JP2008083206A - Liquid crystal device and electronic equipment - Google Patents

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将洋 小菅
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To solve the problem that a liquid crystal device having an entire-surface overcoat layer has a display defect nearby a liquid crystal injection hole of a seal material. <P>SOLUTION: The liquid crystal device has a pair of substrates 5a and 6a stuck together with the seal material 4 having the liquid crystal injection hole 8 and enclosing a display area V, liquid crystal injected between the pair of substrates through the liquid crystal injection hole 8, a sealing agent 10 for sealing the liquid crystal injection hole 8, and the entire-surface overcoat layer 33 provided to at least one of the pair of substrates 5a and 6a. The overcoat layer 33 extends to outside the seal material 4, and the sealing agent 10 and the overcoat layer 33 are made of an acrylic resin-containing material. The liquid crystal injection hole 8 includes an auxiliary film 51a over the entire area in the width direction Dw of the liquid crystal injection hole 8 and over the entire area in a liquid crystal inflow direction Dr thereof. Thus, the auxiliary film 51a is interposed between the sealing agent 10 and the overcoat layer 33 to suppress generation of reaction products. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、シール材に設けた液晶注入口を通して液晶パネルの内部に液晶を注入する構成の液晶装置及びそれを用いた電子機器に関する。   The present invention relates to a liquid crystal device configured to inject liquid crystal into a liquid crystal panel through a liquid crystal injection port provided in a sealing material, and an electronic apparatus using the same.

現在、携帯電話機、PDA(Personal Digital Assistant:携帯情報端末機)等といった電子機器に液晶装置が広く用いられている。例えば、電子機器に関する各種の情報を表示するための表示部として液晶装置が用いられている。この液晶装置においては、一般に、ガラス等によって形成された基板上の領域であってシール材によって囲まれる領域内に表示領域が形成され、この表示領域内に画像が表示される。   Currently, liquid crystal devices are widely used in electronic devices such as mobile phones and PDAs (Personal Digital Assistants). For example, a liquid crystal device is used as a display unit for displaying various types of information regarding electronic devices. In this liquid crystal device, generally, a display area is formed in an area on a substrate formed of glass or the like and surrounded by a sealing material, and an image is displayed in the display area.

この液晶装置として、従来、シール材によって囲まれる領域内に該シール材を越えることなくオーバーコート層を設けた構成の液晶装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。このようにシール材によって囲まれた領域内に該シール材を越えることなく設けられたオーバーコート層を本明細書では選択オーバーコート層と呼ぶことにする。   As this liquid crystal device, a liquid crystal device having a configuration in which an overcoat layer is provided in a region surrounded by a seal material without exceeding the seal material has been known (for example, see Patent Document 1). In this specification, the overcoat layer provided without exceeding the seal material in the region surrounded by the seal material is referred to as a selective overcoat layer in this specification.

この選択オーバーコート層を用いる場合には、シール材の内周近傍におけるセルギャップが画像を表示する平面領域である表示領域内のセルギャップに対して変動するため、シール材によって囲まれる領域内で表示領域を広くとることができず、表示に寄与しない周辺領域である額縁領域が広くなるという問題がある。   When this selective overcoat layer is used, the cell gap in the vicinity of the inner periphery of the sealing material varies with respect to the cell gap in the display area, which is a planar area for displaying an image. There is a problem in that the display area cannot be widened, and the frame area, which is a peripheral area that does not contribute to display, becomes wide.

また、未だ公知ではなが、例えば図10に示すように、ガラス等から成る基板101上にシール材102を越えてオーバーコート層103を設ける技術がある。このようにシール材を越えて設けられるオーバーコート層を本明細書では全面オーバーコート層と呼ぶことにする。この技術によれば、シール材102の内周近傍のセルギャップGを表示領域V内のセルギャップGと等しくできるので、表示領域Vを広くできるか、あるいは表示領域Vの周囲の額縁領域を狭くできる。   Further, although not yet known, for example, as shown in FIG. 10, there is a technique of providing an overcoat layer 103 over a sealing material 102 on a substrate 101 made of glass or the like. In this specification, the overcoat layer provided beyond the sealing material is referred to as an entire overcoat layer in this specification. According to this technique, since the cell gap G in the vicinity of the inner periphery of the sealing material 102 can be made equal to the cell gap G in the display area V, the display area V can be widened or the frame area around the display area V can be narrowed. it can.

なお、図10では、基板101上にカラーフィルタ107、オーバーコート層103、帯状電極108、フォトスペーサ109、及び配向膜110aを有し、対向する基板111上に光反射膜112、帯状電極113、及び配向膜110bを有する、単純マトリクス型で反射型の液晶装置を例示したが、その他の形式、例えばスイッチング素子を用いたアクティブマトリクス型の液晶装置や、液晶パネルを透過する光の透過率を制御して表示を行う光透過型の液晶装置や、光反射型と光透過型の両方の機能を有する半透過反射型の液晶装置等といった各液晶装置に関しても、同様に、全面オーバーコート層を適用することができる。   In FIG. 10, the color filter 107, the overcoat layer 103, the strip electrode 108, the photo spacer 109, and the alignment film 110a are provided on the substrate 101, and the light reflection film 112, the strip electrode 113, A simple matrix type reflective liquid crystal device having an alignment film 110b is illustrated, but other types, for example, an active matrix type liquid crystal device using a switching element, and the transmittance of light transmitted through the liquid crystal panel are controlled. Similarly, the entire overcoat layer is applied to each liquid crystal device such as a light transmissive liquid crystal device that performs display and a transflective liquid crystal device having both a light reflective type and a light transmissive type function. can do.

特開2005−309149号公報(第6頁、図1)Japanese Patent Laying-Open No. 2005-309149 (page 6, FIG. 1)

ところで、図11(a)は一般的な液晶装置を示しており、この液晶装置において、液晶105はシール材102の適所に設けた液晶注入口106を通して注入され、その液晶注入口106は液晶の注入後に封止剤104によって封止される。図11(b)及び図11(c)は、図11(a)におけるZ11−Z11線に従った断面図を示している。図11(b)は、オーバーコート層の形成領域がシール材102によって囲まれる領域内に限られる選択オーバーコート層の場合を示しており、図11(c)は、オーバーコート層103がシール材102を越えて形成される全面オーバーコート層の場合を示している。   FIG. 11A shows a general liquid crystal device. In this liquid crystal device, the liquid crystal 105 is injected through a liquid crystal injection port 106 provided at an appropriate position of the sealing material 102, and the liquid crystal injection port 106 is a liquid crystal injection port. After the injection, it is sealed with a sealant 104. FIG.11 (b) and FIG.11 (c) have shown sectional drawing according to the Z11-Z11 line | wire in Fig.11 (a). FIG. 11B shows a case where the overcoat layer is a selective overcoat layer in which the formation region of the overcoat layer is limited to a region surrounded by the sealant 102, and FIG. The case of the entire overcoat layer formed exceeding 102 is shown.

図11(b)に示す選択オーバーコート層の場合、オーバーコート層はシール材102の外側領域には形成されないので、シール材102の液晶注入口106を封止する封止剤104は基板114a及び114bの表面に接触している。一方、図11(c)に示す全面オーバーコート層の場合、オーバーコート層103はシール材102を越えて形成されるので、封止剤104はオーバーコート層103と接触している。   In the case of the selective overcoat layer shown in FIG. 11B, since the overcoat layer is not formed in the outer region of the sealant 102, the sealant 104 that seals the liquid crystal inlet 106 of the sealant 102 is the substrate 114a and 114b is in contact with the surface. On the other hand, in the case of the entire overcoat layer shown in FIG. 11C, since the overcoat layer 103 is formed beyond the sealing material 102, the sealant 104 is in contact with the overcoat layer 103.

封止剤として光硬化性を有するアクリル系樹脂を用いる場合、その封止剤を硬化させる際にはその封止剤に光、例えば紫外線を照射する。このとき、図11(b)の選択オーバーコート層の場合は問題が無いが、図11(c)の全面オーバーコート層の場合には、光照射を受けた封止剤104の内部に発生したイオン性物質がオーバーコート層103の内部に流入したり、オーバーコート層103自体が光に反応してその内部にイオン物質が生成されたりすることがある。   In the case of using a photocurable acrylic resin as the sealant, when the sealant is cured, the sealant is irradiated with light, for example, ultraviolet rays. At this time, there is no problem in the case of the selective overcoat layer of FIG. 11B, but in the case of the entire overcoat layer of FIG. The ionic substance may flow into the overcoat layer 103, or the overcoat layer 103 itself may react with light to generate an ionic substance therein.

オーバーコート層103の内部にイオン性物質が存在し、そのイオン性物質が表示領域内に入り込むと、その部分で表示不良、例えば表示ムラが発生するおそれがある。従って、全面オーバーコート層を用いた従来の液晶装置においては、液晶注入口106の近傍領域において表示不良が発生するおそれがあった。   If an ionic substance is present in the overcoat layer 103 and the ionic substance enters the display region, display defects such as display unevenness may occur in that portion. Therefore, in the conventional liquid crystal device using the entire overcoat layer, there is a possibility that a display defect may occur in the vicinity of the liquid crystal inlet 106.

本発明は、上記の問題を解消するために成されたものであって、全面オーバーコート層を備えた液晶装置及び電子機器において、シール材の液晶注入口の近傍に表示不良が発生することを解消することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above problems, and in a liquid crystal device and an electronic apparatus having an entire overcoat layer, a display defect occurs in the vicinity of a liquid crystal injection port of a sealing material. The purpose is to eliminate.

本発明に係る第1の液晶装置は、液晶注入口を備え表示領域を取り囲むシール材によって互いに貼り合わされた一対の基板と、前記液晶注入口を通して前記一対の基板間に注入された液晶と、前記液晶注入口を封止した封止剤と、前記一対の基板の少なくとも一方に設けられたオーバーコート層とを有し、前記オーバーコート層は前記シール材の外側まで延在して形成され、前記封止剤及び前記オーバーコート層はアクリル系樹脂を含む材料によって形成されており、前記液晶注入口の開口された幅方向の全域であって、且つ、前記液晶注入口内の液晶流入方向の少なくとも一部において補助膜を設けたことを特徴とする。   A first liquid crystal device according to the present invention includes a pair of substrates bonded to each other by a sealing material that includes a liquid crystal injection port and surrounds a display region, liquid crystal injected between the pair of substrates through the liquid crystal injection port, A sealant that seals the liquid crystal injection port, and an overcoat layer provided on at least one of the pair of substrates, the overcoat layer extending to the outside of the sealing material, The sealant and the overcoat layer are formed of a material containing an acrylic resin, and are the entire width direction of the liquid crystal injection port and at least one of the liquid crystal inflow directions in the liquid crystal injection port. An auxiliary film is provided in the portion.

本発明に係る液晶装置は、シール材の外側まで延在するオーバーコート層、いわゆる全面オーバーコート層を用いる液晶装置である。全面オーバーコート層を用いる液晶装置では、その全面オーバーコート層が図11(c)に符号103で示したように液晶注入口106において封止剤104と直接に接触することがあり、そのため、液晶注入口106の近傍で表示ムラが発生することがある。   The liquid crystal device according to the present invention is a liquid crystal device using an overcoat layer that extends to the outside of the sealing material, that is, a so-called entire surface overcoat layer. In a liquid crystal device using a whole surface overcoat layer, the whole surface overcoat layer may be in direct contact with the sealant 104 at the liquid crystal inlet 106 as indicated by reference numeral 103 in FIG. Display unevenness may occur in the vicinity of the inlet 106.

その理由としていくつかのことが考えられるが、大きな要因として次のことが考えられる。オーバーコート層及び封止剤の硬化の反応は紫外線を用いたラジカル反応が一般的であり、両者の反応メカニズムは近似している。このため、封止剤とオーバーコート層が互いに反応して不純物が析出し、この析出物の影響により表示ムラが発生することが考えられる。また、反応成分が液晶に溶解することにより、液晶に配向膜が吸着し、これにより配向不良が発生して表示ムラが発生することも考えられる。   There are several possible reasons for this, but the following can be considered as major factors. The reaction of curing the overcoat layer and the sealant is generally a radical reaction using ultraviolet rays, and the reaction mechanisms of both are approximate. For this reason, it is considered that the sealant and the overcoat layer react with each other to precipitate impurities, and display unevenness occurs due to the influence of the precipitates. It is also conceivable that when the reaction component is dissolved in the liquid crystal, the alignment film is adsorbed on the liquid crystal, thereby causing alignment defects and causing display unevenness.

以上のような現象が想定できるところ、本発明のように、シール材の液晶注入口に対してその幅方向の全域であって、その液晶流入方向の少なくとも一部において補助膜を設けることにすれば、その補助膜の存在により、封止剤とオーバーコート層とが互いに直接に接触しないようにでき、これによりオーバーコート層と封止剤との反応を回避でき、反応生成物によって表示ムラが発生することを防止できる。また、仮にオーバーコート層と封止剤との間で反応が起こって反応生成物が発生したとしても、補助膜によってその反応生成物をトラップ(捕獲)することにより、その反応生成物が表示に影響を与えることを阻止でき、これにより表示ムラが発生することを防止できる。   The above phenomenon can be assumed. As in the present invention, the auxiliary film is provided in the entire width direction with respect to the liquid crystal injection port of the sealing material and in at least a part of the liquid crystal inflow direction. For example, the presence of the auxiliary film prevents the sealant and the overcoat layer from coming into direct contact with each other, thereby avoiding the reaction between the overcoat layer and the sealant, and the reaction product causes display unevenness. It can be prevented from occurring. Moreover, even if a reaction occurs between the overcoat layer and the sealant and a reaction product is generated, the reaction product is displayed on the display by trapping (capturing) the reaction product with an auxiliary film. It is possible to prevent the influence, thereby preventing display unevenness.

上記構成の本発明に係る液晶装置において、前記補助膜は、該補助膜の一部が前記一対の基板の少なくとも一方の基板と前記シール材との間に配置される状態に構成できる。   In the liquid crystal device according to the present invention having the above-described configuration, the auxiliary film may be configured such that a part of the auxiliary film is disposed between at least one of the pair of substrates and the sealing material.

次に、本発明に係る液晶装置において、前記補助膜は前記封止剤と前記オーバーコート層との間に介在すると共に前記オーバーコート層を前記封止剤から隔絶することが望ましい。この場合、補助膜は、オーバーコート層と封止剤とが接触しようとしている面の全面に介在する構成であっても良いし、オーバーコート層と封止剤とが接触しようとしている面の一部に介在する構成であっても良い。この発明態様によれば、オーバーコート層と封止剤とが直接に反応することを補助膜の存在によって回避することにより、反応生成物の発生を抑制でき、これにより液晶注入口の近傍における表示ムラの発生を防止できる。   Next, in the liquid crystal device according to the present invention, it is preferable that the auxiliary film is interposed between the sealant and the overcoat layer and isolates the overcoat layer from the sealant. In this case, the auxiliary film may have a configuration in which the overcoat layer and the encapsulant are in contact with each other on the entire surface, or one of the surfaces on which the overcoat layer and the encapsulant are in contact. The structure which intervenes in a part may be sufficient. According to this aspect of the invention, it is possible to suppress the generation of reaction products by avoiding the direct reaction between the overcoat layer and the sealant by the presence of the auxiliary film, and thereby display in the vicinity of the liquid crystal injection port. Unevenness can be prevented.

次に、封止剤とオーバーコート層との間に補助膜を介在させることにした本発明に係る液晶装置において、前記補助膜は、光量を減衰して光を通過させる性質を有する材料又はアクリル系樹脂に光を照射したときに発生するイオン性物質を吸着する性質を有する材料によって形成されることが望ましい。光量を減衰して光を通過させる性質を有する材料は、光を減衰させることができる任意の材料によって実現できる。また、アクリル系樹脂に光を照射したときに発生するイオン性物質を吸着する性質を有する材料は、例えば、一般に配向膜の材料として用いられるポリイミドや、一般に絶縁膜として用いられるSiN、SiO等によって実現できる。 Next, in the liquid crystal device according to the present invention in which an auxiliary film is interposed between the sealant and the overcoat layer, the auxiliary film is made of a material or acrylic having the property of attenuating the amount of light and allowing light to pass therethrough. It is desirable that the base resin be formed of a material having a property of adsorbing an ionic substance generated when light is irradiated to the resin. A material having the property of attenuating the amount of light and allowing light to pass through can be realized by any material capable of attenuating light. In addition, materials having a property of adsorbing an ionic substance generated when light is applied to an acrylic resin include, for example, polyimide that is generally used as a material for an alignment film, SiN, SiO 2 that is generally used as an insulating film, and the like. Can be realized.

補助膜は、封止剤とオーバーコート層との間に介在するだけで両者が光を受けたときに両者が互いに反応し合うことを防止するものであるが、光量を減衰して光を通過させる性質を有する材料によってその補助膜を形成すれば、オーバーコート層それ自体における反応生成物の発生を抑制できるので、表示ムラを誘起するおそれのある物質それ自体の量を減らすことができる。   The auxiliary film is only interposed between the sealant and the overcoat layer, and prevents both of them from reacting with each other when receiving light, but attenuates the amount of light and passes the light. If the auxiliary film is formed of a material having such a property, the generation of reaction products in the overcoat layer itself can be suppressed, so that the amount of the substance itself that may induce display unevenness can be reduced.

また、アクリル系樹脂に光を照射したときに発生するイオン性物質を吸着する性質を有する材料によって補助膜を形成すれば、封止剤及びオーバーコート層とが光を受けたときに、仮にそれらの間に反応生成物が発生したとしても、その反応生成物を補助膜によってトラップできるので、表示ムラを誘起するおそれのある物質が表示領域へ流入することを防止できる。   In addition, if an auxiliary film is formed of a material having a property of adsorbing an ionic substance that is generated when light is applied to an acrylic resin, when the sealing agent and the overcoat layer receive light, they are temporarily Even if a reaction product is generated during this period, the reaction product can be trapped by the auxiliary film, so that a substance that may induce display unevenness can be prevented from flowing into the display region.

次に、本発明に係る液晶装置において、前記補助膜は前記封止剤から離れた位置で前記オーバーコート層の上に設けられることが望ましい。この構成は、封止剤とオーバーコート層との間に補助膜を介在させるのではなく、封止剤から離れた位置に補助膜を配置させる構成を規定している。補助膜を封止剤とオーバーコート層との間に介在させない場合には、封止剤及びオーバーコート層に光が当たったときに両者の間に反応生成物が発生することがあるかもしれない。しかしながら、この場合でも、反応生成物は補助膜に吸着されてトラップされ、表示領域へ流入することを阻止され、これにより液晶注入口の近傍における表示ムラの発生を防止できる。   Next, in the liquid crystal device according to the present invention, it is desirable that the auxiliary film is provided on the overcoat layer at a position away from the sealant. This configuration defines a configuration in which an auxiliary film is not disposed between the sealant and the overcoat layer, but is disposed at a position away from the sealant. If an auxiliary film is not interposed between the sealant and the overcoat layer, a reaction product may be generated between the sealant and the overcoat layer when light hits them. . However, even in this case, the reaction product is adsorbed and trapped on the auxiliary film and is prevented from flowing into the display area, thereby preventing display unevenness in the vicinity of the liquid crystal injection port.

次に、補助膜を封止剤から離れた位置でオーバーコート層の上に設けることにした本発明に係る液晶装置において、前記補助膜は、アクリル系樹脂に光を照射したときに発生するイオン性物質を吸着する性質を有する材料、例えばポリイミド、SiN、SiO等によって形成されることが望ましい。この構成により、封止剤とオーバーコート層との間で発生した反応生成物であるイオン性物質を補助膜に吸着させてトラップすることにより、そのイオン性物質が表示領域内へ流入することを阻止でき、液晶注入口の近傍で表示ムラが発生することを防止できる。 Next, in the liquid crystal device according to the present invention in which the auxiliary film is provided on the overcoat layer at a position away from the sealant, the auxiliary film includes ions generated when the acrylic resin is irradiated with light. It is desirable that the material is formed of a material having a property of adsorbing the active substance, such as polyimide, SiN, SiO 2 or the like. With this configuration, the ionic substance, which is a reaction product generated between the sealant and the overcoat layer, is adsorbed on the auxiliary film and trapped, so that the ionic substance flows into the display area. This can prevent the occurrence of display unevenness in the vicinity of the liquid crystal injection port.

次に、補助膜を封止剤から離れた位置でオーバーコート層の上に設けることにした本発明に係る液晶装置において、前記補助膜は前記液晶注入口のうち表示領域へ向けて拡開する部分の幅方向にわたって設けられることが望ましい。この構成により、表示領域へ流入しようとするイオン性物質を確実に補助膜によってトラップできる。   Next, in the liquid crystal device according to the present invention in which the auxiliary film is provided on the overcoat layer at a position away from the sealant, the auxiliary film expands toward the display region of the liquid crystal injection port. It is desirable to be provided over the width direction of the portion. With this configuration, the ionic substance that is about to flow into the display region can be reliably trapped by the auxiliary film.

次に、本発明に係る液晶装置において、前記一対の基板の一方には複数色の着色膜が同一層内に設けられ、前記オーバーコート層は該着色膜を覆う平坦化膜であることが望ましい。この構成は、着色膜を用いてカラー表示を行う液晶装置に対して本発明を適用することを規定している。   Next, in the liquid crystal device according to the present invention, it is desirable that one of the pair of substrates is provided with a plurality of colored films in the same layer, and the overcoat layer is a planarizing film that covers the colored film. . This configuration stipulates that the present invention is applied to a liquid crystal device that performs color display using a colored film.

次に、本発明に係る液晶装置において、前記オーバーコート層の上に設けられた配向膜をさらに有し、前記補助膜は配向膜と同じ材料によって形成されることが望ましい。通常の液晶装置では配向膜はポリイミドによって形成されることが多い。このポリイミドは、光に対する反応機構が封止剤及びオーバーコート層と異なる材料である。このポリイミドを封止剤とオーバーコート層との間に介在させれば、封止剤とオーバーコート層とに光を照射したときの反応生成物の発生を確実に防止できる。また、ポリイミドは、アクリル系樹脂に光を照射したときに発生するイオン性物質を吸着する性質を有する材料である。よって、このポリイミドを補助膜として用いれば、封止剤とオーバーコート層とに光を照射したときにイオン性物質が発生した場合でも、そのイオン性物質を吸着によってトラップして表示に影響を与えることを阻止できる。   Next, in the liquid crystal device according to the present invention, it is preferable that the liquid crystal device further includes an alignment film provided on the overcoat layer, and the auxiliary film is formed of the same material as the alignment film. In a normal liquid crystal device, the alignment film is often formed of polyimide. This polyimide is a material having a reaction mechanism with respect to light different from that of the sealant and the overcoat layer. If this polyimide is interposed between the sealant and the overcoat layer, generation of a reaction product when the sealant and the overcoat layer are irradiated with light can be reliably prevented. Polyimide is a material having a property of adsorbing an ionic substance generated when light is applied to an acrylic resin. Therefore, if this polyimide is used as an auxiliary film, even if an ionic substance is generated when light is applied to the sealant and the overcoat layer, the ionic substance is trapped by adsorption and the display is affected. I can prevent it.

次に、補助膜を配向膜と同じ材料によって形成することにした液晶装置においては、配向膜と補助膜との間に間隙、すなわち配向膜及び補助膜の構成材料が無い部分が設けられることが望ましい。仮に、配向膜と補助膜とがつながっていると、イオン性物質等といった反応生成物がクロマト現象(すなわち、1つの物質内を異物質が移動する現象)により表示領域へ流れ込むおそれがある。これに対し、配向膜と補助膜との間に間隙を設けておけば、反応生成物の表示領域内への流入を確実に防止できる。   Next, in the liquid crystal device in which the auxiliary film is formed of the same material as the alignment film, a gap, that is, a portion where there is no constituent material for the alignment film and the auxiliary film may be provided between the alignment film and the auxiliary film. desirable. If the alignment film and the auxiliary film are connected to each other, a reaction product such as an ionic substance may flow into the display region due to a chromatographic phenomenon (that is, a phenomenon in which a different substance moves within one substance). In contrast, if a gap is provided between the alignment film and the auxiliary film, the reaction product can be reliably prevented from flowing into the display region.

次に、本発明に係る第2の液晶装置は、液晶注入口を備え表示領域を取り囲むシール材によって互いに貼り合わされた一対の基板と、前記液晶注入口を通して前記一対の基板間に注入された液晶と、前記液晶注入口を封止した封止剤と、前記一対の基板の少なくとも一方に設けられたオーバーコート層とを有し、前記オーバーコート層は前記シール材の外側まで延在し、前記封止剤及び前記オーバーコート層は光硬化性樹脂によって形成され、前記液晶注入口に対してその幅方向の全域で、その液晶流入方向の少なくとも一部で、その高さ方向の一部にわたって補助膜を設けたことを特徴とする。   Next, a second liquid crystal device according to the present invention includes a pair of substrates bonded to each other by a sealing material having a liquid crystal injection port and surrounding a display region, and liquid crystal injected between the pair of substrates through the liquid crystal injection port. And a sealing agent that seals the liquid crystal injection port, and an overcoat layer provided on at least one of the pair of substrates, the overcoat layer extending to the outside of the sealing material, The sealant and the overcoat layer are formed of a photocurable resin, and assist the entire liquid crystal inlet in the width direction, at least part of the liquid crystal inflow direction, and part of the height direction. A film is provided.

この液晶装置は、上記第1の液晶装置とは別の観点で本発明を規定するものである。第1の液晶装置では、封止剤及びオーバーコート層をアクリル系樹脂によって形成したが、第2の液晶装置では、封止剤及びオーバーコート層が光硬化性樹脂によって形成されている。この場合にも、オーバーコート層が全面オーバーコート層として形成されることにより液晶注入口の所で封止剤とオーバーコート層とが接触していると、封止剤を硬化させるためにその封止剤に光を照射したとき、封止剤とオーバーコート層との間で反応生成物、例えばイオン性物質が生成されることがある。   This liquid crystal device defines the present invention from a viewpoint different from that of the first liquid crystal device. In the first liquid crystal device, the sealant and the overcoat layer are formed of an acrylic resin. In the second liquid crystal device, the sealant and the overcoat layer are formed of a photocurable resin. Also in this case, if the overcoat layer is formed as an entire overcoat layer and the sealant and the overcoat layer are in contact with each other at the liquid crystal injection port, the sealant is sealed in order to cure the sealant. When the stopper is irradiated with light, a reaction product such as an ionic substance may be generated between the sealant and the overcoat layer.

何等の措置も講じなければ、生成した反応生成物はオーバーコート層を伝って表示領域内へ進入し表示ムラが発生するおそれがある。これに対し、本発明に係る第2の液晶装置によれば、液晶注入口に対してその幅方向の全域で、その液晶流入方向の少なくとも一部で、その高さ方向の一部にわたって補助膜を設けたので、その補助膜の働きにより、反応生成物が表示領域内へ進入することを阻止できる。   If no measures are taken, the generated reaction product may enter the display area through the overcoat layer and cause display unevenness. On the other hand, according to the second liquid crystal device of the present invention, the auxiliary film over the entire area in the width direction with respect to the liquid crystal inlet, at least part of the liquid crystal inflow direction, and over part of the height direction. Since the auxiliary film is provided, the reaction product can be prevented from entering the display area.

次に、本発明に係る第3の液晶装置は、液晶注入口を備え表示領域を取り囲むシール材によって互いに貼り合わされた第1基板及び第2基板と、前記液晶注入口を通して前記第1基板と前記第2基板との間に注入された液晶と、前記液晶注入口を封止した封止剤と、前記第1基板上に設けられたスイッチング素子と、前記スイッチング素子の電極端子に接続された画素電極と、絶縁膜を挟んで前記画素電極に対向して設けられた共通電極とを有し、前記絶縁膜は前記シール材の外側まで延在し、前記封止剤及び前記絶縁膜はアクリル系樹脂を含む材料又は光硬化性樹脂によって形成され、前記液晶注入口に対してその幅方向の全域で、その液晶流入方向の少なくとも一部で、その高さ方向の一部にわたって補助膜を設けたことを特徴とする。   Next, a third liquid crystal device according to the present invention includes a first substrate and a second substrate that are bonded to each other by a sealing material that includes a liquid crystal injection port and surrounds a display region, and the first substrate and the second substrate through the liquid crystal injection port. Liquid crystal injected between the second substrate, a sealant that seals the liquid crystal injection port, a switching element provided on the first substrate, and a pixel connected to an electrode terminal of the switching element An electrode and a common electrode provided to face the pixel electrode with an insulating film interposed therebetween, the insulating film extending to an outside of the sealing material, and the sealing agent and the insulating film are acrylic An auxiliary film is formed of a resin-containing material or a photo-curing resin, and an auxiliary film is provided over the liquid crystal injection port in the entire width direction, at least part of the liquid crystal inflow direction, and over a part of the height direction. It is characterized by that.

この液晶装置は、上記第1の液晶装置及び上記第2の液晶装置とは別の観点で本発明を規定するものである。本発明に係る液晶装置は、一方の基板である第1基板上に絶縁膜を介して画素電極と共通電極とが平面的に重ねて配置され、他方の基板である第2基板上には電極が形成されない構成の液晶装置に対して本発明を適用することを規定している。この種の液晶装置は、現在、横電界型液晶装置として知られている。   This liquid crystal device defines the present invention from a viewpoint different from the first liquid crystal device and the second liquid crystal device. In the liquid crystal device according to the present invention, the pixel electrode and the common electrode are arranged in a planar manner on the first substrate, which is one substrate, via an insulating film, and the electrode is disposed on the second substrate, which is the other substrate. The present invention is specified to be applied to a liquid crystal device having a configuration in which no is formed. This type of liquid crystal device is currently known as a lateral electric field type liquid crystal device.

TN(Twisted Nematic)型液晶装置に代表される縦電界型液晶装置では、互いに対向する一対の電極の双方に電極を設け、それらの基板間で縦方向に配列した液晶分子の配向を縦電界によって制御することによって画像を表示する構成となっている。これに対し、横電界型の液晶装置では、1つの基板上で異なる平面位置に設けられた一対の電極間に横電界(すなわち、基板に平行な電界)を形成し、この横電界によって液晶分子の配向を制御することによって画像を表示する構成となっている。   In a vertical electric field type liquid crystal device typified by a TN (Twisted Nematic) type liquid crystal device, electrodes are provided on both of a pair of electrodes facing each other, and the alignment of liquid crystal molecules arranged in the vertical direction between the substrates is caused by the vertical electric field The image is displayed by controlling. In contrast, in a horizontal electric field type liquid crystal device, a horizontal electric field (that is, an electric field parallel to the substrate) is formed between a pair of electrodes provided at different plane positions on one substrate, and liquid crystal molecules are generated by the horizontal electric field. The image is displayed by controlling the orientation.

縦電界型の液晶装置においては、表示面を見る角度が変わることに応じて液晶分子を見る角度が異なることになり、その角度が液晶分子の傾斜角度に対応した所定の角度を越えれると、表示を視認できなくなる。つまり、縦電界型の液晶装置は視角が狭いという性質を有している。これに対し、横電界型の液晶装置では、液晶分子は基板に対して平行な面内で配向が変化するので、観察者が表示面を見る角度が変わった場合でも液晶分子を見る角度は変わることがなく、視角が変化することに起因して視認ができなくなることはない。このため、縦電界型の液晶装置では広い視角を確保できる。   In the vertical electric field type liquid crystal device, the angle at which the liquid crystal molecules are viewed differs according to the change in the angle at which the display surface is viewed, and when the angle exceeds a predetermined angle corresponding to the tilt angle of the liquid crystal molecules, The display becomes invisible. That is, the vertical electric field type liquid crystal device has a property that the viewing angle is narrow. On the other hand, in a horizontal electric field type liquid crystal device, the orientation of liquid crystal molecules changes in a plane parallel to the substrate, so that the angle at which the viewer sees the liquid crystal molecules changes even when the angle at which the observer views the display surface changes. In other words, the visual angle is not lost due to the change in the viewing angle. Therefore, a wide viewing angle can be secured in the vertical electric field type liquid crystal device.

横電界型の液晶装置としては、IPS(In-Plane Switching)モードの液晶装置及びFFS(Fringe Field Switching)モードの液晶装置が知られている。IPSモードは、基板に平行な方向での画素電極と共通電極との間隔が比較的広くて長い横電界を形成するモードである。FFSモードは、基板に平行な方向での画素電極と共通電極との間隔が比較的短くて斜め方向の成分を持った横電界(いわゆる、横斜め電界)、換言すれば放物線電界を形成するモードである。   As a lateral electric field type liquid crystal device, an IPS (In-Plane Switching) mode liquid crystal device and an FFS (Fringe Field Switching) mode liquid crystal device are known. The IPS mode is a mode in which a horizontal electric field is formed in which the distance between the pixel electrode and the common electrode in a direction parallel to the substrate is relatively wide. The FFS mode is a mode that forms a horizontal electric field (so-called horizontal oblique electric field) having a relatively short interval between the pixel electrode and the common electrode in a direction parallel to the substrate, that is, a parabolic electric field. It is.

IPSモードの場合は、画素電極と共通電極との間に横電界を形成することができるが、画素電極の直上領域に電界を形成し難いため、表示の開口率が低いという問題がある。これに対し、FFSモードの場合は、画素電極の直上領域にも電界を形成することが可能となり、それ故、開口率が高くて明るい表示を行うことができる。   In the case of the IPS mode, a horizontal electric field can be formed between the pixel electrode and the common electrode. However, since it is difficult to form an electric field in a region immediately above the pixel electrode, there is a problem that a display aperture ratio is low. On the other hand, in the FFS mode, it is possible to form an electric field also in the region directly above the pixel electrode. Therefore, a bright display with a high aperture ratio can be performed.

横電界型の液晶装置においては、画素電極と共通電極との間に層間絶縁膜が設けられ、この層間絶縁層がオーバーコート層として機能する。そして、この層間絶縁層を全面オーバーコート層として形成すれば、シール材の内周近傍におけるセルギャップを表示領域内におけるセルギャップと等しく維持でき、表示領域を広く、額縁領域を狭くすることができる。しかしながら、層間絶縁膜を全面オーバーコート層とすると、液晶注入口の近傍領域において封止剤と層間絶縁膜が接触し、封止剤に光を照射して硬化させる際に反応生成物(例えば、イオン性物質)が発生し、この反応生成物が表示領域へ侵入して表示不良が発生するおそれがある。   In a horizontal electric field type liquid crystal device, an interlayer insulating film is provided between a pixel electrode and a common electrode, and this interlayer insulating layer functions as an overcoat layer. If this interlayer insulating layer is formed as an entire overcoat layer, the cell gap in the vicinity of the inner periphery of the sealing material can be maintained equal to the cell gap in the display region, and the display region can be widened and the frame region can be narrowed. . However, when the interlayer insulating film is the entire overcoat layer, the sealing agent and the interlayer insulating film are in contact with each other in the vicinity of the liquid crystal inlet, and a reaction product (for example, when the sealing agent is irradiated with light and cured) An ionic substance) may be generated, and this reaction product may enter the display region and cause display defects.

このような現象が考えられる横電界型液晶装置に関して、本発明に従って液晶注入口に対して補助膜を設ければ、全面オーバーコート層としての層間絶縁膜を伝って反応生成物が表示領域に進入することを阻止でき、表示不良が発生することを防止できる。   With respect to the lateral electric field type liquid crystal device in which such a phenomenon is considered, if an auxiliary film is provided for the liquid crystal injection port according to the present invention, the reaction product enters the display region through the interlayer insulating film as the entire overcoat layer. Can be prevented and display failure can be prevented.

次に、本発明に係る電子機器は、以上に記載した構成の液晶装置を有することを特徴とする。本発明に係る液晶装置においては、液晶注入口の近傍に表示ムラ等といった表示不良が発生することを防止できるので、その液晶装置を用いた本発明に係る電子機器においても、液晶装置の液晶注入口に相当する局所領域に表示不良が発生することを防止できる。この種の電子機器としては、携帯電話機、携帯情報端末機、液晶テレビ等が考えられる。   Next, an electronic apparatus according to the present invention includes the liquid crystal device having the above-described configuration. In the liquid crystal device according to the present invention, it is possible to prevent display defects such as display unevenness in the vicinity of the liquid crystal injection port. Therefore, in the electronic device according to the present invention using the liquid crystal device, the liquid crystal injection of the liquid crystal device is also possible. It is possible to prevent display failure from occurring in the local area corresponding to the entrance. As this type of electronic device, a mobile phone, a portable information terminal, a liquid crystal television, and the like can be considered.

(液晶装置の第1実施形態)
以下、液晶装置の一例として、透過型でカラー表示が可能なアクティブマトリクス方式の液晶装置に本発明を適用した場合を例に挙げて本発明の実施形態を説明する。また、本実施形態では、チャネルエッチ型でシングルゲート構造のポリシリコンTFT素子をスイッチング素子として用いた液晶装置に本発明を適用する。また、本実施形態における液晶装置では、動作モードとしてFFS(Fringe Field Switching)モードを採用するものとする。なお、本発明がこの実施形態に限定されないことはもちろんである。また、以下の説明で用いる図面では、特徴部分を分かり易く示すために、複数の構成要素の寸法を実際とは異なった比率で示す場合がある。
(First Embodiment of Liquid Crystal Device)
Hereinafter, as an example of a liquid crystal device, an embodiment of the present invention will be described by taking as an example a case where the present invention is applied to an active matrix liquid crystal device capable of color display. In the present embodiment, the present invention is applied to a liquid crystal device using a channel-etched type single-gate polysilicon TFT element as a switching element. In the liquid crystal device according to the present embodiment, an FFS (Fringe Field Switching) mode is adopted as an operation mode. Of course, the present invention is not limited to this embodiment. In the drawings used in the following description, the dimensions of a plurality of constituent elements may be shown in different ratios from actual ones in order to easily show the characteristic portions.

図1は本発明に係る液晶装置の断面構造を示している。図2は図1のZ2−Z2線に従った平面断面図を示している。図1は図2のZ1−Z1線に従った側面断面に相当する。図3は図1の矢印Z3で示す1つのサブ画素近傍を拡大して示している。図4は図3のZ4−Z4線に従った平面構造を示している。図3は図4のZ3−Z3線に従った断面に相当する。図4では、最上層である配向膜の図示を省略している。これらの図において、マトリクス状に配列される画素の行方向を符号Xで示し、列方向を符号Yで示している。   FIG. 1 shows a cross-sectional structure of a liquid crystal device according to the present invention. FIG. 2 shows a plan sectional view according to the Z2-Z2 line of FIG. 1 corresponds to a side cross-section according to the Z1-Z1 line of FIG. FIG. 3 shows an enlarged view of the vicinity of one subpixel indicated by the arrow Z3 in FIG. FIG. 4 shows a planar structure according to the Z4-Z4 line of FIG. FIG. 3 corresponds to a cross section according to the Z3-Z3 line of FIG. In FIG. 4, the uppermost alignment film is not shown. In these drawings, the row direction of pixels arranged in a matrix is indicated by a symbol X, and the column direction is indicated by a symbol Y.

図1において、液晶装置1は、液晶パネル2と照明装置3とを有する。この液晶装置1に関しては、矢印Aが描かれた側が観察側であり、上記の照明装置3は液晶パネル2に関して観察側と反対側に配置されてバックライトとして機能する。液晶パネル2は、長方形又は正方形で環状のシール材4(図2参照)によって互いに貼り合わされた一対の基板5及び6を有する。基板5はスイッチング素子が形成される素子基板である。また、基板6はカラーフィルタが形成されるカラーフィルタ基板である。本実施形態では、観察側にカラーフィルタ基板6が配置され、観察側から見て背面に素子基板5が配置される。   In FIG. 1, the liquid crystal device 1 includes a liquid crystal panel 2 and a lighting device 3. Regarding the liquid crystal device 1, the side on which the arrow A is drawn is the observation side, and the illumination device 3 is disposed on the opposite side to the observation side with respect to the liquid crystal panel 2 and functions as a backlight. The liquid crystal panel 2 has a pair of substrates 5 and 6 bonded together by a rectangular or square and annular sealing material 4 (see FIG. 2). The substrate 5 is an element substrate on which switching elements are formed. The substrate 6 is a color filter substrate on which a color filter is formed. In the present embodiment, the color filter substrate 6 is disposed on the observation side, and the element substrate 5 is disposed on the back as viewed from the observation side.

シール材4は、素子基板5とカラーフィルタ基板6との間に間隙、いわゆるセルギャップGを形成する。セルギャップGは液晶パネル2内に設けられた複数の柱状スペーサ7によってその高さが維持されている。柱状スペーサ7は、通常、感光性樹脂をフォトリソグラフィ処理によってパターニングすることによって形成される。柱状スペーサ7を用いることに代えて、複数の球状の樹脂スペーサを液晶パネル2内に分散する方法を採用することもできる。   The sealing material 4 forms a gap, so-called cell gap G, between the element substrate 5 and the color filter substrate 6. The height of the cell gap G is maintained by a plurality of columnar spacers 7 provided in the liquid crystal panel 2. The columnar spacer 7 is usually formed by patterning a photosensitive resin by photolithography. Instead of using the columnar spacers 7, a method of dispersing a plurality of spherical resin spacers in the liquid crystal panel 2 may be employed.

シール材4はその一部に液晶注入口8を有し、この液晶注入口8を介して素子基板5とカラーフィルタ基板6との間に電気光学物質である液晶が注入される。注入された液晶はセルギャップG内で液晶層9を形成する。液晶注入口8は液晶の注入が完了した後に封止剤10によって封止される。本実施形態では、液晶注入口8を図2における液晶パネル2の一辺E側に設けたが、液晶注入口8は液晶パネル2の他辺E側又は他辺E側に設けても良い。本実施形態では、液晶として、負の誘電率異方性を有するネマティック液晶(いわゆる、ネガ液晶)を用いることにする。このネマティック液晶に代えて、正の誘電率異方性を有するネマティック液晶(いわゆる、ポジ液晶)を用いることもできる。 The sealing material 4 has a liquid crystal injection port 8 in a part thereof, and liquid crystal as an electro-optical material is injected between the element substrate 5 and the color filter substrate 6 through the liquid crystal injection port 8. The injected liquid crystal forms a liquid crystal layer 9 within the cell gap G. The liquid crystal injection port 8 is sealed with the sealant 10 after the liquid crystal injection is completed. In the present embodiment, the liquid crystal injection port 8 is provided on the one side E 0 side of the liquid crystal panel 2 in FIG. 2, but the liquid crystal injection port 8 may be provided on the other side E 1 side or the other side E 2 side of the liquid crystal panel 2. good. In the present embodiment, a nematic liquid crystal having a negative dielectric anisotropy (so-called negative liquid crystal) is used as the liquid crystal. Instead of this nematic liquid crystal, a nematic liquid crystal having a positive dielectric anisotropy (so-called positive liquid crystal) can also be used.

封止剤10は光硬化性樹脂、例えばアクリル系樹脂を用いて形成されている。この封止剤10は、液晶注入作業の完了後に液晶注入口8へ適量が付着させられ、その付着後に光照射、例えば紫外線照射を受けて硬化する。この樹脂は紫外線等を受けたときにラジカル反応を起こして硬化する性質を有する樹脂である。   The sealant 10 is formed using a photocurable resin, for example, an acrylic resin. An appropriate amount of the sealant 10 is attached to the liquid crystal injection port 8 after completion of the liquid crystal injection operation, and is cured by receiving light irradiation, for example, ultraviolet irradiation after the attachment. This resin is a resin having a property of causing a radical reaction and curing when receiving ultraviolet rays or the like.

図1において、照明装置3は、光源としてのLED(Light Emitting Diode:発光ダイオード)11と、平板形状の導光体12とを有する。光源としては、LEDのような点状光源以外に、冷陰極管のような線状光源を用いることもできる。導光体12は、例えば透光性を有する樹脂を材料として成形加工することによって形成され、LED11に対向する側面が光入射面12aであり、液晶パネル2に対向する面が光出射面12bである。矢印Aで示す観察側から見て導光体12の背面には、必要に応じて、光反射膜13が設けられる。また、導光体12の光出射面12bには、必要に応じて、光拡散膜14が設けられる。   In FIG. 1, the illumination device 3 includes an LED (Light Emitting Diode) 11 as a light source and a flat light guide 12. As the light source, in addition to a point light source such as an LED, a linear light source such as a cold cathode tube can be used. The light guide 12 is formed, for example, by molding a light-transmitting resin as a material. The side surface facing the LED 11 is a light incident surface 12a, and the surface facing the liquid crystal panel 2 is a light emitting surface 12b. is there. A light reflecting film 13 is provided on the back surface of the light guide 12 as viewed from the observation side indicated by the arrow A, if necessary. Moreover, the light-diffusion film 14 is provided in the light-projection surface 12b of the light guide 12 as needed.

素子基板5は矢印A方向から見て長方形又は正方形の第1の透光性の基板5aを有する。この第1透光性基板5aは、例えば透光性のガラス、透光性のプラスチック等によって形成されている。第1透光性基板5aの外側表面には偏光板15aが貼り付けられている。必要に応じて、偏光板15a以外の光学要素、例えば位相差板を付加的に設けることもできる。他方、第1透光性基板5aの内側表面には、図3及びその平面図である図4に示すように、ゲート線18及び共通線26が互いに平行に行方向Xに延びて形成されている。そして、互いに隣り合うゲート線18の間の基板5a上に略長方形状の共通電極32が複数設けられている。これらの共通電極32はその一部分が共通線26の上に重なった状態に形成されており、これにより、各共通電極32と共通線26との電気的な導通がとられている。   The element substrate 5 includes a first light-transmitting substrate 5a that is rectangular or square when viewed from the direction of the arrow A. The first translucent substrate 5a is made of, for example, translucent glass or translucent plastic. A polarizing plate 15a is attached to the outer surface of the first light transmissive substrate 5a. If necessary, an optical element other than the polarizing plate 15a, for example, a retardation plate can be additionally provided. On the other hand, the gate line 18 and the common line 26 are formed on the inner surface of the first light-transmissive substrate 5a so as to extend in the row direction X in parallel with each other, as shown in FIG. Yes. A plurality of substantially rectangular common electrodes 32 are provided on the substrate 5a between the gate lines 18 adjacent to each other. These common electrodes 32 are formed in a state where a part of the common electrode 32 overlaps the common line 26, whereby the common electrode 32 and the common line 26 are electrically connected.

ゲート線18及び共通電極32の上に、これらを被覆する面状の樹脂膜であるゲート絶縁膜19が形成され、その上にソース線20が列方向Yに延びて形成されている。図4において、ゲート線18とソース線20とによって囲まれる長方形状の領域内にサブ画素Pxが設定される。共通電極32はサブ画素Px内に含まれている。本実施形態ではR(赤色)、G(緑色)、B(青色)の3色によってカラー表示を行うものとしており、サブ画素Pxは個々の色に対応した単位画素であり、それら3つの色に対応するサブ画素Pxの集まりによって1つの画素が構成される。複数のサブ画素Pxが図1の矢印A方向から見てマトリクス状(行列状)に並ぶことによって表示領域Vが構成されている。図1では、サブ画素Px内の構造を分かり易く示すためにサブ画素Pxの液晶パネル2に対する寸法を実際の寸法よりも非常に大きく描いている。   On the gate line 18 and the common electrode 32, a gate insulating film 19 which is a planar resin film covering them is formed, and a source line 20 is formed extending in the column direction Y thereon. In FIG. 4, the sub-pixel Px is set in a rectangular region surrounded by the gate line 18 and the source line 20. The common electrode 32 is included in the subpixel Px. In this embodiment, color display is performed with three colors of R (red), G (green), and B (blue), and the sub-pixel Px is a unit pixel corresponding to each color, and the three colors One pixel is constituted by a group of corresponding sub-pixels Px. A display region V is configured by arranging a plurality of sub-pixels Px in a matrix (matrix) as viewed from the direction of arrow A in FIG. In FIG. 1, the dimensions of the sub-pixel Px with respect to the liquid crystal panel 2 are drawn much larger than the actual dimensions in order to easily show the structure inside the sub-pixel Px.

図4において、ゲート線18とソース線20との交差部分の近傍に、スイッチング素子として機能するアクティブ素子であるTFT(Thin Film Transistor)素子21が設けられている。TFT素子21は、ボトムゲート構造及びシングルゲート構造のチャネルエッチ型のポリシリコンTFTとして形成されている。このTFT素子21は、図3において、ゲート線18の一部分であるゲート電極18aと、ゲート絶縁膜19と、ポリシリコンを用いて形成された半導体膜22と、ソース電極24と、そしてドレイン電極25とを有する。ソース電極24及びドレイン電極25は、スイッチング素子であるTFT素子21の電極端子である。ソース電極24は、図4右下に示すように、ソース線20から分岐して形成されている。本実施形態のTFT素子21はボトムゲート構造であるが、これをトップゲート構造とすることもできる。   In FIG. 4, a TFT (Thin Film Transistor) element 21 which is an active element functioning as a switching element is provided in the vicinity of the intersection between the gate line 18 and the source line 20. The TFT element 21 is formed as a channel etch type polysilicon TFT having a bottom gate structure and a single gate structure. 3, the TFT element 21 includes a gate electrode 18a which is a part of the gate line 18, a gate insulating film 19, a semiconductor film 22 formed using polysilicon, a source electrode 24, and a drain electrode 25. And have. The source electrode 24 and the drain electrode 25 are electrode terminals of the TFT element 21 that is a switching element. The source electrode 24 is branched from the source line 20 as shown in the lower right of FIG. Although the TFT element 21 of the present embodiment has a bottom gate structure, it can be a top gate structure.

図3において、TFT素子21及びソース線20を被覆するための面状の樹脂膜であるパシベーション膜(保護膜)29がゲート絶縁膜19の上に設けられている。パシベーション膜29は、例えば感光性樹脂によって形成されている。パシベーション膜29の上に画素電極34が設けられ、その上に配向膜35aが設けられている。図4では配向膜35aの図示を省略している。図3において、TFT素子21のドレイン電極25の上部領域においてパシベーション膜29の内部にスルーホール36が形成され、このスルーホール36を介して画素電極34とドレイン電極25とが導電接続されている。   In FIG. 3, a passivation film (protective film) 29 which is a planar resin film for covering the TFT element 21 and the source line 20 is provided on the gate insulating film 19. The passivation film 29 is made of, for example, a photosensitive resin. A pixel electrode 34 is provided on the passivation film 29, and an alignment film 35a is provided thereon. In FIG. 4, the alignment film 35a is not shown. In FIG. 3, a through hole 36 is formed inside the passivation film 29 in the upper region of the drain electrode 25 of the TFT element 21, and the pixel electrode 34 and the drain electrode 25 are conductively connected through the through hole 36.

共通電極32及び画素電極34は、ITO(Indium Tin Oxide:インジウム・スズ酸化物)等といった透光性の金属酸化物によって形成されている。パシベーション膜29及びゲート絶縁膜19は、それぞれ、共通電極32と画素電極34との間に設けられた層間絶縁膜として機能すると共に、他の要素を被覆するための樹脂膜であるオーバーコート層として機能する。パシベーション膜29及びゲート絶縁膜19は光硬化性樹脂、例えばアクリル系樹脂、SiN(窒化シリコン)、又はSiO(酸化シリコン)によって形成されている。配向膜35aは、例えばポリイミドによって形成されている。ポリイミドはアクリル系樹脂、SiN及びSiOに対して光硬化の反応機構が異なる物質である。 The common electrode 32 and the pixel electrode 34 are formed of a translucent metal oxide such as ITO (Indium Tin Oxide). The passivation film 29 and the gate insulating film 19 function as an interlayer insulating film provided between the common electrode 32 and the pixel electrode 34, respectively, and as an overcoat layer that is a resin film for covering other elements. Function. The passivation film 29 and the gate insulating film 19 are formed of a photocurable resin, for example, an acrylic resin, SiN (silicon nitride), or SiO 2 (silicon oxide). The alignment film 35a is made of polyimide, for example. Polyimide is a substance having a different photocuring reaction mechanism with respect to acrylic resin, SiN and SiO 2 .

画素電極34は、図4に示すように、サブ画素Pxに対応して長方形状の平面形状に形成されており、その内部に複数のスリット37を有している。スリット37は画素電極34を貫通する溝状の開口であり、当該スリット37を通して画素電極34の下層であるパシベーション膜29を見ることができる。また、複数のスリット37は、行方向Xに沿って上端が右側へ傾斜した状態で、列方向Yに沿って互いに間隔を空けて平行に設けられている。これらのスリット37の間に帯状の画素電極34aが配置されている。   As shown in FIG. 4, the pixel electrode 34 is formed in a rectangular planar shape corresponding to the sub-pixel Px, and has a plurality of slits 37 therein. The slit 37 is a groove-like opening that penetrates the pixel electrode 34, and the passivation film 29 that is the lower layer of the pixel electrode 34 can be seen through the slit 37. In addition, the plurality of slits 37 are provided in parallel along the column direction Y while being spaced apart from each other with the upper end inclined to the right side along the row direction X. A band-like pixel electrode 34 a is disposed between the slits 37.

本実施形態ではスリット37の両短辺が閉じた状態となっているが、スリット37の両短辺の一方は開放状態とすることができる。この開放状態の場合には、複数の帯状電極34aのそれぞれは片持ち梁の状態となり、全体的には櫛歯形状となる。   In the present embodiment, both short sides of the slit 37 are closed, but one of both short sides of the slit 37 can be open. In the open state, each of the plurality of strip-like electrodes 34a is in a cantilever state, and has a comb-like shape as a whole.

FFSモードを実現するための横斜め電界(すなわち、放物線状電界)を形成できるようにするため、図3において、帯状画素電極34aと共通電極32との間の基板面に沿った間隔Dが液晶層9の層厚Dよりも小さく、すなわち
>D
に設定されている。特に本実施形態では、共通電極32が基板5a上のサブ画素領域Px内に面状(いわゆる、ベタ状)に設けられており、それ故、D=0(ゼロ)となっている。共通電極32にも画素電極34と同様にスリットを形成して帯状部分を形成すれば、D≠0とすることができる。こうして形成された帯状共通電極と帯状画素電極34aとの間隔を広くとることにより、
<D
に設定すれば、FFSモードに代えてIPSモードを実現できる。
In order to be able to form a laterally oblique electric field (that is, a parabolic electric field) for realizing the FFS mode, in FIG. 3, a distance D 0 along the substrate surface between the strip-like pixel electrode 34a and the common electrode 32 is set. Smaller than the layer thickness D 1 of the liquid crystal layer 9, that is,
D 1 > D 0
Is set to In particular, in the present embodiment, the common electrode 32 is provided in a planar shape (so-called solid shape) in the sub-pixel region Px on the substrate 5a, and therefore D 0 = 0 (zero). If slits are formed in the common electrode 32 in the same manner as the pixel electrode 34 to form a band-like portion, D 0 ≠ 0 can be established. By widening the distance between the strip-shaped common electrode thus formed and the strip-shaped pixel electrode 34a,
D 1 <D 0
IPS mode can be realized instead of the FFS mode.

斜めスリット37の配列構成は図4に示す構成に限られず、例えば、個々のスリット37の傾斜方向を、サブ画素Pxの長手方向(列方向Y)の中心を境として列方向Yで対称に配置することもできる。つまり、サブ画素Px内の右側半分では上端が右側へ傾斜する状態とし、左側半分では上端が左側へ傾斜する状態とすることができる。   The arrangement configuration of the oblique slits 37 is not limited to the configuration shown in FIG. 4. For example, the inclination directions of the individual slits 37 are symmetrically arranged in the column direction Y with respect to the center in the longitudinal direction (column direction Y) of the subpixel Px. You can also That is, the upper half of the right half in the sub-pixel Px can be inclined to the right, and the upper half can be inclined to the left in the left half.

図1において、それぞれがオーバーコート層であるゲート絶縁膜19及びパシベーション膜29は、シール材4によって囲まれる領域内だけに設けられるだけではなく、シール材4を越えた基板5a上の広い領域内に設けられた膜、すなわち全面オーバーコート層として形成されている。なお、パシベーション膜29及びゲート絶縁膜19は、図2の3つの辺E,E,Eに関しては基板5aの辺端まで設けられており、後述する駆動用IC49が実装される側の辺に関しては辺端までは設けられていない。駆動用IC49が実装される側の辺端部に関しては、パシベーション膜29等はシール材4を越えるものの駆動用IC49を実装するための領域には設けられていない。 In FIG. 1, the gate insulating film 19 and the passivation film 29, each of which is an overcoat layer, are not only provided in a region surrounded by the sealing material 4, but also in a wide region on the substrate 5a beyond the sealing material 4. Is formed as an overcoat layer. The passivation film 29 and the gate insulating film 19 are provided up to the side edge of the substrate 5a with respect to the three sides E 0 , E 1 , E 2 in FIG. There are no edges to the edges. With respect to the side edge portion on the side where the driving IC 49 is mounted, the passivation film 29 and the like are not provided in the region for mounting the driving IC 49 though it exceeds the seal material 4.

図1において、素子基板5に対向するカラーフィルタ基板6は、矢印A方向から見て長方形又は正方形の第2の透光性の基板6aを有する。この第2透光性基板6aは、例えば透光性のガラス、透光性のプラスチック等によって形成されている。第2透光性基板6aの外側表面には偏光板15bが貼り付けられている。必要に応じて、偏光板15b以外の光学要素、例えば位相差板を付加的に設けることもできる。   In FIG. 1, the color filter substrate 6 facing the element substrate 5 includes a second light-transmitting substrate 6 a that is rectangular or square when viewed from the direction of arrow A. The second light transmissive substrate 6a is formed of, for example, light transmissive glass, light transmissive plastic, or the like. A polarizing plate 15b is attached to the outer surface of the second light transmissive substrate 6a. If necessary, an optical element other than the polarizing plate 15b, for example, a retardation plate can be additionally provided.

第2透光性基板6aの内側表面には、図3に示すように、カラーフィルタを構成する着色膜40が形成され、その周囲に遮光膜41が形成されている。個々の着色膜40は矢印A方向から見てサブ画素Pxに対応する長方形又は正方形のドット状(すなわち、島状)に形成されている。また、着色膜40は複数個が矢印A方向から見て行方向X及び列方向Yにマトリクス状に配列されている。遮光膜41はそれらの着色膜40を囲む格子状に形成されている。   As shown in FIG. 3, a colored film 40 constituting a color filter is formed on the inner surface of the second light transmissive substrate 6a, and a light shielding film 41 is formed around the colored film 40. Each colored film 40 is formed in a rectangular or square dot shape (that is, an island shape) corresponding to the sub-pixel Px when viewed from the arrow A direction. A plurality of the colored films 40 are arranged in a matrix in the row direction X and the column direction Y when viewed from the arrow A direction. The light shielding film 41 is formed in a lattice shape surrounding the colored films 40.

着色膜40の個々はR(赤色)、G(緑色)、B(青色)の1つを通過させる光学的特性に設定され、それらR,G,Bの着色膜40が矢印A方向から見て所定の配列、たとえばストライプ配列、モザイク配列、デルタ配列で並べられている。ストライプ配列を採用するものとすれば、図3及び図4において列方向YにR,G,Bの同色が並び、行方向XにR,G,Bが1色ずつ順々に交互に並ぶ。なお、着色膜40の光学的特性は、R,G,Bの3色に限られず、C(シアン)、M(マゼンタ)、Y(イエロー)の3色、あるいは、その他の4色以上とすることもできる。遮光膜41は異なる色の着色膜40を重ねたり、あるいは所定の材料(例えば、Cr(クロム))によって形成される。   Each of the colored films 40 is set to have an optical characteristic that allows one of R (red), G (green), and B (blue) to pass through. The colored films 40 of R, G, and B are viewed from the direction of the arrow A. They are arranged in a predetermined arrangement, for example, a stripe arrangement, a mosaic arrangement, or a delta arrangement. If the stripe arrangement is adopted, the same colors of R, G, and B are arranged in the column direction Y in FIGS. 3 and 4, and R, G, and B are alternately arranged one by one in the row direction X one after another. The optical characteristics of the colored film 40 are not limited to the three colors of R, G, and B, but are set to three colors of C (cyan), M (magenta), and Y (yellow), or other four colors or more. You can also The light shielding film 41 is formed by overlapping colored films 40 of different colors or by using a predetermined material (for example, Cr (chromium)).

本実施形態のように、R,G,Bの3色から成る着色膜40を用いてカラー表示を行う場合は、R,G,Bの3色に対応する3つの着色膜40に対応する3つのサブ画素Pxによって1つの画素が形成される。他方、白黒又は任意の2色でモノカラー表示を行う場合は、1つのサブ画素Pxによって1つの画素が形成される。着色膜40及び遮光膜41の上にオーバーコート層42が形成され、その上に配向膜35bが形成されている。オーバーコート層42は、カラーフィルタ基板6内で他の要素を被覆するために面状に設けられた樹脂層であるが、このオーバーコート層42も素子基板5側のオーバーコート層(パシベーション膜29及びゲート絶縁膜19のそれぞれ)と同様に、図1に示すように、シール材4を越えて延在する全面オーバーコート層として形成されている。   In the case of performing color display using the colored film 40 composed of the three colors R, G, and B as in the present embodiment, 3 corresponding to the three colored films 40 corresponding to the three colors R, G, and B. One pixel is formed by one sub-pixel Px. On the other hand, when monochrome display is performed in black and white or any two colors, one pixel is formed by one sub-pixel Px. An overcoat layer 42 is formed on the coloring film 40 and the light shielding film 41, and an alignment film 35b is formed thereon. The overcoat layer 42 is a resin layer provided in a planar shape to cover other elements in the color filter substrate 6, and this overcoat layer 42 is also an overcoat layer (passivation film 29) on the element substrate 5 side. 1 and the gate insulating film 19, as shown in FIG. 1, it is formed as an entire overcoat layer extending beyond the sealing material 4.

着色膜40は、例えば、感光性樹脂材料に顔料や染料を混合することによって形成されている。オーバーコート層42は光硬化性樹脂、例えばアクリル系樹脂によって形成されている。配向膜35bはポリイミドによって形成されている。オーバーコート層42は、カラーフィルタの構成材料が液晶に混入することを防止する保護膜及びカラーフィルタの表面を平坦化する平坦化膜として機能する。   The colored film 40 is formed, for example, by mixing a pigment or a dye with a photosensitive resin material. The overcoat layer 42 is formed of a photocurable resin, for example, an acrylic resin. The alignment film 35b is made of polyimide. The overcoat layer 42 functions as a protective film that prevents the constituent material of the color filter from being mixed into the liquid crystal and a planarizing film that planarizes the surface of the color filter.

図1において、素子基板5側の配向膜35a及びカラーフィルタ基板6側の配向膜35bに施されるラビング方向は、本実施形態のように液晶層9を負の誘電率異方性を有するネマティック液晶を用いて形成した場合、図5に示すように、列方向Yに平行なアンチパラレル方向である。なお、正の誘電率異方性を有するネマティック液晶を用いて液晶層9を形成する場合には、ラビング方向は行方向Xに平行なアンチパラレル方向である。また、素子基板5側(観察背面側)の偏光板15a及びカラーフィルタ基板6側(観察側)の偏光板15bの各透過軸は互いに直角であり、観察側の偏光板15bの透過軸は、配向膜35a,35bのラビング方向と平行であり、観察背面側の偏光板15aの透過軸はラビング方向と直交している。   In FIG. 1, the rubbing direction applied to the alignment film 35a on the element substrate 5 side and the alignment film 35b on the color filter substrate 6 side is a nematic having a negative dielectric anisotropy in the liquid crystal layer 9 as in this embodiment. When the liquid crystal is used, the antiparallel direction is parallel to the column direction Y as shown in FIG. When the liquid crystal layer 9 is formed using nematic liquid crystal having positive dielectric anisotropy, the rubbing direction is an anti-parallel direction parallel to the row direction X. The transmission axes of the polarizing plate 15a on the element substrate 5 side (observation back side) and the polarizing plate 15b on the color filter substrate 6 side (observation side) are perpendicular to each other, and the transmission axis of the polarizing plate 15b on the observation side is The alignment films 35a and 35b are parallel to the rubbing direction, and the transmission axis of the polarizing plate 15a on the back side of the observation is orthogonal to the rubbing direction.

次に、図1において、素子基板5を構成する第1透光性基板5aはカラーフィルタ基板6の外側へ張り出す張出し部45を有している。この張出し部45の表面には、配線46がフォトエッチング処理等によって形成されている。配線46は矢印A方向から見て複数本形成されており、それらの複数本が行方向Xに沿って互いに間隔を空けて並べられている。また、張出し部45の辺端には複数の外部接続用端子47が行方向Xに沿って互いに間隔を空けて並ぶように形成されている。これらの外部接続用端子47が設けられた張出し部45の辺端に、例えばFPC(Flexible Printed Circuit;可撓性配線回路)基板が接続される。   Next, in FIG. 1, the first translucent substrate 5 a constituting the element substrate 5 has an overhanging portion 45 that projects outward from the color filter substrate 6. A wiring 46 is formed on the surface of the overhanging portion 45 by a photoetching process or the like. A plurality of wirings 46 are formed as viewed from the direction of arrow A, and the plurality of wirings are arranged along the row direction X with a space therebetween. A plurality of external connection terminals 47 are formed along the row direction X so as to be spaced apart from each other at the side edges of the overhanging portion 45. For example, an FPC (Flexible Printed Circuit) substrate is connected to the side end of the overhanging portion 45 provided with these external connection terminals 47.

複数の配線46は、シール材4に囲まれた領域内に向けて列方向Yに延びるように形成されている。これらの配線46の一部は、素子基板5上のソース線20に直接につながってデータ線として機能する。また、複数の配線46の他の一部は、シール材4によって囲まれた領域内で素子基板5の側辺に沿って列方向Yに沿って延びて形成され、さらに折れ曲がって行方向Xへ延びるパターンとして形成されている。この折れ曲がったパターンの配線46は、素子基板5上のゲート線18に直接につながって走査線として機能する。   The plurality of wirings 46 are formed so as to extend in the column direction Y toward a region surrounded by the sealing material 4. Some of these wirings 46 are directly connected to the source line 20 on the element substrate 5 and function as data lines. Further, another part of the plurality of wirings 46 is formed to extend along the column direction Y along the side edge of the element substrate 5 in the region surrounded by the sealing material 4, and further bent to the row direction X. It is formed as an extended pattern. The bent wiring 46 is directly connected to the gate line 18 on the element substrate 5 and functions as a scanning line.

張出し部45の表面には、ACF(Anisotropic Conductive Film:異方性導電膜)48を用いたCOG(Chip On Glass)技術によって駆動用IC49が実装されている。駆動用IC49は、ソース線20へデータ信号を伝送し、ゲート線18へ走査信号を伝送する。駆動用IC49は本実施形態では図2に示すように1つのICチップで形成されている。必要に応じて複数のICチップによって駆動用IC49を構成しても良い。また、駆動用IC49を基板5上に実装するのではなく、液晶パネル2とは別体の回路基板上に実装し、FPC基板を介して液晶パネル2と駆動用IC49とを接続しても良い。   A driving IC 49 is mounted on the surface of the overhang portion 45 by a COG (Chip On Glass) technique using an ACF (Anisotropic Conductive Film) 48. The driving IC 49 transmits a data signal to the source line 20 and transmits a scanning signal to the gate line 18. In this embodiment, the driving IC 49 is formed by one IC chip as shown in FIG. The driving IC 49 may be constituted by a plurality of IC chips as necessary. Further, the driving IC 49 may be mounted on a circuit board separate from the liquid crystal panel 2 instead of being mounted on the substrate 5, and the liquid crystal panel 2 and the driving IC 49 may be connected via the FPC board. .

以上のように構成された液晶装置1によれば、照明装置3をバックライトとして用いて透過型の表示が行われる。具体的には、図1においてLED11が点灯し、それからの光が導光体12へ導入され、さらに光出射面12bから面状の光として出射する。この面状の光が液晶層9へ供給される。こうして液晶層9へ光が供給される間、素子基板5上の画素電極34と共通電極32との間には、走査信号及びデータ信号によって特定される所定の電圧が印加され、液晶層9内の液晶分子の配向がサブ画素Pxごとに制御される。以下、この制御について詳しく説明する。   According to the liquid crystal device 1 configured as described above, transmissive display is performed using the illumination device 3 as a backlight. Specifically, the LED 11 is turned on in FIG. 1, light from the LED 11 is introduced into the light guide 12, and is further emitted as planar light from the light exit surface 12b. This planar light is supplied to the liquid crystal layer 9. In this way, while light is supplied to the liquid crystal layer 9, a predetermined voltage specified by the scanning signal and the data signal is applied between the pixel electrode 34 and the common electrode 32 on the element substrate 5. The orientation of the liquid crystal molecules is controlled for each sub-pixel Px. Hereinafter, this control will be described in detail.

図3において、帯状の画素電極34aと面状の共通電極32とが層間絶縁膜(すなわち、パシベーション膜29及びゲート絶縁膜19)を挟んで積層されている。共通電極32の形状は面状であるので、帯状画素電極34aと共通電極32との間の基板面に沿った(すなわち、列方向Yに沿った)距離Dはゼロであり、液晶層の層厚Dに対する関係はD>Dである。この状態で両電極間に所定の電圧が印加されると、スリット37の近傍で両電極間に横斜め電界Eが発生する。この横斜め電界Eは、液晶層9の厚さ方向(すなわち、Z方向)と横方向(すなわち、列方向Y)の両方向にわたって斜めに進む電界、換言すれば放物線状の電界である。この横斜め電界Eによって、液晶層9内の液晶分子の配向が基板水平面内で制御される。 In FIG. 3, a strip-like pixel electrode 34a and a planar common electrode 32 are stacked with an interlayer insulating film (that is, the passivation film 29 and the gate insulating film 19) interposed therebetween. Since the shape of the common electrode 32 is planar, the distance D 0 along the substrate surface (that is, along the column direction Y) between the strip pixel electrode 34a and the common electrode 32 is zero, and the liquid crystal layer relationship to the layer thickness D 1 is D 1> D 0. When a predetermined voltage is applied between both electrodes in this state, a laterally inclined electric field E is generated between both electrodes in the vicinity of the slit 37. The horizontal oblique electric field E is an electric field that travels obliquely in both the thickness direction (that is, the Z direction) and the lateral direction (that is, the column direction Y) of the liquid crystal layer 9, in other words, a parabolic electric field. The horizontal oblique electric field E controls the orientation of the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 9 in the horizontal plane of the substrate.

この結果、液晶層9内に供給された光がサブ画素Pxごとに変調される。この変調された光が、カラーフィルタ基板6の偏光板15b(図1参照)を通過するとき、その偏光板15bの偏光特性によりサブ画素Pxごとに通過を規制され、素子基板5の表面に文字、数字、図形等といった像が表示され、これが矢印A方向から視認される。この場合、液晶分子の配向の制御は縦方向(基板に対して直角方向)の面内で行われるのではなく、横方向(基板に対して平行方向)の面内で行われるので、観察者が液晶パネル2の表示面を見る角度が斜めに傾いても、液晶分子を見る角度に変化はない。このため、本実施形態のFFSモードは広い視角特性を得ることができる。   As a result, the light supplied into the liquid crystal layer 9 is modulated for each sub-pixel Px. When this modulated light passes through the polarizing plate 15 b (see FIG. 1) of the color filter substrate 6, the passage of light is restricted for each sub-pixel Px due to the polarization characteristics of the polarizing plate 15 b, and characters are applied to the surface of the element substrate 5. Images such as numbers, figures, etc. are displayed and are visually recognized from the direction of arrow A. In this case, the orientation of the liquid crystal molecules is not controlled in the vertical (perpendicular to the substrate) plane, but in the lateral (parallel to the substrate) plane. However, even when the viewing angle of the display surface of the liquid crystal panel 2 is inclined, there is no change in the viewing angle of the liquid crystal molecules. For this reason, the FFS mode of this embodiment can obtain a wide viewing angle characteristic.

ところで、図1において、素子基板5を構成するゲート絶縁膜19及びパシベーション膜29の各オーバーコート層は、基板5a上でシール材4を越えて延在する全面オーバーコート層となっている。また、カラーフィルタ基板6を構成する着色膜40及びオーバーコート層42もシール材4を越えて延在する全面オーバーコート層となっている。   By the way, in FIG. 1, each overcoat layer of the gate insulating film 19 and the passivation film 29 constituting the element substrate 5 is an entire overcoat layer extending beyond the sealing material 4 on the substrate 5a. In addition, the colored film 40 and the overcoat layer 42 constituting the color filter substrate 6 are also an entire overcoat layer extending beyond the sealing material 4.

これらのように、基板5a及び基板6a上に形成されるオーバーコート層を選択オーバーコート層ではなく、全面オーバーコート層とすることにより、シール材4の内周近傍におけるセルギャップGを表示領域V内におけるセルギャップGと等しくすることができ、その結果、シール材4によって囲まれる領域内で表示領域Vを可能な限り大きく設定することができる。換言すれば、表示領域Vの周囲領域であって表示に寄与できない領域である額縁領域を狭くすることができる。   As described above, the overcoat layer formed on the substrate 5a and the substrate 6a is not the selective overcoat layer but the entire overcoat layer, so that the cell gap G in the vicinity of the inner periphery of the sealant 4 is displayed in the display region V. As a result, the display area V can be set as large as possible within the area surrounded by the sealing material 4. In other words, it is possible to narrow a frame area that is an area around the display area V and cannot contribute to display.

しかしながら、素子基板5内のオーバーコート層(ゲート絶縁膜19及びパシベーション膜29)及びカラーフィルタ基板6内のオーバーコート層42を全面オーバーコート層とした場合に、何等の措置も講じなければ、図11(c)に示したように、シール材102を越えてその外側まで延在させられたオーバーコート層103と、液晶注入口106を封止する封止剤104とが直接に接触してしまい、液晶注入口106の近傍の表示領域で表示不良が発生するおそれがある。この表示不良の原因はいくつかあると考えられるが、大きな原因として次のものが考えられる。   However, when the overcoat layer (the gate insulating film 19 and the passivation film 29) in the element substrate 5 and the overcoat layer 42 in the color filter substrate 6 are the entire overcoat layers, no measures are taken. As shown in FIG. 11 (c), the overcoat layer 103 extending beyond the sealing material 102 to the outside thereof and the sealing agent 104 for sealing the liquid crystal injection port 106 are in direct contact with each other. There is a possibility that a display defect may occur in the display area near the liquid crystal injection port 106. There may be several causes of this display failure, but the following are possible as major causes.

すなわち、封止剤104(図1の封止剤10)は光硬化性樹脂、例えばアクリル系樹脂によって形成され、オーバーコート層103(図1のオーバーコート層19,29及びオーバーコート層42)も同じ材料によって形成されているので、両者の硬化の反応は共に光(例えば、紫外線)を用いたラジカル反応が一般的であり、両者の反応メカニズムは近いものである。このため、封止剤104を硬化させるために該封止剤104に光を照射したとき、封止剤104とオーバーコート層103とが互いに反応して反応生成物、例えばイオン性物質が発生し、その反応生成物がオーバーコート層103を伝って表示領域V(図1参照)内へ進入し、その結果、液晶注入口106(図1の液晶注入口8)の近傍の表示領域V内で表示不良、例えば表示ムラが発生するおそれがある。より具体的には、液晶に反応生成物が溶解し、配向膜が吸着することで配向不良を引き起こし、表示ムラが発生することが考えられる。   That is, the sealant 104 (the sealant 10 in FIG. 1) is formed of a photocurable resin such as an acrylic resin, and the overcoat layer 103 (the overcoat layers 19 and 29 and the overcoat layer 42 in FIG. 1) is also formed. Since they are formed of the same material, the curing reaction of both is generally a radical reaction using light (for example, ultraviolet rays), and the reaction mechanisms of both are close. For this reason, when the sealing agent 104 is irradiated with light to cure the sealing agent 104, the sealing agent 104 and the overcoat layer 103 react with each other to generate a reaction product such as an ionic substance. Then, the reaction product enters the display region V (see FIG. 1) through the overcoat layer 103, and as a result, in the display region V in the vicinity of the liquid crystal injection port 106 (the liquid crystal injection port 8 in FIG. 1). There is a risk of display failure, for example, display unevenness. More specifically, it is considered that the reaction product is dissolved in the liquid crystal and the alignment film is adsorbed to cause alignment failure, resulting in display unevenness.

本実施形態では、そのような表示不良の発生を防止するために、以下の構成を採用している。図1及びその平面図である図2に示すように、素子基板5において液晶注入口8の所のオーバーコート層(パシベーション膜29)の上に補助膜51aを設け、さらにカラーフィルタ基板6において液晶注入口8の所のオーバーコート層42の上に補助膜51bを設けている。素子基板5上の補助膜51aは素子基板5内の配向膜35aを形成する際に同じ工程及び同じ材料(本実施形態ではポリイミド)によって形成されている。カラーフィルタ基板6上の補助膜51bはカラーフィルタ基板6内の配向膜35bを形成する際に同じ工程及び同じ材料(本実施形態ではポリイミド)によって形成されている。   In the present embodiment, the following configuration is employed in order to prevent the occurrence of such display defects. As shown in FIG. 1 and FIG. 2 which is a plan view thereof, an auxiliary film 51 a is provided on the overcoat layer (passivation film 29) at the liquid crystal injection port 8 in the element substrate 5. An auxiliary film 51 b is provided on the overcoat layer 42 at the injection port 8. The auxiliary film 51a on the element substrate 5 is formed by the same process and the same material (polyimide in this embodiment) when the alignment film 35a in the element substrate 5 is formed. The auxiliary film 51b on the color filter substrate 6 is formed by the same process and the same material (polyimide in this embodiment) when the alignment film 35b in the color filter substrate 6 is formed.

素子基板5側の補助膜51aは図2に示すように液晶注入口8に対してその幅方向Dwの全域で、その液晶流入方向Drの全域で(補足図(a)参照)、その高さ方向Dh(図1参照)の一部にわたって設けられている。カラーフィルタ基板6側の補助膜51bも液晶注入口8に対して同じ状態に形成されている。   As shown in FIG. 2, the auxiliary film 51a on the element substrate 5 side has a height in the entire width direction Dw and in the entire liquid crystal inflow direction Dr with respect to the liquid crystal injection port 8 (see supplementary figure (a)). It is provided over part of the direction Dh (see FIG. 1). The auxiliary film 51 b on the color filter substrate 6 side is also formed in the same state with respect to the liquid crystal injection port 8.

補助膜51a,51bを液晶注入口8の幅方向Dwの全域に設けたことにより、液晶注入口8を形成しているシール材4と補助膜51a,51bとの間には隙間がない状態となっている。補助膜51a,51bを図1において液晶注入口8の高さ方向Dhの一部に設けたことにより、液晶注入口8を通して行われる液晶の注入処理を支障無く行えることが担保されている。   By providing the auxiliary films 51a and 51b in the entire width direction Dw of the liquid crystal injection port 8, there is no gap between the sealing material 4 forming the liquid crystal injection port 8 and the auxiliary films 51a and 51b. It has become. By providing the auxiliary films 51a and 51b in a part of the height direction Dh of the liquid crystal injection port 8 in FIG. 1, it is ensured that the liquid crystal injection process performed through the liquid crystal injection port 8 can be performed without any trouble.

素子基板5側の補助膜51aを液晶注入口8の液晶流入方向Drの全域に設けたことにより、オーバーコート層(パシベーション膜29)と封止剤10との接触面のほぼ全面に補助膜51aが介在し、これにより、オーバーコート層29と封止剤10とが互いに直接に接触することが阻止されている。また、カラーフィルタ基板6側の補助膜51bを液晶注入口8の液晶流入方向Drの全域に設けたことにより、オーバーコート層42と封止剤10とが互いに直接に接触することが阻止されている。   Since the auxiliary film 51a on the element substrate 5 side is provided in the entire area of the liquid crystal inlet 8 in the liquid crystal inflow direction Dr, the auxiliary film 51a is formed on almost the entire contact surface between the overcoat layer (passivation film 29) and the sealant 10. This prevents the overcoat layer 29 and the sealant 10 from coming into direct contact with each other. Further, by providing the auxiliary film 51b on the color filter substrate 6 side in the whole area of the liquid crystal inlet 8 in the liquid crystal inflow direction Dr, the overcoat layer 42 and the sealant 10 are prevented from coming into direct contact with each other. Yes.

以上のように補助膜51aが封止剤10とオーバーコート層29との間に介在し、補助膜51bが封止剤10とオーバーコート層42との間に介在することにより、封止剤10とオーバーコート層29,42とが直接に接触することを、硬化の反応機構がそれらと異なる材料によって阻止したので、封止剤10とオーバーコート層29,42との反応を回避することができる。   As described above, the auxiliary film 51a is interposed between the sealant 10 and the overcoat layer 29, and the auxiliary film 51b is interposed between the sealant 10 and the overcoat layer 42. And the overcoat layers 29 and 42 are prevented from coming into direct contact with each other because the curing reaction mechanism is prevented by a material different from them, so that the reaction between the sealant 10 and the overcoat layers 29 and 42 can be avoided. .

本実施形態では、補助膜51a及び51bを、それぞれ、配向膜35a及び35bと同じ材料であるポリイミドによって、それらの形成工程と同じ工程によって形成したので、補助膜を形成するためだけの専用の工程及び材料を必要とすることが無く、コストが高くなることを回避できる。   In the present embodiment, the auxiliary films 51a and 51b are formed of polyimide, which is the same material as the alignment films 35a and 35b, by the same process as those forming processes. Therefore, a dedicated process only for forming the auxiliary film. In addition, no material is required, and it is possible to avoid an increase in cost.

本実施形態では、補助膜51a,51bを配向膜の材料であるポリイミドによって形成した。このポリイミドは、アクリル系樹脂に光を照射したときに発生するイオン性物質を吸着する性質を有する材料である。このように、イオン性物質を吸着し易い材料によって補助膜51a,51bを形成すれば、表示領域内へのイオン性物質の進入をより確実に阻止できるので好都合である。なお、イオン性物質を吸着し易い材料としては、一般に絶縁膜として用いられるSiN、SiO等も考えられる。 In this embodiment, the auxiliary films 51a and 51b are formed of polyimide which is a material for the alignment film. This polyimide is a material having a property of adsorbing an ionic substance generated when light is applied to an acrylic resin. In this way, if the auxiliary films 51a and 51b are formed of a material that easily adsorbs the ionic substance, it is advantageous because the entry of the ionic substance into the display region can be more reliably prevented. Note that SiN, SiO 2 or the like generally used as an insulating film is also conceivable as a material that easily adsorbs ionic substances.

さらに、補助膜51a,51bとしては、光量を減衰して光を通過させる性質を有する材料を用いることも好都合である。その理由は、封止剤10を硬化させるために該封止剤10に光が照射されたとき、補助膜51a,51bの働きにより、オーバーコート層29,42への光照射量を減少させることができ、反応生成物の発生量を減少させることができるからである。ポリイミド、SiN、SiO等は光量を減衰する機能をある程度達成できると考えられる。 Further, as the auxiliary films 51a and 51b, it is also convenient to use a material having the property of attenuating the light amount and allowing the light to pass therethrough. The reason is that when the sealant 10 is irradiated with light to cure the sealant 10, the amount of light applied to the overcoat layers 29 and 42 is reduced by the action of the auxiliary films 51a and 51b. This is because the amount of reaction products generated can be reduced. It is considered that polyimide, SiN, SiO 2 or the like can achieve the function of attenuating the amount of light to some extent.

図2に示すように、配向膜35aと補助膜51aとの間には間隙K、すなわち配向膜35a及び補助膜51aの構成材料であるポリイミドが無い部分が設けられている。仮に、配向膜35aと補助膜51aとがつながっていると、イオン性物質等といった反応生成物がクロマト現象により表示領域内へ流れ込むおそれがある。これに対し、配向膜35aと補助膜51aとの間に間隙Kを設けておけば、反応生成物の表示領域内への流入を確実に防止できる。なお、図1から分かるように、カラーフィルタ基板6内において配向膜35bと補助膜51bとの間にも間隙Kが設けられている。   As shown in FIG. 2, between the alignment film 35a and the auxiliary film 51a, a gap K, that is, a portion where there is no polyimide as a constituent material of the alignment film 35a and the auxiliary film 51a is provided. If the alignment film 35a and the auxiliary film 51a are connected, a reaction product such as an ionic substance may flow into the display region due to a chromatographic phenomenon. On the other hand, if the gap K is provided between the alignment film 35a and the auxiliary film 51a, the reaction product can be reliably prevented from flowing into the display region. As can be seen from FIG. 1, a gap K is also provided in the color filter substrate 6 between the alignment film 35b and the auxiliary film 51b.

(液晶装置の第2実施形態)
図6は本発明に係る液晶装置の第2実施形態を示している。この第2実施形態が図1から図4を用いて説明した先の実施形態と異なる点は、封止剤10を光照射によって硬化させる際に発生する反応生成物、例えばイオン性物質が表示に悪影響を及ぼすことを防止するための補助膜に改変を加えたことである。この第2実施形態に係る液晶装置の全体的な構成は図1及び図2に示した構成と同じであるので、その全体的な構成についての詳しい説明は省略する。
(Second Embodiment of Liquid Crystal Device)
FIG. 6 shows a second embodiment of the liquid crystal device according to the present invention. The second embodiment is different from the previous embodiment described with reference to FIGS. 1 to 4 in that a reaction product generated when the sealant 10 is cured by light irradiation, for example, an ionic substance is displayed. This is to modify the auxiliary membrane to prevent adverse effects. Since the overall configuration of the liquid crystal device according to the second embodiment is the same as the configuration shown in FIGS. 1 and 2, detailed description of the overall configuration is omitted.

本実施形態に係る液晶装置1又は液晶パネル2において、図6(b)に示す素子基板5側の補助膜151a及びカラーフィルタ基板6側の補助膜151bは、共に、図6(a)に示すように、液晶注入口8に対してその幅方向Dwの全域で、その液晶流入方向Drの一部領域で、その高さ方向Dhの一部にわたって設けられている。図1及び図2に示した先の実施形態では、補助膜51a,51bが液晶流入方向Drの全域にわたって設けられることにより、補助膜51a,51bがオーバーコート層29,42と封止剤10との間に介在してそれらを隔絶していたが、本実施形態では補助膜151a,151bは封止剤10から離れた位置でオーバーコート層29,42の上に設けられている。   In the liquid crystal device 1 or the liquid crystal panel 2 according to this embodiment, the auxiliary film 151a on the element substrate 5 side and the auxiliary film 151b on the color filter substrate 6 side shown in FIG. 6B are both shown in FIG. As described above, the liquid crystal injection port 8 is provided in the entire width direction Dw, in a partial region in the liquid crystal inflow direction Dr, and in a part in the height direction Dh. In the previous embodiment shown in FIGS. 1 and 2, the auxiliary films 51 a and 51 b are provided over the entire area in the liquid crystal inflow direction Dr, so that the auxiliary films 51 a and 51 b are overcoated layers 29 and 42, the sealing agent 10, and the like. However, in this embodiment, the auxiliary films 151 a and 151 b are provided on the overcoat layers 29 and 42 at positions away from the sealant 10.

本実施形態では、補助膜151a,151bは液晶注入口8が表示領域Vへ向けて拡開する部分の角部において全幅にわたって設けられている。しかしながら、補助膜151a,151bは、拡開部ではなく、液晶注入口8の中間部分に設けることもできる。   In the present embodiment, the auxiliary films 151 a and 151 b are provided over the entire width at the corner of the portion where the liquid crystal injection port 8 expands toward the display region V. However, the auxiliary films 151 a and 151 b can be provided not in the expanded portion but in the intermediate portion of the liquid crystal injection port 8.

本実施形態のように、オーバーコート層29,42を全面オーバーコート層とした場合には、封止剤10とそれらのオーバーコート層29,42が直接に接触することに起因して反応生成物(例えば、イオン性物質)が発生することより、液晶注入口8の近傍の表示領域に表示ムラ等といった表示不良が発生してしまうことがある。しかしながら、この場合、仮に反応生成物が発生したとしてもそれが表示領域Vまで進行しなければ、表示不良にならないことがある。   When the overcoat layers 29 and 42 are full surface overcoat layers as in this embodiment, the reaction product is caused by the direct contact between the sealing agent 10 and the overcoat layers 29 and 42. Due to the occurrence of (for example, an ionic substance), display defects such as display unevenness may occur in the display area near the liquid crystal inlet 8. However, in this case, even if a reaction product is generated, if it does not proceed to the display area V, display failure may not occur.

本実施形態では、封止剤10を光照射によって硬化させる際に、その封止剤10とオーバーコート層29,42との接触部近傍において反応生成物が発生しても、その反応生成物が補助膜151a,151bに吸着してトラップされ、表示領域V内へ進入することが阻止される。これにより、液晶注入口8の近傍で表示不良が発生することを防止できる。この意味から、補助膜151a,151bは反応生成物(例えば、イオン性物質)を吸着できる性質を有する材料によって形成されることが望ましく、配向膜35a,35bの材料であるポリイミドは実用上十分にその要求に応えることができる材料である。   In this embodiment, even when a reaction product is generated in the vicinity of the contact portion between the sealant 10 and the overcoat layers 29 and 42 when the sealant 10 is cured by light irradiation, the reaction product is generated. It is adsorbed and trapped on the auxiliary films 151a and 151b and is prevented from entering the display area V. Thereby, it is possible to prevent a display defect from occurring in the vicinity of the liquid crystal injection port 8. In this sense, the auxiliary films 151a and 151b are desirably formed of a material having a property capable of adsorbing a reaction product (for example, an ionic substance), and polyimide that is a material of the alignment films 35a and 35b is practically sufficient. It is a material that can meet that demand.

なお、配向膜と同じ材料であるポリイミドとは別の材料であって、ポリイミドよりも反応生成物の吸着性の高い材料を用いて補助膜膜151a,151bを形成することもできる。この場合には、補助膜を形成するための工程が配向膜の形成工程に加えて増えるためにコストアップを招来するおそれがある。しなかしながら、そのようなコストアップを認めた上で反応生成物の吸着によるトラップ能力を高めることができる。   The auxiliary film 151a and 151b can be formed using a material different from polyimide, which is the same material as the alignment film, and having a higher adsorbability of the reaction product than polyimide. In this case, the number of steps for forming the auxiliary film increases in addition to the step of forming the alignment film, which may increase the cost. However, the trap capability by adsorption of the reaction product can be enhanced after the cost increase is recognized.

図1及び図2に示した先の実施形態のように、補助膜51a,51bを液晶注入口8の液晶流入方向Drに沿った全面に形成することにより、反応生成物の発生それ自体を防止することが、表示不良の発生を防止する上で非常に好ましい構成であることは間違いないが、液晶注入口8の全体を覆うように補助膜51a,51bを設けると、他の要因によって品質不良を起こす可能性がある。   As in the previous embodiment shown in FIGS. 1 and 2, the auxiliary films 51a and 51b are formed on the entire surface of the liquid crystal injection port 8 along the liquid crystal inflow direction Dr, thereby preventing the generation of reaction products themselves. However, when the auxiliary films 51a and 51b are provided so as to cover the entire liquid crystal injection port 8, there is no quality defect due to other factors. May cause.

例えば、図2において、配向膜35a及び補助膜51aを形成する際の印刷ズレにより、補助膜51aがシール材4の下に完全に潜り込んでしまうと、シール材4の密着性が著しく損なわれ、液晶パネル2のパネル強度が低下するおそれがある。また、配向膜35a及び補助膜51aの材料であるポリイミドの濡れ性の影響により、配向膜35a及び補助膜51aの形成領域がそれらの印刷後に大きくなって、シール材4の外側部分にまで配向膜35a及び補助膜51aが形成されてしまうと、外部環境(例えば、高温高湿)により、シール材4の外部に形成されたポリイミドが影響を受けて、クロマト現象により、液晶パネルの内部にまで影響が及ぶおそれがある。   For example, in FIG. 2, if the auxiliary film 51 a completely sinks under the sealing material 4 due to printing misalignment when forming the alignment film 35 a and the auxiliary film 51 a, the adhesion of the sealing material 4 is significantly impaired. The panel strength of the liquid crystal panel 2 may be reduced. In addition, due to the influence of the wettability of polyimide, which is the material of the alignment film 35a and the auxiliary film 51a, the formation region of the alignment film 35a and the auxiliary film 51a becomes larger after printing, and the alignment film extends to the outer portion of the sealing material 4 as well. If the 35a and the auxiliary film 51a are formed, the polyimide formed outside the sealing material 4 is affected by the external environment (for example, high temperature and high humidity), and the inside of the liquid crystal panel is affected by the chromatographic phenomenon. There is a risk that.

補助膜151a,151bを液晶注入口8の一部分に設けることにした本実施形態によれば、上記のようなシール材の密着性の低下や、ポリイミドがシール材の外部へはみ出ることに起因する上記のような不都合を回避できる。   According to the present embodiment in which the auxiliary films 151a and 151b are provided in a part of the liquid crystal injection port 8, the above-described deterioration of the adhesiveness of the sealing material as described above, and the above-mentioned that the polyimide protrudes outside the sealing material. Such inconveniences can be avoided.

(液晶装置の第3実施形態)
図7は本発明に係る液晶装置の第3実施形態を示している。この第3実施形態に係る液晶装置の全体的な構成は図1及び図2に示した構成と同じであるので、それについての詳しい説明は省略する。
(Third embodiment of liquid crystal device)
FIG. 7 shows a third embodiment of a liquid crystal device according to the present invention. Since the overall configuration of the liquid crystal device according to the third embodiment is the same as the configuration shown in FIGS. 1 and 2, a detailed description thereof will be omitted.

本実施形態において、カラーフィルタ基板6側の補助膜251bは図6(b)に示した実施形態における補助膜151bと同じ構成、ずなわち、液晶注入口8の液晶流入方向Drの一部分、特に液晶注入口8の拡開角部に設けられている。一方、素子基板5側の補助膜251aは図1に示した補助膜51aと異なり、図6(b)に示した補助膜151aとも異なった構成となっている。   In this embodiment, the auxiliary film 251b on the color filter substrate 6 side has the same configuration as the auxiliary film 151b in the embodiment shown in FIG. 6B, that is, a part of the liquid crystal inflow direction Dr of the liquid crystal injection port 8, in particular. It is provided at the widening angle portion of the liquid crystal injection port 8. On the other hand, the auxiliary film 251a on the element substrate 5 side is different from the auxiliary film 51a shown in FIG. 1 and is different from the auxiliary film 151a shown in FIG. 6B.

具体的には、補助膜251aは、オーバーコート層29の液晶注入口8に対応する部分の表面全面を覆った上で、さらに下方へ曲がってオーバーコート層19,29の辺端側面をも覆っている。これにより、封止剤10とオーバーコート層19,29との接触は略完全に防止され、封止剤10を光照射によって硬化させる際の反応生成物の生成をより大きく抑制できる。   Specifically, the auxiliary film 251a covers the entire surface of the portion corresponding to the liquid crystal injection port 8 of the overcoat layer 29, and then bends further downward to cover the side edges of the overcoat layers 19 and 29. ing. Thereby, contact with sealing agent 10 and overcoat layers 19 and 29 is prevented almost completely, and generation of a reaction product when hardening sealing agent 10 by light irradiation can be greatly suppressed.

(液晶装置に関するその他の実施形態)
以上、液晶装置に関して好ましい実施形態を挙げて説明したが、本発明はその実施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。
例えば、上記の各実施形態では、FFSモードの液晶装置に本発明を適用したが、本発明は同じ横電界型液晶装置に属するIPSモードの液晶装置にも適用できる。ここで、IPSモードは、横斜め電界(すなわち、放物線状電界)ではなくて、斜め成分をほとんど含まない横電界を画素電極と共通電極との間に形成するタイプの動作モードである。この横電界は、液晶層の層厚方向の電界がほとんど無く、基板面に平行な電界だけによって形成される電界である。この横電界は、画素電極と共通電極との間の基板平面に沿った距離を液晶層の層厚よりも十分に大きくとることによって形成できる。
(Other Embodiments Related to Liquid Crystal Device)
The preferred embodiments of the liquid crystal device have been described above, but the present invention is not limited to the embodiments, and various modifications can be made within the scope of the invention described in the claims.
For example, in each of the above embodiments, the present invention is applied to the FFS mode liquid crystal device, but the present invention can also be applied to an IPS mode liquid crystal device belonging to the same lateral electric field type liquid crystal device. Here, the IPS mode is an operation mode of a type in which a lateral electric field containing almost no oblique component is formed between the pixel electrode and the common electrode, instead of a lateral oblique electric field (that is, a parabolic electric field). This transverse electric field is an electric field that is formed only by an electric field parallel to the substrate surface, with almost no electric field in the thickness direction of the liquid crystal layer. This lateral electric field can be formed by making the distance along the substrate plane between the pixel electrode and the common electrode sufficiently larger than the thickness of the liquid crystal layer.

上記の実施形態は、横電界型液晶装置の1つであるFFSモードの液晶装置に本発明を適用したものであるが、本発明はTN型液晶装置に代表される縦電界型の液晶装置に対しても適用できる。さらに、本発明は、液晶注入口を備えたシール材によって一対の基板を貼り合わせる構成の任意の構成の液晶装置にも適用できる。   In the above embodiment, the present invention is applied to an FFS mode liquid crystal device which is one of the horizontal electric field type liquid crystal devices, but the present invention is applied to a vertical electric field type liquid crystal device represented by a TN liquid crystal device. It can also be applied to. Furthermore, the present invention can be applied to a liquid crystal device having an arbitrary configuration in which a pair of substrates are bonded to each other with a sealing material having a liquid crystal injection port.

上記の実施形態では、スイッチング素子として3端子型のスイッチング素子であるTFT素子を用いる液晶装置に本発明を適用したが、本発明は、スイッチング素子として2端子型のスイッチング素子、例えばTFD(Thin Film Diode:薄膜ダイオード)素子を用いる液晶装置にも適用できる。   In the above embodiment, the present invention is applied to a liquid crystal device using a TFT element which is a three-terminal switching element as a switching element. However, the present invention is a two-terminal switching element such as a TFD (Thin Film) as the switching element. The present invention can also be applied to a liquid crystal device using a diode (thin film diode) element.

(電子機器の第1実施形態)
以下、本発明に係る電子機器の実施形態を説明する。なお、この実施形態は本発明の一例を示すものであり、本発明はこの実施形態に限定されるものではない。
(First Embodiment of Electronic Device)
Hereinafter, embodiments of an electronic apparatus according to the present invention will be described. In addition, this embodiment shows an example of this invention and this invention is not limited to this embodiment.

図8は、本発明に係る電子機器の一実施形態を示している。ここに示す電子機器は、液晶装置201と、これを制御する制御回路202とを有する。制御回路202は、表示情報出力源205、表示情報処理回路206、電源回路207及びタイミングジェネレータ208によって構成される。そして、液晶装置201は液晶パネル203及び駆動回路204を有する。   FIG. 8 shows an embodiment of an electronic apparatus according to the invention. The electronic device shown here includes a liquid crystal device 201 and a control circuit 202 that controls the liquid crystal device 201. The control circuit 202 includes a display information output source 205, a display information processing circuit 206, a power supply circuit 207, and a timing generator 208. The liquid crystal device 201 includes a liquid crystal panel 203 and a drive circuit 204.

表示情報出力源205は、RAM(Random Access Memory)等といったメモリや、各種ディスク等といったストレージユニットや、ディジタル画像信号を同調出力する同調回路等を備え、タイミングジェネレータ208により生成される各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等といった表示情報を表示情報処理回路206に供給する。   The display information output source 205 includes a memory such as a RAM (Random Access Memory), a storage unit such as various disks, a tuning circuit that tunes and outputs a digital image signal, and various clock signals generated by the timing generator 208. The display information processing circuit 206 is supplied with display information such as an image signal in a predetermined format.

次に、表示情報処理回路206は、増幅・反転回路や、ローテーション回路や、ガンマ補正回路や、クランプ回路等といった周知の回路を多数備え、入力した表示情報の処理を実行して、画像信号をクロック信号CLKと共に駆動回路204へ供給する。ここで、駆動回路204は、走査線駆動回路やデータ線駆動回路と共に、検査回路等を総称したものである。また、電源回路207は、上記の各構成要素に所定の電源電圧を供給する。   Next, the display information processing circuit 206 includes a number of well-known circuits such as an amplification / inversion circuit, a rotation circuit, a gamma correction circuit, a clamp circuit, and the like, executes processing of input display information, and outputs an image signal. It is supplied to the drive circuit 204 together with the clock signal CLK. Here, the drive circuit 204 is a general term for an inspection circuit and the like together with a scanning line drive circuit and a data line drive circuit. The power supply circuit 207 supplies a predetermined power supply voltage to each of the above components.

液晶装置201は、例えば、図1に示した液晶装置1を用いて構成できる。この液晶装置1においては、全面オーバーコート層の採用により額縁領域を狭くすることができ、液晶注入口の所に設けた補助膜の働きにより液晶注入口の近傍で表示不良が発生することを防止できる。従って、この液晶装置1を用いた本実施形態の電子機器においては、液晶装置201の周辺に十分なスペースを確保でき、表示部において局所的な表示不良が発生することを防止できる。   The liquid crystal device 201 can be configured using, for example, the liquid crystal device 1 shown in FIG. In this liquid crystal device 1, the frame area can be narrowed by adopting the entire overcoat layer, and display defects can be prevented from occurring in the vicinity of the liquid crystal inlet by the function of the auxiliary film provided at the liquid crystal inlet. it can. Therefore, in the electronic apparatus of this embodiment using the liquid crystal device 1, a sufficient space can be secured around the liquid crystal device 201, and local display defects can be prevented from occurring in the display unit.

(電子機器の第2実施形態)
図9は、本発明に係る電子機器の他の実施形態である携帯電話機を示している。ここに示す携帯電話機210は、本体部211と、この本体部211に対して開閉可能に設けられた表示体部212とを有する。本体部211には操作ボタン215及び送話部216が設けられる。表示体部212には表示装置213及び受話部217が設けられる。電話通信に関する各種表示は、表示装置213の表示画面214に表示される。表示装置213の動作を制御するための制御部は、携帯電話機の全体の制御を司る制御部の一部として、又はその制御部とは別に、本体部211又は表示体部212の内部に格納される。
(Second Embodiment of Electronic Device)
FIG. 9 shows a mobile phone which is another embodiment of the electronic apparatus according to the present invention. A cellular phone 210 shown here includes a main body 211 and a display body 212 provided so as to be openable and closable with respect to the main body 211. The main body 211 is provided with an operation button 215 and a transmitter 216. The display body 212 is provided with a display device 213 and a receiver 217. Various displays relating to telephone communication are displayed on the display screen 214 of the display device 213. A control unit for controlling the operation of the display device 213 is stored in the main unit 211 or the display unit 212 as a part of the control unit that controls the entire mobile phone or separately from the control unit. The

表示装置213は、例えば、図1に示した液晶装置1を用いて構成できる。この液晶装置1においては、全面オーバーコート層の採用により額縁領域を狭くすることができ、液晶注入口の所に設けた補助膜の働きにより液晶注入口の近傍で表示不良が発生することを防止できる。従って、この液晶装置1を用いた本実施形態の携帯電話機210においては、表示装置213の周辺に十分なスペースを確保でき、表示部において局所的な表示不良が発生することを防止できる。   The display device 213 can be configured using, for example, the liquid crystal device 1 shown in FIG. In this liquid crystal device 1, the frame area can be narrowed by adopting the entire overcoat layer, and display defects can be prevented from occurring in the vicinity of the liquid crystal inlet by the function of the auxiliary film provided at the liquid crystal inlet. it can. Therefore, in the mobile phone 210 of this embodiment using the liquid crystal device 1, a sufficient space can be secured around the display device 213, and local display defects can be prevented from occurring in the display unit.

なお、本発明を適用可能な電子機器としては、以上に説明した携帯電話機等の他にも、パーソナルコンピュータ、液晶テレビ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、POS端末器等が挙げられる。   Note that electronic devices to which the present invention can be applied include personal computers, liquid crystal televisions, viewfinder type or monitor direct-view type video tape recorders, car navigation devices, pagers, electronic devices, in addition to the mobile phones described above. Notebooks, calculators, word processors, workstations, video phones, POS terminals, etc.

本発明に係る液晶装置の一実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one Embodiment of the liquid crystal device which concerns on this invention. 図1のZ2−Z2線に従った平面断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional plan view taken along line Z2-Z2 in FIG. 図1の矢印Z3で示す部分を拡大して示す図である。It is a figure which expands and shows the part shown by the arrow Z3 of FIG. 図3のZ4−Z4線に従った平面図である。It is a top view according to the Z4-Z4 line of FIG. 光学要素の光軸関係を示す図である。It is a figure which shows the optical axis relationship of an optical element. 本発明に係る液晶装置の他の実施形態の要部を示す図であり、(a)は平面断面図、(b)は側面断面図を示している。It is a figure which shows the principal part of other embodiment of the liquid crystal device which concerns on this invention, (a) is plane sectional drawing, (b) has shown side surface sectional drawing. 本発明に係る液晶装置のさらに他の実施形態の要部を示す側面断面図である。It is side surface sectional drawing which shows the principal part of other embodiment of the liquid crystal device which concerns on this invention. 本発明に係る電子機器の一実施形態を示すブロック図である。It is a block diagram which shows one Embodiment of the electronic device which concerns on this invention. 本発明に係る電子機器の他の実施形態である携帯電話機を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the mobile telephone which is other Embodiment of the electronic device which concerns on this invention. 本発明に関連する先行技術を含む液晶装置を示す側面断面図である。It is side surface sectional drawing which shows the liquid crystal device containing the prior art relevant to this invention. 従来の液晶装置の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the conventional liquid crystal device.

符号の説明Explanation of symbols

1.液晶装置、 2.液晶パネル、 3.照明装置、 4.シール材、 5.素子基板、
5a.第1透光性基板、 6.カラーフィルタ基板、 6a.第2透光性基板、
7.柱状スペーサ、 8.液晶注入口、 9.液晶層、 10.封止剤、
15a,15b.偏光板、 18.ゲート線、 18a.ゲート電極、
19.ゲート絶縁膜、 20.ソース線、 21.TFT素子、 22.半導体膜、
24.ソース電極、 25.ドレイン電極、 26.共通線、
29.パシベーション膜(オーバーコート層)、 32.共通電極、 34.画素電極、
34a.帯状画素電極、 35a,35b.配向膜、 36.スルーホール、
37.スリット、 40.着色膜、 41.遮光膜、 42.オーバーコート層、
45.張出し部、 46.配線、 47.外部接続用端子、 48.ACF、
49.駆動用IC、
51a,51b、151a,151b,251a,251b.補助膜、
201.液晶装置、 203.液晶パネル、 204.駆動回路、
210.携帯電話機(電子機器)、213.表示装置、 214.表示画面、
.液晶層厚、 D.電極間隔、 D.高さ方向、 D.幅方向、
.液晶流入方向、 E.横斜め電界、 G.セルギャップ、 K.間隙、
Px.サブ画素、 V.表示領域
1. 1. liquid crystal device 2. Liquid crystal panel 3. lighting device; 4. sealing material; Element substrate,
5a. 5. first translucent substrate; Color filter substrate, 6a. A second translucent substrate,
7). Columnar spacers, 8. Liquid crystal inlet, 9. Liquid crystal layer, 10. Sealant,
15a, 15b. Polarizing plate, 18. A gate line, 18a. Gate electrode,
19. Gate insulating film, 20. Source line, 21. TFT element, 22. Semiconductor film,
24. Source electrode, 25. Drain electrode, 26. Common line,
29. 32. Passivation film (overcoat layer) Common electrode, 34. Pixel electrodes,
34a. Strip pixel electrodes 35a, 35b. Alignment film, 36. Through hole,
37. Slit, 40. Colored film, 41. Light shielding film, 42. Overcoat layer,
45. 46. Overhang part Wiring, 47. Terminal for external connection, 48. ACF,
49. Driving IC,
51a, 51b, 151a, 151b, 251a, 251b. Auxiliary membrane,
201. Liquid crystal device, 203. Liquid crystal panel, 204. Drive circuit,
210. Mobile phone (electronic device), 213. Display device, 214. Display screen,
D 1 . Liquid crystal layer thickness, D 0 . Electrode spacing, D h . Height direction, Dw . Width direction,
Dr. E. Liquid crystal inflow direction Lateral oblique electric field; Cell gap; gap,
Px. Sub-pixels, V. Indicated Area

Claims (13)

液晶注入口を備え表示領域を取り囲むシール材によって互いに貼り合わされた一対の基板と、
前記液晶注入口を通して前記一対の基板間に注入された液晶と、
前記液晶注入口を封止した封止剤と、
前記一対の基板の少なくとも一方に設けられたオーバーコート層とを有し、
前記オーバーコート層は前記シール材の外側まで延在して形成され、
前記封止剤及び前記オーバーコート層はアクリル系樹脂を含む材料によって形成されており、
前記液晶注入口の開口された幅方向の全域であって、且つ、前記液晶注入口内の液晶流入方向の少なくとも一部において補助膜を設けた
ことを特徴とする液晶装置。
A pair of substrates bonded together by a sealing material having a liquid crystal inlet and surrounding a display area;
Liquid crystal injected between the pair of substrates through the liquid crystal injection port;
A sealant that seals the liquid crystal injection port;
An overcoat layer provided on at least one of the pair of substrates;
The overcoat layer is formed to extend to the outside of the sealing material,
The sealant and the overcoat layer are formed of a material containing an acrylic resin,
A liquid crystal device, wherein an auxiliary film is provided in the entire width direction of the liquid crystal inlet and in at least a part of the liquid crystal inflow direction in the liquid crystal inlet.
請求項1記載の液晶装置において、前記補助膜は、該補助膜の一部が前記一対の基板の少なくとも一方の基板と前記シール材との間に配置されていることを特徴とする液晶装置。   2. The liquid crystal device according to claim 1, wherein a part of the auxiliary film is disposed between at least one of the pair of substrates and the sealing material. 請求項1又は請求項2記載の液晶装置において、前記補助膜は前記封止剤と前記オーバーコート層との間に介在すると共に前記オーバーコート層を前記封止剤から隔絶することを特徴とする液晶装置。   3. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the auxiliary film is interposed between the sealing agent and the overcoat layer and isolates the overcoat layer from the sealing agent. Liquid crystal device. 請求項3記載の液晶装置において、前記補助膜は、光量を減衰して光を通過させる性質を有する材料又はアクリル系樹脂に光を照射したときに発生するイオン性物質を吸着する性質を有する材料によって形成されることを特徴とする液晶装置。   4. The liquid crystal device according to claim 3, wherein the auxiliary film is a material having a property of attenuating the amount of light and allowing light to pass therethrough or a material having a property of adsorbing an ionic substance generated when the acrylic resin is irradiated with light. A liquid crystal device formed by: 請求項1又は請求項2記載の液晶装置において、前記補助膜は前記封止剤から離れた位置で前記オーバーコート層の上に設けられることを特徴とする液晶装置。   3. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the auxiliary film is provided on the overcoat layer at a position away from the sealant. 請求項5記載の液晶装置において、前記補助膜は、アクリル系樹脂に光を照射したときに発生するイオン性物質を吸着する性質を有する材料によって形成されることを特徴とする液晶装置。   6. The liquid crystal device according to claim 5, wherein the auxiliary film is made of a material having a property of adsorbing an ionic substance generated when the acrylic resin is irradiated with light. 請求項5又は請求項6記載の液晶装置において、前記補助膜は前記液晶注入口のうち表示領域へ向けて拡開する部分の幅方向にわたって設けられることを特徴とする液晶装置。   7. The liquid crystal device according to claim 5, wherein the auxiliary film is provided over a width direction of a portion of the liquid crystal injection port that expands toward a display region. 請求項1から請求項7のいずれか1つに記載の液晶装置において、
前記一対の基板の一方には複数色の着色膜が同一層内に設けられ、前記オーバーコート層は該着色膜を覆う平坦化膜であることを特徴とする液晶装置。
The liquid crystal device according to any one of claims 1 to 7,
One of the pair of substrates is provided with a plurality of colored films in the same layer, and the overcoat layer is a planarizing film that covers the colored film.
請求項1から請求項8のいずれか1つに記載の液晶装置において、前記オーバーコート層の上に設けられた配向膜をさらに有し、前記補助膜は配向膜と同じ材料によって形成されることを特徴とする液晶装置。   9. The liquid crystal device according to claim 1, further comprising an alignment film provided on the overcoat layer, wherein the auxiliary film is formed of the same material as the alignment film. A liquid crystal device characterized by the above. 請求項9記載の液晶装置において、前記配向膜と前記補助膜との間には間隙が設けられることを特徴とする液晶装置。   10. The liquid crystal device according to claim 9, wherein a gap is provided between the alignment film and the auxiliary film. 液晶注入口を備え表示領域を取り囲むシール材によって互いに貼り合わされた一対の基板と、
前記液晶注入口を通して前記一対の基板間に注入された液晶と、
前記液晶注入口を封止した封止剤と、
前記一対の基板の少なくとも一方に設けられたオーバーコート層とを有し、
前記オーバーコート層は前記シール材の外側まで延在し、
前記封止剤及び前記オーバーコート層は光硬化性樹脂によって形成され、
前記液晶注入口に対してその幅方向の全域で、その液晶流入方向の少なくとも一部で、その高さ方向の一部にわたって補助膜を設けた
ことを特徴とする液晶装置。
A pair of substrates bonded together by a sealing material having a liquid crystal inlet and surrounding a display area;
Liquid crystal injected between the pair of substrates through the liquid crystal injection port;
A sealant that seals the liquid crystal injection port;
An overcoat layer provided on at least one of the pair of substrates;
The overcoat layer extends to the outside of the sealing material,
The sealant and the overcoat layer are formed of a photocurable resin,
A liquid crystal device, wherein an auxiliary film is provided over the liquid crystal injection port in the entire width direction, at least part of the liquid crystal inflow direction, and over part of the height direction.
液晶注入口を備え表示領域を取り囲むシール材によって互いに貼り合わされた第1基板及び第2基板と、
前記液晶注入口を通して前記第1基板と前記第2基板との間に注入された液晶と、
前記液晶注入口を封止した封止剤と、
前記第1基板上に設けられたスイッチング素子と、
前記スイッチング素子の電極端子に接続された画素電極と、
絶縁膜を挟んで前記画素電極に対向して設けられた共通電極と、を有し、
前記絶縁膜は前記シール材の外側まで延在し、
前記封止剤及び前記絶縁膜はアクリル系樹脂を含む材料又は光硬化性樹脂によって形成され、
前記液晶注入口に対してその幅方向の全域で、その液晶流入方向の少なくとも一部で、その高さ方向の一部にわたって補助膜を設けた
ことを特徴とする液晶装置。
A first substrate and a second substrate bonded to each other by a sealing material having a liquid crystal inlet and surrounding a display area;
Liquid crystal injected between the first substrate and the second substrate through the liquid crystal injection port;
A sealant that seals the liquid crystal injection port;
A switching element provided on the first substrate;
A pixel electrode connected to the electrode terminal of the switching element;
A common electrode provided opposite to the pixel electrode with an insulating film interposed therebetween,
The insulating film extends to the outside of the sealing material,
The sealing agent and the insulating film are formed of a material containing an acrylic resin or a photocurable resin,
A liquid crystal device, wherein an auxiliary film is provided over the liquid crystal injection port in the entire width direction, at least part of the liquid crystal inflow direction, and over part of the height direction.
請求項1から請求項12のいずれか1つに記載の液晶装置を有することを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the liquid crystal device according to any one of claims 1 to 12.
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