JP4710935B2 - Electro-optical device and electronic apparatus - Google Patents

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Description

本発明は、例えば半透過反射型の液晶装置等の電気光学装置及びそのような電気光学装置を具備してなる電子機器の技術分野に属する。   The present invention belongs to a technical field of an electro-optical device such as a transflective liquid crystal device and an electronic apparatus including such an electro-optical device.

一般にこの種の電気光学装置は、例えば薄膜トランジスタ(以下適宜、TFT(Thin Film Transistor)と称す)駆動によるアクティブマトリクス駆動方式であれば、多数の画素電極及びこれをスイッチング制御するTFT並びにこれに接続され画像信号や走査信号を供給するデータ線、走査線等の配線などが設けられた素子アレイ基板と、これに対向配置される対向電極、カラーフィルタなどが設けられた対向基板とを備える。その動作時には、画素毎に画素電極及び対向電極間に駆動電圧を発生させる。この駆動電圧により、各電気光学物質部分を画素単位で駆動して、例えば液晶の配向状態を変化させて、表示動作を行うように構成されている。   In general, this type of electro-optical device is connected to a large number of pixel electrodes, a TFT for controlling the switching thereof, and a TFT, for example, in the case of an active matrix driving system driven by a thin film transistor (hereinafter referred to as TFT (Thin Film Transistor)). An element array substrate provided with data lines for supplying image signals and scanning signals, wiring lines such as scanning lines, and the like, and a counter substrate provided with a counter electrode, a color filter, and the like arranged opposite thereto are provided. During the operation, a drive voltage is generated between the pixel electrode and the counter electrode for each pixel. By this driving voltage, each electro-optical material portion is driven in units of pixels, and the display operation is performed, for example, by changing the alignment state of the liquid crystal.

従って、電気光学物質層の層厚を規定する両基板間の間隔(以下適宜、「基板間ギャップ」いは単に「ギャップ」いう)を正確に制御することは、表示動作を正確に行うために必要である。このため、例えば対角数インチから十数インチといった比較的大型の液晶表示装置では、液晶中に所定粒径のビーズ状或いはファイバ状のギャップ材を散布して、基板間ギャップを制御する。或いは、例えば対角数インチ以下といった小型の液晶表示装置では、両基板を貼り合せるシール材中に所定粒径のビーズ状或いはファイバ状のギャップ材を混合して、基板間ギャップを制御するのが一般的である。   Accordingly, to accurately control the distance between the two substrates that defines the thickness of the electro-optic material layer (hereinafter referred to as “inter-substrate gap” or simply “gap” as appropriate) is necessary. For this reason, in a relatively large liquid crystal display device having a diagonal size of several inches to several tens of inches, for example, a bead-like or fiber-like gap material having a predetermined particle diameter is dispersed in the liquid crystal to control the gap between the substrates. Alternatively, in a small liquid crystal display device having a diagonal size of several inches or less, for example, a gap material between beads and fibers having a predetermined particle diameter is mixed in a sealing material for bonding both substrates to control the gap between the substrates. It is common.

更に、特開平4−240622号公報、特開2000−19527号公報、特開2001−305552号公報等に開示されているように、素子アレイ基板或いは対向基板の表面に所定高さを有する微小な貝柱状或いは柱状のスペーサを多数形成して、これにより基板間ギャップを制御する技術も開発されている。   Further, as disclosed in JP-A-4-240622, JP-A-2000-19527, JP-A-2001-305552, and the like, a minute height having a predetermined height on the surface of the element array substrate or the counter substrate is disclosed. A technique for controlling a gap between substrates by forming a large number of shell pillars or pillar spacers has been developed.

他方、この種の電気光学装置では、明所では外光を用いた反射表示を行い、暗所では内蔵された光源或いはバックライトから発せられる光源光を用いて透過表示を行うという、これら両型の表示を切替可能な半透過反射型の電気光学装置も開発されている。係る半透過反射型の電気光学装置の場合には、反射表示時には、外光は電気光学物質層を2回通過するのに対して、透過表示時には、光源光は電気光学物質層を1回しか通過しない。ここで、両型の表示を適正に行うためには、電気光学物質層での偏光特性を揃えることが好ましく、このため、表示用の光が通過する電気光学物質層の合計厚さを、透過表示及び反射表示間で揃える技術が提案されている。具体的には、反射表示用の領域と透過表示用の領域とでは、前者における電気光学物質層の厚さ即ち基板間ギャップが、後者におけるそれの半分程度に設定される。   On the other hand, this type of electro-optical device performs reflective display using external light in a bright place and performs transmissive display using a built-in light source or light source emitted from a backlight in a dark place. A transflective electro-optical device that can switch the display is also developed. In such a transflective electro-optical device, external light passes through the electro-optical material layer twice during reflective display, whereas light source light passes through the electro-optical material layer only once during transmissive display. Do not pass. Here, in order to perform both types of display properly, it is preferable to align the polarization characteristics of the electro-optic material layer. For this reason, the total thickness of the electro-optic material layer through which the display light passes is set to be transparent. Techniques for aligning between display and reflection display have been proposed. Specifically, in the reflective display region and the transmissive display region, the thickness of the electro-optical material layer in the former, that is, the inter-substrate gap, is set to about half that in the latter.

しかしながら、上述した従来のビーズ状、ファイバー状のギャップ材を用いて基板間ギャップを制御する技術によれば、各画素の領域が二分された反射表示用の領域と透過表示用の領域とで、相異なる基板間ギャップを規定することは、技術的に困難である。   However, according to the technology for controlling the gap between the substrates using the above-described conventional bead-like or fiber-like gap material, the area of each pixel is divided into the area for reflection display and the area for transmission display. It is technically difficult to define different inter-substrate gaps.

更に、上述した従来の貝柱状或いは柱状のスペーサを用い基板間ギャップを制御する技術によっても、やはり各画素の領域が二分された反射表示用の領域と透過表示用の領域とで、相異なる基板間ギャップを規定することは、困難である。
より具体的には、二種類の高さのスペーサを形成すること自体の困難性に加えて、その上に形成される配向膜のラビング処理を二種類の高さのスペーサが存在する場合に、配向ムラを引き起こさないように行うことが技術的に困難となる。特に、広い方の基板間ギャップを制御する方の、例えば高さが4μ〜10μm程度である、より高い貝柱状或いは柱状のスペーサについては、その高さに応じて相当量のラビング不良が発生してしまい、これにより液晶の配向不良等の電気光学物質の動作不良が起こる。よって、高品位の画像表示が困難となる。或いは、各画素についてこのような動作不良が起こる領域を遮光膜で覆う必要により、表示画像が暗くなってしまうという技術的問題点が生じる。
In addition, the substrate for the reflective display area and the transmissive display area, each of which is divided into two, are divided by the technology for controlling the gap between the substrates using the conventional shell pillar-shaped or columnar spacers described above. It is difficult to define the gap.
More specifically, in addition to the difficulty of forming the two types of spacers themselves, the rubbing treatment of the alignment film formed thereon is performed when two types of spacers exist. It is technically difficult to carry out without causing alignment unevenness. In particular, for a larger shell columnar or columnar spacer that controls the wider gap between substrates, for example, about 4 μm to 10 μm, a considerable amount of rubbing failure occurs depending on the height. As a result, malfunction of the electro-optic material such as alignment failure of the liquid crystal occurs. Therefore, high-quality image display becomes difficult. Alternatively, there is a technical problem that a display image becomes dark because it is necessary to cover a region where such a malfunction occurs in each pixel with a light shielding film.

本発明は上記問題点に鑑みなされたものであり、例えば液晶の配向不良等の電気光学物質の動作不良が低減されており、透過表示及び反射表示のいずれの表示時にも高品位で且つ明るい画像表示が可能である半透過反射型の電気光学装置及びそのような電気光学装置を具備してなる電子機器を提供することを課題とする。   The present invention has been made in view of the above problems. For example, the malfunction of electro-optical materials such as liquid crystal alignment failure is reduced, and a high-quality and bright image can be displayed during both transmissive display and reflective display. It is an object of the present invention to provide a transflective electro-optical device capable of display and an electronic apparatus including such an electro-optical device.

本発明の電気光学装置は上記課題を解決するために、一対の第1基板及び第2基板と、複数の画素からなる画像表示領域と、前記第1基板及び第2基板のいずれか一方の基板上に、第1方向及び該第1方向と交差する第2方向に延在し、前記複数の画素間に格子状に設けられた遮光膜と、前記遮光膜上に、前記第1及び第2基板間のギャップを規定する柱状部と、前記柱状部を覆うように形成された配向膜とを備え、前記画素は、透過表示用の領域と反射表示用の領域とを有しており、前記反射表示用の領域における前記ギャップは、前記透過表示用の領域における前記ギャップより狭くされており、前記柱状部は、前記反射表示用の領域のギャップを規定するように配置されており、前記柱状部は、前記第1方向に延在する遮光膜と前記第2方向に延在する遮光膜との交差領域と重なると共に、当該柱状部を基準として前記配向膜のラビング方向の下流側に青色の画素の前記反射表示用の領域が位置するように配置される。

In order to solve the above problems, an electro-optical device according to an aspect of the invention includes a pair of a first substrate and a second substrate, an image display region including a plurality of pixels, and one of the first substrate and the second substrate. A light shielding film extending in a first direction and a second direction intersecting the first direction and provided in a lattice shape between the plurality of pixels; and the first and second light shielding films on the light shielding film. includes a columnar portion defining a gap between the substrates, and an alignment film formed to cover the columnar portion, wherein the pixel has a region for transmissive display and the region for reflective display, wherein The gap in the reflective display region is narrower than the gap in the transmissive display region, and the columnar portion is disposed so as to define the gap in the reflective display region. A light shielding film extending in the first direction and the first portion With overlaps and intersections of the light shielding film extending in a direction, a region for the reflection display of the blue pixels on the downstream side of the rubbing direction of the alignment layer as a reference the columnar portion are arranged so as to be located.

本発明の電気光学装置によれば、例えば素子アレイ基板からなる第2基板上には、複数の半透過反射型の表示用電極が備えられている。このような表示用電極は、画素毎に分断形成された画素電極でもよいし、ストライプ状電極或いはセグメント状電極でもよい。そして特に、各表示用電極は、透過表示用の領域及び反射表示用の領域を有する。例えば、各表示用電極は、各画素の片側半分や中央半分等を占める透過表示用の領域においては、ITO(Indium Tin Oxide:インジウム・ティン・オキサイド)等の透明導電膜からなり、それ以外の反射表示用の領域においては、係る透明導電膜にAl(アルミニウム)膜等の反射膜が積層されてなったり、或いはこのような反射膜単独からなる。当該電気光学装置の動作時には、このような表示用電極に、データ線等の配線や、TFT、TFD等の電子素子から画像信号が供給され、例えばアクティブマトリクス駆動、パッシブマトリクス駆動、セグメント駆動等により、例えば明所にて第1基板における電気光学物質層と反対側からの外光を用いて反射表示が可能とされ、暗所にて第2基板における電気光学物質層と反対側からの光源光を用いて透過表示が可能とされる。   According to the electro-optical device of the present invention, for example, a plurality of transflective display electrodes are provided on a second substrate formed of an element array substrate. Such a display electrode may be a pixel electrode divided for each pixel, or may be a striped electrode or a segmented electrode. In particular, each display electrode has a transmissive display region and a reflective display region. For example, each display electrode is made of a transparent conductive film such as ITO (Indium Tin Oxide) in the transmissive display region that occupies one half or the center half of each pixel, and the others. In the reflective display region, a reflective film such as an Al (aluminum) film is laminated on the transparent conductive film, or the reflective film is made of such a reflective film alone. During operation of the electro-optical device, image signals are supplied to such display electrodes from wiring such as data lines and electronic elements such as TFTs and TFDs. For example, active matrix driving, passive matrix driving, segment driving, etc. For example, reflection display is possible using external light from the side opposite to the electro-optic material layer in the first substrate in a bright place, and light source light from the side opposite to the electro-optic material layer in the second substrate in the dark place. Transparent display is possible using.

ここで、画像表示領域における第1及び第2基板のいずれか一方上には、柱状部が、電気光学物質層に面する側の表面に立設されている。即ち、柱状部が、ギャップ材として第1及び第2基板間のギャップを規定する。このような柱状部は、例えば円筒状、角柱状、円錐台状、角錐台状等の島状でもよいし、配線に沿って若干延びる十字状或いは長手状であってもよい。そして、第1及び第2基板の少なくとも一方における電気光学物質層に対向する側の表面には、反射表示用の領域を含む所定領域に凸状の段差部が形成されている。この際、好ましくは、凸状の段差部は、反射表示領域のみならず、実際に表示に寄与する光が透過或いは反射する各画素の開口領域以外の、配線や電子素子が形成された各画素の非開口領域、即ち各画素の開口領域の間隙となる領域にも延設されており、柱状部は、各画素の非開口領域における凸状の段差部に対向する位置に配置されている。いずれにせよ、柱状部は、凸状の段差部に対向する位置に配置されている。よって、凸状の段差部の高さを調整すると共に、ギャップ材としての柱状部の高さを調整することで、透過表示用の領域における電気光学物質層の層厚を、反射表示用の領域におけるそれよりも厚くでき、例えば2倍程度にすることも可能となる。即ち、反射表示用の領域で基板間ギャップを狭くできると同時に透過表示用の領域で基板間ギャップを広くできる。   Here, on one of the first and second substrates in the image display region, a columnar portion is erected on the surface facing the electro-optic material layer. That is, the columnar part defines a gap between the first and second substrates as a gap material. Such a columnar portion may be, for example, an island shape such as a cylindrical shape, a prismatic shape, a truncated cone shape, a truncated pyramid shape, or a cross shape or a longitudinal shape slightly extending along the wiring. A convex stepped portion is formed in a predetermined region including a reflective display region on the surface of at least one of the first and second substrates facing the electro-optic material layer. In this case, preferably, the convex stepped portion is not only the reflective display area, but each pixel in which wiring or electronic elements are formed other than the opening area of each pixel through which light that actually contributes to display is transmitted or reflected. The non-opening region, that is, a region serving as a gap between the open regions of the respective pixels, is extended, and the columnar portion is disposed at a position facing the convex stepped portion in the non-opened region of each pixel. In any case, the columnar part is disposed at a position facing the convex stepped part. Therefore, by adjusting the height of the convex stepped portion and adjusting the height of the columnar portion as the gap material, the layer thickness of the electro-optic material layer in the transmissive display region can be changed to the reflective display region. It is possible to make it thicker than that in the case of, for example, about twice. That is, the gap between the substrates can be narrowed in the reflective display region, and at the same time, the gap between the substrates can be widened in the transmissive display region.

そして特に、このような柱状部は、凸状の段差部に対向する位置に、即ち狭い方の基板間ギャップを規定するように配置されており、広い方の基板間ギャップに対応する相対的に凹状となる第1又は第2基板の表面には設けられていない。
この際、画素ピッチが、例えば数μから十数μm程度、或いは数百〜数千μmよりも小さい程度であれば、このように透過表示用の領域に対応する広い基板間ギャップを規定するギャップ材を設けなくとも、二種類の基板間ギャップを安定して規定できる。しかも、このように相対的に高さが低い柱状部であれば、当該電気光学装置の製造プロセス中に柱状部を形成した後に、配向膜を塗布し更にこれにラビング処理を行った際に、相対的に高さが高い柱状部を形成した場合と比較して、柱状部を基準としてラビング方向の下流側に広がるラビング不良の発生領域が小さくて済む。
In particular, such a columnar portion is arranged at a position facing the convex stepped portion, that is, so as to define a narrower inter-substrate gap, and relatively corresponds to the wider inter-substrate gap. It is not provided on the surface of the concave first or second substrate.
At this time, if the pixel pitch is, for example, about several μ to several tens of μm, or smaller than several hundred to several thousand μm, a gap that defines a wide inter-substrate gap corresponding to the transmissive display region in this way Even if no material is provided, the gap between the two types of substrates can be defined stably. In addition, if the columnar part has a relatively low height in this way, after forming the columnar part during the manufacturing process of the electro-optical device, when an alignment film is applied and further subjected to a rubbing treatment, Compared with the case where the columnar portion having a relatively high height is formed, the occurrence region of the rubbing failure spreading downstream in the rubbing direction with respect to the columnar portion may be small.

以上の結果、二種類の基板間ギャップにより反射表示及び透過表示間で電気光学物質層での偏光特性を揃えることが可能となる。しかも、反射表示時にも透過表示時にも、例えば液晶の配向不良等の電気光学物質の動作不良を低減できるので、最終的に高品位の画像表示が可能となり、更に電気光学物質の動作不良を隠すために遮光膜を形成する領域を狭められるので、明るい表示が可能となる。本発明の電気光学装置の一態様では、前記第1及び第2基板の一方上に、前記段差部を少なくとも部分的に形成するための透明な段差形成膜を更に備える。   As a result, the polarization characteristics in the electro-optic material layer can be made uniform between the reflective display and the transmissive display by the two kinds of inter-substrate gaps. In addition, it is possible to reduce malfunctions of the electro-optic material such as poor alignment of the liquid crystal in both the reflective display and the transmissive display, so that high-quality image display is finally possible, and further, the malfunction of the electro-optic material is hidden. Therefore, the area where the light shielding film is formed can be narrowed, so that bright display is possible. In one aspect of the electro-optical device of the present invention, the electro-optical device further includes a transparent step forming film for at least partially forming the step portion on one of the first and second substrates.

この態様によれば、例えば酸化シリコン膜等の透明な段差形成膜の存在によって、第1及び第2基板の一方上に、段差部を比較的容易に形成でき、更にその高さ制御も比較的容易にして高精度に行える。   According to this aspect, for example, a step portion can be formed on one of the first and second substrates relatively easily due to the presence of a transparent step forming film such as a silicon oxide film, and the height control can be relatively controlled. Easy and highly accurate.

本発明の電気光学装置の他の態様では、前記段差部は、平面的に見て前記複数の表示用電極に跨って所定方向に延びている。   In another aspect of the electro-optical device according to the aspect of the invention, the stepped portion extends in a predetermined direction across the plurality of display electrodes when seen in a plan view.

この態様によれば、段差部は、平面的に見て複数の表示用電極に跨って、例えば表示用電極の配列に沿った方向或いは走査線やデータ線等の配線に沿った方向に帯状に延びているので、各画素毎に分断して形成するよりも容易に形成でき、その平面パターンにおける寸法制御や高さ制御も高精度で行うことが可能となる。   According to this aspect, the stepped portion extends in a band shape across a plurality of display electrodes when viewed in a plan view, for example, in a direction along the array of display electrodes or in a direction along wiring such as a scanning line or a data line. Since it extends, it can be formed more easily than when divided for each pixel, and dimensional control and height control in the planar pattern can be performed with high accuracy.

但し、このような段差部は、画素毎に分断して形成されてもよい。   However, such a stepped portion may be formed by being divided for each pixel.

本発明の電気光学装置の他の態様では、前記段差部は、前記第1基板に形成されており、前記柱状部は、前記第1基板に形成されている。   In another aspect of the electro-optical device according to the aspect of the invention, the step portion is formed on the first substrate, and the columnar portion is formed on the first substrate.

この態様によれば、例えば対向基板である第1基板側に、段差部及び柱状部の両者を形成すればよいので、例えば素子アレイ基板であり製造が比較的困難である第2基板側の製造プロセスとは切り離して、これら段差部及び柱状部を形成できる。よって、全体として製造が容易となる。   According to this aspect, for example, both the stepped portion and the columnar portion need only be formed on the first substrate side which is the counter substrate, so that the second substrate side manufacturing which is an element array substrate and is relatively difficult to manufacture, for example. These stepped portions and columnar portions can be formed separately from the process. Therefore, manufacturing becomes easy as a whole.

或いは本発明の電気光学装置の他の態様では、前記段差部は、前記第2基板に形成されており、前記柱状部は、前記第1基板に形成されている。   Alternatively, in another aspect of the electro-optical device according to the aspect of the invention, the step portion is formed on the second substrate, and the columnar portion is formed on the first substrate.

この態様によれば、例えば対向基板である第1基板側に、柱状部を形成すればよいので、例えば素子アレイ基板であり製造が比較的困難である第2基板側の製造プロセスとは切り離して、柱状部を形成できる。更に、段差部については第2基板側に設けることで、第2基板を構成する配線や電子素子等の存在を利用して、段差部を少なくとも部分的に形成することが可能となる。   According to this aspect, for example, the columnar portion may be formed on the first substrate side which is the counter substrate, so that it is separated from the manufacturing process on the second substrate side which is an element array substrate and is relatively difficult to manufacture. A columnar part can be formed. Furthermore, by providing the stepped portion on the second substrate side, it becomes possible to form the stepped portion at least partially by utilizing the presence of wiring, electronic elements, etc. constituting the second substrate.

但し、これとは逆に、段差部が第1基板に形成され、柱状部が第2基板に形成されてもよいし、更に、段差部及び柱状部共に、第2基板に形成されてもよい。   However, on the contrary, the step portion may be formed on the first substrate, the columnar portion may be formed on the second substrate, and both the step portion and the columnar portion may be formed on the second substrate. .

本発明の電気光学装置の他の態様では、前記柱状部は、前記所定領域内における前記反射表示用の領域を外れた領域内で、前記段差部に対向する位置に配置されている。   In another aspect of the electro-optical device according to the aspect of the invention, the columnar portion is disposed at a position facing the step portion in a region outside the reflective display region in the predetermined region.

この態様によれば、柱状部は、例えば各画素の非開口領域などの、反射表示用の領域を外れた領域内に配置されているので、柱状部の存在が、反射表示の妨げとなる事態を未然防止できる。この場合、段差部を、平面的に見て各画素の開口領域にある反射表示領域から各画素の非開口領域に延設すればよい。   According to this aspect, the columnar part is arranged in an area outside the reflective display area, such as a non-opening area of each pixel, for example, so that the presence of the columnar part hinders the reflective display. Can be prevented. In this case, the stepped portion may be extended from the reflective display area in the opening area of each pixel to the non-opening area of each pixel when seen in a plan view.

本発明の電気光学装置の他の態様では、前記配線及び電子素子の少なくとも一方は、格子状又はストライプ状に平面配置されており、前記柱状部は、前記段差部に対向する位置であって前記配線及び電子素子の少なくとも一方に対向する位置に配置されている。   In another aspect of the electro-optical device according to the aspect of the invention, at least one of the wiring and the electronic element is planarly arranged in a lattice shape or a stripe shape, and the columnar portion is located at a position facing the stepped portion. It is arranged at a position facing at least one of the wiring and the electronic element.

この態様によれば、配線や電子素子が形成された各画素の間隙となる格子状の非開口領域内に、柱状部が配置されるので、柱状部の存在が、反射表示の妨げとなる事態を未然防止できると共に、柱状部の存在によって、各画素の開口領域を狭める事態も回避できる。   According to this aspect, since the columnar portion is arranged in the lattice-shaped non-opening region that becomes the gap between the pixels in which the wiring and the electronic element are formed, the presence of the columnar portion prevents the reflective display. Can be prevented, and the presence of the columnar portion can also avoid a situation where the opening area of each pixel is narrowed.

本発明の電気光学装置の他の態様では、前記段差部の少なくとも一部は、前記配線及び電子素子の少なくとも一方の存在によって形成されている。   In another aspect of the electro-optical device of the present invention, at least a part of the step portion is formed by the presence of at least one of the wiring and the electronic element.

この態様によれば、データ線、走査線、容量線等の各種配線や、TFT、TFD等の各種素子の存在を利用して、段差部を少なくとも部分的に形成するので、段差部を形成するために専用膜や専用工程を用いる場合と比較して、基板上の積層構造及び製造プロセスを簡略化可能となる。   According to this aspect, the step portion is formed at least partially using the presence of various wirings such as a data line, a scanning line, and a capacitance line, and various elements such as TFT and TFD. Therefore, the laminated structure on the substrate and the manufacturing process can be simplified as compared with the case where a dedicated film or a dedicated process is used.

本発明の電気光学装置の他の態様では、前記第1及び第2基板の少なくとも一方に、前記表示用電極に対向するカラーフィルタを更に備えており、前記カラーフィルタの色は、前記透過表示用の領域における色度域が前記反射表示用の領域における色度域より広くなるように、相異なっている。   In another aspect of the electro-optical device of the present invention, a color filter facing the display electrode is further provided on at least one of the first and second substrates, and the color of the color filter is for the transmissive display. The chromaticity regions in the regions are different from each other so as to be wider than the chromaticity regions in the reflective display region.

この態様によれば、カラーフィルタの色は、光源光がカラーフィルタを一度だけ通過する透過表示用の領域における色度域が、外光がカラーフィルタを往復で2度通過する反射表示用の領域における色度域より広いので、透過表示と反射表示との両者において、適切な色で表示できる。   According to this aspect, the color of the color filter is such that the chromaticity region in the transmissive display region in which the light source light passes through the color filter only once, and the reflective display region in which the external light passes through the color filter twice. Since it is wider than the chromaticity range, the display can be performed with an appropriate color in both the transmissive display and the reflective display.

このカラーフィルタに係る態様では、前記カラーフィルタは、前記透過表示用の領域における色材膜部分が、前記反射表示用の領域における色材膜部分よりも膜厚であるように構成されてもよい。   In this aspect of the color filter, the color filter may be configured such that the color material film portion in the transmissive display region is thicker than the color material film portion in the reflective display region. .

このように構成すれば、色材膜の膜厚を変えることで、比較的容易にして、透過表示用の領域における色度域が、反射表示用の領域における色度域よりも広くなるカラーフィルタを構築可能となる。例えば、透過表示用の領域における色材膜の膜厚を、反射表示用の領域におけるそれの2倍程度にすれば、透過表示と反射表示との両者において、適切な色で表示できる。   With this configuration, the color filter can be relatively easily changed by changing the film thickness of the color material film so that the chromaticity region in the transmissive display region is wider than the chromaticity region in the reflective display region. Can be constructed. For example, if the film thickness of the color material film in the transmissive display region is about twice that in the reflective display region, it is possible to display with appropriate colors in both the transmissive display and the reflective display.

但し、カラーフィルタは、透過表示用の領域における色材膜中の色材濃度が、反射表示用の領域における色材膜中の色材濃度よりも濃くなるように構成されてもよい。   However, the color filter may be configured such that the color material concentration in the color material film in the transmissive display region is higher than the color material concentration in the color material film in the reflective display region.

更にこのカラーフィルタに係る態様では、前記カラーフィルタは、前記第1基板に設けられてもよい。   Furthermore, in this aspect of the color filter, the color filter may be provided on the first substrate.

このように構成すれば、例えば対向基板である第1基板側に、カラーフィルタを形成すればよいので、例えば素子アレイ基板であり製造が比較的困難である第2基板側の製造プロセスとは切り離して、カラーフィルタを形成できる。   With this configuration, for example, a color filter may be formed on the side of the first substrate, which is the counter substrate, so that it is separated from the manufacturing process on the side of the second substrate, which is an element array substrate and is relatively difficult to manufacture. Thus, a color filter can be formed.

但し、カラーフィルタは、第2基板に形成されてもよい。   However, the color filter may be formed on the second substrate.

本発明の電気光学装置の他の態様では、前記第1及び第2基板のうち前記段差部が形成された方の基板上に、前記電気光学物質層に面する表面に塗布され且つラビングされた配向膜を更に備えており、平面的に見て前記柱状部を基準として前記配向膜のラビング方向の下流側に向かって、前記段差部が延在している。   In another aspect of the electro-optical device of the present invention, the surface of the first and second substrates on which the step portion is formed is applied and rubbed on the surface facing the electro-optical material layer. An alignment film is further provided, and the stepped portion extends toward the downstream side in the rubbing direction of the alignment film with respect to the columnar portion as viewed in plan.

この態様によれば、柱状部の存在によってラビング不良が発生する可能性が高いラビング方向の下流側に向かって、凸状の段差部が延在している。従って、このような段差部が延在していない場合と比較して、高さが相対的に低められた柱状部付近におけるラビング不良を低減できる。   According to this aspect, the convex stepped portion extends toward the downstream side in the rubbing direction where there is a high possibility that a rubbing failure will occur due to the presence of the columnar portion. Accordingly, it is possible to reduce the rubbing failure in the vicinity of the columnar portion whose height is relatively lowered as compared with the case where such a stepped portion does not extend.

この配向膜に係る態様では、前記第1及び第2基板の少なくとも一方に、前記配線及び電子素子の少なくとも一方を覆うと共に前記表示用電極の間隙を覆う遮光膜を更に備えており、前記ラビング方向は、前記遮光膜の延びる方向に沿っているように構成してもよい。   In this aspect of the alignment film, at least one of the first and second substrates further includes a light shielding film that covers at least one of the wiring and the electronic element and covers a gap between the display electrodes, and the rubbing direction. May be arranged along the direction in which the light shielding film extends.

このように構成すれば、柱状部の存在によってラビング不良が発生する可能性が高いラビング方向の下流側に向かって、遮光膜が延びている。従って、このような遮光膜が存在していない場合と比較して、柱状部付近における、例えば液晶の配向不良の如き電気光学物質の動作不良を、遮光膜によって効率良く隠すことが可能となる。逆に言えば、遮光膜により遮光すべき領域を小さくでき、これにより画像品位を低下させないようにしつつ各画素の開口領域を相対的に大きくすることが可能となる。   With this configuration, the light shielding film extends toward the downstream side in the rubbing direction where there is a high possibility that a rubbing failure will occur due to the presence of the columnar portion. Therefore, as compared with the case where such a light shielding film does not exist, it is possible to efficiently hide the malfunction of the electro-optical material such as a liquid crystal alignment defect in the vicinity of the columnar portion by the light shielding film. In other words, it is possible to reduce the area to be shielded by the light shielding film, thereby making it possible to relatively increase the opening area of each pixel without degrading the image quality.

本発明の電気光学装置の他の態様では、前記第1及び第2基板のうち前記段差部が形成された方の基板上に、前記電気光学物質層に面する表面に塗布され且つラビングされた配向膜を備え、前記第1及び第2基板の少なくとも一方に、前記表示用電極に対向するカラーフィルタを備え、平面的に見て前記柱状部を基準としての前記ラビング方向の下流側には前記カラーフィルタのうち青色部分が位置するように、前記カラーフィルタ及び前記柱状部の相対的位置関係が規定されている。   In another aspect of the electro-optical device of the present invention, the surface of the first and second substrates on which the step portion is formed is applied and rubbed on the surface facing the electro-optical material layer. An alignment film, and a color filter facing the display electrode on at least one of the first and second substrates, and on the downstream side in the rubbing direction with respect to the columnar portion in plan view. The relative positional relationship between the color filter and the columnar part is defined so that the blue portion of the color filter is located.

この態様によれば、柱状部を基準としてのラビング方向の下流側には、例えば液晶の配向不良の如き電気光学物質の動作不良が発生するが、当該動作不良の影響が、カラーフィルタを構成する色の中で、人間の視覚に対して最も影響を与え難い青色の部分が位置する。よって、視覚上は、柱状部の存在による悪影響を低減できる。この結果、柱状部の付近を隠す遮光膜の幅を狭く出来き、画像品位を維持しつつ明るい画像表示を行える。   According to this aspect, an operation failure of the electro-optical material such as liquid crystal alignment failure occurs on the downstream side in the rubbing direction with respect to the columnar portion, and the influence of the operation failure constitutes the color filter. Among the colors, there is a blue portion that hardly affects human vision. Therefore, visually, adverse effects due to the presence of the columnar part can be reduced. As a result, the width of the light-shielding film that hides the vicinity of the columnar portion can be reduced, and a bright image display can be performed while maintaining image quality.

本発明の電気光学装置の他の態様では、前記表示用電極は、画素電極からなり、前記配線及び電子素子の少なくとも一方は、前記画素電極をスイッチング制御するためのスイッチング素子と、該スイッチング素子を介して画像信号を前記画素電極に供給するためのデータ線と、前記スイッチング素子を駆動するための走査線とを含む。   In another aspect of the electro-optical device according to the aspect of the invention, the display electrode includes a pixel electrode, and at least one of the wiring and the electronic element includes a switching element for controlling the switching of the pixel electrode, and the switching element. And a data line for supplying an image signal to the pixel electrode, and a scanning line for driving the switching element.

この態様によれば、例えばTFTであるスイッチング素子に対して、データ線により画像信号をそのソースに供給しつつ走査線により走査信号をそのゲートに供給することによって、当該電気光学装置をアクティブマトリクス駆動可能となる。   According to this aspect, the electro-optical device is driven in an active matrix by supplying a scanning signal to the gate of the switching element, such as a TFT, while supplying an image signal to the source of the data line. It becomes possible.

本発明の電子機器は上記課題を解決するために、上述した本発明の電気光学装置(但し、その各種態様を含む)を具備する。   In order to solve the above problems, an electronic apparatus according to the present invention includes the above-described electro-optical device according to the present invention (including various aspects thereof).

本発明の電子機器によれば、上述した本発明の電気光学装置を具備するので、基板間ギャップが高精度で制御されている。このため、透過表示及び反射表示の両方の表示について、表示品質に優れた、液晶テレビ、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネル、投射型表示装置などの各種電子機器を実現できる。   According to the electronic apparatus of the present invention, since the electro-optical device of the present invention described above is included, the inter-substrate gap is controlled with high accuracy. Therefore, for both transmissive display and reflective display, liquid crystal televisions, mobile phones, electronic notebooks, word processors, viewfinder type or monitor direct view type video tape recorders, workstations, video phones, POSs, which have excellent display quality. Various electronic devices such as a terminal, a touch panel, and a projection display device can be realized.

本発明のこのような作用及び他の利得は次に説明する実施の形態から明らかにされる。   Such an operation and other advantages of the present invention will become apparent from the embodiments described below.

以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。以下の実施形態は、本発明の電気光学装置を、半透過反射型の液晶装置に適用したものである。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following embodiments, the electro-optical device of the present invention is applied to a transflective liquid crystal device.

(第1実施形態)
先ず、本発明の第1実施形態における電気光学装置の全体構成について、図1及び図2を参照して説明する。ここでは、電気光学装置の一例として、バックライトを備えており駆動回路内蔵型のTFTアクティブマトリクス駆動方式の半透過反射型の液晶装置を例にとる。
(First embodiment)
First, the overall configuration of the electro-optical device according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 and 2. Here, as an example of an electro-optical device, a transflective liquid crystal device having a backlight and a built-in driving circuit type TFT active matrix driving method is taken as an example.

図1は、TFTアレイ基板をその上に形成された各構成要素と共に対向基板の側から見た平面図であり、図2は、図1のH−H’断面図である。   FIG. 1 is a plan view of a TFT array substrate as viewed from the counter substrate side together with the components formed thereon, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line H-H ′ of FIG. 1.

図1及び図2において、本実施形態に係る電気光学装置では、TFTアレイ基板10と対向基板20とが対向配置されている。TFTアレイ基板10と対向基板20との間に液晶層50が封入されており、TFTアレイ基板10と対向基板20とは、画像表示領域10aの周囲に位置するシール領域に設けられたシール材52により相互に接着されている。   1 and 2, in the electro-optical device according to the present embodiment, a TFT array substrate 10 and a counter substrate 20 are disposed to face each other. A liquid crystal layer 50 is sealed between the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20, and the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20 are provided with a sealing material 52 provided in a seal region positioned around the image display region 10a. Are bonded to each other.

シール材52は、両基板を貼り合わせるための、例えば紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂等からなり、製造プロセスにおいてTFTアレイ基板10上に塗布された後、紫外線照射、加熱等により硬化させられたものである。   The sealing material 52 is made of, for example, an ultraviolet curable resin, a thermosetting resin, or the like for bonding the two substrates, and is applied on the TFT array substrate 10 in the manufacturing process and then cured by ultraviolet irradiation, heating, or the like. It is.

本実施形態では特に、画像表示領域10aの全域に渡って、基板間ギャップを規定するギャップ材として多数の柱状部520が、液晶層50が封入されたセル内に設けられている。但し、このような柱状部520に加えて、シール材52中に、グラスファイバ或いはガラスビーズ等のギャップ材を散布してもよい。柱状部520については、後で詳述する。   Particularly in the present embodiment, a large number of columnar portions 520 are provided in a cell in which the liquid crystal layer 50 is sealed, as a gap material that defines the gap between the substrates over the entire area of the image display region 10a. However, a gap material such as glass fiber or glass beads may be dispersed in the sealing material 52 in addition to the columnar portion 520. The columnar portion 520 will be described in detail later.

シール材52が配置されたシール領域の内側に並行して、画像表示領域10aの額縁領域を規定する遮光性の額縁遮光膜53が、対向基板20側に設けられている。但し、このような額縁遮光膜の一部又は全部は、TFTアレイ基板10側に内蔵遮光膜として設けられてもよい。   A light-shielding frame light-shielding film 53 that defines the frame area of the image display area 10a is provided on the counter substrate 20 side in parallel with the inside of the seal area where the sealing material 52 is disposed. However, a part or all of such a frame light shielding film may be provided as a built-in light shielding film on the TFT array substrate 10 side.

画像表示領域の周辺に広がる領域のうち、シール材52が配置されたシール領域の外側に位置する周辺領域には、データ線駆動回路101及び外部回路接続端子102がTFTアレイ基板10の一辺に沿って設けられており、走査線駆動回路104が、この一辺に隣接する2辺に沿って設けられている。更にTFTアレイ基板10の残る一辺には、画像表示領域10aの両側に設けられた走査線駆動回路104間をつなぐための複数の配線105が設けられている。また図1に示すように、対向基板20の4つのコーナー部には、両基板間の上下導通端子として機能する上下導通材106が配置されている。他方、TFTアレイ基板10にはこれらのコーナーに対向する領域において上下導通端子が設けられている。これらにより、TFTアレイ基板10と対向基板20との間で電気的な導通をとることができる。   In the peripheral area located outside the sealing area where the sealing material 52 is arranged, the data line driving circuit 101 and the external circuit connection terminal 102 extend along one side of the TFT array substrate 10 in the area extending around the image display area. The scanning line driving circuit 104 is provided along two sides adjacent to the one side. Further, on the remaining side of the TFT array substrate 10, a plurality of wirings 105 are provided for connecting between the scanning line driving circuits 104 provided on both sides of the image display region 10a. As shown in FIG. 1, vertical conduction members 106 functioning as vertical conduction terminals between the two substrates are arranged at the four corners of the counter substrate 20. On the other hand, the TFT array substrate 10 is provided with vertical conduction terminals in a region facing these corners. Thus, electrical conduction can be established between the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20.

図2において、TFTアレイ基板10は、その基板本体として、石英板、ガラス板等からなる透明な第2透明基板202を備えてなる。第2透明基板202の上には、画素スイッチング用のTFTや走査線、データ線等の配線、画素電極9aが形成され、更にその最上層部分に配向膜が形成されている。他方、対向基板20上は、その基板本体として、石英板、ガラス板等からなる透明な第1透明基板201を備えてなる。第1透明基板201上には、対向電極21及び格子状の遮光膜23が形成されており、更にその最上層部分に配向膜が形成されている。
また、液晶層50は、例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合した液晶からなり、これら一対の配向膜間で、所定の配向状態をとる。
In FIG. 2, the TFT array substrate 10 includes a transparent second transparent substrate 202 made of a quartz plate, a glass plate or the like as the substrate body. On the second transparent substrate 202, pixel switching TFTs, wiring lines such as scanning lines and data lines, and pixel electrodes 9a are formed, and an alignment film is further formed on the uppermost layer portion. On the other hand, on the counter substrate 20, a transparent first transparent substrate 201 made of a quartz plate, a glass plate or the like is provided as the substrate body. On the 1st transparent substrate 201, the counter electrode 21 and the grid | lattice-like light shielding film 23 are formed, and also the alignment film is formed in the uppermost layer part.
Further, the liquid crystal layer 50 is made of, for example, a liquid crystal in which one or several types of nematic liquid crystals are mixed, and takes a predetermined alignment state between the pair of alignment films.

対向基板20は更に、第1透明基板201における液晶層50と反対側には、偏光板207及び位相差板208を備えて構成されている。   The counter substrate 20 further includes a polarizing plate 207 and a retardation plate 208 on the opposite side of the first transparent substrate 201 from the liquid crystal layer 50.

TFTアレイ基板10は更に、第2透明基板202における液晶層50と反対側に、偏光板217及び位相差板218を備える。加えて、偏光板217の外側に、蛍光管220と蛍光管220からの光を偏光板217から液晶パネル内に導くための導光板219とを備えて構成されている。導光板219は、裏面全体に散乱用の粗面が形成され、或いは散乱用の印刷層が形成されたアクリル樹脂板などの透明体であり、光源である蛍光管220の光を端面にて受けて、図の上面からほぼ均一な光を放出するようになっている。尚、図1では説明の便宜上、このようなTFTアレイ基板10に対して外付けされる蛍光管220の図示を省略してある。   The TFT array substrate 10 further includes a polarizing plate 217 and a retardation plate 218 on the opposite side of the second transparent substrate 202 from the liquid crystal layer 50. In addition, a fluorescent tube 220 and a light guide plate 219 for guiding light from the fluorescent tube 220 from the polarizing plate 217 into the liquid crystal panel are provided outside the polarizing plate 217. The light guide plate 219 is a transparent body such as an acrylic resin plate having a rough surface for scattering formed on the entire back surface or a printed layer for scattering, and receives light from the fluorescent tube 220 serving as a light source at the end surface. Thus, almost uniform light is emitted from the upper surface of the figure. In FIG. 1, the fluorescent tube 220 externally attached to the TFT array substrate 10 is omitted for convenience of explanation.

尚、図1及び図2に示したTFTアレイ基板10上には、これらのデータ線駆動回路101、走査線駆動回路104等に加えて、画像信号線上の画像信号をサンプリングしてデータ線に供給するサンプリング回路、複数のデータ線に所定電圧レベルのプリチャージ信号を画像信号に先行して各々供給するプリチャージ回路、製造途中や出荷時の当該電気光学装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路等を形成してもよい。更に、本実施形態では、データ線駆動回路101や走査線駆動回路104をTFTアレイ基板10の上に設ける代わりに、例えばTAB(Tape Automated bonding)基板上に実装された駆動用LSIに、TFTアレイ基板10の周辺部に設けられた異方性導電フィルムを介して電気的及び機械的に接続するようにしてもよい。   In addition to the data line driving circuit 101, the scanning line driving circuit 104, and the like, the image signal on the image signal line is sampled and supplied to the data line on the TFT array substrate 10 shown in FIGS. Sampling circuit, precharge circuit for supplying a precharge signal of a predetermined voltage level to a plurality of data lines in advance of an image signal, for inspecting the quality, defects, etc. of the electro-optical device during production or at the time of shipment An inspection circuit or the like may be formed. Further, in this embodiment, instead of providing the data line driving circuit 101 and the scanning line driving circuit 104 on the TFT array substrate 10, for example, a TFT array is mounted on a driving LSI mounted on a TAB (Tape Automated Bonding) substrate. You may make it connect electrically and mechanically via the anisotropic conductive film provided in the peripheral part of the board | substrate 10. FIG.

次に図3から図5を参照して、図1に示した対向基板20について詳細に説明する。ここに、図3は、対向基板20の部分平面図であり、図4は、そのK−K’断面図であり、図5は、図3の部分拡大図である。尚、図4において、厚み関係の理解のため、高さ方向を拡大してある。また、図4は、図1に示した対向基板20を上下逆転して示したものであり、偏光板及び位相差板ついては省略してある。   Next, the counter substrate 20 shown in FIG. 1 will be described in detail with reference to FIGS. 3 is a partial plan view of the counter substrate 20, FIG. 4 is a K-K ′ sectional view thereof, and FIG. 5 is a partially enlarged view of FIG. In FIG. 4, the height direction is enlarged to understand the thickness relationship. FIG. 4 shows the counter substrate 20 shown in FIG. 1 upside down, and the polarizing plate and the retardation plate are omitted.

図3から図5に示すように、本発明に係る「第1基板」の一例を構成する対向基板20は、第1透明基板201、遮光膜23、カラーフィルタ500、段差形成膜510、対向電極21、柱状部520及び配向膜22から構成されている。   As shown in FIGS. 3 to 5, the counter substrate 20 constituting an example of the “first substrate” according to the present invention includes a first transparent substrate 201, a light shielding film 23, a color filter 500, a step forming film 510, a counter electrode. 21, a columnar portion 520, and an alignment film 22.

遮光膜23は、画像表示領域内において各画素の非開口領域を規定すべく格子状に、第1透明基板201上に形成されている。遮光膜23は、例えばCr(クロム)、Ni(ニッケル)等の金属から形成されている。前述したTFTアレイ基板側に形成される配線部や素子部は、遮光膜23によって隠される。即ち、各画素の非開口領域内に配置される。遮光膜23は、各画素の非開口領域を規定すると共に各画素の間隙における光抜けを防止し、更にカラーフィルタ500における混色防止の機能を有すると共に入射光に起因する電気光学装置の温度上昇を防ぐ機能を有する。   The light shielding film 23 is formed on the first transparent substrate 201 in a lattice shape so as to define a non-opening region of each pixel in the image display region. The light shielding film 23 is made of a metal such as Cr (chromium) or Ni (nickel). The wiring part and the element part formed on the TFT array substrate side are hidden by the light shielding film 23. That is, it is arranged in the non-opening region of each pixel. The light shielding film 23 defines a non-opening region of each pixel and prevents light leakage in the gaps between the pixels. Further, the light shielding film 23 has a function of preventing color mixing in the color filter 500 and also increases the temperature of the electro-optical device due to incident light. Has a function to prevent.

カラーフィルタ500は、画像表示領域内に設けられており、各画素に対応してマトリクス状に、赤(R)、緑(G)及び青(B)に分けられており、更に各画素内において各色のカラーフィルタ部分は、更に、透過表示用の領域に形成された色が濃い部分と反射表示用の領域に形成された色が薄い部分とに分けられている。即ち、カラーフィルタ500は、赤、緑、青3色×2=6色のカラーフィルタとして構築されている。   The color filter 500 is provided in the image display area, and is divided into red (R), green (G), and blue (B) in a matrix corresponding to each pixel. The color filter portion of each color is further divided into a dark portion formed in the transmissive display region and a light portion formed in the reflective display region. That is, the color filter 500 is constructed as a color filter of 3 colors × 2 = 6 colors of red, green, and blue.

より具体的には、カラーフィルタ500において、カラーフィルタ部分RRは、赤色(R)の反射表示用であり、カラーフィルタ部分TRは、赤色(R)の透過表示用である。カラーフィルタ部分RGは、緑色(G)の反射表示用であり、カラーフィルタ部分TGは、緑色(G)の透過表示用である。カラーフィルタ部分RBは、青色(B)の反射表示用であり、カラーフィルタ部分TBは、青色(B)の透過表示用である。これらのカラーフィルタ部分RR〜TBのうち透過表示用のものは、反射表示用のものよりも、約半分の明るさが得られるように色度域としては広くなっている。   More specifically, in the color filter 500, the color filter portion RR is for red (R) reflective display, and the color filter portion TR is for red (R) transmissive display. The color filter portion RG is for green (G) reflective display, and the color filter portion TG is for green (G) transmissive display. The color filter portion RB is for blue (B) reflective display, and the color filter portion TB is for blue (B) transmissive display. Among these color filter portions RR to TB, those for transmissive display have a wider chromaticity range so that about half the brightness can be obtained than those for reflective display.

カラーフィルタ500は、顔料分散法などのフォトリソグラフィを用いて製造され、各カラーフィルタ部分RR〜TBは、アクリル等の有機絶縁材料で作られる。各カラーフィルタ部分RR〜TBは、本例では、同一顔料で濃度を変える又は顔料成分を変えることにより、色度域を変えて形成されており、6色のカラーフィルタ部分は、相互に同一の膜厚となっている。   The color filter 500 is manufactured using photolithography such as a pigment dispersion method, and each of the color filter portions RR to TB is made of an organic insulating material such as acrylic. In this example, the color filter portions RR to TB are formed by changing the chromaticity range by changing the density or changing the pigment component with the same pigment, and the six color filter portions are the same as each other. It is a film thickness.

カラーフィルタ500は、図3では、ストライプ配列とされているが、その他に、デルタ配列、モザイク配列、トライアングル配列等で配列されてもよい。   In FIG. 3, the color filter 500 has a stripe arrangement, but may be arranged in a delta arrangement, a mosaic arrangement, a triangle arrangement, or the like.

段差形成膜510は、図4に示すように反射表示用の領域に形成されたカラーフィルタ部分RR、RG及びRB上に形成されており、その平面形状が、図3に示すように左右の画素の配列方向に沿って延びるストライプ状に形成されている。段差形成膜510は、後述の如く対向基板20をTFTアレイ基板10と対向配置して構成された電気光学装置における基板間ギャップのうち狭い方の第1ギャップを直接的に規定するものであり、これらのうち広い方の2ギャップの半分程度の高さを有する。より具体的には、段差形成膜510の高さは、例えば、2〜4μm程度であり、アクリル等の透明有機絶縁材料で形成されている。   The step forming film 510 is formed on the color filter portions RR, RG, and RB formed in the reflective display region as shown in FIG. 4, and the planar shape thereof is the right and left pixels as shown in FIG. It is formed in a stripe shape extending along the arrangement direction. The step forming film 510 directly defines the narrower first gap among the inter-substrate gaps in the electro-optical device configured by disposing the counter substrate 20 opposite to the TFT array substrate 10 as described later. Of these, the height is about half of the wider two gaps. More specifically, the height of the step forming film 510 is about 2 to 4 μm, for example, and is formed of a transparent organic insulating material such as acrylic.

各画素内の領域のうち、このようにストライプ状の段差形成膜510が形成されることで相対的に凸状とされた段差部或いは土手部の上に存在する領域は、反射表示領域とされており、段差形成膜510が形成されないことで相対的に凹状とされた平坦部或いは底部にある領域は、透過表示用の領域とされている。即ち、このような段差部の存在によって、光源光が1回だけ液晶層50を通過する透過表示と、外光が2回液晶層50を通過する反射表示との間で、液晶層50における偏光特性を揃えることが可能とされている。これらの反射表示用の領域と透過表示用の領域との間の領域には、なだらかなスロープで形成されており、配向膜22に対するラビング処理を良好に施すことが可能とされている。   Of the regions in each pixel, the region present on the stepped portion or bank portion that is relatively convex by forming the stripe-shaped step forming film 510 in this manner is a reflective display region. In addition, the flat portion or the bottom portion, which is relatively concave because the step forming film 510 is not formed, is a transmissive display region. That is, due to the presence of such a stepped portion, the polarization in the liquid crystal layer 50 is between the transmissive display in which the light source light passes through the liquid crystal layer 50 only once and the reflective display in which the external light passes through the liquid crystal layer 50 twice. It is possible to align the characteristics. A region between the reflective display region and the transmissive display region is formed with a gentle slope, and the alignment film 22 can be satisfactorily rubbed.

対向電極21は、段差形成膜510及びカラーフィルタ500上の全面に渡って、ITO膜等の透明電極膜から形成されている。   The counter electrode 21 is formed of a transparent electrode film such as an ITO film over the entire surface of the step forming film 510 and the color filter 500.

柱状部520は、対向電極21上であって、段差形成膜510の形成された領域内に形成されている。柱状部は、例えば、6色分のカラーフィルタ500部分に対して1個、つまり3画素に1個の割合で形成されている。柱状部520の高さは、第2ギャップの半分程度で例えば2〜4μm程度であり、アクリル等の有機絶縁材料から形成されている。柱状部520は、本例では、円柱の形状を有する。但し、これは、例えば八角や六角の角柱でもよく、また製造プロセル中のラビング処理を考慮して、ラビング方向に流線型をした形状でもよい。柱状部520の径は、例えば10〜15μm程度である。柱状部520は、透明ではないので、好ましくは、各画素の非開口領域内に配置されている。即ち遮光膜23によって表示時に観察者から見えないように隠されている。   The columnar portion 520 is formed on the counter electrode 21 and in a region where the step forming film 510 is formed. For example, one columnar portion is formed with respect to the color filter 500 portion for six colors, that is, one columnar portion is formed for every three pixels. The height of the columnar portion 520 is about 2 to 4 μm, for example, about half of the second gap, and is made of an organic insulating material such as acrylic. In this example, the columnar portion 520 has a cylindrical shape. However, this may be, for example, an octagonal or hexagonal prism, or a streamlined shape in the rubbing direction in consideration of the rubbing process in the manufacturing process. The diameter of the columnar part 520 is, for example, about 10 to 15 μm. Since the columnar part 520 is not transparent, it is preferably arranged in the non-opening region of each pixel. That is, it is hidden by the light shielding film 23 so that it cannot be seen by the observer at the time of display.

配向膜23は、柱状部520及び対向電極21上の全面に渡って、形成されている。配向膜23は、例えば、ポリイミド樹脂による配向膜が塗布された後、焼成され、更にラビング処理が行われることで形成されている。   The alignment film 23 is formed over the entire surface on the columnar portion 520 and the counter electrode 21. The alignment film 23 is formed, for example, by applying an alignment film made of polyimide resin, baking, and then performing a rubbing process.

図5に示すように、このラビング処理の際に、柱状部520から見てラビング方向550の下流側に、ラビング不良の領域570が発生する。例えば柱状部520の横幅が10〜15μmであり且つ高さが2〜3μmであると想定すると、ラビング不良の領域570は、ラビング方向に550に、柱状部の高さの2倍である約5〜6μmの長さを持つように発生する。   As shown in FIG. 5, during this rubbing process, a rubbing failure region 570 is generated on the downstream side in the rubbing direction 550 when viewed from the columnar portion 520. For example, assuming that the horizontal width of the columnar portion 520 is 10 to 15 μm and the height is 2 to 3 μm, the region 570 having a poor rubbing is about 550 in the rubbing direction and about 5 times the height of the columnar portion. It is generated to have a length of ˜6 μm.

従って、図5でラビング不良の領域570として示すように、横方向に走る遮光膜23の幅を広げ、さらに柱状部520の位置を横方向に走る遮光膜23の中心から透過表示領域に近い側に(即ち、図5で上側に)距離Sだけ偏らせるとよい。これにより、ラビング不良の領域570を各画素の非開口領域内に隠すことが容易となる。尚、ここでの距離Sは、柱状部520の横方向の中心線565と、横方向に走る遮光膜23の中心線560との距離である。   Therefore, the width of the light shielding film 23 that runs in the lateral direction is widened, as shown as a rubbing failure area 570 in FIG. (Ie, upward in FIG. 5) may be biased by a distance S. This makes it easy to hide the rubbing defective area 570 in the non-opening area of each pixel. Here, the distance S is the distance between the horizontal center line 565 of the columnar portion 520 and the center line 560 of the light shielding film 23 running in the horizontal direction.

加えて本実施形態では特に、ラビング方向550は、カラーフィルタ部分RBに向かう方向に一致されている。これは、柱状部520により生じるラビング不良の領域570で発生する液晶層50の配向不良が、青色表示の画素で発生する場合が、表示として一番目立たないからである。   In addition, particularly in the present embodiment, the rubbing direction 550 coincides with the direction toward the color filter portion RB. This is because the alignment failure of the liquid crystal layer 50 generated in the defective rubbing region 570 caused by the columnar portion 520 does not stand out as a display when it occurs in a blue display pixel.

次に、図6から図9を参照して、図1に示したTFTアレイ基板10について詳細に説明する。ここに、図6は、TFTアレイ基板上に構成される配線、電子素子等の等価回路図であり、図7は、TFTアレイ基板の部分平面図であり、図8は、図7の部分拡大図であり、図9は、図7に示したJJ’線に沿って切断したときの電気光学装置の断面図である。尚、図9においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。   Next, the TFT array substrate 10 shown in FIG. 1 will be described in detail with reference to FIGS. FIG. 6 is an equivalent circuit diagram of wiring, electronic elements, and the like configured on the TFT array substrate, FIG. 7 is a partial plan view of the TFT array substrate, and FIG. 8 is a partially enlarged view of FIG. FIG. 9 is a cross-sectional view of the electro-optical device when cut along the line JJ ′ shown in FIG. In FIG. 9, the scales are different for each layer and each member so that each layer and each member have a size that can be recognized on the drawing.

図6において、本実施形態における電気光学装置の画像表示領域を構成するマトリクス状に形成された複数の画素には夫々、画素電極9aと当該画素電極9aをスイッチング制御するためのTFT30とが形成されており、画像信号が供給されるデータ線6aが当該TFT30のソースに電気的に接続されている。データ線6aに書き込む画像信号S1、S2、…、Snは、この順に線順次に供給しても構わないし、相隣接する複数のデータ線6a同士に対して、グループ毎に供給するようにしても良い。また、TFT30のゲートに走査線3aが電気的に接続されており、所定のタイミングで、走査線3aにパルス的に走査信号G1、G2、…、Gmを、この順に線順次で印加するように構成されている。画素電極9aは、TFT30のドレインに電気的に接続されており、スイッチング素子であるTFT30を一定期間だけそのスイッチを閉じることにより、データ線6aから供給される画像信号S1、S2、…、Snを所定のタイミングで書き込む。画素電極9aを介して電気光学物質の一例としての液晶に書き込まれた所定レベルの画像信号S1、S2、…、Snは、対向基板20に形成された対向電極21(図2参照)との間で一定期間保持される。液晶は、印加される電圧レベルにより分子集合の配向や秩序が変化することにより、光を変調し、階調表示を可能にする。ノーマリーホワイトモードであれば、各画素の単位で印加された電圧に応じて入射光に対する透過率が減少し、ノーマリーブラックモードであれば、各画素の単位で印加された電圧に応じて入射光に対する透過率が増加され、全体として電気光学装置からは画像信号に応じたコントラストを持つ光が出射する。ここで、保持された画像信号がリークするのを防ぐために、画素電極9aと対向電極21との間に形成される液晶容量と並列に蓄積容量70を付加する。蓄積容量70は、容量線300の一部からなる固定電位側容量電極と、TFT30のドレイン側及び画素電極に9aに接続された画素電位側容量電極とを備える。   In FIG. 6, a pixel electrode 9 a and a TFT 30 for controlling the switching of the pixel electrode 9 a are formed in each of a plurality of pixels formed in a matrix that forms the image display area of the electro-optical device according to the present embodiment. The data line 6 a to which the image signal is supplied is electrically connected to the source of the TFT 30. The image signals S1, S2,..., Sn written to the data lines 6a may be supplied line-sequentially in this order, or may be supplied for each group to a plurality of adjacent data lines 6a. good. Further, the scanning line 3a is electrically connected to the gate of the TFT 30, and the scanning signals G1, G2,..., Gm are applied to the scanning line 3a in a pulse-sequential manner in this order at a predetermined timing. It is configured. The pixel electrode 9a is electrically connected to the drain of the TFT 30, and the image signal S1, S2,..., Sn supplied from the data line 6a is obtained by closing the switch of the TFT 30 as a switching element for a certain period. Write at a predetermined timing. A predetermined level of image signals S1, S2,..., Sn written in the liquid crystal as an example of the electro-optical material via the pixel electrode 9a is between the counter electrode 21 (see FIG. 2) formed on the counter substrate 20. Is held for a certain period. The liquid crystal modulates light by changing the orientation and order of the molecular assembly according to the applied voltage level, thereby enabling gradation display. In the normally white mode, the transmittance for incident light is reduced according to the voltage applied in units of each pixel, and in the normally black mode, the light is incident according to the voltage applied in units of each pixel. The light transmittance is increased, and light having a contrast corresponding to the image signal is emitted from the electro-optical device as a whole. Here, in order to prevent the held image signal from leaking, a storage capacitor 70 is added in parallel with the liquid crystal capacitor formed between the pixel electrode 9 a and the counter electrode 21. The storage capacitor 70 includes a fixed potential side capacitor electrode formed of a part of the capacitor line 300, and a pixel potential side capacitor electrode connected to the drain side of the TFT 30 and the pixel electrode 9a.

次に図7及び図8に示すように、TFTアレイ基板10上には、半透過反射型の画素電極9aがマトリクス状に配列されており、画素電極9aに対応する画素の領域は、透過表示用の領域と反射表示用の領域とに二分されている。尚、図7は、図3に示した対向基板20の平面図に対応しているが、左右反転した平面図である。即ち、図3における線分ABが、図7における線分A’B’に対して平面図上で一致するように両基板は、対向配置される。加えて、図7では、6色のカラーフィルタ部分RR〜TBに夫々対応させる意味で、カラーフィルタ部分RR’〜TB’として表示している。   Next, as shown in FIGS. 7 and 8, the transflective pixel electrodes 9a are arranged in a matrix on the TFT array substrate 10, and the pixel region corresponding to the pixel electrode 9a is transmissively displayed. The display area is divided into a display area and a reflective display area. FIG. 7 corresponds to the plan view of the counter substrate 20 shown in FIG. That is, the two substrates are disposed to face each other so that the line segment AB in FIG. 3 coincides with the line segment A′B ′ in FIG. 7 on the plan view. In addition, in FIG. 7, the color filter portions RR ′ to TB ′ are displayed so as to correspond to the six color filter portions RR to TB, respectively.

図8に拡大して示すように、TFTアレイ基板10には、半透過反射型の画素電極9a(点線部9a’により輪郭が示されている)が設けられており、画素電極9aの縦横の境界に各々沿ってデータ線6a及び走査線3aが設けられている。また、半導体層1aのうち図8中ハッチングで示したのがチャネル領域1a’である。角状のゲート電極405は、チャネル領域1a’において半導体層1aに対向するように走査線3aから突出して形成されている。尚、ゲート電極405は、走査線3aと同一導電材料から一体形成されてもよいし、別材料から形成されてもよい。このように、画素には夫々、チャネル領域1a’に走査線3aに接続するゲート電極405が対向配置された画素スイッチング用のTFT30が設けられている。   As shown in an enlarged view in FIG. 8, the TFT array substrate 10 is provided with a transflective pixel electrode 9a (outlined by a dotted line portion 9a ′). A data line 6a and a scanning line 3a are provided along each boundary. Further, in the semiconductor layer 1a, the channel region 1a 'is indicated by hatching in FIG. The square gate electrode 405 is formed to protrude from the scanning line 3a so as to face the semiconductor layer 1a in the channel region 1a '. The gate electrode 405 may be integrally formed from the same conductive material as the scanning line 3a or may be formed from a different material. In this way, each pixel is provided with a pixel switching TFT 30 in which the gate electrode 405 connected to the scanning line 3a is opposed to the channel region 1a '.

図7から図9に示すように、蓄積容量70は、画素電極9aに重なるように配置された平面形状を有する。蓄積容量70の画素電位側容量電極は、半導体層1aのドレイン領域1eから延設された部分からなり、その固定側容量電極は、走査線3aと並んで配列された容量線300から延設された部分からなる。容量線300は、画像表示領域10aからその周囲に延設され、定電位源と電気的に接続されて、固定電位とされる。半導体層1aのドレイン領域1eは、コンタクトホール83、中継層71及びコンタクトホール85を介して画素電極9aと電気的に接続されている。半導体層1aのソース領域1dはコンタクトホール81を介してデータ線6aと接続されている。   As shown in FIGS. 7 to 9, the storage capacitor 70 has a planar shape arranged so as to overlap the pixel electrode 9a. The pixel potential side capacitor electrode of the storage capacitor 70 is a portion extending from the drain region 1e of the semiconductor layer 1a, and the fixed side capacitor electrode is extended from the capacitor line 300 arranged in parallel with the scanning line 3a. It consists of parts. The capacitor line 300 extends from the image display region 10a to the periphery thereof, and is electrically connected to a constant potential source to be a fixed potential. The drain region 1e of the semiconductor layer 1a is electrically connected to the pixel electrode 9a through the contact hole 83, the relay layer 71, and the contact hole 85. The source region 1 d of the semiconductor layer 1 a is connected to the data line 6 a through the contact hole 81.

図8に示すように本実施形態では特に、半透過反射電極の一例を構成する画素電極9aに対応する画素の領域は、透過表示用の領域と反射表示用の領域とに二分されている。より具体的には、図8中KK’線の上側が、反射表示用の領域であり、カラーフィルタ部分RR’に対応している。他方、図8中KK’線の下側が、透過表示用の領域であり、カラーフィルタ部分TR’に対応している。   As shown in FIG. 8, in the present embodiment, in particular, the pixel area corresponding to the pixel electrode 9a constituting an example of the transflective electrode is divided into a transmissive display area and a reflective display area. More specifically, the upper side of the line KK ′ in FIG. 8 is a reflective display area, which corresponds to the color filter portion RR ′. On the other hand, the lower side of the line KK ′ in FIG. 8 is an area for transmissive display and corresponds to the color filter portion TR ′.

図8及び図9に示すように、反射表示用の領域には、表面に多数の微小な略半球状の凹部420が形成されたAl(アルミニウム)膜からなる反射膜430が、画素電極9aの下に重なるように積層されている。これにより、反射表示用の領域には、画素電極9a及び反射膜430から反射電極が構築されることになる。尚、凹部420は、鏡面反射を避けるためのものであり、凸部であっても構わない。   As shown in FIGS. 8 and 9, in the reflective display region, a reflective film 430 made of an Al (aluminum) film having a large number of minute hemispherical concave portions 420 formed on the surface is provided on the pixel electrode 9a. Laminated so as to overlap. As a result, a reflective electrode is constructed from the pixel electrode 9a and the reflective film 430 in the reflective display region. The concave portion 420 is for avoiding specular reflection, and may be a convex portion.

TFTアレイ基板10側には、画素単位で液晶層50部分を駆動可能となるように、画素電極9a及びこれに接続されたTFT30及び配線部が設けられている。対向基板20側には、画素電極9aに対向した全面ベタの透明な対向電極21が形成されている。   On the TFT array substrate 10 side, a pixel electrode 9a, a TFT 30 connected to the pixel electrode 9a, and a wiring portion are provided so that the liquid crystal layer 50 portion can be driven in units of pixels. On the counter substrate 20 side, a solid counter electrode 21 that is solid on the entire surface facing the pixel electrode 9a is formed.

画素スイッチング用のTFT30下には、下地絶縁膜12が設けられている。
下地絶縁膜12は、下側遮光膜11aからTFT30を層間絶縁する機能の他、第2透明基板202の全面に形成されることにより、その表面の研磨時における荒れや、洗浄後に残る汚れ等で画素スイッチング用のTFT30の特性変化を防止する機能を有する。
A base insulating film 12 is provided under the pixel switching TFT 30.
In addition to the function of interlayer insulating the TFT 30 from the lower light-shielding film 11a, the base insulating film 12 is formed on the entire surface of the second transparent substrate 202, so that the surface of the base insulating film 12 is roughened during polishing or remains after cleaning. It has a function of preventing changes in the characteristics of the pixel switching TFT 30.

図9において、画素スイッチング用のTFT30は、LDD(Lightly Doped Drain)構造を有しており、ゲート405、当該ゲート405からの電界によりチャネルが形成される半導体層1aのチャネル領域1a’、ゲート405と半導体層1aとを絶縁するゲート絶縁膜を含む絶縁膜2、半導体層1aの低濃度ソース領域1b及び低濃度ドレイン領域1c、半導体層1aの高濃度ソース領域1d並びに高濃度ドレイン領域1eを備えている。前述したようにゲート405は走査線3aに接続され、高濃度ソース領域1dは、データ線6aに接続され、高濃度ドレイン領域1eは、蓄積容量70の画素電位側容量電極に接続されている。   In FIG. 9, a pixel switching TFT 30 has an LDD (Lightly Doped Drain) structure, and includes a gate 405, a channel region 1 a ′ of a semiconductor layer 1 a in which a channel is formed by an electric field from the gate 405, and a gate 405. An insulating film 2 including a gate insulating film that insulates the semiconductor layer 1a, a low concentration source region 1b and a low concentration drain region 1c of the semiconductor layer 1a, a high concentration source region 1d and a high concentration drain region 1e of the semiconductor layer 1a. ing. As described above, the gate 405 is connected to the scanning line 3 a, the high concentration source region 1 d is connected to the data line 6 a, and the high concentration drain region 1 e is connected to the pixel potential side capacitance electrode of the storage capacitor 70.

データ線6aは、Al等の低抵抗な金属膜や金属シリサイド等の合金膜などから構成されている。   The data line 6a is composed of a low resistance metal film such as Al or an alloy film such as metal silicide.

走査線3a、ゲート405及び容量線300の上には、第1層間絶縁膜41が形成されている。第1層間絶縁膜41には、高濃度ソース領域1dへ通じるコンタクトホール81及び高濃度ドレイン領域1eへ通じるコンタクトホール83が各々開孔されている。   A first interlayer insulating film 41 is formed on the scanning line 3 a, the gate 405, and the capacitor line 300. In the first interlayer insulating film 41, a contact hole 81 leading to the high concentration source region 1d and a contact hole 83 leading to the high concentration drain region 1e are opened.

第1層間絶縁膜41上には、中継層71とデータ線6aが形成されており、これらの上には、コンタクトホール85と反射光を散乱させるための凹部410とが開孔された第2層間絶縁膜42が形成されている。凹部410は、反射表示用の領域に形成され、すり鉢状をしており、凹部410の上縁における内径は、例えば1〜10μm程度である。   A relay layer 71 and a data line 6a are formed on the first interlayer insulating film 41, and a contact hole 85 and a concave portion 410 for scattering reflected light are opened on the second layer 71 and the data line 6a. An interlayer insulating film 42 is formed. The recess 410 is formed in a reflective display region and has a mortar shape. The inner diameter of the upper edge of the recess 410 is, for example, about 1 to 10 μm.

第2層間絶縁層42の上には、コンタクトホール85が形成された第3層間絶縁膜43が形成されている。第3層間絶縁膜43では、第2層間絶縁膜42のすり鉢状の凹部410に起因して、略半球状の凹部420が形成されている。画素電極9aは、このように構成された第3層間絶縁膜43の上面に形成されており、コンタクトホール85を介して中継層71に接続されている。   On the second interlayer insulating layer 42, a third interlayer insulating film 43 in which a contact hole 85 is formed is formed. In the third interlayer insulating film 43, a substantially hemispherical recess 420 is formed due to the mortar-shaped recess 410 of the second interlayer insulating film 42. The pixel electrode 9 a is formed on the upper surface of the third interlayer insulating film 43 thus configured, and is connected to the relay layer 71 through the contact hole 85.

画素電極9aの上側には、ラビング処理等の所定の配向処理が施された配向膜16が設けられている。配向膜16は例えば、ポリイミド膜などの有機膜からなる。画素電極9aには前述したように、反射表示用の領域における反射膜430が下地側に重ねられた反射部と、透過表示用の領域における反射膜430が重ねられない透過部とを含んでなる。また、反射部には、多数の半球状の凹部420が形成されており、鏡面反射を避けた反射表示が可能とされている。   An alignment film 16 that has been subjected to a predetermined alignment process such as a rubbing process is provided above the pixel electrode 9a. The alignment film 16 is made of an organic film such as a polyimide film. As described above, the pixel electrode 9a includes a reflective portion in which the reflective film 430 in the reflective display region is superimposed on the base side and a transmissive portion in which the reflective film 430 in the transmissive display region is not superimposed. . In addition, a large number of hemispherical concave portions 420 are formed in the reflective portion, and reflective display that avoids specular reflection is possible.

尚、図9では、図2に示した如き第1透明基板201の外面に取り付けられる偏光板207及び位相差板208、並びに第2透明基板202の外面に取り付けられる偏光板217、位相差板218、導光板219及び蛍光管220については、説明の簡便化のために省略してある。   In FIG. 9, the polarizing plate 207 and the retardation plate 208 attached to the outer surface of the first transparent substrate 201 as shown in FIG. 2, and the polarizing plate 217 and the retardation plate 218 attached to the outer surface of the second transparent substrate 202. The light guide plate 219 and the fluorescent tube 220 are omitted for simplification of description.

次に以上のように構成された半透過反射型の電気光学装置の動作ついて図2を参照して説明する。   Next, the operation of the transflective electro-optical device configured as described above will be described with reference to FIG.

まず、反射表示について説明する。   First, reflective display will be described.

この場合には、図2において、偏光板207の側(即ち、図2で上側)から外光が入射すると、偏光板207、位相差板208、透明な第1基板201及び液晶層50等を介して、第2基板202上に設けられた半透過反射型の画素電極9aのうち反射表示用の領域により反射され、液晶層50等を介して、カラーフィルタ500によって所定色に着色され、更に位相差板208により色補正済みの反射光として偏光板207側から出射される。ここで、外部回路から所定タイミングでデータ線6aに画像信号を供給すると共に走査線3aに走査信号を供給すれば、画素電極9aにおける液晶層50部分には、画像信号に対応する電界が印加される。従って、この印加電圧により液晶層50の配向状態を各画素単位で制御することにより、偏光板207から出射する光量を変調し、カラーの階調表示が可能となる。   In this case, in FIG. 2, when external light enters from the side of the polarizing plate 207 (that is, the upper side in FIG. 2), the polarizing plate 207, the phase difference plate 208, the transparent first substrate 201, the liquid crystal layer 50, and the like. Through the transflective pixel electrode 9a provided on the second substrate 202 and reflected by the reflective display region, and is colored in a predetermined color by the color filter 500 through the liquid crystal layer 50 and the like. The light is emitted from the polarizing plate 207 side as color-corrected reflected light by the phase difference plate 208. Here, if an image signal is supplied from an external circuit to the data line 6a at a predetermined timing and a scanning signal is supplied to the scanning line 3a, an electric field corresponding to the image signal is applied to the liquid crystal layer 50 portion of the pixel electrode 9a. The Therefore, by controlling the alignment state of the liquid crystal layer 50 for each pixel by this applied voltage, the amount of light emitted from the polarizing plate 207 is modulated, and color gradation display is possible.

次に透過表示について説明する。   Next, transmissive display will be described.

この場合には、図2において第2基板202の下側から導光板219、偏光板217等を介してバックライト220からの光源光が入射すると、半透過反射型の画素電極9aにおける透過表示用の領域を透過し、カラーフィルタ500によって所定色に着色され、更に位相差板208により色補正済みの透過光として、偏光板207側から出射される。ここで、外部回路から所定タイミングでデータ線6aに画像信号を供給すると共に走査線3aに走査信号を供給すれば、画素電極9aにおける液晶層50部分には、画像信号に対応する電界が印加される。従って、この印加電圧により液晶層50の配向状態を各画素単位で制御することにより、偏光板207から出射する光量を変調し、カラーの階調表示が可能となる。   In this case, when light source light from the backlight 220 enters from the lower side of the second substrate 202 in FIG. 2 through the light guide plate 219, the polarizing plate 217, etc., the transmissive display in the transflective pixel electrode 9a is performed. , And is emitted to the polarizing plate 207 side as transmitted light whose color has been corrected by the phase difference plate 208. Here, if an image signal is supplied from an external circuit to the data line 6a at a predetermined timing and a scanning signal is supplied to the scanning line 3a, an electric field corresponding to the image signal is applied to the liquid crystal layer 50 portion of the pixel electrode 9a. The Therefore, by controlling the alignment state of the liquid crystal layer 50 for each pixel by this applied voltage, the amount of light emitted from the polarizing plate 207 is modulated, and color gradation display is possible.

以上の結果、第1実施形態によれば、透過表示と反射表示との間で、液晶層50における偏光特性を揃えることが可能となると共に、カラーフィルタ500による色付け濃度についても揃えることが可能となる。   As a result, according to the first embodiment, the polarization characteristics in the liquid crystal layer 50 can be made uniform between the transmissive display and the reflective display, and the coloring density by the color filter 500 can also be made uniform. Become.

尚、図2では、説明の便宜上、位相差板や偏光板を、TFTアレイ基板10及び対向基板20の外面側に夫々一枚ずつ配置しているが、偏光板や位相差板の光学特性、配置個所、枚数等については、例えば、TN(Twisted Nematic)モード、VA(Vertically Aligned)モード、PDLC(Polymer Dispersed Liquid Crystal)モード等の動作モードや、ノーマリーホワイトモード/ノーマリーブラックモードの別に応じて各種の態様を採用可能である。   In FIG. 2, for convenience of explanation, the retardation plate and the polarizing plate are arranged one by one on the outer surface side of the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20, respectively. The arrangement location, the number of sheets, and the like depend on, for example, the operation mode such as TN (Twisted Nematic) mode, VA (Vertically Aligned) mode, PDLC (Polymer Dispersed Liquid Crystal) mode, and normally white mode / normally black mode. Various aspects can be adopted.

(第2実施形態)
次に、本発明の第2実施形態における電気光学装置の構成及び動作について図10及び図11を参照して説明する。ここに、図10は、TFTアレイ基板の部分平面図であり、図11は、図10に示したLL’線に沿って切断したときの電気光学装置の断面図である。図10及び図11においては、図1から図9に示した第1実施形態の場合と同様の構成要素については同様の参照符号を付し、それらの説明は適宜省略する。尚、図11においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。
(Second Embodiment)
Next, the configuration and operation of the electro-optical device according to the second embodiment of the invention will be described with reference to FIGS. FIG. 10 is a partial plan view of the TFT array substrate, and FIG. 11 is a cross-sectional view of the electro-optical device taken along the line LL ′ shown in FIG. 10 and 11, the same reference numerals are given to the same components as those in the first embodiment shown in FIGS. 1 to 9, and description thereof will be omitted as appropriate. In FIG. 11, the scales are different for each layer and each member so that each layer and each member have a size that can be recognized on the drawing.

第1実施形態では、対向基板側に、段差形成膜と柱状部との両方が形成されているが、第2実施形態では、対向基板側に段差形成膜が形成され、且つTFTアレイ基板側に柱状部が形成されている。   In the first embodiment, both the step forming film and the columnar part are formed on the counter substrate side. However, in the second embodiment, the step forming film is formed on the counter substrate side and on the TFT array substrate side. A columnar part is formed.

即ち図10及び図11に示すように、対向基板20’側には、遮光膜23及び柱状部520が形成されていない。他方、TFTアレイ基板10’側には、第1実施形態における遮光膜23とほぼ同様の平面領域に格子状の遮光膜11aが第2透明基板202に密着して形成されており、その上に透明な下地絶縁膜12が形成され、更にその上にTFT30等が形成されている。そして、第3層間絶縁膜43上であって、配向膜16の下地側に、柱状部53’が形成されている。加えて、図10に示した配向膜16に対するラビング方向550’についても、柱状部520’を基準としてラビング方向550’の下流側が大きく遮光膜11aで覆われるように規定されており、更に柱状部520’を基準とするラビング方向550’の下流側には、青のカラーフィルタ部分RB’が位置するように、ラビング方向550’とカラーフィルタ500との相対的な位置関係が規定されている。その他の構成及び動作については、図1から図9を参照して説明した第1実施形態の場合と同様である。   That is, as shown in FIGS. 10 and 11, the light shielding film 23 and the columnar portion 520 are not formed on the counter substrate 20 'side. On the other hand, on the TFT array substrate 10 ′ side, a lattice-shaped light shielding film 11a is formed in close contact with the second transparent substrate 202 in a plane region substantially the same as the light shielding film 23 in the first embodiment, and is formed thereon. A transparent base insulating film 12 is formed, and a TFT 30 and the like are further formed thereon. A columnar portion 53 ′ is formed on the third interlayer insulating film 43 and on the base side of the alignment film 16. In addition, the rubbing direction 550 ′ for the alignment film 16 shown in FIG. 10 is also defined so that the downstream side of the rubbing direction 550 ′ is largely covered with the light shielding film 11a with reference to the columnar portion 520 ′. The relative positional relationship between the rubbing direction 550 ′ and the color filter 500 is defined so that the blue color filter portion RB ′ is located downstream of the rubbing direction 550 ′ with respect to 520 ′. Other configurations and operations are the same as those in the first embodiment described with reference to FIGS. 1 to 9.

尚、第2実施形態では、遮光膜11aを、柱状部520’の存在するTFTアレイ基板10’側に形成しているが、第2実施形態においても、第1実施形態の場合と同様に遮光膜11a代えて又は加えて、対向基板20’側に遮光膜23を形成してもよい。   In the second embodiment, the light shielding film 11a is formed on the TFT array substrate 10 ′ side where the columnar portion 520 ′ exists. In the second embodiment, the light shielding is performed as in the case of the first embodiment. Instead of or in addition to the film 11a, the light shielding film 23 may be formed on the counter substrate 20 ′ side.

(電子機器)
次に、上述した各実施形態に係る半透過反射型の電気光学装置を電子機器に用いた例について図12から図14を参照して説明する。
(Electronics)
Next, an example in which the above-described transflective electro-optical device according to each embodiment is used in an electronic apparatus will be described with reference to FIGS.

先ず、上述した電気光学装置を、モバイル型コンピュータの表示部に適用した例について説明する。図12は、この構成を示す斜視図である。図12において、コンピュータ1200は、キーボード1202を備えた本体部1204と、表示部として用いられる表示装置1005とを備えている。   First, an example in which the above-described electro-optical device is applied to a display unit of a mobile computer will be described. FIG. 12 is a perspective view showing this configuration. In FIG. 12, a computer 1200 includes a main body 1204 provided with a keyboard 1202 and a display device 1005 used as a display unit.

次に、上述した電気光学装置を、携帯電話の表示部に適用した例について説明する。図13は、この構成を示す斜視図である。図13において、携帯電話1250は、複数の操作ボタン1252のほか、受話口、送話口とともに、上述した電気光学装置を表示装置1005として備えるものである。   Next, an example in which the above-described electro-optical device is applied to a display unit of a mobile phone will be described. FIG. 13 is a perspective view showing this configuration. In FIG. 13, a mobile phone 1250 includes the above-described electro-optical device as a display device 1005 together with a plurality of operation buttons 1252, an earpiece, and a mouthpiece.

次に、上述した電気光学装置を、ファインダに用いたデジタルスチルカメラについて説明する。図14は、この構成を背面から示す斜視図である。デジタルスチルカメラ1300におけるケース1302の背面には、上述した電気光学装置が表示装置1005として設けられ、ケース1302の前面に設けられたCCD1304による撮像信号に基づいて、表示を行うようになっている。即ち、表示装置1005は、被写体を表示するファインダとして機能することになる。   Next, a digital still camera using the above-described electro-optical device as a finder will be described. FIG. 14 is a perspective view showing this configuration from the back. The above-described electro-optical device is provided as a display device 1005 on the back surface of the case 1302 in the digital still camera 1300, and display is performed based on an imaging signal from the CCD 1304 provided on the front surface of the case 1302. That is, the display device 1005 functions as a finder that displays a subject.

なお、電子機器としては、これらの他、液晶テレビや、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーションシステム、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた機器等が挙げられる。   In addition to these, liquid crystal televisions, viewfinder type, monitor direct view type video tape recorders, car navigation systems, pagers, electronic notebooks, calculators, word processors, workstations, videophones, POS terminals, touch panels And the like.

本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴なう電気光学装置及び電子機器もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。   The present invention is not limited to the above-described embodiments, and can be appropriately changed without departing from the gist or concept of the invention that can be read from the claims and the entire specification. Devices and electronic devices are also included in the technical scope of the present invention.

本発明の実施形態に係る電気光学装置の平面図である。1 is a plan view of an electro-optical device according to an embodiment of the invention. 図1のH−H’断面図である。It is H-H 'sectional drawing of FIG. 実施形態に係る対向基板の部分平面図である。It is a fragmentary top view of the counter substrate which concerns on embodiment. 図3のK−K’断面図である。FIG. 4 is a K-K ′ sectional view of FIG. 3. 図3の部分拡大図である。FIG. 4 is a partially enlarged view of FIG. 3. 実施形態に係るTFTアレイ基板上に構成される配線、電子素子等の等価回路図である。FIG. 3 is an equivalent circuit diagram of wiring, electronic elements, and the like configured on the TFT array substrate according to the embodiment. 実施形態に係るTFTアレイ基板の部分平面図である。It is a fragmentary top view of the TFT array substrate which concerns on embodiment. 図7の部分拡大図である。It is the elements on larger scale of FIG. 図7に示したJJ’線に沿って切断したときの電気光学装置の断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view of the electro-optical device when cut along a JJ ′ line illustrated in FIG. 7. 実施形態に係るTFTアレイ基板の部分平面図である。It is a fragmentary top view of the TFT array substrate which concerns on embodiment. 図10に示したLL’線に沿って切断したときの電気光学装置の断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view of the electro-optical device when cut along a line LL ′ illustrated in FIG. 10. 実施形態に係る電気光学装置を適用した電子機器の一例たるモバイル型コンピュータを示す斜視図である。1 is a perspective view showing a mobile computer as an example of an electronic apparatus to which an electro-optical device according to an embodiment is applied. 実施形態に係る電気光学装置を適用した電子機器の他の例たる携帯電話を示す斜視図である。FIG. 10 is a perspective view showing a mobile phone as another example of an electronic apparatus to which the electro-optical device according to the embodiment is applied. 実施形態に係る電気光学装置を適用した電子機器の他の例たるデジタルスチルカメラの構成を示す斜視図である。FIG. 11 is a perspective view illustrating a configuration of a digital still camera as another example of an electronic apparatus to which the electro-optical device according to the embodiment is applied.

符号の説明Explanation of symbols

9a…画素電極、10…TFTアレイ基板、20…対向基板、21…透明電極、50…液晶層、201…第1透明基板、202…第2透明基板、500…カラーフィルタ、510…段差形成膜、520,520’…柱状部、550,550’…ラビング方向。   9 ... Pixel electrode, 10 ... TFT array substrate, 20 ... Counter substrate, 21 ... Transparent electrode, 50 ... Liquid crystal layer, 201 ... First transparent substrate, 202 ... Second transparent substrate, 500 ... Color filter, 510 ... Step forming film 520, 520 '... columnar portion, 550, 550' ... rubbing direction.

Claims (10)

一対の第1基板及び第2基板と、
複数の画素からなる画像表示領域と、
前記第1基板及び第2基板のいずれか一方の基板上に、第1方向及び該第1方向と交差する第2方向に延在し、前記複数の画素間に格子状に設けられた遮光膜と、
前記遮光膜上に、前記第1及び第2基板間のギャップを規定する柱状部と、
前記柱状部を覆うように形成された配向膜と、を備え、
前記画素は、透過表示用の領域と反射表示用の領域とを有しており、前記反射表示用の領域における前記ギャップは、前記透過表示用の領域における前記ギャップより狭くされており、前記柱状部は、前記反射表示用の領域のギャップを規定するように配置されており、
前記柱状部は、前記第1方向に延在する遮光膜と前記第2方向に延在する遮光膜との交差領域と重なると共に、当該柱状部を基準として前記配向膜のラビング方向の下流側に青色の画素の前記反射表示用の領域が位置するように配置されることを特徴とする電気光学装置。
A pair of first and second substrates;
An image display area composed of a plurality of pixels;
A light-shielding film that extends in a first direction and a second direction intersecting the first direction on one of the first substrate and the second substrate, and is provided in a lattice shape between the plurality of pixels. When,
A columnar portion defining a gap between the first and second substrates on the light shielding film;
An alignment film formed so as to cover the columnar part,
The pixel has a transmissive display region and a reflective display region, and the gap in the reflective display region is narrower than the gap in the transmissive display region, and the columnar shape The portion is arranged so as to define a gap in the reflective display region,
The columnar portion overlaps with an intersection region between the light shielding film extending in the first direction and the light shielding film extending in the second direction, and on the downstream side in the rubbing direction of the alignment film with respect to the columnar portion. An electro-optical device , wherein the region for reflection display of a blue pixel is positioned.
前記反射表示用の領域と重なるように凸状の段差部が形成されており、
前記一方の基板上に、前記段差部を少なくとも部分的に形成するための透明な段差形成膜を備えたことを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。
A convex stepped portion is formed so as to overlap the reflective display region,
The electro-optical device according to claim 1, further comprising a transparent step forming film for forming at least part of the step portion on the one substrate.
前記画像表示領域に、複数の表示用電極を備え、
前記段差部は、平面的に見て前記複数の表示用電極に跨って所定方向に延びていることを特徴とする請求項2に記載の電気光学装置。
The image display area includes a plurality of display electrodes,
The electro-optical device according to claim 2, wherein the stepped portion extends in a predetermined direction across the plurality of display electrodes when seen in a plan view.
前記柱状部は、前記反射表示用の領域と重ならない位置に配置されていることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の電気光学装置。   4. The electro-optical device according to claim 1, wherein the columnar portion is disposed at a position that does not overlap with the reflective display region. 5. 前記表示用電極に画像信号を供給するための配線及び電子素子を備え、
前記配線及び電子素子の少なくとも一方は、格子状又はストライプ状に平面配置されており、
前記柱状部は、前記段差部に対向する位置であって前記配線及び電子素子の少なくとも一方に対向する位置に配置されていることを特徴とする請求項3に記載の電気光学装置。
A wiring and an electronic element for supplying an image signal to the display electrode;
At least one of the wiring and the electronic element is arranged in a plane in a lattice shape or a stripe shape,
The electro-optical device according to claim 3, wherein the columnar portion is disposed at a position facing the stepped portion and facing at least one of the wiring and the electronic element.
前記段差部の少なくとも一部は、前記配線及び電子素子の少なくとも一方の存在によって形成されていることを特徴とする請求項5に記載の電気光学装置。   The electro-optical device according to claim 5, wherein at least a part of the step portion is formed by the presence of at least one of the wiring and the electronic element. 前記一方の基板上に、前記表示用電極に対向するカラーフィルタを更に備えており、
前記カラーフィルタの色は、前記透過表示用の領域における色度域が前記反射表示用の領域における色度域より広くなるように、相異なっていることを特徴とする請求項3に記載の電気光学装置。
A color filter facing the display electrode is further provided on the one substrate.
4. The electricity according to claim 3, wherein the colors of the color filters are different so that a chromaticity region in the transmissive display region is wider than a chromaticity region in the reflective display region. Optical device.
前記カラーフィルタは、前記透過表示用の領域における色材膜部分が、前記反射表示用の領域における色材膜部分よりも膜厚であるように構成されていることを特徴とする請求項7に記載の電気光学装置。   8. The color filter according to claim 7, wherein the color material film portion in the transmissive display region is configured to have a film thickness larger than that of the color material film portion in the reflective display region. The electro-optical device described. 前記表示用電極は、画素電極からなり、
前記配線及び電子素子の少なくとも一方は、前記画素電極をスイッチング制御するためのスイッチング素子と、該スイッチング素子を介して画像信号を前記画素電極に供給するためのデータ線と、前記スイッチング素子を駆動するための走査線とを含むことを特徴とする請求項5に記載の電気光学装置。
The display electrode comprises a pixel electrode,
At least one of the wiring and the electronic element drives a switching element for switching the pixel electrode, a data line for supplying an image signal to the pixel electrode via the switching element, and the switching element The electro-optical device according to claim 5, further comprising: a scanning line.
請求項1から9のいずれか一項に記載の電気光学装置を具備することを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the electro-optical device according to claim 1.
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