KR101855089B1 - 반도체 프로세스 챔버에서 사용하기 위한 스퍼터 소스 - Google Patents

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어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
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Abstract

몇몇 실시예들에서, 프로세스 챔버를 위한 스퍼터 소스는, 정상부, 측부들(sides), 및 개방형 바닥부를 갖는 제 1 엔클로저; 개방형 바닥부에 커플링된 타겟; 제 1 엔클로저를 통해 전력을 타겟에 제공하기 위해, 제 1 엔클로저의 중심 축에 인접하여 제 1 엔클로저의 정상부에 커플링된 전기적 피드; 샤프트, 샤프트에 커플링된 지지 아암, 및 지지 아암에 커플링된 자석을 갖는, 제 1 엔클로저 내에 배치된 자석 조립체; 자석 조립체의 중심 축을 중심으로 자석을 회전시키기 위해, 자석에 회전 가능하게 커플링되고, 제 1 엔클로저의 중심 축에 대해 축을 벗어나 배치된 제 1 회전식 액츄에이터; 및 제 1 엔클로저의 중심 축을 중심으로 자석을 회전시키기 위해, 자석에 회전 가능하게 커플링되고, 제 1 엔클로저의 중심 축에 대해 축을 벗어나 배치된 제 2 회전식 액츄에이터를 포함할 수 있다.

Description

반도체 프로세스 챔버에서 사용하기 위한 스퍼터 소스{SPUTTER SOURCE FOR USE IN A SEMICONDUCTOR PROCESS CHAMBER}
[0001] 본 발명의 실시예들은 일반적으로, 반도체 프로세싱 장비에 관한 것이다.
[0002] 마그네트론을 포지셔닝하기 위해 다중-축 회전 방식(multi-axis rotational scheme)(예를 들어, 범용 자석 운동(universal magnet motion))을 활용하는 종래의 스퍼터 소스들은 전형적으로, 비-중앙 포지션으로부터 스퍼터 타겟에 전력을 제공한다. 그러나, 본 발명자들은, 그러한 방식으로 스퍼터 타겟에 전력을 제공하는 것은, 스퍼터 타겟에 걸쳐 전력의 불균등하고 비-대칭적인 분배를 초래하고, 이로써, 불-균일한 스퍼터링을 야기한다는 것을 관찰하였다. 부가적으로, 종래의 스퍼터 소스들은 전형적으로, 스퍼터 타겟의 둘레 엣지(peripheral edge) 주위에서 스퍼터 타겟을 지지한다. 그러나, 본 발명자들은, 그러한 방식으로 스퍼터 타겟을 지지하는 것은, 프로세싱 동안 스퍼터 타겟이 휘는(bow) 것을 야기하고, 이로써, 스퍼터 타겟의 두께, 및 그에 따라 유효 수명을 제한한다는 것을 관찰하였다.
[0003] 따라서, 본 발명자들은 프로세스 챔버를 위한 스퍼터 소스의 실시예들을 제공하였다.
[0004] 플라즈마를 프로세스 챔버에 제공하기 위한 장치의 실시예들이 본원에서 제공된다. 몇몇 실시예들에서, 전력 소스는, 정상부, 측부들(sides), 및 개방형 바닥부(open bottom)를 갖는 제 1 엔클로저(enclosure); 제 1 엔클로저의 개방형 바닥부에 커플링된 타겟; 제 1 엔클로저를 통해 전력을 타겟에 제공하기 위해, 제 1 엔클로저의 중심 축에 인접하여 제 1 엔클로저의 정상부에 커플링된 전기적 피드(electrical feed); 샤프트, 샤프트에 커플링된 지지 아암, 및 지지 아암에 커플링된 자석을 갖는, 제 1 엔클로저 내에 배치된 자석 조립체; 자석 조립체의 중심 축을 중심으로 자석을 회전시키기 위해, 자석에 회전 가능하게 커플링되고, 제 1 엔클로저의 중심 축에 대해 축을 벗어나(off-axis) 배치된 제 1 회전식 액츄에이터; 및 제 1 엔클로저의 중심 축을 중심으로 자석을 회전시키기 위해, 자석에 회전 가능하게 커플링되고, 제 1 엔클로저의 중심 축에 대해 축을 벗어나 배치된 제 2 회전식 액츄에이터를 포함할 수 있다.
[0005] 몇몇 실시예들에서, 기판 정상(atop)에 재료들을 증착시키기 위한 프로세스 챔버는, 프로세스 챔버 내에 배치된 기판 지지부; 프로세스 챔버 내에, 기판 지지부 맞은편에(opposite) 배치된 스퍼터 소스를 포함할 수 있고, 스퍼터 소스는, 정상부, 측부들, 및 개방형 바닥부를 갖는 제 1 엔클로저; 제 1 엔클로저의 개방형 바닥부에 커플링된 타겟; 제 1 엔클로저를 통해 전력을 타겟에 제공하기 위해, 제 1 엔클로저의 중심 축에 인접하여 제 1 엔클로저의 정상부에 커플링된 전기적 피드; 샤프트, 샤프트에 커플링된 지지 아암, 및 지지 아암에 커플링된 자석을 갖는, 제 1 엔클로저 내에 배치된 자석 조립체; 자석 조립체의 중심 축을 중심으로 자석을 회전시키기 위해, 자석에 회전 가능하게 커플링되고, 제 1 엔클로저의 중심 축에 대해 축을 벗어나 배치된 제 1 회전식 액츄에이터; 및 제 1 엔클로저의 중심 축을 중심으로 자석을 회전시키기 위해, 자석에 회전 가능하게 커플링되고, 제 1 엔클로저의 중심 축에 대해 축을 벗어나 배치된 제 2 회전식 액츄에이터를 포함한다.
[0006] 본 발명의 다른 그리고 추가적인 실시예들은 이하에서 설명된다.
[0007] 첨부된 도면들에 도시된 본 발명의 예시적 실시예들을 참조하여, 앞서 간략히 요약되고 이하에서 더 상세하게 논의되는 본 발명의 실시예들이 이해될 수 있다. 그러나, 첨부된 도면들은 본 발명의 단지 전형적인 실시예들을 도시하는 것이므로 본 발명의 범위를 제한하는 것으로 간주되지 않아야 한다는 것이 주목되어야 하는데, 이는 본 발명이 다른 균등하게 유효한 실시예들을 허용할 수 있기 때문이다.
[0008] 도 1은 본 발명의 몇몇 실시예들에 따른, 프로세스 챔버를 위한 스퍼터 소스를 도시한다.
[0009] 도 2는 본 발명의 몇몇 실시예들에 따른, 프로세스 챔버를 위한 스퍼터 소스를 도시한다.
[0010] 도 3은 본 발명의 몇몇 실시예들에 따른, 프로세스 챔버를 위한 스퍼터 소스를 도시한다.
[0011] 도 4는 본 발명의 몇몇 실시예들에 따른, 프로세스 챔버를 위한 스퍼터 소스와 함께 사용하기에 적합한 프로세스 챔버를 도시한다.
[0012] 이해를 용이하게 하기 위하여, 가능하면, 도면들에 공통되는 동일한 엘리먼트들을 나타내는데 동일한 참조번호들이 사용되었다. 도면들은 실척대로 도시된 것은 아니며, 명료함을 위해 단순화될 수 있다. 일 실시예의 엘리먼트들 및 특징들이, 추가적인 언급 없이 다른 실시예들에 유리하게 통합될 수 있다는 점이 고려된다.
[0013] 프로세스 챔버에서 사용하기 위한 스퍼터 소스의 실시예들이 본원에서 제공된다. 적어도 몇몇 실시예들에서, 본 발명의 스퍼터 소스는 유리하게, 타겟에 대해서, 하나 또는 그 초과의 자석들의 정확한 이동을 용이하게 할 수 있고, 이로써, 종래에 활용된 스퍼터 소스들과 비교하여 더 정밀한 스퍼터링 프로세스를 가능하게 할 수 있다. 부가적으로, 적어도 몇몇 실시예들에서, 본 발명의 스퍼터 소스는, 종래의 타겟들과 비교하여 증가된 두께를 갖는 타겟의 사용을 허용할 수 있고, 이로써, 종래의 타겟들과 비교하여 더 긴 유효 수명을 갖는 타겟을 제공할 수 있다. 부가적으로, 적어도 몇몇 실시예들에서, 본 발명의 스퍼터 소스는 유리하게, 타겟에 제공되는 전력의 더 균일하고 대칭적인 분배를 용이하게 할 수 있고, 이로써, 종래에 활용된 스퍼터 소스들과 비교하여, 타겟으로부터, 재료의 더 균일한 스퍼터링을 제공할 수 있다.
[0014] 도 1은 본 발명의 몇몇 실시예들에 따른, 프로세스 챔버에서 사용하기 위한 스퍼터 소스를 도시한다. 몇몇 실시예들에서, 스퍼터 소스(100)는 일반적으로, 제 1 엔클로저(102), 전기적 피드(104), 하나 또는 그 초과의 자석들(108), 제 1 회전식 액츄에이터(112), 제 2 회전식 액츄에이터(114), 및 타겟(140)을 포함할 수 있다. 몇몇 실시예들에서, 제 2 엔클로저(180)가 제 1 엔클로저(102) 주위에 배치될 수 있다. 그러한 실시예들에서, 제 2 엔클로저(180)를 제 1 엔클로저(102)로부터 전기적으로 절연시키기 위해, 절연 블록(182)과 같은 절연체(insulator)가 제 1 엔클로저(102)와 제 2 엔클로저(180) 사이에 배치될 수 있다. 몇몇 실시예들에서, 제 2 엔클로저(180)는 접지부(ground)에 커플링될 수 있다. 존재하는 경우, 제 2 엔클로저(180)는 제 1 엔클로저(102)를 보호할 수 있고, 그리고/또는 사용자가, 전기적으로 대전된 제 1 엔클로저(102)를 접촉하는 것을 방지할 수 있다. 제 2 엔클로저는 임의의 적합한 프로세스 양립 가능한(compatible) 재료, 예를 들어, 알루미늄, 알루미늄 합금, 스테인리스 스틸, 등과 같은 금속으로 제조될 수 있다.
[0015] 제 1 엔클로저(102)는 전력 소스(124)에 의해 제공되는 전력(예를 들어, RF 또는 DC 전력)의 타겟(140)으로의 전달을 용이하게 한다. 몇몇 실시예들에서, 제 1 엔클로저(102)는 정상부(116), 하나 또는 그 초과의 측부들(118), 및 개방형 바닥부(120)를 포함한다. 제 1 엔클로저(102)는 임의의 적합한 프로세스 양립 가능한 전도성 재료로 제조될 수 있다. 예를 들어, 몇몇 실시예들에서, 제 1 엔클로저(102)는, 예를 들어, 알루미늄, 알루미늄 합금, 스테인리스 스틸, 등과 같은 금속으로 제조될 수 있다. 개별 컴포넌트들로서 설명되었지만, 제 1 엔클로저(102)는 재료의 단일 피스(single piece)로 제조되어 정상부(116)와 측부들(118)을 형성할 수 있고, 이로써, 일체형 디자인(unitary design)을 제공할 수 있다.
[0016] 몇몇 실시예들에서, 타겟(140)은 제 1 엔클로저(102)의 개방형 바닥부(120)에 커플링될 수 있다. 타겟(140)은, 증착 프로세스 동안 기판 정상에 스퍼터링될 임의의 재료들을 포함할 수 있다. 예를 들어, 몇몇 실시예들에서, 타겟(140)은 티타늄, 알루미늄, 구리, 탄탈륨, 텅스텐, 코발트, 등으로 제조될 수 있다. 몇몇 실시예들에서, 타겟(140)은, 제 1 엔클로저(102)의 개방형 바닥부(120)를 차단(close off)시키기 위해 측부들(118)의 하부 표면에 부착되는 모놀리식(monolithic) 스퍼터링 타겟 조립체를 포함할 수 있다. 몇몇 실시예들에서, 타겟(140)은, 백킹 플레이트(backing plate)에 부착되는 스퍼터링 타겟을 포함하는 타겟 조립체일 수 있고, 이는, 제 1 엔클로저의 개방형 바닥부(120)를 차단시키기 위해 측부들(118)의 하부 표면에 부착된다.
[0017] 몇몇 실시예들에서, 지지 컬럼(144)은 타겟(140)의 중앙(150)에 근접하여 제 1 엔클로저(102)의 정상부(116)와 타겟(140) 사이에 커플링된다. 몇몇 실시예들에서, 지지 컬럼(144)의 단부(146)는, 지지 컬럼(144)을 타겟(140)에 커플링시키는 것을 용이하게 하기 위해, 타겟(140)의 배면(back side; 142)에 형성된 채널(148)과 인터페이싱하도록 구성될 수 있다. 존재하는 경우, 사용하는 동안 타겟(140)을 가열시키면서 야기될 수 있는 타겟(140)의 휨을 방지하기 위해, 지지 컬럼(144)은 타겟(140)의 중앙(150)을 지지한다. 상기 설명된 휨을 방지하기 위해 지지 컬럼(144)을 통해 타겟(140)을 지지함으로써, 본 발명자들은, 타겟(140)의 두께가 증가될 수 있고, 이로써, 타겟(140)의 유효 수명을 증가시킬 수 있음을 관찰하였다.
[0018] 몇몇 실시예들에서, 타겟(140)의 온도를 제어하기 위해 열 전달 유체 소스(156)로부터 타겟(140)에 형성된 채널(154)로의 열 전달 유체의 전달을 가능하게 하도록, 채널(152)이 제 1 엔클로저(102)의 측부들(118)에 형성될 수 있다. 채널(154)은 모놀리식 타겟, 또는 타겟(140)의 백킹 플레이트에 형성될 수 있다. 몇몇 실시예들에서, 열 전달 유체 소스(156)를 채널(152)에 유체적으로(fluidly) 커플링시키는 도관(165)이, 제 1 엔클로저(102)의 정상부(106)에 형성된 관통 홀(164) 내에 배치될 수 있다.
[0019] 전기적 피드(104)는, 제 1 엔클로저(102)의 측부들(118)을 통해 전력 소스(124)로부터 타겟(140)으로의 전력(예를 들어, RF 또는 DC 전력)의 전달을 용이하게 한다. 몇몇 실시예들에서, 타겟(140)의 각각의 측부로부터 타겟(140)으로의 전력의 균일하고 대칭적인 분배를 용이하게 하기 위해, 전기적 피드(104)는 제 1 엔클로저(102)의 중심 축(110)에 근접하여 제 1 엔클로저(102)에 커플링된다. 전기적 피드(104)는 임의의 적합한 프로세스 양립 가능한 전도성 재료로 제조될 수 있다. 예를 들어, 몇몇 실시예들에서, 전기적 피드(104)는, 예를 들어, 알루미늄, 알루미늄 합금, 스테인리스 스틸, 등과 같은 금속으로 제조될 수 있다.
[0020] 하나 또는 그 초과의 자석들(108)은 타겟(140)의 배면(142)에 근접하여 배치된다. 하나 또는 그 초과의 자석들(108)은, 타겟(140)으로부터 스퍼터링되는 재료의 지향성(directionality), 타겟에 대한 위치, 또는 양 중 적어도 하나에 대한 제어를 용이하게 하기 위해, 타겟(140) 아래에서 연장되는 자기장을 생성한다. 하나 또는 그 초과의 자석들(108)은, 예를 들어, 영구 자석들(예를 들어, 네오디뮴(NdFeB) 자석) 또는 전자석들과 같이, 원하는 자기장을 생성하기에 적합한 임의의 유형의 자석일 수 있다. 하나 또는 그 초과의 자석들(108)은, 개방 루프들, 폐쇄 루프들, 및 이들의 조합들, 등과 같은, 원하는 자기장을 생성하기 위한 임의의 방식으로 배열될 수 있다.
[0021] 하나 또는 그 초과의 자석들(108)은 자석 조립체(128)(예를 들어, 마그네트론)에 커플링된다. 몇몇 실시예들에서, 자석 조립체(128)는 일반적으로, 샤프트(130)에 커플링된 지지 아암(132)을 포함할 수 있고, 하나 또는 그 초과의 자석들(108)은 지지 아암(132)에 커플링된다. 몇몇 실시예들에서, 하나 또는 그 초과의 자석들(108) 반대쪽에서 지지 아암(132)에 균형추(counter weight; 134)가 커플링될 수 있다. 존재하는 경우, 균형추(134)는 지지 아암(132)의 균등한 회전을 용이하게 할 수 있다. 몇몇 실시예들에서, 자석 조립체(128)는 제 1 엔클로저(102) 내에 배치된 외측 캐리지(carriage)(174)에 의해 지지될 수 있다. 그러한 실시예들에서, 샤프트(130)는 외측 캐리지(174)의 바닥부(186)에 형성된 관통 홀(184) 내에 배치될 수 있고, 이로써, 샤프트(130)를 외측 캐리지(174)에 회전 가능하게 커플링시킬 수 있다. 몇몇 실시예들에서, 샤프트(130)의 부드러운(smooth) 회전을 제공하고, 샤프트(130)를 외측 캐리지(174)에 회전 가능하게 커플링시키는 것을 용이하게 하기 위해, 관통 홀(184) 내에서 샤프트(130)와 외측 캐리지(174)의 바닥부(186) 사이에 베어링(103)(예를 들어, 볼 베어링과 같은 롤링-엘리먼트 베어링)이 배치될 수 있다. 작동 시에, 샤프트(130)가 관통 홀(184) 내에서 회전될 때, 하나 또는 그 초과의 자석들(108)은 자석 조립체(128)의 중심 축(126)을 중심으로 회전한다.
[0022] 제 1 회전식 액츄에이터(112)는 제 1 엔클로저(102)의 중심 축(110)에 대해 축을 벗어나 배치되고, 자석 조립체(128)의 중심 축(126)에 대한 하나 또는 그 초과의 자석들(108)의 회전을 용이하게 한다. 제 1 샤프트(122)는 제 1 엔클로저(102)의 정상부(106)에 형성된 관통 홀(158)에 배치되고, 제 1 회전식 액츄에이터(112)에 커플링되어 그에 의해 회전된다. 몇몇 실시예들에서, 베어링(178)은, 제 1 샤프트(122)의 부드럽고 그리고/또는 균등한 회전을 용이하게 하기 위해, 관통 홀(158) 내에 배치될 수 있다.
[0023] 몇몇 실시예들에서, 제 1 샤프트(122)는, 제 1 엔클로저(102) 내에 배치된 내측 캐리지(136)의 내측 표면(162)과 인터페이싱하도록 구성된 단부(160)를 갖는다. 몇몇 실시예들에서, 제 1 샤프트(122)의 단부(160)는 내측 캐리지(136)의 내측 표면(162)에 형성된 짝맞춤(mating) 피쳐들(예를 들어, 짝맞춤 치형부(teeth))과 인터페이싱하는 피쳐들(예를 들어, 치형부)을 포함할 수 있다. 몇몇 실시예들에서, 제 1 샤프트(122)의 단부(160)는, 예를 들어, 제 1 샤프트(122)에 커플링된, 휠(wheel) 또는 스프로킷(sprocket)일 수 있다.
[0024] 내측 캐리지(136)는 지지 컬럼(144) 주위에 배치되고 제 1 엔클로저(102)의 중심 축(110)을 중심으로 회전한다. 몇몇 실시예들에서, 내측 캐리지(136)는 링 형상이고, 측부들(170), 개방형 정상부(188), 및 개방형 바닥부(190)를 갖는다. 내측 캐리지(136)의 내측 표면(162)은, 제 1 샤프트(122)의 회전시에 자석 조립체(128)의 회전을 용이하게 하기 위해, 제 1 샤프트(122) 및 자석 조립체(128)의 샤프트(130)와 인터페이싱한다. 몇몇 실시예들에서, 내측 캐리지(136)는 (이하에서 설명되는) 외측 캐리지(174)에 의해 지지될 수 있다. 그러한 실시예들에서, 내측 캐리지(136) 및 외측 캐리지(174) 중 각각의 캐리지의 독립적인 회전을 허용하기 위해, 베어링(176)이 내측 캐리지(136)와 외측 캐리지(174) 사이에 배치될 수 있다. 작동 시에, 제 1 회전식 액츄에이터(112)는 제 1 샤프트(122)를 회전시키고, 이는 결국, 제 1 엔클로저(102)의 중심 축(110)을 중심으로 내측 캐리지(136)를 회전시키며, 이로써, 자석 조립체(128)의 중심 축(126)을 중심으로 하나 또는 그 초과의 자석들(108)을 회전시킨다.
[0025] 제 2 회전식 액츄에이터(114)는 제 1 엔클로저(102)의 중심 축(110)에 대해 축을 벗어나 배치되고, 제 1 엔클로저(102)의 중심 축(110)에 대한 하나 또는 그 초과의 자석들(108)의 회전을 용이하게 한다. 제 2 샤프트(192)는 제 1 엔클로저(102)의 정상부(106)에 형성된 관통 홀(194)에 배치되고, 제 2 회전식 액츄에이터(114)에 커플링되어 그에 의해 회전된다. 몇몇 실시예들에서, 베어링(196)은, 제 2 샤프트(192)의 부드럽고 그리고/또는 균등한 회전을 용이하게 하기 위해, 정상부(106)의 관통 홀(194) 내에 배치될 수 있다.
[0026] 몇몇 실시예들에서, 제 2 샤프트(192)는 외측 캐리지(174)의 내측 표면(101)과 인터페이싱하도록 구성된 단부(198)를 갖는다. 몇몇 실시예들에서, 제 2 샤프트(192)의 단부(198)는 외측 캐리지(174)의 내측 표면(101)에 형성된 짝맞춤 피쳐들(예를 들어, 짝맞춤 치형부)과 인터페이싱하는 피쳐들(예를 들어, 치형부)을 포함할 수 있다. 몇몇 실시예들에서, 제 2 샤프트(192)의 단부(198)는, 예를 들어, 제 2 샤프트(192)에 커플링된, 휠 또는 스프로킷일 수 있다.
[0027] 외측 캐리지(174)는 내측 캐리지(136) 주위에 배치되고 제 1 엔클로저(102)의 중심 축(110)을 중심으로 회전한다. 몇몇 실시예들에서, 외측 캐리지(174)는 측부들(168), 및 바닥부(186)를 포함한다. 몇몇 실시예들에서, 지지 컬럼(144)은 외측 캐리지(174)의 바닥부(186)에 형성된 홀(172)을 통해 배치된다. 몇몇 실시예들에서, 외측 캐리지(174)는 제 1 엔클로저(102)에 의해 지지된다. 그러한 실시예들에서, 외측 캐리지(174)를 제 1 엔클로저(102)에 이동 가능하게 커플링시키기 위해, 하나 또는 그 초과의 베어링들(193)이 외측 캐리지(174)와 제 1 엔클로저(102) 사이에 배치될 수 있다. 작동 시에, 제 2 회전식 액츄에이터(114)는 제 2 샤프트(192)를 회전시키고, 이는 결국, 제 1 엔클로저(102)의 중심 축(110)을 중심으로 외측 캐리지(174)를 회전시키며, 이로써, 제 1 엔클로저(102)의 중심 축(110)을 중심으로 하나 또는 그 초과의 자석들(108)을 회전시킨다.
[0028] 본 발명자들은, 2개의 분리된 축들(예를 들어, 제 1 엔클로저(102)의 중심 축 및 자석 조립체(128)의 중심 축(126))을 중심으로 자석의 회전을 제공하는 것이, 예를 들어, 오직 하나의 회전 축만 활용하는 종래의 마그네트론 조립체들과 비교하여, 타겟(140)에 대해 원하는 지역에서의 하나 또는 그 초과의 자석들(108)의 더 정밀한 배치를 허용한다는 것을 관찰하였다. 부가적으로, 본 발명자들은, 상기 실시예들에서 설명된 바와 같이, 축을 벗어난 포지션(예를 들어, 제 1 엔클로저(102)의 중심 축(110)에 대한, 제 1 회전식 액츄에이터(112) 및 제 2 회전식 액츄에이터(114)의 축을 벗어난 배치)으로부터 회전을 제공하는 것이, 전력이 타겟(140)에 대해 중심에(centrally) 제공되는 것을 허용하고, 이로써, 축을 벗어난 포지션으로부터 타겟(140)에 제공되는 전력과 비교하여, 타겟(140)으로의 전력의 더 균일하고 대칭적인 분배를 제공한다는 것을 관찰하였다. 부가적으로, 축을 벗어난 포지션으로부터 회전을 제공하는 것은, 타겟(140)이, 타겟(140)의 중앙(150)에 근접한 지역으로부터 (예를 들어, 지지 컬럼(144)을 통해) 지지되는 것을 추가적으로 허용하고, 따라서, 타겟(140)의 휨을 최소화한다.
[0029] 하나 또는 그 초과의 자석들(108)의 2-축 회전이, 내측 캐리지(136) 및 외측 캐리지(174)의 조합을 통해서 제공되는 것으로 전술되었지만, 하나 또는 그 초과의 자석들(108)은 축을 벗어난 다른 회전식 구성들을 통해 2-축 회전으로 회전될 수 있다.
[0030] 예를 들어, 몇몇 실시예들에서, 제 1 회전식 액츄에이터(112)는, 도 2에 도시된 바와 같이, 제 1 벨트(202), 제 2 벨트(204), 및 회전 가능한 샤프트(206)를 통해, 자석 조립체(128)의 중심 축(126)을 중심으로 한 하나 또는 그 초과의 자석들(108)의 회전을 제공할 수 있다.
[0031] 몇몇 실시예들에서, 회전 가능한 샤프트(206)는 제 1 엔클로저(102)에 회전 가능하게 커플링되고, 지지 컬럼(144) 주위에 배치된다. 그러한 실시예들에서, 회전 가능한 샤프트(206)는 정상부(106)에 의해 및/또는 제 1 엔클로저(102) 내에 배치된 크로스 부재(cross member)(230)에 의해 지지될 수 있다. 회전 가능한 샤프트(206)가 정상부(106)에 의해 지지되는 실시예들에서, 회전 가능한 샤프트(206)의 단부(232)를 수용하도록 구성된 채널(234)이 정상부(106)의 바닥부 표면(236)에 형성될 수 있다. 그러한 실시예들에서, 베어링(214)은, 회전 가능한 샤프트(206)를 제 1 엔클로저(102)의 정상부(106)에 회전 가능하게 커플링시키기 위해, 회전 가능한 샤프트(206)의 단부(232)와 채널(234) 사이에 배치될 수 있다. 대안적으로, 또는 조합하여, 회전 가능한 샤프트(206)가 크로스 부재(230)에 의해 지지되는 실시예들에서, 회전 가능한 샤프트(206)는 크로스 부재(230)에 형성된 관통 홀(228) 내에 배치될 수 있다. 그러한 실시예들에서, 베어링(212)은, 회전 가능한 샤프트(206)를 크로스 부재(230)에 회전 가능하게 커플링시키기 위해, 크로스 부재(230)와 회전 가능한 샤프트(206) 사이에 그리고 관통 홀(228) 내에 배치될 수 있다.
[0032] 자석 조립체(128)는, 크로스 부재(230) 아래에 배치되어 그에 의해 지지되는 하부 캐리지(208)에 회전 가능하게 커플링된다. 몇몇 실시예들에서, 하부 캐리지(208)는 측부들(222) 및 바닥부(220)를 포함하고, 베어링(216)을 통해서 크로스 부재(230)에 회전 가능하게 커플링된다. 몇몇 실시예들에서, 자석 조립체의 샤프트(130)는 하부 캐리지(208)의 바닥부(220)에 형성된 관통 홀(238) 내에 배치된다. 그러한 실시예들에서, 베어링(218)은, 자석 조립체(128)의 샤프트(130)를 하부 캐리지(208)의 바닥부(220)에 회전 가능하게 커플링시키기 위해, 하부 캐리지(208)의 바닥부(220)와 자석 조립체의 샤프트(130) 사이에 그리고 관통 홀(238) 내에 배치될 수 있다.
[0033] 전술된 바와 같이 제 1 벨트(202), 제 2 벨트(204), 및 회전 가능한 샤프트(206)의 작동 시에, 제 1 샤프트(122)의 단부(160)는 제 1 벨트(202)와 인터페이싱한다. 제 1 벨트(202)는 또한, 회전 가능한 샤프트(206)와 인터페이싱하고, 따라서, 제 1 샤프트(122)의 회전 시에, 제 1 엔클로저(102)의 중심 축(110)을 중심으로 한, 회전 가능한 샤프트(206)의 회전을 용이하게 한다. 제 2 벨트(204)는 회전 가능한 샤프트(206) 및 자석 조립체(128)의 샤프트(130)와 인터페이싱하고, 따라서, 회전 가능한 샤프트(130)의 회전 시에, 자석 조립체(128)의 중심 축(126)을 중심으로 한, 자석 조립체(128)의 샤프트(130)(그리고 따라서, 하나 또는 그 초과의 자석들(108))의 회전을 용이하게 한다. 이로써, 제 1 회전식 액츄에이터(112)는 제 1 샤프트(122)를 회전시켜서, 제 1 벨트(202)로 하여금 회전 가능한 샤프트(206)를 회전시키도록 한다. 회전 가능한 샤프트(206)가 회전될 때, 제 2 벨트(204)는 자석 조립체(128)의 샤프트(130)를 회전시키고, 이로써, 자석 조립체(128)의 중심 축(126)을 중심으로 자석 조립체(128)를 회전시킨다.
[0034] 몇몇 실시예들에서, 제 2 회전식 액츄에이터(114)는, 제 1 엔클로저(102)의 중심 축(110)을 중심으로 한, 하나 또는 그 초과의 자석들(108)의 회전을, 제 3 벨트(210) 및 하부 캐리지(208)를 통해 제공할 수 있다. 그러한 실시예들에서, 제 2 회전식 액츄에이터(114)는 제 1 엔클로저(102) 내에 배치될 수 있고, 여기서, 제 2 회전식 액츄에이터(114)는, 예를 들어, 크로스 부재(230)에 커플링되어 그에 의해 지지된다.
[0035] 제 3 벨트(210) 및 하부 캐리지(208)의 작동 시에, 제 2 샤프트(192)의 단부(198)는 제 3 벨트(210)와 인터페이싱한다. 제 3 벨트(210)는 또한, 하부 캐리지(208)와 인터페이싱하고, 따라서, 제 2 샤프트(192)의 회전 시에, 제 1 엔클로저(102)의 중심 축(110)을 중심으로 한, 하부 캐리지(208)의 회전을 용이하게 한다. 이로써, 제 2 회전식 액츄에이터(114)는 제 2 샤프트(192)를 회전시켜서, 제 3 벨트(210)가 하부 캐리지(208)를 회전시키게 하고, 이로써, 제 1 엔클로저(102)의 중심 축(110)을 중심으로 자석 조립체(128)를 회전시킨다.
[0036] 몇몇 실시예들에서, 제 1 회전식 액츄에이터(112)는, 자석 조립체(128)의 중심 축(126)을 중심으로 한, 하나 또는 그 초과의 자석들(108)의 회전을, 도 3에 도시된 바와 같이, 제 1 벨트(302), 제 2 벨트(304), 및 내측 슬리브(306)를 통해, 제공할 수 있다.
[0037] 몇몇 실시예들에서, 내측 슬리브(306)는 지지 컬럼(144) 주위에 배치되고, 상기 지지 컬럼에 회전 가능하게 커플링된다. 그러한 실시예들에서, 하나 또는 그 초과의 베어링들(도시되지 않음)은, 지지 컬럼(144)을 내측 슬리브(306)에 회전 가능하게 커플링시키는 것을 용이하게 하기 위해, 지지 컬럼(144)과 내측 슬리브(306) 사이에 배치될 수 있다.
[0038] 몇몇 실시예들에서, 자석 조립체(128)는 지지 아암(308)에 회전 가능하게 커플링된다. 그러한 실시예들에서, 자석 조립체(128)의 샤프트(130)는 지지 아암(308)에 형성된 관통 홀(310) 내에 배치될 수 있다. 몇몇 실시예들에서, 하나 또는 그 초과의 베어링들(도시되지 않음)은, 자석 조립체(128)를 지지 아암(308)에 회전 가능하게 커플링시키는 것을 용이하게 하기 위해, 지지 아암(308)과 자석 조립체(128)의 샤프트(130) 사이에 그리고 관통 홀(310) 내에 배치될 수 있다.
[0039] 몇몇 실시예들에서, 지지 아암(308)은, 내측 슬리브(306) 주위에 배치되고, 내측 슬리브와 독립적으로 회전하는 외측 슬리브(316)에 커플링된다. 몇몇 실시예들에서, 베어링(도시되지 않음)은, 내측 슬리브(306)를 외측 슬리브(316)에 회전 가능하게 커플링시키기 위해, 내측 슬리브(306)와 외측 슬리브(316) 사이에 배치될 수 있다. 몇몇 실시예들에서, 균형추(312)는, 지지 아암(308)의 부드러운 회전을 용이하게 하기 위해, 자석 조립체(128)의 반대쪽에서 지지 아암(308)에 커플링될 수 있다.
[0040] 전술된 바와 같이 제 1 벨트(302), 제 2 벨트(304), 및 내측 슬리브(306)의 작동 시에, 제 1 샤프트(122)의 단부(160)는 제 1 벨트(302)와 인터페이싱한다. 제 1 벨트(302)는 또한, 내측 슬리브(306)와 인터페이싱하고, 따라서 제 1 샤프트(122)의 회전 시에 내측 슬리브(306)의 회전을 용이하게 한다. 제 2 벨트(304)는 내측 슬리브(306) 및 자석 조립체(128)의 샤프트(130)와 인터페이싱하고, 따라서 내측 슬리브(306)의 회전 시에, 자석 조립체(128)의 중심 축(126)을 중심으로 한, 자석 조립체(128)의 샤프트(130)(그리고 따라서, 하나 또는 그 초과의 자석들(108))의 회전을 용이하게 한다. 이로써, 제 1 회전식 액츄에이터(112)는 제 1 샤프트(122)를 회전시켜서, 제 1 벨트(302)가 내측 슬리브(306)를 회전시키게 한다. 내측 슬리브(306)가 회전될 때, 제 2 벨트(304)는 자석 조립체(128)의 샤프트(130)를 회전시키고, 이로써, 자석 조립체(128)의 중심 축(126)을 중심으로 자석 조립체(128)를 회전시킨다.
[0041] 몇몇 실시예들에서, 제 2 회전식 액츄에이터(114)는, 제 1 엔클로저(102)의 중심 축(110)을 중심으로 한, 하나 또는 그 초과의 자석들(108)의 회전을, 제 3 벨트(314) 및 외측 슬리브(316)를 통해 제공할 수 있다. 그러한 실시예들에서, 제 2 회전식 액츄에이터(114)는, 예를 들어, 도 1에 대해 전술된 바와 같이, 축을 벗어나 배치될 수 있다.
[0042] 제 3 벨트(314) 및 외측 슬리브(316)의 작동 시에, 제 2 샤프트(192)의 단부(198)는 제 3 벨트(314)와 인터페이싱한다. 제 3 벨트(314)는 또한, 외측 슬리브(316)와 인터페이싱하고, 따라서 제 2 샤프트(192)의 회전 시에, 제 1 엔클로저(102)의 중심 축(110)을 중심으로 한, 외측 슬리브(316)의 회전을 용이하게 한다. 이로써, 제 2 회전식 액츄에이터(114)는 제 2 샤프트(192)를 회전시켜서, 제 3 벨트(314)가 외측 슬리브(316)를 회전시키게 하고, 이로써, 지지 아암(308)을 회전시키며, 따라서 제 1 엔클로저(102)의 중심 축(110)을 중심으로 자석 조립체(128)를 회전시킨다.
[0043] 도 4는 본 발명의 몇몇 실시예들에 따른, 프로세스 챔버를 위한 전력 소스와 함께 사용하기에 적합한 프로세스 챔버를 도시한다. 적합한 프로세스 챔버들의 예들은, ENDURA® EXTENSA TTN 및 ENDURA® ENCORE 프로세싱 챔버들을 포함하며, 양자 모두는 캘리포니아, 산타 클라라 소재의 Applied Materials, Inc.로부터 상업적으로 입수 가능하다. 다른 제조업자들로부터의 프로세싱 챔버들을 포함하여, 다른 프로세싱 챔버들이 또한, 본 발명을 수행하는 데에 활용될 수 있음이 고려된다.
[0044] 몇몇 실시예들에서, 프로세스 챔버(400)는, 상부에 기판(401)을 수용하기 위한 기판 지지 페데스탈(452), 및 스퍼터 소스(100)를 포함한다. 기판 지지 페데스탈(452)은, 챔버 벽(450)(도시됨) 또는 접지된 쉴드(도시되지 않음)일 수 있는, 접지된 엔클로저 내에 로케이팅될 수 있다. 기판 지지 페데스탈(452)은, 예를 들어, 저항형 가열 엘리먼트, 방사성 공동(radiant cavity), 및 광 소스, 등과 같은, 기판(401)에 열을 제공하는 임의의 적합한 수단(도시되지 않음)을 포함할 수 있다.
[0045] 몇몇 실시예들에서, 타겟(140)은, 유전체 아이솔레이터(446)를 통해, 접지된 전도성 알루미늄 어댑터(444) 상에 지지될 수 있다. 기판 지지 페데스탈(452)은, 타겟(140)의 주 표면을 대면하는 재료-수용 표면을 가지며, 그리고, 스퍼터 코팅될 기판(401)을, 타겟(140)의 주 표면 맞은편의 평면 포지션에서 지지한다. 기판 지지 페데스탈(452)은 기판(401)을 프로세스 챔버(400)의 중앙 영역(440)에서 지지할 수 있다. 중앙 영역(440)은 프로세싱 동안 기판 지지 페데스탈(452) 위의 영역(예를 들어, 프로세싱 포지션에 있을 때, 타겟(140)과 기판 지지 페데스탈(452) 사이)으로서 정의된다.
[0046] 기판 지지 페데스탈(452)은, 도 4에 도시된 바와 같이, 기판(401)이 프로세스 챔버(400)의 하부 부분의 로드 록 밸브(도시되지 않음)를 통해 기판 지지 페데스탈(452) 상으로 이송되고 그 후에 증착 또는 프로세싱 포지션으로 상승되는 것을 허용하도록, 바닥부 챔버 벽(460)에 연결된 벨로우즈(bellows; 458)를 통해 수직으로 이동 가능하다. 하나 또는 그 초과의 프로세스 가스들은, 질량 유동 제어기(464)를 통해 가스 소스(462)로부터 프로세스 챔버(400)의 하부 파트 내로 공급될 수 있다. 배기 포트(468)가 제공되어, 프로세스 챔버(400)의 내부를 배기하고 프로세싱 챔버(400) 내부에서 원하는 압력을 유지하는 것을 용이하게 하기 위해, 밸브(466)를 통해 펌프(도시되지 않음)에 커플링될 수 있다.
[0047] RF 전력 소스(456)는, 음 DC 바이어스를 기판(401) 상에 유도하기 위해, 기판 지지 페데스탈(452)에 커플링될 수 있다. 부가적으로, 몇몇 실시예들에서, 양 또는 음 DC 자가-바이어스(self-bias)가, 프로세싱 동안 기판(401) 상에 형성될 수 있다. 다른 어플리케이션들에서, 기판 지지 페데스탈(452)은 접지되거나 또는 전기적으로 플로팅(electrically floating)된 채로 남을 수 있다.
[0048] 프로세스 챔버(400)는 어댑터(444)의 렛지(ledge; 484)에 연결된 접지된 바닥부 쉴드(480)를 더 포함한다. 몇몇 실시예들에서, 다크 스페이스 쉴드(dark space shield; 486)는 바닥부 쉴드(480) 상에 지지되고, 스크류들 또는 다른 적합한 방식에 의해 바닥부 쉴드(480)에 체결된다(fastened). 바닥부 쉴드(480)와 다크 스페이스 쉴드(486) 사이의 금속성 나사산형(threaded) 연결부는, 2개의 쉴드들(480, 486)이 어댑터(444)에 접지되는 것을 허용한다. 몇몇 실시예들에서, 다크 스페이스 쉴드(486) 및 바닥부 쉴드(480)는 하나의 피스로 제조된다. 결과적으로, 어댑터(444)는 밀봉되고, 알루미늄 챔버 벽(450)에 접지된다. 쉴드들(480, 486) 양자 모두는 전형적으로, 경질의(hard) 비-자성 스테인리스 스틸로 형성되거나, 또는, RF 프로세스들의 경우, 알루미늄과 같은 높은 전도성의 재료로 형성된다.
[0049] 바닥부 쉴드(480)는, 제 1 직경의 상부 튜브형 부분(494) 및 제 2 직경의 하부 튜브형 부분(496)으로, 하방으로 연장된다. 바닥부 쉴드(480)는 어댑터(444)의 벽들 및 챔버 벽(450)을 따라 하방으로 기판 지지 페데스탈(452)의 정상부 표면 아래까지 연장되고, 기판 지지 페데스탈(452)의 정상부 표면에 도달할 때까지 상방으로 복귀한다(return)(예를 들어, 바닥부에서 u-형상 부분(498)을 형성함). 커버 링(402)은, 기판 지지 페데스탈(452)이 기판 지지 페데스탈(452)의 하부 로딩 포지션에 있는 경우, 바닥부 쉴드(480)의 상방으로 연장되는 내측 부분의 정상부 상에 놓이지만, 기판 지지 페데스탈(452)이 기판 지지 페데스탈(452)의 상부 증착 포지션에 있는 경우, 기판 지지 페데스탈(452)을 스퍼터 증착으로부터 보호하기 위해, 기판 지지 페데스탈(452)의 외측 둘레 상에 놓인다. 부가적인 증착 링(도시되지 않음)은 기판(401)의 둘레를 증착으로부터 쉴딩하기 위해 사용될 수 있다.
[0050] 프로세스 챔버(400)는 또한, 기판 상으로의 재료의 더 지향적인 스퍼터링을 제공하도록 이루어질 수 있다. 몇몇 실시예들에서, 지향적인 스퍼터링은, 기판(401)으로의 증착 재료의 더 균일하고 대칭적인 플럭스(flux)를 제공하기 위해, 선택적인 콜리메이터(collimator; 410)를 타겟(140)과 기판 지지 페데스탈(452) 사이에 포지셔닝함으로써 달성될 수 있다.
[0051] 존재하는 경우, 콜리메이터(410)는 바닥부 쉴드(480)의 렛지 부분 상에 놓일 수 있고, 이로써, 콜리메이터(410)를 접지시킨다. 콜리메이터(410)는 금속 링일 수 있고, 외측 튜브형 섹션 및 적어도 하나의 내측 동심 튜브형 섹션, 예를 들어, 크로스 스트럿들(cross struts; 420, 418)에 의해 링크된(linked) 3개의 동심 튜브형 섹션들(412, 414, 416)을 포함할 수 있다. 외측 튜브형 섹션(416)은 바닥부 쉴드(480)의 렛지 부분(406) 상에 놓일 수 있다. 콜리메이터(410)를 지지하기 위한 바닥부 쉴드(480)의 사용은 프로세스 챔버(400)의 유지보수 및 디자인을 간략화한다. 적어도 2개의 내측 튜브형 섹션들(412, 414)은, 스퍼터링된 입자들을 부분적으로 콜리메이팅하는 고 종횡비 개구들을 정의하는 데에 충분한 높이로 이루어진다. 또한, 콜리메이터(410)의 상부 표면은 바이어싱된 타겟(442)과 대조적으로 접지 평면으로서 작용하며, 이는, 플라즈마 전자들을 기판(401)으로부터 멀리 유지하는 것을 용이하게 한다. 콜리메이터는 링 유형이어서는 안되고, 오히려, AMAT 문서 #012996, 출원 US20090308732 에 따라, 모놀리식 유형이어야 한다.
[0052] 몇몇 실시예들에서, 자석(454)은, 기판 지지 페데스탈(452)과 타겟(140) 사이에 자기장을 선택적으로 제공하기 위해, 프로세스 챔버(400) 주위에 배치될 수 있다. 예를 들어, 도 4에 도시된 바와 같이, 자석(454)은, 챔버 벽(450)의 외부 주위에서, 프로세싱 포지션에 있을 때의 기판 지지 페데스탈(452)의 바로 위의 영역에 배치될 수 있다. 자석(454)은 전자석일 수 있고, 전자석에 의해 생성된 자기장의 크기를 제어하기 위해 전력 소스(도시되지 않음)에 커플링될 수 있다.
[0053] 제어기(430)는, 프로세스 챔버(400)의 작동을 제어하기 위해 프로세스 챔버(400)의 다양한 컴포넌트들에 커플링되고, 중앙 처리 유닛(CPU)(432), 메모리(434), 및 CPU(432)를 위한 지원 회로들(436)을 포함한다. 제어기(430)는 기판 프로세싱 장치를 직접 제어할 수 있거나, 또는 특정 프로세스 챔버 및/또는 지원 시스템 컴포넌트들과 연관된 컴퓨터들(또는 제어기들)을 통해 제어할 수 있다. 제어기(430)는 다양한 챔버들 및 서브-프로세서들을 제어하기 위해 산업 현장(industrial setting)에서 사용될 수 있는 임의의 형태의 범용 컴퓨터 프로세서 중 하나일 수 있다. CPU(432)의 메모리, 또는 컴퓨터-판독 가능한 매체(434)는, 랜덤 액세스 메모리(RAM), 리드 온리 메모리(ROM), 플로피 디스크, 하드 디스크, 플래시, 또는 로컬 또는 원격의 임의의 다른 형태의 디지털 저장소와 같은 용이하게 입수 가능한 메모리 중 하나 또는 그 초과일 수 있다. 지원 회로들(436)은, 종래의 방식으로 프로세서를 지원하기 위해, CPU(432)에 커플링된다. 이러한 회로들은 캐시, 전력 공급부들, 클럭 회로들, 입력/출력 회로망, 및 서브 시스템들, 등을 포함한다. 프로세스 챔버(400)에서 수행되는 프로세스들은, 프로세스 챔버(400)의 작동을 제어하기 위해 실행되거나 호출될(invoked) 수 있는 소프트웨어 루틴으로서 메모리(434)에 저장될 수 있다. 소프트웨어 루틴은 또한, CPU(432)에 의해 제어되는 하드웨어로부터 원격으로 로케이팅된 제 2 CPU(도시되지 않음)에 의해 저장되고 그리고/또는 실행될 수 있다.
[0054] 그러므로, 프로세스 챔버를 위한 전력 소스의 실시예들이 본원에서 제공되었다. 적어도 몇몇의 실시예들에서, 본 발명의 전력 소스는 유리하게, 타겟에 대해서, 하나 또는 그 초과의 자석들의 정확한 이동을 용이하게 할 수 있고, 종래의 타겟들과 비교하여 증가된 두께를 갖는 타겟의 사용을 허용할 수 있으며, 이로써, 종래의 타겟들과 비교하여 더 긴 유효 수명을 갖는 타겟을 제공할 수 있다.
[0055] 전술한 내용은 본 발명의 실시예들에 관한 것이지만, 본 발명의 다른 및 추가적인 실시예들이, 본 발명의 기본 범위에서 벗어나지 않고 안출될 수 있다.

Claims (20)

  1. 프로세스 챔버를 위한 스퍼터 소스로서,
    정상부(top), 측부들(sides), 및 개방형 바닥부(open bottom)를 갖는 제 1 엔클로저(enclosure);
    상기 제 1 엔클로저의 개방형 바닥부에 커플링된 타겟;
    상기 제 1 엔클로저를 통해 전력을 상기 타겟에 제공하기 위해, 상기 제 1 엔클로저의 중심 축에 인접하여 상기 제 1 엔클로저의 정상부에 커플링된 전기적 피드(electrical feed);
    샤프트, 상기 샤프트에 커플링된 지지 아암, 및 상기 지지 아암에 커플링된 자석을 갖는, 상기 제 1 엔클로저 내에 배치된 자석 조립체;
    상기 자석 조립체의 중심 축을 중심으로 상기 자석을 회전시키기 위해, 상기 자석에 회전 가능하게 커플링되고, 상기 제 1 엔클로저의 중심 축에 대해 축을 벗어나(off-axis) 배치된 제 1 회전식 액츄에이터;
    상기 제 1 엔클로저의 중심 축을 중심으로 상기 자석을 회전시키기 위해, 상기 자석에 회전 가능하게 커플링되고, 상기 제 1 엔클로저의 중심 축에 대해 축을 벗어나 배치된 제 2 회전식 액츄에이터; 및
    상기 제 1 엔클로저의 중심 축을 통해 배치되고, 상기 제 1 엔클로저의 정상부 및 상기 타겟에 고정된 지지 컬럼(support column);을 포함하고,
    상기 지지 컬럼의 단부는 상기 타겟의 배면(back side)에 형성된 채널과 인터페이싱하도록 구성되는,
    프로세스 챔버를 위한 스퍼터 소스.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 엔클로저 주위에 배치된 제 2 엔클로저를 더 포함하고,
    상기 제 2 엔클로저는 접지부(ground)에 커플링되는,
    프로세스 챔버를 위한 스퍼터 소스.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 제 1 엔클로저를 상기 제 2 엔클로저로부터 전기적으로 절연시키기 위해, 상기 제 1 엔클로저와 상기 제 2 엔클로저 사이에 배치된 절연체를 더 포함하는,
    프로세스 챔버를 위한 스퍼터 소스.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 타겟에 형성된 채널에 열 전달 유체를 제공하기 위해, 상기 제 1 엔클로저의 측부들 상에 형성된 채널을 더 포함하는,
    프로세스 챔버를 위한 스퍼터 소스.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 엔클로저 내에 배치된 링 형상 내측 캐리지(carriage)를 더 포함하고,
    상기 제 1 회전식 액츄에이터의 회전이, 상기 제 1 엔클로저의 중심 축을 중심으로 상기 내측 캐리지를 회전시키고 그리고 상기 자석 조립체의 중심 축을 중심으로 상기 자석 조립체를 회전시키도록, 상기 자석 조립체의 샤프트 및 상기 제 1 회전식 액츄에이터는 각각 상기 내측 캐리지의 내측 표면과 인터페이싱하는,
    프로세스 챔버를 위한 스퍼터 소스.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 내측 캐리지 주위에 배치된 바닥부 및 측부들을 갖는 외측 캐리지를 더 포함하고,
    상기 자석 조립체의 샤프트는 상기 외측 캐리지의 바닥부에 회전 가능하게 커플링되며,
    상기 제 1 회전식 액츄에이터의 회전이, 상기 제 1 엔클로저의 중심 축을 중심으로 상기 외측 캐리지를 회전시키고 그리고 상기 제 1 엔클로저의 중심 축을 중심으로 상기 자석 조립체를 회전시키도록, 상기 제 1 회전식 액츄에이터는 상기 외측 캐리지의 측부들과 인터페이싱하는,
    프로세스 챔버를 위한 스퍼터 소스.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 외측 캐리지는 상기 제 1 엔클로저에 회전 가능하게 커플링되는,
    프로세스 챔버를 위한 스퍼터 소스.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 엔클로저 내에 배치되고 상기 제 1 엔클로저의 중심 축을 중심으로 회전 가능한 샤프트를 더 포함하고,
    상기 제 1 회전식 액츄에이터는 상기 회전 가능한 샤프트에 회전 가능하게 커플링되며, 상기 회전 가능한 샤프트는 상기 자석 조립체의 샤프트에 회전 가능하게 커플링되는,
    프로세스 챔버를 위한 스퍼터 소스.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 회전 가능한 샤프트는 상기 제 1 엔클로저 내에 배치된 크로스 부재(cross member)에 회전 가능하게 커플링되는,
    프로세스 챔버를 위한 스퍼터 소스.
  10. 제 6 항에 있어서,
    상기 제 1 엔클로저 내에 배치되고 상기 제 1 엔클로저의 중심 축을 중심으로 회전 가능한, 측부들 및 바닥부를 갖는 하부 캐리지를 더 포함하고,
    상기 자석 조립체의 샤프트는 상기 외측 캐리지의 바닥부에 회전 가능하게 커플링되며, 상기 제 2 회전식 액츄에이터는 상기 하부 캐리지에 회전 가능하게 커플링되는,
    프로세스 챔버를 위한 스퍼터 소스.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 제 2 회전식 액츄에이터는 상기 제 1 엔클로저 내에 배치되는,
    프로세스 챔버를 위한 스퍼터 소스.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 제 2 회전식 액츄에이터는 상기 제 1 엔클로저 내에 배치된 크로스 부재(cross member)에 커플링되는,
    프로세스 챔버를 위한 스퍼터 소스.
  13. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 엔클로저 내에 배치되고 상기 제 1 엔클로저의 중심 축을 중심으로 회전 가능한 내측 슬리브를 더 포함하고,
    상기 제 1 회전식 액츄에이터는 상기 내측 슬리브에 회전 가능하게 커플링되며, 상기 내측 슬리브는 상기 자석 조립체의 샤프트에 회전 가능하게 커플링되는,
    프로세스 챔버를 위한 스퍼터 소스.
  14. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 엔클로저 내에 배치되고 상기 제 1 엔클로저의 중심 축을 중심으로 회전 가능한 외측 슬리브;
    상기 제 2 회전식 액츄에이터를 상기 외측 슬리브에 회전 가능하게 커플링시키는 제 3 벨트; 및
    상기 외측 슬리브에 커플링된 지지 아암을 더 포함하고,
    상기 자석 조립체는 상기 지지 아암에 커플링되는,
    프로세스 챔버를 위한 스퍼터 소스.
  15. 기판의 정상(atop)에 재료들을 증착시키기 위한 프로세스 챔버로서,
    상기 프로세스 챔버 내에 배치되는 기판 지지부; 및
    상기 프로세스 챔버 내에서 상기 기판 지지부의 맞은편(opposite)에 배치되는 스퍼터 소스를 포함하고,
    상기 스퍼터 소스는,
    정상부, 측부들, 및 개방형 바닥부를 갖는 제 1 엔클로저;
    상기 제 1 엔클로저의 개방형 바닥부에 커플링된 타겟;
    상기 제 1 엔클로저를 통해 전력을 상기 타겟에 제공하기 위해 상기 제 1 엔클로저의 중심 축을 따라 상기 제 1 엔클로저의 정상부에 커플링된 전기적 피드로서, 상기 중심 축과 일치하는(coincident) 지점(point)에서 상기 제 1 엔클로저의 정상부에 커플링된 로드(rod)인, 전기적 피드;
    샤프트, 상기 샤프트에 커플링된 지지 아암, 및 상기 지지 아암에 커플링된 자석을 갖는, 상기 제 1 엔클로저 내에 배치된 자석 조립체;
    상기 제 1 엔클로저의 중심 축을 중심으로 상기 자석을 회전시키기 위해, 상기 자석에 회전 가능하게 커플링되고, 상기 제 1 엔클로저의 중심 축에 대해 축을 벗어나 배치된 제 1 회전식 액츄에이터;
    상기 자석 조립체의 중심 축을 중심으로 상기 자석을 회전시키기 위해, 상기 자석에 회전 가능하게 커플링되고, 상기 제 1 엔클로저의 중심 축에 대해 축을 벗어나 배치된 제 2 회전식 액츄에이터; 및
    상기 제 1 엔클로저의 중심 축을 통해 배치되고, 상기 제 1 엔클로저의 정상부 및 상기 타겟에 커플링된 지지 컬럼;을 포함하고,
    상기 지지 컬럼의 단부는 상기 타겟의 배면에 형성된 채널과 인터페이싱하도록 구성되는,
    프로세스 챔버.
  16. 제 15 항에 있어서,
    상기 제 1 엔클로저 내에 배치되는 링 형상 내측 캐리지(carriage); 및
    상기 내측 캐리지 주위에 배치된 바닥부 및 측부들을 갖는 외측 캐리지를 더 포함하고,
    상기 제 1 회전식 액츄에이터의 회전이, 상기 제 1 엔클로저의 중심 축을 중심으로 상기 내측 캐리지를 회전시키고 그리고 상기 자석 조립체의 중심 축을 중심으로 상기 자석 조립체를 회전시키도록, 상기 자석 조립체의 샤프트 및 상기 제 1 회전식 액츄에이터는 각각 상기 내측 캐리지의 내측 표면과 인터페이싱하고,
    상기 자석 조립체의 샤프트는 상기 외측 캐리지의 바닥부에 회전 가능하게 커플링되며, 상기 제 1 회전식 액츄에이터의 회전이, 상기 제 1 엔클로저의 중심 축을 중심으로 상기 외측 캐리지를 회전시키고 그리고 상기 제 1 엔클로저의 중심 축을 중심으로 상기 자석 조립체를 회전시키도록, 상기 제 1 회전식 액츄에이터는 상기 외측 캐리지의 측부들과 인터페이싱하는,
    프로세스 챔버.
  17. 제 16 항에 있어서,
    상기 제 1 엔클로저 내에 배치되고 상기 제 1 엔클로저의 중심 축을 중심으로 회전 가능한 샤프트;
    상기 제 1 회전식 액츄에이터를 상기 회전 가능한 샤프트에 회전 가능하게 커플링시키는 제 1 벨트;
    상기 회전 가능한 샤프트를 상기 자석 조립체의 샤프트에 회전 가능하게 커플링시키는 제 2 벨트;
    측부들 및 바닥부를 가지고, 상기 제 1 엔클로저 내에 배치되고, 상기 제 1 엔클로저의 중심 축을 중심으로 회전 가능한 하부 캐리지로서, 상기 외측 캐리지의 상기 바닥부에 상기 자석 조립체의 샤프트가 회전 가능하게 커플링된, 하부 캐리지; 및
    상기 제 2 회전식 액츄에이터를 상기 하부 캐리지에 회전 가능하게 커플링시키는 벨트를 더 포함하는,
    프로세스 챔버.
  18. 제 15 항에 있어서,
    상기 제 1 엔클로저 내에 배치되고 상기 제 1 엔클로저의 중심 축을 중심으로 회전 가능한 내측 슬리브;
    상기 제 1 회전식 액츄에이터를 상기 내측 슬리브에 회전 가능하게 커플링시키는 제 1 벨트;
    상기 내측 슬리브를 상기 자석 조립체의 샤프트에 회전 가능하게 커플링시키는 제 2 벨트;
    상기 제 1 엔클로저 내에 배치되고 상기 제 1 엔클로저의 중심 축을 중심으로 회전 가능한 외측 슬리브;
    상기 제 2 회전식 액츄에이터를 상기 외측 슬리브에 회전 가능하게 커플링시키는 제 3 벨트; 및
    상기 외측 슬리브에 커플링된 지지 아암으로서, 상기 자석 조립체가 커플링된, 지지 아암;을 더 포함하는,
    프로세스 챔버.
  19. 삭제
  20. 프로세스 챔버를 위한 스퍼터 소스로서,
    정상부, 측부들, 및 개방형 바닥부를 갖는 제 1 엔클로저;
    상기 제 1 엔클로저의 개방형 바닥부에 커플링된 타겟;
    상기 제 1 엔클로저를 통해 전력을 상기 타겟에 제공하기 위해, 상기 제 1 엔클로저의 중심 축을 따라 상기 제 1 엔클로저의 정상부에 커플링된, 로드인 전기적 피드;
    샤프트, 상기 샤프트에 커플링된 지지 아암, 및 상기 지지 아암에 커플링된 자석을 갖는, 상기 제 1 엔클로저 내에 배치된 자석 조립체;
    상기 자석 조립체의 중심 축을 중심으로 상기 자석을 회전시키기 위해, 상기 자석에 회전 가능하게 커플링되고, 상기 제 1 엔클로저의 중심 축에 대해 축을 벗어나 배치된 제 1 회전식 액츄에이터;
    상기 제 1 엔클로저의 중심 축을 중심으로 상기 자석을 회전시키기 위해, 상기 자석에 회전 가능하게 커플링되고, 상기 제 1 엔클로저의 중심 축에 대해 축을 벗어나 배치된 제 2 회전식 액츄에이터; 및
    상기 제 1 엔클로저의 중심 축을 통해 배치되고, 상기 로드의 아래(beneath)에서 상기 제 1 엔클로저의 정상부 및 상기 타겟에 고정된 지지 컬럼;을 포함하고,
    상기 지지 컬럼의 단부는 상기 타겟의 배면에 형성된 채널과 인터페이싱하도록 구성되는,
    프로세스 챔버를 위한 스퍼터 소스.
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