KR101901556B1 - 1-메틸-3-(트리플루오로메틸)-1h-피라졸-5-올을 제조하는 방법 - Google Patents

1-메틸-3-(트리플루오로메틸)-1h-피라졸-5-올을 제조하는 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 이성질체 1-메틸-5-(트리플루오로메틸)-1H-피라졸-3-올의 함량에 비해 높은 선택도로 1-메틸-3-(트리플루오로메틸)-1H-피라졸-5-올을 제조하는 방법을 공개한다.

Description

1-메틸-3-(트리플루오로메틸)-1H-피라졸-5-올을 제조하는 방법
본 발명은 이성질체 1-메틸-5-(트리플루오로메틸)-1H-피라졸-3-올의 함량에 비해 높은 선택도로 1-메틸-3-(트리플루오로메틸)-1H-피라졸-5-올을 제조하는 방법을 공개한다.
다르게 언급되지 않으면, 하기 약어가 사용된다:
ETFAA 에틸 4,4,4-트리플루오로아세토아세테이트, 식 (3) 의 화합물;
3-MTP 1-메틸-5-(트리플루오로메틸)-1H-피라졸-3-올, 식 (2) 의 화합물, 이성질체;
Figure 112018024573970-pct00001
5-MTP 1-메틸-3-(트리플루오로메틸)-1H-피라졸-5-올, 식 (1) 의 화합물.
5-MTP 는 의약 및 농약, 예컨대 제초제 예컨대 피록사술폰의 생산에서 중간체로서 유용하다.
Lee et al., J. Heterocyclic Chem. 1990, 27, 243-245 는 5-MTP 의 제조 방법을 공개한다: 메틸 히드라진이 실온에서 ETFAA 및 물의 혼합물에 첨가된다. 반응이 진정된 후에, 혼합물은 환류에서 2 h 동안 유지된다. 수율은 24.2 g (49%) 의 5-MTP 및 4.2 g (8%) 의 3-MTP, 선택도 6　:　1 이다.
EP 1 767 528 A1 및 EP 1 990 336 A1 은 둘다 동일한 참조예 1 에서 5-MTP 의 제조 방법을 공개한다: ETFAA 가 10 ℃ 에서 2 eq 의 아세트산에 용해되고, 수성 메틸 히드라진이 1 h 에 걸쳐 첨가되고, 그 후 용액은 1 h 동안 실온에서 및 그 후 5 h 동안 80 ℃ 에서 교반된다. 수율은 86.5% 이다. 이러한 참조예 1 의 반복은 본 발명의 비교예 1 에 기재된 바와 같은 96 : 4 의 선택도를 보여줬다.
5-MTP 를 높은 수율로 및 선행 기술로부터 알려진 것보다 더 높은 선택도로 제공하고 화학량론적 또는 더 많은 양의 아세트산의 사용을 요구하지 않는 5-MTP 의 제조 방법에 관한 필요가 존재했다. 또한 더 양호한 여과 및 세척 거동이 요망되었다. 또한 방법은 용매의 첨가를 요구하지 않아야 한다.
선행 기술은 더 높은 선택도를 얻기 위해 메틸 히드라진과 ETFAA 를 혼합할 때 온도를 낮추는 것을 제안한다: Lee (1990 년도) 는 실온을 사용하고, 6 : 1 의 선택도를 얻으며, 한편 EP 1 767 528 A1 (우선일 2004.03.31 및 공개일 2007.03.28), 및 EP1 990 336 A1 (우선일 2006.02.14 및 공개일 2008.11.12) 의 참조예 1 각각은 혼합에서 Lee at al. 에 비해 훨씬 더 낮은 온도인 10 ℃ 를 사용하고 96 : 4 의 더 높은 선택도를 얻는다.
예상 외로, ETFAA 와 메틸 히드라진을 상승된 온도에서, 즉 실온보다 아주 위인 온도에서, 및 수성 매질에서 및 촉매량의 산의 존재 하에 혼합함으로써, 선택도는 향상될 수 있으며, 한편 수율은 여전히 높다.
더 낮은 활성화 에너지를 갖는 이성질체의 양을 더 높은 활성화 에너지를 갖는 이성질체의 양으로 나눈 값으로서 이성질체의 비가 정의될 때, 온도의 상승이 이성질체의 더 높은 비를, 즉 더 높은 선택도를 초래하는 것은 놀라운데, 그 이유는 두 가지 이성질체를 초래하는 반응에서 더 낮은 활성화 에너지를 갖는 이성질체가 더 낮은 반응 온도에서 선호되기 때문이다. 그러므로 그러한 경우에 이성질체의 비를 향상시키기 위해서 온도를 낮추는 것이 의무적이다. 온도가 상승되는 경우에 그 때 더 높은 활성화 에너지를 갖는 이성질체가 더 높은 정도로 얻어지며, 그에 의해 이성질체의 비가 더 낮아진다. 본 발명에서는 놀랍게도 그것은 그 반대이다.
5-MTP 는 큰 결정의 형태로 얻어지며, 이는 신속한 및 효과적인 여과 및 세척을 허용하며, 화학량론적 또는 더 많은 양의 아세트산의 사용이 요구되지 않으며, 그에 의해 본 발명의 방법의 비용은 EP 1 767 528 A1 및 EP1 990 336 A1 각각의 참조예 1 에 공개된 방법에 비해 유의하게 더 낮다. 본 발명의 방법은 산물을 선행 기술에 비해 더 큰 결정의 형태로 제공하고, 또한 결정은 소판 (platelet) 같은 모양을 가지며, 선행 기술은 결정을 바늘의 형태로 제공한다. 이러한 개선은 더 나은 여과 및 세척 거동을 초래한다.
본 발명의 주제는 식 (1) 의 화합물의 제조 방법으로서;
Figure 112018024573970-pct00002
상기 방법은 단계 ST1 을 포함하고;
ST1 은 식 (3) 의 화합물과 메틸 히드라진의 반응 REAC1 을 포함하고
Figure 112018024573970-pct00003
;
REAC1 에서 식 (3) 의 화합물 및 메틸 히드라진은 온도 TEMP1CONT 에서 접촉되고, 온도 TEMP1REAC 에서 반응되고;
TEMP1CONT 및 TEMP1REAC 는 50 내지 140 ℃ 이고;
메틸 히드라진은 식 (3) 의 화합물에 차징되고 (charged);
REAC1 은 수성 매질에서 및 물 또는 에탄올 이외의 용매의 첨가 없이 수행되는,
방법이다.
본 발명의 상세한 설명
또다른 실시양태에서, 본 발명의 주제는 식 (1) 의 화합물의 제조 방법으로서;
Figure 112018024573970-pct00004
상기 방법은 단계 ST1 을 포함하고;
ST1 은 식 (3) 의 화합물과 메틸 히드라진의 반응 REAC1 을 포함하고
Figure 112018024573970-pct00005
;
REAC1 에서 식 (3) 의 화합물 및 메틸 히드라진은 온도 TEMP1CONT 에서 및 산 ACID1 의 존재 하에 접촉되고, 온도 TEMP1REAC 에서 및 ACID1 의 존재 하에 반응되고;
TEMP1CONT 및 TEMP1REAC 는 50 내지 140 ℃ 이고;
ACID1 은 황산, 아세트산, 트리플루오로 아세트산, H3PO4, 메탄 술폰산, 포름산, 중합체성 술폰산 수지, 및 그들의 혼합물로 이루어지는 군으로부터 선택되고;
ACID1 의 몰량은 식 (3) 의 화합물의 몰량의 0.001 내지 0.25 배이고;
REAC1 은 수성 매질에서 및 물 또는 에탄올 이외의 용매의 첨가 없이 수행되는,
방법이다.
식 (1) 의 화합물, 식 (2) 의 화합물 및 식 (3) 의 화합물은, 예를 들어 용매에 따라 또는 pH 에 따라, 다양한 호변이성질체 형태를 취할 수 있고, 그것을 위해 그들의 식은 임의의 각각의 호변이성질체 형태를 포함한다.
바람직하게는, 메틸 히드라진은 식 (3) 의 화합물에 차징된다.
바람직하게는, 식 (3) 의 화합물에 대한 메틸 히드라진의 차징 (charging) 은 시간 TIME1ADD 내에 수행되고, TIME1ADD 는 10 min 내지 6 h; 바람직하게는 15 min 내지 4 h, 더욱 바람직하게는 20 min 내지 3 h, 더더욱 바람직하게는 25 min 내지 3 h 이다.
바람직하게는, 메틸 히드라진은 수성 용액으로서 사용된다;
더욱 바람직하게는, 메틸 히드라진은 30 내지 50 % (w/w); 더더욱 바람직하게는 35 내지 45 % (w/w) 의 수성 용액으로서 사용된다.
바람직하게는, 메틸 히드라진의 몰량은 식 (3) 의 화합물의 몰량의 0.9 내지 1.5 배, 더욱 바람직하게는 0.95 내지 1.25 배, 더더욱 바람직하게는 0.98 내지 1.15 배이다.
메틸 히드라진을 아화학량론적 양으로 사용하는 목적은 최종 산물에서 및 임의의 폐기물 흐름에서, 고도로 독성인, 잔류 메틸 히드라진이 존재하는 것을 회피하는 것이다.
바람직하게는, REAC1 에서 식 (3) 의 화합물 및 메틸 히드라진은 산 ACID1 의 존재 하에 접촉되고, ACID1 의 존재 하에 반응된다;
ACID1 은 황산, 아세트산, 트리플루오로 아세트산, H3PO4, 메탄 술폰산, 포름산, 중합체성 술폰산 수지, 및 그들의 혼합물로 이루어지는 군으로부터 선택된다;
더욱 바람직하게는, ACID1 은 황산, 트리플루오로 아세트산, H3PO4, 메탄 술폰산, 중합체성 술폰산 수지, 및 그들의 혼합물로 이루어지는 군으로부터 선택된다;
더더욱 바람직하게는, ACID1 은 황산, 트리플루오로 아세트산, 중합체성 술폰산 수지, 및 그들의 혼합물로 이루어지는 군으로부터 선택된다.
중합체성 술폰산 수지는 바람직하게는 산성 양이온 교환 수지, 더욱 바람직하게는 강산성 양이온 교환 수지, 예를 들어 예컨대 불균일 산 촉매작용에서 사용되는 것이다.
바람직하게는, 중합체성 술폰산 수지는 1000 내지 1000000 D 의 평균 분자량; 및/또는
바람직하게는, 수지 1 ㎏ 당 1 내지 15, 더욱 바람직하게는 1 내지 11.6, 더더욱 바람직하게는 1 내지 10, 특히 1 내지 8, 더욱 특히 1 내지 7 당량의 산 자리의 농도; 및/또는
바람직하게는, 1 내지 650, 더욱 바람직하게는 1 내지 560, 더더욱 바람직하게는 1 내지 450, 특히 1 내지 350, 더욱 특히 50 내지 650, 더더욱 특히 1 내지 560, 특별히 50 내지 450, 더욱 특별히 50 내지 350 의 산가를 갖는다.
삭제
산 자리의 농도는 Master Test Method MTM 0232, Edition 1.4, ⓒRohm and Haas Company, 1998 에 의해 측정되며, 여기에서 촉매 휘발물이 Master Test Method MTM 0126, Edition 1.6, ⓒRohm and Haas Company, 2000 에 의해 측정된다.
산가는 DIN EN ISO 3682 에 따라 측정된다. 산가의 추가의 설명에 관해 및 그것과 산 자리의 농도와의 관계에 관해 "BASF Handbuch Lackiertechnik", Artur Goldschmidt and Hans-Joachim Streitberger, Vincentz Verlag, 2002, ISBN 3-87870-324-4, chapter 2.3.2.2 (페이지 272 내지 273) 를 참고한다. 그안의 교시에 따르면, ㎏ 당 1 당량의 산 자리의 농도는 56 의 산가와 동등하고, 그러므로 ㎏ 당 4.7 당량의 산 자리의 농도는 263 의 산가와 동등하다.
특히, 중합체성 술폰산 수지는 술폰화된 폴리스티렌 수지, 디비닐 벤젠과 가교된 술폰화된 폴리스티렌 수지 및 폴리(2-아크릴아미도-2-메틸-1-프로판술폰산)으로 이루어지는 군으로부터 선택된다.
디비닐 벤젠과 가교된 술폰화된 폴리스티렌 수지는 또한 디비닐벤젠-스티렌술폰산 공중합체로 호칭된다.
중합체성 술폰산 수지의 하나의 예는 Amberlyst® 15 DRY 이다.
바람직하게는, ACID1 의 몰량은 식 (3) 의 화합물의 몰량의 0.001 내지 0.25 배, 더욱 바람직하게는 0.005 내지 0.2 배, 더더욱 바람직하게는 0.005 내지 0.15 배, 특히 0.005 내지 0.125 배, 더욱 특히 0.01 내지 0.125 배, 더더욱 특히 0.05 내지 0.125 배이다.
또다른 바람직한 실시양태에서, ACID1 의 몰량은 식 (3) 의 화합물의 몰량의 0.001 내지 0.25 배, 더욱 바람직하게는 0.005 내지 0.25 배, 더더욱 바람직하게는 0.01 내지 0.25 배, 특히 0.01 내지 0.2 배, 더욱 특히 0.05 내지 0.2 배, 더더욱 특히 0.05 내지 0.15 배, 특별히 0.05 내지 0.125 배이다.
바람직하게는, 아세트산은 REAC1 에서 식 (3) 의 화합물의 몰량을 기준으로 1 eq 초과, 더욱 바람직하게는 0.5 eq 초과, 더더욱 바람직하게는 0.25 eq 초과의 양으로 존재하지 않는다;
더욱 바람직하게는, ACID1 은 REAC1 에서 식 (3) 의 화합물의 몰량을 기준으로 1 eq 초과, 더욱 바람직하게는 0.5 eq 초과, 더더욱 바람직하게는 0.25 eq 초과의 양으로 존재하지 않는다.
바람직하게는, TEMP1CONT 및 TEMP1REAC 는 60 내지 120℃, 더욱 바람직하게는 70 내지 120℃, 더더욱 바람직하게는 75 내지 100℃, 특히 80 내지 100 ℃ 이다.
또다른 바람직한 실시양태에서, TEMP1CONT 및 TEMP1REAC 는 60 내지 140℃, 더욱 바람직하게는 70 내지 140℃, 더더욱 바람직하게는 75 내지 140℃, 특히 80 내지 140 ℃ 이다.
바람직하게는, REAC1 은 0.1 내지 10 bar, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 5 bar, 더더욱 바람직하게는 0.5 내지 5 bar, 특히 0.5 내지 2.5 bar 의 압력에서 수행된다.
REAC1 의 압력은 선택된 TEMP1CONT, 선택된 TEMP1REAC 및 식 (3) 의 화합물 및 메틸 히드라진이 접촉될 때 형성되는 반응 혼합물의 비등점에 따라 조정될 수 있다.
바람직하게는, REAC1 의 반응 시간 TIME1REAC 은 0.5 h 내지 12 h, 더욱 바람직하게는 1 h 내지 6 h, 더더욱 바람직하게는 1 h 내지 4 h 이다.
바람직하게는, ST1 은 REAC1 동안 또는 후에 수행되는 에탄올이 증류되어지는 증류 DIST1 을 포함할 수 있다;
더욱 바람직하게는, DIST1 에서 에탄올 및 물은 증류되어진다.
바람직하게는 증류되어지는 에탄올은 REAC1 동안 형성되는 에탄올이다.
바람직하게는, DIST1 동안 또는 후에 물이 반응 혼합물에 첨가된다.
바람직하게는, REAC1 은 수성 매질에서 수행된다.
바람직하게는, REAC1 은 물 이외의 용매의 첨가 없이 수행된다.
바람직하게는, REAC1 은 물 또는 에탄올 이외의 용매의 첨가 없이 수행된다.
더욱 바람직하게는, REAC1 은 수성 매질에서 및 물 이외의 용매의 첨가 없이 수행된다.
더욱 바람직하게는, REAC1 은 수성 매질에서 및 물 또는 에탄올 이외의 용매의 첨가 없이 수행된다.
REAC1 이 물 이외의 용매의 첨가 없이 수행될 때, 그 때, REAC1 에서 존재하는, 물 이외의 유일한 용매는 REAC1 동안 형성되는 에탄올이다.
REAC1 이 물 또는 에탄올 이외의 용매의 첨가 없이 수행될 때, 그 때, REAC1 에서 존재하는, 물 이외의 유일한 용매는 REAC1 동안 형성되는 또는 첨가되는 에탄올이다.
바람직하게는, REAC1 이 수성 매질에서 수행될 때, 그 때 메틸 히드라진이 수성 용액으로서 사용된다;
더욱 바람직하게는, REAC1 이 수성 매질에서 수행되고 메틸 히드라진이 수성 용액으로서 사용될 때, 그 때 REAC1 동안 존재하는 물은 수성 메틸 히드라진으로부터의 물이다; 즉 부가적 물이 첨가되지 않는다.
에탄올이 REAC1 에서 또는 동안 첨가될 때, 첨가되는 에탄올의 양은 바람직하게는 식 (3) 의 화합물의 중량 또는 몰량의 10 배 까지, 더욱 바람직하게는 5 배 까지, 더더욱 바람직하게는 2 배 까지, 특히 1 배 까지이다.
바람직하게는, 에탄올이 첨가되지 않는다.
ST1 은 용매 SOLV1 의 첨가를 포함할 수 있고, SOLV1 은 REAC1 후에 또는 DIST1 후에 첨가되고, 바람직하게는 SOLV1 은 DIST1 후에 첨가된다;
SOLV1 은 에틸 아세테이트, 부틸 아세테이트, 발레로 니트릴, 클로로 벤젠, 디클로로 벤젠, 1,2-디클로로 에탄, 및 그들의 혼합물로 이루어지는 군으로부터 선택된다;
바람직하게는, SOLV1 은 에틸 아세테이트, 부틸 아세테이트, 발레로 니트릴, 1,2-디클로로 에탄, 및 그들의 혼합물로 이루어지는 군으로부터 선택된다;
더욱 바람직하게는, SOLV1 은 에틸 아세테이트, 발레로 니트릴, 1,2-디클로로 에탄, 및 그들의 혼합물로 이루어지는 군으로부터 선택된다.
ST1 후에, 식 (1) 의 화합물은 당업자에게 잘 알려진 방법에 의해 단리 및 정제될 수 있다. 이들은, 예를 들어, 냉각, 여과, 여과 후 세척 및 건조를 포함한다.
산물은 REAC1 후에, DIST1 동안 또는 후에, 또는 냉각 동안 또는 후에 결정화한다.
식 (1) 의 화합물, 식 (2) 의 화합물 및 식 (3) 의 화합물은 상업적으로 입수가능한 알려진 화합물이고/거나 알려진 방법에 따라 생산될 수 있다.
실시예
다르게 언급되지 않으면, 실시예에서 하기가 적용된다:
선택도는 식 (1) 의 화합물과 식 (2) 의 화합물의 비 (식 (1) 의 화합물 : 식 (2) 의 화합물) 이다. 선택도는 NMR 에 의해 측정된다.
HPLC:
칼럼: YMC-Pack ODS-A (250 ㎜ x 4.6 ㎜ x 5 ㎛), YMC Europe GmbH, 46539 Dinslaken, Germany
기울기 용리: 용리제 A 0.1 % H3PO4 + 10 %v/v 아세토니트릴, 용리제 B 아세토니트릴
40 ℃ 에서: 94.4 : 5.6 A : B 에서 시작; 50 min 에 걸쳐 → 33.3 : 66.7 A : B
230 nm 에서 UV 검출기
HPLC 를 위한 외부 표준: 5-MTP (Sigma-Aldrich, NMR 에 의해 측정할 때 97.0%)
NMR 참조:
1H-NMR: TMS 델타 0 ppm
13C-NMR: DMSO-d6 델타 39.51 ppm
19F-NMR: 1,4-디플루오로벤젠 델타 -120.89 ppm
입자 크기 분포:
dxx,3 : xx = 샘플의 백분율, 3 = 부피 %
실시예 1 (촉매 황산을 사용)
에틸 4,4,4-트리플루오로아세토아세테이트 (100 g, 0.54 mol, 1 eq) 및 수성 황산 96% (w/w, 5.3 g, 0.05 mol, 0.09 eq) 을 0.5 L 이중벽 교반되는 유리 반응기에 배치하고, 85 ℃ 로 가열했다. 수성 메틸 히드라진 40% (w/w, 68.8 g, 0.60 mol, 1.11 eq) 을 30 min 의 기간에 걸쳐 첨가하는 한편, 반응 온도를 85 ℃ 에서 유지했다. 그 후 결과적인 반응 혼합물을 2 h 동안 85 ℃ 에서 교반했다. 그 후 증류물 (42 g) 을 주위 압력 및 95 ℃ 에서 1 h 동안 증류시켰다. 증류 동안 물 (112 g) 을 점진적으로 첨가했다. 결과적인 반응 혼합물을 10 ℃ 로 냉각시켰다. 결정화된 물질을 여과에 의해 수집하고, 물 (97 g) 로 세척하고, 그 후 진공 (50 mbar) 및 60 ℃ 하에 건조시켜 78.9 g 의 식 (1) 의 화합물 (수율: 87.5%) 을 얻었다. 산물의 순도는 19F-NMR 에 의해 98.5% w/w 인 것으로 확인되었다.
선택도는 99.2 : 0.8 였다.
실시예 2 (촉매 트리플루오로 아세트산을 사용)
실시예 1 을 반복했으며, 유일한 차이점은 트리플루오로 아세트산 (0.1 eq) 을 황산 (0.09 eq) 대신에 사용한 점이다.
수율은 83.9% 였다.
순도: 99.6% (w/w)
선택도는 97.2 :2.8 였다.
비교예 1
EP 1 767 528 A1 의 참조예 1 을 반복했다.
수율은 85.8 % 였다.
선택도는 95.2 : 4.8 였다.
실시예 3 (촉매를 사용하지 않음)
에틸 4,4,4-트리플루오로아세토아세테이트 (150 g, 0.81 mol, 1 eq) 를 85 ℃ 로 가열했다. 수성 메틸 히드라진 40% (w/w, 103.2 g, 0.9 mol, 1.10 eq) 을 2 h 의 기간에 걸쳐 첨가하는 한편, 반응 온도를 90 내지 94 ℃ 에서 유지했다. 그 후 반응 혼합물을 2 h 동안 90 내지 94 ℃ 에서 교반했다. 물 (260 g) 을 첨가했다. 그 후 증류물 (47 g) 을 주위 압력에서 및 92 내지 96 ℃ 에서 40 min 동안 증류시켰다. 결과적인 반응 혼합물을 10 ℃ 로 냉각시켰다. 결정화된 물질을 여과에 의해 수집하고, 물 (230 g) 로 세척하고, 그 후 진공 (20 mbar) 및 50 ℃ 하에 건조시켜 97.4 g 의 식 (1) 의 화합물 (수율: 72.4%) 을 얻었다. 산물의 순도는 1H-NMR 에 의해 99.7% w/w 인 것으로 확인되었다.
선택도는 98.1 : 1.9 였다.

Claims (10)

  1. 식 (1) 의 화합물의 제조 방법으로서;
    Figure 112018083372512-pct00006

    상기 방법은 단계 ST1 을 포함하고;
    ST1 은 식 (3) 의 화합물과 메틸 히드라진의 반응 REAC1 을 포함하고
    Figure 112018083372512-pct00007
    ;
    REAC1 에서 식 (3) 의 화합물 및 메틸 히드라진은 온도 TEMP1CONT 에서 접촉되고, 온도 TEMP1REAC 에서 반응되고;
    TEMP1CONT 및 TEMP1REAC 는 50 내지 140 ℃ 이고;
    메틸 히드라진은 식 (3) 의 화합물에 차징되고;
    REAC1 은 수성 매질에서 및 물 또는 에탄올 이외의 용매의 첨가 없이 수행되며,
    REAC1 에서 식 (3) 의 화합물 및 메틸 히드라진은 산 ACID1 의 존재 하에 접촉되고, ACID1 의 존재 하에 반응되고;
    ACID1 은 황산, 아세트산, 트리플루오로 아세트산, H3PO4, 메탄 술폰산, 포름산, 중합체성 술폰산 수지, 및 그들의 혼합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는,
    식 (1) 의 화합물의 제조 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    식 (3) 의 화합물에 대한 메틸 히드라진의 차징은 시간 TIME1ADD 내에 수행되고, TIME1ADD 은 10 min 내지 6 h 인,
    식 (1) 의 화합물의 제조 방법.
  3. 제 1 항에 있어서,
    REAC1 은 수성 매질에서 및 물 이외의 용매의 첨가 없이 수행되는,
    식 (1) 의 화합물의 제조 방법.
  4. 삭제
  5. 제 1 항에 있어서,
    ACID1 의 몰량은 식 (3) 의 화합물의 몰량의 0.001 내지 0.25 배인,
    식 (1) 의 화합물의 제조 방법.
  6. 제 1 항에 있어서,
    ACID1 의 몰량은 식 (3) 의 화합물의 몰량의 0.005 내지 0.25 배인,
    식 (1) 의 화합물의 제조 방법.
  7. 제 1 항 내지 제 3 항, 제 5 항 및 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
    메틸 히드라진은 수성 용액으로서 사용되는,
    식 (1) 의 화합물의 제조 방법.
  8. 제 1 항 내지 제 3 항, 제 5 항 및 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
    TEMP1CONT 및 TEMP1REAC 는 60 내지 140℃ 인,
    식 (1) 의 화합물의 제조 방법.
  9. 제 1 항 내지 제 3 항, 제 5 항 및 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
    ST1 은 REAC1 동안 또는 후에 수행되는 에탄올이 증류되어지는 증류 DIST1 을 포함하는,
    식 (1) 의 화합물의 제조 방법.
  10. 제 1 항 내지 제 3 항, 제 5 항 및 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
    ST1 은 용매 SOLV1 의 첨가를 포함하고, SOLV1 은 REAC1 후에 첨가되고;
    SOLV1 은 에틸 아세테이트, 부틸 아세테이트, 발레로 니트릴, 클로로 벤젠, 디클로로 벤젠, 1,2-디클로로 에탄, 및 그들의 혼합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는,
    식 (1) 의 화합물의 제조 방법.
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