JP2004069826A - Electro-optical apparatus and electronic equipment - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To display a clear image at high quality in either of transmissive display and reflective display by reducing alignment inferiority or the like of a liquid crystal in an electro-optical apparatus of a semi-transmissive reflection type liquid crystal apparatus or the like. <P>SOLUTION: A TFT array substrate (10) is provided with a plurality of semi-transmissive reflection type display electrode (9a) having a transmissive display region and a reflective display region, respectively. An opposite substrate (20) or the TFT array substrate is erected on the surface at the side of facing an electro-optical substance layer, and provided with a columnar part (520) regulating a gap between the substrates. The opposite substrate or the TFT array substrate forms a projection-like level different part (510) in a prescribed region including the reflective display region. The columnar part is arranged at a position opposed to the level different part. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば半透過反射型の液晶装置等の電気光学装置及びそのような電気光学装置を具備してなる電子機器の技術分野に属する。
【０００２】
【背景技術】
一般にこの種の電気光学装置は、例えば薄膜トランジスタ（以下適宜、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ　Ｆｉｌｍ　Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）と称す）駆動によるアクティブマトリクス駆動方式であれば、多数の画素電極及びこれをスイッチング制御するＴＦＴ並びにこれに接続され画像信号や走査信号を供給するデータ線、走査線等の配線などが設けられた素子アレイ基板と、これに対向配置される対向電極、カラーフィルタなどが設けられた対向基板とを備える。その動作時には、画素毎に画素電極及び対向電極間に駆動電圧を発生させる。この駆動電圧により、各電気光学物質部分を画素単位で駆動して、例えば液晶の配向状態を変化させて、表示動作を行なうように構成されている。
【０００３】
従って、電気光学物質層の層厚を規定する両基板間の間隔（以下適宜、“基板間ギャップ”或いは単に“ギャップ”という）を正確に制御することは、表示動作を正確に行うために必要である。このため、例えば対角数インチから十数インチといった比較的大型の液晶表示装置では、液晶中に所定粒径のビーズ状或いはファイバ状のギャップ材を散布して、基板間ギャップを制御する。或いは、例えば対角数インチ以下といった小型の液晶表示装置では、両基板を貼り合せるシール材中に所定粒径のビーズ状或いはファイバ状のギャップ材を混合して、基板間ギャップを制御するのが一般的である。
【０００４】
更に、特開平４−２４０６２２号公報、特開２０００−１９５２７号公報、特開２００１−３０５５５２号公報等に開示されているように、素子アレイ基板或いは対向基板の表面に所定高さを有する微小な貝柱状或いは柱状のスペーサを多数形成して、これにより基板間ギャップを制御する技術も開発されている。
【０００５】
他方、この種の電気光学装置では、明所では外光を用いた反射表示を行い、暗所では内蔵された光源或いはバックライトから発せられる光源光を用いて透過表示を行うという、これら両型の表示を切替可能な半透過反射型の電気光学装置も開発されている。係る半透過反射型の電気光学装置の場合には、反射表示時には、外光は電気光学物質層を２回通過するのに対して、透過表示時には、光源光は電気光学物質層を１回しか通過しない。ここで、両型の表示を適正に行うためには、電気光学物質層での偏光特性を揃えることが好ましく、このため、表示用の光が通過する電気光学物質層の合計厚さを、透過表示及び反射表示間で揃える技術が提案されている。具体的には、反射表示用の領域と透過表示用の領域とでは、前者における電気光学物質層の厚さ即ち基板間ギャップが、後者におけるそれの半分程度に設定される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した従来のビーズ状、ファイバー状のギャップ材を用いて基板間ギャップを制御する技術によれば、各画素の領域が二分された反射表示用の領域と透過表示用の領域とで、相異なる基板間ギャップを規定することは、技術的に困難である。
【０００７】
更に、上述した従来の貝柱状或いは柱状のスペーサを用い基板間ギャップを制御する技術によっても、やはり各画素の領域が二分された反射表示用の領域と透過表示用の領域とで、相異なる基板間ギャップを規定することは、困難である。より具体的には、二種類の高さのスペーサを形成すること自体の困難性に加えて、その上に形成される配向膜のラビング処理を二種類の高さのスペーサが存在する場合に、配向ムラを引き起こさないように行うことが技術的に困難となる。特に、広い方の基板間ギャップを制御する方の、例えば高さが４μ〜１０μｍ程度である、より高い貝柱状或いは柱状のスペーサについては、その高さに応じて相当量のラビング不良が発生してしまい、これにより液晶の配向不良等の電気光学物質の動作不良が起こる。よって、高品位の画像表示が困難となる。或いは、各画素についてこのような動作不良が起こる領域を遮光膜で覆う必要により、表示画像が暗くなってしまうという技術的問題点が生じる。
【０００８】
本発明は上記問題点に鑑みなされたものであり、例えば液晶の配向不良等の電気光学物質の動作不良が低減されており、透過表示及び反射表示のいずれの表示時にも高品位で且つ明るい画像表示が可能である半透過反射型の電気光学装置及びそのような電気光学装置を具備してなる電子機器を提供することを課題とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の電気光学装置は上記課題を解決するために、一対の第１及び第２基板間に電気光学物質層が挟持されてなり、前記電気光学物質層が配置された画像表示領域における前記第２基板上に、透過表示用の領域及び反射表示用の領域を夫々有する複数の半透過反射型の表示用電極と、該表示用電極に画像信号を供給するための配線及び電子素子の少なくとも一方とを備えており、前記画像表示領域における前記第１及び第２基板のいずれか一方上に、前記電気光学物質層に面する側の表面に立設されていると共に前記第１及び第２基板間のギャップを規定する柱状部を備えており、前記第１及び第２基板の少なくとも一方における前記電気光学物質層に対向する側の表面には、前記反射表示用の領域を含む所定領域に凸状の段差部が形成されており、前記柱状部は、前記段差部に対向する位置に配置されている。
【００１０】
本発明の電気光学装置によれば、例えば素子アレイ基板からなる第２基板上には、複数の半透過反射型の表示用電極が備えられている。このような表示用電極は、画素毎に分断形成された画素電極でもよいし、ストライプ状電極或いはセグメント状電極でもよい。そして特に、各表示用電極は、透過表示用の領域及び反射表示用の領域を有する。例えば、各表示用電極は、各画素の片側半分や中央半分等を占める透過表示用の領域においては、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅ：インジウム・ティン・オキサイド）等の透明導電膜からなり、それ以外の反射表示用の領域においては、係る透明導電膜にＡｌ（アルミニウム）膜等の反射膜が積層されてなったり、或いはこのような反射膜単独からなる。当該電気光学装置の動作時には、このような表示用電極に、データ線等の配線や、ＴＦＴ、ＴＦＤ等の電子素子から画像信号が供給され、例えばアクティブマトリクス駆動、パッシブマトリクス駆動、セグメント駆動等により、例えば明所にて第１基板における電気光学物質層と反対側からの外光を用いて反射表示が可能とされ、暗所にて第２基板における電気光学物質層と反対側からの光源光を用いて透過表示が可能とされる。
【００１１】
ここで、画像表示領域における第１及び第２基板のいずれか一方上には、柱状部が、電気光学物質層に面する側の表面に立設されている。即ち、柱状部が、ギャップ材として第１及び第２基板間のギャップを規定する。このような柱状部は、例えば円筒状、角柱状、円錐台状、角錐台状等の島状でもよいし、配線に沿って若干延びる十字状或いは長手状であってもよい。そして、第１及び第２基板の少なくとも一方における電気光学物質層に対向する側の表面には、反射表示用の領域を含む所定領域に凸状の段差部が形成されている。この際、好ましくは、凸状の段差部は、反射表示領域のみならず、実際に表示に寄与する光が透過或いは反射する各画素の開口領域以外の、配線や電子素子が形成された各画素の非開口領域、即ち各画素の開口領域の間隙となる領域にも延設されており、柱状部は、各画素の非開口領域における凸状の段差部に対向する位置に配置されている。いずれにせよ、柱状部は、凸状の段差部に対向する位置に配置されている。よって、凸状の段差部の高さを調整すると共に、ギャップ材としての柱状部の高さを調整することで、透過表示用の領域における電気光学物質層の層厚を、反射表示用の領域におけるそれよりも厚くでき、例えば２倍程度にすることも可能となる。即ち、反射表示用の領域で基板間ギャップを狭くできると同時に透過表示用の領域で基板間ギャップを広くできる。
【００１２】
そして特に、このような柱状部は、凸状の段差部に対向する位置に、即ち狭い方の基板間ギャップを規定するように配置されており、広い方の基板間ギャップに対応する相対的に凹状となる第１又は第２基板の表面には設けられていない。この際、画素ピッチが、例えば数μから十数μｍ程度、或いは数百〜数千μｍよりも小さい程度であれば、このように透過表示用の領域に対応する広い基板間ギャップを規定するギャップ材を設けなくとも、二種類の基板間ギャップを安定して規定できる。しかも、このように相対的に高さが低い柱状部であれば、当該電気光学装置の製造プロセス中に柱状部を形成した後に、配向膜を塗布し更にこれにラビング処理を行った際に、相対的に高さが高い柱状部を形成した場合と比較して、柱状部を基準としてラビング方向の下流側に広がるラビング不良の発生領域が小さくて済む。
【００１３】
以上の結果、二種類の基板間ギャップにより反射表示及び透過表示間で電気光学物質層での偏光特性を揃えることが可能となる。しかも、反射表示時にも透過表示時にも、例えば液晶の配向不良等の電気光学物質の動作不良を低減できるので、最終的に高品位の画像表示が可能となり、更に電気光学物質の動作不良を隠すために遮光膜を形成する領域を狭められるので、明るい表示が可能となる。　本発明の電気光学装置の一態様では、前記第１及び第２基板の一方上に、前記段差部を少なくとも部分的に形成するための透明な段差形成膜を更に備える。
【００１４】
この態様によれば、例えば酸化シリコン膜等の透明な段差形成膜の存在によって、第１及び第２基板の一方上に、段差部を比較的容易に形成でき、更にその高さ制御も比較的容易にして高精度に行える。
【００１５】
本発明の電気光学装置の他の態様では、前記段差部は、平面的に見て前記複数の表示用電極に跨って所定方向に延びている。
【００１６】
この態様によれば、段差部は、平面的に見て複数の表示用電極に跨って、例えば表示用電極の配列に沿った方向或いは走査線やデータ線等の配線に沿った方向に帯状に延びているので、各画素毎に分断して形成するよりも容易に形成でき、その平面パターンにおける寸法制御や高さ制御も高精度で行うことが可能となる。
【００１７】
但し、このような段差部は、画素毎に分断して形成されてもよい。
【００１８】
本発明の電気光学装置の他の態様では、前記段差部は、前記第１基板に形成されており、前記柱状部は、前記第１基板に形成されている。
【００１９】
この態様によれば、例えば対向基板である第１基板側に、段差部及び柱状部の両者を形成すればよいので、例えば素子アレイ基板であり製造が比較的困難である第２基板側の製造プロセスとは切り離して、これら段差部及び柱状部を形成できる。よって、全体として製造が容易となる。
【００２０】
或いは本発明の電気光学装置の他の態様では、前記段差部は、前記第２基板に形成されており、前記柱状部は、前記第１基板に形成されている。
【００２１】
この態様によれば、例えば対向基板である第１基板側に、柱状部を形成すればよいので、例えば素子アレイ基板であり製造が比較的困難である第２基板側の製造プロセスとは切り離して、柱状部を形成できる。更に、段差部については第２基板側に設けることで、第２基板を構成する配線や電子素子等の存在を利用して、段差部を少なくとも部分的に形成することが可能となる。
【００２２】
但し、これとは逆に、段差部が第１基板に形成され、柱状部が第２基板に形成されてもよいし、更に、段差部及び柱状部共に、第２基板に形成されてもよい。
【００２３】
本発明の電気光学装置の他の態様では、前記柱状部は、前記所定領域内における前記反射表示用の領域を外れた領域内で、前記段差部に対向する位置に配置されている。
【００２４】
この態様によれば、柱状部は、例えば各画素の非開口領域などの、反射表示用の領域を外れた領域内に配置されているので、柱状部の存在が、反射表示の妨げとなる事態を未然防止できる。この場合、段差部を、平面的に見て各画素の開口領域にある反射表示領域から各画素の非開口領域に延設すればよい。
【００２５】
本発明の電気光学装置の他の態様では、前記配線及び電子素子の少なくとも一方は、格子状又はストライプ状に平面配置されており、前記柱状部は、前記段差部に対向する位置であって前記配線及び電子素子の少なくとも一方に対向する位置に配置されている。
【００２６】
この態様によれば、配線や電子素子が形成された各画素の間隙となる格子状の非開口領域内に、柱状部が配置されるので、柱状部の存在が、反射表示の妨げとなる事態を未然防止できると共に、柱状部の存在によって、各画素の開口領域を狭める事態も回避できる。
【００２７】
本発明の電気光学装置の他の態様では、前記段差部の少なくとも一部は、前記配線及び電子素子の少なくとも一方の存在によって形成されている。
【００２８】
この態様によれば、データ線、走査線、容量線等の各種配線や、ＴＦＴ、ＴＦＤ等の各種素子の存在を利用して、段差部を少なくとも部分的に形成するので、段差部を形成するために専用膜や専用工程を用いる場合と比較して、基板上の積層構造及び製造プロセスを簡略化可能となる。
【００２９】
本発明の電気光学装置の他の態様では、前記第１及び第２基板の少なくとも一方に、前記表示用電極に対向するカラーフィルタを更に備えており、前記カラーフィルタの色は、前記透過表示用の領域における色度域が前記反射表示用の領域における色度域より広くなるように、相異なっている。
【００３０】
この態様によれば、カラーフィルタの色は、光源光がカラーフィルタを一度だけ通過する透過表示用の領域における色度域が、外光がカラーフィルタを往復で２度通過する反射表示用の領域における色度域より広いので、透過表示と反射表示との両者において、適切な色で表示できる。
【００３１】
このカラーフィルタに係る態様では、前記カラーフィルタは、前記透過表示用の領域における色材膜部分が、前記反射表示用の領域における色材膜部分よりも膜厚であるように構成されてもよい。
【００３２】
このように構成すれば、色材膜の膜厚を変えることで、比較的容易にして、透過表示用の領域における色度域が、反射表示用の領域における色度域よりも広くなるカラーフィルタを構築可能となる。例えば、透過表示用の領域における色材膜の膜厚を、反射表示用の領域におけるそれの２倍程度にすれば、透過表示と反射表示との両者において、適切な色で表示できる。
【００３３】
但し、カラーフィルタは、透過表示用の領域における色材膜中の色材濃度が、反射表示用の領域における色材膜中の色材濃度よりも濃くなるように構成されてもよい。
【００３４】
更にこのカラーフィルタに係る態様では、前記カラーフィルタは、前記第１基板に設けられてもよい。
【００３５】
このように構成すれば、例えば対向基板である第１基板側に、カラーフィルタを形成すればよいので、例えば素子アレイ基板であり製造が比較的困難である第２基板側の製造プロセスとは切り離して、カラーフィルタを形成できる。
【００３６】
但し、カラーフィルタは、第２基板に形成されてもよい。
【００３７】
本発明の電気光学装置の他の態様では、前記第１及び第２基板のうち前記段差部が形成された方の基板上に、前記電気光学物質層に面する表面に塗布され且つラビングされた配向膜を更に備えており、平面的に見て前記柱状部を基準として前記配向膜のラビング方向の下流側に向かって、前記段差部が延在している。
【００３８】
この態様によれば、柱状部の存在によってラビング不良が発生する可能性が高いラビング方向の下流側に向かって、凸状の段差部が延在している。従って、このような段差部が延在していない場合と比較して、高さが相対的に低められた柱状部付近におけるラビング不良を低減できる。
【００３９】
この配向膜に係る態様では、前記第１及び第２基板の少なくとも一方に、前記配線及び電子素子の少なくとも一方を覆うと共に前記表示用電極の間隙を覆う遮光膜を更に備えており、前記ラビング方向は、前記遮光膜の延びる方向に沿っているように構成してもよい。
【００４０】
このように構成すれば、柱状部の存在によってラビング不良が発生する可能性が高いラビング方向の下流側に向かって、遮光膜が延びている。従って、このような遮光膜が存在していない場合と比較して、柱状部付近における、例えば液晶の配向不良の如き電気光学物質の動作不良を、遮光膜によって効率良く隠すことが可能となる。逆に言えば、遮光膜により遮光すべき領域を小さくでき、これにより画像品位を低下させないようにしつつ各画素の開口領域を相対的に大きくすることが可能となる。
【００４１】
本発明の電気光学装置の他の態様では、前記第１及び第２基板のうち前記段差部が形成された方の基板上に、前記電気光学物質層に面する表面に塗布され且つラビングされた配向膜を備え、前記第１及び第２基板の少なくとも一方に、前記表示用電極に対向するカラーフィルタを備え、平面的に見て前記柱状部を基準としての前記ラビング方向の下流側には前記カラーフィルタのうち青色部分が位置するように、前記カラーフィルタ及び前記柱状部の相対的位置関係が規定されている。
【００４２】
この態様によれば、柱状部を基準としてのラビング方向の下流側には、例えば液晶の配向不良の如き電気光学物質の動作不良が発生するが、当該動作不良の影響が、カラーフィルタを構成する色の中で、人間の視覚に対して最も影響を与え難い青色の部分が位置する。よって、視覚上は、柱状部の存在による悪影響を低減できる。この結果、柱状部の付近を隠す遮光膜の幅を狭く出来き、画像品位を維持しつつ明るい画像表示を行える。
【００４３】
本発明の電気光学装置の他の態様では、前記表示用電極は、画素電極からなり、前記配線及び電子素子の少なくとも一方は、前記画素電極をスイッチング制御するためのスイッチング素子と、該スイッチング素子を介して画像信号を前記画素電極に供給するためのデータ線と、前記スイッチング素子を駆動するための走査線とを含む。
【００４４】
この態様によれば、例えばＴＦＴであるスイッチング素子に対して、データ線により画像信号をそのソースに供給しつつ走査線により走査信号をそのゲートに供給することによって、当該電気光学装置をアクティブマトリクス駆動可能となる。
【００４５】
本発明の電子機器は上記課題を解決するために、上述した本発明の電気光学装置（但し、その各種態様を含む）を具備する。
【００４６】
本発明の電子機器によれば、上述した本発明の電気光学装置を具備するので、基板間ギャップが高精度で制御されている。このため、透過表示及び反射表示の両方の表示について、表示品質に優れた、液晶テレビ、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネル、投射型表示装置などの各種電子機器を実現できる。
【００４７】
本発明のこのような作用及び他の利得は次に説明する実施の形態から明らかにされる。
【００４８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。以下の実施形態は、本発明の電気光学装置を、半透過反射型の液晶装置に適用したものである。
【００４９】
（第１実施形態）
先ず、本発明の第１実施形態における電気光学装置の全体構成について、図１及び図２を参照して説明する。ここでは、電気光学装置の一例として、バックライトを備えており駆動回路内蔵型のＴＦＴアクティブマトリクス駆動方式の半透過反射型の液晶装置を例にとる。
【００５０】
図１は、ＴＦＴアレイ基板をその上に形成された各構成要素と共に対向基板の側から見た平面図であり、図２は、図１のＨ−Ｈ’断面図である。
【００５１】
図１及び図２において、本実施形態に係る電気光学装置では、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とが対向配置されている。ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間に液晶層５０が封入されており、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とは、画像表示領域１０ａの周囲に位置するシール領域に設けられたシール材５２により相互に接着されている。
【００５２】
シール材５２は、両基板を貼り合わせるための、例えば紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂等からなり、製造プロセスにおいてＴＦＴアレイ基板１０上に塗布された後、紫外線照射、加熱等により硬化させられたものである。
【００５３】
本実施形態では特に、画像表示領域１０ａの全域に渡って、基板間ギャップを規定するギャップ材として多数の柱状部５２０が、液晶層５０が封入されたセル内に設けられている。但し、このような柱状部５２０に加えて、シール材５２中に、グラスファイバ或いはガラスビーズ等のギャップ材を散布してもよい。柱状部５２０については、後で詳述する。
【００５４】
シール材５２が配置されたシール領域の内側に並行して、画像表示領域１０ａの額縁領域を規定する遮光性の額縁遮光膜５３が、対向基板２０側に設けられている。但し、このような額縁遮光膜の一部又は全部は、ＴＦＴアレイ基板１０側に内蔵遮光膜として設けられてもよい。
【００５５】
画像表示領域の周辺に広がる領域のうち、シール材５２が配置されたシール領域の外側に位置する周辺領域には、データ線駆動回路１０１及び外部回路接続端子１０２がＴＦＴアレイ基板１０の一辺に沿って設けられており、走査線駆動回路１０４が、この一辺に隣接する２辺に沿って設けられている。更にＴＦＴアレイ基板１０の残る一辺には、画像表示領域１０ａの両側に設けられた走査線駆動回路１０４間をつなぐための複数の配線１０５が設けられている。また図１に示すように、対向基板２０の４つのコーナー部には、両基板間の上下導通端子として機能する上下導通材１０６が配置されている。他方、ＴＦＴアレイ基板１０にはこれらのコーナーに対向する領域において上下導通端子が設けられている。これらにより、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間で電気的な導通をとることができる。
【００５６】
図２において、ＴＦＴアレイ基板１０は、その基板本体として、石英板、ガラス板等からなる透明な第２透明基板２０２を備えてなる。第２透明基板２０２の上には、画素スイッチング用のＴＦＴや走査線、データ線等の配線、画素電極９ａが形成され、更にその最上層部分に配向膜が形成されている。他方、対向基板２０上は、その基板本体として、石英板、ガラス板等からなる透明な第１透明基板２０１を備えてなる。第１透明基板２０１上には、対向電極２１及び格子状の遮光膜２３が形成されており、更にその最上層部分に配向膜が形成されている。また、液晶層５０は、例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合した液晶からなり、これら一対の配向膜間で、所定の配向状態をとる。
【００５７】
対向基板２０は更に、第１透明基板２０１における液晶層５０と反対側には、偏光板２０７及び位相差板２０８を備えて構成されている。
【００５８】
ＴＦＴアレイ基板１０は更に、第２透明基板２０２における液晶層５０と反対側に、偏光板２１７及び位相差板２１８を備える。加えて、偏光板２１７の外側に、蛍光管２２０と蛍光管２２０からの光を偏光板２１７から液晶パネル内に導くための導光板２１９とを備えて構成されている。導光板２１９は、裏面全体に散乱用の粗面が形成され、或いは散乱用の印刷層が形成されたアクリル樹脂板などの透明体であり、光源である蛍光管２２０の光を端面にて受けて、図の上面からほぼ均一な光を放出するようになっている。尚、図１では説明の便宜上、このようなＴＦＴアレイ基板１０に対して外付けされる蛍光管２２０の図示を省略してある。
【００５９】
尚、図１及び図２に示したＴＦＴアレイ基板１０上には、これらのデータ線駆動回路１０１、走査線駆動回路１０４等に加えて、画像信号線上の画像信号をサンプリングしてデータ線に供給するサンプリング回路、複数のデータ線に所定電圧レベルのプリチャージ信号を画像信号に先行して各々供給するプリチャージ回路、製造途中や出荷時の当該電気光学装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路等を形成してもよい。更に、本実施形態では、データ線駆動回路１０１や走査線駆動回路１０４をＴＦＴアレイ基板１０の上に設ける代わりに、例えばＴＡＢ（Ｔａｐｅ　Ａｕｔｏｍａｔｅｄ　ｂｏｎｄｉｎｇ）基板上に実装された駆動用ＬＳＩに、ＴＦＴアレイ基板１０の周辺部に設けられた異方性導電フィルムを介して電気的及び機械的に接続するようにしてもよい。
【００６０】
次に図３から図５を参照して、図１に示した対向基板２０について詳細に説明する。ここに、図３は、対向基板２０の部分平面図であり、図４は、そのＫ−Ｋ’断面図であり、図５は、図３の部分拡大図である。尚、図４において、厚み関係の理解のため、高さ方向を拡大してある。また、図４は、図１に示した対向基板２０を上下逆転して示したものであり、偏光板及び位相差板ついては省略してある。
【００６１】
図３から図５に示すように、本発明に係る「第１基板」の一例を構成する対向基板２０は、第１透明基板２０１、遮光膜２３、カラーフィルタ５００、段差形成膜５１０、対向電極２１、柱状部５２０及び配向膜２２から構成されている。
【００６２】
遮光膜２３は、画像表示領域内において各画素の非開口領域を規定すべく格子状に、第１透明基板２０１上に形成されている。遮光膜２３は、例えばＣｒ（クロム）、Ｎｉ（ニッケル）等の金属から形成されている。前述したＴＦＴアレイ基板側に形成される配線部や素子部は、遮光膜２３によって隠される。即ち、各画素の非開口領域内に配置される。遮光膜２３は、各画素の非開口領域を規定すると共に各画素の間隙における光抜けを防止し、更にカラーフィルタ５００における混色防止の機能を有すると共に入射光に起因する電気光学装置の温度上昇を防ぐ機能を有する。
【００６３】
カラーフィルタ５００は、画像表示領域内に設けられており、各画素に対応してマトリクス状に、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）に分けられており、更に各画素内において各色のカラーフィルタ部分は、更に、透過表示用の領域に形成された色が濃い部分と反射表示用の領域に形成された色が薄い部分とに分けられている。即ち、カラーフィルタ５００は、赤、緑、青３色×２＝６色のカラーフィルタとして構築されている。
【００６４】
より具体的には、カラーフィルタ５００において、カラーフィルタ部分ＲＲは、赤色（Ｒ）の反射表示用であり、カラーフィルタ部分ＴＲは、赤色（Ｒ）の透過表示用である。カラーフィルタ部分ＲＧは、緑色（Ｇ）の反射表示用であり、カラーフィルタ部分ＴＧは、緑色（Ｇ）の透過表示用である。カラーフィルタ部分ＲＢは、青色（Ｂ）の反射表示用であり、カラーフィルタ部分ＴＢは、青色（Ｂ）の透過表示用である。これらのカラーフィルタ部分ＲＲ〜ＴＢのうち透過表示用のものは、反射表示用のものよりも、約半分の明るさが得られるように色度域としては広くなっている。
【００６５】
カラーフィルタ５００は、顔料分散法などのフォトリソグラフィを用いて製造され、各カラーフィルタ部分ＲＲ〜ＴＢは、アクリル等の有機絶縁材料で作られる。各カラーフィルタ部分ＲＲ〜ＴＢは、本例では、同一顔料で濃度を変える又は顔料成分を変えることにより、色度域を変えて形成されており、６色のカラーフィルタ部分は、相互に同一の膜厚となっている。
【００６６】
カラーフィルタ５００は、図３では、ストライプ配列とされているが、その他に、デルタ配列、モザイク配列、トライアングル配列等で配列されてもよい。
【００６７】
段差形成膜５１０は、図４に示すように反射表示用の領域に形成されたカラーフィルタ部分ＲＲ、ＲＧ及びＲＢ上に形成されており、その平面形状が、図３に示すように左右の画素の配列方向に沿って延びるストライプ状に形成されている。段差形成膜５１０は、後述の如く対向基板２０をＴＦＴアレイ基板１０と対向配置して構成された電気光学装置における基板間ギャップのうち狭い方の第１ギャップを直接的に規定するものであり、これらのうち広い方の２ギャップの半分程度の高さを有する。より具体的には、段差形成膜５１０の高さは、例えば、２〜４μｍ程度であり、アクリル等の透明有機絶縁材料で形成されている。
【００６８】
各画素内の領域のうち、このようにストライプ状の段差形成膜５１０が形成されることで相対的に凸状とされた段差部或いは土手部の上に存在する領域は、反射表示領域とされており、段差形成膜５１０が形成されないことで相対的に凹状とされた平坦部或いは底部にある領域は、透過表示用の領域とされている。即ち、このような段差部の存在によって、光源光が１回だけ液晶層５０を通過する透過表示と、外光が２回液晶層５０を通過する反射表示との間で、液晶層５０における偏光特性を揃えることが可能とされている。これらの反射表示用の領域と透過表示用の領域との間の領域には、なだらかなスロープで形成されており、配向膜２２に対するラビング処理を良好に施すことが可能とされている。
【００６９】
対向電極２１は、段差形成膜５１０及びカラーフィルタ５００上の全面に渡って、ＩＴＯ膜等の透明電極膜から形成されている。
【００７０】
柱状部５２０は、対向電極２１上であって、段差形成膜５１０の形成された領域内に形成されている。柱状部は、例えば、６色分のカラーフィルタ５００部分に対して１個、つまり３画素に１個の割合で形成されている。柱状部５２０の高さは、第２ギャップの半分程度で例えば２〜４μｍ程度であり、アクリル等の有機絶縁材料から形成されている。柱状部５２０は、本例では、円柱の形状を有する。但し、これは、例えば八角や六角の角柱でもよく、また製造プロセル中のラビング処理を考慮して、ラビング方向に流線型をした形状でもよい。柱状部５２０の径は、例えば１０〜１５μｍ程度である。柱状部５２０は、透明ではないので、好ましくは、各画素の非開口領域内に配置されている。即ち遮光膜２３によって表示時に観察者から見えないように隠されている。
【００７１】
配向膜２３は、柱状部５２０及び対向電極２１上の全面に渡って、形成されている。配向膜２３は、例えば、ポリイミド樹脂による配向膜が塗布された後、焼成され、更にラビング処理が行われることで形成されている。
【００７２】
図５に示すように、このラビング処理の際に、柱状部５２０から見てラビング方向５５０の下流側に、ラビング不良の領域５７０が発生する。例えば柱状部５２０の横幅が１０〜１５μｍであり且つ高さが２〜３μｍであると想定すると、ラビング不良の領域５７０は、ラビング方向に５５０に、柱状部の高さの２倍である約５〜６μｍの長さを持つように発生する。
【００７３】
従って、図５でラビング不良の領域５７０として示すように、横方向に走る遮光膜２３の幅を広げ、さらに柱状部５２０の位置を横方向に走る遮光膜２３の中心から透過表示領域に近い側に（即ち、図５で上側に）距離Ｓだけ偏らせるとよい。これにより、ラビング不良の領域５７０を各画素の非開口領域内に隠すことが容易となる。尚、ここでの距離Ｓは、柱状部５２０の横方向の中心線５６５と、横方向に走る遮光膜２３の中心線５６０との距離である。
【００７４】
加えて本実施形態では特に、ラビング方向５５０は、カラーフィルタ部分ＲＢに向かう方向に一致されている。これは、柱状部５２０により生じるラビング不良の領域５７０で発生する液晶層５０の配向不良が、青色表示の画素で発生する場合が、表示として一番目立たないからである。
【００７５】
次に、図６から図９を参照して、図１に示したＴＦＴアレイ基板１０について詳細に説明する。ここに、図６は、ＴＦＴアレイ基板上に構成される配線、電子素子等の等価回路図であり、図７は、ＴＦＴアレイ基板の部分平面図であり、図８は、図７の部分拡大図であり、図９は、図７に示したＪＪ’線に沿って切断したときの電気光学装置の断面図である。尚、図９においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。
【００７６】
図６において、本実施形態における電気光学装置の画像表示領域を構成するマトリクス状に形成された複数の画素には夫々、画素電極９ａと当該画素電極９ａをスイッチング制御するためのＴＦＴ３０とが形成されており、画像信号が供給されるデータ線６ａが当該ＴＦＴ３０のソースに電気的に接続されている。データ線６ａに書き込む画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎは、この順に線順次に供給しても構わないし、相隣接する複数のデータ線６ａ同士に対して、グループ毎に供給するようにしても良い。また、ＴＦＴ３０のゲートに走査線３ａが電気的に接続されており、所定のタイミングで、走査線３ａにパルス的に走査信号Ｇ１、Ｇ２、…、Ｇｍを、この順に線順次で印加するように構成されている。画素電極９ａは、ＴＦＴ３０のドレインに電気的に接続されており、スイッチング素子であるＴＦＴ３０を一定期間だけそのスイッチを閉じることにより、データ線６ａから供給される画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎを所定のタイミングで書き込む。画素電極９ａを介して電気光学物質の一例としての液晶に書き込まれた所定レベルの画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎは、対向基板２０に形成された対向電極２１（図２参照）との間で一定期間保持される。液晶は、印加される電圧レベルにより分子集合の配向や秩序が変化することにより、光を変調し、階調表示を可能にする。ノーマリーホワイトモードであれば、各画素の単位で印加された電圧に応じて入射光に対する透過率が減少し、ノーマリーブラックモードであれば、各画素の単位で印加された電圧に応じて入射光に対する透過率が増加され、全体として電気光学装置からは画像信号に応じたコントラストを持つ光が出射する。ここで、保持された画像信号がリークするのを防ぐために、画素電極９ａと対向電極２１との間に形成される液晶容量と並列に蓄積容量７０を付加する。蓄積容量７０は、容量線３００の一部からなる固定電位側容量電極と、ＴＦＴ３０のドレイン側及び画素電極に９ａに接続された画素電位側容量電極とを備える。
【００７７】
次に図７及び図８に示すように、ＴＦＴアレイ基板１０上には、半透過反射型の画素電極９ａがマトリクス状に配列されており、画素電極９ａに対応する画素の領域は、透過表示用の領域と反射表示用の領域とに二分されている。尚、図７は、図３に示した対向基板２０の平面図に対応しているが、左右反転した平面図である。即ち、図３における線分ＡＢが、図７における線分Ａ’Ｂ’に対して平面図上で一致するように両基板は、対向配置される。加えて、図７では、６色のカラーフィルタ部分ＲＲ〜ＴＢに夫々対応させる意味で、カラーフィルタ部分ＲＲ’〜ＴＢ’として表示している。
【００７８】
図８に拡大して示すように、ＴＦＴアレイ基板１０には、半透過反射型の画素電極９ａ（点線部９ａ’により輪郭が示されている）が設けられており、画素電極９ａの縦横の境界に各々沿ってデータ線６ａ及び走査線３ａが設けられている。また、半導体層１ａのうち図８中ハッチングで示したのがチャネル領域１ａ’である。角状のゲート電極４０５は、チャネル領域１ａ’において半導体層１ａに対向するように走査線３ａから突出して形成されている。尚、ゲート電極４０５は、走査線３ａと同一導電材料から一体形成されてもよいし、別材料から形成されてもよい。このように、画素には夫々、チャネル領域１ａ’に走査線３ａに接続するゲート電極４０５が対向配置された画素スイッチング用のＴＦＴ３０が設けられている。
【００７９】
図７から図９に示すように、蓄積容量７０は、画素電極９ａに重なるように配置された平面形状を有する。蓄積容量７０の画素電位側容量電極は、半導体層１ａのドレイン領域１ｅから延設された部分からなり、その固定側容量電極は、走査線３ａと並んで配列された容量線３００から延設された部分からなる。容量線３００は、画像表示領域１０ａからその周囲に延設され、定電位源と電気的に接続されて、固定電位とされる。半導体層１ａのドレイン領域１ｅは、コンタクトホール８３、中継層７１及びコンタクトホール８５を介して画素電極９ａと電気的に接続されている。半導体層１ａのソース領域１ｄはコンタクトホ−ル８１を介してデータ線６ａと接続されている。
【００８０】
図８に示すように本実施形態では特に、半透過反射電極の一例を構成する画素電極９ａに対応する画素の領域は、透過表示用の領域と反射表示用の領域とに二分されている。より具体的には、図８中ＫＫ’線の上側が、反射表示用の領域であり、カラーフィルタ部分ＲＲ’に対応している。他方、図８中ＫＫ’線の下側が、透過表示用の領域であり、カラーフィルタ部分ＴＲ’に対応している。
【００８１】
図８及び図９に示すように、反射表示用の領域には、表面に多数の微小な略半球状の凹部４２０が形成されたＡｌ（アルミニウム）膜からなる反射膜４３０が、画素電極９ａの下に重なるように積層されている。これにより、反射表示用の領域には、画素電極９ａ及び反射膜４３０から反射電極が構築されることになる。尚、凹部４２０は、鏡面反射を避けるためのものであり、凸部であっても構わない。
【００８２】
ＴＦＴアレイ基板１０側には、画素単位で液晶層５０部分を駆動可能となるように、画素電極９ａ及びこれに接続されたＴＦＴ３０及び配線部が設けられている。対向基板２０側には、画素電極９ａに対向した全面ベタの透明な対向電極２１が形成されている。
【００８３】
画素スイッチング用のＴＦＴ３０下には、下地絶縁膜１２が設けられている。下地絶縁膜１２は、下側遮光膜１１ａからＴＦＴ３０を層間絶縁する機能の他、第２透明基板２０２の全面に形成されることにより、その表面の研磨時における荒れや、洗浄後に残る汚れ等で画素スイッチング用のＴＦＴ３０の特性変化を防止する機能を有する。
【００８４】
図９において、画素スイッチング用のＴＦＴ３０は、ＬＤＤ（Ｌｉｇｈｔｌｙ　Ｄｏｐｅｄ　Ｄｒａｉｎ）構造を有しており、ゲート４０５、当該ゲート４０５からの電界によりチャネルが形成される半導体層１ａのチャネル領域１ａ’、ゲート４０５と半導体層１ａとを絶縁するゲート絶縁膜を含む絶縁膜２、半導体層１ａの低濃度ソース領域１ｂ及び低濃度ドレイン領域１ｃ、半導体層１ａの高濃度ソース領域１ｄ並びに高濃度ドレイン領域１ｅを備えている。前述したようにゲート４０５は走査線３ａに接続され、高濃度ソース領域１ｄは、データ線６ａに接続され、高濃度ドレイン領域１ｅは、蓄積容量７０の画素電位側容量電極に接続されている。
【００８５】
データ線６ａは、Ａｌ等の低抵抗な金属膜や金属シリサイド等の合金膜などから構成されている。
【００８６】
走査線３ａ、ゲート４０５及び容量線３００の上には、第１層間絶縁膜４１が形成されている。第１層間絶縁膜４１には、高濃度ソース領域１ｄへ通じるコンタクトホール８１及び高濃度ドレイン領域１ｅへ通じるコンタクトホール８３が各々開孔されている。
【００８７】
第１層間絶縁膜４１上には、中継層７１とデータ線６ａが形成されており、これらの上には、コンタクトホール８５と反射光を散乱させるための凹部４１０とが開孔された第２層間絶縁膜４２が形成されている。凹部４１０は、反射表示用の領域に形成され、すり鉢状をしており、凹部４１０の上縁における内径は、例えば１〜１０μｍ程度である。
【００８８】
第２層間絶縁層４２の上には、コンタクトホール８５が形成された第３層間絶縁膜４３が形成されている。第３層間絶縁膜４３では、第２層間絶縁膜４２のすり鉢状の凹部４１０に起因して、略半球状の凹部４２０が形成されている。画素電極９ａは、このように構成された第３層間絶縁膜４３の上面に形成されており、コンタクトホール８５を介して中継層７１に接続されている。
【００８９】
画素電極９ａの上側には、ラビング処理等の所定の配向処理が施された配向膜１６が設けられている。配向膜１６は例えば、ポリイミド膜などの有機膜からなる。画素電極９ａには前述したように、反射表示用の領域における反射膜４３０が下地側に重ねられた反射部と、透過表示用の領域における反射膜４３０が重ねられない透過部とを含んでなる。また、反射部には、多数の半球状の凹部４２０が形成されており、鏡面反射を避けた反射表示が可能とされている。
【００９０】
尚、図９では、図２に示した如き第１透明基板２０１の外面に取り付けられる偏光板２０７及び位相差板２０８、並びに第２透明基板２０２の外面に取り付けられる偏光板２１７、位相差板２１８、導光板２１９及び蛍光管２２０については、説明の簡便化のために省略してある。
【００９１】
次に以上のように構成された半透過反射型の電気光学装置の動作ついて図２を参照して説明する。
【００９２】
まず、反射表示について説明する。
【００９３】
この場合には、図２において、偏光板２０７の側（即ち、図２で上側）から外光が入射すると、偏光板２０７、位相差板２０８、透明な第１基板２０１及び液晶層５０等を介して、第２基板２０２上に設けられた半透過反射型の画素電極９ａのうち反射表示用の領域により反射され、液晶層５０等を介して、カラーフィルタ５００によって所定色に着色され、更に位相差板２０８により色補正済みの反射光として偏光板２０７側から出射される。ここで、外部回路から所定タイミングでデータ線６ａに画像信号を供給すると共に走査線３ａに走査信号を供給すれば、画素電極９ａにおける液晶層５０部分には、画像信号に対応する電界が印加される。従って、この印加電圧により液晶層５０の配向状態を各画素単位で制御することにより、偏光板２０７から出射する光量を変調し、カラーの階調表示が可能となる。
【００９４】
次に透過表示について説明する。
【００９５】
この場合には、図２において第２基板２０２の下側から導光板２１９、偏光板２１７等を介してバックライト２２０からの光源光が入射すると、半透過反射型の画素電極９ａにおける透過表示用の領域を透過し、カラーフィルタ５００によって所定色に着色され、更に位相差板２０８により色補正済みの透過光として、偏光板２０７側から出射される。ここで、外部回路から所定タイミングでデータ線６ａに画像信号を供給すると共に走査線３ａに走査信号を供給すれば、画素電極９ａにおける液晶層５０部分には、画像信号に対応する電界が印加される。従って、この印加電圧により液晶層５０の配向状態を各画素単位で制御することにより、偏光板２０７から出射する光量を変調し、カラーの階調表示が可能となる。
【００９６】
以上の結果、第１実施形態によれば、透過表示と反射表示との間で、液晶層５０における偏光特性を揃えることが可能となると共に、カラーフィルタ５００による色付け濃度についても揃えることが可能となる。
【００９７】
尚、図２では、説明の便宜上、位相差板や偏光板を、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０の外面側に夫々一枚ずつ配置しているが、偏光板や位相差板の光学特性、配置個所、枚数等については、例えば、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ　Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ　Ａｌｉｇｎｅｄ）モード、ＰＤＬＣ（Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｄｉｓｐｅｒｓｅｄ　Ｌｉｑｕｉｄ　Ｃｒｙｓｔａｌ）モード等の動作モードや、ノーマリーホワイトモード／ノーマリーブラックモードの別に応じて各種の態様を採用可能である。
【００９８】
（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態における電気光学装置の構成及び動作について図１０及び図１１を参照して説明する。ここに、図１０は、ＴＦＴアレイ基板の部分平面図であり、図１１は、図１０に示したＬＬ’線に沿って切断したときの電気光学装置の断面図である。図１０及び図１１においては、図１から図９に示した第１実施形態の場合と同様の構成要素については同様の参照符号を付し、それらの説明は適宜省略する。尚、図１１においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。
【００９９】
第１実施形態では、対向基板側に、段差形成膜と柱状部との両方が形成されているが、第２実施形態では、対向基板側に段差形成膜が形成され、且つＴＦＴアレイ基板側に柱状部が形成されている。
【０１００】
即ち図１０及び図１１に示すように、対向基板２０’側には、遮光膜２３及び柱状部５２０が形成されていない。他方、ＴＦＴアレイ基板１０’側には、第１実施形態における遮光膜２３とほぼ同様の平面領域に格子状の遮光膜１１ａが第２透明基板２０２に密着して形成されており、その上に透明な下地絶縁膜１２が形成され、更にその上にＴＦＴ３０等が形成されている。そして、第３層間絶縁膜４３上であって、配向膜１６の下地側に、柱状部５３’が形成されている。加えて、図１０に示した配向膜１６に対するラビング方向５５０’についても、柱状部５２０’を基準としてラビング方向５５０’の下流側が大きく遮光膜１１ａで覆われるように規定されており、更に柱状部５２０’を基準とするラビング方向５５０’の下流側には、青のカラーフィルタ部分ＲＢ’が位置するように、ラビング方向５５０’とカラーフィルタ５００との相対的な位置関係が規定されている。その他の構成及び動作については、図１から図９を参照して説明した第１実施形態の場合と同様である。
【０１０１】
尚、第２実施形態では、遮光膜１１ａを、柱状部５２０’の存在するＴＦＴアレイ基板１０’側に形成しているが、第２実施形態においても、第１実施形態の場合と同様に遮光膜１１ａ代えて又は加えて、対向基板２０’側に遮光膜２３を形成してもよい。
【０１０２】
（電子機器）
次に、上述した各実施形態に係る半透過反射型の電気光学装置を電子機器に用いた例について図１２から図１４を参照して説明する。
【０１０３】
先ず、上述した電気光学装置を、モバイル型コンピュータの表示部に適用した例について説明する。図１２は、この構成を示す斜視図である。図１２において、コンピュータ１２００は、キーボード１２０２を備えた本体部１２０４と、表示部として用いられる表示装置１００５とを備えている。
【０１０４】
次に、上述した電気光学装置を、携帯電話の表示部に適用した例について説明する。図１３は、この構成を示す斜視図である。図１３において、携帯電話１２５０は、複数の操作ボタン１２５２のほか、受話口、送話口とともに、上述した電気光学装置を表示装置１００５として備えるものである。
【０１０５】
次に、上述した電気光学装置を、ファインダに用いたデジタルスチルカメラについて説明する。図１４は、この構成を背面から示す斜視図である。デジタルスチルカメラ１３００におけるケース１３０２の背面には、上述した電気光学装置が表示装置１００５として設けられ、ケース１３０２の前面に設けられたＣＣＤ１３０４による撮像信号に基づいて、表示を行うようになっている。即ち、表示装置１００５は、被写体を表示するファインダとして機能することになる。
【０１０６】
なお、電子機器としては、これらの他、液晶テレビや、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーションシステム、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器等が挙げられる。
【０１０７】
本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴なう電気光学装置及び電子機器もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態に係る電気光学装置の平面図である。
【図２】図１のＨ−Ｈ’断面図である。
【図３】実施形態に係る対向基板の部分平面図である。
【図４】図３のＫ−Ｋ’断面図である。
【図５】図３の部分拡大図である。
【図６】実施形態に係るＴＦＴアレイ基板上に構成される配線、電子素子等の等価回路図である。
【図７】実施形態に係るＴＦＴアレイ基板の部分平面図である。
【図８】図７の部分拡大図である。
【図９】図７に示したＪＪ’線に沿って切断したときの電気光学装置の断面図である。
【図１０】実施形態に係るＴＦＴアレイ基板の部分平面図である。
【図１１】図１０に示したＬＬ’線に沿って切断したときの電気光学装置の断面図である。
【図１２】実施形態に係る電気光学装置を適用した電子機器の一例たるモバイル型コンピュータを示す斜視図である。
【図１３】実施形態に係る電気光学装置を適用した電子機器の他の例たる携帯電話を示す斜視図である。
【図１４】実施形態に係る電気光学装置を適用した電子機器の他の例たるデジタルスチルカメラの構成を示す斜視図である。
【符号の説明】
９ａ…画素電極
１０…ＴＦＴアレイ基板
２０…対向基板
２１…透明電極
５０…液晶層
２０１…第１透明基板
２０２…第２透明基板
５００…カラーフィルタ
５１０…段差形成膜
５２０、５２０’…柱状部
５５０、５５０’…ラビング方向[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention belongs to the technical field of an electro-optical device such as a transflective liquid crystal device and an electronic apparatus including such an electro-optical device.
[0002]
[Background Art]
In general, this type of electro-optical device is, for example, in the case of an active matrix driving method by driving a thin film transistor (hereinafter, appropriately referred to as a TFT (Thin Film Transistor)), a large number of pixel electrodes, TFTs for controlling switching thereof, and TFTs connected thereto. The device includes an element array substrate provided with wiring such as data lines and scanning lines for supplying image signals and scanning signals, and a counter substrate provided with a counter electrode, a color filter, and the like which are disposed to face the device array substrate. During the operation, a driving voltage is generated between the pixel electrode and the counter electrode for each pixel. With this drive voltage, each electro-optical material portion is driven on a pixel-by-pixel basis, for example, by changing the alignment state of liquid crystal to perform a display operation.
[0003]
Therefore, it is necessary to accurately control the distance between the two substrates that defines the layer thickness of the electro-optical material layer (hereinafter, appropriately referred to as “substrate gap” or simply “gap”) in order to perform a display operation accurately. It is. For this reason, in a relatively large liquid crystal display device having a diagonal size of several inches to tens of inches, for example, a bead-like or fiber-like gap material having a predetermined particle size is scattered in the liquid crystal to control the gap between the substrates. Alternatively, in a small-sized liquid crystal display device having a diagonal size of several inches or less, for example, a gap between the substrates is controlled by mixing a bead-like or fiber-like gap material having a predetermined particle diameter into a sealing material for bonding the two substrates. General.
[0004]
Further, as disclosed in JP-A-4-240622, JP-A-2000-19527, JP-A-2001-305552, and the like, a minute surface having a predetermined height is provided on the surface of an element array substrate or a counter substrate. A technique has been developed in which a large number of shell-shaped or columnar spacers are formed and the gap between the substrates is thereby controlled.
[0005]
On the other hand, this type of electro-optical device performs reflective display using external light in a bright place, and performs transmissive display using a built-in light source or light source light emitted from a backlight in a dark place. There has been developed a transflective electro-optical device capable of switching the display. In the case of such a transflective electro-optical device, external light passes through the electro-optical material layer twice during reflective display, whereas light source light passes through the electro-optical material layer only once during transmissive display. Do not pass. Here, in order to properly perform both types of display, it is preferable that the polarization characteristics in the electro-optical material layer are uniform, and therefore, the total thickness of the electro-optical material layer through which light for display passes is transmitted. A technique has been proposed for aligning the display and the reflection display. Specifically, in the reflective display region and the transmissive display region, the thickness of the electro-optical material layer in the former, that is, the gap between the substrates, is set to about half of that in the latter.
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
However, according to the above-described conventional technique of controlling the gap between substrates using a bead-like or fiber-like gap material, a region for each pixel is divided into a region for reflective display and a region for transmissive display, It is technically difficult to define different gaps between the substrates.
[0007]
Furthermore, even with the above-described conventional technique of controlling the gap between the substrates using the columnar or columnar spacers, the substrate for the reflective display and the region for the transmissive display in which each pixel region is bisected also have different substrates. It is difficult to define the gap. More specifically, in addition to the difficulties of forming spacers of two different heights, the rubbing treatment of the alignment film formed thereon is performed when spacers of two different heights are present. It is technically difficult to perform the process without causing the alignment unevenness. In particular, for a higher shell-column or column-shaped spacer having a larger inter-substrate gap, for example, a height of about 4 μm to 10 μm, a considerable amount of rubbing failure occurs depending on the height. As a result, malfunction of the electro-optical material such as poor alignment of the liquid crystal occurs. Therefore, it is difficult to display a high-quality image. Alternatively, it is necessary to cover an area where such an operation failure occurs in each pixel with a light-shielding film, which causes a technical problem that a display image becomes dark.
[0008]
The present invention has been made in view of the above problems, and has reduced the operation failure of an electro-optical material such as, for example, poor alignment of a liquid crystal, and has a high-quality and bright image in both transmissive display and reflective display. It is an object to provide a transflective electro-optical device capable of displaying and an electronic apparatus including such an electro-optical device.
[0009]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above-mentioned problems, an electro-optical device according to the present invention includes an electro-optical material layer sandwiched between a pair of first and second substrates, and the electro-optical device includes an electro-optical material layer in an image display area where the electro-optical material layer is disposed. A plurality of transflective display electrodes each having a transmissive display area and a reflective display area on two substrates, and at least one of a wiring and an electronic element for supplying an image signal to the display electrodes And the first and second substrates are erected on one of the first and second substrates in the image display area on the surface facing the electro-optical material layer. A columnar portion defining a gap between the first and second substrates, and a surface of at least one of the first and second substrates facing the electro-optical material layer is convex to a predetermined region including the reflective display region. Shaped step is formed And, the columnar portion is disposed at a position facing the stepped portion.
[0010]
According to the electro-optical device of the present invention, a plurality of transflective display electrodes are provided on the second substrate formed of, for example, an element array substrate. Such a display electrode may be a pixel electrode divided and formed for each pixel, or may be a stripe electrode or a segment electrode. In particular, each display electrode has an area for transmissive display and an area for reflective display. For example, each display electrode is made of a transparent conductive film such as ITO (Indium Tin Oxide) in a transmissive display region occupying one half or the center half of each pixel. In the reflective display region, a reflective film such as an Al (aluminum) film is laminated on the transparent conductive film, or such a reflective film is used alone. At the time of operation of the electro-optical device, an image signal is supplied to such a display electrode from a wiring such as a data line or an electronic element such as a TFT or a TFD, for example, by active matrix driving, passive matrix driving, segment driving, or the like. For example, in a bright place, reflective display can be performed using external light from the side opposite to the electro-optical material layer on the first substrate, and in a dark place, light source light from the side opposite to the electro-optical material layer on the second substrate can be used. Is used to enable transmissive display.
[0011]
Here, on either one of the first and second substrates in the image display area, a columnar portion is provided upright on the surface facing the electro-optical material layer. That is, the columnar portion defines a gap between the first and second substrates as a gap material. Such a columnar portion may be, for example, an island shape such as a cylindrical shape, a prismatic shape, a truncated cone shape, a truncated pyramid shape, or a cross shape or a longitudinal shape slightly extending along the wiring. On at least one of the first and second substrates, the surface facing the electro-optical material layer is provided with a convex step in a predetermined area including a reflective display area. In this case, preferably, the convex step portion is formed not only in the reflective display region, but also in each of the pixels on which wiring and electronic elements are formed, other than the opening region of each pixel through which light that actually contributes to display is transmitted or reflected. , That is, a region that is a gap between the opening regions of the respective pixels, and the columnar portion is disposed at a position facing the convex step portion in the non-opening region of each pixel. In any case, the columnar portion is disposed at a position facing the convex step portion. Therefore, by adjusting the height of the convex step portion and the height of the columnar portion as the gap material, the layer thickness of the electro-optical material layer in the area for transmissive display is reduced. The thickness can be made thicker than that in the case of, for example, about twice. That is, the gap between the substrates can be narrowed in the area for the reflective display, and the gap between the substrates can be widened in the area for the transmissive display.
[0012]
In particular, such a columnar portion is disposed at a position facing the convex step portion, that is, so as to define a narrower inter-substrate gap, and is relatively positioned corresponding to a wider inter-substrate gap. It is not provided on the surface of the concave first or second substrate. At this time, if the pixel pitch is, for example, about several μm to several tens μm, or about several hundred μm to less than several thousand μm, the gap defining the wide inter-substrate gap corresponding to the area for transmissive display in this way. The gap between the two types of substrates can be stably defined without providing any material. Moreover, if the columnar portion has such a relatively low height, after forming the columnar portion during the manufacturing process of the electro-optical device, when the alignment film is applied and further rubbed, Compared with the case where the columnar portion having a relatively high height is formed, the region where the rubbing failure occurs, which spreads downstream in the rubbing direction with respect to the columnar portion, can be reduced.
[0013]
As a result, the polarization characteristics of the electro-optical material layer can be made uniform between the reflective display and the transmissive display by the two types of gaps between the substrates. In addition, in the reflective display and the transmissive display, the operation failure of the electro-optical material such as a poor alignment of the liquid crystal can be reduced, so that a high-quality image display can be finally achieved, and the operation failure of the electro-optic material is further hidden. As a result, the region where the light-shielding film is formed can be narrowed, so that a bright display can be achieved. In one aspect of the electro-optical device of the present invention, the electro-optical device further includes a transparent step-forming film for forming the step at least partially on one of the first and second substrates.
[0014]
According to this aspect, the step can be relatively easily formed on one of the first and second substrates due to the presence of the transparent step forming film such as a silicon oxide film, and the height of the step can be relatively controlled. It can be done easily and with high precision.
[0015]
In another aspect of the electro-optical device of the present invention, the step portion extends in a predetermined direction across the plurality of display electrodes as viewed in plan.
[0016]
According to this aspect, the step portion is formed in a band shape in a direction along the arrangement of the display electrodes or in the direction along the wiring such as the scanning line or the data line, for example, across the plurality of display electrodes in plan view. Since it is extended, it can be formed more easily than divided and formed for each pixel, and dimensional control and height control in its planar pattern can be performed with high precision.
[0017]
However, such a step portion may be formed separately for each pixel.
[0018]
In another aspect of the electro-optical device according to the invention, the step portion is formed on the first substrate, and the columnar portion is formed on the first substrate.
[0019]
According to this aspect, since both the step portion and the columnar portion may be formed on the first substrate side, which is the opposite substrate, for example, the production on the second substrate side which is an element array substrate and is relatively difficult to produce These steps and columns can be formed separately from the process. Therefore, manufacturing becomes easy as a whole.
[0020]
Alternatively, in another aspect of the electro-optical device of the present invention, the step portion is formed on the second substrate, and the columnar portion is formed on the first substrate.
[0021]
According to this aspect, for example, the columnar portion may be formed on the first substrate side, which is the opposite substrate, so that it is separated from the manufacturing process on the second substrate side, which is an element array substrate and is relatively difficult to manufacture. And columnar portions can be formed. Further, by providing the step portion on the second substrate side, it is possible to form the step portion at least partially using the presence of the wiring, the electronic element, and the like that constitute the second substrate.
[0022]
However, conversely, the step portion may be formed on the first substrate and the columnar portion may be formed on the second substrate, or both the step portion and the columnar portion may be formed on the second substrate. .
[0023]
In another aspect of the electro-optical device according to the aspect of the invention, the columnar portion is disposed at a position facing the step portion in a region outside the reflective display region in the predetermined region.
[0024]
According to this aspect, since the columnar portion is arranged in a region outside the region for reflective display, for example, the non-opening region of each pixel, the presence of the columnar portion hinders the reflective display. Can be prevented beforehand. In this case, the step portion may be extended from the reflective display area in the opening area of each pixel to the non-opening area of each pixel when viewed in plan.
[0025]
In another aspect of the electro-optical device according to the aspect of the invention, at least one of the wiring and the electronic element is planarly arranged in a lattice shape or a stripe shape, and the columnar portion is located at a position facing the step portion, and It is arranged at a position facing at least one of the wiring and the electronic element.
[0026]
According to this aspect, since the columnar portion is arranged in the lattice-shaped non-opening region serving as a gap between the pixels in which the wiring and the electronic element are formed, the presence of the columnar portion hinders the reflective display. Can be prevented beforehand, and a situation in which the aperture region of each pixel is narrowed by the presence of the columnar portion can be avoided.
[0027]
In another aspect of the electro-optical device according to the invention, at least a part of the step portion is formed by the presence of at least one of the wiring and the electronic element.
[0028]
According to this aspect, the step portion is formed at least partially using the presence of various wirings such as data lines, scanning lines, and capacitance lines, and various elements such as TFTs and TFDs, so that the step portion is formed. For this reason, the laminated structure on the substrate and the manufacturing process can be simplified as compared with the case where a dedicated film or a dedicated process is used.
[0029]
In another aspect of the electro-optical device according to the aspect of the invention, at least one of the first and second substrates further includes a color filter facing the display electrode, and the color filter has a color for the transmissive display. Are different from each other so that the chromaticity range in the region is wider than the chromaticity range in the reflective display region.
[0030]
According to this aspect, the color of the color filter is such that the chromaticity region in the transmissive display region in which the light source light passes through the color filter only once and the reflective display region in which the external light passes through the color filter twice back and forth. Since the chromaticity range is wider than the chromaticity range of, it is possible to display an appropriate color in both the transmissive display and the reflective display.
[0031]
In this aspect of the color filter, the color filter may be configured such that a color material film portion in the transmissive display region is thicker than a color material film portion in the reflective display region. .
[0032]
According to this structure, by changing the thickness of the color material film, the color filter in which the chromaticity range in the area for transmissive display is wider than the chromaticity range in the area for reflective display is made relatively easy. Can be constructed. For example, if the thickness of the color material film in the transmissive display area is about twice that in the reflective display area, an appropriate color can be displayed in both the transmissive display and the reflective display.
[0033]
However, the color filter may be configured such that the color material density in the color material film in the transmissive display area is higher than the color material density in the color material film in the reflective display area.
[0034]
Further, in the aspect according to the color filter, the color filter may be provided on the first substrate.
[0035]
According to this structure, for example, a color filter may be formed on the first substrate, which is the opposite substrate, so that it is separated from the manufacturing process on the second substrate, which is an element array substrate and is relatively difficult to manufacture. Thus, a color filter can be formed.
[0036]
However, the color filter may be formed on the second substrate.
[0037]
In another aspect of the electro-optical device of the present invention, the first and second substrates are coated and rubbed on the surface facing the electro-optical material layer on the substrate on which the stepped portion is formed. An alignment film is further provided, and the step portion extends toward the downstream side in the rubbing direction of the alignment film with respect to the columnar portion in plan view.
[0038]
According to this aspect, the convex step portion extends toward the downstream side in the rubbing direction in which rubbing failure is highly likely to occur due to the presence of the columnar portion. Therefore, compared with the case where such a step portion does not extend, it is possible to reduce rubbing defects near the columnar portion whose height is relatively reduced.
[0039]
In the aspect according to the alignment film, at least one of the first and second substrates further includes a light-shielding film that covers at least one of the wiring and the electronic element and covers a gap between the display electrodes, and the rubbing direction. May be configured to extend along the direction in which the light-shielding film extends.
[0040]
With this configuration, the light-shielding film extends toward the downstream side in the rubbing direction in which the possibility of rubbing failure due to the presence of the columnar portion is high. Therefore, as compared with the case where such a light-shielding film is not present, an operation failure of the electro-optical material such as, for example, a liquid crystal alignment defect near the columnar portion can be more efficiently hidden by the light-shielding film. Conversely, the area to be shielded by the light-shielding film can be reduced, and thereby the opening area of each pixel can be relatively increased without deteriorating the image quality.
[0041]
In another aspect of the electro-optical device of the present invention, the first and second substrates are coated and rubbed on the surface facing the electro-optical material layer on the substrate on which the stepped portion is formed. An alignment film is provided, at least one of the first and second substrates is provided with a color filter facing the display electrode, and the color filter is provided on the downstream side in the rubbing direction with respect to the columnar portion in plan view. The relative positional relationship between the color filter and the columnar portion is defined so that the blue portion of the color filter is located.
[0042]
According to this aspect, an operation failure of the electro-optical material such as a liquid crystal alignment failure occurs on the downstream side in the rubbing direction with respect to the columnar portion, but the influence of the operation failure constitutes a color filter. Among the colors, there is a blue portion that has the least effect on human vision. Therefore, visually, the adverse effect due to the presence of the columnar portion can be reduced. As a result, the width of the light shielding film that hides the vicinity of the columnar portion can be reduced, and a bright image display can be performed while maintaining image quality.
[0043]
In another aspect of the electro-optical device according to the aspect of the invention, the display electrode includes a pixel electrode, and at least one of the wiring and the electronic element includes a switching element for controlling switching of the pixel electrode, and a switching element. A data line for supplying an image signal to the pixel electrode via the pixel electrode; and a scanning line for driving the switching element.
[0044]
According to this aspect, for a switching element such as a TFT, an image signal is supplied to its source by a data line while a scanning signal is supplied to its gate by a scanning line, thereby driving the electro-optical device in an active matrix drive. It becomes possible.
[0045]
An electronic apparatus of the present invention includes the above-described electro-optical device (including various aspects thereof) of the present invention in order to solve the above-described problems.
[0046]
According to the electronic apparatus of the present invention, since the above-described electro-optical device of the present invention is provided, the gap between the substrates is controlled with high accuracy. Therefore, for both the transmissive display and the reflective display, the liquid crystal television, the mobile phone, the electronic organizer, the word processor, the view finder type or the monitor direct-view type video tape recorder, the workstation, the video phone, and the POS are excellent in display quality. Various electronic devices such as a terminal, a touch panel, and a projection display device can be realized.
[0047]
The operation and other advantages of the present invention will become more apparent from the embodiments explained below.
[0048]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following embodiments, the electro-optical device of the present invention is applied to a transflective liquid crystal device.
[0049]
(1st Embodiment)
First, the overall configuration of the electro-optical device according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. Here, as an example of the electro-optical device, a transflective liquid crystal device having a backlight and a driving circuit built-in TFT active matrix driving method is taken as an example.
[0050]
FIG. 1 is a plan view of a TFT array substrate together with components formed thereon viewed from a counter substrate side, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line HH ′ of FIG.
[0051]
1 and 2, in the electro-optical device according to the present embodiment, a TFT array substrate 10 and a counter substrate 20 are arranged to face each other. A liquid crystal layer 50 is sealed between the TFT array substrate 10 and the opposing substrate 20, and the TFT array substrate 10 and the opposing substrate 20 are separated from each other by a sealing material 52 provided in a sealing area located around the image display area 10a. Are adhered to each other.
[0052]
The sealing material 52 is made of, for example, an ultraviolet curable resin, a thermosetting resin, or the like, for bonding the two substrates, and is applied on the TFT array substrate 10 in a manufacturing process, and then cured by ultraviolet irradiation, heating, or the like. It is.
[0053]
In the present embodiment, in particular, a large number of columnar portions 520 are provided in the cell in which the liquid crystal layer 50 is sealed as a gap material for defining the gap between the substrates over the entire image display region 10a. However, in addition to such a columnar portion 520, a gap material such as glass fiber or glass beads may be sprayed in the sealing material 52. The columnar part 520 will be described later in detail.
[0054]
A light-shielding frame light-shielding film 53 that defines a frame area of the image display area 10a is provided on the counter substrate 20 side in parallel with the inside of the seal area in which the sealant 52 is disposed. However, part or all of such a frame light-shielding film may be provided as a built-in light-shielding film on the TFT array substrate 10 side.
[0055]
In a region extending around the image display region, a data line drive circuit 101 and an external circuit connection terminal 102 are provided along a side of the TFT array substrate 10 in a peripheral region located outside the seal region where the seal material 52 is disposed. The scanning line driving circuit 104 is provided along two sides adjacent to this one side. Further, on one remaining side of the TFT array substrate 10, a plurality of wirings 105 for connecting between the scanning line driving circuits 104 provided on both sides of the image display area 10a are provided. As shown in FIG. 1, upper and lower conductive members 106 functioning as upper and lower conductive terminals between the two substrates are arranged at four corners of the opposing substrate 20. On the other hand, the TFT array substrate 10 is provided with upper and lower conductive terminals in regions facing these corners. Thus, electrical continuity can be established between the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20.
[0056]
In FIG. 2, the TFT array substrate 10 includes a transparent second transparent substrate 202 made of a quartz plate, a glass plate, or the like as a substrate main body. On the second transparent substrate 202, TFTs for pixel switching, wiring such as scanning lines and data lines, and pixel electrodes 9a are formed, and an alignment film is formed on the uppermost layer. On the other hand, on the counter substrate 20, a transparent first transparent substrate 201 made of a quartz plate, a glass plate, or the like is provided as a substrate body thereof. On the first transparent substrate 201, a counter electrode 21 and a grid-like light-shielding film 23 are formed, and further, an alignment film is formed on the uppermost layer. The liquid crystal layer 50 is made of, for example, a liquid crystal in which one or several types of nematic liquid crystals are mixed, and takes a predetermined alignment state between the pair of alignment films.
[0057]
The counter substrate 20 further includes a polarizing plate 207 and a retardation plate 208 on the side of the first transparent substrate 201 opposite to the liquid crystal layer 50.
[0058]
The TFT array substrate 10 further includes a polarizing plate 217 and a retardation plate 218 on a side of the second transparent substrate 202 opposite to the liquid crystal layer 50. In addition, on the outside of the polarizing plate 217, a fluorescent tube 220 and a light guide plate 219 for guiding light from the fluorescent tube 220 from the polarizing plate 217 into the liquid crystal panel are provided. The light guide plate 219 is a transparent body such as an acrylic resin plate on which a rough surface for scattering is formed on the entire back surface or a printed layer for scattering is formed, and receives light of the fluorescent tube 220 as a light source at an end surface. Thus, substantially uniform light is emitted from the upper surface of the drawing. In FIG. 1, the fluorescent tube 220 externally attached to the TFT array substrate 10 is not shown for convenience of explanation.
[0059]
On the TFT array substrate 10 shown in FIGS. 1 and 2, in addition to the data line driving circuit 101 and the scanning line driving circuit 104, the image signal on the image signal line is sampled and supplied to the data line. Sampling circuit, a precharge circuit for supplying a precharge signal of a predetermined voltage level to a plurality of data lines prior to an image signal, for inspecting quality, defects, etc. of the electro-optical device during manufacturing or shipping. An inspection circuit or the like may be formed. Further, in this embodiment, instead of providing the data line driving circuit 101 and the scanning line driving circuit 104 on the TFT array substrate 10, for example, the driving LSI mounted on a TAB (Tape Automated Bonding) substrate is provided with a TFT array. The connection may be made electrically and mechanically via an anisotropic conductive film provided on the peripheral portion of the substrate 10.
[0060]
Next, the counter substrate 20 shown in FIG. 1 will be described in detail with reference to FIGS. Here, FIG. 3 is a partial plan view of the counter substrate 20, FIG. 4 is a sectional view taken along the line KK ′, and FIG. 5 is a partially enlarged view of FIG. In FIG. 4, the height direction is enlarged for understanding the thickness relationship. FIG. 4 shows the counter substrate 20 shown in FIG. 1 upside down, and the polarizing plate and the phase difference plate are omitted.
[0061]
As shown in FIGS. 3 to 5, the opposing substrate 20 forming an example of the “first substrate” according to the present invention includes a first transparent substrate 201, a light shielding film 23, a color filter 500, a step forming film 510, and an opposing electrode. 21, a columnar portion 520 and an alignment film 22.
[0062]
The light-shielding film 23 is formed on the first transparent substrate 201 in a lattice shape so as to define a non-opening area of each pixel in the image display area. The light shielding film 23 is formed from a metal such as Cr (chromium) and Ni (nickel). The wiring section and the element section formed on the TFT array substrate side described above are hidden by the light shielding film 23. That is, they are arranged in the non-opening area of each pixel. The light-shielding film 23 defines a non-opening area of each pixel, prevents light from leaking in a gap between the pixels, has a function of preventing color mixing in the color filter 500, and suppresses a temperature rise of the electro-optical device due to incident light. Has a function to prevent.
[0063]
The color filter 500 is provided in the image display area, is divided into red (R), green (G), and blue (B) in a matrix corresponding to each pixel. The color filter portion of each color is further divided into a dark portion formed in the transmissive display region and a light colored portion formed in the reflective display region. That is, the color filter 500 is constructed as a color filter of three colors of red, green, and blue × 2 = 6 colors.
[0064]
More specifically, in the color filter 500, the color filter portion RR is for reflection display of red (R), and the color filter portion TR is for transmission display of red (R). The color filter portion RG is for reflection display of green (G), and the color filter portion TG is for transmission display of green (G). The color filter portion RB is for reflection display of blue (B), and the color filter portion TB is for transmission display of blue (B). Among the color filter portions RR to TB, those for transmissive display have a wider chromaticity range so that about half the brightness can be obtained than those for reflective display.
[0065]
The color filter 500 is manufactured using photolithography such as a pigment dispersion method, and each of the color filter portions RR to TB is made of an organic insulating material such as acrylic. In this example, the color filter portions RR to TB are formed by changing the chromaticity range by changing the density or the pigment component with the same pigment, and the six color filter portions are mutually the same. It is a film thickness.
[0066]
The color filters 500 are arranged in a stripe pattern in FIG. 3, but may be arranged in a delta pattern, a mosaic pattern, a triangle pattern, or the like.
[0067]
The step forming film 510 is formed on the color filter portions RR, RG, and RB formed in the reflective display region as shown in FIG. 4, and has a planar shape of the left and right pixels as shown in FIG. Are formed in a stripe shape extending along the arrangement direction. The step forming film 510 directly defines the narrower first gap among the inter-substrate gaps in the electro-optical device configured by arranging the opposing substrate 20 to face the TFT array substrate 10 as described below. Of these, it has a height of about half of the wider two gaps. More specifically, the height of the step forming film 510 is, for example, about 2 to 4 μm, and is formed of a transparent organic insulating material such as acrylic.
[0068]
Of the regions in each pixel, the region present on the step portion or the bank portion which is relatively convex due to the formation of the stripe-shaped step forming film 510 in this manner is a reflection display region. The region at the flat portion or the bottom portion which is relatively concave due to the absence of the step forming film 510 is a region for transmissive display. That is, due to the presence of such a step, the polarization in the liquid crystal layer 50 is changed between the transmissive display in which the light source light passes through the liquid crystal layer 50 only once and the reflective display in which the external light passes through the liquid crystal layer 50 twice. It is possible to make the characteristics uniform. A region between the reflective display region and the transmissive display region is formed with a gentle slope, so that the rubbing treatment on the alignment film 22 can be performed well.
[0069]
The counter electrode 21 is formed of a transparent electrode film such as an ITO film over the entire surface of the step forming film 510 and the color filter 500.
[0070]
The columnar portion 520 is formed on the counter electrode 21 in a region where the step forming film 510 is formed. The columnar portion is formed, for example, one for every six color filters 500, that is, one for every three pixels. The height of the columnar part 520 is about half of the second gap, for example, about 2 to 4 μm, and is made of an organic insulating material such as acrylic. The columnar portion 520 has a columnar shape in this example. However, this may be, for example, an octagonal or hexagonal prism, or may be a streamlined shape in the rubbing direction in consideration of the rubbing treatment during the production process. The diameter of the columnar part 520 is, for example, about 10 to 15 μm. Since the columnar portion 520 is not transparent, it is preferably arranged in a non-opening region of each pixel. That is, it is hidden by the light shielding film 23 so as to be invisible to an observer during display.
[0071]
The alignment film 23 is formed over the entire surface of the columnar portion 520 and the counter electrode 21. The alignment film 23 is formed by, for example, applying an alignment film of a polyimide resin, baking, and then performing a rubbing process.
[0072]
As shown in FIG. 5, during the rubbing process, a region 570 of rubbing failure occurs on the downstream side in the rubbing direction 550 as viewed from the columnar portion 520. For example, assuming that the columnar portion 520 has a width of 10 to 15 μm and a height of 2 to 3 μm, the rubbing-defective region 570 has a height of 550 in the rubbing direction, which is about twice the height of the columnar portion. It occurs to have a length of 〜6 μm.
[0073]
Accordingly, as shown as a rubbing failure region 570 in FIG. 5, the width of the light shielding film 23 running in the horizontal direction is increased, and the position of the columnar portion 520 is closer to the transmissive display region from the center of the light shielding film 23 running in the horizontal direction. (Ie, upward in FIG. 5) by a distance S. This makes it easy to hide the rubbing-defective region 570 in the non-opening region of each pixel. Here, the distance S is the distance between the horizontal center line 565 of the columnar portion 520 and the center line 560 of the light shielding film 23 running in the horizontal direction.
[0074]
In addition, in the present embodiment, particularly, the rubbing direction 550 coincides with the direction toward the color filter portion RB. This is because the case where the alignment defect of the liquid crystal layer 50 generated in the region 570 of the rubbing defect caused by the columnar portion 520 occurs in the pixel of blue display is the most inconspicuous display.
[0075]
Next, the TFT array substrate 10 shown in FIG. 1 will be described in detail with reference to FIGS. Here, FIG. 6 is an equivalent circuit diagram of wiring, electronic elements, and the like formed on the TFT array substrate, FIG. 7 is a partial plan view of the TFT array substrate, and FIG. 8 is a partially enlarged view of FIG. FIG. 9 is a cross-sectional view of the electro-optical device taken along the line JJ ′ shown in FIG. In FIG. 9, the scale of each layer and each member is different in order to make each layer and each member have a size that can be recognized in the drawing.
[0076]
In FIG. 6, a plurality of pixels formed in a matrix and constituting an image display area of the electro-optical device according to the present embodiment are each provided with a pixel electrode 9a and a TFT 30 for controlling switching of the pixel electrode 9a. The data line 6a to which an image signal is supplied is electrically connected to the source of the TFT 30. The image signals S1, S2,..., Sn to be written to the data lines 6a may be supplied line-sequentially in this order, or may be supplied to a plurality of adjacent data lines 6a for each group. good. Also, the scanning line 3a is electrically connected to the gate of the TFT 30, and the scanning signals G1, G2,..., Gm are applied to the scanning line 3a in a pulsed manner in this order at a predetermined timing. It is configured. The pixel electrode 9a is electrically connected to the drain of the TFT 30. By closing the switch of the TFT 30, which is a switching element, for a predetermined period, the image signals S1, S2,... Write at a predetermined timing. The image signals S1, S2,..., Sn of a predetermined level written in the liquid crystal as an example of the electro-optical material via the pixel electrode 9a are transmitted between the counter electrode 21 (see FIG. 2) formed on the counter substrate 20. For a certain period. The liquid crystal modulates light by changing the orientation and order of the molecular assembly depending on the applied voltage level, thereby enabling gray scale display. In the normally white mode, the transmittance for the incident light decreases according to the voltage applied in each pixel unit, and in the normally black mode, the light enters according to the voltage applied in each pixel unit Light transmittance is increased, and light having a contrast corresponding to an image signal is emitted from the electro-optical device as a whole. Here, in order to prevent the held image signal from leaking, a storage capacitor 70 is added in parallel with the liquid crystal capacitor formed between the pixel electrode 9a and the counter electrode 21. The storage capacitor 70 includes a fixed-potential-side capacitor electrode that is part of the capacitor line 300, and a pixel-potential-side capacitor electrode connected to the drain side of the TFT 30 and the pixel electrode 9a.
[0077]
Next, as shown in FIGS. 7 and 8, transflective pixel electrodes 9 a are arranged in a matrix on the TFT array substrate 10, and a pixel region corresponding to the pixel electrode 9 a has a transmissive display. Area and a reflective display area. FIG. 7 corresponds to the plan view of the counter substrate 20 shown in FIG. 3, but is a plan view inverted left and right. That is, the two substrates are opposed to each other such that the line segment AB in FIG. 3 matches the line segment A′B ′ in FIG. In addition, in FIG. 7, in order to correspond to the six color filter portions RR to TB, respectively, they are displayed as color filter portions RR ′ to TB ′.
[0078]
As shown in an enlarged manner in FIG. 8, the TFT array substrate 10 is provided with a transflective pixel electrode 9a (the outline is indicated by a dotted line portion 9a '), and the vertical and horizontal pixel electrodes 9a are provided. A data line 6a and a scanning line 3a are provided along each of the boundaries. The hatched portion in FIG. 8 of the semiconductor layer 1a is the channel region 1a '. The angular gate electrode 405 is formed so as to protrude from the scanning line 3a in the channel region 1a 'so as to face the semiconductor layer 1a. Note that the gate electrode 405 may be integrally formed from the same conductive material as the scanning line 3a, or may be formed from another material. As described above, each pixel is provided with the pixel switching TFT 30 in which the gate electrode 405 connected to the scanning line 3a is opposed to the channel region 1a '.
[0079]
As shown in FIGS. 7 to 9, the storage capacitor 70 has a planar shape that is arranged so as to overlap the pixel electrode 9a. The pixel-potential-side capacitance electrode of the storage capacitor 70 includes a portion extending from the drain region 1e of the semiconductor layer 1a, and the fixed-side capacitance electrode extends from a capacitance line 300 arranged alongside the scanning line 3a. It consists of a part. The capacitance line 300 extends from the image display area 10a to the periphery thereof, is electrically connected to a constant potential source, and has a fixed potential. The drain region 1e of the semiconductor layer 1a is electrically connected to the pixel electrode 9a via the contact hole 83, the relay layer 71, and the contact hole 85. The source region 1d of the semiconductor layer 1a is connected to the data line 6a via a contact hole 81.
[0080]
As shown in FIG. 8, in the present embodiment, in particular, the area of the pixel corresponding to the pixel electrode 9a constituting an example of the transflective electrode is divided into a transmissive display area and a reflective display area. More specifically, the upper side of the KK ′ line in FIG. 8 is a reflective display area, and corresponds to the color filter portion RR ′. On the other hand, the lower side of the line KK ′ in FIG. 8 is a region for transmissive display, which corresponds to the color filter portion TR ′.
[0081]
As shown in FIGS. 8 and 9, a reflective film 430 made of an Al (aluminum) film having a large number of minute substantially hemispherical concave portions 420 formed on the surface of the pixel electrode 9a is provided in the reflective display area. It is laminated so as to overlap below. As a result, a reflective electrode is constructed from the pixel electrode 9a and the reflective film 430 in the reflective display area. Note that the concave portion 420 is for avoiding specular reflection, and may be a convex portion.
[0082]
On the TFT array substrate 10 side, a pixel electrode 9a, a TFT 30 connected to the pixel electrode 9a, and a wiring portion are provided so that the liquid crystal layer 50 can be driven in pixel units. On the opposing substrate 20 side, a transparent opposing electrode 21 which is entirely solid and faces the pixel electrode 9a is formed.
[0083]
A base insulating film 12 is provided below the pixel switching TFT 30. The base insulating film 12 has a function of interlayer insulating the TFT 30 from the lower light-shielding film 11a, and is also formed on the entire surface of the second transparent substrate 202, so that the surface thereof may be roughened at the time of polishing or stains remaining after cleaning. It has a function of preventing a characteristic change of the TFT 30 for pixel switching.
[0084]
In FIG. 9, the pixel switching TFT 30 has an LDD (Lightly Doped Drain) structure, and includes a gate 405, a channel region 1a 'of the semiconductor layer 1a in which a channel is formed by an electric field from the gate 405, and a gate 405. Film 2 including a gate insulating film for insulating the semiconductor layer 1a from the semiconductor layer 1a, a low-concentration source region 1b and a low-concentration drain region 1c of the semiconductor layer 1a, a high-concentration source region 1d and a high-concentration drain region 1e of the semiconductor layer 1a. ing. As described above, the gate 405 is connected to the scanning line 3a, the high-concentration source region 1d is connected to the data line 6a, and the high-concentration drain region 1e is connected to the pixel potential side capacitor electrode of the storage capacitor 70.
[0085]
The data line 6a is made of a low-resistance metal film such as Al or an alloy film such as metal silicide.
[0086]
A first interlayer insulating film 41 is formed on the scanning line 3a, the gate 405, and the capacitor line 300. In the first interlayer insulating film 41, a contact hole 81 leading to the high-concentration source region 1d and a contact hole 83 leading to the high-concentration drain region 1e are respectively formed.
[0087]
A relay layer 71 and a data line 6a are formed on the first interlayer insulating film 41, and a contact hole 85 and a concave portion 410 for scattering reflected light are formed on the relay layer 71 and the data line 6a. An interlayer insulating film 42 is formed. The concave portion 410 is formed in a region for reflective display and has a mortar shape. The inner diameter of the upper edge of the concave portion 410 is, for example, about 1 to 10 μm.
[0088]
On the second interlayer insulating layer 42, a third interlayer insulating film 43 in which a contact hole 85 is formed is formed. In the third interlayer insulating film 43, a substantially hemispherical concave portion 420 is formed due to the mortar-shaped concave portion 410 of the second interlayer insulating film 42. The pixel electrode 9a is formed on the upper surface of the third interlayer insulating film 43 configured as described above, and is connected to the relay layer 71 via the contact hole 85.
[0089]
On the upper side of the pixel electrode 9a, an alignment film 16 on which a predetermined alignment process such as a rubbing process is performed is provided. The alignment film 16 is made of, for example, an organic film such as a polyimide film. As described above, the pixel electrode 9a includes a reflective portion in which the reflective film 430 in the reflective display region is overlapped on the base side, and a transmissive portion in which the reflective film 430 in the transmissive display region is not overlapped. . Further, a large number of hemispherical concave portions 420 are formed in the reflective portion, and a reflective display that avoids specular reflection is possible.
[0090]
In FIG. 9, the polarizing plate 207 and the retardation plate 208 attached to the outer surface of the first transparent substrate 201 as shown in FIG. 2, and the polarizing plate 217 and the retardation plate 218 attached to the outer surface of the second transparent substrate 202 , The light guide plate 219 and the fluorescent tube 220 are omitted for simplification of description.
[0091]
Next, the operation of the transflective electro-optical device configured as described above will be described with reference to FIG.
[0092]
First, the reflection display will be described.
[0093]
In this case, in FIG. 2, when external light enters from the side of the polarizing plate 207 (that is, the upper side in FIG. 2), the polarizing plate 207, the phase difference plate 208, the transparent first substrate 201, the liquid crystal layer 50, and the like are moved. Through the pixel electrode 9a of the transflective type provided on the second substrate 202, the light is reflected by the reflective display region, and is colored to a predetermined color by the color filter 500 via the liquid crystal layer 50 and the like. The light is emitted from the polarizing plate 207 as reflected light having undergone color correction by the phase difference plate 208. Here, when an image signal is supplied from an external circuit to the data line 6a at a predetermined timing and a scanning signal is supplied to the scanning line 3a, an electric field corresponding to the image signal is applied to the liquid crystal layer 50 in the pixel electrode 9a. You. Therefore, by controlling the alignment state of the liquid crystal layer 50 on a pixel-by-pixel basis by the applied voltage, the amount of light emitted from the polarizing plate 207 is modulated, and a color gradation display becomes possible.
[0094]
Next, the transmissive display will be described.
[0095]
In this case, in FIG. 2, when light from the backlight 220 is incident from below the second substrate 202 via the light guide plate 219, the polarizing plate 217, and the like, the transmissive display type pixel electrode 9a of the transflective pixel electrode 9a is used. , Is colored in a predetermined color by the color filter 500, and is emitted from the polarizing plate 207 side as transmitted light that has been subjected to color correction by the retardation plate 208. Here, when an image signal is supplied from an external circuit to the data line 6a at a predetermined timing and a scanning signal is supplied to the scanning line 3a, an electric field corresponding to the image signal is applied to the liquid crystal layer 50 in the pixel electrode 9a. You. Therefore, by controlling the alignment state of the liquid crystal layer 50 on a pixel-by-pixel basis by the applied voltage, the amount of light emitted from the polarizing plate 207 is modulated, and a color gradation display becomes possible.
[0096]
As a result, according to the first embodiment, the polarization characteristics of the liquid crystal layer 50 can be made uniform between the transmissive display and the reflective display, and the coloring density of the color filter 500 can be made uniform. Become.
[0097]
In FIG. 2, for convenience of explanation, a retardation plate and a polarizing plate are disposed one by one on the outer surface side of the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20, respectively. The arrangement location, number of sheets, and the like depend on, for example, an operation mode such as a TN (Twisted Nematic) mode, a VA (Vertically Aligned) mode, a PDLC (Polymer Dispersed Liquid Crystal) mode, and a normally white mode / normally black mode. Thus, various modes can be adopted.
[0098]
(2nd Embodiment)
Next, the configuration and operation of the electro-optical device according to the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. Here, FIG. 10 is a partial plan view of the TFT array substrate, and FIG. 11 is a cross-sectional view of the electro-optical device when cut along the line LL ′ shown in FIG. 10 and 11, the same components as those in the first embodiment shown in FIGS. 1 to 9 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted as appropriate. In FIG. 11, the scale of each layer and each member is different so that each layer and each member have a size that can be recognized in the drawing.
[0099]
In the first embodiment, both the step forming film and the columnar portion are formed on the counter substrate side. In the second embodiment, however, the step forming film is formed on the counter substrate side and the TFT array substrate is formed. A columnar portion is formed.
[0100]
That is, as shown in FIGS. 10 and 11, the light-shielding film 23 and the columnar portion 520 are not formed on the counter substrate 20 'side. On the other hand, on the TFT array substrate 10 'side, a lattice-shaped light-shielding film 11a is formed in close contact with the second transparent substrate 202 in substantially the same plane area as the light-shielding film 23 in the first embodiment, and is formed thereon. A transparent base insulating film 12 is formed, and a TFT 30 and the like are further formed thereon. Then, a columnar portion 53 ′ is formed on the third interlayer insulating film 43 and under the alignment film 16. In addition, the rubbing direction 550 'with respect to the alignment film 16 shown in FIG. 10 is also defined such that the downstream side in the rubbing direction 550' is largely covered with the light shielding film 11a with respect to the columnar portion 520 '. The relative positional relationship between the rubbing direction 550 'and the color filter 500 is defined such that the blue color filter portion RB' is located downstream of the rubbing direction 550 'with reference to 520'. Other configurations and operations are the same as those of the first embodiment described with reference to FIGS.
[0101]
In the second embodiment, the light-shielding film 11a is formed on the side of the TFT array substrate 10 'where the columnar portions 520' exist. However, in the second embodiment, the light-shielding film 11a is formed similarly to the first embodiment. Instead of or in addition to the film 11a, a light-shielding film 23 may be formed on the counter substrate 20 'side.
[0102]
(Electronics)
Next, an example in which the transflective electro-optical device according to each of the above-described embodiments is used in an electronic device will be described with reference to FIGS.
[0103]
First, an example in which the above-described electro-optical device is applied to a display unit of a mobile computer will be described. FIG. 12 is a perspective view showing this configuration. 12, a computer 1200 includes a main body 1204 having a keyboard 1202, and a display device 1005 used as a display unit.
[0104]
Next, an example in which the above-described electro-optical device is applied to a display unit of a mobile phone will be described. FIG. 13 is a perspective view showing this configuration. In FIG. 13, a mobile phone 1250 includes the above-described electro-optical device as a display device 1005 in addition to a plurality of operation buttons 1252, an earpiece, and a mouthpiece.
[0105]
Next, a digital still camera using the above-described electro-optical device for a finder will be described. FIG. 14 is a perspective view showing this configuration from the back. The electro-optical device described above is provided as a display device 1005 on the back surface of the case 1302 in the digital still camera 1300, and a display is performed based on an imaging signal from a CCD 1304 provided on the front surface of the case 1302. That is, the display device 1005 functions as a finder for displaying the subject.
[0106]
In addition, as the electronic devices, in addition to these, a liquid crystal television, a viewfinder type, a video tape recorder of a monitor direct view type, a car navigation system, a pager, an electronic notebook, a calculator, a word processor, a workstation, a videophone, a POS terminal, a touch panel And the like.
[0107]
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be appropriately changed without departing from the gist or the idea of the invention which can be read from the claims and the entire specification, and the electro-optic with such changes The device and the electronic device are also included in the technical scope of the present invention.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a plan view of an electro-optical device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a sectional view taken along line HH ′ of FIG. 1;
FIG. 3 is a partial plan view of a counter substrate according to the embodiment.
FIG. 4 is a sectional view taken along line KK ′ of FIG. 3;
FIG. 5 is a partially enlarged view of FIG. 3;
FIG. 6 is an equivalent circuit diagram of wiring, electronic elements, and the like configured on a TFT array substrate according to the embodiment.
FIG. 7 is a partial plan view of the TFT array substrate according to the embodiment.
FIG. 8 is a partially enlarged view of FIG. 7;
9 is a cross-sectional view of the electro-optical device when cut along a line JJ ′ shown in FIG.
FIG. 10 is a partial plan view of the TFT array substrate according to the embodiment.
11 is a cross-sectional view of the electro-optical device when cut along the line LL ′ shown in FIG.
FIG. 12 is a perspective view showing a mobile computer as an example of an electronic apparatus to which the electro-optical device according to the embodiment is applied.
FIG. 13 is a perspective view showing a mobile phone as another example of the electronic apparatus to which the electro-optical device according to the embodiment is applied.
FIG. 14 is a perspective view illustrating a configuration of a digital still camera as another example of the electronic apparatus to which the electro-optical device according to the embodiment is applied.
[Explanation of symbols]
9a: Pixel electrode
10 ... TFT array substrate
20: Counter substrate
21 ... Transparent electrode
50 ... Liquid crystal layer
201: first transparent substrate
202: second transparent substrate
500 ... Color filter
510: Step forming film
520, 520 '... columnar part
550, 550 '... rubbing direction

Claims (16)

一対の第１及び第２基板間に電気光学物質層が挟持されてなり、
前記電気光学物質層が配置された画像表示領域における前記第２基板上に、透過表示用の領域及び反射表示用の領域を夫々有する複数の半透過反射型の表示用電極と、該表示用電極に画像信号を供給するための配線及び電子素子の少なくとも一方とを備えており、
前記画像表示領域における前記第１及び第２基板のいずれか一方上に、前記電気光学物質層に面する側の表面に立設されていると共に前記第１及び第２基板間のギャップを規定する柱状部を備えており、
前記第１及び第２基板の少なくとも一方における前記電気光学物質層に対向する側の表面には、前記反射表示用の領域を含む所定領域に凸状の段差部が形成されており、
前記柱状部は、前記段差部に対向する位置に配置されていることを特徴とする電気光学装置。An electro-optic material layer is sandwiched between the pair of first and second substrates,
A plurality of transflective display electrodes each having an area for transmissive display and an area for reflective display on the second substrate in the image display area where the electro-optical material layer is arranged; and the display electrode. Having at least one of a wiring and an electronic element for supplying an image signal to the
On the one of the first and second substrates in the image display area, the electro-optical material layer is erected on the surface facing the electro-optical material layer and defines a gap between the first and second substrates. It has a columnar part,
On at least one of the first and second substrates, a surface of the surface facing the electro-optical material layer is formed with a convex step in a predetermined region including the reflective display region,
The electro-optical device according to claim 1, wherein the columnar portion is disposed at a position facing the step portion. 前記第１及び第２基板の一方上に、前記段差部を少なくとも部分的に形成するための透明な段差形成膜を更に備えたことを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。2. The electro-optical device according to claim 1, further comprising a transparent step forming film on at least one of the first and second substrates for forming the step at least partially. 3. 前記段差部は、平面的に見て前記複数の表示用電極に跨って所定方向に延びていることを特徴とする請求項１又は２に記載の電気光学装置。The electro-optical device according to claim 1, wherein the step portion extends in a predetermined direction across the plurality of display electrodes when viewed in plan. 前記段差部は、前記第１基板に形成されており、
前記柱状部は、前記第１基板に形成されていることを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の電気光学装置。The step portion is formed on the first substrate,
4. The electro-optical device according to claim 1, wherein the columnar portion is formed on the first substrate. 5. 前記段差部は、前記第２基板に形成されており、
前記柱状部は、前記第１基板に形成されていることを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の電気光学装置。The step portion is formed on the second substrate,
4. The electro-optical device according to claim 1, wherein the columnar portion is formed on the first substrate. 5. 前記柱状部は、前記所定領域内における前記反射表示用の領域を外れた領域内で、前記段差部に対向する位置に配置されていることを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の電気光学装置。The said columnar part is arrange | positioned in the position which opposes the said step part in the area | region outside the area | region for the said reflective display in the said predetermined area | region, The Claim 1 characterized by the above-mentioned. An electro-optical device according to claim 1. 前記配線及び電子素子の少なくとも一方は、格子状又はストライプ状に平面配置されており、
前記柱状部は、前記段差部に対向する位置であって前記配線及び電子素子の少なくとも一方に対向する位置に配置されていることを特徴とする請求項１から６のいずれか一項に記載の電気光学装置。At least one of the wiring and the electronic element is arranged in a plane in a lattice shape or a stripe shape,
7. The column according to claim 1, wherein the columnar portion is arranged at a position facing the step portion and at least one of the wiring and the electronic element. 8. Electro-optical device. 前記段差部の少なくとも一部は、前記配線及び電子素子の少なくとも一方の存在によって形成されていることを特徴とする請求項１から７のいずれか一項に記載の電気光学装置。The electro-optical device according to claim 1, wherein at least a part of the step portion is formed by the presence of at least one of the wiring and the electronic element. 前記第１及び第２基板の少なくとも一方に、前記表示用電極に対向するカラーフィルタを更に備えており、
前記カラーフィルタの色は、前記透過表示用の領域における色度域が前記反射表示用の領域における色度域より広くなるように、相異なっていることを特徴とする請求項１から８のいずれか一項に記載の電気光学装置。At least one of the first and second substrates further includes a color filter facing the display electrode,
9. The color filter according to claim 1, wherein the colors of the color filters are different from each other such that a chromaticity range in the transmissive display region is wider than a chromaticity range in the reflective display region. The electro-optical device according to claim 1. 前記カラーフィルタは、前記透過表示用の領域における色材膜部分が、前記反射表示用の領域における色材膜部分よりも膜厚であるように構成されていることを特徴とする請求項９に記載の電気光学装置。10. The color filter according to claim 9, wherein the color material film portion in the transmissive display region is thicker than the color material film portion in the reflective display region. An electro-optical device according to claim 1. 前記カラーフィルタは、前記第１基板に設けられていることを特徴とする請求項９又は１０に記載の電気光学装置。The electro-optical device according to claim 9, wherein the color filter is provided on the first substrate. 前記第１及び第２基板のうち前記段差部が形成された方の基板上に、前記電気光学物質層に面する表面に塗布され且つラビングされた配向膜を更に備えており、
平面的に見て前記柱状部を基準として前記配向膜のラビング方向の下流側に向かって、前記段差部が延在していることを特徴とする請求項１から１１のいずれか一項に記載の電気光学装置。On the one of the first and second substrates on which the step portion is formed, further comprising an alignment film applied and rubbed on a surface facing the electro-optical material layer,
The step portion extends toward the downstream side in the rubbing direction of the alignment film with respect to the columnar portion when viewed in a plan view, the step portion extending as described in any one of claims 1 to 11. Electro-optical device. 前記第１及び第２基板の少なくとも一方に、前記配線及び電子素子の少なくとも一方を覆うと共に前記表示用電極の間隙を覆う遮光膜を更に備えており、
前記ラビング方向は、前記遮光膜の延びる方向に沿っていることを特徴とする請求項１２に記載の電気光学装置。At least one of the first and second substrates further includes a light-shielding film that covers at least one of the wiring and the electronic element and covers a gap between the display electrodes.
The electro-optical device according to claim 12, wherein the rubbing direction is along a direction in which the light shielding film extends. 前記第１及び第２基板のうち前記段差部が形成された方の基板上に、前記電気光学物質層に面する表面に塗布され且つラビングされた配向膜を備え、
前記第１及び第２基板の少なくとも一方に、前記表示用電極に対向するカラーフィルタを備え、
平面的に見て前記柱状部を基準としての前記ラビング方向の下流側には前記カラーフィルタのうち青色部分が位置するように、前記カラーフィルタ及び前記柱状部の相対的位置関係が規定されていることを特徴とする請求項１から８のいずれか一項に記載の電気光学装置。An alignment film applied and rubbed on a surface facing the electro-optical material layer on the one of the first and second substrates on which the stepped portion is formed,
A color filter facing the display electrode on at least one of the first and second substrates;
The relative positional relationship between the color filter and the columnar portion is defined such that the blue portion of the color filter is located on the downstream side in the rubbing direction with respect to the columnar portion when viewed in plan. The electro-optical device according to any one of claims 1 to 8, wherein: 前記表示用電極は、画素電極からなり、
前記配線及び電子素子の少なくとも一方は、前記画素電極をスイッチング制御するためのスイッチング素子と、該スイッチング素子を介して画像信号を前記画素電極に供給するためのデータ線と、前記スイッチング素子を駆動するための走査線とを含むことを特徴とする請求項１から１４のいずれか一項に記載の電気光学装置。The display electrode includes a pixel electrode,
At least one of the wiring and the electronic element drives a switching element for controlling switching of the pixel electrode, a data line for supplying an image signal to the pixel electrode via the switching element, and the switching element. The electro-optical device according to any one of claims 1 to 14, further comprising a scanning line. 請求項１から１５のいずれか一項に記載の電気光学装置を具備することを特徴とする電子機器。An electronic apparatus comprising the electro-optical device according to claim 1.
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006243587A (en) * 2005-03-07 2006-09-14 Toppan Printing Co Ltd Photosensitive composition and color filter substrate having optical path difference adjusting layer formed using this composition
JP2007114636A (en) * 2005-10-24 2007-05-10 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd Liquid crystal display device
JP2009122334A (en) * 2007-11-14 2009-06-04 Dainippon Printing Co Ltd Manufacturing method of color filter for semitransmission type liquid crystal display device
US7688408B2 (en) 2005-09-21 2010-03-30 Epson Imaging Devices Corporation Liquid crystal device and electronic apparatus
CN102830532A (en) * 2012-08-20 2012-12-19 北京京东方光电科技有限公司 Liquid-crystal display panel, liquid-crystal display device and manufacturing method
JP2016218476A (en) * 2011-03-02 2016-12-22 株式会社半導体エネルギー研究所 Display device

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006243587A (en) * 2005-03-07 2006-09-14 Toppan Printing Co Ltd Photosensitive composition and color filter substrate having optical path difference adjusting layer formed using this composition
US7688408B2 (en) 2005-09-21 2010-03-30 Epson Imaging Devices Corporation Liquid crystal device and electronic apparatus
JP2007114636A (en) * 2005-10-24 2007-05-10 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd Liquid crystal display device
JP2009122334A (en) * 2007-11-14 2009-06-04 Dainippon Printing Co Ltd Manufacturing method of color filter for semitransmission type liquid crystal display device
JP2016218476A (en) * 2011-03-02 2016-12-22 株式会社半導体エネルギー研究所 Display device
CN102830532A (en) * 2012-08-20 2012-12-19 北京京东方光电科技有限公司 Liquid-crystal display panel, liquid-crystal display device and manufacturing method
EP2700999A1 (en) * 2012-08-20 2014-02-26 Beijing Boe Optoelectronics Technology Co. Ltd. Liquid crystal display panel, method for fabricating the same and liquid crystal display device

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