JP2001222028A - Liquid crystal device and electronic equipment - Google Patents

Liquid crystal device and electronic equipment

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JP2001222028A
JP2001222028A JP2000032450A JP2000032450A JP2001222028A JP 2001222028 A JP2001222028 A JP 2001222028A JP 2000032450 A JP2000032450 A JP 2000032450A JP 2000032450 A JP2000032450 A JP 2000032450A JP 2001222028 A JP2001222028 A JP 2001222028A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal device having a structure capable of reducing a sticking deviation between a pair of substrates to the utmost. SOLUTION: A recessed part 20 formed at a part of a pixel contact hole 12 electrically connecting a drain electrode 11 and a pixel electrode 1 of a TFT on a TFT array substrate 7 and a projecting part 27 for preventing the sticking deviation between a pair of substrates, formed on a counter substrate 15, are engaged with each other.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶装置および電
子機器に関し、例えば液晶装置を構成する一対の基板の
貼り合わせずれの防止に用いて好適な基板の構造に関す
るものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal device and an electronic apparatus, and more particularly to a structure of a substrate suitable for use in preventing a displacement of a pair of substrates constituting a liquid crystal device.

【0002】[0002]

【従来の技術】図8は従来の液晶表示装置の一例を示す
ものである。この図に示すように、液晶パネル100
は、複数のデータ線および走査線101が格子状に形成
されるとともに、画素電極、この画素電極を駆動する薄
膜トランジスタ(Thin Film Transistor, 以下、TFT
と略記する)からなるスイッチング素子等がマトリクス
状に配置された素子基板102(この例ではTFTアレ
イ基板)と、対向電極103、カラーフィルター等が配
置された対向基板104(カラーフィルター基板)とが
所定の間隔をもって配置されている。素子基板102と
対向基板104とは、例えばグラスファイバー等からな
る円筒状もしくは球状のスぺーサ105を混入したシー
ル材106により、一定の間隔を保って互いに電極形成
面が対向するように貼付され、2枚の基板102,10
4間の間隙に液晶107が封入されている。また、素子
基板102、対向基板104の外面側には偏光板10
8,109がそれぞれ貼付されている。
2. Description of the Related Art FIG. 8 shows an example of a conventional liquid crystal display device. As shown in FIG.
A plurality of data lines and scanning lines 101 are formed in a lattice pattern, a pixel electrode, and a thin film transistor (hereinafter, referred to as a TFT) driving the pixel electrode.
The device substrate 102 (TFT array substrate in this example) on which switching elements and the like formed of a matrix are arranged in a matrix, and a counter substrate 104 (color filter substrate) on which a counter electrode 103, a color filter and the like are disposed. They are arranged at predetermined intervals. The element substrate 102 and the opposing substrate 104 are adhered to each other at a fixed interval by a sealing material 106 mixed with a cylindrical or spherical spacer 105 made of, for example, glass fiber so that the electrode forming surfaces face each other. , Two substrates 102 and 10
Liquid crystal 107 is sealed in the gap between the four. The polarizer 10 is provided on the outer surface of the element substrate 102 and the counter substrate 104.
8, 109 are respectively attached.

【0003】なお、図示を省略したが、素子基板102
上の対向基板104から張り出した端子部分には、各デ
ータ線にデータ信号を供給するデータ線駆動用ICが実
装されるとともに、各走査線101に走査信号を供給す
る走査線駆動用ICが実装されている。
Although not shown, the element substrate 102
A data line driving IC for supplying a data signal to each data line is mounted on a terminal portion protruding from the upper counter substrate 104, and a scanning line driving IC for supplying a scanning signal to each scanning line 101 is mounted. Have been.

【0004】さらにこの例の場合、素子基板102の下
面側には、バックライトユニット110がシリコンゴム
等の緩衝材111を介して設けられている。このバック
ライトユニット110は、光を照射する線状の蛍光管1
12と、この蛍光管112による光を反射して導光板1
13に導く反射板114と、導光板113に導かれた光
を液晶パネル100に一様に拡散させる拡散板115
と、導光板113から液晶パネル100とは反対方向に
出射される光を液晶パネル100側へ反射させる反射板
116とから構成されている。
Further, in the case of this example, a backlight unit 110 is provided on the lower surface side of the element substrate 102 via a cushioning material 111 such as silicon rubber. The backlight unit 110 includes a linear fluorescent tube 1 for irradiating light.
12 and the light guide plate 1
13 and a diffuser 115 for uniformly diffusing the light guided to the light guide 113 to the liquid crystal panel 100.
And a reflector 116 that reflects light emitted from the light guide plate 113 in the opposite direction to the liquid crystal panel 100 toward the liquid crystal panel 100.

【0005】この種の液晶表示装置を製造する際には、
いわゆる多面取りなどと呼ばれるように、各基板上に複
数個の液晶パネルを構成するパターンを一括して形成
し、2枚の基板を貼り合わせた後、これを切断し、各液
晶パネル単位毎に分割する、という方法を採るのが一般
的である。
When manufacturing this type of liquid crystal display device,
As is called so-called multi-paneling, etc., a pattern constituting a plurality of liquid crystal panels is collectively formed on each substrate, and after two substrates are bonded together, this is cut, and each liquid crystal panel unit is cut. It is common to adopt a method of dividing.

【0006】液晶パネルの組立プロセスの概略を示す図
9を用いてより具体的に説明すると、図9(1)に示す
ように、素子基板120と対向基板121をそれぞれ作
製した後、例えば素子基板120の電極形成面に2枚の
基板間の間隔を一定に保持するためのスペーサ122を
散布する一方、対向基板121の電極形成面には液晶を
封止するためのシール材123をスクリーン印刷等によ
り形成する。
More specifically, with reference to FIG. 9 showing an outline of a process of assembling a liquid crystal panel, as shown in FIG. 9A, after forming an element substrate 120 and a counter substrate 121, for example, A spacer 122 for keeping a constant distance between the two substrates is sprayed on the electrode forming surface of the substrate 120, and a sealing material 123 for sealing liquid crystal is screen-printed on the electrode forming surface of the counter substrate 121. Is formed.

【0007】次に、図9(2)に示すように、これら2
枚の基板120,121を貼り合わせ、図9(3)に示
すように、ダイヤモンドガラススクライバー、ブレイク
マシン等を用いてパネルを分割し、個々の液晶パネル1
24とする。
[0007] Next, as shown in FIG.
The substrates 120 and 121 are attached to each other, and as shown in FIG. 9 (3), the panel is divided using a diamond glass scriber, a break machine, or the like.
24.

【0008】その後、図9(4)に示すように、液晶注
入装置125を用いて各液晶パネル124のシール材1
23の開口部である液晶注入口123aから2枚の基板
間の間隙に液晶126を注入する。
[0009] Thereafter, as shown in FIG. 9 (4), the sealing material 1 of each liquid crystal panel 124 is
The liquid crystal 126 is injected into the gap between the two substrates from the liquid crystal injection port 123a, which is the opening of 23.

【0009】後は、図9(5)に示すように、液晶注入
口123aを封止材127により封止し、両面に偏光板
を貼り付けることによって液晶パネル124が完成す
る。最後に、この液晶パネル124に対してバックライ
トユニット、各種の駆動用基板等を実装し、ケースに収
納すれば、液晶表示装置として完成する。
Thereafter, as shown in FIG. 9 (5), the liquid crystal injection port 123a is sealed with a sealing material 127, and a polarizing plate is adhered on both sides to complete the liquid crystal panel 124. Finally, a backlight unit, various driving substrates, and the like are mounted on the liquid crystal panel 124 and stored in a case, thereby completing a liquid crystal display device.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】上述した液晶表示装置
の製造工程において、シール材塗布、スペーサ散布、貼
り合わせ、パネル分割等の工程は、いわゆる液晶注入前
の空パネルを作る工程であるが、これらの工程は安定化
が比較的難しい工程である。
In the above-described manufacturing process of the liquid crystal display device, the steps of applying a sealing material, distributing spacers, bonding, dividing the panel, etc. are steps for producing a so-called empty panel before liquid crystal injection. These steps are relatively difficult to stabilize.

【0011】例えば、素子基板と対向基板の貼り合わせ
工程では、画像処理を使用した自動アライメント装置に
よって両基板のアライメントマークをミクロン精度で合
わせ込み、次いで、シール材を散布スペーサ径まで加熱
プレスし、所定のセルギャップを保ちながらシール材を
硬化させる、という方法を採る。この工程は、それぞれ
の基板が持つ製造時のパターニング誤差とアライメント
精度とを含む、いわゆる貼り合わせ技術の精度によるず
れが生じるという要素を持っている。そのため、素子基
板と対向基板の重ね合わせは、例えば5〜10μmのマ
ージンを持って設計される。このマージンを少なくする
ことは液晶パネルの高開口率化につながり、明るさを向
上させるための重要な課題である。
For example, in the step of bonding the element substrate and the counter substrate, the alignment marks of both substrates are aligned with a micron accuracy by an automatic alignment device using image processing, and then the sealing material is hot-pressed to the diameter of the scatter spacer. A method of curing the sealing material while maintaining a predetermined cell gap is adopted. This process has an element of causing a shift due to the accuracy of the so-called bonding technique, which includes the patterning error at the time of manufacture of each substrate and the alignment accuracy. Therefore, the superposition of the element substrate and the counter substrate is designed with a margin of, for example, 5 to 10 μm. Reducing this margin leads to a higher aperture ratio of the liquid crystal panel, and is an important issue for improving brightness.

【0012】ところが、アライメント、プレス、シール
材硬化、等の貼り合わせの各工程において、セルギャッ
プの均一化を図りながら貼り合わせずれを抑止すること
はなかなか難しく、ある程度のずれの発生は避けられな
かった。また、ずれを最小限とするために、加圧治具を
用いて2枚の基板を締め付けた状態でシール材を硬化す
るなどの方法が採られることもあるが、この種の方法は
作業性や生産性の点で問題があった。
However, in each bonding process such as alignment, pressing, sealing material curing, etc., it is very difficult to suppress the bonding deviation while making the cell gap uniform, and it is inevitable that a certain degree of deviation occurs. Was. In addition, in order to minimize the displacement, a method such as curing the sealing material while tightening the two substrates using a pressing jig is sometimes used. And there was a problem in terms of productivity.

【0013】本発明は、上記の課題を解決するためにな
されたものであって、一対の基板間の貼り合わせずれを
極力低減し得る構造を有する液晶装置、およびこれを用
いた電子機器を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and provides a liquid crystal device having a structure capable of minimizing a bonding displacement between a pair of substrates, and an electronic apparatus using the same. The purpose is to do.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の液晶装置は、互いに対向する一対の基板
間に液晶が挟持されてなり、前記一対の基板のうちの一
方の基板上に、互いに交差して設けられた複数の走査線
および複数のデータ線と、前記走査線と前記データ線と
の交差に対応してマトリクス状に配置された複数の画素
電極および複数のTFTとを有する液晶装置であって、
前記一方の基板上の前記TFTのドレイン電極と前記画
素電極とを電気的に接続する画素コンタクトホール部に
形成された凹部と、他方の基板上に設けられた前記一対
の基板の貼り合わせずれを防止するための凸部とが嵌合
されていることを特徴とするものである。
In order to achieve the above object, a liquid crystal device according to the present invention comprises a pair of substrates opposed to each other, wherein a liquid crystal is sandwiched between the pair of substrates. A plurality of scanning lines and a plurality of data lines provided crossing each other, a plurality of pixel electrodes and a plurality of TFTs arranged in a matrix corresponding to the intersection of the scanning lines and the data lines; A liquid crystal device having:
The gap between the concave portion formed in the pixel contact hole portion for electrically connecting the drain electrode of the TFT and the pixel electrode on the one substrate and the pair of substrates provided on the other substrate is determined. It is characterized in that a projection for preventing the projection is fitted.

【0015】液晶装置を構成する一方の基板、すなわち
素子基板の画素コンタクトホール部は、素子基板を構成
する積層膜の段差が低くなるために必然的に凹部とな
る。したがって、本発明によれば、他方の基板、すなわ
ち対向基板上の前記画素コンタクトホール部に対応する
位置に前記凹部に嵌合し得る凸部を予め設けておき、こ
れらを嵌合させれば、2枚の基板の位置合わせを行うこ
とができる。そして、2枚の基板を重ね合わせた状態で
はこれら基板が動きにくくなるので、組立工程で生じる
貼り合わせずれを防止することができる。すなわち、本
発明における凸部や凹部が従来のアライメントマークの
役目を兼ねることによって、2枚の基板の位置合わせを
合理的に行うことができ、しかも、貼り合わせずれの防
止を図ることができる。
One of the substrates constituting the liquid crystal device, that is, the pixel contact hole portion of the element substrate, is necessarily concave because the step of the laminated film constituting the element substrate is reduced. Therefore, according to the present invention, if the other substrate, that is, a convex portion that can be fitted into the concave portion is provided in advance at a position corresponding to the pixel contact hole portion on the counter substrate, and these are fitted, Positioning of the two substrates can be performed. When the two substrates are superimposed on each other, the substrates are difficult to move, so that a displacement in bonding that occurs in an assembly process can be prevented. That is, since the projections and depressions in the present invention also serve as conventional alignment marks, it is possible to rationally position the two substrates, and to prevent misalignment.

【0016】前記凸部は、前記他方の基板を構成する1
層または複数層の膜材料から形成することが好ましい。
この構成によれば、他方の基板上に凸部を形成するに際
して基板とは別の部材を準備する必要がなく、部品コス
トが増大することがない。また、対向基板を構成する膜
材料からなる段差のみで凸部を形成するので、通常の製
造プロセスで充分に形成可能である。
[0016] The protruding portion may be a part of the other substrate.
It is preferable to form from a layer or a plurality of layers of film material.
According to this configuration, it is not necessary to prepare a member separate from the substrate when forming the convex portion on the other substrate, and the component cost does not increase. Further, since the projection is formed only by the step made of the film material constituting the counter substrate, the projection can be sufficiently formed by a normal manufacturing process.

【0017】前記凸部は、例えばアクリル膜、ポリイミ
ド膜のような樹脂材料膜から形成することができる。も
しくは、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜のような無機
材料膜から形成してもよい。
The projections can be formed from a resin material film such as an acrylic film or a polyimide film. Alternatively, it may be formed from an inorganic material film such as a silicon oxide film or a silicon nitride film.

【0018】本発明の電子機器は、上記本発明の液晶装
置を備えたことを特徴とするものである。本発明によれ
ば、上記本発明の液晶装置を備えたことにより表示品位
の高い表示部を備えた電子機器を実現することができ
る。
An electronic apparatus according to the present invention includes the liquid crystal device according to the present invention. According to the present invention, it is possible to realize an electronic device having a display unit with high display quality by including the liquid crystal device of the present invention.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態を図
1ないし図4を参照して説明する。図1は、本実施の形
態の液晶装置の画像表示領域を構成する複数の画素にお
ける各種素子、配線等の等価回路である。図2はデータ
線、走査線、画素電極等が形成されたTFTアレイ基板
における隣接する複数の画素群の平面図であり、図3
は、図2のA−A’断面図である。なお、図3において
は、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさと
するため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. FIG. 1 is an equivalent circuit of various elements, wiring, and the like in a plurality of pixels forming an image display area of the liquid crystal device of the present embodiment. FIG. 2 is a plan view of a plurality of adjacent pixel groups on a TFT array substrate on which data lines, scanning lines, pixel electrodes, and the like are formed.
FIG. 3 is a sectional view taken along line AA ′ of FIG. 2. In FIG. 3, the scale of each layer and each member is different so that each layer and each member have a size recognizable in the drawing.

【0020】[液晶装置要部の構成]図1に示すよう
に、本実施の形態の液晶装置において、画像表示領域を
構成するマトリクス状に形成された複数の画素は、画素
電極1と当該画素電極1を制御するためのTFT2がマ
トリクス状に複数形成されており、画像信号を供給する
データ線3が当該TFT2のソース領域に電気的に接続
されている。データ線3に書き込む画像信号S1、S
2、…、Snは、この順に線順次に供給しても構わない
し、相隣接する複数のデータ線3同士に対して、グルー
プ毎に供給するようにしても良い。また、TFT2のゲ
ート電極に走査線4が電気的に接続されており、所定の
タイミングで走査線4に対してパルス的に走査信号G
1、G2、…、Gmを、この順に線順次で印加するよう
に構成されている。画素電極1は、TFT2のドレイン
領域に電気的に接続されており、スイッチング素子であ
るTFT2を一定期間だけそのスイッチを閉じることに
より、データ線3から供給される画像信号S1、S2、
…、Snを所定のタイミングで書き込む。
[Structure of Main Parts of Liquid Crystal Device] As shown in FIG. 1, in the liquid crystal device of the present embodiment, a plurality of pixels formed in a matrix forming an image display area are composed of a pixel electrode 1 and the pixel. A plurality of TFTs 2 for controlling the electrodes 1 are formed in a matrix, and a data line 3 for supplying an image signal is electrically connected to a source region of the TFT 2. Image signals S1 and S written to data line 3
,..., Sn may be supplied line-sequentially in this order, or may be supplied to a plurality of adjacent data lines 3 for each group. Further, the scanning line 4 is electrically connected to the gate electrode of the TFT 2, and the scanning signal G is pulsed to the scanning line 4 at a predetermined timing.
, Gm are applied line-sequentially in this order. The pixel electrode 1 is electrically connected to the drain region of the TFT 2. By closing the switch of the TFT 2 serving as a switching element for a certain period, the image signals S 1, S 2,
..., Sn is written at a predetermined timing.

【0021】画素電極1を介して液晶に書き込まれた所
定レベルの画像信号S1、S2、…、Snは、対向基板
(後述する)に形成された対向電極(後述する)との間
で一定期間保持される。ここで、保持された画像信号が
リークするのを防ぐために、画素電極1と対向電極との
間に形成される液晶容量と並列に蓄積容量5を付加す
る。例えば画素電極1の電圧は、蓄積容量5によりソー
ス電圧が印加された時間よりも3桁も長い時間だけ保持
される。これにより、保持特性はさらに改善され、コン
トラスト比の高い液晶装置が実現できる。後述するが、
本実施の形態では、蓄積容量5を形成する方法として、
半導体層との間で容量を形成するための配線である容量
線6を設けている。また、容量線6を設ける代わりに、
画素電極1と前段の走査線4との間で容量を形成しても
良い。
The image signals S1, S2,..., Sn of a predetermined level written in the liquid crystal via the pixel electrode 1 are exchanged with a counter electrode (described later) formed on a counter substrate (described later) for a certain period. Will be retained. Here, in order to prevent the held image signal from leaking, a storage capacitor 5 is added in parallel with a liquid crystal capacitor formed between the pixel electrode 1 and the counter electrode. For example, the voltage of the pixel electrode 1 is held by the storage capacitor 5 for a time that is three digits longer than the time when the source voltage is applied. Thereby, the holding characteristics are further improved, and a liquid crystal device having a high contrast ratio can be realized. As will be described later,
In the present embodiment, as a method of forming the storage capacitor 5,
A capacitance line 6 which is a wiring for forming a capacitance with the semiconductor layer is provided. Also, instead of providing the capacitance line 6,
A capacitor may be formed between the pixel electrode 1 and the preceding scanning line 4.

【0022】図2に示すように、液晶装置のTFTアレ
イ基板7上には、インジウム錫酸化物(Indium Tin Oxi
de, 以下、ITOと略記する)等の透明導電膜からなる
複数の画素電極1(輪郭を破線で示す)がマトリクス状
に配置されており、画素電極1の紙面縦方向に延びる辺
に沿ってデータ線3(輪郭を2点鎖線で示す)が設けら
れ、紙面横方向に延びる辺に沿って走査線4および容量
線6(ともに輪郭を実線で示す)が設けられている。本
実施の形態において、ポリシリコン膜からなる半導体層
8(輪郭を1点鎖線で示す)は、データ線と走査線の交
差点の近傍でU字状に形成され、そのU字状部8aの一
端が隣接するデータ線3の方向(紙面右方向)および当
該データ線3に沿う方向(紙面上方向)に長く延びてい
る。半導体層8のU字状部8aの両端にはコンタクトホ
ール9,10が形成され、一方のコンタクトホール9は
データ線3と半導体層8のソース領域とを電気的に接続
するソースコンタクトホールとなり、他方のコンタクト
ホール10はドレイン電極11(輪郭を2点鎖線で示
す)と半導体層8のドレイン領域とを電気的に接続する
ドレインコンタクトホールとなっている。ドレイン電極
11上のドレインコンタクトホール10が設けられた側
と反対側の端部には、ドレイン電極11と画素電極1と
を電気的に接続するための画素コンタクトホール12が
形成されている。
As shown in FIG. 2, indium tin oxide (Indium Tin Oxi) is provided on the TFT array substrate 7 of the liquid crystal device.
de, hereinafter abbreviated as ITO), a plurality of pixel electrodes 1 (contours are indicated by broken lines) made of a transparent conductive film are arranged in a matrix, and along the sides of the pixel electrodes 1 extending in the vertical direction on the paper. A data line 3 (a contour is shown by a two-dot chain line) is provided, and a scanning line 4 and a capacitor line 6 (both are shown by a solid line) are provided along a side extending in the lateral direction of the paper. In the present embodiment, the semiconductor layer 8 made of a polysilicon film (the outline is shown by a dashed line) is formed in a U-shape near the intersection of the data line and the scanning line, and one end of the U-shaped portion 8a is formed. Extend in the direction of the adjacent data line 3 (rightward on the paper) and in the direction along the data line 3 (upward on the paper). Contact holes 9 and 10 are formed at both ends of the U-shaped portion 8a of the semiconductor layer 8, and one contact hole 9 becomes a source contact hole for electrically connecting the data line 3 and the source region of the semiconductor layer 8, The other contact hole 10 is a drain contact hole that electrically connects the drain electrode 11 (the outline is indicated by a two-dot chain line) and the drain region of the semiconductor layer 8. A pixel contact hole 12 for electrically connecting the drain electrode 11 and the pixel electrode 1 is formed at an end of the drain electrode 11 opposite to the side where the drain contact hole 10 is provided.

【0023】本実施の形態におけるTFT2は、半導体
層8のU字状部8aで走査線4と交差しており、半導体
層8と走査線4が2回交差していることになるため、1
つの半導体層上に2つのゲートを有するTFT、いわゆ
るデュアルゲート型TFTを構成する。また、容量線6
は走査線4に沿って紙面横方向に並ぶ画素を貫くように
延びるとともに、分岐した一部6aがデータ線3に沿っ
て紙面縦方向に延びている。そこで、ともにデータ線3
に沿って長く延びる半導体層8と容量線6とによって蓄
積容量5が形成されている。
The TFT 2 in this embodiment crosses the scanning line 4 at the U-shaped portion 8a of the semiconductor layer 8, and the semiconductor layer 8 and the scanning line 4 cross twice.
A TFT having two gates on one semiconductor layer, that is, a so-called dual gate TFT is formed. Also, the capacitance line 6
Extends along the scanning line 4 so as to penetrate the pixels arranged in the horizontal direction on the paper surface, and a branched part 6 a extends in the vertical direction on the paper surface along the data line 3. Therefore, both data lines 3
The storage capacitor 5 is formed by the semiconductor layer 8 and the capacitor line 6 extending long along the line.

【0024】本実施の形態の液晶装置は、図3に示すよ
うに、一対の透明基板13,14を有しており、その一
方の基板をなすTFTアレイ基板7と、これに対向配置
される他方の基板をなす対向基板15とを備え、これら
基板7,15間に液晶16が挟持されている。TFTア
レイ基板7および対向基板15は、例えばガラス基板や
石英基板からなるものである。なお、図3は、画素コン
タクトホール12の形成箇所を切断した状態を示す図で
あって、TFT部分の断面構造は従来の構造と変わらな
いため、図示は省略する。また、図3では図面を見やす
くするため、各層や各部材毎に膜厚、横方向の寸法等の
縮尺を異ならせてある。
As shown in FIG. 3, the liquid crystal device according to the present embodiment has a pair of transparent substrates 13 and 14, one of which is a TFT array substrate 7 and the other is disposed to face the TFT array substrate 7. And a counter substrate 15 serving as the other substrate. A liquid crystal 16 is sandwiched between the substrates 7 and 15. The TFT array substrate 7 and the counter substrate 15 are made of, for example, a glass substrate or a quartz substrate. FIG. 3 is a diagram showing a state in which the formation portion of the pixel contact hole 12 is cut, and the cross-sectional structure of the TFT portion is not different from that of the conventional structure, and is not shown. In FIG. 3, the scales such as the film thickness and the lateral dimension are different for each layer and each member in order to make the drawing easy to see.

【0025】画素コンタクトホール2の部分において、
TFTアレイ基板7上には、例えば膜厚50nm程度の
ポリシリコン膜からなる半導体層8が設けられ、この半
導体層8を覆うように膜厚100〜150nm程度のゲ
ート絶縁膜17が全面に形成されている。ゲート絶縁膜
17上にタンタル等の金属からなる走査線4が形成され
るとともに、この走査線4と同一レイヤーの金属からな
る容量線6が形成され、これら走査線4および容量線6
を覆うように第1層間絶縁膜18が全面に形成されてい
る。第1層間絶縁膜18上にアルミニウム等の金属から
なるドレイン電極11が形成されている。また、図3の
箇所には図示されないが、第1層間絶縁膜18上にはド
レイン電極11と同一レイヤーの金属からなるデータ線
3が形成されており、ドレイン電極11およびデータ線
3を覆うように第2層間絶縁膜19が形成されている。
そして、第2層間絶縁膜19を貫通してドレイン電極1
1表面に達する画素コンタクトホール12が設けられ、
画素コンタクトホール12の部分でドレイン電極11に
電気的に接続されるITO等の透明導電膜からなる画素
電極1が設けられている。ここで、第2層間絶縁膜19
は平坦化膜として用いられるものであり、例えば平坦性
の高い樹脂膜の一種であるアクリル膜が膜厚2μm程度
に厚く形成される。よって、画素コンタクトホール12
の部分では第2層間絶縁膜19が開口しているために比
較的大きな段差ができ、深さ1.5μm程度の凹部20
が形成されることになる。
In the portion of the pixel contact hole 2,
A semiconductor layer 8 made of, for example, a polysilicon film having a thickness of about 50 nm is provided on the TFT array substrate 7, and a gate insulating film 17 having a thickness of about 100 to 150 nm is formed on the entire surface so as to cover the semiconductor layer 8. ing. A scanning line 4 made of a metal such as tantalum is formed on the gate insulating film 17, and a capacitance line 6 made of a metal of the same layer as the scanning line 4 is formed.
A first interlayer insulating film 18 is formed on the entire surface so as to cover. A drain electrode 11 made of a metal such as aluminum is formed on the first interlayer insulating film 18. Although not shown in FIG. 3, the data line 3 made of metal of the same layer as the drain electrode 11 is formed on the first interlayer insulating film 18 so as to cover the drain electrode 11 and the data line 3. The second interlayer insulating film 19 is formed.
Then, the drain electrode 1 penetrates through the second interlayer insulating film 19.
A pixel contact hole 12 reaching one surface is provided;
The pixel electrode 1 made of a transparent conductive film such as ITO is provided at the pixel contact hole 12 and electrically connected to the drain electrode 11. Here, the second interlayer insulating film 19
Is used as a flattening film. For example, an acrylic film, which is a kind of resin film having high flatness, is formed to a thickness of about 2 μm. Therefore, the pixel contact hole 12
Since the second interlayer insulating film 19 has an opening in the portion, a relatively large step is formed, and the concave portion 20 having a depth of about 1.5 μm is formed.
Is formed.

【0026】他方、対向基板15上には、例えば、クロ
ム等の金属膜、樹脂ブラックレジスト等からなる遮光膜
21(ブラックマトリクス)が格子状に形成され、遮光
膜21間にはR(赤)、G(緑)、B(青)の3原色に
対応するカラーフィルター層22が形成されている。カ
ラーフィルター層22を覆うようにオーバーコート膜2
3が形成され、オーバーコート膜23上には、画素電極
1と同様、ITO等の透明導電膜からなる対向電極24
が全面に形成されている。なお、TFTアレイ基板7、
対向基板15ともに、液晶16に接する面にはポリイミ
ド等からなる配向膜25,26がそれぞれ設けられてい
る。
On the other hand, a light-shielding film 21 (black matrix) made of, for example, a metal film of chromium or the like, a resin black resist or the like is formed on the counter substrate 15 in a lattice pattern, and R (red) is provided between the light-shielding films 21. , G (green) and B (blue) are formed. Overcoat film 2 covering color filter layer 22
On the overcoat film 23, a counter electrode 24 made of a transparent conductive film such as ITO is formed, like the pixel electrode 1.
Are formed on the entire surface. The TFT array substrate 7,
On both surfaces of the opposing substrate 15 that are in contact with the liquid crystal 16, alignment films 25 and 26 made of polyimide or the like are provided.

【0027】従来一般の液晶装置であれば、TFTアレ
イ基板上の画素コンタクトホールの形成箇所に凹部がで
きたとしても、対向基板側のこれに対応する位置は平坦
な面になっているだけである。これに対して、本実施の
形態の液晶装置の場合、TFTアレイ基板7上の画素コ
ンタクトホール12の形成箇所にできた凹部20に対応
して、対向基板15側にはこの凹部20に嵌合し得る形
状と大きさを持った凸部27が設けられている。すなわ
ち、TFTアレイ基板7の第2層間絶縁膜19と同様、
対向基板15のオーバーコート膜23はアクリル膜で形
成されているが、そのオーバーコート膜23が画素コン
タクトホール12の形成箇所に対応する位置で突出して
凸部27を形成し、その上に対向電極24、配向膜26
が順次形成されている。凸部27の平面形状は画素コン
タクトホール12の平面形状を若干小さくしたものであ
る。また、凸部27の高さは例えば3.5μm程度に形
成されており、その凸部27の先端が深さ1.5μmの
凹部20に嵌合していることから、TFTアレイ基板
7、対向基板15間の間隔G(セルギャップ)は2μm
程度となっている。
In a conventional general liquid crystal device, even if a concave portion is formed in a pixel contact hole forming position on a TFT array substrate, the corresponding position on the counter substrate side is merely a flat surface. is there. On the other hand, in the case of the liquid crystal device of the present embodiment, the concave portion 20 formed on the TFT array substrate 7 at the position where the pixel contact hole 12 is formed is fitted into the concave portion 20 on the counter substrate 15 side. A convex portion 27 having a shape and size that can be used is provided. That is, similar to the second interlayer insulating film 19 of the TFT array substrate 7,
The overcoat film 23 of the counter substrate 15 is formed of an acrylic film, and the overcoat film 23 projects at a position corresponding to the position where the pixel contact hole 12 is formed to form a convex portion 27, on which a counter electrode is formed. 24, alignment film 26
Are sequentially formed. The planar shape of the projection 27 is a slightly smaller planar shape of the pixel contact hole 12. The height of the projection 27 is, for example, about 3.5 μm, and the tip of the projection 27 is fitted into the recess 20 having a depth of 1.5 μm. The distance G (cell gap) between the substrates 15 is 2 μm
It has become about.

【0028】本実施の形態の液晶装置によれば、TFT
アレイ基板7の画素コンタクトホール12の形成領域に
できる凹部20に、対向基板15上の前記画素コンタク
トホール12に対応する位置に形成した凸部27を嵌合
させることにより、2枚の基板7,15の位置合わせを
行うことができる。そして、2枚の基板7,15を重ね
合わせた状態ではこれら基板が動きにくくなるので、従
来の組立工程で生じる貼り合わせずれを低減することが
できる。
According to the liquid crystal device of the present embodiment, the TFT
By fitting a convex portion 27 formed at a position corresponding to the pixel contact hole 12 on the opposing substrate 15 into a concave portion 20 formed in a region where the pixel contact hole 12 is formed on the array substrate 7, the two substrates 7, 15 alignments can be performed. When the two substrates 7 and 15 are superimposed on each other, these substrates are difficult to move, so that the displacement of bonding that occurs in the conventional assembly process can be reduced.

【0029】また、本実施の形態の場合、対向基板15
上の凸部27がカラーフィルター層22のオーバーコー
ト膜23で形成されているので、凸部27を形成するに
際して基板とは別の部材を準備する必要がなく、部品コ
ストが増大することがなく、特に製造プロセスを変更す
る必要もない。
In the case of this embodiment, the counter substrate 15
Since the upper convex portion 27 is formed by the overcoat film 23 of the color filter layer 22, there is no need to prepare a separate member from the substrate when forming the convex portion 27, and the component cost does not increase. In particular, there is no need to change the manufacturing process.

【0030】[液晶装置の全体構成]次に、液晶装置4
0の全体構成について図4を用いて説明する。図4にお
いて、TFTアレイ基板7の上には、シール材28がそ
の縁に沿って設けられており、その内側に並行して額縁
としての遮光膜29が設けられている。シール材28の
外側の領域には、データ線駆動回路30および外部回路
接続端子31がTFTアレイ基板7の一辺に沿って設け
られており、走査線駆動回路32がこの一辺に隣接する
2辺に沿って設けられている。走査線4に供給される走
査信号遅延が問題にならないのならば、走査線駆動回路
32は片側だけでも良いことは言うまでもない。また、
データ線駆動回路30を画像表示領域の辺に沿って両側
に配列してもよい。例えば、奇数列のデータ線3は画像
表示領域の一方の辺に沿って配設されたデータ線駆動回
路から画像信号を供給し、偶数列のデータ線3は前記画
像表示領域の反対側の辺に沿って配設されたデータ線駆
動回路から画像信号を供給するようにしてもよい。この
ようにデータ線3を櫛歯状に駆動するようにすれば、デ
ータ線駆動回路の占有面積を拡張することができるた
め、複雑な回路を構成することが可能となる。さらに、
TFTアレイ基板7の残る一辺には、画像表示領域の両
側に設けられた走査線駆動回路32間をつなぐための複
数の配線33が設けられている。また、対向基板15の
コーナー部の少なくとも1箇所には、TFTアレイ基板
7と対向基板15との間で電気的導通をとるための導通
材34が設けられている。そして、シール材28とほぼ
同じ輪郭を持つ対向基板15が当該シール材28により
TFTアレイ基板7に固着されている。
[Overall Configuration of Liquid Crystal Device] Next, the liquid crystal device 4
0 will be described with reference to FIG. In FIG. 4, a sealing material 28 is provided on the TFT array substrate 7 along the edge thereof, and a light shielding film 29 as a frame is provided in parallel with the inside of the sealing material 28. A data line driving circuit 30 and an external circuit connection terminal 31 are provided along one side of the TFT array substrate 7 in a region outside the sealing material 28, and a scanning line driving circuit 32 is provided on two sides adjacent to this one side. It is provided along. If the delay of the scanning signal supplied to the scanning line 4 does not matter, it goes without saying that the scanning line driving circuit 32 may be provided on only one side. Also,
The data line driving circuits 30 may be arranged on both sides along the side of the image display area. For example, the odd-numbered data lines 3 supply an image signal from a data line driving circuit disposed along one side of the image display area, and the even-numbered data lines 3 are provided on the opposite side of the image display area. The image signal may be supplied from a data line driving circuit disposed along the line. When the data lines 3 are driven in a comb-tooth shape in this manner, the area occupied by the data line driving circuit can be expanded, so that a complicated circuit can be formed. further,
On one remaining side of the TFT array substrate 7, a plurality of wirings 33 for connecting between the scanning line driving circuits 32 provided on both sides of the image display area are provided. At least one corner of the counter substrate 15 is provided with a conductive material 34 for establishing electrical connection between the TFT array substrate 7 and the counter substrate 15. The opposite substrate 15 having substantially the same contour as the seal member 28 is fixed to the TFT array substrate 7 by the seal member 28.

【0031】[電子機器]以下、本発明の液晶装置を備
えた電子機器の具体例について説明する。図5は、携帯
電話の一例を示した斜視図である。図5において、符号
1000は携帯電話本体を示し、符号1001は上記の
液晶装置を用いた液晶表示部を示している。図6は、腕
時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図6にお
いて、符号1100は時計本体を示し、符号1101は
上記の液晶装置を用いた液晶表示部を示している。図7
は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一
例を示した斜視図である。図7において、符号1200
は情報処理装置、符号1202はキーボードなどの入力
部、符号1204は情報処理装置本体、符号1206は
上記の液晶装置を用いた液晶表示部を示している。図5
から図7に示す電子機器は、上記の液晶装置を用いた液
晶表示部を備えたものであるので、表示品位に優れた電
子機器を実現することができる。
[Electronic Equipment] Hereinafter, specific examples of electronic equipment having the liquid crystal device of the present invention will be described. FIG. 5 is a perspective view showing an example of a mobile phone. In FIG. 5, reference numeral 1000 denotes a mobile phone main body, and reference numeral 1001 denotes a liquid crystal display unit using the above-described liquid crystal device. FIG. 6 is a perspective view showing an example of a wristwatch-type electronic device. In FIG. 6, reference numeral 1100 denotes a watch body, and reference numeral 1101 denotes a liquid crystal display unit using the above-described liquid crystal device. FIG.
1 is a perspective view showing an example of a portable information processing device such as a word processor or a personal computer. In FIG.
Denotes an information processing device, reference numeral 1202 denotes an input unit such as a keyboard, reference numeral 1204 denotes an information processing device main body, and reference numeral 1206 denotes a liquid crystal display unit using the above-described liquid crystal device. FIG.
Since the electronic device shown in FIG. 7 includes a liquid crystal display portion using the above-described liquid crystal device, an electronic device with excellent display quality can be realized.

【0032】なお、本発明の技術範囲は上記実施の形態
に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない
範囲において種々の変更を加えることが可能である。例
えば上記実施の形態においては画素コンタクトホール部
の凹部に対応する対向基板側の凸部をアクリル膜からな
るカラーフィルターのオーバーコート膜で形成したが、
R、G、Bのカラーフィルター層を重ね合わせるなどし
て形成してもよい。また、アクリル膜等の樹脂材料膜の
みならず、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜等の無機材
料膜を用いることも可能である。さらに、製造プロセス
の複雑化を許容するならば、全く他の膜で形成すること
もできる。
The technical scope of the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various changes can be made without departing from the spirit of the present invention. For example, in the above embodiment, the convex portion on the counter substrate side corresponding to the concave portion of the pixel contact hole portion was formed with an overcoat film of a color filter made of an acrylic film.
The color filter layers of R, G and B may be formed by overlapping. Further, not only a resin material film such as an acrylic film but also an inorganic material film such as a silicon oxide film and a silicon nitride film can be used. Furthermore, if the manufacturing process is allowed to be complicated, it can be formed of a completely different film.

【0033】[0033]

【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
よれば、一方の基板の画素コンタクトホール形成領域の
凹部に他方の基板上の凸部を嵌合させることにより、2
枚の基板の位置合わせを行うことができ、2枚の基板を
重ね合わせた状態ではこれら基板が動きにくくなるの
で、従来の組立工程で生じる貼り合わせずれを低減する
ことができる。
As described in detail above, according to the present invention, by fitting a convex portion on the other substrate into a concave portion in the pixel contact hole forming region of one substrate,
Positioning of two substrates can be performed, and when the two substrates are superimposed on each other, these substrates are difficult to move, so that the bonding displacement that occurs in the conventional assembly process can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の一実施の形態である液晶装置の等価
回路図である。
FIG. 1 is an equivalent circuit diagram of a liquid crystal device according to an embodiment of the present invention.

【図2】 同、液晶装置の画素構成を示す拡大平面図で
ある。
FIG. 2 is an enlarged plan view showing a pixel configuration of the liquid crystal device.

【図3】 図2のA−A’線に沿う断面図である。FIG. 3 is a sectional view taken along the line A-A 'of FIG.

【図4】 同、液晶装置の全体構成を示す平面図であ
る。
FIG. 4 is a plan view showing the overall configuration of the liquid crystal device.

【図5】 本発明の液晶装置を備えた電子機器の一例を
示す斜視図である。
FIG. 5 is a perspective view illustrating an example of an electronic apparatus including the liquid crystal device of the present invention.

【図6】 電子機器の他の例を示す斜視図である。FIG. 6 is a perspective view illustrating another example of the electronic apparatus.

【図7】 電子機器のさらに他の例を示す斜視図であ
る。
FIG. 7 is a perspective view showing still another example of the electronic apparatus.

【図8】 従来の液晶装置の一例を示す断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view illustrating an example of a conventional liquid crystal device.

【図9】 液晶パネルの組立工程の一例を説明するため
の図である。
FIG. 9 is a diagram for explaining an example of a liquid crystal panel assembling process.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 画素電極 2 TFT(薄膜トランジスタ) 3 データ線 4 走査線 5 蓄積容量 6 容量線 7 TFTアレイ基板 8 半導体層 11 ドレイン電極 12 画素コンタクトホール 15 対向基板 16 液晶 20 凹部 27 凸部 40 液晶装置 Reference Signs List 1 pixel electrode 2 TFT (thin film transistor) 3 data line 4 scanning line 5 storage capacitance 6 capacitance line 7 TFT array substrate 8 semiconductor layer 11 drain electrode 12 pixel contact hole 15 facing substrate 16 liquid crystal 20 concave portion 27 convex portion 40 liquid crystal device

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 久保田 健 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内 Fターム(参考) 2H090 HA03 HB03X HB07X HB08X HD01 JC03 JC07 JC14 JC17 JD15 LA02 LA04 2H092 JA25 JA29 JA33 JA35 JA46 JB13 JB42 JB57 JB63 JB68 KA04 KA07 KA16 KA18 KB14 MA12 MA27 NA25 NA29 PA03 PA08  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Ken Kubota 2-3-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo F-term (reference) 2H090 HA03 HB03X HB07X HB08X HD01 JC03 JC07 JC14 JC17 JD15 LA02 LA04 2H092 JA25 JA29 JA33 JA35 JA46 JB13 JB42 JB57 JB63 JB68 KA04 KA07 KA16 KA18 KB14 MA12 MA27 NA25 NA29 PA03 PA08

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 互いに対向する一対の基板間に液晶が挟
持されてなり、前記一対の基板のうちの一方の基板上
に、互いに交差して設けられた複数の走査線および複数
のデータ線と、前記走査線と前記データ線との交差に対
応してマトリクス状に配置された複数の画素電極および
複数の薄膜トランジスタとを有する液晶装置であって、 前記一方の基板上の前記薄膜トランジスタのドレイン電
極と前記画素電極とを電気的に接続する画素コンタクト
ホール部に形成された凹部と、他方の基板上に設けられ
た前記一対の基板の貼り合わせずれを防止するための凸
部とが嵌合されていることを特徴とする液晶装置。
1. A liquid crystal is sandwiched between a pair of substrates facing each other, and a plurality of scanning lines and a plurality of data lines provided on one of the pair of substrates so as to intersect with each other. A liquid crystal device having a plurality of pixel electrodes and a plurality of thin film transistors arranged in a matrix corresponding to intersections of the scanning lines and the data lines, and a drain electrode of the thin film transistors on the one substrate; A concave portion formed in a pixel contact hole portion for electrically connecting the pixel electrode and a convex portion for preventing the pair of substrates provided on the other substrate from being bonded to each other are fitted. A liquid crystal device.
【請求項2】 前記凸部が前記他方の基板を構成する1
層または複数層の膜材料から形成されていることを特徴
とする請求項1に記載の液晶装置。
2. The method according to claim 1, wherein the convex portion constitutes the other substrate.
2. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the liquid crystal device is formed of a layer or a plurality of layers of a film material.
【請求項3】 前記凸部が樹脂材料膜からなることを特
徴とする請求項2に記載の液晶装置。
3. The liquid crystal device according to claim 2, wherein the protrusion is formed of a resin material film.
【請求項4】 前記凸部が無機材料膜からなることを特
徴とする請求項2に記載の液晶装置。
4. The liquid crystal device according to claim 2, wherein the projection is made of an inorganic material film.
【請求項5】 請求項1ないし4のいずれかに記載の液
晶装置を備えたことを特徴とする電子機器。
5. An electronic apparatus comprising the liquid crystal device according to claim 1.
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