KR101868461B1 - Shuttle for substrate processing apparatus, and substrate processing apparatus - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판처리장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 기판을 셔틀에 안착시킨 상태에서 안착된 기판을 이송하면 기판처리를 수행하는 기판처리장치의 셔틀 및 기판처리장치에 관한 것이다.
본 발명은 밀폐된 내부공간을 형성하는 공정챔버와; 상기 공정챔버에 설치되어 기판이 안착되는 기판안착부를 가지며 안착된 기판을 선형이동시키는 셔틀을 포함하며, 상기 기판안착부에 안착된 기판에 하나 이상의 개구부가 형성된 마스크를 밀착시킨 후 상기 셔틀을 이동시키면서 기판처리를 수행하는 기판처리장치의 셔틀로서, 상기 마스크가 기판에 밀착된 상태에서 상기 기판안착부에 대한 슬립을 방지하기 위한 슬립방지부가 설치된 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 셔틀을 개시한다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate processing apparatus, and more particularly, to a shuttle and substrate processing apparatus of a substrate processing apparatus that performs substrate processing by transferring a substrate placed with a substrate placed on a shuttle.
The present invention includes a process chamber for forming a closed inner space; And a shuttle for moving the substrate in a linear manner, the substrate having a substrate mounting part for mounting the substrate thereon, the substrate being mounted on the substrate mounting part, the mask having one or more openings formed thereon, There is provided a shuttle of a substrate processing apparatus for performing a substrate processing, wherein a slip prevention portion for preventing slip with respect to the substrate mounting portion in a state in which the mask is in close contact with the substrate is provided.

Description

기판처리장치의 셔틀 및 기판처리장치 {Shuttle for substrate processing apparatus, and substrate processing apparatus}[0001] The present invention relates to a shuttle and a substrate processing apparatus for a substrate processing apparatus,

본 발명은 기판처리장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 기판을 셔틀에 안착시킨 상태에서 안착된 기판을 이송하면 기판처리를 수행하는 기판처리장치의 셔틀 및 기판처리장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate processing apparatus, and more particularly, to a shuttle and substrate processing apparatus of a substrate processing apparatus that performs substrate processing by transferring a substrate placed with a substrate placed on a shuttle.

기판처리장치란 밀폐된 처리공간을 형성하는 공정챔버를 구비하여, 기판표면을 식각하거나 증착하는 등 기판처리를 수행하는 장치를 말한다.The substrate processing apparatus refers to an apparatus that includes a process chamber for forming a closed process space, and performs substrate processing such as etching or vapor deposition of the substrate surface.

여기서 상기 기판처리장치에 의하여 처리되는 기판은 반도체용 웨이퍼, LCD패널용 유리기판, OLDE패널용 유리기판, 태양전지용 기판 등이 있다.Here, the substrate to be processed by the substrate processing apparatus may be a semiconductor wafer, a glass substrate for an LCD panel, a glass substrate for an OLDE panel, or a substrate for a solar cell.

그리고 종래의 기판처리장치 중 공정챔버 내에 선형이동이 가능하도록 설치되며 기판이 안착되는 셔틀을 구비하여, 셔틀에 기판을 안착시킨 후 셔틀의 이동에 의하여 기판처리를 수행하는 장치가 있다.In addition, there is an apparatus for performing substrate processing by moving a shuttle after a substrate is mounted on a shuttle, which is provided in a process chamber of a conventional substrate processing apparatus so as to be linearly movable and on which a substrate is placed.

그런데 셔틀을 구비한 종래의 기판처리장치는 기판이 고정된 상태에서 기판처리를 수행하는 기판처리장치와는 달리 셔틀에 안착되어 기판이 이송되면서 진동, 관성 등에 의하여 마스크 및/또는 기판이 셔틀에 대하여 슬립, 즉 미끄러져 기판에 손상이 있거나 균일한 기판처리가 불가능한 문제점이 있다.However, unlike a substrate processing apparatus in which a substrate is processed in a state in which a substrate is fixed, a conventional substrate processing apparatus having a shuttle is mounted on a shuttle and transferred to the shuttle so that the mask and / There is a problem that slip, that is, slipping, causes damage to the substrate or makes uniform substrate processing impossible.

특히 셔틀을 구비한 종래의 기판처리장치에 있어서, 패턴화된 기판처리의 수행을 위하여 기판 상에 마스크를 위치시킨 경우 마스크 및/또는 기판의 슬립이 있는 경우 기판표면의 손상의 원인으로 작용하거나, 기판 및 마스크의 얼라인 상태에도 영향을 미쳐 균일한 기판처리가 불가능한 문제점이 있다.In particular, in a conventional substrate processing apparatus having a shuttle, when a mask is placed on a substrate for carrying out a patterned substrate processing, if there is a slip of the mask and / or the substrate, The alignment of the substrate and the mask is affected, and uniform substrate processing can not be performed.

더 나아가 상기와 같은 문제점을 가지는 종래의 기판처리장치는 셔틀이 고속으로 이동하는 경우 진동, 관성 등의 영향으로 기판/마스크의 슬립현상이 극대화되는바 셔틀의 이동속도에 제한을 받아 궁극적으로 기판처리속도를 향상시키는데 한계가 있는 문제점이 있다.Furthermore, in the conventional substrate processing apparatus having the above-described problems, when the shuttle moves at high speed, the slip phenomenon of the substrate / mask is maximized due to the influence of vibration, inertia and the like, There is a problem that there is a limit to improve the speed.

본 발명의 목적은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 셔틀의 기판안착부에 안착되는 마스크의 슬립을 방지하기 위한 슬립방지수단을 구비하여 마스크의 슬립에 따른 기판손상을 방지함과 아울러 기판처리시 셔틀의 이동속도를 높일 수 있어 기판처리속도를 향상, 즉 생산성을 현저히 높일 수 있는 기판처리장치의 셔틀 및 기판처리장치를 제공하는 데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a slip prevention device for preventing slippage of a mask placed on a substrate mounting part of a shuttle to prevent the substrate from being damaged due to slippage of the mask, And to provide a shuttle and a substrate processing apparatus of a substrate processing apparatus capable of increasing a moving speed of a shuttle and improving a substrate processing speed, that is, productivity can be remarkably increased.

본 발명은 상기와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위하여 창출된 것으로서, 본 발명은 밀폐된 내부공간을 형성하는 공정챔버와; 상기 공정챔버에 설치되어 기판이 안착되는 기판안착부를 가지며 안착된 기판을 선형이동시키는 셔틀을 포함하며, 상기 기판안착부에 안착된 기판에 하나 이상의 개구부가 형성된 마스크를 밀착시킨 후 상기 셔틀을 이동시키면서 기판처리를 수행하는 기판처리장치의 셔틀로서, 상기 마스크가 기판에 밀착된 상태에서 상기 기판안착부에 대한 슬립을 방지하기 위한 슬립방지부가 설치된 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 셔틀을 개시한다.The present invention has been made in order to achieve the above-mentioned object of the present invention, and it is an object of the present invention to provide a process chamber, And a shuttle for moving the substrate in a linear manner, the substrate having a substrate mounting part for mounting the substrate thereon, the substrate being mounted on the substrate mounting part, the mask having one or more openings formed thereon, There is provided a shuttle of a substrate processing apparatus for performing a substrate processing, wherein a slip prevention portion for preventing slip with respect to the substrate mounting portion in a state in which the mask is in close contact with the substrate is provided.

상기 슬립방지부는, 상기 셔틀에 설치되어 상기 마스크에 대하여 자력을 가하여 상기 기판안착부에 대한 슬립을 방지하는 자력발생부를 포함할 수 있다.The slip prevention part may include a magnetic force generating part installed on the shuttle and applying a magnetic force to the mask to prevent slip of the substrate to the substrate seating part.

상기 자력발생부는, 전자석 또는 영구자석으로 구성될 수 있다.The magnetic force generating section may be composed of an electromagnet or a permanent magnet.

상기 자력발생부는, 상기 기판안착부의 상면 또는 저면에 형성된 요홈부에 설치될 수 있다.The magnetic force generating portion may be installed in a recessed portion formed on an upper surface or a lower surface of the substrate seating portion.

상기 자력발생부는, 상기 기판안착부의 내부에 설치될 수 있다.The magnetic force generating portion may be installed inside the substrate seating portion.

상기 기판안착부는, 상기 마스크를 자력에 의하여 기판에 밀착시키는 마스크홀더가 설치되며, 상기 자력발생부는, 상기 마스크의 가장자리에 대응되는 위치에서 상기 마스크홀더에 설치될 수 있다.The substrate mount part may be provided with a mask holder for bringing the mask into close contact with the substrate by a magnetic force, and the magnetic force generating part may be installed in the mask holder at a position corresponding to an edge of the mask.

상기 자력발생부는, 상기 기판안착부의 저면에서 상하이동이 가능하도록 설치될 수 있다.The magnetic force generating unit may be installed so as to be vertically movable from a bottom surface of the substrate seating part.

상기 마스크는 직사각형의 프레임과, 상기 프레임에 결합되며 기판의 표면에 밀착되는 마스크시트를 포함하며, 상기 자력발생부는 상기 프레임에 대하여 자력을 가할 수 있다.The mask includes a rectangular frame, and a mask sheet coupled to the frame and in close contact with the surface of the substrate, and the magnetic force generating unit may apply a magnetic force to the frame.

상기 마스크는 직사각형의 프레임과, 상기 프레임에 결합되며 기판의 표면에 밀착되는 마스크시트를 포함하며, 상기 기판안착부는, 기판이 안착되는 직사각형의 기판안착면이 형성되고, 상기 마스크의 프레임이 삽입되도록 상기 기판안착면의 가장자리를 따라서 형성된 프레임삽입부가 형성되며, 상기 자력발생부는 상기 프레임삽입부를 따라서 복수개로 설치될 수 있다.Wherein the mask includes a rectangular frame and a mask sheet coupled to the frame and in close contact with the surface of the substrate, wherein the substrate seating portion includes a rectangular substrate seating surface on which the substrate is seated, A frame inserting portion formed along an edge of the substrate seating surface may be formed, and the magnetic force generating portion may be provided in plurality along the frame inserting portion.

상기 셔틀의 선형이동방향을 기준으로 상기 기판안착부의 전방 및 후방 가장자리 부근에서 균일한 공정분위기를 형성하기 위하여, 상기 기판안착부의 전방 및 후방 중 적어도 어느 하나에 결합되는 윙부를 추가로 포함할 수 있다.And may further include a wing coupled to at least one of the front and rear of the substrate seating portion to form a uniform process atmosphere in the vicinity of the front and rear edges of the substrate seating portion with respect to the linear movement direction of the shuttle .

본 발명은 또한 밀폐된 내부공간을 형성하는 공정챔버와; 상기 공정챔버에 설치되어 기판이 안착되는 기판안착부를 가지며 안착된 기판을 선형이동시키는 셔틀로서, 상기 셔틀과; 상기 공정챔버에 설치되어 상기 셔틀에 의하여 이송되는 기판의 이송경로의 상부에 위치되어 기판처리를 위한 가스를 분사하는 가스분사부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치를 개시한다.The present invention also relates to a process chamber for forming an enclosed inner space; A shuttle for linearly moving a substrate placed on the process chamber, the substrate having a substrate seating part on which the substrate is placed; And a gas injection unit installed in the process chamber and positioned above the transfer path of the substrate transferred by the shuttle to inject gas for substrate processing.

상기 기판처리장치는 상기 공정챔버 내에 설치되어 상기 셔틀의 선형이동을 가이드하는 한 쌍의 가이드레일과; 상기 가이드레일을 따라서 상기 셔틀을 선형이동시키기 위한 선형구동부를 포함할 수 있다.The substrate processing apparatus includes a pair of guide rails installed in the process chamber and guiding the linear movement of the shuttle; And a linear driving unit for linearly moving the shuttle along the guide rails.

상기 마스크를 상기 기판안착부에 대하여 승강시키는 마스크승강구동부가 상기 공정챔버 및 상기 셔틀 중 적어도 어느 하나에 설치될 수 있다.A mask lifting and driving portion for lifting the mask relative to the substrate seating portion may be installed in at least one of the process chamber and the shuttle.

상기 마스크는 직사각형의 프레임과, 상기 프레임에 결합되며 기판의 표면에 밀착되는 마스크시트를 포함하며, 상기 자력발생부는 상기 프레임에 대하여 자력을 가할 수 있다.The mask includes a rectangular frame, and a mask sheet coupled to the frame and in close contact with the surface of the substrate, and the magnetic force generating unit may apply a magnetic force to the frame.

상기 마스크는 직사각형의 프레임과, 상기 프레임에 결합되며 기판의 표면에 밀착되는 마스크시트를 포함하며, 상기 기판안착부는, 기판이 안착되는 직사각형의 기판안착면이 형성되고, 상기 마스크의 프레임이 삽입되도록 상기 기판안착면의 가장자리를 따라서 형성된 프레임삽입부가 형성되며, 상기 자력발생부는 상기 프레임삽입부를 따라서 복수개로 설치될 수 있다.Wherein the mask includes a rectangular frame and a mask sheet coupled to the frame and in close contact with the surface of the substrate, wherein the substrate seating portion includes a rectangular substrate seating surface on which the substrate is seated, A frame inserting portion formed along an edge of the substrate seating surface may be formed, and the magnetic force generating portion may be provided in plurality along the frame inserting portion.

본 발명에 따른 기판처리장치는 셔틀의 기판안착부에 안착되는 마스크의 슬립을 방지하기 위한 슬립방지수단을 구비하여 마스크의 슬립에 따른 기판손상을 방지함과 아울러 기판처리시 셔틀의 이동속도를 높일 수 있어 기판처리속도를 향상, 즉 생산성을 현저히 높일 수 있는 이점이 있다.The substrate processing apparatus according to the present invention includes slip preventing means for preventing slipping of a mask placed on a substrate mounting portion of a shuttle to prevent substrate damage due to slipping of the mask and increase the moving speed of the shuttle during substrate processing The substrate processing speed can be improved, that is, the productivity can be remarkably increased.

또한 본 발명에 따른 기판처리장치는 자력에 의하여 기판에 밀착되는 마스크를 기판안착부에 고정시킴으로써 셔틀의 이동에도 불구하고 마스크의 슬립을 방지하여 마스크의 슬립에 따른 기판손상을 방지함과 아울러 기판처리시 셔틀의 이동속도를 높일 수 있어 기판처리속도를 향상, 즉 생산성을 현저히 높일 수 있는 이점이 있다.In addition, the substrate processing apparatus according to the present invention can prevent the substrate from being slipped due to the slip of the mask, while preventing the mask from slipping even when the shuttle moves, by fixing the mask, which is in close contact with the substrate by the magnetic force, The movement speed of the shuttle can be increased, and the substrate processing speed can be improved, that is, the productivity can be remarkably increased.

특히 기판안착부 등에 영구자석 또는 전자석을 설치하여 마스크를 기판안착부에 고정시킴으로써 그 구조가 간단하며, 기판처리에 대한 영향을 최소화하여 기판처리에 대한 최적의 환경을 제공할 수 있는 이점이 있다.Particularly, since a permanent magnet or an electromagnet is provided on a substrate mounting portion and the mask is fixed to the substrate mounting portion, the structure is simple, and the influence on the substrate processing is minimized, thereby providing an optimal environment for the substrate processing.

도 1은 본 발명에 따른 기판처리장치를 보여주는 측단면도이다.
도 2는 도 1의 기판처리장치를 보여주는 평단면도이다.
도 3은 도 2에서 Ⅲ-Ⅲ 방향의 셔틀의 단면을 보여주는 일부단면도이다.
도 4는 도 1의 기판처리장치 중 셔틀의 기판안착부를 보여주는 평면도이다.
도 5a 내지 도 5c는 도 1의 기판처리장치 중 변형된 슬립방지부를 가지는 예들을 도시한 일부단면도이다.1 is a side sectional view showing a substrate processing apparatus according to the present invention.
2 is a plan sectional view showing the substrate processing apparatus of FIG.
3 is a partial cross-sectional view showing a section of the shuttle in the III-III direction in FIG.
FIG. 4 is a plan view showing a substrate seating portion of the shuttle among the substrate processing apparatuses of FIG. 1;
5A to 5C are partial cross-sectional views illustrating examples of modified anti-slip portions of the substrate processing apparatus of FIG.

이하 본 발명에 따른 셔틀 및 기판처리장치에 관하여 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the shuttle and substrate processing apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명에 따른 기판처리장치는 도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 밀폐된 내부공간(S)을 형성하는 공정챔버(100)와, 공정챔버(100)에 설치되어 기판(10)이 안착되는 기판안착부(210)를 가지며 안착된 기판(10)을 선형이동하는 셔틀(100)을 포함하며, 기판안착부(210)에 안착된 기판(10)에 마스크(20)를 밀착시킨 후 셔틀(100)을 이동시키면서 기판처리를 수행한다.1 to 3, a substrate processing apparatus according to the present invention includes a process chamber 100 forming a closed internal space S, a substrate processing unit 100 installed in the process chamber 100, And a shuttle 100 for linearly moving the mounted substrate 10 having the substrate seating part 210. The mask 20 is brought into close contact with the substrate 10 placed on the substrate seating part 210, The substrate processing is performed while moving the substrate 100.

여기서 본 발명에 따른 기판처리장치는 식각공정, 증착공정 등 기판처리공정을 수행하며, 특히 ALD공정, 더 구체적으로 OLED기판에 대한 봉지공정을 수행할 수 있다.Here, the substrate processing apparatus according to the present invention performs a substrate processing process such as an etching process and a deposition process, and in particular, can perform an ALD process, more specifically, an encapsulation process for an OLED substrate.

그리고 본 발명에 따른 기판처리장치의 기판처리대상은 반도체용 웨이퍼, LCD패널용 유리기판, OLDE패널용 유리기판, 태양전지용 기판 등 기판처리가 필요한 기판이면 어떠한 기판도 가능하다.The substrate to be processed in the substrate processing apparatus according to the present invention may be any substrate as long as it is a substrate for semiconductor processing, such as a semiconductor wafer, a glass substrate for an LCD panel, a glass substrate for an OLDE panel, or a solar cell substrate.

또한 상기 마스크(20)는 기판(10)의 지지, 기판(10)의 기판처리면에 소정 패턴의 기판처리 등을 위하여 기판(10)에 밀착되는 구성으로서 다양한 구성이 가능하다.The mask 20 can be variously configured as a structure in which the mask 20 is closely attached to the substrate 10 for supporting the substrate 10, treating the substrate 10 with a predetermined pattern, or the like.

예로서, 상기 마스크(20)는 도 3에 도시된 바와 같이, 직사각형의 프레임(22)과, 프레임(22)에 결합되며 기판(10)의 표면에 밀착되는 마스크시트(21)를 포함할 수 있다.By way of example, the mask 20 may comprise a rectangular frame 22 and a mask sheet 21 coupled to the frame 22 and in close contact with the surface of the substrate 10, as shown in Fig. 3 have.

상기 프레임(22)은 마스크(20)가 충분한 강성을 가지도록 판상의 구조, 단면이 직사각형인 직사각형관 등 다양한 구성이 가능하며, 후술하는 슬립방지부와의 구성을 고려하여 자력에 반응하는 SUS재질, 인바(Invar)재질 등을 가질 수 있다.The frame 22 may have various structures such as a plate-like structure and a rectangular tube having a rectangular cross section so that the mask 20 has a sufficient rigidity. In consideration of the structure with the slip prevention portion to be described later, the SUS material , Invar material, and the like.

상기 마스크시트(21)는 프레임(22)에 용접 등에 의하여 결합되며 하나 이상의 개구부가 형성되어 기판(10)의 기판처리면에 밀착되는 구성으로서 후술하는 자력에 의하여 마스크(20)를 기판(10)에 밀착시키는 마스크홀더(190)에 인력이 작용할 수 있도록 자력에 반응하는 SUS재질, 인바(Invar)재질 등을 가질 수 있다.The mask sheet 21 is bonded to the frame 22 by welding or the like and has at least one opening formed in close contact with the substrate processing surface of the substrate 10. The mask sheet 21 is attached to the substrate 10 by a magnetic force, An Invar material, or the like, which reacts with a magnetic force so that an attractive force may act on the mask holder 190 that is brought into close contact with the mask holder 190.

한편 상기 마스크시트(21)에 형성되는 하나 이상의 개구부는 기판처리면에 처리될 기판처리의 종류에 따라서 하나의 개구, 복수의 개구 등 다양한 패턴으로 형성될 수 있다.On the other hand, one or more openings formed in the mask sheet 21 may be formed in various patterns such as one opening, a plurality of openings, or the like, depending on the type of substrate processing to be processed on the substrate processing surface.

상기 공정챔버(100)는 기판처리의 수행을 위한 처리공간(S)이 형성되며 기판처리에 따라서 다양한 구조가 가능하며, 예로서, 도 1에 도시된 바와 같이, 서로 착탈가능하게 결합되어 밀폐된 처리공간(S)을 형성하는 챔버본체(120) 및 상부리드(110)를 포함하여 구성될 수 있다. 여기서 상기 공정챔버(100)는 도 1에 도시된 바와 같이, 지지프레임에 의하여 지지되어 설치될 수 있다.The process chamber 100 is formed with a process space S for performing a substrate process, and various structures are possible according to the substrate process. For example, as shown in FIG. 1, And a chamber body 120 and an upper lead 110 which form a process space S, as shown in FIG. Here, the process chamber 100 may be supported by a support frame, as shown in FIG.

상기 챔버본체(120)에는 반송로봇(미도시) 등에 의하여 반송되어 기판(10)이 도입되거나 배출될 수 있도록 하나 이상의 게이트(101)가 형성될 수 있으며, 처리공간(S) 내의 배기 및 압력제어를 위하여 배기시스템과 연결될 수 있다. One or more gates 101 may be formed in the chamber body 120 so that the substrate 10 may be transferred or discharged by a transfer robot (not shown) And may be connected to the exhaust system.

그리고 상기 챔버본체(120)는 도 1에 도시된 바와 같이, 지지프레임(180)에 의하여 지지될 수 있으며, 그 하측에 기판(10)의 도입 및 배출시 기판을 지지하기 위한 리프트핀을 포함하는 기판리프팅시스템(420), 기판(10) 및 마스크(20)의 얼라인을 위한 얼라인시스템(410), 마스크(20)을 상하로 이동시키기 위한 마스크승하강시스템(430) 등이 설치될 수 있다.1, the chamber body 120 may be supported by a support frame 180 and may include a lift pin for supporting the substrate when introducing and discharging the substrate 10 thereunder An alignment system 410 for aligning the substrate lifting system 420, the substrate 10 and the mask 20, a mask ascending and descending system 430 for moving the mask 20 up and down, have.

또한 상기 챔버본체(120)는 마스크(20) 및 기판안착면(211) 사이에 외부로부터 기판(10)이 도입되거나, 기판안착면(211)에 안착된 기판(10)이 외부로 반출될 때, 마스크(20)를 상측으로 이동시킬 필요가 있는바, 마스크(20)를 기판안착부(210)에 대하여 승강시키기 위한 마스크승강구동부(미도시)가 설치될 수 있다.When the substrate 10 is introduced into the chamber body 120 from the outside between the mask 20 and the substrate seating surface 211 or when the substrate 10 placed on the substrate seating surface 211 is taken out (Not shown) for lifting and lowering the mask 20 with respect to the substrate mount 210 may be provided as the mask 20 needs to be moved upward.

상기 마스크승강구동부는 셔틀(200)이 외부와 기판(10)을 교환하기 위한 위치에 왔을 때 마스크(20)를 상측으로 상승시키고, 마스크(20) 및 기판안착면(211) 사이에 기판(10)이 도입되고 기판안착면(211)에 기판(10)이 안착된 후 마스크(20)를 하강시켜 기판(10)에 밀착시키는 구성으로서 다양한 구성이 가능하다. 여기서 상기 기판안착부(210)에는 마스크승강구동부의 일부인 마스크지지부(미도시)가 기판안착부(210)를 관통하여 상하로 이동될 수 있도록 복수의 관통공(219)들이 형성될 수 있다.The mask lifting and lowering driving unit lifts the mask 20 upward when the shuttle 200 comes to a position for exchanging the substrate 10 with the outside and moves the substrate 10 between the mask 20 and the substrate seating surface 211 And the mask 20 is lowered after the substrate 10 is mounted on the substrate seating surface 211 and is brought into close contact with the substrate 10. A plurality of through holes 219 may be formed in the substrate seating part 210 so that a mask supporting part (not shown), which is a part of the mask lifting and driving part, can pass through the substrate seating part 210 and move up and down.

그리고, 상기 마스크승강구동부는 셔틀에 설치되는 등, 공정챔버(100) 및 셔틀(200) 중 적어도 어느 하나에 설치되는 등 다양하게 설치될 수 있음은 물론이다.It should be noted that the mask lifting and driving unit may be provided in at least one of the process chamber 100 and the shuttle 200, or may be installed in the shuttle.

한편 상기 공정챔버(100)는 도 1에 도시된 바와 같이, 셔틀(200)에 의하여 이송되는 기판(10)의 이송경로의 상부에 위치되어 기판처리를 위한 가스를 분사하는 가스분사부(140)가 설치될 수 있다.1, the process chamber 100 includes a gas spraying unit 140 positioned above a transfer path of the substrate 10 transported by the shuttle 200 to spray a gas for substrate processing, Can be installed.

또한 공정처리에 따른 전원이 인가를 위하여 상기 공정챔버(100)는 접지되거나 RF전원이 인가되는 등 다양한 전원이 인가될 수도 있다.Also, in order to apply power according to the process, the process chamber 100 may be grounded, or may be supplied with various power sources such as RF power.

또한 상기 기판리프팅시스템 및 가스분사부(140)의 위치와 관련하여, 본 발명에 따른 기판처리장치는 셔틀(200)에 의하여 기판(10)이 이송되면서 기판처리가 이루어짐을 고려하여, 기판리프팅시스템은 기판(10)이 도입되거나 배출되는 위치 즉, 게이트(101) 부근에 설치되며, 가스분사부(140)는 셔틀(200)의 이동에 연동하여 기판(10) 전체에 걸쳐 골고루 기판처리가 이루어질 수 있도록 셔틀(200)의 이동경로를 기준으로 그 중앙에 배치될 수 있다.In consideration of the fact that the substrate processing is performed while the substrate 10 is being transported by the shuttle 200, the substrate lifting system according to the present invention, in relation to the position of the substrate lifting system and the gas injection unit 140, The gas spraying unit 140 is provided at a position where the substrate 10 is introduced or discharged, that is, in the vicinity of the gate 101. The gas spraying unit 140 processes the substrate evenly over the entire substrate 10 in conjunction with the movement of the shuttle 200 The movement path of the shuttle 200 may be located at the center thereof.

한편 상기 공정챔버(100)는 셔틀(200)의 선형이동을 위하여, 공정챔버(100) 내에 설치된 한 쌍의 가이드레일(130)과; 가이드레일(130)을 따라서 선형이동되는 셔틀(200)과; 가이드레일(130)을 따라서 셔틀(200)을 선형이동시키기 위한 선형구동부(150)를 포함한다.Meanwhile, the process chamber 100 includes a pair of guide rails 130 installed in the process chamber 100 for linear movement of the shuttle 200; A shuttle 200 linearly moved along the guide rail 130; And a linear driving unit 150 for linearly moving the shuttle 200 along the guide rails 130.

상기 가이드레일(130)은 후술하는 선형구동부(150)의 선형구동에 의하여 셔틀(200)의 선형이동을 가이드하는 구성으로서, 셔틀(200)의 이동을 가이드할 수 있는 구성이면 어떠한 구성도 가능하다.The guide rail 130 is configured to guide the linear movement of the shuttle 200 by linearly driving the linear drive unit 150 to be described later and may have any structure as long as it can guide the movement of the shuttle 200 .

즉, 상기 가이드레일(130)은 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 셔틀(200)의 선형이동방향, 즉 종방향(X축 방향)으로 배치된 레일(132)과 공정챔버(100) 내에 설치되어 레일(132)을 지지하도록 설치된 레일지지부(131)를 포함할 수 있다. 여기서 상기 가이드레일(130)은 레일(132) 및 레일지지부(131)가 일체로 형성될 수 있음은 물론이다.2 and 3, the guide rail 130 includes a rail 132 and a process chamber 100, which are arranged in a linear movement direction of the shuttle 200, that is, a longitudinal direction (X-axis direction) And a rail support portion 131 installed to support the rail 132. Here, the rail 132 and the rail support 131 may be integrally formed with the guide rail 130.

도 3에서 도면부호 133은 가이드레일(130) 및 이동블록(250)의 접촉에 의하여 발생되는 파티클을 기판안착부(210) 쪽으로 전달되는 것을 방지하기 위한 실드부재를 가리킨다.3, reference numeral 133 denotes a shield member for preventing particles generated by the contact of the guide rail 130 and the moving block 250 from being transmitted to the substrate mount 210 side.

상기 선형구동부(150)는 셔틀(200)의 선형이동을 구동할 수 있는 구성이면 어떠한 구성도 가능하다.The linear driving unit 150 may have any structure as long as it can drive the linear movement of the shuttle 200.

예로서, 상기 선형구동부(150)는 도 2에 도시된 바와 같이, 공정챔버(100)에 설치된 구동원(151) 및 셔틀(200)과 결합되어 구동원(151)의 구동에 의하여 셔틀(200)을 종방향(X축 방향)으로 이동시키는 선형이동부(152)를 포함할 수 있다.2, the linear driving unit 150 is coupled with a driving source 151 and a shuttle 200 installed in the process chamber 100 to drive the shuttle 200 by driving the driving source 151 And may include a linear movement portion 152 that moves in the longitudinal direction (X-axis direction).

여기서 상기 선형구동부(150)는 스크류잭, 유압실린더 등 그 구동방식에 따라서 다양한 방식이 가능하며, 파티클에 민감한 공정이 수행됨을 고려하여 파티클의 발생이 가장 적은 자기를 이용한 선형구동장치가 사용됨이 바람직하다.Here, the linear driving unit 150 may be a screw jack, a hydraulic cylinder, or the like, and may be driven in various ways. In consideration of particle-sensitive processes, a linear driving apparatus using magnetic particles Do.

상기 셔틀(200)은 공정챔버(100) 내에 설치되어 안착된 기판(10)을 선형이동하는 구성으로서, 도 1 내지 도 8에 도시된 바와 같이, 기판(10)이 안착되는 기판안착면(211)을 가지는 기판안착부(210)와; 기판안착부(210)의 저면에 탈착가능하게 결합되고, 서로 탈착가능하게 결합된 복수의 프레임부재들을 포함하는 프레임부(220)를 포함하는 등 다양한 구성이 가능하다.The shuttle 200 is configured to linearly move the substrate 10 installed in the process chamber 100 to linearly move the substrate 10. The shuttle 200 includes a substrate seating surface 211 on which the substrate 10 is seated, A substrate mounting portion 210 having a substrate mounting portion 210; And a frame unit 220 detachably coupled to a bottom surface of the substrate mount 210 and including a plurality of frame members detachably coupled to each other.

상기 기판안착부(210)는 기판안착면(211)을 구비하여, 반송로봇(미도시)과 같은 기판이송장치에 의하여 공정챔버(100) 내에 도입된 기판(10)이 안착되는 구성으로서 기판(10)이 안착될 수 있는 구성이면 어떠한 구성도 가능하다.The substrate seating unit 210 includes a substrate seating surface 211 and is configured to receive a substrate 10 introduced into the process chamber 100 by a substrate transfer apparatus such as a transfer robot 10 can be seated.

여기서 상기 기판안착면(211)은 기판(10)의 형상에 대응되는 형상, 예를 들면 직사각형 형상을 가지며, 기판처리면과 반대면인 기판(10)을 지지하기 위한 구성으로서 기판처리를 위하여 기판(10)을 가열하거나 냉각하는 등 기판(10)에 대한 열전달이 용이하도록 형성됨이 바람직하다.The substrate seating surface 211 has a shape corresponding to the shape of the substrate 10, for example, a rectangular shape. The substrate seating surface 211 has a structure for supporting the substrate 10 opposite to the substrate processing surface. It is preferable that heat is transferred to the substrate 10 such that the substrate 10 is heated or cooled.

상기 기판안착부(210)의 재질은 공정에 따라서 공정에 영향을 주지 않는 재질의 사용이 바람직하며, 예로서, 알루미늄, 알루미늄 합금 등의 재질이 사용될 수 있으며, 통상 처리되는 기판의 형상이 직사각형임을 고려하여 직사각형의 형상을 가지는 것이 바람직하다.The material of the substrate mount 210 is preferably a material that does not affect the process depending on the process. For example, materials such as aluminum and aluminum alloy may be used, and the shape of the substrate to be processed usually is rectangular It is preferable to have a rectangular shape.

상기 기판안착부(210)는 기판(10)의 안착, 마스크(20)의 구조 등에 따라서 다양한 구성이 가능하며, 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 마스크(20)의 프레임(22)이 삽입되도록 기판안착면(211)의 가장자리를 따라서 형성된 프레임삽입부(213)가 형성됨이 바람직하다.2 and 3, the frame 22 of the mask 20 may be mounted on the substrate mounting part 210. The substrate mounting part 210 may be formed of any suitable material, It is preferable that a frame inserting portion 213 is formed along the edge of the substrate seating surface 211 so as to be inserted.

상기 기판안착부(210)의 저면 쪽에는 자력에 의하여 마스크(20), 특히 마스크시트(21)를 기판(10)에 밀착시키는 마스크홀더(190)가 설치될 수 있다.A mask holder 190 may be provided on the bottom surface of the substrate seating part 210 to closely contact the mask 20 and the mask sheet 21 with the substrate 10 by a magnetic force.

또한 상기 기판안착부(210)의 저면 쪽에는 기판(10)을 가열하기 위한 히터(미도시)가 설치될 수 있다.A heater (not shown) for heating the substrate 10 may be installed on the bottom surface of the substrate mount 210.

상기 프레임부(220)는 기판안착부(210)의 저면에 탈착가능하게 결합되고, 서로 탈착가능하게 결합된 복수의 프레임부재들을 포함하여 셔틀(200)을 경량화 및 유지보수시 교체가 원활하게 하기 위한 구성으로서 다양한 구성이 가능하다.The frame part 220 includes a plurality of frame members detachably coupled to the bottom surface of the substrate seating part 210 and detachably coupled to each other to reduce the weight of the shuttle 200, Various configurations are possible.

예로서, 상기 프레임부(220)를 구성하는 복수의 프레임부재들은 그 재질이 기판안착부(210)에 비하여 강도가 높지만 열변형이 작은, 즉 열팽창률이 작은 재질, 예를 들면 FRP(fiber reinforced plastic)재질의 사용이 바람직하다. 그리고 FRP로는 유리강화섬유(GFRP), 탄소강화섬유(CFRP) 등이 있다.For example, a plurality of frame members constituting the frame unit 220 may be made of a material having a higher strength than the substrate seating unit 210 but having a smaller thermal deformation, that is, a material having a lower coefficient of thermal expansion, such as FRP plastic material is preferred. And FRP is glass reinforced fiber (GFRP) and carbon reinforced fiber (CFRP).

한편 상기 셔틀(200)의 선형이동방향(X축 방향)을 기준으로 기판안착부(210)의 전방 및 후방 가장자리 부근에서 균일한 공정분위기를 형성하기 위하여, 상기 셔틀(200)은 종방향(X축 방향)을 기준으로 기판안착부(210)의 전방 및 후방 중 적어도 어느 하나에 결합되어 기판안착면(211) 상에 안착된 기판(10), 또는 마스크(20)가 설치된 경우 마스크(20)의 상면과 동일한 평면을 형성하는 윙부(240)를 추가로 포함할 수 있다.In order to form a uniform process atmosphere in the vicinity of the front and rear edges of the substrate seating part 210 with respect to the linear movement direction (X axis direction) of the shuttle 200, A substrate 10 which is coupled to at least one of the front and rear sides of the substrate seating part 210 and which is mounted on the substrate seating surface 211 with respect to the substrate 20, And a wing portion 240 which forms the same plane as the upper surface of the wing portion 240.

상기 윙부(240)는 가스흐름의 왜곡 등으로 인하여 기판안착부(210)의 가장자리 부근에서 기판처리가 불균하게 이루어질 수 있는바 이를 보완하기 위한 구성으로서 기판안착부(210)의 가장자리 부근에서 균일한 공정분위기를 형성하기 위하여 기판안착면(211) 상에 안착된 기판(10), 또는 마스크(20)가 설치된 경우 마스크(20)의 상면과 동일한 평면을 형성하는 구성이면 어떠한 구성도 가능하다.The wing portion 240 may be made unevenly in the vicinity of the edge of the substrate seating portion 210 due to the distortion of the gas flow or the like. The wing portion 240 may be formed in a uniform shape near the edge of the substrate seating portion 210 Any configuration is possible as long as the substrate 10 is placed on the substrate seating surface 211 to form a process atmosphere or the upper surface of the mask 20 when the mask 20 is provided.

예로서, 상기 윙부(240)는 프레임부(220)에 지지되어 탈착가능하게 설치되는 플레이트 형상을 가질 수 있으며, 그 재질은 기판안착부(210)와 동일한 재질, 즉 알루미늄 또는 알루미늄합금 재질을 가지는 것이 바람직하다.For example, the wing part 240 may have a plate shape supported by the frame part 220 and detachably installed. The wing part 240 may have the same material as the substrate seating part 210, that is, aluminum or aluminum alloy .

한편 상기와 같은 구성을 가지는 셔틀(200)은 기판처리를 위하여 공정챔버(100) 내에서 선형이동하는데, 셔틀(200)이 선형이동하는 경우 기판안착부(211)에 안착된 기판(10) 및 마스크(20)는 관성에 의하여 셔틀(200)의 이동방향으로 미끄럼, 즉 슬립이 발생될 수 있으며, 기판(10) 및/또는 마스크(20)의 미끄럼에 의하여 기판(10)에 대한 마스크(20)의 정렬이 흐트러져 기판처리의 오작동으로 작용하건, 기판(10)에 밀착된 마스크(20)가 기판처리면에 손상을 가하여 기판(10)을 손상시키는 문제점이 있다.Meanwhile, the shuttle 200 having the above-described configuration linearly moves within the process chamber 100 for substrate processing, and the substrate 10 and the substrate 10 mounted on the substrate mount 211 when the shuttle 200 moves linearly The mask 20 may be slid or slipped in the direction of movement of the shuttle 200 due to inertia and may be displaced relative to the substrate 10 by sliding the substrate 10 and / There is a problem that the mask 20 adhered to the substrate 10 damages the substrate processing surface and damages the substrate 10, regardless of whether the alignment of the mask 20 or the substrate 10 is disturbed.

따라서 상기 셔틀(200)은 마스크(20)가 기판안착면(211)에 안착된 기판(10)에 밀착된 상태에서 기판안착부(210)에 대한 슬립을 방지하기 위한 슬립방지부를 더 포함한다.The shuttle 200 further includes a slip prevention part for preventing the substrate 20 from slipping with respect to the substrate 10 in a state in which the mask 20 is in close contact with the substrate 10 mounted on the substrate mounting surface 211.

상기 슬립방지부는 기판안착부(210)에 대한 마스크(20)의 슬립을 방지하기 위한 구성으로서, 셔틀(200)에 설치되어 마스크(20)를 기판안착부(210)로 클램핑하는 클램핑장치(미도시)로 구성될 수 있다.The slip prevention unit is provided to prevent slipping of the mask 20 with respect to the substrate seating unit 210. The slip prevention unit includes a clamping unit installed on the shuttle 200 and clamping the mask 20 to the substrate seating unit 210 Time).

그러나 기계적 구성인 클램핑장치는 기계적 작동을 요하므로 그 구조가 복잡하며, 처리공간(S)으로 노출됨에 따라서 기판처리에 영향을 미치는 문제점이 있다.However, since the clamping device, which is a mechanical structure, requires a mechanical operation, its structure is complicated, and there is a problem that it affects substrate processing as it is exposed to the processing space (S).

이에 상기 슬립방지부는 기판처리에 대한 영향을 최소화할 수 있는 구성으로서, 셔틀(200)에 설치되어 마스크(20)에 대하여 자력을 가하여 기판안착부(210)에 대한 슬립을 방지하는 자력발생부(310)를 포함할 수 있다.The slip prevention part is provided with a magnetic force generating part installed on the shuttle 200 to prevent slipping of the substrate mounting part 210 by applying a magnetic force to the mask 20 310).

상기 자력발생부(310)는 전자석, 영구자석 등 자력을 발생하는 하나 이상의 부재를 사용하여 마스크(20), 특히 프레임(22)을 자력에 의하여 기판안착부(210)에 고정함으로써 셔틀(200)의 이동에도 불구하고 기판안착부(210)에 대한 마스크(20)의 슬립을 방지하게 된다.The magnetic force generating unit 310 may be configured to fix the mask 20, particularly the frame 22, to the substrate seating unit 210 by a magnetic force using at least one member that generates magnetic force, such as an electromagnet or a permanent magnet, Thereby preventing the mask 20 from slipping with respect to the substrate seating portion 210. [

한편 상기 자력발생부(310)는 자력에 의하여 마스크(20)를 기판안착부(210)에 고정하기 위한 구성으로서 다양한 구조를 이루어 셔틀(200)에 설치될 수 있다.Meanwhile, the magnetic force generating unit 310 may be installed in the shuttle 200 to have various structures for fixing the mask 20 to the substrate seating unit 210 by a magnetic force.

상기 자력발생부(310)의 설치예로서, 자력발생부(310)는 도 3 및 도 5a에 도시된 바와 같이, 기판안착부(210)의 상면 또는 저면에 설치될 수 있다. 여기서 상기 기판안착부(210)는 자력발생부(310)의 설치를 위하여 그 상면 또는 저면에 자력발생부(310)이 설치를 위한 요홈부(212)가 형성될 수 있다.As shown in FIG. 3 and FIG. 5A, the magnetic force generating unit 310 may be installed on the upper surface or the lower surface of the substrate seating unit 210 as an example of the magnetic force generating unit 310. Here, the substrate seating part 210 may be provided with a recessed part 212 for mounting the magnetic force generating part 310 on the upper or lower surface thereof in order to install the magnetic force generating part 310.

또한 도시되지 않았지만, 상기 자력발생부(310)는 요홈의 형성 후 전자석 또는 영구자석의 설치 후 커버부재 등의 복개를 통하여 기판안착부(210)의 내부에 설치될 수 있다.Also, although not shown, the magnetic force generating part 310 may be installed inside the substrate seating part 210 through the covering of the cover member after the electromagnet or the permanent magnet is installed after the formation of the groove.

또한 상기 자력발생부(310)는 도 5b에 도시된 바와 같이, 기판안착부(210)의 저면에 설치될 때 자력변화를 위하여 상하이동을 위한 구동부재(320)에 지지되어 상하로 이동하도록 설치될 수도 있다.5B, when the magnetic force generating unit 310 is installed on the bottom surface of the substrate seating unit 210, the magnetic force generating unit 310 is supported by a driving member 320 for up and down movement, .

상기 구동부재(320)는 기판안착부(210)의 저면 쪽에서 자력발생부(310)를 지지함과 아울러 상하이동시킬 수 있는 구성이면 어떠한 구성도 가능하다.The driving member 320 may have any structure as long as it can support the magnetic force generating part 310 and move the magnetic force generating part 310 up and down from the bottom side of the substrate seating part 210.

특히 상기 구동부재(320)는 마스크(20)가 기판(10)에 밀착된 후 셔틀(200)의 선형이동 전에 자력발생부(310)를 상측으로 이동됨으로써 마스크(20)를 기판안착부(210)에 밀착시키고, 기판(10) 인입시 마스크(20)가 상측으로 이동될 필요가 있는바 마스크(20)에 불필요한 인력이 작용하지 않도록 자력발생부(310)를 하측으로 이동시킬 수 있다.Particularly, after the mask 20 is closely attached to the substrate 10, the driving member 320 is moved upward from the magnetic force generating portion 310 before linearly moving the shuttle 200, thereby moving the mask 20 to the substrate seating portion 210 The magnetic force generating unit 310 can be moved downward so that unnecessary attraction force does not act on the mask 20 as the mask 20 needs to be moved upward when the substrate 10 is drawn in.

한편 상기 자력발생부(310)의 또 다른 설치예로서, 도 5c에 도시된 바와 같이, 자력발생부(310)는 마스크(20)의 가장자리에 대응되는 위치에서 마스크홀더(190)에 설치될 수 있다.5C, the magnetic force generating unit 310 may be installed in the mask holder 190 at a position corresponding to the edge of the mask 20, for example, as shown in FIG. 5C. have.

이때 상기 자력발생부(310)는 마스크홀더(190)와 별도로 제조된 후 볼트 등에 의하여 결합되거나, 마스크홀더(190)와 일체로 제조되는 등 마스크홀더(190)와 함께 다양한 구성이 가능하다.The magnetic force generating unit 310 may be formed separately from the mask holder 190 and then coupled with a bolt or the like, or may have a variety of configurations together with a back mask holder 190 that is manufactured integrally with the mask holder 190.

한편 상기 자력발생부(310)는 전자석, 영구자석 등 자력이 발생될 수 있는 부재가 앞서 설명한 바와 같이, 다양한 구조를 이루어 설치될 수 있으며, 특히 기판안착부(210)에 대한 마스크(20)의 슬립방지에 충분한 자력이 작용하도록 적절한 수로 부착되거나, 볼팅되는 등 다양한 방식에 의하여 설치될 수 있다.The magnetic force generating unit 310 may be provided with various structures such as an electromagnet, a permanent magnet, or the like, as described above. In particular, Or may be installed in various ways such as by bolting or the like, so that sufficient magnetic force acts to prevent slip.

이때 상기 자력발생부(310)는 도 4에 도시된 바와 같이, 기판안착부(210)에 형성된 프레임삽입부(213)를 따라서 복수개로 설치될 수 있다.4, the magnetic force generating unit 310 may include a plurality of magnetic force generating units 310 disposed along the frame inserting unit 213 formed in the substrate seating unit 210. As shown in FIG.

한편 상기 자력발생부(310)는 마스크(20)에 대하여 자력이 작용하는바, 마스크(20)의 상승, 마스크(20) 및 기판(10)의 얼라인시 마스크(20)의 이동을 방해하거나, 마스크(20) 하강시 마스크(20)에 대한 지나친 인력으로 작용하는 문제점이 있을 수 있다.Meanwhile, the magnetic force generating unit 310 generates magnetic force to the mask 20, which prevents the mask 20 from rising, moving the mask 20 and the mask 20 when the substrate 10 is aligned , There may be a problem that the mask 20 acts on an excessive force on the mask 20 when the mask 20 is lowered.

따라서 상기 자력발생부(210)는 전원의 인가에 따라서 자력발생이 제어되는 전자석으로 구성될 수 있다. 즉, 상기 자력발생부(210)는 마스크(20)의 상승시, 마스크(20) 및 기판(10)의 얼라인시, 및 마스크(20) 하강시 중 적어도 어느 하나의 경우 자력발생부(210)에 대한 전원공급이 차단되도록 제어될 수 있다.Therefore, the magnetic force generating unit 210 may be constituted by an electromagnet in which the generation of magnetic force is controlled in response to application of power. That is, the magnetic force generating unit 210 generates a magnetic force by the magnetic force generating unit 210 (at least when the mask 20 is lifted, when the mask 20 and the substrate 10 are aligned, and when the mask 20 is lifted) May be controlled to be cut off.

이때 상기 자력발생부(210)에 대한 전원공급은 기판안착부(210)의 저면에 설치된 히터에 대한 전원공급과 함께 이루어지도록 함으로써 자력발생부(210)에 대한 전원공급구조를 간단화할 수 있다.At this time, the power supply to the magnetic force generating part 210 is performed together with the power supply to the heater installed on the bottom surface of the substrate seating part 210, so that the power supply structure for the magnetic force generating part 210 can be simplified.

또한 상기 자력발생부(210)는 기판안착부(210)의 저면에 대하여 상하로 승하강하도록 설치됨으로써 마스크(20)와의 상대거리에 의하여 자력을 제어함으로써 마스크(20)의 상승, 마스크(20) 및 기판(10)의 얼라인시 마스크(20)의 이동을 방해하거나, 마스크(20) 하강시 마스크(20)에 대한 지나친 인력으로 작용하는 문제점을 개선할 수 있다.
The magnetic force generating unit 210 is installed so as to move upward and downward with respect to the bottom surface of the substrate seating unit 210 so that the magnetic force is controlled by the relative distance to the mask 20, And to prevent the movement of the mask 20 at the time of alignment of the substrate 10 or the excessive force exerted on the mask 20 when the mask 20 is lowered.

이상은 본 발명에 의해 구현될 수 있는 바람직한 실시예의 일부에 관하여 설명한 것에 불과하므로, 주지된 바와 같이 본 발명의 범위는 위의 실시예에 한정되어 해석되어서는 안 될 것이며, 위에서 설명된 본 발명의 기술적 사상과 그 근본을 함께 하는 기술적 사상은 모두 본 발명의 범위에 포함된다고 할 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention as defined in the appended claims. It is to be understood that both the technical idea and the technical spirit of the invention are included in the scope of the present invention.

100 : 공정챔버 200 : 셔틀
210 : 기판안착부 310 : 자력발생부100: process chamber 200: shuttle
210: substrate mounting part 310: magnetic force generating part

Claims (15)

밀폐된 내부공간을 형성하는 공정챔버에 설치되며, 기판이 안착되는 기판안착부를 가지는 셔틀로서,
상기 셔틀은, 상기 기판안착부에 안착된 기판에 하나 이상의 개구부가 형성된 마스크가 밀착된 후 선형이동 되며 기판처리가 수행되도록 상기 기판안착부에 안착된 기판을 선형이동시키며,
상기 셔틀에는, 상기 마스크가 기판에 밀착된 상태에서 상기 기판안착부에 대한 슬립을 방지하기 위한 슬립방지부가 설치되며,
상기 슬립방지부는, 상기 셔틀에 설치되어 상기 마스크에 대하여 자력을 가하여 상기 기판안착부에 대한 슬립을 방지하는 자력발생부를 포함하며,
상기 마스크는 직사각형의 프레임과, 상기 프레임에 결합되며 기판의 표면에 밀착되는 마스크시트를 포함하며,
상기 기판안착부는, 기판이 안착되는 직사각형의 기판안착면이 형성되고, 상기 마스크의 프레임이 삽입되도록 상기 기판안착면의 가장자리를 따라서 형성된 프레임삽입부가 형성되며,
상기 자력발생부는 상기 프레임삽입부를 따라서 복수개로 설치된 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 셔틀.1. A shuttle having a substrate seating portion mounted in a process chamber forming a closed internal space,
Wherein the shuttle is moved linearly after a mask having one or more openings formed therein is adhered to the substrate placed on the substrate seating portion and linearly moved on the substrate placed on the substrate seating portion so that substrate processing is performed,
Wherein the shuttle is provided with a slip prevention portion for preventing slip with respect to the substrate seating portion in a state in which the mask is in close contact with the substrate,
Wherein the slip prevention part includes a magnetic force generating part installed on the shuttle and applying a magnetic force to the mask to prevent slip on the substrate seating part,
Wherein the mask comprises a rectangular frame and a mask sheet coupled to the frame and in close contact with the surface of the substrate,
Wherein the substrate seating portion is formed with a rectangular substrate seating surface on which the substrate is placed and a frame inserting portion formed along the edge of the substrate seating surface so that the frame of the mask is inserted,
Wherein the plurality of magnetic force generating portions are provided along the frame inserting portion. 삭제delete 청구항 1에 있어서,
상기 자력발생부는, 전자석 또는 영구자석인 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 셔틀.The method according to claim 1,
Wherein the magnetic force generating section is an electromagnet or a permanent magnet. 청구항 1에 있어서,
상기 자력발생부는, 상기 기판안착부의 상면 또는 저면에 형성된 요홈부에 설치된 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 셔틀.The method according to claim 1,
Wherein the magnetic force generating portion is provided in a recessed portion formed in an upper surface or a lower surface of the substrate seating portion. 청구항 1에 있어서,
상기 자력발생부는, 상기 기판안착부의 내부에 설치된 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 셔틀.The method according to claim 1,
Wherein the magnetic force generating portion is provided inside the substrate seating portion. 밀폐된 내부공간을 형성하는 공정챔버에 설치되며, 기판이 안착되는 기판안착부를 가지는 셔틀로서,
상기 셔틀은, 상기 기판안착부에 안착된 기판에 하나 이상의 개구부가 형성된 마스크가 밀착된 후 선형이동 되며 기판처리가 수행되도록 상기 기판안착부에 안착된 기판을 선형이동시키며,
상기 셔틀에는, 상기 마스크가 기판에 밀착된 상태에서 상기 기판안착부에 대한 슬립을 방지하기 위한 슬립방지부가 설치되며,
상기 슬립방지부는, 상기 셔틀에 설치되어 상기 마스크에 대하여 자력을 가하여 상기 기판안착부에 대한 슬립을 방지하는 자력발생부를 포함하며,
상기 기판안착부는, 상기 마스크를 자력에 의하여 기판에 밀착시키는 마스크홀더가 설치되며,
상기 자력발생부는, 상기 마스크의 가장자리에 대응되는 위치에서 상기 마스크홀더에 설치된 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 셔틀. 1. A shuttle having a substrate seating portion mounted in a process chamber forming a closed internal space,
Wherein the shuttle is moved linearly after a mask having one or more openings formed therein is adhered to the substrate placed on the substrate seating portion and linearly moved on the substrate placed on the substrate seating portion so that substrate processing is performed,
Wherein the shuttle is provided with a slip prevention portion for preventing slip with respect to the substrate seating portion in a state in which the mask is in close contact with the substrate,
Wherein the slip prevention part includes a magnetic force generating part installed on the shuttle and applying a magnetic force to the mask to prevent slip on the substrate seating part,
Wherein the substrate seating portion is provided with a mask holder for bringing the mask into close contact with the substrate by a magnetic force,
Wherein the magnetic force generating portion is provided in the mask holder at a position corresponding to an edge of the mask. 밀폐된 내부공간을 형성하는 공정챔버에 설치되며, 기판이 안착되는 기판안착부를 가지는 셔틀로서,
상기 셔틀은, 상기 기판안착부에 안착된 기판에 하나 이상의 개구부가 형성된 마스크가 밀착된 후 선형이동 되며 기판처리가 수행되도록 상기 기판안착부에 안착된 기판을 선형이동시키며,
슬립방지부는, 상기 셔틀에 설치되어 상기 마스크에 대하여 자력을 가하여 상기 기판안착부에 대한 슬립을 방지하는 자력발생부를 포함하며,
상기 자력발생부는, 상기 기판안착부의 저면에서 상하이동이 가능하도록 설치된 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 셔틀.1. A shuttle having a substrate seating portion mounted in a process chamber forming a closed internal space,
Wherein the shuttle is moved linearly after a mask having one or more openings formed therein is adhered to the substrate placed on the substrate seating portion and linearly moved on the substrate placed on the substrate seating portion so that substrate processing is performed,
Wherein the slip prevention part includes a magnetic force generating part installed on the shuttle and applying a magnetic force to the mask to prevent slip on the substrate seating part,
Wherein the magnetic force generating portion is vertically movable from a bottom surface of the substrate mounting portion. 청구항 6 내지 청구항 7 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 마스크는 직사각형의 프레임과, 상기 프레임에 결합되며 기판의 표면에 밀착되는 마스크시트를 포함하며,
상기 자력발생부는 상기 프레임에 대하여 자력을 가하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 셔틀.The method according to any one of claims 6 to 7,
Wherein the mask comprises a rectangular frame and a mask sheet coupled to the frame and in close contact with the surface of the substrate,
Wherein the magnetic force generating unit applies a magnetic force to the frame. 청구항 6 내지 청구항 7 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 마스크는 직사각형의 프레임과, 상기 프레임에 결합되며 기판의 표면에 밀착되는 마스크시트를 포함하며,
상기 기판안착부는, 기판이 안착되는 직사각형의 기판안착면이 형성되고, 상기 마스크의 프레임이 삽입되도록 상기 기판안착면의 가장자리를 따라서 형성된 프레임삽입부가 형성되며,
상기 자력발생부는 상기 프레임삽입부를 따라서 복수개로 설치된 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 셔틀.The method according to any one of claims 6 to 7,
Wherein the mask comprises a rectangular frame and a mask sheet coupled to the frame and in close contact with the surface of the substrate,
Wherein the substrate seating portion is formed with a rectangular substrate seating surface on which the substrate is placed and a frame inserting portion formed along the edge of the substrate seating surface so that the frame of the mask is inserted,
Wherein the plurality of magnetic force generating portions are provided along the frame inserting portion. 청구항 1 및 청구항 3 내지 청구항 7 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 셔틀의 선형이동방향을 기준으로 상기 기판안착부의 전방 및 후방 가장자리 부근에서 균일한 공정분위기를 형성하기 위하여, 상기 기판안착부의 전방 및 후방 중 적어도 어느 하나에 결합되는 윙부를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 셔틀.The method according to any one of claims 1 and 3 to 7,
Further comprising a wing coupled to at least one of the front and rear of the substrate seating portion to form a uniform process atmosphere in the vicinity of the front and rear edges of the substrate seating portion with respect to the linear movement direction of the shuttle The shuttle of the substrate processing apparatus. 밀폐된 내부공간을 형성하는 공정챔버와;
상기 공정챔버에 설치되어 기판이 안착되는 기판안착부를 가지며 안착된 기판을 선형이동시키는 셔틀로서, 청구항 제1항 및 청구항 3 내지 청구항 7 중 어느 하나의 항에 따른 셔틀과;
상기 공정챔버에 설치되어 상기 셔틀에 의하여 이송되는 기판의 이송경로의 상부에 위치되어 기판처리를 위한 가스를 분사하는 가스분사부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.A process chamber forming an enclosed inner space;
A shuttle according to any one of claims 1 and 3 to 7 as a shuttle for linearly moving a substrate on which a substrate is placed, the substrate being installed in the process chamber and seating the substrate thereon;
And a gas injection unit installed in the process chamber and positioned above the transfer path of the substrate to be transferred by the shuttle to inject gas for substrate processing. 청구항 11에 있어서,
상기 공정챔버 내에 설치되어 상기 셔틀의 선형이동을 가이드하는 한 쌍의 가이드레일과;
상기 가이드레일을 따라서 상기 셔틀을 선형이동시키기 위한 선형구동부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method of claim 11,
A pair of guide rails installed in the process chamber to guide linear movement of the shuttle;
And a linear driver for linearly moving the shuttle along the guide rails. 청구항 11에 있어서,
상기 마스크를 상기 기판안착부에 대하여 승강시키는 마스크승강구동부가 상기 공정챔버 및 상기 셔틀 중 적어도 어느 하나에 설치된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method of claim 11,
Wherein a mask lifting and driving part for lifting and lowering the mask relative to the substrate seating part is provided in at least one of the process chamber and the shuttle. 청구항 11에 있어서,
상기 마스크는 직사각형의 프레임과, 상기 프레임에 결합되며 기판의 표면에 밀착되는 마스크시트를 포함하며,
상기 자력발생부는 상기 프레임에 대하여 자력을 가하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method of claim 11,
Wherein the mask comprises a rectangular frame and a mask sheet coupled to the frame and in close contact with the surface of the substrate,
Wherein the magnetic force generating unit applies a magnetic force to the frame. 청구항 11에 있어서,
상기 마스크는 직사각형의 프레임과, 상기 프레임에 결합되며 기판의 표면에 밀착되는 마스크시트를 포함하며,
상기 기판안착부는, 기판이 안착되는 직사각형의 기판안착면이 형성되고, 상기 마스크의 프레임이 삽입되도록 상기 기판안착면의 가장자리를 따라서 형성된 프레임삽입부가 형성되며,
상기 자력발생부는 상기 프레임삽입부를 따라서 복수개로 설치된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method of claim 11,
Wherein the mask comprises a rectangular frame and a mask sheet coupled to the frame and in close contact with the surface of the substrate,
Wherein the substrate seating portion is formed with a rectangular substrate seating surface on which the substrate is placed and a frame inserting portion formed along the edge of the substrate seating surface so that the frame of the mask is inserted,
Wherein the plurality of magnetic force generating portions are provided along the frame inserting portion.
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