KR101893939B1 - Contact structure of line and LCD including the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 액정표시장치에 관한 것으로, 특히 배향물질의 미퍼짐 현상을 방지할 수 있는 배선 콘택 구조 및 이를 포함하는 액정표시장치에 관한 것이다.
본 발명의 특징은 드레인콘택홀의 가장자리에 대응하는 화소전극의 가장자리에 드레인콘택홀의 가장자리 일부를 노출하는 가이드홈을 형성함으로써, 잉크젯(inkjet) 코팅 방법을 통해 기판 상에 배향막을 형성하는 과정에서, 배향물질이 드레인콘택홀 내부로 도포될 수 있도록 할 수 있다..
이를 통해, 빛샘이 발생하는 것을 방지할 수 있으며, 액정표시장치의 화면 표시 품질이 저하되는 문제점이 발생하게 되는 것을 방지할 수 있다.
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to a wiring contact structure capable of preventing the spreading of an alignment material and a liquid crystal display device including the same.
A feature of the present invention is that in the process of forming an alignment film on a substrate through an inkjet coating method by forming a guide groove exposing a part of the edge of the drain contact hole at the edge of the pixel electrode corresponding to the edge of the drain contact hole, So that the material can be applied to the inside of the drain contact hole.
Accordingly, it is possible to prevent the occurrence of light leakage, and it is possible to prevent a problem that the screen display quality of the liquid crystal display device is deteriorated.

Description

배선 콘택 구조 및 이를 포함하는 액정표시장치{Contact structure of line and LCD including the same}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wiring contact structure and a liquid crystal display device including the same,

본 발명은 액정표시장치에 관한 것으로, 특히 배향물질의 미퍼짐 현상을 방지할 수 있는 배선 콘택 구조 및 이를 포함하는 액정표시장치에 관한 것이다.
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to a wiring contact structure capable of preventing the spreading of an alignment material and a liquid crystal display device including the same.

최근 정보화 사회로 시대가 발전함에 따라 박형화, 경량화, 저 소비전력화 등의 우수한 특성을 가지는 디스플레이 장치의 필요성이 대두되었고, 이에 따라 평판표시장치(flat panel display)에 대한 연구가 활발히 이루어지고 있으며, 특히 액정표시장치(liquid crystal display)가 해상도, 컬러표시, 화질 등에서 우수하여 노트북이나 데스크탑 컴퓨터의 모니터에 활발하게 적용되고 있다.As the age of the information society has developed in recent years, a need has arisen for a display device having excellent characteristics such as thinning, light weight, and low power consumption, and accordingly, a flat panel display has been actively studied Liquid crystal displays (LCDs) are excellent in resolution, color display, and image quality, and are being actively applied to monitors of notebook computers and desktop computers.

액정표시장치는 액정층을 사이에 두고 서로 마주보는 면으로 각각 전계생성전극이 형성된 한 쌍의 투명 절연기판을 대면 합착시킨 액정패널(liquid crystal panel)을 필수적인 구성요소로 하며, 두 전계생성전극 사이의 전기장 크기에 따라 그 사이로 개재된 액정분자의 배열방향을 인위적으로 조절하고 이에 따른 빛의 투과율 변화를 통해 여러 가지 화상을 나타낸다.The liquid crystal display device has a liquid crystal panel in which a pair of transparent insulating substrates each having a field-generating electrode formed on a surface facing each other with a liquid crystal layer interposed therebetween, The liquid crystal molecules are artificially arranged along the direction of the liquid crystal molecules, and various images are displayed through the change of the transmittance of light.

일반적인 액정표시장치의 단면도인 도 1을 참조하여 액정표시장치의 구성에 대해 보다 더 상세히 설명하도록 하겠다. 1, which is a cross-sectional view of a general liquid crystal display device, the structure of a liquid crystal display device will be described in more detail.

액정표시장치는 도시한 바와 같이, 액정층(5)을 사이에 두고 어레이기판(array substrate)과 컬러필터기판(color filter substrate)이 대면 합착된 액정패널(10)과 그 하부에 배치되는 백라이트(20)의 구성을 갖는데, 이중 어레이기판이라 불리는 제 1 기판(1)의 일면에는 화소영역(P)이 정의되어 있으며, 각 화소영역(P)에는 박막트랜지스터(T)가 구비되어 각 화소영역(P)에 마련된 투명 화소전극(12)과 일대일 대응 접속된다.As shown in the figure, a liquid crystal display device includes a liquid crystal panel 10 in which an array substrate and a color filter substrate are bonded to each other with a liquid crystal layer 5 interposed therebetween, and a backlight A pixel region P is defined on one surface of a first substrate 1 called a dual array substrate and a thin film transistor T is provided in each pixel region P to form pixel regions P connected to the transparent pixel electrode 12. [

또한 액정층(5)을 사이에 두고 이와 마주보는 제 2 기판(2)은 상부기판 또는 컬러필터기판(color filter substrate)이라 불리는데, 이의 일면에는 제 1 기판(1)의 박막트랜지스터(T) 등의 비표시 요소를 가리면서 화소전극(12) 만을 노출시키도록 화소영역(P)을 두르는 격자 형상의 블랙매트릭스(21)가 구성된다. The second substrate 2 facing the first substrate 1 with the liquid crystal layer 5 therebetween is called an upper substrate or a color filter substrate. Shaped black matrix 21 that covers the pixel region P so as to expose only the pixel electrode 12 while covering the non-display elements of the black matrix 21.

또한, 이들 격자 내부에서 각 화소영역(P)에 대응되게 순차적으로 반복 배열되는, 일예로 R(red), G(green), B(blue) 컬러필터(23) 그리고 이들 모두를 덮는 투명 공통전극(25)을 포함한다.For example, R (red), G (green), and B (blue) color filters 23, which are sequentially and repeatedly arranged in correspondence to the respective pixel regions P in these lattices, and transparent common electrodes (25).

이때, 제 1 및 제 2 기판(1, 2)의 외면으로는 특정 편광만을 선택적으로 투과시키는 편광판(30, 40)이 부착된다. At this time, polarizers 30 and 40 for selectively transmitting only specific polarized light are attached to the outer surfaces of the first and second substrates 1 and 2.

그리고, 액정층(5)과 화소전극(12) 그리고 공통전극(25) 사이로는 액정을 향하는 표면이 각각 소정 방향으로 러빙(rubbing)된 제 1 및 제 2 배향막(50a, 50b)이 개재되어 액정분자의 초기배열상태와 배향 방향을 균일하게 정렬한다. Between the liquid crystal layer 5 and the pixel electrode 12 and the common electrode 25 are disposed first and second alignment films 50a and 50b in which surfaces facing the liquid crystal are rubbed in a predetermined direction, Aligning the initial alignment state of the molecules and the alignment direction uniformly.

또한, 그 사이로 충진되는 액정층(5)의 누설을 방지하기 위해 양 기판(1, 2)의 가장자리를 따라 씰패턴(seal pattern : 60)이 형성된다. A seal pattern 60 is formed along the edges of the substrates 1 and 2 to prevent leakage of the liquid crystal layer 5 filled therebetween.

한편, 이러한 액정표시장치에 있어서, 제 1 기판(1) 상에 형성된 화소전극(12)은 콘택홀(16)을 통해 박막트랜지스터(T)의 드레인전극(19)과 접촉하게 되는데, 이때, 콘택홀(16) 주변에는 화소전극(12)이 패터닝되어 위치함으로써, 화소전극(12)에 의해서 콘택홀(16) 주변에는 단차가 발생하게 된다. The pixel electrode 12 formed on the first substrate 1 is brought into contact with the drain electrode 19 of the thin film transistor T through the contact hole 16. At this time, A step is formed around the contact hole 16 by the pixel electrode 12 because the pixel electrode 12 is patterned and positioned around the hole 16. [

이와 같이, 콘택홀(16) 주변에 화소전극(12)에 의한 단차가 형성됨으로써, 제 1 배향막(50a)을 제 1 기판(1) 상에 형성하는 과정에서 배향물질이 화소전극(12)에 의한 단차로 인하여 콘택홀(16) 내부로 도포되지 않으며, 이를 통해 기판(1) 상에 배향물질이 균일하게 도포되지 않는 문제점이 발생하게 된다. As a result of forming the stepped portion by the pixel electrode 12 in the vicinity of the contact hole 16 as described above, the alignment material is formed on the pixel electrode 12 in the process of forming the first alignment film 50a on the first substrate 1 The alignment material is not uniformly applied on the substrate 1 through the contact holes 16 due to the difference in level due to the step difference.

따라서, 콘택홀(16)이 형성된 영역에는 액정층(5)의 액정의 초기 분자배열 등을 결정할 수 없어, 이의 영역을 통해 빛샘이 발생하게 되고, 이러한 빛샘은 특히 해당 화소영역(P)이 블랙(black)을 구현하는 경우에 큰 불량으로 관찰되게 되어 액정표시장치의 화면 표시 품질을 저하하게 된다
Therefore, in the region where the contact hole 16 is formed, the initial molecular arrangement and the like of the liquid crystal in the liquid crystal layer 5 can not be determined, and light leakage occurs through the region. In particular, the display quality of the liquid crystal display device is deteriorated due to the large defects observed when implementing black

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 액정표시장치의 콘택홀 내부로 배향막 물질이 도포될 수 있도록 하는 것을 제 1 목적으로 한다. SUMMARY OF THE INVENTION It is a first object of the present invention to provide an alignment film material that can be applied to a contact hole of a liquid crystal display device.

이를 통해, 액정표시장치의 화면 표시 품질을 향상시키고자 하는 것을 제 2 목적으로 한다.
A second object of the present invention is to improve the screen display quality of the liquid crystal display device.

전술한 바와 같은 목적을 달성하기 위해, 본 발명은 게이트 배선 및 데이터배선과, 박막트랜지스터를 포함하는 제 1 기판과; 상기 박막트랜지스터의 드레인전극을 노출하는 콘택홀을 포함하는 보호층과; 상기 보호층의 상부에 형성되며, 상기 콘택홀을 통해 상기 드레인전극과 접촉하고, 상기 콘택홀의 가장자리 일부를 노출하는 가이드홈을 포함하는 화소전극과; 상기 화소전극을 포함하는 상기 제 1 기판의 전면에 형성되는 제 1 배향막과; 상기 제 1 기판과 마주보며, 제 2 배향막이 형성된 제 2 기판과; 상기 제 1 및 제 2 배향막 사이의 이격된 공간에 형성된 액정층과; 상기 제 1 기판 및 제 2 기판 중 선택된 어느 하나에 형성되며, 상기 화소전극과 전계를 형성하는 공통전극을 포함하며, 상기 제 1 배향막을 이루는 배향물질은 상기 가이드홈을 통해 상기 콘택홀 내부로 가이드되는 액정표시장치를 제공한다. According to an aspect of the present invention, there is provided a semiconductor device comprising: a first substrate including a gate wiring, a data wiring, and a thin film transistor; A protective layer including a contact hole exposing a drain electrode of the thin film transistor; A pixel electrode formed on the protection layer, the pixel electrode including a guide groove contacting the drain electrode through the contact hole and exposing a part of the edge of the contact hole; A first alignment layer formed on an entire surface of the first substrate including the pixel electrode; A second substrate facing the first substrate and having a second alignment layer formed thereon; A liquid crystal layer formed in a spaced-apart space between the first and second alignment layers; And a common electrode formed on one of the first substrate and the second substrate and forming an electric field with the pixel electrode, wherein the alignment material forming the first alignment layer is guided into the contact hole through the guide groove, And a liquid crystal display device.

이때, 상기 가이드홈은 상기 콘택홀의 가장자리와 대응하는 상기 화소전극의 가장자리에 형성되며, 상기 콘택홀의 가장자리는 라운딩형상이다. At this time, the guide groove is formed at the edge of the pixel electrode corresponding to the edge of the contact hole, and the edge of the contact hole has a rounded shape.

그리고, 상기 배향물질은 잉크젯(inkjet) 코팅 방법을 통해 상기 제 1 기판 상에 도포되며, 상기 가이드홈의 폭의 조절을 통해 상기 배향물질이 상기 콘택홀 내부로 가이드되는 속도를 조절한다. The alignment material is coated on the first substrate by an inkjet coating method and the speed of guiding the alignment material into the contact hole is adjusted by adjusting the width of the guide groove.

또한, 본 발명은 제 1 배선이 형성된 기판과; 상기 기판 상에 형성되며, 상기 제 1 배선을 노출하는 콘택홀을 포함하는 절연물질과; 상기 절연물질 상부에 형성되며, 상기 콘택홀을 통해 상기 제 1 배선과 접촉하고, 상기 콘택홀의 가장자리 일부를 노출하는 가이드홈을 포함하는 제 2 배선과; 상기 제 2 배선을 포함하는 상기 기판의 전면에 형성되며, 상기 가이드홈을 통해 상기 콘택홀 내부로 도포되는 액상물질층을 포함하는 배선 콘택 구조를 제공한다. According to another aspect of the present invention, An insulating material formed on the substrate, the insulating material including a contact hole exposing the first wiring; A second wiring formed on the insulating material and including a guide groove contacting the first wiring through the contact hole and exposing a part of the edge of the contact hole; And a liquid material layer formed on a front surface of the substrate including the second wiring and applied to the inside of the contact hole through the guide groove.

이때, 상기 가이드홈은 상기 콘택홀의 가장자리와 대응하는 상기 제 2 배선의 가장자리에 형성되며, 상기 콘택홀의 가장자리는 라운딩형상이다.
At this time, the guide groove is formed at the edge of the second wiring corresponding to the edge of the contact hole, and the edge of the contact hole has a rounded shape.

위에 상술한 바와 같이, 본 발명에 따라 드레인콘택홀의 가장자리에 대응하는 화소전극의 가장자리에 드레인콘택홀의 가장자리 일부를 노출하는 가이드홈을 형성함으로써, 기판 상에 배향막을 형성하는 과정에서, 배향물질이 드레인콘택홀 내부로 도포될 수 있도록 할 수 있는 효과가 있다.As described above, according to the present invention, by forming the guide groove exposing a part of the edge of the drain contact hole at the edge of the pixel electrode corresponding to the edge of the drain contact hole, in the process of forming the alignment film on the substrate, So that it can be applied to the inside of the contact hole.

이를 통해, 빛샘이 발생하는 것을 방지할 수 있는 효과가 있으며, 액정표시장치의 화면 표시 품질이 저하되는 문제점이 발생하게 되는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.
Accordingly, there is an effect that light leakage can be prevented from occurring, and it is possible to prevent a problem that a display quality of a liquid crystal display device is deteriorated.

도 1은 일반적인 액정표시장치를 개략적으로 도시한 단면도.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치의 구성을 개략적으로 도시한 분해 사시도.
도 3은 도 2의 제 1 기판의 단면을 개략적으로 도시한 단면도.
도 4a는 일반적인 화소전극과 드레인전극의 연결을 개략적으로 도시한 평면도.
도 4b는 본 발명의 실시예에 따른 화소전극과 드레인전극의 연결을 개략적으로 도시한 평면도.
도 5a ~ 5b는 도 4a와 4b의 A와 B선을 따라 자른의 단면을 개략적으로 도시한 단면도.
도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 화소전극과 드레인전극의 연결을 개략적으로 도시한 평면도.
1 is a cross-sectional view schematically showing a general liquid crystal display device.
2 is an exploded perspective view schematically showing a configuration of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.
3 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of the first substrate of FIG. 2;
4A is a plan view schematically showing a connection between a common pixel electrode and a drain electrode.
4B is a plan view schematically showing a connection between a pixel electrode and a drain electrode according to an embodiment of the present invention.
5A-5B are cross-sectional views schematically showing cross-sections taken along lines A and B of FIGS. 4A and 4B;
6 is a plan view schematically showing a connection of a pixel electrode and a drain electrode according to another embodiment of the present invention.

이하, 도면을 참조하여 본 발명에 따른 실시예를 상세히 설명한다. Hereinafter, embodiments according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치의 구성을 개략적으로 도시한 분해 사시도이다.2 is an exploded perspective view schematically showing a configuration of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.

액정표시장치는 도시한 바와 같이, 액정층(105)을 사이에 두고 어레이기판(array substrate : 112)과 컬러필터기판(color filter substrate : 114)이 대면 합착된 액정패널(110)을 필수 요소로 한다. As shown in the drawing, a liquid crystal display device includes a liquid crystal panel 110 in which an array substrate 112 and a color filter substrate 114 are bonded to each other with a liquid crystal layer 105 interposed therebetween as an essential element do.

이중 하부기판 또는 어레이기판(array substrate)이라 불리는 제 1 기판(112)의 일면에는 복수개의 데이터배선(218)과 게이트배선(221)이 종횡 교차하여 화소영역(P)을 정의한다. A plurality of data lines 218 and a plurality of gate lines 221 are vertically and horizontally crossed to define a pixel region P on one surface of a first substrate 112 called a double bottom substrate or an array substrate.

이들 두 배선의 교차지점에는 박막트랜지스터(T)가 구비되어 각 화소영역(P)에 마련된 투명 화소전극(222)과 일대일 대응 접속된다.A thin film transistor T is provided at the intersection of these two wirings and connected in a one-to-one correspondence with the transparent pixel electrode 222 provided in each pixel region P.

또한 액정층(105)을 사이에 두고 이와 마주보는 제 2 기판(114)은 상부기판 또는 컬러필터기판(color filter substrate)이라 불리는데, 이의 일면에는 제 1 기판(112)의 데이터배선(218)과 게이트배선(211) 그리고 박막트랜지스터(T) 등의 비표시 요소를 가리면서 화소전극(222) 만을 노출시키도록 화소영역(P)을 두르는 격자 형상의 블랙매트릭스(231)가 구성된다. The second substrate 114 facing the second substrate 114 with the liquid crystal layer 105 therebetween is called an upper substrate or a color filter substrate. On one surface of the second substrate 114, a data line 218 of the first substrate 112, A black matrix 231 of a lattice shape constituting the pixel region P is formed so as to expose only the pixel electrode 222 while covering the non-display elements such as the gate line 211 and the thin film transistor T. [

또한, 이들 격자 내부에서 각 화소영역(P)에 대응되게 순차적으로 반복 배열되는 R(red), G(green), B(blue) 컬러필터(233) 그리고 이들 모두를 덮는 투명 공통전극(235)을 포함한다. In addition, R (red), G (green), and B (blue) color filters 233 which are sequentially and repeatedly arranged in correspondence with the respective pixel regions P in these lattices, and a transparent common electrode 235 covering all of them, .

아울러 비록 도면상에 명확하게 나타나지는 않았지만 이들 두 기판(112, 114)과 액정층(105)의 경계부분에는 액정의 초기 분자배열 방향을 결정하는 제 1 및 제 2 배향막이 개재되고, 그 사이로 충진되는 액정층(105)의 누설을 방지하기 위해 양 기판(112, 114)의 가장자리를 따라 씰패턴(seal pattern)이 형성된다. Although not clearly shown in the drawing, first and second alignment films for determining the initial alignment direction of the liquid crystal are interposed at the boundary between the two substrates 112 and 114 and the liquid crystal layer 105, A seal pattern is formed along the edges of both the substrates 112 and 114 to prevent leakage of the liquid crystal layer 105. [

그리고 이중 제 1 기판(112)은 제 2 기판(114) 보다 큰 면적을 가지고 있어 이들의 합착 시 제 1 기판(112)의 가장자리가 외부로 노출되는데, 여기에는 각각 다수의 데이터배선(218)과 연결된 복수개의 데이터패드(218a) 그리고 다수의 게이트배선(211)과 연결된 복수개의 게이트패드(미도시)가 위치한다.Since the first substrate 112 has a larger area than the second substrate 114, the edges of the first substrate 112 are exposed to the outside when the first substrate 112 and the second substrate 114 are bonded together. A plurality of connected data pads 218a and a plurality of gate pads (not shown) connected to the plurality of gate wirings 211 are located.

따라서, 게이트배선(211)으로 박막트랜지스터(T)의 온(on)/오프(off) 신호가 순차적으로 스캔 인가되어 선택된 화소영역(P)의 화소전극(222)에 데이터배선(218)의 화상신호가 전달되면 공통전극(235)과 화소전극(222) 사이의 수직전계에 의해 그 사이의 액정분자가 구동되고, 이에 따른 빛의 투과율 변화로 여러 가지 화상을 표시할 수 있다.Therefore, the on / off signals of the thin film transistor T are sequentially applied to the gate wiring 211 to scan the pixel electrodes 222 of the selected pixel region P, When a signal is transmitted, the liquid crystal molecules between the common electrode 235 and the pixel electrode 222 are driven by the vertical electric field, and various images can be displayed due to the light transmittance change.

그리고, 이러한 액정패널(110)의 각 외면으로는 특정 빛만을 선택적으로 투과시키는 제 1 및 제 2 편광판(130, 140)이 부착되는데, 제 1 편광판(130)은 제 1 방향의 편광축을 가지며, 제 2 편광판(140)은 제 1 방향에 수직한 제 2 방향의 편광축을 갖는다. The first and second polarizers 130 and 140 selectively transmit only specific light to the outer surfaces of the liquid crystal panel 110. The first polarizer 130 has a polarization axis in the first direction, The second polarizing plate 140 has a polarization axis in a second direction perpendicular to the first direction.

아울러 액정패널(110)이 나타내는 투과율의 차이가 외부로 발현되도록 이의 배면에서 빛을 공급하는 백라이트(120)가 구비된다.In addition, a backlight 120 is provided to supply light from the rear surface of the liquid crystal panel 110 so that a difference in transmittance represented by the liquid crystal panel 110 is externally expressed.

백라이트(120)는 빛을 발하는 광원(미도시)의 위치에 따라 측광형(side type)과 직하형(direct type)으로 구분되는데, 측광형은 액정패널(110)에 대해 이의 후방의 일측면으로부터 출사된 광원(미도시)의 빛을 별도의 도광판(미도시)으로 굴절시켜 액정패널(110)로 입사시키며, 직하형은 액정패널(110) 배면으로 복수개의 광원(미도시)을 직접 배치시켜 빛을 입사시킨다. The backlight 120 is divided into a side type and a direct type depending on the position of a light source (not shown) that emits light. The light of the emitted light source (not shown) is refracted by a separate light guiding plate (not shown) to be incident on the liquid crystal panel 110, and a direct light type is provided by arranging a plurality of light sources (not shown) on the back surface of the liquid crystal panel 110 Let the light enter.

본 발명은 이 둘 중 어느 것이나 이용가능하다.The present invention is applicable to either of these.

이때, 광원(미도시)은 음극전극형광램프(cold cathode fluorescent lamp)나 외부전극형광램프(external electrode fluorescent lamp)와 같은 형광램프가 이용될 수 있다. 또는, 이러한 형광램프 이외에 발광다이오드 램프(light emitting diode lamp)가 램프로 이용될 수도 있다. In this case, a fluorescent lamp such as a cold cathode fluorescent lamp or an external electrode fluorescent lamp may be used as a light source (not shown). Alternatively, in addition to such a fluorescent lamp, a light emitting diode lamp may be used as a lamp.

도 3은 도 2의 제 1 기판의 단면을 개략적으로 도시한 단면도이다. 3 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of the first substrate of FIG.

도시한 바와 같이, 제 1 기판(112) 상에 게이트배선(도 2의 221)과 게이트배선(도 2의 221)에서 연장된 게이트전극(211), 게이트전극(211) 및 게이트배선(도 2의 221) 상부에 형성된 게이트절연막(213), 게이트절연막(213) 상부에 형성된 반도체층(215), 반도체층(215) 상부에 이격된 소스 및 드레인전극(217, 219)으로 구성되는 박막트랜지스터(T)가 구성된다. 2, the gate electrode 211, the gate electrode 211, and the gate wiring (see FIG. 2) extending from the gate wiring (221 in FIG. 2) and the gate wiring (221 in FIG. 2) are formed on the first substrate 112, A semiconductor layer 215 formed on the gate insulating layer 213 and source and drain electrodes 217 and 219 spaced from the top of the semiconductor layer 215. The thin film transistor T).

이때, 반도체층(215)은 순수 비정질 실리콘의 액티브층(215a)과 불순물을 포함하는 비정질 실리콘의 오믹콘택층(215b)으로 구성되며, 이때, 박막트랜지스터(T)는 도면에서는 순수 및 불순물의 비정질질실리콘(215a, 215b)으로 이루어진 보텀 케이트(bottom gate) 타입을 예로써 보이고 있으며, 이의 변형예로써 폴리실리콘 반도체층을 포함하여 탑 게이트(top gate) 타입으로 형성될 수도 있다. At this time, the semiconductor layer 215 is composed of an active layer 215a of pure amorphous silicon and an amorphous silicon ohmic contact layer 215b containing an impurity. At this time, the thin film transistor T is formed of amorphous A bottom gate type including silicon vias 215a and 215b is shown as an example. As a modification thereof, a top gate type including a polysilicon semiconductor layer may be formed.

그리고 소스 및 드레인전극(217, 219)의 상부에는 드레인전극(219)의 일부를 노출하는 드레인콘택홀(216a)을 포함하는 보호층(216)이 구성되고, 보호층(216) 상에는 이의 드레인콘택홀(216a)을 통해 드레인전극(219)과 연결되는 화소전극(222)이 구성된다. A protective layer 216 is formed on the source and drain electrodes 217 and 219 and includes a drain contact hole 216a exposing a portion of the drain electrode 219. A protective layer 216 is formed on the protective layer 216, And a pixel electrode 222 connected to the drain electrode 219 through the hole 216a.

그리고, 화소전극(222) 상부에는 액정층(도 2의 105)의 액정분자의 초기 배향방향을 결정짓는 제 1 배향막(250)이 도포되어 있다. A first alignment layer 250 is formed on the pixel electrode 222 to define the initial alignment direction of the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 105 (see FIG. 2).

이때, 본 발명의 화소전극(222)은 드레인콘택홀(216a)을 통해 드레인전극(219)과 연결되는 부위에, 제 1 배향막(250)을 이루는 배향물질의 이동방향을 가이드 하기 위한 가이드홈(300, 도 4b참조)을 형성하는 것을 특징으로 한다. The pixel electrode 222 of the present invention includes a guide groove for guiding a moving direction of the alignment material forming the first alignment layer 250 at a portion connected to the drain electrode 219 through the drain contact hole 216a 300, see FIG. 4B).

가이드홈(300, 도 4b참조)은 드레인콘택홀(216a)의 가장자리 일부에 화소전극(222)이 형성되지 않도록 함으로써 드레인콘택홀(216a)의 가장자리 일부가 노출되도록 하는 것이다. The guide groove 300 (see FIG. 4B) exposes part of the edge of the drain contact hole 216a by preventing the pixel electrode 222 from being formed in a part of the edge of the drain contact hole 216a.

즉, 화소전극(222)의 단차(C)가 발생되지 않는 일부 영역을 형성하며, 이의 영역이 배향물질(250a, 도 4a 참조)이 퍼져나갈 수 있는 길의 역할을 하도록 하는 것이다. That is, a partial region where the step C of the pixel electrode 222 is not formed is formed, and the region of the pixel electrode 222 serves as a path for spreading the alignment material 250a (see FIG. 4A).

이를 통해, 제 1 기판(112) 상에 제 1 배향막(250)을 형성하는 과정에서, 제 1 배향막(250)을 이루는 배향물질(250a, 도 4b참조)이 화소전극(222)과 보호층(216)과의 단차(C)로 인하여 드레인콘택홀(216a) 내부로 도포되지 않는 문제점이 발생하는 것을 방지할 수 있다. The alignment material 250a (see FIG. 4B) constituting the first alignment layer 250 is formed on the pixel electrode 222 and the protective layer (not shown) in the process of forming the first alignment layer 250 on the first substrate 112, It is possible to prevent the problem of not being applied to the inside of the drain contact hole 216a due to the step C between the drain contact hole 216a and the drain contact hole 216a.

이에 대해 좀더 자세히 살펴보면, 제 1 기판(112)은 보호층(216) 상부에 형성되는 화소전극(222)에 의해 화소전극(222)의 두께만큼의 단차(C)가 발생하게 된다. The pixel electrode 222 formed on the passivation layer 216 generates a step C as much as the thickness of the pixel electrode 222 in the first substrate 112. [

특히, 이러한 단차(C)는 화소전극(222)이 패터닝되는 드레인전극(219)과 화소전극(222)이 접촉되는 부위인 드레인콘택홀(216a) 주변에서 많이 발생하게 된다. Particularly, the step C is generated in the vicinity of the drain electrode 219 on which the pixel electrode 222 is patterned and around the drain contact hole 216a where the pixel electrode 222 is in contact.

이러한 화소전극(222) 상부에는 제 1 배향막(250)이 형성되는데, 여기서, 제 1 배향막(250)은 배향물질(250a, 도 4b참조)을 도포한 후, 이를 소성공정에 의해 건조시켜 형성하게 되는데, 배향물질(250a, 도 4b참조) 도포시에는 잉크젯(inkjet) 코팅 방법을 사용하여 기판(112) 상에 배향물질(250a, 도 4b참조)을 도포한 후, 배향물질(250a, 도 4b참조)의 액상의 퍼짐성을 통해 의해 기판(112) 상에 균일한 두께로 제 1 배향막(250)을 형성하게 된다. A first alignment layer 250 is formed on the pixel electrode 222. The first alignment layer 250 is formed by applying an alignment material 250a (see FIG. 4B) and then drying the alignment layer 250a by a firing process 4B) is applied to the substrate 112 using an inkjet coating method, and then the alignment material 250a (see FIG. 4B) is coated on the alignment layer 250a The first alignment layer 250 is formed on the substrate 112 with a uniform thickness.

이때, 배향물질(250a, 도 4b참조)이 기판(112)의 전면으로 퍼져나가는 과정에서, 보호층(216)과 화소전극(222)에 의한 단차(C)에 의해 배향물질(250a, 도 4b참조)의 고르게 퍼져 형성되지 않게 된다. 4B) is formed by the step C between the protective layer 216 and the pixel electrode 222 in the process of spreading the alignment material 250a (see FIG. 4B) to the front surface of the substrate 112. In this case, (See FIG.

특히, 배향물질(250a, 도 4b참조)은 드레인콘택홀(216a) 내부로 도포되지 않게 된다. In particular, the alignment material 250a (see FIG. 4B) is not applied to the inside of the drain contact hole 216a.

따라서, 콘택홀(216a)이 형성된 영역에는 액정층(도 2의 105)의 액정분자의 초기 분자배열 등을 결정할 수 없어, 이의 영역을 통해 빛샘이 발생하게 되며, 이러한 빛샘은 특히 해당 화소영역(P)이 블랙(black)을 구현하는 경우에 큰 불량으로 관찰되게 되어 액정표시장치의 화면 표시 품질을 저하하게 된다.Therefore, in the region where the contact hole 216a is formed, the initial molecular arrangement of the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 105 (see FIG. 2) can not be determined and light leakage occurs through the region, P is observed as a large defect in the case of implementing black, the screen display quality of the liquid crystal display device is deteriorated.

따라서, 본 발명은 화소전극(222)의 드레인콘택홀(216a)을 통해 드레인전극(219)과 연결되는 부위에, 제 1 배향막(250)을 이루는 배향물질(250a, 도 4b참조)의 이동방향을 가이드 하기 위한 가이드홈(300, 도 4b참조)을 형성함으로써, 이를 통해 배향물질(250a, 도 4b참조)이 드레인콘택홀(216a) 내부로도 도포되도록 하는 것이다. 4B) of the alignment material 250a (see FIG. 4B) forming the first alignment layer 250 is formed on a portion of the pixel electrode 222 connected to the drain electrode 219 through the drain contact hole 216a, (See FIG. 4B) to guide the alignment material 250a (see FIG. 4B) to the inside of the drain contact hole 216a through the guide groove 300 (see FIG. 4B).

이를 통해, 빛샘이 발생하는 것을 방지할 수 있으며, 액정표시장치의 화면 표시 품질이 저하되는 문제점이 발생하게 되는 것을 방지할 수 있다. Accordingly, it is possible to prevent the occurrence of light leakage, and it is possible to prevent a problem that the screen display quality of the liquid crystal display device is deteriorated.

이에 대해 도 4a ~ 4b를 참조하여 좀더 자세히 살펴보도록 하겠다. This will be described in more detail with reference to FIGS. 4A to 4B.

도 4a는 일반적인 화소전극과 드레인전극의 연결을 개략적으로 도시한 평면도이며, 도 4b는 본 발명의 실시예에 따른 화소전극과 드레인전극의 연결을 개략적으로 도시한 평면도이다. FIG. 4A is a plan view schematically showing a connection between a pixel electrode and a drain electrode, and FIG. 4B is a plan view schematically illustrating a connection between a pixel electrode and a drain electrode according to an embodiment of the present invention.

그리고, 도 5a ~ 5b는 도 4a와 4b의 A와 B선을 따라 자른의 단면을 개략적으로 도시한 단면도이며, 도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 화소전극과 드레인전극의 연결을 개략적으로 도시한 평면도이다. 5A and 5B are cross-sectional views schematically showing cross-sections taken along lines A and B in FIGS. 4A and 4B, and FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of a pixel electrode and a drain electrode according to another embodiment of the present invention. Fig.

도시한 바와 같이, 박막트랜지스터(T)의 드레인전극(219)을 노출하는 드레인콘택홀(216)을 통해 화소전극(222)이 드레인전극(219)과 접촉한다. The pixel electrode 222 contacts the drain electrode 219 through the drain contact hole 216 exposing the drain electrode 219 of the thin film transistor T. [

이때, 화소전극(222)은 드레인콘택홀(216a)을 완전히 덮도록 형성된다. At this time, the pixel electrode 222 is formed to completely cover the drain contact hole 216a.

여기서, 액정표시장치의 경우 기판(도 3의 112) 상에 배향물질(250a)을 도포하게 되면, 배향물질(250a)은 액상의 퍼짐성을 이용하여 기판(도 3의 112)의 전면으로 퍼져나가게 되는데, 이때, 일반적인 액정표시장치의 경우 도 4a에 도시한 바와 같이 드레인콘택홀(216a)을 덮도록 형성되는 화소전극(222)의 단차(도 3의 C)에 의해 배향물질(250a)은 드레인콘택홀(216) 내부로 퍼져나가지 못하고, 드레인콘택홀(216a)의 가장자리 즉, 드레인콘택홀(216a)을 덮는 화소전극(222)의 가장자리를 따라서 퍼져나가게 된다.Here, in the case of a liquid crystal display device, when the alignment material 250a is coated on the substrate (112 in FIG. 3), the alignment material 250a spreads to the front surface of the substrate (112 in FIG. 3) At this time, in the case of a general liquid crystal display device, as shown in FIG. 4A, the alignment material 250a is formed by the step (C in FIG. 3) of the pixel electrode 222 formed to cover the drain contact hole 216a, It does not spread out into the contact hole 216 and spreads along the edge of the pixel electrode 222 covering the edge of the drain contact hole 216a, that is, the drain contact hole 216a.

이에 반해, 도 4b에 도시한 바와 같이, 본 발명은 화소전극(222)이 가이드홈(300)을 포함함으로써, 배향물질(250a)이 드레인콘택홀(216a)의 내부로도 퍼져나가게 된다. On the other hand, as shown in FIG. 4B, the pixel electrode 222 includes the guide groove 300, so that the alignment material 250a spreads into the drain contact hole 216a.

여기서, 가이드홈(300)은 드레인콘택홀(216a)의 가장자리 일부에 화소전극(222)이 형성되지 않아 드레인콘택홀(216a)의 가장자리를 노출하게 되는 영역으로, 이의 영역은 화소전극(222)의 단차(도 3의 C)가 발생되지 않게 되며, 배향물질(250a)이 가이드홈(300)을 통해 드레인콘택홀(216a) 내부로 퍼져나가게 된다. The guide groove 300 is a region where the edge of the drain contact hole 216a is exposed because the pixel electrode 222 is not formed in a part of the edge of the drain contact hole 216a, (C in FIG. 3) is not generated, and the alignment material 250a spreads into the drain contact hole 216a through the guide groove 300. As shown in FIG.

즉, 도 5a에 도시한 바와 같이 가이드홈(300)이 형성되지 않은 영역인 A선을 따라 자른 단면도를 참조하면, 화소전극(222)은 보호층(216) 상부에 형성되어, 화소전극(222)과 보호층(216) 사이에는 화소전극(222)의 두께만큼의 단차(C)가 발생하게 된다. 5A, the pixel electrode 222 is formed on the passivation layer 216 to cover the pixel electrode 222 (see FIG. 5A) A step C as much as the thickness of the pixel electrode 222 is generated between the pixel electrode 222 and the protective layer 216.

이에 반해, 도 5b에 도시한 바와 같이, 가이드홈(300)이 형성된 영역인 B선을 따라 자른 단면도를 참조하면, 화소전극(222)은 드레인콘택홀(216a)의 가장자리를 노출하게 된다. 5B, the pixel electrode 222 exposes the edge of the drain contact hole 216a with reference to a cross-sectional view taken along the line B which is the region where the guide groove 300 is formed.

따라서, 가이드홈(300)이 형성된 영역에는 화소전극(222)과 보호층(216) 사이에는 단차(C)가 발생되지 않음으로써, 화소전극(222)의 단차(C)에 의해 배향물질(250a)이 드레인콘택홀(216a) 내부로 도포되지 않는 문제점이 발생하는 것을 방지할 수 있는 것이다. A step C is not formed between the pixel electrode 222 and the protective layer 216 in the region where the guide groove 300 is formed so that the alignment substance 250a Can be prevented from being applied to the inside of the drain contact hole 216a.

이때, 가이드홈(300)이 형성되는 드레인콘택홀(216a)의 가장자리를 라운딩되도록 형성함으로써, 배향물질(250a)이 가이드홈(300)을 통해 드레인콘택홀(216a) 내부로 보다 손쉽게 퍼져나가도록 할 수 있다. At this time, the edge of the drain contact hole 216a in which the guide groove 300 is formed is rounded so that the alignment material 250a can be more easily spread into the drain contact hole 216a through the guide groove 300 can do.

여기서, 화소전극(222)의 가이드홈(300)은 드레인콘택홀(216a)의 가장자리와 대응하는 화소전극(222)의 가장자리에 적어도 1개씩 형성되는 것이 바람직하다. It is preferable that at least one guide groove 300 of the pixel electrode 222 is formed at the edge of the pixel electrode 222 corresponding to the edge of the drain contact hole 216a.

즉, 다시 도 4b를 참조하면 화소전극(222)과 드레인콘택홀(216a)이 2개의 가장자리가 대응된다면, 가이드홈(300)은 화소전극(222)과 드레인콘택홀(216a)의 서로 대응되는 각 가장자리에 적어도 하나씩 형성되는 것이 바람직하며, 도 6에 도시한 바와 같이 화소전극(222)과 드레인콘택홀(216a)이 3개의 가장자리가 대응된다면, 가이드홈(300)은 화소전극(222)과 드레인콘택홀(216a)의 서로 대응되는 각 가장자리에 적어도 하나씩 형성되는 것이 바람직하다. Referring again to FIG. 4B, if two edges of the pixel electrode 222 and the drain contact hole 216a correspond to each other, the guide groove 300 corresponds to the pixel electrode 222 and the drain contact hole 216a It is preferable that at least one pixel electrode 222 and at least one drain contact hole 216a are formed at each edge of the pixel electrode 222 and the drain contact hole 216a. Drain contact holes 216a are formed on at least one edge of the drain contact hole 216a.

이러한 가이드홈(300)의 폭(D)은 배향물질(250a)의 액상의 퍼짐성에 따라 다양하게 변화가능하며, 또한, 공정의 효율성에 따라 다양하게 변화가능하다. 즉, 배향물질(250a)의 액상의 퍼짐성이 낮거나 공정의 효율성을 향상시키기 위해서는, 보다 빠르게 배향물질(250a)이 드레인콘택홀(216a) 내부로 도포되도록 하기 위해서는 가이드홈(300)의 폭(D)을 넓게 형성하는 것이다. The width D of the guide groove 300 can be variously changed according to the spreadability of the liquid material of the alignment material 250a and can be variously changed depending on the efficiency of the process. That is, in order to lower the spreadability of the liquid phase of the alignment material 250a or improve the efficiency of the process, in order to allow the alignment material 250a to be applied to the inside of the drain contact hole 216a more quickly, D are formed to be wide.

이러한 화소전극(222)의 가이드홈(300)은 화소전극(222)을 패터닝하는 과정에서, 마스크(미도시)의 패턴을 가이드홈(300)에 대응하여 형성하거나, 또는 화소전극(222)의 가이드홈(300)에 대응하여 조사되는 빛의 양을 조절하여 형성할 수 있다. The guide grooves 300 of the pixel electrodes 222 may be formed by patterning a mask (not shown) corresponding to the guide grooves 300 in the process of patterning the pixel electrodes 222, The amount of light irradiated corresponding to the guide groove 300 can be adjusted.

한편, 지금까지의 설명에서는 공통전극(도 2의 215)과 화소전극(222)이 각각 제 1 및 제 2 기판(112, 도 2의 114) 상에 형성되어 수직전계를 형성하는 TN모드를 일예로 하였으나, 본 발명은 화소전극(222)과 공통전극(도 2의 215)이 모두 제 1 기판(112) 상에 형성되는 IPS모드에서도 적용 가능하다.In the foregoing description, the TN mode in which the common electrode (215 in FIG. 2) and the pixel electrode 222 are formed on the first and second substrates 112 and 114 (FIG. 2) The present invention is also applicable to the IPS mode in which the pixel electrode 222 and the common electrode (215 in FIG. 2) are both formed on the first substrate 112.

전술한 바와 같이, 본 발명의 액정표시장치는 드레인콘택홀(216a)에 대응하는 화소전극(222)의 가장자리에 드레인콘택홀(216a)의 가장자리 일부를 노출하는 가이드홈(300)을 형성함으로써, 잉크젯(inkjet) 코팅 방법을 통해 기판(112) 상에 배향막(250)을 형성하는 과정에서, 배향물질(250a)이 드레인콘택홀(216a) 내부로 손쉽게 도포할 수 있다.As described above, in the liquid crystal display device of the present invention, the edge of the pixel electrode 222 corresponding to the drain contact hole 216a is formed with the guide groove 300 exposing a part of the edge of the drain contact hole 216a, The alignment material 250a can be easily applied into the drain contact hole 216a in the process of forming the alignment layer 250 on the substrate 112 through the inkjet coating method.

이를 통해, 빛샘이 발생하는 것을 방지할 수 있으며, 액정표시장치의 화면 표시 품질이 저하되는 문제점이 발생하게 되는 것을 방지할 수 있다. Accordingly, it is possible to prevent the occurrence of light leakage, and it is possible to prevent a problem that the screen display quality of the liquid crystal display device is deteriorated.

본 발명은 상기 실시예로 한정되지 않고, 본 발명의 취지를 벗어나지 않는 한도 내에서 다양하게 변경하여 실시할 수 있다.
The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications may be made without departing from the spirit of the present invention.

211 : 게이트전극, 216a : 드레인콘택홀, 217 : 소스전극, 218 : 데이터배선
219 : 드레인전극, 221 : 게이트배선, 222 : 화소전극, 250a : 배향물질
211: gate electrode, 216a: drain contact hole, 217: source electrode, 218: data wiring
219: drain electrode, 221: gate wiring, 222: pixel electrode, 250a: alignment material

Claims (8)

게이트 배선 및 데이터배선과, 박막트랜지스터를 포함하는 제 1 기판과;
상기 박막트랜지스터의 드레인전극을 노출하는 콘택홀을 포함하는 보호층과;
상기 보호층의 상부에 형성되며, 상기 콘택홀을 통해 상기 드레인전극과 접촉하고, 상기 콘택홀의 가장자리 일부를 노출하는 가이드홈을 포함하는 화소전극과;
상기 화소전극을 포함하는 상기 제 1 기판의 전면에 형성되는 제 1 배향막과;
상기 제 1 기판과 마주보며, 제 2 배향막이 형성된 제 2 기판과;
상기 제 1 및 제 2 배향막 사이의 이격된 공간에 형성된 액정층과;
상기 제 1 기판 및 제 2 기판 중 선택된 어느 하나에 형성되며, 상기 화소전극과 전계를 형성하는 공통전극
을 포함하며, 상기 제 1 배향막을 이루는 배향물질은 상기 가이드홈을 통해 상기 콘택홀 내부로 가이드되며,
상기 가이드홈은 상기 콘택홀에 대응하여 상기 보호층의 일부를 노출하여,
상기 콘택홀을 이루는 상기 보호층의 상면과 측면이 모여 이루는 모서리는 상기 배향물질과 접촉되며,
평면적으로 상기 화소전극은 일 가장자리가 대응되는 상기 콘택홀의 일 가장자리의 일부를 덮으며, 상기 화소전극의 일 가장자리에는 상기 콘택홀의 중심부를 향해 요입된 상기 가이드홈이 구비되어,
상기 콘택홀의 일 가장자리의 일부는 상기 가이드홈에 의해 외부로 노출되는 액정표시장치.
A first substrate including a gate wiring, a data wiring, and a thin film transistor;
A protective layer including a contact hole exposing a drain electrode of the thin film transistor;
A pixel electrode formed on the protection layer, the pixel electrode including a guide groove contacting the drain electrode through the contact hole and exposing a part of the edge of the contact hole;
A first alignment layer formed on an entire surface of the first substrate including the pixel electrode;
A second substrate facing the first substrate and having a second alignment layer formed thereon;
A liquid crystal layer formed in a spaced-apart space between the first and second alignment layers;
A common electrode formed on one of the first substrate and the second substrate and forming an electric field with the pixel electrode,
Wherein the alignment material forming the first alignment layer is guided into the contact hole through the guide groove,
Wherein the guide groove exposes a part of the protective layer corresponding to the contact hole,
The edge of the protective layer constituting the contact hole, which is formed by the upper surface and the side surface, is in contact with the alignment material,
Wherein the pixel electrode covers a part of one edge of the contact hole corresponding to one edge of the pixel electrode, the guide groove recessed toward the center of the contact hole is provided at one edge of the pixel electrode,
And a part of one edge of the contact hole is exposed to the outside by the guide groove.
삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 콘택홀을 이루는 상기 보호층의 가장자리는 상기 상면과 상기 측면이 모여 이루는 상기 모서리가 라운딩형상인 액정표시장치.
The method according to claim 1,
Wherein edges of the protective layer forming the contact holes are rounded at the corners where the upper surface and the side surfaces are gathered.
제 1 항에 있어서,
상기 배향물질은 잉크젯(inkjet) 코팅 방법을 통해 상기 제 1 기판 상에 도포되는 액정표시장치.
The method according to claim 1,
Wherein the alignment material is applied on the first substrate through an inkjet coating method.
제 1 항에 있어서,
상기 가이드홈의 폭의 조절을 통해 상기 배향물질이 상기 콘택홀 내부로 가이드되는 속도를 조절하는 액정표시장치.
The method according to claim 1,
And adjusting a speed at which the alignment material is guided into the contact hole through adjustment of the width of the guide groove.
제 1 배선이 형성된 기판과;
상기 기판 상에 형성되며, 상기 제 1 배선을 노출하는 콘택홀을 포함하는 절연물질과;
상기 절연물질 상부에 형성되며, 상기 콘택홀을 통해 상기 제 1 배선과 접촉하고, 상기 콘택홀의 가장자리 일부를 노출하는 가이드홈을 포함하는 제 2 배선과;
상기 제 2 배선을 포함하는 상기 기판의 전면에 형성되며, 상기 가이드홈을 통해 상기 콘택홀 내부로 도포되는 액상물질층
을 포함하며,
상기 가이드홈은 상기 콘택홀에 대응하여 상기 절연물질의 일부를 노출하여, 상기 콘택홀을 이루는 상기 절연물질의 상면과 측면이 모여 이루는 모서리는 상기 액상물질층과 접촉되며,
평면적으로 상기 제 2 배선은 일 가장자리가 대응되는 상기 콘택홀의 일 가장자리의 일부를 덮으며, 상기 제 2 배선의 일 가장자리에는 상기 콘택홀의 중심부를 향해 요입된 상기 가이드홈이 구비되어 상기 콘택홀의 일 가장자리의 일부는 상기 가이드홈에 의해 외부로 노출되는 배선 콘택 구조.
A substrate on which a first wiring is formed;
An insulating material formed on the substrate, the insulating material including a contact hole exposing the first wiring;
A second wiring formed on the insulating material and including a guide groove contacting the first wiring through the contact hole and exposing a part of the edge of the contact hole;
And a liquid material layer formed on a front surface of the substrate including the second wiring and applied to the inside of the contact hole through the guide groove,
/ RTI >
Wherein the guide groove exposes a part of the insulating material corresponding to the contact hole so that an edge formed by the upper surface and the side surface of the insulating material forming the contact hole is in contact with the liquid material layer,
Wherein the second wiring covers a part of one edge of the contact hole corresponding to one edge and the one edge of the second wiring is provided with the guide groove recessed toward the center of the contact hole, Is partially exposed to the outside by the guide groove.
삭제delete 제 6 항에 있어서,
상기 콘택홀을 이루는 상기 절연물질의 가장자리는 상기 상면과 상기 측면이 모여 이루는 상기 모서리가 라운딩형상인 배선 콘택 구조.
The method according to claim 6,
And an edge of the insulating material forming the contact hole is rounded at the corner where the upper surface and the side surface are gathered.
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