KR101916263B1 - 거품 제거 장치 - Google Patents

Abstract

실시예는 거품 제거 장치에 관한 것으로서, 순환탱크; 하부가 상기 순환탱크와 연통되게 상기 순환탱크의 내부에 배치되는 포집탱크; 및 스트립 세정설비와 상기 포집탱크를 연결하는 제1 배관;을 포함하며, 상기 제1 배관의 토출부는 상기 포집탱크의 하부에서 소정의 높이로 이격되게 배치될 수 있다. 이에 따라, 포집탱크 내부를 대기압보다 높은 소정의 압력으로 형성하여 스트립 세정설비에서 발생한 거품을 제거할 수 있다.

Description

거품 제거 장치{APPARATUS FOR REMOVING FORM}

본 발명은 스트립 세정설비의 세정액에서 발생되는 거품을 제거하는 거품 제거 장치에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 스트립 세정설비에서 발생되는 알카리성 세정액 거품을 액화하여 재사용 가능하게 하는 거품 제거 장치에 관한 것이다.

일반적으로 제철소의 스트립 세정설비는 냉연, 도금 라인에서 소둔하는 공정을 수행하기 전에 스트립(Strip, S)의 표면상에 부착된 압연유, 철분 등을 세정한다. 그러나, 세정과정에서 거품이 발생한다.

도 1을 참조하여 살펴보면, 스트립 세정설비(2)는 딥 탱크(dip tank)(10), 제1 스크러버 탱크(scrubber tank)(20), 전해청정탱크(30) 및 제2 스크러버 탱크(40)를 포함할 수 있다.

딥 탱크(10)에서는 스트립(S)에 대한 제1 단계 세정공정이 수행될 수 있다. 상기 제1 단계 세정공정은 세정액을 이용한 세정단계로써 60~70℃의 알카리 딥 탱크(10) 내에서 딥핑(세정액 속에 스트립을 잠기게 하여 스트립 속에 부착된 이물질을 부풀림)하거나 세정액을 스트립의 표면상에 분사하여 세정하게 된다. 이때 세정액으로는 알카리성 세정액이 이용될 수 있다.

특히, 세정액을 분사하는 과정에서 많은 거품이 발생하는 문제가 있다.

제1 스크러버 탱크(20)와 제2 스크러버 탱크(40)에서 스트립(S)에 대한 제2 단계 및 제4 단계 세정공정이 수행될 수 있다. 상기 제2 단계 및 4 단계 세정공정은 세정액을 분사함과 동시에 브러쉬 롤러(21, 41)를 이용하여 스트립(S)의 표면을 브러싱하여 이물질을 제거한다.

이때, 브러싱 공정 및 세정액의 분사에 의해 많은 거품이 발생한다.

전해청정탱크(30)에서는 스트립(S)에 대한 제3 단계 세정공정이 수행될 수 있다. 상기 제3 단계 세정공정은 전극장치(31)를 이용하여 스트립(S)에 전압을 인가한다. 그에 따라, 스트립(S)의 표면상에 부착된 압연유 및 미세한 철분은 전기적인 방식에 제거될 수 있다. 이러한 과정에서도 거품이 발생할 수 있다.

그리고, 딥 탱크(10), 제1 스크러버 탱크(20), 전해청정탱크(30) 및 제2 스크러버 탱크(40)에서 발생한 거품은 회수배관(50)을 통해 회수탱크(60)로 이송될 수 있다.

회수탱크(60)로 이송된 거품이 발생한 세정액의 경우 소포제 또는 원심력을 이용한 파폭장치를 이용하여 거품을 제거하여 재사용하게 된다.

상기 파폭장치와 관련하여 본 출원인의 대한민국등록특허공보 제10-0725324호(2007.05.29)인 '강판 세정공정의 소포장치 및 소포방법'가 있다.

그러나, 기계적 파폭장치 별도의 설비를 유지 또는 보수 또는 소포제가 이용되기 때문에 생산비용을 향상시키게 되는 문제가 있다.

또한, 소포제를 이용하는 경우 거품 확산 면적이 넓기 때문에 거품이 잘 제거되지 않은 문제가 있다. 그리고, 순수의 소모와 세정액의 농도가 낮아지는 문제가 있어 세정액의 재사용에 어려움이 있다. 나아가, 세정액이 알카리 성분이기 때문에 폐수 처리에 많은 비용이 발생한다.

그에 따라, 생산비용을 낮추면서도 효과적으로 거품을 제거하여 세정액을 재사용할 수 있는 기술이 요구되고 있는 실정이다.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 상기한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 실시예는 별도의 거품을 제거하는 장치(원심력형 파폭장치, 흡입장치 등)를 이용하지 않고 세정액에 의해 형성되는 압력 및 세정액의 이동속도를 이용하여 세정액에 발생한 거품을 제거하는 거품 제거 장치를 제공한다.

또한, 세정액 또는 용액과의 접촉을 유도하여 거품을 액화시키는 거품 제거 장치를 제공한다.

실시예가 해결하고자 하는 과제는 이상에서 언급된 과제에 국한되지 않으며 여기서 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.

상기 과제는 실시예에 따라, 순환탱크; 하부가 상기 순환탱크와 연통되게 상기 순환탱크의 내부에 배치되는 포집탱크; 및 스트립 세정설비와 상기 포집탱크를 연결하는 제1 배관;을 포함하며, 상기 제1 배관의 토출부는 상기 포집탱크의 하부에서 소정의 높이로 이격되게 배치되는 거품 제거 장치에 의해 달성된다.

바람직하게, 상기 제1 배관의 토출부는 상기 포집탱크 내부에 차있는 세정액에 잠기도록 배치될 수 있다.

그리고, 상기 토출부는, 상기 제1 배관을 따라 이송되는 세정액이 부딪히는 차단판; 및 상기 차단판에 부딪힌 상기 세정액이 측방으로 배출되게 형성되는 배출구를 포함할 수 있다.

한편, 상기 거품 제거 장치는 일측은 상기 포집탱크의 상부에 연결되고 타측은 상기 순환탱크의 상부에 연결되는 피폭장치부를 더 포함하며, 상기 피폭장치부는 상기 포집탱크의 상부측에 형성된 거품을 액화하여 상기 순환탱크로 이송시킬 수 있다.

여기서, 상기 피폭장치부는, 상기 거품을 액화하는 피폭장치; 상기 피폭장치와 상기 포집탱크의 상부를 연결하는 제2 배관; 상기 피폭장치와 상기 순환탱크의 상부를 연결하는 제3 배관; 및 상기 제2 배관에 배치되는 압력조절밸브를 포함할 수 있다.

그리고, 상기 피폭장치는, 하우징; 및 상기 하우징의 내부에 배치되되 내부에 용액이 차있는 용액댐을 포함하며, 상기 용액댐의 상기 용액에 의해 상기 하우징 내부로 이송된 거품이 액화될 수 있다.

그리고, 상기 용액댐은, 상기 용액이 차있는 수조; 및 단부가 상기 용액에 잠기도록 배치되는 차단벽을 포함하며, 상기 차단벽은 상기 거품을 상기 용액으로 유도할 수 있다.

그리고, 상기 수조는 상기 제2 배관측에 배치되는 제1 수조벽과 상기 제3 배관측에 배치되는 제2 수조벽을 포함하며, 상기 제2 수조벽의 높이는 상기 제1 수조벽의 높이보다 낮게 형성될 수 있다.

또한, 상기 피폭장치는 상기 수조를 향해 용액을 분사하는 분사노즐을 더 포함할 수 있다.

한편, 상기 피폭장치는 상기 하우징 내부에 배치되는 스크린을 더 포함하며, 상기 스크린은 복수 개의 공극이 형성될 수 있다.

또한, 상기 거품 제거 장치는 상기 순환탱크의 상부에 배치되는 오버플로우배관라인을 더 포함할 수 있다.

또한, 상기 거품 제거 장치는 일측은 상기 순환탱크의 하부에 연결되고, 타측은 상기 스트립 세정설비에 연결되는 순환배관라인을 더 포함할 수 있다.

또한, 상기 거품 제거 장치는 상기 제1 배관에 배치되는 필터부를 더 포함할 수 있다.

상기와 같은 구성을 갖는 실시예에 따른 거품 제거 장치는 거품으로 인해 불필요하게 소모되는 세정액의 소모량을 감소시키고, 거품이 발생한 세정액의 배출에 따른 폐수 발생량을 감소시킴과 동시에 재사용함으로써 수질환경 및 제품의 생산성을 향상시킬 수 있다.

상기 거품 제거 장치는 순환탱크의 내부에 배치되는 포집탱크를 이용하여 포집탱크 내부를 고압으로 형성하여 거품을 제거할 수 있다. 이때, 순환탱크 내부에 포집탱크를 형성하기 때문에 공간활용성이 향상되며, 빠르게 포집탱크 내부의 세정액면 위에 고압이 형성되게 함으로써 거품을 제거할 수 있다.

이때, 제1 배관을 통해 이송되는 거품을 차단판에 부딪히게 함으로써, 거품의 사이즈를 축소시킬 수 있다. 그리고, 상기 거품은 포집탱크의 내부에 저장된 세정액과 접촉하면서 상부로 이동하기 때문에, 상기 거품의 액화를 유도할 수 있다.

따라서, 차단판에 의해 사이즈가 축소된 거품은 포집탱크 내부에 형성된 고압에 의해 사이즈 축소 및 세정액면에서 액화가 진행되게 된다.

또한, 포집탱크의 하부와 순환탱크가 연통되기 때문에 비중차에 의해 세정액만이 순환탱크 하부에 존재하게 된다. 그에 따라, 세정액만을 스트립 세정설비로 순환시켜 재사용시킴으로써 생산비용을 절감할 수 있다.

또한, 상기 거품 제거 장치는 포집탱크에 존재하는 거품만을 이동시킨 후 피폭장치부를 통해 액화시킴으로써, 세정액에 발생한 거품을 제거할 수 있다. 이때, 거품의 이동시 가해지는 압력 및 이동속도를 조절하여 거품의 사이즈를 축소시킬 수 있다.

나아가, 사이즈가 축소되어 상기 피폭장치부로 이송된 거품은 상기 피폭장치부의 용액댐에 의해 액화된 후 회수탱크로 회수될 수 있다.

도 1은 스트립 세정설비를 나타내는 도면이고,
도 2는 스트립 세정설비와 실시예에 따른 거품 제거 장치의 관계를 나타내는 도면이고,
도 3은 실시예에 따른 거품 제거 장치를 나타내는 도면이고,
도 4는 실시예에 따른 거품 제거 장치의 피폭장치부를 나타내는 도면이다.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.

제2, 제1 등과 같이 서수를 포함하는 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되지는 않는다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제2 구성요소는 제1 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제1 구성요소도 제2 구성요소로 명명될 수 있다. 및/또는 이라는 용어는 복수의 관련된 기재된 항목들의 조합 또는 복수의 관련된 기재된 항목들 중의 어느 항목을 포함한다.

어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지게 된다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 실시예를 상세히 설명하되, 도면 부호에 관계없이 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 참조 번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.

실시예에 따른 거품 제거 장치(1)는 스트립 세정설비(2)에서 발생한 세정액의 거품을 압력 또는 이동속도를 이용하여 제거할 수 있다.

도 2 및 도 3을 참조하여 살펴보면, 상기 거품 제거 장치(1)는 순환탱크(100), 포집탱크(200), 제1 배관(300), 피폭장치부(400), 오버플로우배관라인(500) 및 순환배관라인(600)을 포함할 수 있다. 그리고, 상기 거품 제거 장치(1)는 제1 배관(300)에 배치되는 필터부(700)를 더 포함할 수 있다.

순환탱크(100)는 내부에 수용공간이 형성되며, 상기 수용공간에는 소정의 높이(H)로 세정액이 차있을 수 있다.

포집탱크(200)는 순환탱크(100)의 내부에 배치될 수 있다. 이때, 포집탱크(200)의 하부(210)는 순환탱크(100)와 연통될 수 있다. 예컨데, 포집탱크(200)의 하부(210)에는 홀이 형성되어 순환탱크(100)와 연통될 수 있다.

포집탱크(200)의 하부(210)는 순환탱크(100)와 연통되기 때문에, 포집탱크(200)에 차있는 세정액은 순환탱크(100)와 동일한 소정의 높이(H)로 저장될 수 있다.

이때, 포집탱크(200)의 하부(210)는 순환탱크(100)의 하부(110)와 높이(H2)로 이격되게 배치될 수 있다.

따라서, 비중차에 의해 세정액만이 순환탱크(100)의 하부에 존재하게 된다. 그리고, 순환배관라인(600)이 순환탱크(100)의 하부에 연결되기 때문에, 세정액만이 스트립 세정설비(2)로 이송되어 재사용될 수 있다.

제1 배관(300)은 스트립 세정설비(2)와 포집탱크(200)를 연결할 수 있다. 상세하게, 제1 배관(300)은 딥 탱크(10), 제1 스크러버 탱크(20), 전해청정탱크(30) 및 제2 스크러버 탱크(40)에서 거품이 발생된 세정액을 포집탱크(200)로 토출되게 한다. 그에 따라, 제1 배관(300)에는 거품이 발생된 세정액의 이송을 고려하여 펌프(미도시)가 배치될 수 있다.

도 3에 도시된 바와 같이, 제1 배관(300)에서 거품이 발생된 세정액의 토출시, 토출에 따라 거품의 발생이 증가되는 것을 방지하기 위해 제1 배관(300)의 토출부(310)는 포집탱크(200) 내부에 차있는 세정액에 잠기도록 배치될 수 있다. 만일, 토출부(310)가 포집탱크(200) 내부에 차있는 세정액과 이격되게 배치된다면, 낙수현상에 의해 거품이 더 발생할 수 있다.

한편, 토출부(310)는 포집탱크(200)의 하부(210)에서 소정의 높이(H1)로 이격되게 배치되는 것이 바람직하다.

거품이 발생된 세정액이 포집탱크(200)의 내부에 차있는 세정액으로 토출됨에 따라, 비중차에 의해 거품이 분리된 세정액은 포집탱크(200)의 하부측으로 이동될 수 있고, 세정액에서 분리된 거품은 상승하여 포집탱크(200)의 상부측에 모이게 된다. 이에, 포집탱크(200)의 내부 상부측에는 상기 거품에 의해 대기압보다 높은 소정의 압력이 형성될 수 있다. 상세하게, 포집탱크(200)에 차있는 세정액의 세정액면 위에는 포집된 상기 거품에 의해 대기압보다 높은 소정의 압력이 형성될 수 있다. 이하, 대기압보다 높은 소정의 압력은 고압이라 하여 설명을 명확히 한다.

그리고, 포집탱크(200)의 세정액면 위에 포집된 상기 거품은 상기 고압에 의해 상기 세정액면에서 용액화되거나, 또는 잔존하더라도 거품의 사이즈가 축소된다.

또한, 토출부(310)는 측방으로 거품이 발생된 세정액을 토출되게 형성되는 것이 바람직하다. 예컨데, 하방으로 상기 세정액을 토출하는 경우, 거품이 형성된 세정액이 순환탱크(100)로 유입될 수 있는바, 이를 고려하여 토출부(310)에서 토출되는 세정액은 측방으로 토출되는 것이 바람직하다.

도 3을 참조하여 살펴보면, 토출부(310)는 차단판(311) 및 복수 개의 배출구(312)를 포함할 수 있다.

차단판(311)은 토출부(310)의 끝단에 배치될 수 있다. 그에 따라, 제1 배관(300)을 따라 이송되는 세정액에 포함된 거품은 차단판(311)에 부딪혀 미세화되게 된다. 이때, 차단판(311)은 포집탱크(200)의 하부(210)에서 소정의 높이(H1)로 이격되게 배치될 수 있다.

배출구(312)는 차단판(311)에 부딪힌 세정액이 측방으로 배출되게 형성될 수 있다. 도 3에 도시된 바와 같이, 배출구(312)는 토출부(310)의 외주면에 원주 방향을 따라 복수 개가 배치될 수 있다.

이때, 배출구(312)는 차단판(311)에 부딪힌 후 축소된 거품의 사이즈보다 작게 형성되는 것이 바람직하다. 그에 따라, 차단판(311)에 부딪힌 후 축소된 거품은 배출구(312)에 의해 사이즈가 더욱 축소될 수 있다. 그리고, 상기 거품은 포집탱크(200) 내부의 세정액을 통과하면서 액화될 수 있다.

피폭장치부(400)는 포집탱크(200)의 상부측에 포집된 거품을 액화하여 제거할 수 있다.

피폭장치부(400)의 일측은 포집탱크(200)의 상부에 연결되고, 타측은 순환탱크(100)의 상부에 연결될 수 있다. 그에 따라, 포집탱크(200)의 상부측에 포집된 거품은 피폭장치부(400)에 의해 액화된 후 순환탱크(100)로 이송될 수 있다.

도 3 및 도 4를 참조하여 살펴보면, 피폭장치부(400)는 피폭장치(410), 제2 배관(420), 제3 배관(430) 및 압력조절밸브(440)를 포함할 수 있다.

여기서, 제2 배관(420)은 포집탱크(200)의 상부와 피폭장치(410)를 연결하고, 제3 배관(430)은 순환탱크(100)의 상부와 피폭장치(410)를 연결한다. 그리고, 압력조절밸브(440)는 제2 배관(420)에 배치될 수 있다. 이때, 포집탱크(200)에 포집된 거품이 피폭장치(410)로 용이하게 이송될 수 있도록 제2 배관(420)에는 펌프(미도시)가 더 배치될 수 있다.

피폭장치(410)는 제2 배관(420)을 통해 이송된 거품을 액화하여 상기 거품을 제거할 수 있다.

도 4를 참조하여 살펴보면, 피폭장치(410)는 하우징(411), 용액댐(412), 스크린(413) 및 분사노즐(414)을 포함할 수 있다.

하우징(411)은 피폭장치(410)의 외형을 형성하며, 내부에 공간이 형성되기 때문에 제2 배관(420)을 통해 이송된 거품은 하우징(411)의 내부를 통과할 수 있다.

용액댐(412)은 하우징(411) 내부에 배치될 수 있다. 그리고, 용액댐(412)은 하우징(411) 내부로 이송된 거품을 액화하여 거품을 제거할 수 있다.

도 4에 도시된 바와 같이, 용액댐(412)은 수조(415)와 차단벽(416)을 포함할 수 있다.

수조(415)에는 용액이 차있을 수 있다. 여기서, 상기 용액으로는 순환탱크(100)의 내부에 저장된 세정액과 동일한 조성을 갖는 세정액이 제공될 수 있으나 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.

수조(415)는 제2 배관(420)측에 배치되는 제1 수조벽(415a)과 제3 배관(430)측에 배치되는 제2 수조벽(415b)을 포함할 수 있다. 그에 따라, 제1 수조벽(415a)과 제2 수조벽(415b) 사이에는 용액이 저장될 수 있다.

이때, 제2 수조벽(415b)의 높이(h2)는 제1 수조벽(415a)의 높이(h1)보다 낮게 형성될 수 있다. 그에 따라, 용액이 넘치더라도 제3 배관(430)으로 이송될 수 있다.

차단벽(416)은 하우징(411)의 내부에서 하방을 향해 돌출되게 형성될 수 있다. 도 4에 도시된 바와 같이, 차단벽(416)의 단부는 상기 용액에 잠기도록 배치될 수 있다. 그에 따라, 차단벽(416)은 제2 배관(420)을 통해 하우징(411)의 내부로 이송된 거품을 수조(415)에 담긴 용액으로 유도한다. 이에, 상기 거품은 상기 용액과 접촉함으로써 액화될 수 있다.

스크린(413)은 용액댐(412)에 의해 거품이 액화되기 전에 거품의 사이즈를 축소시킬 수 있다. 예컨데, 복수 개의 공극(413a)이 형성된 철망 형상으로 스크린(413)이 형성될 수 있기 때문에, 제2 배관(420)을 따라 이송된 거품의 사이즈를 축소시킬 수 있다. 여기서, 공극(413a)은 거품의 사이즈보다 작게 형성되는 것이 바람직하다.

도 4에 도시된 바와 같이, 스크린(413)은 하우징(411) 내부에 배치될 수 있다. 이때, 스크린(413)은 제2 배관(420)과 용액댐(412) 사이에 배치될 수 있다. 그리고, 스크린(413)의 공극(413a)은 용액댐(412)측으로 갈수록 작아질 수 있다.

따라서, 스크린(413)은 거품의 사이즈를 미세화하여 용액과 맞닿는 표면적을 증가시키기 때문에, 거품의 액화 성능을 향상시킬 수 있다.

분사노즐(414)은 수조를 향해 용액을 분사할 수 있다. 도 4에 도시된 바와 같이, 분사노즐(414)은 용액댐(412)과 제3 배관(430)의 사이에 배치될 수 있다.

즉, 분사노즐(414)은 용액을 분사하여 수조(415)에 용액을 공급할 수 있다.

또한, 용액댐(412)을 넘는 거품이 발생하는 경우, 분사노즐(414)은 상기 거품에 용액을 분사하여 거품을 피폭할 수 있다. 그에 따라, 분사노즐(414)은 거품을 제거할 수 있다.

압력조절밸브(440)는 제2 배관(420)을 따라 이송되는 거품에 인가되는 압력을 조절할 수 있다. 즉, 압력조절밸브(440)는 거품이 통과되는 직경을 조절하여 압력을 조절할 수 있다.

그에 따라, 거품(440)은 빠른 속도로 압력조절밸브(440)를 통과하여 제2 배관(420)을 따라 이송되며 사이즈가 축소된다.

예컨데, 압력조절밸브(440)가 오픈되면 포집탱크(200)의 내부 고압에 의해 거품은 제2 배관(420)을 따라 빠른 속도로 이동하게 된다. 그리고, 압력조절밸브(440)에 의해 압력이 조절되면서 상기 거품의 사이즈는 축소될 수 있다. 이때, 포집탱크(200)에는 압력계(미도시)가 배치될 수 있으며, 상기 압력계는 압력조절밸브(440)를 제어할 수 있다. 이에, 포집탱크(200) 내부가 기 설정된 압력에 도달하게 되면, 상기 압력계에 의해 압력조절밸브(440)는 제2 배관(420)을 오픈시킬 수 있다.

따라서, 피폭장치(410)는 압력조절밸브(440)에 의해 사이즈가 축소된 거품을 용액댐(412), 스크린(413) 및 분사노즐(414)을 이용하여 거품의 축소 및 제거를 수행하게 된다.

그에 따라, 피폭장치(410)에 의해 거품은 액화된 후, 순환탱크(100)로 이송된다.

오버플로우배관라인(500)은 순환탱크(100)의 상부측에 배치될 수 있다. 오버플로배관라인(500)은 밸브 등을 이용하여 순환탱크(100)의 내부 압력을 조절할 수 있다. 또한, 오버플로우배관라인(500)은 순환탱크(100)의 세정액면 위에 형성될 수 있는 거품을 회수하여 폐수탱크(70)로 이송될 수 있게 한다. 예컨데, 순환탱크(100)의 세정액이 넘치게 되면, 세정액과 함께 거품이 오버플로우배관라인(500)을 통해 폐수탱크(70)로 이송될 수 있다.

순환배관라인(600)의 일측은 순환탱크(100)의 하부에 연결되고, 타측은 스크린 세정설비(2)에 연결될 수 있다. 이때, 순환배관라인(600)에는 펌프와 같은 구동장치가 배치될 수 있다. 그에 따라, 순환탱크(100)의 하부에 존재하는 세정액만이 스트립 세정설비(2)로 이송되어 재사용될 수 있다.

즉, 스트립 세정설비(1)와 상기 거품 제거 장치(1)에 순환구조를 형성하여 거품이 제거된 세정액을 재사용할 수 있다.

필터부(700)는 제1 배관(300)에 배치될 수 있다.

필터부(700)는 사이즈가 큰 이물질을 우선적으로 걸러낸다. 여기서, 이물질로는 철분 또는 브러쉬 롤러(21, 41)에서 탈락된 브러쉬 등이 있다. 이때, 필터부(700)에는 코니칼 필터 도는 스크린 필터 등이 배치될 수 있다.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.

1: 거품 제거 장치 2: 스트립 세정설비
100: 순환탱크
200: 포집탱크
300: 제1 배관 310: 토출부
311: 차단판 312: 배출구
400: 피폭장치부
410: 피폭장치 411: 하우징
412: 용액댐 413: 스크린
414: 분사노즐 415: 수조
415a: 제1 수조벽 415b: 제2 수조벽
416: 차단벽
420: 제2 배관 430: 제3 배관
440: 압력조절밸브
500: 오버플로우배관라인
600: 순환배관라인
700: 필터부
S: 스트립

Claims (13)

1. 순환탱크;
   하부가 상기 순환탱크와 연통되게 상기 순환탱크의 내부에 배치되는 포집탱크; 및
   스트립 세정설비와 상기 포집탱크를 연결하는 제1 배관;을 포함하며,
   상기 제1 배관의 토출부는 상기 포집탱크의 하부에서 소정의 높이로 이격되게 배치되고,
   상기 포집탱크 내부에 차있는 세정액에 잠기도록 배치되는 상기 토출부는 상기 제1 배관을 따라 이송되는 세정액이 부딪히는 차단판; 및 상기 차단판에 부딪힌 상기 세정액이 측방으로 배출되게 형성되는 배출구를 포함하는 거품 제거 장치.
2. 삭제
3. 삭제
4. 제1항에 있어서,
   일측은 상기 포집탱크의 상부에 연결되고 타측은 상기 순환탱크의 상부에 연결되는 피폭장치부를 더 포함하며,
   상기 피폭장치부는 상기 포집탱크의 상부측에 형성된 거품을 액화하여 상기 순환탱크로 이송시키는 거품 제거 장치.
5. 제4항에 있어서,
   상기 피폭장치부는,
   상기 거품을 액화하는 피폭장치;
   상기 피폭장치와 상기 포집탱크의 상부를 연결하는 제2 배관;
   상기 피폭장치와 상기 순환탱크의 상부를 연결하는 제3 배관; 및
   상기 제2 배관에 배치되는 압력조절밸브를 포함하는 거품 제거 장치.
6. 제5항에 있어서,
   상기 피폭장치는,
   하우징; 및
   상기 하우징의 내부에 배치되되 내부에 용액이 차있는 용액댐을 포함하며,
   상기 용액댐의 상기 용액에 의해 상기 하우징 내부로 이송된 거품이 액화되는 거품 제거 장치.
7. 제6항에 있어서,
   상기 용액댐은,
   상기 용액이 차있는 수조; 및
   단부가 상기 용액에 잠기도록 배치되는 차단벽을 포함하며,
   상기 차단벽은 상기 거품을 상기 용액으로 유도하는 거품 제거 장치.
8. 제7항에 있어서,
   상기 수조는 상기 제2 배관측에 배치되는 제1 수조벽과 상기 제3 배관측에 배치되는 제2 수조벽을 포함하며,
   상기 제2 수조벽의 높이는 상기 제1 수조벽의 높이보다 낮게 형성되는 거품 제거 장치.
9. 제7항에 있어서,
   상기 피폭장치는 상기 수조를 향해 용액을 분사하는 분사노즐을 더 포함하는 거품 제거 장치.
10. 제6항에 있어서,
    상기 하우징 내부에 배치되는 스크린을 더 포함하며,
    상기 스크린은 복수 개의 공극이 형성된 거품 제거 장치.
11. 제1항에 있어서,
    상기 순환탱크의 상부에 배치되는 오버플로우배관라인을 더 포함하는 거품 제거 장치.
12. 제1항에 있어서,
    일측은 상기 순환탱크의 하부에 연결되고,
    타측은 상기 스트립 세정설비에 연결되는 순환배관라인을 더 포함하는 거품 제거 장치.
13. 제1항에 있어서,
    상기 제1 배관에 배치되는 필터부를 더 포함하는 거품 제거 장치.

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