KR102067961B1 - color filter substrate, manufacturing method thereof, and liquid crystal display device including the same - Google Patents

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Abstract

본 발명의 컬러필터기판은, 화소영역이 정의된 기판과; 상기 기판 상부에 형성되고, 각각은 상기 화소영역에 대응하며 제1방향을 따라 순차 배열된 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴을 포함하는 컬러필터층과; 상기 컬러필터층 상부에 형성되고 상기 화소영역의 컬러필터층을 노출하는 블랙매트릭스를 포함하고, 상기 적색 및 녹색 컬러필터 패턴은 상기 청색 컬러필터 패턴의 가장자리를 덮고 있다.The color filter substrate of the present invention comprises: a substrate in which a pixel region is defined; A color filter layer formed on the substrate, each color filter layer including red, green, and blue color filter patterns sequentially arranged in a first direction corresponding to the pixel area; And a black matrix formed on the color filter layer and exposing the color filter layer of the pixel area, wherein the red and green color filter patterns cover an edge of the blue color filter pattern.

Description

컬러필터기판과 그 제조방법 및 이를 포함하는 액정표시장치{color filter substrate, manufacturing method thereof, and liquid crystal display device including the same}Color filter substrate, manufacturing method thereof, and liquid crystal display including the same {color filter substrate, manufacturing method, and liquid crystal display device including the same}

본 발명은 액정표시장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 외광 반사를 줄일 수 있는 컬러필터기판과 그 제조방법 및 이를 포함하는 액정표시장치 에 관한 것이다.
The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to a color filter substrate capable of reducing external light reflection, a manufacturing method thereof, and a liquid crystal display device including the same.

액정표시장치는 콘트라스트 비(contrast ratio)가 크고 동화상 표시에 적합하며 소비전력이 적다는 특징을 보여 노트북, 모니터, TV 등의 다양한 분야에서 활용되고 있다. 액정은 분자구조가 가늘고 길며 배열에 방향성을 갖는 광학적 이방성과, 전기장 내에 놓일 경우 그 크기에 따라 분자배열 방향이 변화되는 분극성질을 띠며, 액정표시장치는 액정의 광학적 이방성과 분극성질을 이용하여 화상을 구현한다.Liquid crystal displays have high contrast ratios, are suitable for moving picture display, and have low power consumption, and are being used in various fields such as notebooks, monitors, and TVs. Liquid crystals have an optical anisotropy with a thin and long molecular structure and directionality in an array, and have polarization properties in which the direction of molecular arrangement changes depending on their size when placed in an electric field. Implement

일반적으로 액정표시장치는 각각 전극이 형성되어 있는 두 기판을 두 전극이 서로 마주보도록 배치하고, 상기 두 전극 사이에 액정을 주입한 다음, 두 전극에 전압을 인가하여 생성되는 전기장에 의해 액정 분자를 움직임으로써, 이에 따라 달라지는 빛의 투과율에 의해 영상을 표현하는 장치이다.In general, a liquid crystal display device arranges two substrates on which electrodes are formed so that two electrodes face each other, injects liquid crystal between the two electrodes, and then applies liquid crystal to the liquid crystal molecules by applying a voltage to the two electrodes. By moving, the device expresses the image by the transmittance of light that varies accordingly.

도 1은 종래의 액정표시장치의 단면도이다. 1 is a cross-sectional view of a conventional liquid crystal display device.

도 1에 도시한 바와 같이, 종래의 액정표시장치는 서로 마주보며 이격된 제1 및 제2기판(20, 50)과, 제1 및 제2기판(20, 50) 사이에 형성된 액정층(70)을 포함한다. 제1 및 제2기판(20, 50) 상에는 적, 녹, 청색 화소영역(Pr, Pg, Pb)이 정의된다.As shown in FIG. 1, the conventional liquid crystal display device includes a liquid crystal layer 70 formed between the first and second substrates 20 and 50 facing each other and the first and second substrates 20 and 50. ). Red, green, and blue pixel regions Pr, Pg, and Pb are defined on the first and second substrates 20 and 50.

제1기판(20)의 각 화소영역(Pr, Pb, Pb)에는 박막트랜지스터(T)와 화소전극(38)이 형성된다.The thin film transistor T and the pixel electrode 38 are formed in each pixel region Pr, Pb, and Pb of the first substrate 20.

보다 상세하게, 제1기판(20) 상부에는 게이트 전극(22)이 형성되고, 게이트 전극(22) 상부에는 게이트 절연층(24)이 형성된다. In more detail, the gate electrode 22 is formed on the first substrate 20, and the gate insulating layer 24 is formed on the gate electrode 22.

게이트 전극(22)에 대응되는 게이트 절연층(24) 상부에는 반도체층(26)이 형성되고, 반도체층(26) 상부에는 서로 이격하는 소스 전극(28) 및 드레인 전극(30)이 형성된다. The semiconductor layer 26 is formed on the gate insulating layer 24 corresponding to the gate electrode 22, and the source electrode 28 and the drain electrode 30 spaced apart from each other are formed on the semiconductor layer 26.

게이트 전극(22)과, 반도체층(26), 소스 전극(28) 및 드레인 전극(30)은 박막트랜지스터(T)를 구성한다. The gate electrode 22, the semiconductor layer 26, the source electrode 28, and the drain electrode 30 constitute a thin film transistor T.

소스 전극(28)과 드레인 전극(30) 상부에는 보호층(34)이 형성되는데, 보호층(34)은 드레인 전극(30)을 노출하는 드레인 콘택홀(36)을 가진다. The passivation layer 34 is formed on the source electrode 28 and the drain electrode 30, and the passivation layer 34 has a drain contact hole 36 exposing the drain electrode 30.

보호층(34) 상부에는 드레인 콘택홀(36)을 통하여 드레인 전극(30)과 접촉하는 화소 전극(38)이 형성된다. The pixel electrode 38 is formed on the passivation layer 34 to contact the drain electrode 30 through the drain contact hole 36.

제2기판(50) 하부에는 박막트랜지스터(T)에 대응하여 블랙매트릭스(52)가 형성되고, 블랙매트릭스(52) 하부와 블랙매트릭스(52)에 의해 노출된 제2기판(50) 하부에는 컬러필터층(54)이 형성된다. The black matrix 52 is formed in the lower portion of the second substrate 50 to correspond to the thin film transistor T, and the color is formed in the lower portion of the second substrate 50 exposed by the lower portion of the black matrix 52 and the black matrix 52. Filter layer 54 is formed.

컬러필터층(54)은 적, 녹, 청색 화소영역(Pr, Pg, Pb)에 각각 대응되는 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴(R, G, B)을 포함한다. The color filter layer 54 includes red, green, and blue color filter patterns R, G, and B corresponding to the red, green, and blue pixel areas Pr, Pg, and Pb, respectively.

그리고, 컬러필터층(54) 하부에는 투명한 공통 전극(56)이 형성된다. A transparent common electrode 56 is formed below the color filter layer 54.

액정층(70)은 제1기판(20)의 화소 전극(38)과 제2기판(50)의 공통 전극(56) 사이에 위치한다. The liquid crystal layer 70 is positioned between the pixel electrode 38 of the first substrate 20 and the common electrode 56 of the second substrate 50.

제1 및 제2기판(20, 50)의 외면에는 각각 편광판(도시하지 않음)이 부착되고, 제1기판(20) 하부에 광원을 배치되어 빛을 공급함으로써, 광원으로부터의 빛은 제2기판(50)을 통해 출력된다. Polarizers (not shown) are attached to the outer surfaces of the first and second substrates 20 and 50, respectively, and light sources are disposed below the first substrate 20 to supply light, thereby allowing light from the light source to be transferred to the second substrate. Is output through 50.

그런데, 종래의 액정표시장치에서는, 외광 반사율이 높아 명실 콘트라스트비(ambient contrast ratio)가 낮은 단점이 있다. 즉, 명실 콘트라스트비는 (최대 휘도+외광 반사 휘도)/(최소 휘도+외광 반사 휘도)로 결정되는데, 제2기판(50) 하면에 형성된 블랙매트릭스(52)의 반사율이 비교적 높아 외광 반사가 많이 일어나게 되고, 이에 따라 명실 콘트라스트비가 낮아져 화질이 저하된다. However, the conventional liquid crystal display device has a disadvantage of high external light reflectance and low contrast contrast ratio. In other words, the clear room contrast ratio is determined by (maximum luminance + external light reflection luminance) / (minimum luminance + external light reflection luminance), and the reflectance of the black matrix 52 formed on the lower surface of the second substrate 50 is relatively high, so that the external light reflection is much This results in a lower contrast ratio, resulting in lower image quality.

또한, 고해상도를 갖는 액정표시장치의 경우, 측면 시야각 방향에서 탁색화 현상(washout phenomenon)이 나타나게 된다.
In addition, in the case of a liquid crystal display having a high resolution, a washout phenomenon appears in the side viewing angle direction.

상기한 문제점을 해결하기 위해, 본 발명은 외광 반사를 줄여 명실 콘트라스트비를 향상시킬 수 있는 컬러필터기판과 그 제조방법 및 이를 포함하는 액정표시장치를 제공하는데 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above problems, an object of the present invention is to provide a color filter substrate, a method of manufacturing the same, and a liquid crystal display device including the same, which can reduce external light reflection to improve a clear room contrast ratio.

또한, 본 발명은 탁색화 현상을 방지할 수 있는 컬러필터기판과 그 제조방법 및 이를 포함하는 액정표시장치를 제공하는데 다른 목적이 있다.
In addition, another object of the present invention is to provide a color filter substrate, a method for manufacturing the same, and a liquid crystal display device including the same, which can prevent turbidity.

상기의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 화소영역이 정의된 기판과; 상기 기판 상부에 형성되고, 각각은 상기 화소영역에 대응하며 제1방향을 따라 순차 배열된 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴을 포함하는 컬러필터층과; 상기 컬러필터층 상부에 형성되고 상기 화소영역의 컬러필터층을 노출하는 블랙매트릭스를 포함하고, 상기 적색 및 녹색 컬러필터 패턴은 상기 청색 컬러필터 패턴의 가장자리를 덮고 있는 컬러필터기판을 제공한다. In order to achieve the above object, the present invention includes a substrate having a pixel region defined; A color filter layer formed on the substrate, each color filter layer including red, green, and blue color filter patterns sequentially arranged in a first direction corresponding to the pixel area; And a black matrix formed on the color filter layer and exposing a color filter layer of the pixel area, wherein the red and green color filter patterns cover edges of the blue color filter pattern.

상기 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴 각각은 제2방향을 따라 인접한 화소영역까지 연장된다.Each of the red, green, and blue color filter patterns extends to an adjacent pixel area in a second direction.

상기 적색 컬러필터 패턴 및 녹색 컬러필터 패턴은 그 가장자리가 서로 중첩한다.The edges of the red color filter pattern and the green color filter pattern overlap each other.

상기 청색 컬러필터 패턴은 상기 제1방향을 따라 연장되는 연장부를 포함하고, 상기 연장부는 상기 적색 컬러필터 패턴 및 녹색 컬러필터 패턴으로 덮여 있다.The blue color filter pattern includes an extension part extending along the first direction, and the extension part is covered with the red color filter pattern and the green color filter pattern.

본 발명의 컬러필터기판은 상기 컬러필터층과 상기 블랙매트릭스를 덮고 있는 오버코트층을 더 포함한다.The color filter substrate of the present invention further includes an overcoat layer covering the color filter layer and the black matrix.

또한, 본 발명은 기판 상부에 제1 컬러필터 패턴을 형성하는 단계와; 상기 제1 컬러필터 패턴을 포함하는 기판 상부에 제2 컬러필터 패턴을 형성하는 단계와; 상기 제2 컬러필터 패턴을 포함하는 기판 상부에 제3 컬러필터 패턴을 형성하는 단계와; 상기 제3 컬러필터 패턴을 포함하는 기판 상부에 블랙매트릭스를 형성하는 단계를 포함하고, 상기 제2 및 제3 컬러필터 패턴은 상기 제1 컬러필터 패턴의 가장자리를 덮고 있으며, 상기 제1 컬러필터 패턴은 청색 컬러필터 패턴인 컬러필터기판의 제조방법을 제공한다.In addition, the present invention comprises the steps of forming a first color filter pattern on the substrate; Forming a second color filter pattern on the substrate including the first color filter pattern; Forming a third color filter pattern on the substrate including the second color filter pattern; Forming a black matrix on the substrate including the third color filter pattern, wherein the second and third color filter patterns cover an edge of the first color filter pattern, and the first color filter pattern Provides a method for manufacturing a color filter substrate which is a blue color filter pattern.

상기 제2 컬러필터 패턴과 상기 제3 컬러필터 패턴은 그 가장자리가 서로 중첩한다.Edges of the second color filter pattern and the third color filter pattern overlap each other.

상기 제1 내지 제3 컬러필터 패턴은 제1방향을 따라 순차 배열되고, 상기 제1 내지 제3 컬러필터 패턴 각각은 제2방향을 따라 인접한 화소영역까지 연장된다.The first to third color filter patterns are sequentially arranged in a first direction, and each of the first to third color filter patterns extends to an adjacent pixel area along a second direction.

상기 제1 컬러필터 패턴을 형성하는 단계는 제1방향을 따라 연장되는 연장부를 형성하는 단계를 포함하고, 상기 연장부는 상기 제2 컬러필터 패턴 및 제3 컬러필터 패턴으로 덮여 있다.The forming of the first color filter pattern may include forming an extension part extending in a first direction, and the extension part is covered with the second color filter pattern and the third color filter pattern.

또한, 본 발명은, 앞선 언급한 컬러필터기판과; 상기 컬러필터기판과 이격되어 위치하는 절연 기판과; 상기 절연 기판 상에 형성되는 박막트랜지스터와; 상기 절연 기판 상의 상기 화소영역에 위치하고 상기 박막트랜지스터와 연결되는 화소 전극과; 상기 화소 전극과 절연되어 상기 절연 기판 전면에 형성되고 상기 화소전극 상부에 다수의 개구부를 가지는 공통 전극을 포함하는 액정표시장치를 제공한다.
In addition, the present invention, the above-mentioned color filter substrate; An insulating substrate spaced apart from the color filter substrate; A thin film transistor formed on the insulating substrate; A pixel electrode positioned in the pixel area on the insulating substrate and connected to the thin film transistor; The present invention provides a liquid crystal display device including a common electrode insulated from the pixel electrode and formed on the entire surface of the insulating substrate and having a plurality of openings on the pixel electrode.

본 발명에 따른 액정표시장치용 컬러필터기판에서는, 기판 상부에 반사율이 가장 낮은 청색 컬러필터 패턴을 먼저 형성하고, 이어 적색 또는 녹색 컬러필터 패턴을 차례로 형성한 다음 블랙매트릭스를 형성함으로써, 외광 반사를 줄여 명실 콘트라스트비를 향상시킬 수 있다. In the color filter substrate for a liquid crystal display according to the present invention, external light reflection is formed by first forming a blue color filter pattern having the lowest reflectance on the substrate, followed by forming a red or green color filter pattern in turn, and then forming a black matrix. This can improve the contrast ratio.

또한, 본 발명의 컬러필터기판을 고해상도 액정표시장치에 적용할 경우, 측면 시야각 방향에서의 탁색화 현상을 방지할 수 있다. In addition, when the color filter substrate of the present invention is applied to a high resolution liquid crystal display device, it is possible to prevent turbidity in the side viewing angle direction.

한편, 청색 컬러필터 패턴의 연장부를 더 형성하여 적색 및 녹색 컬러필터 패턴과 중첩하도록 함으로써, 외광 반사를 더욱 줄일 수 있다.
On the other hand, by further extending the blue color filter pattern to overlap the red and green color filter pattern, it is possible to further reduce the external light reflection.

도 1은 종래의 액정표시장치의 단면도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치를 개략적으로 도시한 단면도이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 컬러필터기판을 개략적으로 도시한 평면도이다.
도 4a 내지 도 4d는 본 발명의 실시예에 따른 컬러필터기판의 제조 과정의 각 단계에서의 컬러필터기판을 도시한 단면도이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 컬러필터기판을 개략적으로 도시한 평면도이다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 컬러필터기판을 개략적으로 도시한 단면도이다.
1 is a cross-sectional view of a conventional liquid crystal display device.
2 is a cross-sectional view schematically illustrating a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention.
3 is a plan view schematically illustrating a color filter substrate according to an exemplary embodiment of the present invention.
4A to 4D are cross-sectional views illustrating color filter substrates at each stage of a manufacturing process of a color filter substrate according to an exemplary embodiment of the present invention.
5 is a plan view schematically illustrating a color filter substrate according to another exemplary embodiment of the present invention.
6 is a schematic cross-sectional view of a color filter substrate according to another exemplary embodiment of the present invention.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 대하여 상세히 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치를 개략적으로 도시한 단면도이다. 2 is a cross-sectional view schematically illustrating a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 2에 도시한 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치는 서로 마주보며 이격된 제1 및 제2기판(110, 150)과, 제1 및 제2기판(110, 150) 사이에 형성된 액정층(190)을 포함한다. 제1 및 제2기판(110, 150) 상에는 적, 녹, 청색 화소영역(Pr, Pg, Pb)이 정의된다.As shown in FIG. 2, the liquid crystal display according to the exemplary embodiment of the present invention is disposed between the first and second substrates 110 and 150 and the first and second substrates 110 and 150 spaced apart from each other. The liquid crystal layer 190 is formed. Red, green, and blue pixel regions Pr, Pg, and Pb are defined on the first and second substrates 110 and 150.

제1기판(110) 상부에는 게이트 배선(도시하지 않음)과 게이트 배선에 연결되는 게이트 전극(122)이 형성되고, 게이트 배선 및 게이트 전극(122) 상부에는 게이트 절연층(124)이 형성된다. 여기서, 게이트 전극(122)은 적, 녹, 청색 화소영역(Pr, Pg, Pb) 각각에 대응하여 형성된다. A gate wiring (not shown) and a gate electrode 122 connected to the gate wiring are formed on the first substrate 110, and a gate insulating layer 124 is formed on the gate wiring and the gate electrode 122. The gate electrode 122 is formed corresponding to each of the red, green, and blue pixel regions Pr, Pg, and Pb.

게이트 전극(122)에 대응되는 게이트 절연층(124) 상부에는 반도체층(126)이 형성되고, 반도체층(126) 상부에는 서로 이격하는 소스 전극(128) 및 드레인 전극(130)과, 소스 전극(128)에 연결되는 데이터 배선(도시하지 않음)이 형성된다. The semiconductor layer 126 is formed on the gate insulating layer 124 corresponding to the gate electrode 122, and the source electrode 128 and the drain electrode 130 spaced apart from each other on the semiconductor layer 126, and the source electrode. A data line (not shown) connected to the 128 is formed.

도시하지는 않았지만, 반도체층(226)은 순수 실리콘(intrinsic silicon)으로 이루어지는 액티브층과, 불순물 실리콘(impurity-doped silicon)으로 이루어지는 오믹 콘택층을 포함할 수 있다. 오믹 콘택층은 소스 및 드레인 전극(128, 130)과 동일한 모양을 가질 수 있다. Although not illustrated, the semiconductor layer 226 may include an active layer made of pure silicon and an ohmic contact layer made of impurity-doped silicon. The ohmic contact layer may have the same shape as the source and drain electrodes 128 and 130.

데이터 배선은 게이트 배선과 교차하여 적, 녹, 청색 화소영역(Pr, Pg, Pb)을 정의한다. The data line crosses the gate line to define red, green, and blue pixel regions Pr, Pg, and Pb.

여기서, 게이트 전극(122), 반도체층(126), 소스 전극(128) 및 드레인 전극(130)은 박막트랜지스터(Tr)를 구성한다. Here, the gate electrode 122, the semiconductor layer 126, the source electrode 128, and the drain electrode 130 constitute a thin film transistor Tr.

소스 전극(128)과, 드레인 전극(130) 및 데이터 배선 상부 전면에는 제1보호층(132)이 형성되는데, 제1보호층(132)은 드레인 전극(130)을 노출하는 드레인 콘택홀(132a)을 가진다. 제1보호층(132)은 유기 절연물질로 이루어져 평탄한 표면을 가질 수 있다.A first passivation layer 132 is formed on the source electrode 128, the drain electrode 130, and the upper surface of the data wire, and the first passivation layer 132 exposes the drain contact hole 132a. ) The first protective layer 132 may be formed of an organic insulating material and have a flat surface.

제1보호층(132) 상부에는 드레인 콘택홀(132a)을 통해 드레인 전극(130)에 접촉하는 화소 전극(134)이 적, 녹, 청색 화소영역(Pr, Pg, Pb) 각각에 형성된다. A pixel electrode 134 contacting the drain electrode 130 through the drain contact hole 132a is formed on each of the red, green, and blue pixel regions Pr, Pg, and Pb on the first passivation layer 132.

화소 전극(134) 상부 전면에는 제2보호층(136)이 형성되고, 제2보호층(136) 상부에는 공통 전극(138)이 형성된다. 공통 전극(138)은 제1기판(110) 전면에 형성되며, 화소 전극(134)에 대응하여 다수의 개구부(138a)를 가진다. The second passivation layer 136 is formed on the entire upper surface of the pixel electrode 134, and the common electrode 138 is formed on the second passivation layer 136. The common electrode 138 is formed on the entire surface of the first substrate 110 and has a plurality of openings 138a corresponding to the pixel electrode 134.

한편, 제2기판(150) 하부에는 컬러필터층(160)이 형성된다. 컬러필터층(160)은 적, 녹, 청색 화소영역(Pr, Pg, Pb)에 각각 대응되는 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴(162, 164, 166)을 포함한다. 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴(162, 164, 166)은 서로 중첩하며, 적색 컬러필터 패턴(162)과 녹색 컬러필터 패턴(164)이 청색 컬러필터 패턴(166)의 가장자리를 덮고 있다.Meanwhile, the color filter layer 160 is formed under the second substrate 150. The color filter layer 160 includes red, green, and blue color filter patterns 162, 164, and 166 corresponding to the red, green, and blue pixel areas Pr, Pg, and Pb, respectively. The red, green, and blue color filter patterns 162, 164, and 166 overlap each other, and the red color filter pattern 162 and the green color filter pattern 164 cover the edges of the blue color filter pattern 166.

컬러필터층(160) 하부에는 게이트 배선과 데이터 배선 및 박막트랜지스터(Tr)에 대응하여 블랙매트릭스(172)가 형성된다. 블랙매트릭스(172)는 적, 녹, 청색 화소영역(Pr, Pg, Pb)의 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴(162, 164, 166)을 각각 노출한다. The black matrix 172 is formed under the color filter layer 160 to correspond to the gate line, the data line, and the thin film transistor Tr. The black matrix 172 exposes the red, green, and blue color filter patterns 162, 164, and 166 of the red, green, and blue pixel areas Pr, Pg, and Pb, respectively.

컬러필터층(160) 및 블랙매트릭스(172) 하부에는 오버코트층(180)이 형성된다. An overcoat layer 180 is formed under the color filter layer 160 and the black matrix 172.

액정층(190)은 제1기판(110)의 공통 전극(138)과 제2기판(150)의 오버코트층(180) 사이에 위치한다. 도시하지 않았지만, 액정층(190)과 공통 전극(138) 사이 및 액정층(190)과 오버코트층(180) 사이에는 액정층(190)의 액정 분자의 초기 배열을 결정하는 배향막이 각각 형성된다. The liquid crystal layer 190 is positioned between the common electrode 138 of the first substrate 110 and the overcoat layer 180 of the second substrate 150. Although not shown, an alignment layer for determining an initial arrangement of liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 190 is formed between the liquid crystal layer 190 and the common electrode 138 and between the liquid crystal layer 190 and the overcoat layer 180, respectively.

제1기판(110) 하부와 제2기판(150) 상부에는 각각 제1편광판(도시하지 않음)과 제2편광판(도시하지 않음)이 부착되고, 제1편광판 하부에는 백라이트 유닛(도시하지 않음)이 배치된다. 또한, 제2편광판 상부에는 투명도전물질로 이루어진 배면 전극이 더 형성될 수 있다. A first polarizing plate (not shown) and a second polarizing plate (not shown) are attached to a lower portion of the first substrate 110 and an upper portion of the second substrate 150, respectively, and a backlight unit (not shown) is disposed below the first polarizing plate. Is placed. In addition, a rear electrode made of a transparent conductive material may be further formed on the second polarizing plate.

본 발명에 따른 액정표시장치에서는 제2기판(150) 하부에 컬러필터층(160)이 위치하고, 컬러필터층(160) 하부에 블랙매트릭스(172)가 위치하므로, 블랙매트릭스(172)에 의한 외광 반사를 줄여 명실 콘트라스트비를 높일 수 있다. 이러한 본 발명에 따른 액정표시장치에서의 외광 반사율은 종래에 비해 약 70 내지 76% 개선 가능하다. In the liquid crystal display according to the present invention, since the color filter layer 160 is positioned below the second substrate 150 and the black matrix 172 is positioned below the color filter layer 160, reflection of external light by the black matrix 172 is prevented. This can increase the contrast ratio. The external light reflectance of the liquid crystal display according to the present invention can be improved by about 70 to 76% compared to the related art.

이때, 반사율이 가장 낮은 청색 컬러필터 패턴(166)이 제2기판(150) 하면에 먼저 위치하도록 함으로써, 외광 반사율을 더울 줄일 수 있다. In this case, since the blue color filter pattern 166 having the lowest reflectance is positioned on the lower surface of the second substrate 150, the external light reflectance may be further reduced.

또한, 본 발명의 액정표시장치를 고해상도 모델에 적용할 경우, 액정층(190)에 인접한 블랙매트릭스(172)에 의해 하나의 화소영역의 액정층(190)을 통과하는 빛이 인접한 컬러필터 패턴으로 입사되는 것을 차단하기가 용이하여, 측면 시야각 방향에서의 탁색화 현상을 방지할 수 있다.
In addition, when the liquid crystal display device of the present invention is applied to a high resolution model, light passing through the liquid crystal layer 190 in one pixel area is adjacent to the color filter pattern by the black matrix 172 adjacent to the liquid crystal layer 190. It is easy to block the incident, and it is possible to prevent the clouding phenomenon in the side viewing angle direction.

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 컬러필터기판을 개략적으로 도시한 평면도이다. 3 is a plan view schematically illustrating a color filter substrate according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 3에 도시한 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 컬러필터기판은 컬러필터층(160)을 포함하며, 컬러필터층(160)은 제1방향을 따라 순차적으로 배열되는 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴(162, 164, 166)을 포함한다. 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴(162, 164, 166)은 각각 적, 녹, 청색 화소영역(Pr, Pg, Pb)에 대응하며, 그 가장자리가 서로 중첩된다. 또한, 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴(162, 164, 166)은 제2방향을 따라 연장되어, 제2방향을 따라 인접한 적색 화소영역(Pr)에 대응하는 적색 컬러필터 패턴(162)은 서로 연결되고, 제2방향을 따라 인접한 녹색 화소영역(Pg)에 대응하는 녹색 컬러필터 패턴(164)은 서로 연결되며, 제2방향을 따라 인접한 청색 화소영역(Pb)에 대응하는 청색 컬러필터 패턴(166)은 서로 연결된다. 각 화소영역(Pr, Pg, Pb)은 좌우측면에 꺾어진 부분을 가질 수 있으며, 이에 따라, 녹, 청색 컬러필터 패턴(162, 164, 166)도 각 화소영역(Pr, Pg, Pb)에 대해 꺾어진 부분을 가질 수 있다. As shown in FIG. 3, the color filter substrate according to the embodiment of the present invention includes a color filter layer 160, and the color filter layer 160 is a red, green, and blue color filter sequentially arranged along a first direction. Patterns 162, 164, and 166. The red, green, and blue color filter patterns 162, 164, and 166 correspond to the red, green, and blue pixel areas Pr, Pg, and Pb, respectively, and the edges thereof overlap each other. In addition, the red, green, and blue color filter patterns 162, 164, and 166 extend in the second direction, and the red color filter patterns 162 corresponding to the adjacent red pixel regions Pr along the second direction are mutually different. The green color filter patterns 164 connected to and corresponding to the adjacent green pixel regions Pg in the second direction are connected to each other, and the blue color filter patterns corresponding to the adjacent blue pixel regions Pb in the second direction ( 166 are connected to each other. Each pixel region Pr, Pg, and Pb may have portions that are bent on the left and right sides thereof, and thus, the green and blue color filter patterns 162, 164, and 166 may also have respective pixel regions Pr, Pg, and Pb. It may have a bent portion.

컬러필터층(160) 상부에는 블랙매트릭스(172)가 형성되며, 블랙매트릭스(172)는 적, 녹, 청색 화소영역(Pr, Pg, Pb)의 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴(162, 164, 166)을 각각 노출한다. The black matrix 172 is formed on the color filter layer 160, and the black matrix 172 is formed of the red, green, and blue color filter patterns 162, 164, of the red, green, and blue pixel regions Pr, Pg, and Pb. 166), respectively.

한편, 컬러필터층(160)과 블랙매트릭스(172)는 오버코트층(도시하지 않음)으로 덮여 있다.
Meanwhile, the color filter layer 160 and the black matrix 172 are covered with an overcoat layer (not shown).

이러한 본 발명의 실시예에 따른 컬러필터기판의 제조방법에 대하여 도 4a 내지 도 4d를 참조하여 설명한다. A method of manufacturing a color filter substrate according to an exemplary embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 4A to 4D.

도 4a 내지 도 4d는 본 발명의 실시예에 따른 컬러필터기판의 제조 과정의 각 단계에서의 컬러필터기판을 도시한 단면도이다. 4A to 4D are cross-sectional views illustrating color filter substrates at each stage of a manufacturing process of a color filter substrate according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 4a에 도시한 바와 같이, 절연 기판(150) 상에 청색 안료를 도포하여 청색 컬러층(도시하지 않음)을 형성한 후, 노광 마스크를 이용한 사진식각공정 등을 통해 청색 컬러층을 패터닝하여 청색 컬러필터 패턴(166)을 형성한다. As shown in FIG. 4A, the blue pigment is coated on the insulating substrate 150 to form a blue color layer (not shown), and then the blue color layer is patterned through a photolithography process using an exposure mask. The color filter pattern 166 is formed.

다음, 도 4b에 도시한 바와 같이, 청색 컬러필터 패턴(166)을 포함하는 기판(150) 상에 적색 안료를 도포하여 적색 컬러층(도시하지 않음)을 형성한 후, 노광 마스크를 이용한 사진식각공정 등을 통해 적색 컬러층을 패터닝하여 적색 컬러필터 패턴(162)을 형성한다. 이때, 적색 컬러필터 패턴(162)은 청색 컬러필터 패턴(166)의 가장자리를 덮는다. Next, as shown in FIG. 4B, a red pigment is coated on the substrate 150 including the blue color filter pattern 166 to form a red color layer (not shown), followed by photolithography using an exposure mask. The red color layer is patterned through a process to form the red color filter pattern 162. In this case, the red color filter pattern 162 covers the edge of the blue color filter pattern 166.

이어, 도 4c에 도시한 바와 같이, 청색 컬러필터 패턴(166) 및 적색 컬러필터 패턴(162)을 포함하는 기판(150) 상에 녹색 안료를 도포하여 녹색 컬러층(도시하지 않음)을 형성한 후, 노광 마스크를 이용한 사진식각공정 등을 통해 녹색 컬러층을 패터닝하여 녹색 컬러필터 패턴(164)을 형성하여, 컬러필터층(160)을 완성한다. 이때, 녹색 컬러필터 패턴(164)은 청색 컬러필터 패턴(166) 및 적색 컬러필터 패턴(162)의 가장자리를 덮는다.Subsequently, as shown in FIG. 4C, a green pigment is coated on the substrate 150 including the blue color filter pattern 166 and the red color filter pattern 162 to form a green color layer (not shown). Thereafter, the green color layer is patterned through a photolithography process using an exposure mask to form a green color filter pattern 164 to complete the color filter layer 160. In this case, the green color filter pattern 164 covers the edges of the blue color filter pattern 166 and the red color filter pattern 162.

여기서, 적색 컬러필터 패턴(162)을 먼저 형성하고 녹색 컬러필터 패턴(164)을 형성하였으나, 녹색 컬러필터 패턴(164)을 먼저 형성하고 적색 컬러필터 패턴(162)을 형성할 수도 있다. 이 경우, 적색 컬러필터 패턴(162)이 청색 컬러필터 패턴(166) 및 녹색 컬러필터 패턴(164)의 가장자리를 덮게 된다.Here, although the red color filter pattern 162 is formed first and the green color filter pattern 164 is formed, the green color filter pattern 164 may be formed first and the red color filter pattern 162 may be formed. In this case, the red color filter pattern 162 covers the edges of the blue color filter pattern 166 and the green color filter pattern 164.

다음, 도 4d에 도시한 바와 같이, 컬러필터층(160) 상부에 블랙 수지를 도포하고 패터닝하여 블랙매트릭스(172)를 형성한다. 블랙매트릭스(172)는 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴(162, 164, 166)의 중첩된 부분 상에 위치하며, 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴(162, 164, 166)을 노출한다. 이때, 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴(162, 164, 166)의 중첩된 부분의 폭은 블랙매트릭스(172)의 폭보다 좁다.Next, as shown in FIG. 4D, a black resin is coated and patterned on the color filter layer 160 to form a black matrix 172. The black matrix 172 is positioned on the overlapped portions of the red, green, and blue color filter patterns 162, 164, and 166 and exposes the red, green, and blue color filter patterns 162, 164, and 166. In this case, the widths of the overlapped portions of the red, green, and blue color filter patterns 162, 164, and 166 are smaller than the width of the black matrix 172.

이어, 블랙매트릭스(172) 및 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴(162, 164, 166) 상부에 오버코트층(180)을 형성한다. 오버코트층(180)은 아크릴 수지와 같은 유기절연물질로 형성될 수 있다.
Next, an overcoat layer 180 is formed on the black matrix 172 and the red, green, and blue color filter patterns 162, 164, and 166. The overcoat layer 180 may be formed of an organic insulating material such as an acrylic resin.

도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 컬러필터기판을 개략적으로 도시한 평면도이고, 도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 컬러필터기판을 개략적으로 도시한 단면도이다. 5 is a plan view schematically showing a color filter substrate according to another embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a cross-sectional view schematically showing a color filter substrate according to another embodiment of the present invention.

도 5와 도 6에 도시한 바와 같이, 절연 기판(250) 상에 컬러필터층(260)이 형성된다. 컬러필터층(260)은 적, 녹, 청색 화소영역(Pr, Pg, Pb)에 각각 대응하는 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴(262, 264, 266)을 포함한다. As shown in FIGS. 5 and 6, the color filter layer 260 is formed on the insulating substrate 250. The color filter layer 260 includes red, green, and blue color filter patterns 262, 264, and 266 respectively corresponding to the red, green, and blue pixel areas Pr, Pg, and Pb.

적, 녹, 청색 컬러필터 패턴(262, 264, 266)은 제1방향을 따라 순차적으로 배열되며, 그 가장자리가 서로 중첩된다. 여기서, 연장부(266a)를 포함하는 청색 컬러필터 패턴(266)이 가장 먼저 형성되어, 적색 및 녹색 컬러필터 패턴(262, 264)은 연장부(266a) 및 청색 컬러필터 패턴(266)의 가장자리를 덮는다. The red, green, and blue color filter patterns 262, 264, and 266 are sequentially arranged along the first direction, and edges thereof overlap each other. Here, the blue color filter pattern 266 including the extension part 266a is formed first, so that the red and green color filter patterns 262 and 264 have edges of the extension part 266a and the blue color filter pattern 266. To cover.

한편, 도면 상에서는 녹색 컬러필터 패턴(264)이 적색 컬러필터 패턴(262) 가장자리를 덮고 있는 것으로 도시하였으나, 적색 컬러필터 패턴(262)이 녹색 컬러필터 패턴(264)을 덮고 있을 수도 있다. Meanwhile, although the green color filter pattern 264 covers the edge of the red color filter pattern 262 in the drawing, the red color filter pattern 262 may cover the green color filter pattern 264.

적, 녹, 청색 컬러필터 패턴(262, 264, 266)은 제2방향을 따라 연장되어, 제2방향을 따라 인접한 적색 화소영역(Pr)에 대응하는 적색 컬러필터 패턴(262)은 서로 연결되고, 제2방향을 따라 인접한 녹색 화소영역(Pg)에 대응하는 녹색 컬러필터 패턴(264)은 서로 연결되며, 제2방향을 따라 인접한 청색 화소영역(Pb)에 대응하는 청색 컬러필터 패턴(266)은 서로 연결된다. 각 화소영역(Pr, Pg, Pb)은 좌우측면에 꺾어진 부분을 가질 수 있으며, 이에 따라, 녹, 청색 컬러필터 패턴(262, 264, 266)도 각 화소영역(Pr, Pg, Pb)에 대해 꺾어진 부분을 가질 수 있다. The red, green, and blue color filter patterns 262, 264, and 266 extend along the second direction, and the red color filter patterns 262 corresponding to the adjacent red pixel areas Pr along the second direction are connected to each other. In addition, the green color filter patterns 264 corresponding to the adjacent green pixel areas Pg in the second direction are connected to each other, and the blue color filter patterns 266 corresponding to the adjacent blue pixel areas Pb in the second direction. Are connected to each other. Each pixel region Pr, Pg, and Pb may have bent portions on the left and right sides thereof. As a result, the green and blue color filter patterns 262, 264, and 266 may also be formed with respect to the pixel regions Pr, Pg, and Pb. It may have a bent portion.

청색 컬러필터 패턴(266)의 연장부(266a)는 제2방향을 따라 연장되어 인접한 청색 컬러필터 패턴(266)과 연결된다. 연장부(266a)는 제2방향을 따라 인접한 적색 화소영역(Pr) 및 녹색 화소영역(Pg) 사이에 위치하며, 적색 컬러필터 패턴(262) 및 녹색 컬러필터 패턴(264)과 중첩한다. 이때, 적색 컬러필터 패턴(262)과 녹색 컬러필터 패턴(264)이 중첩하는 영역에는 연장부(266a)와 적색 컬러필터 패턴(262) 및 녹색 컬러필터 패턴(264)의 3개의 층이 중첩될 수 있다. The extension part 266a of the blue color filter pattern 266 extends along the second direction and is connected to the adjacent blue color filter pattern 266. The extension part 266a is positioned between the red pixel area Pr and the green pixel area Pg adjacent in the second direction and overlaps the red color filter pattern 262 and the green color filter pattern 264. In this case, three layers of the extension part 266a, the red color filter pattern 262, and the green color filter pattern 264 may overlap in an area where the red color filter pattern 262 and the green color filter pattern 264 overlap. Can be.

컬러필터층(260) 상부에는 블랙매트릭스(272)가 형성되며, 블랙매트릭스(272)는 적, 녹, 청색 화소영역(Pr, Pg, Pb)의 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴(262, 264, 266)을 각각 노출한다. A black matrix 272 is formed on the color filter layer 260, and the black matrix 272 has red, green, and blue color filter patterns 262, 264, and red in the red, green, and blue pixel regions Pr, Pg, and Pb. 266), respectively.

컬러필터층(260)과 블랙매트릭스(272) 상부에는 오버코트층(280)이 형성되어 이들을 덮고 있다. An overcoat layer 280 is formed on the color filter layer 260 and the black matrix 272 to cover them.

이러한 본 발명의 다른 실시예에 따른 컬러필터기판은 앞선 실시예에 따른 컬러필터기판과 동일한 방법으로 제조될 수 있다. The color filter substrate according to another embodiment of the present invention may be manufactured by the same method as the color filter substrate according to the previous embodiment.

본 발명의 다른 실시예에 따른 컬러필터기판에서는, 반사율이 가장 낮은 청색 컬러필터 패턴(266)의 연장부(266a)를 더 형성하여 적색 컬러필터 패턴(262) 및 녹색 컬러필터 패턴(264)과 중첩하도록 함으로써, 외광 반사를 더욱 줄일 수 있으며, 외광 반사율을 앞선 실시예에 비해 약 15.2% 이상 개선할 수 있다.
In the color filter substrate according to another exemplary embodiment of the present invention, an extension portion 266a of the blue color filter pattern 266 having the lowest reflectance is further formed to form a red color filter pattern 262 and a green color filter pattern 264. By overlapping, the external light reflection can be further reduced, and the external light reflectance can be improved by about 15.2% or more as compared with the previous embodiment.

본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 아니하며, 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 이상 다양한 변화와 변형이 가능하다.
The present invention is not limited to the above embodiments, and various changes and modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

110: 제1기판 122: 게이트 전극
124: 게이트 절연층 126: 반도체층
128: 소스 전극 130: 드레인 전극
132: 제1보호층 132a: 드레인 콘택홀
134: 화소 전극 136: 제2보호층
138: 공통 전극 138a: 개구부
150: 제2기판 160: 컬러필터층
162: 적색 컬러필터 패턴 164: 녹색 컬러필터 패턴
166: 청색 컬러필터 패턴 172: 블랙매트릭스
180: 오버코트층 190: 액정층
Pr: 적색 화소영역 Pg: 녹색 화소영역
Pb: 청색 화소영역
110: first substrate 122: gate electrode
124: gate insulating layer 126: semiconductor layer
128: source electrode 130: drain electrode
132: first protective layer 132a: drain contact hole
134: pixel electrode 136: second protective layer
138: common electrode 138a: opening
150: second substrate 160: color filter layer
162: red color filter pattern 164: green color filter pattern
166: blue color filter pattern 172: black matrix
180: overcoat layer 190: liquid crystal layer
Pr: red pixel region Pg: green pixel region
Pb: blue pixel region

Claims (12)

화소영역이 정의된 기판과;
상기 기판 상부에 형성되고, 각각은 상기 화소영역에 대응하며 제1방향을 따라 순차 배열된 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴을 포함하는 컬러필터층과;
상기 컬러필터층 상부에 상기 컬러필터층과 접촉 및 중첩하여 형성되고 상기 화소영역의 컬러필터층을 노출하는 블랙매트릭스
를 포함하고,
상기 적색 및 녹색 컬러필터 패턴은 상기 청색 컬러필터 패턴의 가장자리를 덮고 있으며,
상기 컬러필터층과 상기 블랙매트릭스를 덮고 있는 오버코트층을 더 포함하고, 상기 블랙매트릭스는 상기 컬러필터층과 상기 오버코트층 사이에 위치하는 컬러필터기판.
A substrate in which pixel regions are defined;
A color filter layer formed on the substrate, each color filter layer including red, green, and blue color filter patterns sequentially arranged in a first direction corresponding to the pixel area;
A black matrix formed on and in contact with and overlapping the color filter layer and exposing the color filter layer of the pixel region;
Including,
The red and green color filter patterns cover edges of the blue color filter pattern.
And a overcoat layer covering the color filter layer and the black matrix, wherein the black matrix is positioned between the color filter layer and the overcoat layer.
제1항에 있어서,
상기 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴 각각은 제2방향을 따라 인접한 화소영역까지 연장되는 것을 특징으로 하는 컬러필터기판.
The method of claim 1,
And each of the red, green, and blue color filter patterns extends to adjacent pixel areas in a second direction.
제1항에 있어서,
상기 적색 컬러필터 패턴 및 녹색 컬러필터 패턴은 그 가장자리가 서로 중첩하는 것을 특징으로 하는 컬러필터기판.
The method of claim 1,
And the edges of the red color filter pattern and the green color filter pattern overlap each other.
제1항에 있어서,
상기 청색 컬러필터 패턴은 상기 제1방향을 따라 연장되는 연장부를 포함하고, 상기 연장부는 상기 적색 컬러필터 패턴 및 녹색 컬러필터 패턴으로 덮여 있는 것을 특징으로 하는 컬러필터기판.
The method of claim 1,
The blue color filter pattern includes an extension part extending in the first direction, and the extension part is covered with the red color filter pattern and the green color filter pattern.
삭제delete 기판 상부에 제1 컬러필터 패턴을 형성하는 단계와;
상기 제1 컬러필터 패턴을 포함하는 기판 상부에 제2 컬러필터 패턴을 형성하는 단계와;
상기 제2 컬러필터 패턴을 포함하는 기판 상부에 제3 컬러필터 패턴을 형성하는 단계와;
상기 제3 컬러필터 패턴을 포함하는 기판 상부에 상기 제1 내지 제3 컬러필터 패턴과 접촉 및 중첩하는 블랙매트릭스를 형성하는 단계; 그리고
상기 제1 내지 제3 컬러필터 패턴과 상기 블랙매트릭스를 덮는 오버코트층를 형성하는 단계
를 포함하고,
상기 제2 및 제3 컬러필터 패턴은 상기 제1 컬러필터 패턴의 가장자리를 덮고 있으며, 상기 제1 컬러필터 패턴은 청색 컬러필터 패턴이고,
상기 블랙매트릭스는 상기 제1 내지 제3 컬러필터 패턴과 상기 오버코트층 사이에 위치하는 컬러필터기판의 제조방법.
Forming a first color filter pattern on the substrate;
Forming a second color filter pattern on the substrate including the first color filter pattern;
Forming a third color filter pattern on the substrate including the second color filter pattern;
Forming a black matrix on the substrate including the third color filter pattern and in contact with and overlapping the first to third color filter patterns; And
Forming an overcoat layer covering the first to third color filter patterns and the black matrix
Including,
The second and third color filter patterns cover edges of the first color filter pattern, and the first color filter pattern is a blue color filter pattern.
And the black matrix is disposed between the first to third color filter patterns and the overcoat layer.
제6항에 있어서,
상기 제2 컬러필터 패턴과 상기 제3 컬러필터 패턴은 그 가장자리가 서로 중첩하는 것을 특징으로 하는 컬러필터기판의 제조방법.
The method of claim 6,
And the edges of the second color filter pattern and the third color filter pattern overlap each other.
제6항에 있어서,
상기 제1 내지 제3 컬러필터 패턴은 제1방향을 따라 순차 배열되고, 상기 제1 내지 제3 컬러필터 패턴 각각은 제2방향을 따라 인접한 화소영역까지 연장되는 것을 특징으로 하는 컬러필터기판의 제조방법.
The method of claim 6,
The first to third color filter patterns may be sequentially arranged in a first direction, and each of the first to third color filter patterns may extend to adjacent pixel areas in a second direction. Way.
제6항에 있어서,
상기 제1 컬러필터 패턴을 형성하는 단계는 제1방향을 따라 연장되는 연장부를 형성하는 단계를 포함하고, 상기 연장부는 상기 제2 컬러필터 패턴 및 제3 컬러필터 패턴으로 덮여 있는 것을 특징으로 하는 컬러필터기판의 제조방법.
The method of claim 6,
The forming of the first color filter pattern may include forming an extension part extending in a first direction, wherein the extension part is covered with the second color filter pattern and the third color filter pattern. Method for manufacturing filter substrate.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 따른 컬러필터기판과;
상기 컬러필터기판과 이격되어 위치하는 절연 기판과;
상기 절연 기판 상에 형성되는 박막트랜지스터와;
상기 절연 기판 상의 상기 화소영역에 위치하고 상기 박막트랜지스터와 연결되는 화소 전극과;
상기 화소 전극과 절연되어 상기 절연 기판 전면에 형성되고 상기 화소전극 상부에 다수의 개구부를 가지는 공통 전극
을 포함하는 액정표시장치.
A color filter substrate according to any one of claims 1 to 4;
An insulating substrate spaced apart from the color filter substrate;
A thin film transistor formed on the insulating substrate;
A pixel electrode positioned in the pixel area on the insulating substrate and connected to the thin film transistor;
A common electrode insulated from the pixel electrode and formed on the entire surface of the insulating substrate and having a plurality of openings on the pixel electrode;
Liquid crystal display comprising a.
제1항에 있어서,
상기 블랙매트릭스는 상기 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴의 중첩된 부분 상에 위치하며, 상기 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴의 중첩된 부분의 폭은 상기 블랙매트릭스의 폭보다 좁은 컬러필터기판.
The method of claim 1,
And the black matrix is positioned on the overlapped portions of the red, green and blue color filter patterns, and the width of the overlapped portions of the red, green and blue color filter patterns is narrower than the width of the black matrix.
제6항에 있어서,
상기 블랙매트릭스는 상기 제1, 제2, 제3 컬러필터 패턴의 중첩된 부분 상에 위치하며, 상기 제1, 제2, 제3 컬러필터 패턴의 중첩된 부분의 폭은 상기 블랙매트릭스의 폭보다 좁은 컬러필터기판의 제조방법.
The method of claim 6,
The black matrix is positioned on the overlapped portions of the first, second and third color filter patterns, and the width of the overlapped portions of the first, second and third color filter patterns is greater than the width of the black matrix. Method for manufacturing narrow color filter substrate.
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