KR101870664B1 - 기판처리장치 - Google Patents

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KR101870664B1
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세메스 주식회사
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Abstract

본 발명의 실시예에 의하면, 노즐을 지지하는 지지암은 제1암몸체, 제2암몸체, 그리고 제3암몸체를 포함한다. 제2암몸체는 제1암몸체에 압입되고, 제3암몸체는 제2암몸체에 압입된다. 제2암몸체는 제1암몸체 및 제3암몸체에 비해 강도가 강한 재질로 이루어하고, 상기 제1암몸체 및 상기 제3암몸체는 상기 제2암몸체에 비해 내부식성이 강한 재질로 이루어진다.

Description

기판처리장치{Apparatus for treating substrate}
본 발명은 기판을 처리하는 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판을 약액으로 세정하는 기판처리장치에 관한 것이다.
반도체소자 또는 액정 디스플레이를 제조하기 위해서, 기판에 포토리소그라피, 식각, 애싱, 이온주입, 그리고 박막 증착등의 다양한 공정들이 수행된다. 각각의 공정에서 생성된 오염물 및 파티클을 제거하기 위해 각각의 공정이 진행되기 전 또는 후 단계에는 기판을 세정하는 세정공정이 실시된다.
세정공정은 기판 상으로 약액을 토출하여 기판을 세정 처리하는 공정으로, 약액으로는 황산(H2SO4)과 과산화수소(H2O2)가 혼합된 처리액이 사용된다. 세정공정 시 약액은 기판 상에 잔존하는 오염물 및 파티클과 반응하여 퓸(Fume)을 발생하거나 그 자체만으로 퓸을 발생된다. 이로 인해 퓸은 노즐 또는 노즐을 지지하는 지지암에 부착되고, 노즐 및 지지암은 부식된다.
또한 기판 상으로 토출되는 약액은 기판으로부터 비산되어 노즐 및 지지암에 부착된다. 이로 인해 약액은 노즐 및 지지암을 부식시킨다.
본 발명의 실시예는 기판 상으로 토출되는 약액으로 인해 노즐 및 지지암이 부식되는 것을 최소화하고자 한다.
본 발명의 실시예에 의하면, 기판을 약액으로 세정하는 기판처리장치를 제공한다. 기판처리장치는 기판을 처리하는 공간을 제공하는 하우징과 상기 하우징 내에 제공되며, 상기 기판을 지지 및 회전시키는 스핀헤드와 상기 기판으로 약액을 토출하는 노즐과 상기 노즐을 지지하는 지지암을 포함하되 상기 지지암은, 내부에 공간이 제공되는 제1암몸체와 상기 제1암몸체의 내측면에 압입되는 제2암몸체와 그리고 상기 제2암몸체의 내측면에 압입되는 제3암몸체를 포함하되 상기 제2암몸체는 상기 제1암몸체 및 상기 제3암몸체에 비해 강도가 강하고, 상기 제1암몸체 및 상기 제3암몸체는 상기 제2암몸체에 비해 내부식성이 강하다.
상기 제2암몸체는 서스 재질로 이루어지고, 상기 제1암몸체 및 제3암몸체는 불소 수지로 이루어질 수 있다. 상기 노즐은 상기 약액을 토출하는 토출구가 형성되는 제1노즐몸체와 상기 제1노즐몸체에 압입되어 상기 제1노즐몸체와 결합되는 제2암몸체를 포함할 수 있다. 상기 제1노즐몸체는 상기 제2노즐몸체에 비해 내부식성이 강한 재질로 이루어지고, 상기 제2노즐몸체는 상기 제1노즐몸체에 비해 내열성이 강한 재질로 이루어질 수 있다. 상기 노즐을 대기위치와 공정위치 간에 이동시키는 구동부와 상기 하우징의 일측에 배치되고, 상기 노즐이 상기 대기위치에 위치된 상태에서 상기 지지암을 세정하는 세정부재를 더 포함하되 상기 세정부재는 상기 지지암의 상부에 배치되고, 상기 지지암의 외측면으로 세정액을 분출할 수 있다. 상기 세정부재는 중공의 바 형상을 가지고, 그 길이방향을 따라 세정액이 분출되는 관통홀이 형성되며, 상기 노즐이 상기 대기위치에 위치된 상태에서 상기 지지암과 대향되도록 위치될 수 있다. 상기 노즐을 대기위치와 공정위치 간에 이동시키는 구동부와 상기 하우징의 일측에 배치되어 상기 대기위치에 위치된 상기 노즐을 세정하는 세정부재를 더 포함하되 상기 세정부재는 내부에 세정액이 채워지고, 상부가 개방되며, 상기 노즐이 수용되는 공간을 가질 수 있다. 상기 지지암에서 상기 노즐이 결합되는 영역과 인접한 영역은 라운드질 수 있다.
본 발명의 실시예에 의하면, 지지암의 외측면 및 내측면은 불소 수지로 이루어져 지지암의 부식을 방지한다.
또한 노즐의 외측면은 불소 수지로 이루어져 노즐의 부식을 방지한다.
또한 노즐 및 지지암을 세정하는 세정부재가 제공되어 노즐 및 지지암의 부식을 방지한다.
또한 지지암은 라운드지도록 제공되어 부식에 대한 세정이 용이하다.
도1은 기판처리설비를 개략적으로 보여주는 평면도이다.
도2는 도1의 기판처리장치를 개략적으로 보여주는 단면도이다.
도3은 도2의 지지암 및 노즐의 실시예를 개략적으로 보여주는 단면도이다.
도4는 도3의 지지암 및 노즐의 다른 실시예를 개략적으로 보여주는 단면도이다.
도5는 도2의 제1세정부재를 개략적으로 보여주는 단면도이다.
도6은 도5의 제2세정부재를 개략적으로 보여주는 단면도이다.
도7은 도5의 제1세정부재를 이용하여 노즐을 세정하는 과정을 보여주는 단면도이다.
도8은 도6의 제2세정부재를 이용하여 지지암을 세정하는 과정을 보여주는 단면도이다.
본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 서술하는 실시예로 인해 한정되어지는 것으로 해석되어서는 안된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 구성 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장된 것이다.
도1 내지 도8을 참조하여 본 발명의 일 예를 상세히 설명한다.
도1은 본 발명의 기판처리설비를 개략적으로 나타낸 평면도이다. 도1을 참조하면, 기판처리설비(1)는 인덱스모듈(10)과 공정처리모듈(20)을 가진다. 인덱스모듈(10)은 로드포트(120) 및 이송프레임(140)을 가진다. 로드포트(120), 이송프레임(140), 그리고 공정처리모듈(20)은 순차적으로 일렬로 배열된다. 이하, 로드포트(120), 이송프레임(140), 그리고 공정처리모듈(20)이 배열된 방향을 제1방향(12)이라 하고, 상부에서 바라볼 때, 제1방향(12)과 수직한 방향을 제2방향(14)이라 하며, 제1방향(12)과 제2방향(14)을 포함한 평면에 수직인 방향을 제3방향(16)이라 칭한다.
로드포트(140)에는 기판(W)이 수납된 캐리어(130)가 안착된다. 로드포트(120)는 복수 개가 제공되며 이들은 제2방향(14)을 따라 일렬로 배치된다. 로드포트(120)의 개수는 공정처리모듈(20)의 공정효율 및 풋 프린트조건 등에 따라 증가하거나 감소할 수도 있다. 캐리어(130)에는 기판(W)들을 지면에 대해 수평하게 배치한 상태로 수납하기 위한 다수의 슬롯(미도시)이 형성된다. 캐리어(130)로는 전면개방일체형포드(Front Opening Unifed Pod;FOUP)가 사용될 수 있다.
공정처리모듈(20)은 버퍼유닛(220), 이송챔버(240), 그리고 공정챔버(260)를 가진다. 이송챔버(240)는 그 길이 방향이 제 1 방향(12)과 평행하게 배치된다. 이송챔버(240)의 양측에는 각각 공정챔버(260)들이 배치된다. 이송챔버(240)의 일측 및 타측에서 공정챔버(260)들은 이송챔버(240)를 기준으로 대칭되도록 제공된다. 이송챔버(240)의 일측에는 복수 개의 공정챔버(260)들이 제공된다. 공정챔버(260)들 중 일부는 이송챔버(240)의 길이 방향을 따라 배치된다. 또한, 공정챔버(260)들 중 일부는 서로 적층되게 배치된다. 즉, 이송챔버(240)의 일측에는 공정챔버(260)들이 A X B의 배열로 배치될 수 있다. 여기서 A는 제1방향(12)을 따라 일렬로 제공된 공정챔버(260)의 수이고, B는 제3방향(16)을 따라 일렬로 제공된 공정챔버(260)의 수이다. 이송챔버(240)의 일측에 공정챔버(260)가 4개 또는 6개 제공되는 경우, 공정챔버(260)들은 2 X 2 또는 3 X 2의 배열로 배치될 수 있다. 공정챔버(260)의 개수는 증가하거나 감소할 수도 있다. 상술한 바와 달리, 공정챔버(260)는 이송챔버(240)의 일측에만 제공될 수 있다. 또한, 공정챔버(260)는 이송챔버(240)의 일측 및 양측에 단층으로 제공될 수 있다.
버퍼유닛(220)은 이송프레임(140)과 이송챔버(240) 사이에 배치된다. 버퍼 유닛(220)은 이송챔버(240)와 이송프레임(140) 간에 기판(W)이 반송되기 전에 기판(W)이 머무르는 공간을 제공한다. 버퍼유닛(220)의 내부에는 기판(W)이 놓이는 슬롯(미도시)이 제공된다. 슬롯(미도시)들은 서로 간에 제3방향(16)을 따라 이격되도록 복수 개가 제공된다. 버퍼유닛(220)은 이송프레임(140)과 마주보는 면 및 이송챔버(240)와 마주보는 면이 개방된다.
이송프레임(140)은 로드포트(120)에 안착된 캐리어(130)와 버퍼유닛(220) 간에 기판(W)을 반송한다. 이송프레임(140)에는 인덱스레일(142)과 인덱스로봇(144)이 제공된다. 인덱스레일(142)은 그 길이 방향이 제2방향(14)과 나란하게 제공된다. 인덱스로봇(144)은 인덱스레일(142) 상에 설치되며, 인덱스레일(142)을 따라 제2방향(14)으로 직선 이동된다. 인덱스로봇(144)은 베이스(144a), 몸체(144b), 그리고 인덱스암(144c)을 가진다. 베이스(144a)는 인덱스레일(142)을 따라 이동 가능하도록 설치된다. 몸체(144b)는 베이스(144a)에 결합된다. 몸체(144b)는 베이스(144a) 상에서 제3방향(16)을 따라 이동 가능하도록 제공된다. 또한, 몸체(144b)는 베이스(144a) 상에서 회전 가능하도록 제공된다. 인덱스암(144c)은 몸체(144b)에 결합되고, 몸체(144b)에 대해 전진 및 후진 이동 가능하도록 제공된다. 인덱스암(144c)은 복수 개 제공되어 각각 개별 구동되도록 제공된다. 인덱스암(144c)들은 제3방향(16)을 따라 서로 이격된 상태로 적층되게 배치된다. 인덱스암(144c)들 중 일부는 공정처리모듈(20)에서 캐리어(130)로 기판(W)을 반송할 때 사용되고, 이의 다른 일부는 캐리어(130)에서 공정처리모듈(20)로 기판(W)을 반송할 때 사용될 수 있다. 이는 인덱스로봇(144)이 기판(W)을 반입 및 반출하는 과정에서 공정 처리 전의 기판(W)으로부터 발생된 파티클이 공정 처리 후의 기판(W)에 부착되는 것을 방지할 수 있다.
이송챔버(240)는 버퍼유닛(220)과 공정챔버(260) 간에, 그리고 공정챔버(260)들 간에 기판(W)을 반송한다. 이송챔버(240)에는 가이드레일(242)과 메인로봇(244)이 제공된다. 가이드레일(242)은 그 길이 방향이 제1방향(12)과 나란하도록 배치된다. 메인로봇(244)은 가이드레일(242) 상에 설치되고, 가이드레일(242) 상에서 제1방향(12)을 따라 직선 이동된다. 메인로봇(244)은 베이스(244a), 몸체(244b), 그리고 메인암(244c)을 가진다. 베이스(244a)는 가이드레일(242)을 따라 이동 가능하도록 설치된다. 몸체(244b)는 베이스(244a)에 결합된다. 몸체(244b)는 베이스(244a) 상에서 제3방향(16)을 따라 이동 가능하도록 제공된다. 또한, 몸체(244b)는 베이스(244a) 상에서 회전 가능하도록 제공된다. 메인암(244c)은 몸체(244b)에 결합되고, 이는 몸체(244b)에 대해 전진 및 후진 이동 가능하도록 제공된다. 메인암(244c)은 복수 개 제공되어 각각 개별 구동되도록 제공된다. 메인암(244c)들은 제3방향(16)을 따라 서로 이격된 상태로 적층되게 배치된다.
공정챔버(260) 내에는 기판(W)에 대해 세정 공정을 수행하는 기판처리장치(300)가 제공된다. 기판처리장치(300)는 수행하는 세정 공정의 종류에 따라 상이한 구조를 가질 수 있다. 이와 달리 각각의 공정챔버(260) 내의 기판 처리 장치(300)는 동일한 구조를 가질 수 있다. 선택적으로 공정챔버(260)들은 복수 개의 그룹으로 구분되어, 동일한 그룹에 속하는 공정챔버(260) 내에 기판처리장치(300)들은 서로 동일하고, 서로 상이한 그룹에 속하는 공정챔버(260) 내에 기판처리장치(300)의 구조는 서로 상이하게 제공될 수 있다.
도2는 도1의 기판처리장치를 보여주는 단면도이다. 도2를 참조하면, 기판처리장치(300)는 하우징(320), 스핀헤드(340), 승강유닛(360), 분사유닛(380), 그리고 세정부재(400)를 가진다. 하우징(320)은 기판처리공정이 수행되는 공간을 가지며, 그 상부는 개방된다. 하우징(320)은 내부회수통(322), 및 외부회수통(326)을 가진다. 각각의 회수통(322,326)은 공정에 사용된 처리액 중 서로 상이한 처리액을 회수한다. 내부회수통(322)은 스핀헤드(340)를 감싸는 환형의 링 형상으로 제공되고, 외부회수통(326)은 내부회수통(322)을 감싸는 환형의 링 형상으로 제공된다. 내부회수통(322)의 내측공간(322a) 및 내부회수통(322)과 외부회수통(326)의 사이공간(326a)은 각각 내부회수통(322) 및 외부회수통(326)으로 처리액이 유입되는 유입구로서 기능한다. 각각의 회수통(322,326)에는 그 저면 아래 방향으로 수직하게 연장되는 회수라인(322b,326b)이 연결된다. 각각의 회수라인(322b,326b)은 각각의 회수통(322,326)을 통해 유입된 처리액을 배출한다. 배출된 처리액은 외부의 처리액 재생시스템(미도시)을 통해 재사용될 수 있다.
스핀헤드(340)는 공정 진행 중 기판(W)을 지지하고 기판(W)을 회전시킨다. 스핀헤드(340)는 몸체(342), 지지핀(344), 척핀(346), 그리고 지지축(348)을 가진다. 몸체(342)는 상부에서 바라볼 때 대체로 원형으로 제공되는 상부면을 가진다. 몸체(342)의 저면에는 모터(349)에 의해 회전가능한 지지축(348)이 고정결합된다.
지지핀(344)은 복수 개 제공된다. 지지핀(344)은 몸체(342)의 상부면의 가장자리부에 소정 간격으로 이격되게 배치되고 몸체(342)에서 상부로 돌출된다. 지지 핀(344)들은 서로 간에 조합에 의해 전체적으로 환형의 링 형상을 가지도록 배치된다. 지지핀(344)은 몸체(342)의 상부면으로부터 기판(W)이 일정거리 이격되도록 기판(W)의 후면 가장자리를 지지한다.
척핀(346)은 복수 개 제공된다. 척핀(346)은 몸체(342)의 중심에서 지지핀(344)보다 멀리 떨어지게 배치된다. 척핀(346)은 몸체(342)에서 상부로 돌출되도록 제공된다. 척핀(346)은 스핀헤드(340)가 회전될 때 기판(W)이 정 위치에서 측 방향으로 이탈되지 않도록 기판(W)의 측부를 지지한다. 척핀(346)은 몸체(342)의 반경 방향을 따라 대기위치와 지지위치 간에 직선 이동이 가능하도록 제공된다. 대기위치는 지지위치에 비해 몸체(342)의 중심으로부터 멀리 떨어진 위치이다. 기판(W)이 스핀헤드(340)에 로딩 또는 언로딩 시 척핀(346)은 대기위치에 위치되고, 기판(W)에 대해 공정 수행 시 척 핀(346)은 지지위치에 위치된다. 지지위치에서 척핀(346)은 기판(W)의 측부와 접촉된다.
승강유닛(360)은 하우징(320)을 상하 방향으로 직선이동시킨다. 하우징(320)이 상하로 이동됨에 따라 스핀헤드(340)에 대한 하우징(320)의 상대 높이가 변경된다. 승강유닛(360)은 브라켓(362), 이동축(364), 그리고 구동기(366)를 가진다. 브라켓(362)은 하우징(320)의 외벽에 고정설치되고, 브라켓(362)에는 구동기(366)에 의해 상하 방향으로 이동되는 이동축(364)이 고정결합된다. 기판(W)이 스핀 헤드(340)에 놓이거나, 스핀헤드(340)로부터 들어올려 질 때 스핀헤드(340)가 하우징(320)의 상부로 돌출되도록 하우징(320)은 하강된다. 또한, 공정이 진행될 시에는 기판(W)에 공급된 처리액의 종류에 따라 약액이 기설정된 회수통(360)으로 유입될 수 있도록 하우징(320)의 높이가 조절한다. 선택적으로, 승강유닛(360)은 스핀헤드(340)를 상하 방향으로 이동시킬 수 있다.
도3은 도2의 지지암 및 노즐의 실시예를 개략적으로 보여주는 단면도이다. 도3을 참조하면, 분사유닛(380)은 지지축(382), 지지암(384), 노즐(386), 그리고 구동기(미도시)을 가진다. 지지축(382)은 그 길이방향이 상하방향으로 제공되고, 회전 및 승강 가능하다.
지지암(384)은 지지축(382)과 수직하게 결합된다. 지지암(384)의 길이방향을 대체로 지면과 평행하게 제공된다. 지지암(384)의 일단은 노즐(386)과 결합된다. 지지암(384)의 일단은 지면과 마주보도록 제공된다. 노즐(386)과 결합되는 영역과 인접한 영역은 라운드지도록 제공된다. 지지암(384)은 제1암몸체(384a), 제2암몸체(384b), 그리고 제3암몸체(384c)를 가진다. 제1암몸체(384a), 제2암몸체(384b), 그리고 제3암몸체(384c)는 모두 동일한 형상으로 제공되며, 그 크기는 각각 상이하게 제공된다. 제1암몸체(384a)는 그 내부에 공간이 제공된다. 제2암몸체(384b)는 제1암몸체(384a)의 내부에 압입되어 제1암몸체(384a)에 결합된다. 제3암몸체(384c)는 제2암몸체(384b)의 내부에 압입되어 제2암몸체(384b)에 결합된다. 제1암몸체(384a) 및 제3암몸체(384c)는 제2암몸체(384b)에 비해 내부식성이 강한 재질로 이루어진다. 제1암몸체(384a) 및 제3암몸체(384c)는 불소 수지로 이루어진다. 예컨대, 불소 수지는 페르 플루오트 알킬비닐에테르 공중합체(PFA: Per Fluoro Alkoxy)일 수 있다. 제2암몸체(384b)는 제1암몸체(384a) 및 제3암몸체(384c)에 비해 강도가 강한 재질로 이루어진다. 제2암(384b)몸체는 서스 재질로 이루어진다. 예컨대, 서스 재질은 스테인레스(Stainless steel)일 수 있다. 제3암몸체(384c)의 내부는 약액이 공급되는 공간으로 제공된다. 예컨대, 약액은 황산(H2SO4)과 과산화수소(H2O2)가 혼합된 혼합액일 수 있다.
노즐(386)은 약액을 토출한다. 노즐(386)은 제1노즐(386)몸체 및 제2노즐몸체(386b)를 가진다. 제1노즐몸체(386a)에는 약액이 토출되는 토출구가 형성된다. 제2노즐몸체(386b)는 제1노즐몸체(386a)에 압입되어 제1노즐몸체(386a)에 결합된다. 제2노즐몸체(386b)에는 제1노즐몸체(386a)와 결합 시 토출구와 대응되는 위치에 홀이 형성된다. 제1노즐몸체(386a)는 제2노즐몸체(386b)에 비해 내부식성이 강한 재질로 이루어진다. 예컨대 제1노즐몸체(386a)는 페르 플루오트 알킬비닐에테르 공중합체(PFA: Per Fluoro Alkoxy)로 이루어질 수 있다. 제2노즐몸체(386b)는 제1노즐몸체(386a)에 비해 내열성이 강한 재질로 이루어진다. 예컨대 제2노즐몸체(386b)는 폴리테트라플루오르에틸렌(Polytetrafluoroethylene, PTFE)으로 이루어질 수 있다.
구동기(미도시)는 지지축(382)을 회전 및 승강 운동시킨다. 지지축(382)의 회전에 의해 노즐(386) 및 지지암(384)은 공정위치 또는 대기위치로 이동된다. 공정위치는 노즐(386)이 하우징(320)의 수직 상부에 배치된 위치이고, 대기위치는 노즐(386)이 하우징(320)의 수직 상부로부터 벗어난 위치이다.
도4는 도3의 지지암 및 노즐의 다른 실시예를 개략적으로 보여주는 단면도이다. 도4의 지지암(384) 및 노즐(386)은 상술한 도3의 지지암(384) 및 노즐(386)의 다른 실시예에 관한 것으로, 동일한 구성에 관한 상세한 설명은 생략한다. 도4를 참조하면, 지지암(384)는 제1격벽(384d)을 더 포함한다. 제1격벽(384d)은 제3암몸체(384c)의 내부공간을 제3암몸체(384c)의 길이방향을 따라 구획한다. 구획된 공간은 서로 상이한 약액이 공급되는 공간으로서 그 기능을 수행한다. 제1노즐몸체(386a)는 제1격벽(384d)과 연장되는 제2격벽(386c)을 가진다. 제2격벽(386c)은 제1노즐몸체(386a)의 토출구를 구획한다.
도5는 도2의 제1세정부재를 개략적으로 보여주는 단면도이다. 도5를 참조하면, 제1세정부재(400a)는 지지암(384)을 세정한다. 제1세정부재(400a)는 지지암(384)의 길이방향과 대향되는 중공의 바 형상으로 제공된다. 제1세정부재(400a)는 지지암(384)이 대기위치에 위치되면, 제1세정부재(400a)의 길이방향은 지지암(384)의 길이방향과 평행을 이루도록 배치된다. 제1세정부재(400a)는 하우징(320)의 일측에 배치된다. 지지암(384)과 대향되는 제1세정부재(400a)의 외측면에는 복수의 관통홀이 제1세정부재(400a)의 길이방향을 따라 형성된다. 제1세정부재(400a)는 관통홀을 통해 지지암(384)의 외측면으로 세정액을 분출한다.
도6은 도2의 제2세정부재를 개략적으로 보여주는 단면도이다. 도6을 참조하면, 제2세정부재(400b)는 노즐(386)을 세정한다. 제2세정부재(400b)는 내부에 세정액이 채워지고, 상부가 개방된 용기 형상으로 제공된다. 제2세정부재(400b)는 하우징(320)의 일측에 배치된다. 제2세정부재(400b)는 노즐(386)이 대기위치에 위치되면, 노즐(386)을 충분히 수용할 수 있는 위치에 배치된다.
제1세정부재(400a)와 제2세정부재(400b)는 선택적으로 어느 하나만이 사용될 수 있고, 이와 달리 동시에 사용될 수 있다.
다음은 상술한 기판처리장치(300)를 이용하여 기판(W)을 세정하는 과정이다. 도7은 도5의 제1세정부재를 이용하여 노즐을 세정하는 과정을 보여주는 단면도이고, 도8은 도6의 제2세정부재를 이용하여 지지암을 세정하는 과정을 보여주는 단면도이다. 도7 및 도8을 참조하면, 다수의 기판(W)들이 수납된 풉(FOUP)은 로드포트(120)에 안착된다. 인덱스로봇(144)은 풉(FOUP)에 수납된 기판(W)을 반출하여 버퍼부(220)로 이송한다. 메인이송로봇(244)은 버퍼부(220)에 적재된 기판(W)을 공정챔버(260)로 이송한다. 기판(W)이 공정챔버(260) 내에 배치된 스핀헤드(342)에 로딩되면, 하우징(320)은 내부회수통(322)의 유입구(322a)가 기판(W)에 대응되도록 높이를 조절한다. 1차세정공정이 진행되면, 기판(W)을 지지하는 스핀헤드(342)는 회전하고, 노즐(386)은 공정위치로 이동된다. 노즐(386)이 기판(W)의 중앙영역 상부에 위치되면, 약액은 노즐(386)을 통해 기판(W) 상으로 토출된다. 약액은 기판(W) 상에 잔존하는 오염물 및 파티클을 세정한다. 오염물 및 파티클이 1차세정되면, 약액의 공급을 중단하고, 가열된 탈이온수를 기판(W) 상으로 토출한다. 탈이온수는 기판(W) 상에 잔여된 약액을 제거한다. 이때 탈이온수는 약액을 토출하는 분사유닛(380)의 노즐(386)을 통해 토출될 수 있고, 이와 다른 분사유닛(미도시)의 노즐을 통해 토출될 수 있다. 제1세정공정이 완료되면, 제2세정공정이 진행된다. 하우징(320)은 외부회수통(326)의 유입구(326a)가 기판(W)에 대응되도록 높이가 조절된다. 제1세정공정에 사용된 노즐(386)은 대기위치로 이동된다. 지지암(384)이 대기위치로 이동되면, 제1세정부재(400a)는 관통홀을 통해 세정액을 분출한다. 제1세정부재(400a)의 세정액은 지지암(384)의 외측면에 부착된 약액 및 퓸을 세정한다. 이와 동시에 노즐(386)은 세정액이 채워진 제2세정부재(400b)의 내부 공간에 수용된다. 제2세정부재(400b)의 세정액은 노즐(386)의 외측면에 부착된 약액 및 퓸을 세정한다. 이후, 2차세정공정이 완료된 기판(W)은 언로딩되어 메인이송로봇(244)에 의해 버퍼부(220)로 이송된다. 인덱스로봇(144)은 버퍼부(220)에 적재된 기판(W)을 풉(FOUP)으로 이송한다.
320: 하우징 340: 스핀헤드
384: 지지암 384a:제1암몸체
384b:제2암몸체 384c:제3암몸체
386: 노즐

Claims (8)

  1. 기판을 처리하는 공간을 제공하는 하우징과;
    상기 하우징 내에 제공되며, 상기 기판을 지지 및 회전시키는 스핀헤드와;
    상기 기판으로 약액을 토출하는 노즐과; 그리고
    상기 노즐을 지지하는 지지암을 포함하되;
    상기 지지암은,
    내부에 공간이 제공되는 제1암몸체와;
    상기 제1암몸체의 내측면에 압입되는 제2암몸체와; 그리고
    상기 제2암몸체의 내측면에 압입되는 제3암몸체를 포함하되;
    상기 제2암몸체는 상기 제1암몸체 및 상기 제3암몸체에 비해 강도가 강하고, 상기 제1암몸체 및 상기 제3암몸체는 상기 제2암몸체에 비해 내부식성이 강한 것을 특징으로 하고,
    상기 노즐은
    상기 약액을 토출하는 토출구가 형성되는 제1노즐몸체와;
    상기 제1노즐몸체에 압입되는 제2노즐몸체를 포함하고,
    상기 제1노즐몸체는 상기 제2노즐몸체에 비해 내부식성이 강한 재질로 이루어지고,
    상기 제2노즐몸체는 상기 제1노즐몸체에 비해 내열성이 강한 재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제2암몸체는 서스 재질로 이루어지고,
    상기 제1암몸체 및 제3암몸체는 불소 수지로 이루어진 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 제1항 내지 제2항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 노즐을 대기위치와 공정위치 간에 이동시키는 구동부와;
    상기 하우징의 일측에 배치되고, 상기 노즐이 상기 대기위치에 위치된 상태에서 상기 지지암을 세정하는 세정부재를 더 포함하되;
    상기 세정부재는 상기 지지암의 상부에 배치되고, 상기 지지암의 외측면으로 세정액을 분출하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 세정부재는 중공의 바 형상을 가지고, 그 길이방향을 따라 세정액이 분출되는 관통홀이 형성되며, 상기 노즐이 상기 대기위치에 위치된 상태에서 상기 지지암과 대향되도록 위치되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  7. 제1항 내지 제2항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 노즐을 대기위치와 공정위치 간에 이동시키는 구동부와;
    상기 하우징의 일측에 배치되어 상기 대기위치에 위치된 상기 노즐을 세정하는 세정부재를 더 포함하되;
    상기 세정부재는 내부에 세정액이 채워지고, 상부가 개방되며, 상기 노즐이 수용되는 공간을 가지는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 지지암의 끝단에서 상기 노즐과 결합되는 부분의 영역은 라운드진 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
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