 하는 기술적 사상은 모두 본 발명의 범위에 포함된다고 할 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention as defined in the appended claims. It is to be understood that both the technical idea and the technical spirit of the invention are included in the scope of the present invention.

100 : 챔버 200 : 기판안착부
300 : 마스크처짐방지부100: chamber 200: substrate seating part
300: mask deflection preventing portion

Claims (18)

밀폐된 내부공간을 형성하며 기판의 입출을 위한 하나 이상의 게이트가 형성된 챔버와;
상기 챔버에 설치되어 기판이 안착되는 기판안착부와;
상기 챔버에 설치되어 상기 게이트를 통하여 기판이 입출될 때 기판의 지지를 위하여 상기 기판안착부를 상하로 관통하여 승하강하도록 설치된 복수의 리프트핀들을 포함하는 기판리프팅부와;
상기 게이트를 통하여 기판이 입출될 때 상기 기판안착부에 안착된 기판에 밀착되는 하나 이상의 개구부가 형성된 마스크의 가장자리를 지지하는 마스크지지부재와, 상기 마스크지지부재의 상하이동을 구동하여 마스크를 승강시키는 상하구동부를 포함하는 마스크승하강부와;
상기 게이트를 통하여 도입된 기판과 마스크를 얼라인하기 위하여 상기 챔버에 설치되어 상기 마스크지지부재를 평면방향으로 이동시키는 얼라인부와;
상기 마스크의 상측에 설치되어 상기 얼라인부에 의하여 기판 및 마스크를 얼라인할 때 자력에 의하여 마스크의 처짐을 방지하는 마스크처짐방지부를 포함하며,
상기 마스크는 직사각형의 프레임과, 상기 프레임에 결합되며 기판의 표면에 밀착되는 마스크시트를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.A chamber defining a closed interior space and having at least one gate formed therein for entry and exit of the substrate;
A substrate mounting part installed in the chamber and on which a substrate is mounted;
A substrate lifting unit installed in the chamber and including a plurality of lift pins installed vertically through the substrate seating unit to support the substrate when the substrate is input / output through the gate;
A mask supporting member for supporting an edge of a mask having at least one opening portion which is in close contact with a substrate placed on the substrate seating portion when the substrate is input and output through the gate; A mask raising and lowering portion including an upper and a lower driving portion;
An alignment part installed in the chamber for moving the mask supporting member in a plane direction to align the substrate and the mask introduced through the gate;
And a mask deflection preventing portion provided on the mask to prevent deflection of the mask by magnetic force when aligning the substrate and the mask by the alignment portion,
Wherein the mask comprises a rectangular frame, and a mask sheet coupled to the frame and in close contact with the surface of the substrate. 청구항 1에 있어서,
상기 마스크처짐방지부는,
하나 이상의 자력발생부재와, 상기 챔버에 설치되어 상기 자력발생부재를 지지하도록 상기 자력발생부재와 결합되는 본체를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method according to claim 1,
The mask deflection prevention portion
And a main body coupled to the magnetic force generating member to support the magnetic force generating member, the at least one magnetic force generating member being provided in the chamber. 청구항 2에 있어서,
상기 마스크처짐방지부는, 기판 및 마스크의 얼라인시 하측으로 상기 본체를 하측으로 이동시키고, 기판 및 마스크의 얼라인을 마친 후 상기 본체를 상측으로 이동시키는 상하구동부를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method of claim 2,
Wherein the mask deflection preventing portion further includes an up and down driving portion for moving the main body downward to a lower side when the substrate and the mask are aligned and moving the main body upward after completing the alignment of the substrate and the mask / RTI > 청구항 3에 있어서,
상기 상하구동부는, 기판 및 마스크의 얼라인을 마친 후 마스크가 하측으로 하강하기 전에 상기 본체를 상측으로 이동시키는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method of claim 3,
Wherein the upper and lower drive portions move the main body upward after the substrate and the mask are aligned and before the mask is lowered downward. 청구항 2에 있어서,
상기 자력발생부재는 전자석을 포함하며,
상기 전자석은 기판 및 마스크의 얼라인시 자력을 발생시켜 마스크의 처짐을 방지하도록 제어되고, 기판 및 마스크의 얼라인을 마친 후 마스크에 가해지는 자력을 오프되도록 제어되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method of claim 2,
Wherein the magnetic force generating member includes an electromagnet,
Wherein the electromagnet is controlled to generate a magnetic force at the time of aligning the substrate and the mask so as to prevent sagging of the mask, and is controlled so that the magnetic force applied to the mask is turned off after completing the alignment of the substrate and the mask. 청구항 5에 있어서,
상기 자력발생부재는 기판 및 마스크의 얼라인을 마친 후 마스크가 하측으로 하강하기 전에 자력을 오프되도록 제어되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method of claim 5,
Wherein the magnetic force generating member is controlled so that the magnetic force is turned off before the mask is lowered after finishing the alignment of the substrate and the mask. 청구항 2에 있어서,
상기 자력발생부재는 복수 개로 마스크 중 개구되지 않은 부분에 대응되어 설치된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method of claim 2,
Wherein a plurality of the magnetic force generating members are provided in correspondence with a portion of the mask which is not opened. 청구항 2에 있어서,
상기 자력발생부재는 복수개로 설치되며,
상기 복수개의 자력발생부재는 이웃하는 자력발생부재와의 피치가 마스크의 평면을 기준으로 중앙부분보다 외곽부분에서 더 큰 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method of claim 2,
The plurality of magnetic force generating members are provided,
Wherein the plurality of magnetic force generating members have a larger pitch with respect to a neighboring magnetic force generating member at an outer portion than a central portion with respect to a plane of the mask. 청구항 2에 있어서,
상기 자력발생부재는 복수개로 설치되며,
상기 복수개의 자력발생부재는 마스크에 작용하는 자력이 상이하도록 마스크의 평면으로부터 설치높이를 달리하여 설치된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method of claim 2,
The plurality of magnetic force generating members are provided,
Wherein the plurality of magnetic force generating members are installed at different installation heights from the plane of the mask so that the magnetic force acting on the mask is different. 청구항 2에 있어서,
상기 자력발생부재는 복수개로 설치되며,
상기 복수개의 자력발생부재는 자속밀도의 크기가 서로 다르게 배치된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method of claim 2,
The plurality of magnetic force generating members are provided,
Wherein the plurality of magnetic force generating members have different magnetic flux densities. 청구항 2에 있어서,
상기 자력발생부재는 복수개로 설치되며,
상기 복수개의 자력발생부재는 마스크에 작용하는 자력이 상이하도록 두께가 서로 다르게 배치된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method of claim 2,
The plurality of magnetic force generating members are provided,
Wherein the plurality of magnetic force generating members have different thicknesses so that the magnetic forces acting on the mask are different from each other. 청구항 2에 있어서,
상기 자력발생부재는 복수개로 설치되며,
상기 복수개의 자력발생부재는 마스크의 평면을 향하는 면의 표면적의 크기가 서로 다르게 배치된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method of claim 2,
The plurality of magnetic force generating members are provided,
Wherein the plurality of magnetic force generating members are arranged so that the surface areas of the surfaces facing the plane of the mask are different from each other. 청구항 1 내지 청구항 12 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 마스크처짐방지부는 상기 마스크의 상면을 기준으로 중심부분이 외곽부분보다 더 큰 자력이 작용하도록 설치된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method according to any one of claims 1 to 12,
Wherein the mask deflection preventing portion is provided such that a magnetic force greater than a peripheral portion of the center portion acts on the upper surface of the mask. 청구항 1 내지 청구항 12 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 기판안착부는 상기 마스크를 자력에 의하여 기판에 밀착시키는 마스크홀더가 설치된 것을 특징으로 하는 기판처리장치. The method according to any one of claims 1 to 12,
Wherein the substrate seating portion is provided with a mask holder for bringing the mask into close contact with the substrate by a magnetic force. 청구항 1 내지 청구항 12 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 마스크처짐방지부는 상기 프레임 및 상기 마스크시트 중 적어도 어느 하나에 대하여 자력을 가하도록 설치된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method according to any one of claims 1 to 12,
Wherein the mask deflection preventing portion is provided to apply a magnetic force to at least one of the frame and the mask sheet. 청구항 1 내지 청구항 12 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 기판안착부는, 상기 챔버 내에 고정되어 설치되거나, 상기 챔버 내에서 기판이 안착된 상태로 선형이동되도록 설치된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method according to any one of claims 1 to 12,
Wherein the substrate seating portion is fixedly installed in the chamber or installed so as to linearly move in a state where the substrate is seated in the chamber. 청구항 1 내지 청구항 12 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 기판안착부는, 상기 챔버 내에 선형이동가능하게 설치되며,
상기 챔버는, 상기 기판안착부에 의하여 이송되는 기판의 이송경로의 상부에 위치되어 기판처리를 위한 가스를 분사하는 가스분사부가 설치된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method according to any one of claims 1 to 12,
Wherein the substrate seating portion is installed in the chamber so as to be linearly movable,
Wherein the chamber is provided with a gas injection part located above the transfer path of the substrate transferred by the substrate mounting part and injecting gas for substrate processing. 청구항 1 내지 청구항 12 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 기판안착부는, 상기 챔버 내에 선형이동가능하게 설치되며,
상기 챔버 내에 설치되어 상기 기판안착부의 선형이동을 가이드하는 한 쌍의 가이드레일과;
상기 가이드레일을 따라서 상기 기판안착부를 선형이동시키기 위한 선형구동부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method according to any one of claims 1 to 12,
Wherein the substrate seating portion is installed in the chamber so as to be linearly movable,
A pair of guide rails installed in the chamber and guiding linear movement of the substrate seating part;
And a linear driving unit for linearly moving the substrate seating unit along the guide rails.
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