KR101857955B1

KR101857955B1 - Applying apparatus

Info

Publication number: KR101857955B1
Application number: KR1020110127270A
Authority: KR
Inventors: 김준영
Original assignee: 주식회사 탑 엔지니어링
Priority date: 2011-11-30
Filing date: 2011-11-30
Publication date: 2018-05-16
Also published as: KR20130060944A

Abstract

본 발명에 따른 도포장치에서는, 도포과정에서 기판과 노즐 사이의 간격을 일정하게 유지할 수 있는 구성에 대하여 제시한다.In the coating apparatus according to the present invention, a configuration in which the gap between the substrate and the nozzle can be maintained constant during the coating process is presented.

Description

APPLICATION APPARATUS

본 발명은 평판디스플레이의 제조공정에서 기판상에 도포제를 도포하는 도포장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a coating apparatus for applying a coating agent onto a substrate in a manufacturing process of a flat panel display.

유기EL 디스플레이, 액정 디스플레이, 플라즈마 디스플레이, 전계방출 디스플레이 등의 평판디스플레이의 제조공정에서는, 한 쌍의 기판을 소정의 간격으로 유지하면서 그 사이의 내부공간을 기밀상태로 봉지하기 위하여, 한 쌍의 기판 중 어느 하나에 접착제, 실런트 또는 페이스트 등과 같은 도포제를 도포한 후 한 쌍의 기판을 서로 접합하는 공정을 수행한다.In a manufacturing process of a flat panel display such as an organic EL display, a liquid crystal display, a plasma display, and a field emission display, in order to seal a pair of substrates at a predetermined interval while hermetically sealing an inner space therebetween, A sealant, a paste or the like is applied to one of the substrates, and then a step of bonding the pair of substrates to each other is performed.

이러한 평판디스플레이의 제조과정에서, 가장 중요한 인자 중의 하나는, 한 쌍의 기판 사이의 간격을 일정하게 유지하는 것이다. 한 쌍의 기판 사이의 간격은, 기판에 도포된 도포제의 폭과 높이 등의 도포제의 단면형상에 의하여 결정된다. 따라서, 한 쌍의 기판 사이의 간격을 일정하게 유지하기 위하여, 도포제를 그 단면형상을 일정하게 유지하면서 기판상에 도포할 필요가 있다.One of the most important factors in the manufacturing process of such a flat panel display is to keep the gap between the pair of substrates constant. The distance between the pair of substrates is determined by the cross-sectional shape of the coating agent such as the width and height of the coating agent applied to the substrate. Therefore, in order to keep the gap between the pair of substrates constant, it is necessary to coat the coating agent on the substrate while keeping the sectional shape thereof constant.

도포제를 기판상에 일정한 단면형상으로 도포하기 위하여, 기판에 대향하는 단부에 토출구가 형성된 노즐이 구비되는 도포장치가 이용된다. 도포장치는, 기판에 대하여 노즐을 수평방향으로 상대적으로 이동시키는 것과 동시에 노즐로부터 도포제를 토출시키면서 기판상에 도포제를 도포한다.In order to coat the coating agent on the substrate in a constant cross-sectional shape, a coating apparatus having a nozzle provided with a discharge port at an end opposite to the substrate is used. The coating apparatus moves the nozzle relative to the substrate relatively in the horizontal direction and simultaneously applies the coating agent onto the substrate while discharging the coating agent from the nozzle.

한편, 기판이 스테이지상에 탑재되면, 기판의 상면의 높이가 일정하게 유지되지 않고, 기판의 자체적인 특성 또는 기판이 탑재되는 스테이지의 상면의 형상에 따라 기판의 상면의 높이가 상하방향으로 변화될 수 있다. 이러한 기판의 상면의 높이는 페이스트가 도포되는 구간마다 다를 수 있는데, 이에 대응하기 위하여, 도포장치는 기판의 상면의 높이변화에 따라 노즐의 상하방향으로의 위치를 조절하는 동작을 수행한다.On the other hand, when the substrate is mounted on the stage, the height of the upper surface of the substrate is not kept constant, and the height of the upper surface of the substrate is changed in the vertical direction according to the characteristics of the substrate itself or the shape of the upper surface of the stage on which the substrate is mounted . The height of the upper surface of the substrate may be different for each section in which the paste is applied. To cope with this, the coating apparatus performs an operation of adjusting the position of the nozzle in the vertical direction according to the height change of the upper surface of the substrate.

종래의 도포장치에서는, 노즐의 상하방향으로의 위치를 조절하기 위하여, 공압 또는 유압으로 작동되는 액추에이터, 볼스크류장치, 리니어모터 등의 기구적 구동장치를 노즐과 연결하고, 이러한 기구적 구동장치를 구동하여, 노즐을 기판의 상면에 대하여 상하방향으로 이동시키면서 기판에 대한 노즐의 상하방향으로의 위치를 조절하는 구성이 이용되었다.In the conventional coating apparatus, a mechanical driving device such as an actuator operated by pneumatic or hydraulic pressure, a ball screw device, a linear motor and the like is connected to the nozzle to adjust the position of the nozzle in the vertical direction, And the position of the nozzle relative to the substrate in the vertical direction is adjusted while moving the nozzle in the vertical direction with respect to the upper surface of the substrate.

그러나, 이러한 종래의 도포장치는, 기구적 구동장치로 제어신호가 입력될 때부터 기구적 구동장치가 실제로 동작하여 노즐이 이동할 때까지 소정의 시간이 필요했기 때문에, 기판의 상면의 높이변화에 실시간으로 적절하게 대응하여 기판에 대한 노즐의 상하방향으로의 위치를 조절하는 데에 한계가 있었다. 따라서, 기판의 상면의 높이변화 기울기가 큰 구간에서는 노즐이 적절하게 상승하거나 하강하지 못하여 기판과 노즐 사이의 간격이 일정하게 유지되지 못하는 현상이 발생되었으며, 이에 따라, 기판상에 도포된 도포제의 단면형상이 일정하지 않게 되는 문제점이 있었다.However, since such a conventional coating apparatus requires a predetermined time from when the control signal is input to the mechanical driving apparatus to when the mechanical driving apparatus actually operates to move the nozzle, There is a limit in adjusting the position of the nozzle in the vertical direction with respect to the substrate. Therefore, in the section where the height variation gradient of the upper surface of the substrate is large, the nozzle does not rise or fall properly, and the gap between the substrate and the nozzle is not maintained constant. Accordingly, There is a problem that the shape is not constant.

또한, 기구적 구동장치가 장시간 동안 동작한 경우에는, 기계적 마모 등에 의한 유격이 발생하여 기구적 구동장치가 노즐을 정확한 위치로 이동시키지 못하는 문제점이 있었으며, 기계적 마모 등에 따라 발생하는 파티클에 의하여 기판 또는 노즐이 오염되는 문제점이 있었다.In addition, when the mechanical driving device is operated for a long time, there is a problem that the mechanical driving device can not move the nozzle to the correct position due to the occurrence of clearance due to mechanical abrasion or the like. There is a problem that the nozzle is contaminated.

본 발명은 상기한 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은, 기구적 구동장치를 이용하지 않고, 기판에 대한 노즐의 상하방향의 위치를 조절하는 것을 통하여, 도포과정에서 기판과 노즐 사이의 간격을 일정하게 유지할 수 있는 도포장치를 제공하는 데에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to solve the above problems of the prior art and to provide an apparatus and a method for adjusting a position of a nozzle in a vertical direction on a substrate without using a mechanical driving device, And it is an object of the present invention to provide a coating apparatus capable of maintaining a constant gap between nozzles.

상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 도포장치는, 기판상으로 도포제가 토출되는 노즐이 설치되는 승강부재와, 상기 승강부재를 승강이 가능하게 지지하는 지지부재와, 상기 기판과 상기 승강부재의 사이에서 상기 기판의 상면을 향하여 기체를 분사하는 분사유닛을 포함하고, 상기 분사유닛에 의하여 상기 기판상으로 분사되는 기체의 압력을 이용하여 상기 승강부재와 함께 상기 노즐을 부양시켜, 상기 기판과 상기 노즐 사이의 간격을 조절하는 것을 특징으로 하는 도포장치.According to an aspect of the present invention, there is provided a coating apparatus comprising: a lift member provided with a nozzle through which a coating agent is discharged onto a substrate; a support member supporting the lift member so as to be able to move up and down; And a nozzle unit for spraying a gas toward an upper surface of the substrate between the substrate and the substrate, wherein the nozzle is floated together with the elevating member by using a pressure of a gas injected onto the substrate by the injection unit, And the distance between the nozzles is adjusted.

본 발명에 따른 도포장치는, 분사되는 기체의 압력을 이용하여 노즐을 부양시켜, 기판과 노즐 사이의 간격을 일정하게 유지할 수 있으므로, 기판상에 도포제를 단면형상이 일정하게 도포할 수 있는 효과가 있다.The coating apparatus according to the present invention can maintain the gap between the substrate and the nozzle constant by floating the nozzle by using the pressure of the gas to be sprayed so that the effect of uniformly applying the cross- have.

도 1은 제1실시예에 따른 도포장치가 개략적으로 도시된 사시도이다.
도 2는 제1실시예에 따른 도포장치에서, 도포헤드 및 분사유닛이 개략적으로 도시된 단면도이다.
도 3은 제1실시예에 따른 도포장치에서, 도포헤드의 하측이 개략적으로 도시된 하측면도이다.
도 4는 제1실시예에 따른 도포장치의 동작상태가 개략적으로 도시된 단면도이다.
도 5는 제2실시예에 따른 도포장치에서, 도포헤드 및 분사유닛이 개략적으로 도시된 단면도이다.
도 6은 제3실시예에 따른 도포장치에서, 도포헤드 및 분사유닛이 개략적으로 도시된 단면도이다.
도 7은 제3실시예에 따른 도포장치에서, 도포헤드의 하측이 개략적으로 도시된 하측면도이다.
도 8은 제3실시예에 따른 도포장치의 제어블럭도이다.
도 9는 제4실시예에 따른 도포장치에서, 도포헤드 및 분사유닛이 개략적으로 도시된 단면도이다.
도 10은 제4실시예에 따른 도포장치의 제어블럭도이다.1 is a perspective view schematically showing a coating apparatus according to a first embodiment.
2 is a cross-sectional view schematically showing an application head and a spraying unit in the coating apparatus according to the first embodiment.
3 is a bottom view schematically showing the lower side of the application head in the coating apparatus according to the first embodiment.
4 is a cross-sectional view schematically showing the operating state of the coating apparatus according to the first embodiment.
5 is a cross-sectional view schematically showing an application head and a spray unit in the coating apparatus according to the second embodiment.
6 is a cross-sectional view schematically showing an application head and a spraying unit in the coating apparatus according to the third embodiment.
7 is a bottom view schematically showing the lower side of the application head in the coating apparatus according to the third embodiment.
8 is a control block diagram of the coating apparatus according to the third embodiment.
9 is a cross-sectional view schematically showing an application head and a spray unit in the coating apparatus according to the fourth embodiment.
10 is a control block diagram of the coating apparatus according to the fourth embodiment.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 도포장치에 관한 바람직한 실시예에 대하여 설명한다.Hereinafter, a preferred embodiment of a coating apparatus according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 제1실시예에 따른 도포장치는, 기판(S)이 탑재되는 스테이지(10)와, 스테이지(10)의 상부에 설치되는 헤드지지대(20)와, 헤드지지대(20)에 이동이 가능하게 설치되는 도포헤드(30)와, 도포제의 도포동작을 제어하는 제어유닛(60)을 포함하여 구성될 수 있다.1 and 2, the coating apparatus according to the first embodiment includes a stage 10 on which a substrate S is mounted, a head supporter 20 mounted on the top of the stage 10, An application head 30 which is movably installed on the head support 20 and a control unit 60 which controls the application operation of the application agent.

스테이지(10)의 하측에는, 헤드지지대(20)가 연장되는 방향(X축방향)과 수평으로 직교하는 방향(Y축방향)으로 스테이지(10)를 이동시키는 스테이지이동장치(40)가 설치될 수 있다. 헤드지지대(20)에는 도포헤드(30)를 X축방향으로 이동시키는 도포헤드이동장치(50)가 설치될 수 있다. 이러한 구성에 따르면, 기판(S)상에 Y축방향으로 도포제를 도포하기 위하여, 스테이지(10)가 스테이지이동장치(40)의 구동에 의하여 Y축방향으로 이동될 수 있으며, 기판(S)상에 X축방향으로 도포제를 도포하기 위하여, 도포헤드(30)가 도포헤드이동장치(50)의 구동에 의하여 X축방향으로 이동될 수 있다. 스테이지이동장치(40) 및 도포헤드이동장치(50)로는, 볼스크류기구 또는 전자석 및 영구자석으로 구성되는 리니어모터 등 다양한 직선이동기구가 이용될 수 있다. 한편, 본 발명의 실시예에서는, 스테이지(10)가 Y축방향으로 이동되고, 도포헤드(30)가 X축방향으로 이동되는 구성을 제시하였으나, 본 발명은 이와 같은 구성에 한정되지 아니하며, 스테이지(10)가 X축방향 및 Y축방향으로 이동되는 구성 또는 도포헤드(30)가 X축방향 및 Y축방향으로 이동되는 구성이 이용될 수 있다. 스테이지(10)를 X축방향 및 Y축방향으로 이동시키기 위하여, 스테이지(10)의 하측에는 두 개의 직선이동기구가 설치될 수 있으며, 도포헤드(30)를 Y축방향으로 이동시키기 위하여, 헤드지지대(20)에는 헤드지지대(20)를 Y축방향으로 이동시키는 직선이동기구가 연결될 수 있다. 이와 같이, 도포장치에서는, 도포헤드(30)가 정지된 상태에서 스테이지(10)가 이동되거나, 스테이지(10)가 정지된 상태에서 도포헤드(30)가 이동되면서 기판(S)상에 도포제가 도포될 수 있다. 이하, 이와 같은 스테이지(10)와 도포헤드(30)의 상대이동을 기판(S)에 대한 노즐의 상대이동이라 정의한다.A stage moving device 40 for moving the stage 10 in a direction (Y-axis direction) orthogonal to the direction (X-axis direction) in which the head support table 20 extends is provided below the stage 10 . The head support 20 may be provided with an application head moving device 50 for moving the application head 30 in the X-axis direction. The stage 10 can be moved in the Y-axis direction by driving the stage moving device 40, and the substrate S can be moved in the Y- The application head 30 can be moved in the X axis direction by driving the application head moving device 50 in order to apply the coating agent in the X axis direction. As the stage moving device 40 and the applying head moving device 50, various linear moving mechanisms such as a ball screw mechanism or a linear motor composed of an electromagnet and a permanent magnet can be used. In the embodiment of the present invention, the stage 10 is moved in the Y-axis direction and the application head 30 is moved in the X-axis direction. However, the present invention is not limited to this configuration, A configuration in which the substrate 10 is moved in the X-axis direction and the Y-axis direction or a configuration in which the application head 30 is moved in the X-axis direction and the Y-axis direction can be used. Two linear movement mechanisms may be provided below the stage 10 in order to move the stage 10 in the X axis direction and the Y axis direction and in order to move the application head 30 in the Y axis direction, A linear movement mechanism for moving the head support 20 in the Y-axis direction may be connected to the support 20. As described above, in the coating apparatus, the coating head 30 is moved while the stage 10 is moved in a state where the coating head 30 is stopped, and the coating agent is sprayed onto the substrate S Can be applied. Hereinafter, the relative movement of the stage 10 and the application head 30 is defined as the relative movement of the nozzle with respect to the substrate S.

도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 도포헤드(30)에는, 도포제가 수용되는 시린지(31)와, 시린지(31)와 연통되며 수지가 토출되는 노즐(32)과, 노즐(32)이 설치되는 승강부재(33)와, 승강부재(33)를 승강이 가능하게 지지하는 지지부재(34)가 구비될 수 있다. 또한, 제1실시예에 따른 도포장치에는, 도포헤드(30)의 승강부재와 연결되어 기판(S)의 상면을 향하여 기체를 분사하는 분사유닛(70)이 구비될 수 있다.2 and 3, the application head 30 is provided with a syringe 31 containing a coating agent, a nozzle 32 communicating with the syringe 31 and discharging the resin, An elevating member 33 to be installed and a supporting member 34 for supporting the elevating member 33 so as to be able to lift can be provided. The coating apparatus according to the first embodiment may be provided with a spray unit 70 connected to the elevation member of the application head 30 to spray gas toward the upper surface of the substrate S. [

시린지(31)의 내부공간에는 소정의 양의 도포제가 수용된다. 시린지(31)는 압력원(미도시)과 연결될 수 있으며, 압력원으로부터 시린지(31)의 내부로 공급되는 압력에 의하여 시린지(31)의 내부공간에 수용된 도포제가 노즐(32)의 토출구(322)를 통하여 기판(S)상으로 토출될 수 있다.A predetermined amount of the coating agent is accommodated in the inner space of the syringe 31. The syringe 31 can be connected to a pressure source and the coating agent contained in the inner space of the syringe 31 is supplied to the discharge port 322 of the nozzle 32 by the pressure supplied from the pressure source to the inside of the syringe 31 (Not shown).

노즐(32)은 결합부재(321)를 통하여 시린지(31)에 고정될 수 있다. 다만, 본 발명은 이러한 구성에 한정되지 아니하며, 시린지(31)와 노즐(32)이 별도로 마련되고, 시린지(31)와 노즐(32)이 튜브로 연결될 수 있다. 시린지(31)와 노즐(32)이 튜브로 연결되는 구성은, 시린지(31)가 승강부재(33)에 결합되지 않고 노즐(32)만이 승강부재(33)에 결합될 수 있으므로, 분사유닛(70)에 의하여 분사된 기체의 압력에 의하여 승강부재(33) 및 노즐(32)이 상승될 때, 기체의 압력에 의하여 상승되는 대상의 하중을 줄일 수 있는 장점이 있다.The nozzle 32 can be fixed to the syringe 31 through the engagement member 321. [ However, the present invention is not limited to this configuration, and the syringe 31 and the nozzle 32 may be separately provided, and the syringe 31 and the nozzle 32 may be connected by a tube. The configuration in which the syringe 31 and the nozzle 32 are connected to each other by the tube is such that the syringe 31 is not coupled to the elevation member 33 and only the nozzle 32 can be coupled to the elevation member 33, When the elevating member 33 and the nozzle 32 are raised by the pressure of the gas injected by the gas injector 70, the load of the object raised by the pressure of the gas can be reduced.

승강부재(33)는 노즐(32)과 함께 기판(S)으로부터 이격되는 방향 및 기판(S)에 인접되는 방향으로 승강이 가능하게 지지부재(34)에 연결된다. 승강부재(33)는 지지부재(34)의 내부공간에 수용될 수 있다.The elevating member 33 is connected to the supporting member 34 so as to be able to move up and down in a direction away from the substrate S and in a direction adjacent to the substrate S together with the nozzle 32. [ The elevating member 33 can be accommodated in the inner space of the supporting member 34.

지지부재(34)에 승강부재(33)가 승강이 가능하게 지지될 수 있도록, 승강부재(33)에는, 승강부재(33)의 둘레로부터 외측방향으로 돌출되는 제1돌출부(331)가 형성될 수 있고, 지지부재(34)에는, 지지부재(34)의 둘레로부터 내측방향으로 돌출되는 제2돌출부(341)가 형성될 수 있다. 제1돌출부(331)는 제2돌출부(341)의 상측에 위치되며, 제1돌출부(331)가 제2돌출부(341)에 접촉될 때, 승강부재(33)의 하중이 지지부재(34)에 지지될 수 있다.The elevating member 33 may be provided with a first protrusion 331 protruding outwardly from the periphery of the elevating member 33 so that the elevating member 33 can be lifted and supported by the supporting member 34 And a second protrusion 341 protruding inward from the periphery of the support member 34 may be formed in the support member 34. [ The first projecting portion 331 is located on the upper side of the second projecting portion 341 and the load of the elevating member 33 is transmitted to the support member 34 when the first projecting portion 331 contacts the second projecting portion 341. [ As shown in FIG.

노즐(32)이 승강부재(33) 설치될 수 있도록, 승강부재(33)에는 노즐(32)과 연결된 결합부재(321)가 끼워지는 체결공(332)이 형성될 수 있다. 체결공(332)은 결합부재(321)의 외부형상과 대응되는 내부형상을 가지며, 체결공(332)에 결합부재(321)가 끼워지는 것에 의하여, 노즐(32)이 승강부재(33)에 결합될 수 있다. 도시하지는 않았으나, 노즐(32)의 견고한 체결을 위하여, 노즐(32)과 승강부재(33)의 사이에는, 나사, 래치기구 등의 체결부재가 구비될 수 있다.The elevating member 33 may be provided with a fastening hole 332 through which the fastening member 321 connected to the nozzle 32 is inserted. The fastening hole 332 has an internal shape corresponding to the external shape of the fastening member 321 and the fastening hole 321 is fitted into the fastening hole 332 so that the nozzle 32 is connected to the lifting member 33 Can be combined. Although not shown, a fastening member such as a screw or a latch mechanism may be provided between the nozzle 32 and the elevation member 33 to securely fasten the nozzle 32. [

승강부재(33)는, 분사유닛(70)에 의하여 기판(S)의 상면으로 분사되는 기체의 압력에 의하여 기판(S)으로부터 이격되는 방향으로 상승한다. 즉, 승강부재(33)는, 승강부재(33)와 기판(S) 사이의 공간에 형성되는 압력에 의하여 상승하는데, 이러한 압력이 승강부재(33)에 효과적으로 작용될 수 있도록, 기판(S)에 대향하는 승강부재(33)의 하면(333)은, 기판(S)의 상면과 평행한 평면으로 형성되는 것이 바람직하다.The elevating member 33 ascends in a direction away from the substrate S by the pressure of the gas injected onto the upper surface of the substrate S by the injecting unit 70. [ That is, the elevating member 33 is raised by the pressure formed in the space between the elevating member 33 and the substrate S, and the substrate S is moved upward, so that such pressure can be effectively applied to the elevating member 33. [ It is preferable that the lower surface 333 of the elevating member 33 opposed to the substrate S is formed in a plane parallel to the upper surface of the substrate S.

지지부재(34)는 고정블럭(36)을 통하여 도포헤드(30)에 고정될 수 있다. 지지부재(34)의 상측에는 시린지(31)의 교체를 위한 삽입공(342)이 형성될 수 있다.The support member 34 can be fixed to the application head 30 through the fixing block 36. [ An insertion hole 342 for replacement of the syringe 31 may be formed on the upper side of the support member 34.

분사유닛(70)은, 승강부재(33)와 연결되며 기판(S)의 상면에 대향하는 방향으로 분사구(711)가 형성되는 기체분사노즐(71)과, 기체분사노즐(71)과 연결되는 연결유로(72)와, 연결유로(72)와 연결되는 기체공급기(73)와, 기체분사노즐(71)과 기체공급기(73) 사이에서 연결유로(72)상에 구비되는 분사압력조절기(74)를 포함하여 구성될 수 있다.The injection unit 70 includes a gas injection nozzle 71 connected to the elevation member 33 and having an injection port 711 formed in a direction opposite to the upper surface of the substrate S, A gas supply device 73 connected to the connection flow path 72 and an injection pressure regulator 74 provided on the connection flow path 72 between the gas injection nozzle 71 and the gas supply device 73, ). &Lt; / RTI >

기체분사노즐(71)은, 승강부재(33)를 관통하여 배치될 수 있다. 다만, 본 발명은 이러한 구성에 한정되지 아니하며, 승강부재(33)의 둘레에 고정될 수 있다. 기체분사노즐(71)은 파이프나 튜브의 형상으로 형성될 수 있다. 또한, 기판(S)과 승강부재(33) 사이의 공간으로의 균일한 압력을 공급할 수 있도록, 기체분사노즐(71)은 노즐(32)의 토출구(322)의 위치를 중심으로 둘레방향으로 복수로 마련되는 것이 바람직하다.The gas injection nozzle 71 can be disposed through the elevating member 33. However, the present invention is not limited to this configuration and can be fixed around the elevating member 33. [ The gas injection nozzle 71 may be formed in the shape of a pipe or a tube. The gas ejection nozzles 71 are arranged in the circumferential direction around the position of the ejection openings 322 of the nozzles 32 so as to supply a uniform pressure to the space between the substrate S and the elevation member 33 .

연결유로(72)는 기체분사노즐(71)과 기체공급기(73)를 서로 연결시키며, 이에 따라, 기체공급기(73)에 의하여 공급된 기체가 연결유로(72)를 통과하여 기체분사노즐(71)로부터 분사될 수 있다. 연결유로(72)는 승강부재(33)의 승강을 방해하지 않도록 유연한 재질로 형성되는 것이 바람직하다.The connection channel 72 connects the gas injection nozzle 71 and the gas supply unit 73 so that the gas supplied by the gas supply unit 73 passes through the connection flow channel 72 and flows into the gas injection nozzle 71 ). &Lt; / RTI > It is preferable that the connection channel 72 is formed of a flexible material so as not to interfere with the ascending and descending of the elevating member 33.

기체공급기(73)로부터 공급되는 기체는 공기나 비활성기체가 될 수 있다. 기체공급기(73)로는, 송풍기나 압축기가 이용될 수 있다.The gas supplied from the gas feeder 73 may be air or an inert gas. As the gas feeder 73, a blower or a compressor may be used.

분사압력조절기(74)는, 기체공급기(73)로부터 기체분사노즐(71)로 공급되는 기체의 압력을 조절한다. 분사압력조절기(74)로는, 압력센서가 구비되는 압력제어밸브가 이용될 수 있다.The injection pressure regulator 74 regulates the pressure of the gas supplied from the gas supplier 73 to the gas injection nozzle 71. As the injection pressure regulator 74, a pressure control valve provided with a pressure sensor may be used.

기체공급기(73) 및 분사압력조절기(74)는 제어유닛(60)의 구동신호에 의하여 동작한다.The gas feeder 73 and the injection pressure regulator 74 are operated by the drive signal of the control unit 60.

도 4에 도시된 바와 같이, 기체공급기(73)로부터 기체분사노즐(71)로 기체가 공급되어, 기체분사노즐(71)의 분사구(711)로부터 기판(S)의 상면을 향하여 기체가 분사되면, 기판(S)의 상면으로 분사되는 기체의 압력에 의하여 승강부재(33)가 기판(S)으로부터 이격되는 방향으로 상승하며, 이에 따라, 기판(S)과 노즐(32)의 토출구(322) 사이의 수직방향으로의 간격이 증가한다. 이때, 분사압력조절기(74)에 의하여 기체분사노즐(71)로부터 분사되는 기체의 압력이 조절되면, 승강부재(33)가 상승하는 정도가 결정되며, 이에 따라, 기판(S)과 노즐(32) 사이의 간격이 최적의 범위 내로 조절될 수 있다.4, when a gas is supplied from the gas supply device 73 to the gas injection nozzle 71 and the gas is injected from the injection port 711 of the gas injection nozzle 71 toward the upper surface of the substrate S The elevation member 33 ascends in a direction away from the substrate S by the pressure of the gas injected onto the upper surface of the substrate S. This causes the substrate S and the discharge port 322 of the nozzle 32 to move upward, The distance in the vertical direction between them increases. At this time, when the pressure of the gas injected from the gas injection nozzle 71 is adjusted by the injection pressure regulator 74, the ascending degree of the elevation member 33 is determined, Can be adjusted within an optimum range.

이와 같이, 초기에 기판(S)과 노즐(32) 사이의 간격이 최적의 범위 내로 설정되고, 기체분사노즐(71)로부터 분사되는 기체의 압력이 일정하게 설정된 상태에서, 노즐(32)이 기판(S)에 대하여 상대적으로 이동되고 노즐(32)의 토출구(322)를 통하여 도포제가 토출되면서 기판(S)상으로 도포제가 도포되는 과정이 진행된다.As described above, the gap between the substrate S and the nozzle 32 is initially set within the optimum range, and the nozzle 32 is moved to the substrate 32 in a state where the pressure of the gas ejected from the gas ejection nozzle 71 is set to be constant. The process of applying the coating agent onto the substrate S proceeds while the coating agent is discharged through the discharge port 322 of the nozzle 32,

이때, 기판(S)의 상면의 높이가 초기에 비하여 높아지는 구간, 즉, 기판(S)과 노즐(32) 사이의 간격이 작아지는 구간에서는, 기판(S)과 승강부재(33) 사이의 간격이 좁아지기 때문에, 기판(S)과 승강부재(33) 사이의 공간에 작용되는 압력이 증가하면서, 승강부재(33) 및 노즐(32)이 상승된다. 따라서, 기판(S)의 상면의 높이가 증가하는 것에 대응하여 노즐(32)이 상승되면서 기판(S)과 노즐(32) 사이의 간격이 최적의 범위 내에서 유지된다. 마찬가지로, 기판(S)의 상면의 높이가 초기에 비하여 낮아지는 구간, 즉, 기판(S)과 노즐(32) 사이의 간격이 커지는 구간에서는, 기판(S)과 승강부재(33) 사이의 간격이 넓어지기 때문에, 기판(S)과 승강부재(33) 사이의 공간에 작용되는 압력이 감소하면서, 승강부재(33) 및 노즐(32)이 하강된다. 따라서, 기판(S)의 상면의 높이가 감소하는 것에 대응하여 노즐(32)이 하강되면서 기판(S)과 노즐(32) 사이의 간격이 최적의 범위 내에서 유지된다.At this time, in a section where the height of the upper surface of the substrate S becomes higher than the initial height, that is, the interval between the substrate S and the nozzle 32 becomes smaller, the interval between the substrate S and the elevation member 33 The elevation member 33 and the nozzle 32 are raised while the pressure acting on the space between the substrate S and the elevation member 33 is increased. Accordingly, as the height of the upper surface of the substrate S increases, the distance between the substrate S and the nozzle 32 is maintained within the optimum range while the nozzle 32 is lifted. Similarly, in the section where the height of the upper surface of the substrate S is lower than the initial height, that is, the interval between the substrate S and the nozzle 32 becomes larger, the interval between the substrate S and the elevation member 33 The elevation member 33 and the nozzle 32 are lowered while the pressure acting on the space between the substrate S and the elevation member 33 is reduced. Accordingly, the distance between the substrate S and the nozzle 32 is maintained within the optimum range while the nozzle 32 is lowered corresponding to the decrease in the height of the upper surface of the substrate S.

이와 같이, 제1실시예에 따른 도포장치는, 분사유닛(70)에 의하여 기판(S)상으로 분사되는 기체의 압력을 이용하여 승강부재(33)와 함께 노즐(32)을 부양시켜, 기판(S)과 노즐(32) 사이의 간격을 일정하게 유지시킬 수 있으므로, 노즐(32)의 상하방향으로의 위치를 조절하기 위하여 기구적 구동장치가 이용되는 종래기술에 비하여, 기구적 구동장치로의 구동신호의 입력 시부터 실제 구동 시까지의 지연시간으로 인하여 노즐의 위치를 실시간으로 조절할 수 없는 문제, 기구적 구동장치의 기계적 마모에 따른 동작의 오류나 파티클의 발생으로 인한 오염의 문제를 해결할 수 있는 효과가 있다.As described above, the coating apparatus according to the first embodiment floats the nozzle 32 together with the elevation member 33 using the pressure of the gas injected onto the substrate S by the injection unit 70, The distance between the nozzle S and the nozzle 32 can be kept constant, so that compared with the prior art in which a mechanical driving device is used to adjust the position of the nozzle 32 in the vertical direction, In which the position of the nozzle can not be adjusted in real time due to the delay time from the input of the driving signal to the actual driving, the problem of contamination due to an operation error or particle generation due to the mechanical wear of the mechanical driving device It is effective.

이하, 도 5를 참조하여, 제2실시예에 따른 도포장치에 대하여 설명한다. 전술한 제1실시예에서 설명한 부분과 동일한 부분에 대해서는 동일한 부호를 부여하고 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, a coating apparatus according to the second embodiment will be described with reference to Fig. The same reference numerals are given to the same portions as those described in the first embodiment, and a detailed description thereof will be omitted.

도 5에 도시된 바와 같이, 제2실시예에 따른 도포장치는, 기판(S)과 노즐(32)의 토출구(322) 사이의 상하방향으로의 간격을 측정하기 위한 간격측정기(80)를 포함하여 구성될 수 있다.5, the coating apparatus according to the second embodiment includes an interval measuring device 80 for measuring the distance in the vertical direction between the substrate S and the discharge port 322 of the nozzle 32 .

간격측정기(80)는, 예를 들면, 기판(S)의 상면을 향하여 레이저광을 조사하는 조사부(81)와, 기판(S)의 상면에서 반사되는 레이저광을 수광하는 수광부(82)로 구성되는 광학센서가 이용될 수 있다.The gap measuring device 80 is constituted by, for example, an irradiating portion 81 for irradiating laser light toward the upper surface of the substrate S and a light receiving portion 82 for receiving laser light reflected from the upper surface of the substrate S May be used.

간격측정기(80)에 의하여 실질적으로 측정된 값은 기판(S)과 간격측정기(80) 사이의 간격(A)이며, 제어유닛(60)은, 간격측정기(80)에서 측정된 간격(A)에서 미리 설정된 간격측정기(80)와 노즐(32)의 토출구(322) 사이의 간격(B)을 빼는 과정을 통하여 기판(S)과 노즐(32)의 토출구(322) 사이의 간격을 산출한다.The substantially measured value by the interval gauge 80 is the interval A between the substrate S and the interval gauge 80 and the control unit 60 calculates the interval A measured by the interval gauge 80, The distance between the substrate S and the discharge port 322 of the nozzle 32 is calculated by subtracting the interval B between the preset interval gauge 80 and the discharge port 322 of the nozzle 32. [

이러한 구성에 따르면, 초기에 기판(S)과 노즐(32) 사이의 간격을 최적의 범위 내로 설정하는 경우, 제어유닛(60)은 간격측정기(80)를 통하여 측정된 기판(S)과 노즐(32) 사이의 간격을 근거로 분사압력조절기(74)의 동작을 제어하여 기판(S)상으로 분사되는 기체의 분사압력을 제어한다. 간격측정기(80)를 통하여 측정된 간격이 미리 설정된 최적의 범위에 비하여 큰 경우에는, 제어유닛(60)은 기체의 분사압력이 작게 되도록 제어하고, 간격측정기(80)를 통하여 측정된 간격이 미리 설정된 최적의 범위에 비하여 작은 경우에는, 제어유닛(60)은 기체의 분사압력이 크게 되도록 제어한다. 이러한 과정을 통하여 기판(S)과 노즐(32) 사이의 간격을 최적의 범위 내로 설정할 수 있다.According to such a configuration, when the interval between the substrate S and the nozzle 32 is initially set within the optimum range, the control unit 60 controls the substrate S and the nozzle 32 to control the injection pressure of the gas injected onto the substrate S by controlling the operation of the injection pressure regulator 74. [ When the interval measured by the interval measurer 80 is larger than the predetermined optimal range, the control unit 60 controls the gas injection pressure to be small, and the interval measured by the interval measurer 80 is set in advance When it is smaller than the optimum range set, the control unit 60 controls the gas injection pressure to be large. Through this process, the gap between the substrate S and the nozzle 32 can be set within an optimum range.

또한, 도포과정에서도, 간격측정기(80)를 통하여 기판(S)과 노즐(32) 사이의 간격을 실시간으로 측정하여, 기판(S)과 노즐(32) 사이의 간격이 최적의 범위 내에 있는지를 감시할 수 있다.The interval between the substrate S and the nozzle 32 is measured in real time through the interval measuring device 80 to determine whether the interval between the substrate S and the nozzle 32 is within the optimum range You can monitor.

이와 같이, 제2실시예에 따른 도포장치는, 기판(S)과 노즐(32) 사이의 간격을 측정하기 위한 간격측정기(80)를 마련하고, 간격측정기(80)를 통하여 측정된 간격을 근거로, 기판(S)상으로 분사되는 기체의 압력을 조절함으로써, 초기의 설정과정 또는 도포과정에서, 기판(S)과 노즐(32) 사이의 간격을 최적의 범위 내로 유지시킬 수 있는 효과가 있다.As described above, the coating apparatus according to the second embodiment is provided with the interval measurer 80 for measuring the interval between the substrate S and the nozzle 32, and based on the measured interval through the interval measurer 80, It is possible to maintain the gap between the substrate S and the nozzle 32 within the optimum range in the initial setting process or application process by adjusting the pressure of the gas injected onto the substrate S .

이하, 도 6 내지 도 8을 참조하여, 제3실시예에 따른 도포장치에 대하여 설명한다. 전술한 제1실시예 및 제2실시예에서 설명한 부분과 동일한 부분에 대해서는 동일한 부호를 부여하고 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, a coating apparatus according to the third embodiment will be described with reference to Figs. 6 to 8. Fig. The same reference numerals are given to the same parts as those described in the first and second embodiments, and a detailed description thereof will be omitted.

도 6에 도시된 바와 같이, 제3실시예에 따른 도포장치는, 기판(S)과 노즐(32)의 토출구(322) 사이의 상하방향으로의 간격을 측정하기 위한 간격측정기(90)를 포함하여 구성될 수 있다.6, the coating apparatus according to the third embodiment includes an interval measuring instrument 90 for measuring an interval between the substrate S and the discharge port 322 of the nozzle 32 in the vertical direction .

간격측정기(90)는, 예를 들면, 승강부재(33)의 제1돌출부(331)에 설치되어 레이저광을 조사하는 조사부(91)와, 지지부재(34)의 제2돌출부(341)에서 조사부(91)에 대향되도록 설치되며 조사부(91)에서 조사된 광을 수광하는 수광부(92)로 구성되는 광학센서가 이용될 수 있다. 다만, 본 발명은 이러한 구성에 한정되지 아니하며, 지지부재(34)의 제2돌출부(341)에 조사부(91)가 설치되고, 승강부재(33)의 제1돌출부(331)에서 조사부(91)에 대향되는 위치에 수광부(92)가 설치될 수 있다.The interval gauge 90 includes an irradiating portion 91 provided on the first projecting portion 331 of the lifting member 33 and irradiating a laser beam and a second projecting portion 341 provided on the second projecting portion 341 of the support member 34. [ And an optical sensor composed of a light receiving portion 92 which is provided to face the irradiation portion 91 and receives the light irradiated from the irradiation portion 91 can be used. The irradiation part 91 is provided on the second projecting part 341 of the support member 34 and the irradiation part 91 is formed on the first projecting part 331 of the elevating member 33. However, The light receiving portion 92 may be provided at a position opposite to the light receiving portion 92. [

간격측정기(90)에 의하여 실질적으로 측정된 값은, 승강부재(33)가 상승한 경우, 제1돌출부(331)과 제2돌출부(341) 사이의 간격, 즉, 승강부재(33)가 상승한 높이이며, 제어유닛(60)은, 간격측정기(90)에서 측정된 간격에서, 승강부재(33)가 상승되지 않은 상태에서의 기판(S)과 노즐(32) 사이의 간격을 빼는 과정을 통하여 현재의 기판(S)과 노즐(32)의 토출구(322) 사이의 간격을 산출한다.The value measured substantially by the gap measuring instrument 90 is the distance between the first projecting portion 331 and the second projecting portion 341 when the elevating member 33 is elevated, The control unit 60 subtracts the interval between the substrate S and the nozzle 32 in a state in which the elevation member 33 is not lifted at the interval measured by the interval gauge 90, The distance between the substrate S of the nozzle 32 and the discharge port 322 of the nozzle 32 is calculated.

이러한 구성에 따르면, 초기에 기판(S)과 노즐(32) 사이의 간격을 최적의 범위 내로 설정하는 경우, 제어유닛(60)은 간격측정기(90)를 통하여 측정된 기판(S)과 노즐(32) 사이의 간격을 근거로 분사압력조절기(74)의 동작을 제어하여 기판(S)상으로 분사되는 기체의 분사압력을 제어한다. 간격측정기(90)를 통하여 측정된 간격이 미리 설정된 최적의 범위에 비하여 큰 경우에는, 제어유닛(60)은 기체의 분사압력이 작게 되도록 제어하고, 간격측정기(90)를 통하여 측정된 간격이 미리 설정된 최적의 범위에 비하여 작은 경우에는, 제어유닛(60)은 기체의 분사압력이 크게 되도록 제어한다. 이러한 과정을 통하여 기판(S)과 노즐(32) 사이의 간격을 최적의 범위 내로 설정할 수 있다.According to this configuration, when the interval between the substrate S and the nozzle 32 is initially set within the optimum range, the control unit 60 controls the substrate S and the nozzles 32 measured through the gap gauge 90 32 to control the injection pressure of the gas injected onto the substrate S by controlling the operation of the injection pressure regulator 74. [ When the interval measured by the interval measurer 90 is larger than the predetermined optimum range, the control unit 60 controls the gas injection pressure to be small, and the interval measured by the interval measurer 90 is set in advance When it is smaller than the optimum range set, the control unit 60 controls the gas injection pressure to be large. Through this process, the gap between the substrate S and the nozzle 32 can be set within an optimum range.

제3실시예에 따른 도포장치는, 기체분사노즐(71)이 노즐(32)의 토출구(322)의 위치를 중심으로 둘레방향으로 복수로 배치되고, 간격측정기(90)가 노즐(32)의 토출구(322)의 위치를 중심으로 둘레방향으로 복수로 배치될 수 있다.The coating apparatus according to the third embodiment is characterized in that a plurality of gas jet nozzles 71 are arranged in the circumferential direction around the position of the discharge port 322 of the nozzle 32, And may be arranged in plural in the circumferential direction about the position of the discharge port 322. [

또한, 도 7에 도시된 바와 같이, 복수의 기체분사노즐(71)과 각각 연결되는 복수의 연결유로(72)에는 복수의 분사압력조절기(74)가 각각 연결될 수 있다. 여기에서, 하나의 기체분사노즐(71)이 하나의 분사압력조절기(74)와 연결될 수 있으며, 두 개 이상의 기체분사노즐(71)이 하나의 분사압력조절기(74)에 연결될 수 있다.7, a plurality of injection pressure regulators 74 may be connected to the plurality of connection flow paths 72 connected to the plurality of gas injection nozzles 71, respectively. Here, one gas injection nozzle 71 may be connected to one injection pressure regulator 74, and two or more gas injection nozzles 71 may be connected to one injection pressure regulator 74.

또한, 도 8에 도시된 바와 같이, 제어유닛(60)은 복수의 간격측정기(90)에서 측정된 측정결과로부터 복수의 분사압력조절기(74)의 동작을 제어하도록 구성될 수 있다.8, the control unit 60 can be configured to control the operation of the plurality of injection pressure regulators 74 from the measurement results measured in the plurality of interval gauges 90. [

초기의 설정과정이나 도포과정에서, 승강부재(33) 및 노즐(32)의 무게중심의 변동에 따라, 승강부재(33)가 기울어진 상태가 될 수 있다. 이러한 상태에서는. 노즐(32)의 토출구(322)가 기울어지게 되어 기판(S)상으로 요구되는 형상으로 도포제가 도포되기 어렵다. 제4실시예의 구성에 따르면, 복수의 간격측정기(90)가 노즐(32)의 토출구(322)의 위치를 중심으로 둘레방향으로 배치되므로, 승강부재(33)가 기울어졌는지 여부를, 복수의 간격측정기(90)에서 측정된 간격이 서로 동일한지 여부를 감지하는 것을 통하여 결정할 수 있다.The elevation member 33 can be inclined in accordance with the variation of the center of gravity of the elevation member 33 and the nozzle 32 in the initial setting process or application process. In this state. The discharge port 322 of the nozzle 32 is inclined so that the coating agent is hardly applied onto the substrate S in a desired shape. Since the plurality of interval gauges 90 are arranged in the circumferential direction around the position of the discharge port 322 of the nozzle 32, it is possible to determine whether the elevation member 33 is inclined or not, And determining whether the intervals measured by the measuring device 90 are equal to each other.

승강부재(33)가 기울어진 경우, 복수의 간격측정기(90)에서 측정된 간격이 서로 동일하지 않게 된다. 이때, 제어유닛(60)은, 복수의 간격측정기(90)에서 측정된 측정결과를 근거로 하여 복수의 분사압력조절기(74)를 독립적으로 제어하여, 복수의 기체분사노즐(71)로부터 각각 분사되는 기체의 압력을 독립적으로 제어한다. 즉, 제어유닛(60)은, 복수의 간격측정기(90)에서 측정된 간격의 평균값에 비하여 작은 간격을 측정한 간격측정기(90)와 인접하는 기체분사노즐(71)로부터 분사되는 기체의 압력을 증가시키고, 복수의 간격측정기(90)에서 측정된 간격의 평균값에 비하여 큰 간격을 측정한 간격측정기(90)와 인접하는 기체분사노즐(71)로부터 분사되는 기체의 압력을 감소시킨다. 이와 같은 과정을 통하여, 승강부재(33)는 기판(S)과 평행한 자세를 유지하게 되며, 이에 따라 노즐(32)의 기울여진 상태가 정상적인 상태로 보정될 수 있다.When the elevating member 33 is inclined, the intervals measured by the plurality of interval gauges 90 are not equal to each other. At this time, the control unit 60 independently controls the plurality of injection pressure regulators 74 on the basis of the measurement results measured by the plurality of interval gauges 90, Thereby controlling the pressure of the gas to be controlled independently. That is, the control unit 60 calculates the pressure of the gas ejected from the gas ejecting nozzle 71 adjacent to the interval gauge 90, which measures a gap smaller than the average value of the gaps measured by the plurality of gap gauges 90 And decreases the pressure of the gas injected from the gas ejection nozzle 71 adjacent to the interval gauge 90, which measures a large gap in comparison with the average value of the gaps measured by the plurality of gap gauges 90. Through this process, the elevating member 33 maintains the posture parallel to the substrate S, and accordingly, the tilted state of the nozzle 32 can be corrected to a normal state.

상기한 바와 같은 제3실시예에 따른 도포장치는, 복수의 기체분사노즐(71) 및 복수의 간격측정기(90)를 노즐(32)의 토출구(322)의 위치를 중심으로 둘레방향으로 배치하고, 간격측정기(90)에서 측정된 측정결과를 근거로 하여 복수의 기체분사노즐(71)에서 각각 분사되는 기체의 압력을 독립적으로 제어함으로써, 기판(S)과 노즐(32) 사이의 간격을 일정하게 유지할 수 있을 뿐만 아니라 노즐(32)이 기울어졌는지 여부를 감지하여 이를 보정할 수 있는 효과가 있다.The coating apparatus according to the third embodiment as described above is configured to arrange a plurality of gas injection nozzles 71 and a plurality of gap gauges 90 in the circumferential direction about the position of the discharge port 322 of the nozzle 32 The spacing between the substrate S and the nozzle 32 is controlled to be constant by controlling independently the pressure of the gas injected from each of the plurality of gas injection nozzles 71 based on the measurement result measured by the gap measuring device 90 It is possible to detect whether the nozzle 32 is inclined or not and to correct it.

이하, 도 9 및 도 10을 참조하여, 제4실시예에 따른 도포장치에 대하여 설명한다. 전술한 제1실시예 내지 제3실시예에서 설명한 부분과 동일한 부분에 대해서는 동일한 부호를 부여하고 이에 대한 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, a coating apparatus according to the fourth embodiment will be described with reference to Figs. 9 and 10. Fig. The same reference numerals are given to the same parts as those described in the first to third embodiments, and a detailed description thereof will be omitted.

도 9에 도시된 바와 같이, 제4실시예에 따른 도포장치는, 승강부재(33)에 구비되어 승강부재(33)의 자세를 측정하는 자세측정기(100)를 포함하여 구성될 수 있다.As shown in FIG. 9, the coating apparatus according to the fourth embodiment may include an attitude measuring device 100 provided on the elevating member 33 to measure the attitude of the elevating member 33.

자세측정기(100)는 승강부재(33)에 고정되는 자이로센서가 이용될 수 있다. 여기에서, 자이로센서로는, 진동식 자이로, 유체 자이로, 레이저 자이로, 광섬유 자이로 등 다양한 자이로가 이용될 수 있다.The attitude measuring device 100 may be a gyro sensor fixed to the elevating member 33. [ As the gyro sensor, various gyroscopes such as a vibration gyro, a fluid gyro, a laser gyro, and an optical fiber gyro can be used.

제4실시예에 따른 도포장치는, 기체분사노즐(71)이 노즐(32)의 토출구(322)의 위치를 중심으로 둘레방향으로 복수로 배치될 수 있다. 또한, 전술한 제3실시예의 구성과 같이, 복수의 기체분사노즐(71)과 각각 연결되는 복수의 연결유로(72)에는 복수의 분사압력조절기(74)가 각각 연결될 수 있다. 여기에서, 하나의 기체분사노즐(71)이 하나의 분사압력조절기(74)와 연결될 수 있으며, 두 개 이상의 기체분사노즐(71)이 하나의 분사압력조절기(74)에 연결될 수 있다.The coating device according to the fourth embodiment can be arranged in plural in the circumferential direction around the position of the discharge port 322 of the nozzle 32 with the gas spray nozzles 71. [ As in the third embodiment, a plurality of injection pressure regulators 74 may be connected to the plurality of connection flow paths 72 connected to the plurality of gas injection nozzles 71, respectively. Here, one gas injection nozzle 71 may be connected to one injection pressure regulator 74, and two or more gas injection nozzles 71 may be connected to one injection pressure regulator 74.

또한, 도 10에 도시된 바와 같이, 제어유닛(60)은 자세측정기(100)에서 측정된 측정결과로부터 복수의 분사압력조절기(74)의 동작을 제어하도록 구성될 수 있다.10, the control unit 60 may be configured to control the operation of the plurality of injection pressure regulators 74 from the measurement results measured at the attitude measuring apparatus 100. [

이러한 구성에 따르면, 승강부재(33)가 기울어진 경우, 그 기울어진 정도를 자세측정기(100)를 통하여 측정할 수 있다. 이때, 제어유닛(60)은, 자세측정기(100)에서 측정된 측정결과를 근거로 하여 복수의 분사압력조절기(74)를 독립적으로 제어하여, 복수의 기체분사노즐(71)로부터 각각 분사되는 기체의 압력을 독립적으로 제어한다. 즉, 제어유닛(60)은, 자세측정기(100)에서 승강부재(33)의 일부분이 하측방향으로 기울어진 것을 감지하는 경우, 그 기울어진 부분과 인접하는 기체분사노즐(71)로부터 분사되는 기체의 압력을 증가시키고, 자세측정기(100)에서 승강부재(33)의 일부분이 상측방향으로 기울어진 것을 감지하는 경우, 그 기울어진 부분과 인접하는 기체분사노즐(71)로부터 분사되는 기체의 압력을 감소시킨다. 이와 같은 과정을 통하여, 승강부재(33)는 기판(S)과 평행한 자세를 유지하게 되며, 이에 따라 노즐(32)의 기울여진 상태가 정상적인 상태로 보정될 수 있다.According to this configuration, when the elevating member 33 is inclined, the inclination degree can be measured through the attitude measuring device 100. [ At this time, the control unit 60 independently controls the plurality of injection pressure regulators 74 on the basis of the measurement results measured by the attitude measuring device 100, and controls the plurality of gas injection nozzles 71, Respectively. That is, when the attitude measuring device 100 detects that the portion of the elevation member 33 is inclined downward, the control unit 60 controls the attitude of the gas injected from the gas injection nozzle 71 adjacent to the inclined portion The pressure of the gas jetted from the gas jetting nozzle 71 adjacent to the inclined portion is detected as the pressure of the gas jetting nozzle 71 . Through this process, the elevating member 33 maintains the posture parallel to the substrate S, and accordingly, the tilted state of the nozzle 32 can be corrected to a normal state.

상기한 바와 같은 제4실시예에 따른 도포장치는, 승강부재(33)의 자세를 측정하는 자세측정기(100)를 구비하고, 자세측정기(100)를 통하여 측정된 측정결과를 근거로 하여 복수의 기체분사노즐(71)에서 각각 분사되는 기체의 압력을 독립적으로 제어함으로써, 기판(S)과 노즐(32) 사이의 간격을 일정하게 유지할 수 있을 뿐만 아니라 노즐(32)이 기울어졌는지 여부를 감지하여 이를 보정할 수 있는 효과가 있다.The coating device according to the fourth embodiment as described above is provided with an attitude measuring device 100 for measuring the attitude of the elevating member 33 and is provided with a plurality of The gap between the substrate S and the nozzle 32 can be kept constant by independently controlling the pressure of the gas injected from the gas injection nozzle 71 and it is also detected whether or not the nozzle 32 is tilted There is an effect that it can be corrected.

본 발명의 각 실시예에서 설명한 기술적 사상들은 각각 별개로 실시될 수 있으며, 서로 조합되어 실시될 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 도포장치의 구성은, 평판디스플레이의 제조공정에서 기판상에 도포제를 도포하는 도포장치에 이용될 수 있을 뿐만 아니라, 반도체의 제조공정 중에서 수지를 도포하는 장치나 전자부품의 실장을 위하여 전자부품상에 접착제를 도포하는 도포장치 등 다양한 도포장치에 이용될 수 있다.The technical ideas described in the embodiments of the present invention can be performed separately from each other, and can be implemented in combination with each other. The configuration of the coating device according to the present invention can be applied not only to a coating device for coating a coating agent on a substrate in the process of manufacturing a flat panel display but also to a device for coating a resin, And a coating apparatus for applying an adhesive on an electronic component.

10: 스테이지 20: 헤드지지대
30: 도포헤드 60: 제어유닛
70: 분사유닛 71: 기체분사노즐
74: 분사압력조절기 80, 90: 간격측정기10: stage 20: head support
30: application head 60: control unit
70: injection unit 71: gas injection nozzle
74: Injection pressure regulator 80, 90: Spacer

Claims

An elevating member provided with a nozzle through which a coating agent is discharged onto a substrate;
A supporting member for supporting the elevating member so as to be capable of elevating; And
And an ejection unit that ejects a gas toward an upper surface of the substrate between the substrate and the elevation member,
Wherein the nozzle is floated together with the elevating member by using the pressure of the gas injected onto the substrate by the ejection unit to adjust the gap between the substrate and the nozzle.

The method according to claim 1,
An interval gauge for measuring an interval between the substrate and the nozzle;
An injection pressure regulator for regulating the injection pressure of the gas injected onto the substrate; And
And a control unit for controlling the operation of the injection pressure regulator based on an interval between the substrate and the nozzle measured through the interval gauge.

The method according to claim 1,
Wherein the injection unit comprises:
And a plurality of gas ejection nozzles connected to the elevating member and disposed in a circumferential direction around a position of the ejection port of the nozzle.

The method of claim 3,
A plurality of gap gauges disposed in a circumferential direction about a position of a discharge port of the nozzle to measure an interval between the substrate and the nozzle; And
And a control unit for independently controlling a pressure of a gas injected from each of the plurality of gas injection nozzles based on measurement results measured through the plurality of interval gauges.

The method of claim 3,
An attitude measuring device provided on the elevating member for measuring an attitude of the elevating member; And
And a control unit for independently controlling the pressures of the gases injected from the plurality of gas injection nozzles based on the measurement results measured through the attitude measuring device.