KR101884092B1 - 위상 공간 필터 및 그 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

확장된 초점 심도와 향상된 횡방향 분해능을 제공하는 위상 공간 필터와, 간단하게 그리고 대량으로 생산할 수 있는 위상 공간 필터 제조 방법이 개시된다. 개시된 위상 공간 필터는 제1레이어; 제2레이어; 상기 제1레이어로부터 돌출되어 형성되며, 원통형 또는 링 형상인 제1굴절률의 제1굴절부; 및 상기 제1 및 제2레이어 사이에 위치하며, 상기 제1굴절부의 측면 및 상면을 둘러싸는 제2굴절률의 제2굴절부를 포함한다.

Description

위상 공간 필터 및 그 제조 방법{PHASE SPATIAL FILTER AND METHOD FOR MANUFACTURING METHOD THEREOF}
본 발명은 위상 공간 필터 및 그 제조 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 확장된 초점 심도와 향상된 횡방향 분해능을 제공하는 위상 공간 필터 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
다양한 분야에 광학 이미징 시스템이 이용되고 있으며, 특히 의료 기기 분야에서 광단층활용기술(Optical Coherence Tomography) 기기 등 다양한 광학 이미징 시스템이 활용되고 있다. 이러한 광학 이미징 시스템에서 횡방향 분해능과 초점 심도는 서로 트레이드 오프 관계에 있다.
이를 극복하기 위해 엑시콘 렌즈(axicon lens)나 그린 섬유(GRIN fiber)를 이용한 광프로브, 소프트웨어 알고리즘을 이용한 포스트 프로세싱 방법 등이 활용되고 있다.
엑시콘 렌즈를 이용한 광 프로브는, 엑시콘 렌즈를 사용하여 광 프로브를 제작하며, 가우시안 빔을 베셀 빔으로 변환하여 이용한다. 베셀 빔은 'non-diffraction' 특성을 가지고 있기 때문에 넓은 영역에서 일정한 스팟(spot)의 크기를 유지할 수 있어 초점 심도를 확장시킬 수 있다. 하지만, 이 방법으로 생성한 베셀 빔은 광 손실이 크기 때문에 고감도 측정이 필요한 생물 조직 이미징에는 어려움이 있을 수 있다.
그린 섬유를 이용한 광 프로브는, 섬유의 코어 부분이 구배 지수(gradient index)를 가지는 광섬유인 그린 섬유를 사용하는 기술이며, 코어의 사이즈가 각기 다른 그린 섬유 두 개를 이어서 붙이게 될 수 있다. 이때, 코어의 사이즈가 작은 그린 섬유는 위상 필터 역할을 하게 되어 초점 심도를 1.5배 정도 확장시킬 수 있다. 하지만 이어서 붙이는 그린 섬유의 길이가 각각 200㎛, 30㎛ 보다 짧아야 하기 때문에 제작이 어려울 수 있다.
소프트웨어 알고리즘은 포스트 프로세싱(Post processing) 방법으로 초점 심도를 확장하는 소프트웨어 알고리즘을 이용하는 방법으로서, digital refocusing method, inverse scattering approach 등의 알고리즘이 있다. 하지만 이 방법은 후처리 과정을 통한 보정 방법으로 연산량이 많고 복잡하기 때문에 실시간 처리하기 어려우며 노이즈의 영향 등으로 왜곡의 위험이 있을 수 있다.
따라서 제작이 용이하고 간단한 방법으로 광학 이미징 시스템에 이용할 수 있으면서 확장된 초점 심도와 향상된 횡방향 분해능을 제공할 수 있는 방법에 대한 연구가 필요하다.
관련 선행문헌으로 대한민국 등록특허 제10-1637832호가 있다.
본 발명은 확장된 초점 심도와 향상된 횡방향 분해능을 제공하는 위상 공간 필터와, 간단하게 그리고 대량으로 생산할 수 있는 위상 공간 필터 제조 방법을 제공하기 위한 것이다.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따르면, 제1레이어; 제2레이어; 상기 제1레이어로부터 돌출되어 형성되며, 원통형 또는 링 형상인 제1굴절률의 제1굴절부; 및 상기 제1 및 제2레이어 사이에 위치하며, 상기 제1굴절부의 측면 및 상면을 둘러싸는 제2굴절률의 제2굴절부를 포함하는 위상 공간 필터를 제공한다.
또한 상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다른 실시예에 따르면, 광원으로부터 제공된 빛을 입력받는 위상 공간 필터를 포함하며, 상기 위상 공간 필터는 제1레이어; 제2레이어; 상기 제1레이어로부터 돌출되어 형성되는 원통형 또는 링 형상인 제1굴절률의 제1굴절부; 및 상기 제1 및 제2레이어 사이에 위치하며, 상기 제1굴절부의 측면 및 상면을 둘러싸는 제2굴절률의 제2굴절부를 포함하는 광학 시스템을 제공한다.
또한 상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 제1굴절률의 제1수지로 이루어진 원통형 또는 링 형상의 패턴을 형성하는 단계; 상기 패턴이 형성된 상기 제1수지의 일면에, 상기 패턴보다 높은 높이로 제2굴절률의 제2수지를 도포하는 단계; 및 외부로 노출된 상기 제2수지의 표면을 코팅하는 단계를 포함하는 위상 공간 필터 제조 방법을 제공한다.
본 발명에 따르면, 확장된 초점 심도와 향상된 횡방향 분해능이 제공될 수 있으며, 레이어 상에 형성된 원통형 또는 링 형상의 패턴을 레이어 사이에서 고정시킴으로써 위상 공간 필터의 내구성을 향상시킬 수 있다.
또한 본 발명에 따르면, 스탬프 방식으로 필터를 제조함으로써, 각 필터에 대해 패턴을 식각하는 등의 공정을 적용하지 않고 간단하게 위상 공간 필터를 제조할 수 있으며 대량 생산이 가능하다.
도 1 및 2는 본 발명의 일실시예에 따른 위상 공간 필터를 설명하기 위한 도면이다.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 위상 공간 필터의 효과를 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 위상 공간 필터 제조 방법의 흐름도이다.
도 5는 본 발명의 구체적 실시예에 따른 위상 공간 필터 제조 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 6 내지 8은 본 발명에 따른 위상 공간 필터가 광학 시스템에 적용된 실시예를 도시하는 도면이다.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다.
본 발명은 확장된 초점 심도와 향상된 횡방향 분해능을 제공할 수 있는 위상 공간 필터와 그 제조 방법을 제안한다.
본 발명에 따른 위상 공간 필터는 복수의 레이어 사이에 위치하는 원통형 또는 링 형상의 간단한 구조로 이루어진다. 그리고 원통형 또는 링 형상의 패턴과 굴절률이 다른 물질을 레이어 사이에 채움으로써, 간단한 구조로 확장된 초점 심도와 향상된 횡방향 분해능을 제공함과 동시에, 돌출된 원통형 또는 링 형상의 패턴의 내구성을 향상시킬 수 있다.
본 발명에 따른 위상 공간 필터는 광학 이미징 시스템, 광 프로브 등 광학 시스템에 탈부착되는 형태로 간단하게 적용할 수 있다.
이하에서, 본 발명에 따른 실시예들을 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.
도 1 및 2는 본 발명의 일실시예에 따른 위상 공간 필터를 설명하기 위한 도면으로서, 도 1은 위상 공간 필터의 단면도이다. 도 2는 위상 공간 필터의 평면도로서, 제1 및 제2굴절부를 도시한다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 위상 공간 필터는 제1레이어(110), 제2레이어(120), 제1굴절부(130, 140) 및 제2굴절부(150)를 포함한다.
제1굴절부(130, 140)는 제1레이어(110)로부터 돌출되어 형성되며, 원통형 또는 링 형상이다. 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 제1굴절부(130, 140)는 원통형 패턴 및 링 패턴을 모두 포함할 수 있으며, 실시예에 따라서 원통형 패턴(130)만을 포함하거나 또는 링 패턴(140)만을 포함할 수도 있다. 그리고 패턴의 개수도 달라질 수 있다.
제2굴절부(150)는 제1 및 제2레이어(110, 120) 사이에 위치하며, 제1굴절부(130, 140)의 측면 및 상면을 둘러싼다. 즉, 제2레이어(120)는 제1굴절부(130, 140)와 접촉하지 않으며, 제2굴절부(150)와 접촉한다.
제1굴절부(130, 140)는 제1레이어(110)와 결합된 상태로서, 결합 면적이 크지 않기 때문에, 외력에 의해 결합이 분리되는 등 제1굴절부(130, 140)가 파손될 수 있는데, 제2굴절부(150)가 제1 및 제2레이어(110, 120) 사이에서 제1굴절부(130, 140)를 둘러싸 제1굴절부(130, 140)를 고정시킴으로써, 제1굴절부(130, 140)의 내구성이 향상될 수 있다.
제1 및 제2레이어(110, 120)는 도 2에 도시된 바와 같이 원형 형상일 수 있으나, 실시예에 따라서 사각형 등 다른 형상일 수 있다. 예컨대, 본 발명에 따른 위상 공간 필터가 결합되는 대상에 따라 레이어의 형태가 달라질 수 있다.
본 발명에 따르면, 제1레이어(110)로 입사된 빔은 서로 다른 굴절률(refractive index)의 제1굴절부(130, 140) 및 제2굴절부(150)를 통과하며 굴절되고, 서로 다른 굴절부를 통과한 빛 사이에 경로차가 발생한다. 이 때, 제1굴절부(130, 140) 및 제2굴절부(150)를 통과한 빛 사이에 발생하는 위상차에 의해 빛이 서로 간섭을 일으켜 제2레이어(120)로 출력되는 빔의 형상이 변화될 수 있다. 이러한 현상을 통해, 초점 심도가 확장되고 횡방향 분해능이 향상될 수 있다.
일실시예로서, 제1 및 제2굴절부를 통과한 빛 사이에 π만큼의 위상 차이가 발생하기 위해서는, 제1 및 제2굴절부를 통과한 빛의 광 경로차이가 λ/2인 것이 바람직하며, 이러한 조건을 만족시키도록 원통형 또는 링 형상의 높이가 설계될 수 있다.
제1굴절부(130, 140)의 높이(d)는 제1굴절률(n1)과 제2굴절률(n2)의 차이 및 빛의 파장(λ)에 따라 결정될 수 있으며, 예를 들어, [수학식 1]과 같이 제1굴절부(130, 140)의 높이가 결정될 수 있다.
Figure 112016119009933-pat00001
여기서, 제1굴절률은 제1굴절부(130, 140)의 굴절률이며, 제2굴절률은 제2굴절부(150)의 굴절률이다. 일실시예로서, 제1굴절부(130, 140)는 제1굴절률의 에폭시 수지일 수 있으며, 제2굴절부(150)는 제2굴절률의 에폭시 수지 또는 공기일 수 있다.
또한, 제1굴절부(130, 140) 즉, 원통형 또는 링 형상 패턴의 개수 및 반지름, 또는 굴절률 등에 따라 빛의 횡방향 분해능 및 초점 심도가 조절될 수 있으며, 원통형 또는 링 형상 패턴의 개수 및 반지름 등은 실시예에 따라 달라질 수 있다. 일실시예로서, 이용되는 빛의 파장과 굴절률을 고려하여 다양한 시뮬레이션을 수행함으로써, 최적의 설계 파라미터, 즉 원통형 또는 링 형상 패턴의 개수 및 반지름, 굴절률, 패턴 높이 등이 도출될 수 있다. 일예로서, 제1 및 제2굴절률의 차이가 클수록 횡방향 분해능이 향상되고 초점 심도가 확대될 수 있다.
또한 본 발명에 따른 위상 공간 필터의 성능을 더욱 향상시키기 위해, 제1레이어 및 제2레이어(110, 120)는 렌즈이거나 또는 제1레이어(110)로 입사되는 빛의 반사율 또는 투과율을 조절하는 코팅층일 수 있다. 이 때, 코팅층은 제1레이어(110) 및 제2레이어(120) 중에서 선택적으로 형성될 수 있다. anti-reflection(AR) 코팅을 적용함으로써, 코팅층에 의해 반사되는 빛이 감소되고 위상 공간 필터로 투과되는 빛의 양이 증가될 수 있다.
결국, 본 발명에 따르면, 확장된 초점 심도와 향상된 횡방향 분해능이 제공될 수 있으며, 제2굴절부가 제1굴절부를 둘러쌈으로써, 제1굴절부를 고정시킴과 동시에 제1굴절부가 외력에 의해 파손되는 것을 방지하여 제1굴절부의 내구성을 향상시킬 수 있다.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 위상 공간 필터의 효과를 설명하기 위한 도면이다.
도 3(a)는 위상 공간 필터를 적용하지 않았을 때 광 프로브의 초점 심도와 횡방향 분해능을 나타내는 도면이며, 도 3(b)는 본 발명에 따른 위상 공간 필터를 적용했을 때 광 프로브의 초점 심도와 횡방향 분해능을 나타내는 도면이다.
도 3에서 이용된 빛의 파장은 1310nm이며, 도 3에서 이용된 위상 공간 필터는 도 1 및 2의 형상으로서, 설계 파라미터는 [표 1]과 같다.
필터(레이어) 지름 1mm
반지름 a 0.05mm
반지름 b 0.095mm
반지름 c 0.23mm
높이 d 4.8um
굴절률 차이(n1-n2) 0.134
도 3(a)의 초점 심도는 3428um인데 반해, 도 3(b)의 초점 심도는 6836um로서, 본 발명에 따르면 초점 심도가 확장됨을 알 수 있다. 또한 도 3(a)와 달리 도 3(b)에는 사이드 로브( 310 , 320 )가 형성되어 횡방향으로 분해능이 향상되었음을 확인할 수 있다.
전술된 설계 파라미터에 따라서, 초점 심도와 횡방향 분해능은 달라질 수 있다.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 위상 공간 필터 제조 방법의 흐름도이다.
도 4를 참조하면, 먼저 제1굴절률의 제1수지로 이루어진 원통형 또는 링 형상의 패턴을 형성(S410)한다.
일실시예로서, 기판 상에 제1수지를 도포하고, 스탬프로 제1수지를 눌러 기판 상에 원통형 또는 링 형상의 패턴을 형성할 수 있다.
다른 실시예로서, 기판 상에 음각 형태의 패턴을 형성하고, 패턴이 형성된 기판에 제1수지를 도포한 후, 경화된 제1수지를 기판에서 제거함으로써 원통형 또는 링 형상의 패턴을 형성할 수 있다. 제1수지와 기판을 용이하게 분리하기 위해, 기판 상에 테프론 코팅 등과 같은 미끄러운 코팅이 수행될 수 있다.
패턴이 형성되면, 패턴이 형성된 제1수지의 일면에, 패턴보다 높은 높이로 제2굴절률의 제2수지를 도포(S420)한다. 패턴보다 높은 높이로 제2수지를 도포함으로써, 제2수지가 패턴의 상면 및 측면을 둘러쌀 수 있다.
그리고 외부로 노출된 제2수지의 표면을 코팅(S430)한다. 이 때의 코팅층이 전술된 제2레이어일 수 있으며, 기판이 제1레이어가 될 수 있다. 기판은 렌즈일 수 있다. 또는 렌즈를 제거하고, 코팅층의 제1레이어를 형성할 수 있다.
코팅층의 제1레이어를 형성하기 위해, 기판을 제1수지로부터 제거하고, 기판이 제거된 제1수지의 타면에서, 제2수지가 노출되도록 제1수지를 제거한다. 그리고 제2수지가 노출된 제1수지의 타면을 코팅함으로써, 도 2에 도시된 바와 같은 형태의 위상 공간 필터가 제조될 수 있다. 즉, 제1레이어는 제1수지 및 제2수지와 접촉하고, 제2레이어는 제2수지와 접촉할 수 있다.
제1 및 제2수지는 서로 굴절률이 다른 자외선 경화 에폭시 수지일 수 있으며, 자외선을 이용하여 에폭시 수지를 경화시킨 후, 용이하게 기판과 에폭시 수지를 분리할 수 있다.
본 발명에 따르면, 스탬프 방식으로 필터를 제조함으로써 필터의 패턴을 식각하는 등의 공정없이 간단하게 위상 공간 필터를 제조할 수 있으며 대량 생산이 가능하다.
도 5는 본 발명의 구체적 실시예에 따른 위상 공간 필터 제조 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 5에서 1 내지 6의 아라비아 숫자는 제조 순서를 나타낸다. 도 5를 참조하면, 실리콘 웨이퍼 기판을 에칭하여 제1패턴을 형성하고 폴리디메틸실록산(polydimethylsiloxane, PDMS)을 웨이퍼에 코팅한다. 그리고 경화된 PDMS를 웨이퍼에서 벗겨냄으로써, 제2패턴이 형성된 PDMS 재질의 스탬프가 제조될 수 있다. 제2패턴은 제1패턴을 형성하기 위한 패턴이다.
이후, 렌즈 등의 기판(optics)에 제1자와선 경화 에폭시 수지를 얇게 바르고, PDMS 스탬프로 눌러 제1자외선 경화 에폭시 수지에 제1패턴을 복제한다. 자외선을 이용하여 제1자외선 경화 에폭시 수지를 경화시킨 후, 제1패턴이 복제된 제1자외선 경화 에폭시 수지에 굴절률이 다른 제2자외선 경화 에폭시 수지를 도포한다. 그리고 자외선을 이용하여 제2자외선 경화 에폭시 수지를 경화시킨 후, 제2자외선 경화 에폭시 수지상에 코팅층을 형성하거나 렌즈를 결합한다.
도 6 내지 8은 본 발명에 따른 위상 공간 필터가 광학 시스템에 적용된 실시예를 도시하는 도면이다.
도 6은 위상 공간 필터가 OCT 시스템에 적용된 도면이며, 도 7은 위상 공간 필터가 forward scanning 광 프로브에 적용된 도면이다. 도 8은 위상 공간 필터가 circumferential scanning 광 프로브에 적용된 도면이다.
도 6 내지 도 8에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 위상 공간 필터를 포함하는 광학 시스템에서, 위상 공간 필터는 광원으로부터 제공된 빛을 입력받아 출력한다. 도 6 내지 도 8에서 붉은색 영역이 빛을 나타낸다.
도 6을 참조하면, 광원, 포토 디텍터, 빔 스플리터, 레퍼런스 암, 샘플 암, 스토리지 및 디스플레이를 포함하는 CT 시스템에서는 광원(light source)으로부터 제공된 빛이 빔 스플리터를 거쳐 위상 공간 필터로 입력되며, 샘플 시료로 빛을 출력하는 샘플 암(sample arm)의 전방에 위상 공간 필터가 위치할 수 있다. 이 때, 위상 공간 필터는 샘플 암에 직접 결합되지 않고, 자유 공간(free space) 상에 위치할 수 있다.
도 7 및 8을 참조하면, 광 프로브에서는 광원으로부터 제공된 빛이 광섬유(700)를 통해 위상 공간 필터로 입력되며, 위상 공간 필터는 광 프로브와 결합될 수 있다. 도 8과 같이, 위상 공간 필터와 프리즘(810)을 결합하여 사용될 수도 있다.
이상과 같이 본 발명에서는 구체적인 구성 요소 등과 같은 특정 사항들과 한정된 실시예 및 도면에 의해 설명되었으나 이는 본 발명의 보다 전반적인 이해를 돕기 위해서 제공된 것일 뿐, 본 발명은 상기의 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 분야에서 통상적인 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다. 따라서, 본 발명의 사상은 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 아니되며, 후술하는 특허청구범위뿐 아니라 이 특허청구범위와 균등하거나 등가적 변형이 있는 모든 것들은 본 발명 사상의 범주에 속한다고 할 것이다.

Claims (12)

  1. 제1레이어;
    제2레이어;
    상기 제1레이어로부터 돌출되어 형성되며, 원통형 또는 링 형상인 제1굴절률의 제1수지로 이루어진 제1굴절부; 및
    상기 제1 및 제2레이어 사이에 위치하며, 상기 제1굴절부의 측면 및 상면을 둘러싸는 제2굴절률의 제2수지로 이루어진 제2굴절부
    를 포함하는 위상 공간 필터.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 제1레이어 또는 상기 제2레이어는
    상기 제1레이어로 입사되는 빛의 반사율 또는 투과율을 조절하는 코팅층인
    위상 공간 필터.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 제1굴절부의 높이는
    상기 제1굴절률과 상기 제2굴절률의 차이 및 빛의 파장에 따라 결정되는
    위상 공간 필터.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 제1굴절부는
    상기 제1굴절률의 에폭시 수지이며,
    상기 제2굴절부는
    상기 제2굴절률의 에폭시 수지인
    위상 공간 필터.
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 제1굴절부의 개수 및 반지름, 상기 제1 및 제2굴절률의 차이에 따라 빛의 횡방향 분해능 및 초점 심도가 조절되는
    위상 공간 필터.
  6. 광원으로부터 제공된 빛을 입력받는 위상 공간 필터를 포함하며,
    상기 위상 공간 필터는
    제1레이어;
    제2레이어;
    상기 제1레이어로부터 돌출되어 형성되는 원통형 또는 링 형상인 제1굴절률의 제1굴절부; 및
    상기 제1 및 제2레이어 사이에 위치하며, 상기 제1굴절부의 측면 및 상면을 둘러싸는 제2굴절률의 제2굴절부를 포함하며,
    상기 제1레이어 또는 상기 제2레이어는
    상기 제1레이어로 입사되는 빛의 반사율 또는 투과율을 조절하는 코팅층인
    광학 시스템.
  7. 제 6항에 있어서,
    상기 위상 공간 필터는
    상기 광학 시스템의 프로브와 결합되거나 또는 자유 공간에 위치하는
    광학 시스템.
  8. 제1굴절률의 제1수지로 이루어진 원통형 또는 링 형상의 패턴을 형성하는 단계;
    상기 패턴이 형성된 상기 제1수지의 일면에, 상기 패턴보다 높은 높이로 제2굴절률의 제2수지를 도포하는 단계; 및
    외부로 노출된 상기 제2수지의 표면을 코팅하는 단계
    위상 공간 필터 제조 방법.
  9. 제 8항에 있어서,
    상기 원통형 또는 링 형상의 패턴을 형성하는 단계는
    기판 상에 상기 제1수지를 도포하는 단계; 및
    스탬프로 상기 제1수지를 눌러, 상기 패턴을 형성하는 단계
    를 포함하는 위상 공간 필터 제조 방법.
  10. 제 9항에 있어서,
    상기 기판을 제1수지로부터 제거하는 단계;
    상기 기판이 제거된 상기 제1수지의 타면에서, 상기 제2수지가 노출되도록 상기 제1수지를 제거하는 단계; 및
    상기 제1수지의 타면을 코팅하는 단계
    를 더 포함하는 위상 공간 필터 제조 방법.
  11. 제 8항에 있어서,
    상기 원통형 또는 링 형상의 패턴을 형성하는 단계는
    기판 상에 음각 형태의 패턴을 형성하는 단계; 및
    상기 음각 형태의 패턴이 형성된 기판에 상기 제1수지를 도포하는 단계
    를 포함하는 위상 공간 필터 제조 방법.
  12. 제 8항에 있어서,
    상기 수지는
    자외선 경화 에폭시 수지인
    위상 공간 필터 제조 방법.
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