KR101855071B1 - Vertical type transfer device for etching - Google Patents

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KR101855071B1
KR101855071B1 KR1020170156433A KR20170156433A KR101855071B1 KR 101855071 B1 KR101855071 B1 KR 101855071B1 KR 1020170156433 A KR1020170156433 A KR 1020170156433A KR 20170156433 A KR20170156433 A KR 20170156433A KR 101855071 B1 KR101855071 B1 KR 101855071B1
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박병규
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박병규
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Abstract

The present invention relates to a vertical transfer device for etching, which is directed to improve working efficiency and machining quality of a product by allowing rotation and transfer for an etching process to be stably performed while a processing target object (semiconductor component, circuit board, etc.) is vertically stood. To this end, according to the present invention, the vertical transfer device for etching includes: a vertical jig (10) integrated with a chain gear (10a) on the outer peripheral surface thereof to support a processing target object (P) while the processing target object (P) is vertically stood; a pair of upper and lower transfer chains (20, 21) for rotating and transferring the vertical jig (10) in a horizontal direction while being engaged with the chain gear (10a); an idle roller (25) for supporting the transfer chains (20, 21) to stably maintain an engagement state between the transfer chains (20, 21) and the chain gear (10a); a storage tank (30) formed at a lower portion in the longitudinal direction of the transfer chains (20, 21) to store a chemical liquid; and an injection nozzle (40) for simultaneously injecting the chemical liquid from the storage tank (30) onto both surfaces of the processing target object (P).

Description

에칭용 수직이송장치{VERTICAL TYPE TRANSFER DEVICE FOR ETCHING} TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a vertical transfer device for etching,

본 발명은 에칭용 수직이송장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 반도체 부품 또는 회로기판 제조 설비에서 가공 대상물을 수직상태로 이송시키는 가운데 에칭 작업을 수행하기 위한 수직이송장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a vertical transfer device for etching, and more particularly, to a vertical transfer device for performing an etching operation while transferring a workpiece in a vertical state in a semiconductor component or a circuit board manufacturing facility.

일반적으로, 반도체 부품이나 인쇄회로기판(PCB; printed circuit board) 제조 공정에 있어서 가공 대상물에 대한 에칭공정이 실시되어지게 되는데, 종래의 습식에칭 설비는, 수평롤러를 이용하여 기판을 이송시키며 노즐을 이용하여 기판의 상하면에 스프레이 방식으로 약품 분사하는 방식이다. 2. Description of the Related Art In general, an etching process is performed on an object to be processed in a process of manufacturing a semiconductor component or a printed circuit board (PCB). In a conventional wet etching equipment, a horizontal roller is used to transfer a substrate, Is sprayed onto the upper and lower surfaces of the substrate by spraying.

한편, 수평롤러 이송방식의 에칭에서는 상부면과 하부면에 에칭편차가 발생 하는데, 이는 상부면에 스프레이한 액이 고임으로 유막을 형성하여 가공이 잘 안되고, 이송롤러에 간섭을 받아 에칭이 잘 안되며, 직접 가공품에 표면을 터치한 상태로 이송 가공품 표면 손상을 초래하는 등으로 정밀부품, 미세회로 가공이 어려우며 가공시간 또한 길어진다.On the other hand, in the etching of the horizontal roller transporting method, an etching deviation occurs on the upper surface and the lower surface. This is because the liquid sprayed on the upper surface forms a film to form an oil film and is not easily processed, , It is difficult to process precision parts and microcircuits due to the surface damage of the transferred workpiece while touching the surface directly to the workpiece, and the machining time is also longer.

또한, 미세 회로용 습식에칭 설비인 수평 3점 롤러를 이용한 방식이 있는데, 이는 기판에 미세회로를 형상할 필요가 있는 경우 구동 롤러와 미세회로 사이의 접촉을 최소화해야 한다. In addition, there is a method using a horizontal three-point roller, which is a wet etching apparatus for a microcircuit, which should minimize the contact between the driving roller and the microcircuit when it is necessary to form a microcircuit on the substrate.

이를 위해서 롤러의 개수를 최소화할 필요가 있으며, 이에 더불어 롤러의 위치를 기판의 양 측면 및 중앙에 위치시켜 기판의 더미 부위만 롤러와 접촉시킬 필요가 있다. 그러나 이와 같은 방식의 문제점은 박판 제품에는 적용할 수 없다는 것이다. 박판 제품을 이송하는 경우 롤러가 기판을 충분히 지지하지 못하기 때문에 박판 제품에 과도한 처짐과 휨 현상이 발생하게 된다.To this end, it is necessary to minimize the number of rollers. In addition, it is necessary to position the rollers on both sides and the center of the substrate so that only the dummy portion of the substrate is in contact with the rollers. However, the problem with this method is that it can not be applied to thin plate products. When the sheet material is transported, the rollers do not support the substrate sufficiently, which causes excessive sag and warping of the sheet material.

한편, 이러한 문제점을 개선하기 위한 종래 기술로 특허공개 제2011-10965(공개일. 2011년02월08일)에서는 수직이송 지그를 이용한 에칭설비에 관련된 기술이 개시되어 있다.On the other hand, as a conventional technique for solving such a problem, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-10965 (published on Feb. 08, 2011) discloses a technique related to an etching facility using a vertical transfer jig.

그러나, 상기한 종래 기술에서는 수직이송 지그의 이동이 하부의 이동롤러에 의해 이루어지게 됨으로 안정적인 이동에 어려움이 있으며, 이송과정에서 지그의 진동발생 및 전도 등의 현상이 발생될 수 있는 문제점이 있었다.However, in the above-mentioned conventional technique, since the movement of the vertical transfer jig is performed by the lower transfer roller, there is a problem that it is difficult to stably move, and there is a problem that vibrations and conduction occur in the jig during the transfer process.

본 발명은 상기한 종래 기술에서의 문제점을 개선하기 위해 제안된 것으로서, 에칭 공정을 위한 가공 대상물의 이송 시 회전, 회전속도 조절과 이송, 이송속도 조절이 가능한 수직 이송장치를 제공함으로서 작업효율 및 작업품질이 향상되어질 수 있도록 하는데 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been proposed in order to solve the problems in the prior art described above, and it is an object of the present invention to provide a vertical transfer device capable of adjusting a rotation speed, a rotation speed, So that the quality can be improved.

상기 목적을 이루기 위한 본 발명의 에칭용 이송장치는, 가공 대상물이 수직방향으로 세워진 상태로 지지되어지되, 외주면에는 체인기어가 일체로 형성되어 있는 수직지그와; 상기 체인기어와 치합되어진 상태에서 수직지그를 회전시킴과 함께 수평방향으로 이송시키기 위해 상부와 하부에 쌍을 이루어 각각 구성되는 이송체인과; 상기 이송체인과 체인기어 상호간의 치합상태를 안정적으로 유지시키기 위해 이송체인을 지지하는 아이들롤러와; 상기 이송체인의 길이방향을 따라 하부에 구성되어 약액이 보관되는 보관탱크와; 상기 보관탱크로 부터 약액을 가공 대상물의 양면에 동시에 분사하기 위한 분사노즐;을 포함하는 구성을 이루는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a transfer device for etching, comprising: a vertical jig having an object to be machined supported in a vertically erected state and having a chain gear integrally formed on an outer circumferential surface thereof; A pair of upper and lower conveying chains for rotating the vertical jig in a state where the vertical jig is engaged with the chain gear and conveying the same in a horizontal direction; An idle roller for supporting the conveying chain to stably maintain the engagement state between the conveying chain and the chain gear; A storage tank disposed at a lower portion along the longitudinal direction of the transport chain and storing the chemical liquid; And an injection nozzle for simultaneously injecting the chemical liquid from the storage tank onto both surfaces of the object to be processed.

또한, 상기 이송체인은 수직지그가 회전되어질 수 있도록 상부와 하부에서 상호 반대 방향으로 구동이 이루어지며, 상부 이송체인과 하부 이송체인의 구동 속도를 상이하게 함으로서 수직지그의 일방향 수평 이동이 이루어지게 됨을 특징으로 한다.In addition, the transfer chain is driven in opposite directions at the upper and lower portions so that the vertical jig can be rotated. By moving the upper transfer chain and the lower transfer chain at different speeds, the vertical jig is horizontally moved in one direction .

이러한 본 발명의 수직 이송장치는, 가공 대상물(반도체 부품, 회로기판 등)이 수직방향으로 세워진 상태에서 회전 및 이송이 동시에 이루어질 수 있도록 함으로서 에칭 공정이 보다 안정적으로 이루어질 수 있게 됨과 함께 가공 대상물의 상부면과 하부면이 같은 조건으로 가공이 이루어지도록 하여 정밀제품의 작업효율 및 가공품질을 향상시키는 효과를 나타내게 된다.According to the vertical transfer device of the present invention, the object to be processed (semiconductor component, circuit board, etc.) can be rotated and transferred at the same time in a state of being erected in the vertical direction, so that the etching process can be performed more stably, The surface and the lower surface are processed under the same conditions, thereby improving the working efficiency and processing quality of the precision product.

도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 에칭용 수직이송장치 정면 구조도.
도 2는 본 발명 수직이송장치의 분사노즐이 표시된 상태의 정면 구조도.
도 3은 본 발명 수직이송장치의 측 단면도.
도 4는 본 발명 장치의 수직지그에 가공대상물이 장착된 상태도.
도 5는 본 발명 수직이송장치의 동작 상태 정면도.
도 6은 본 발명 수직이송장치의 동작상태 단면도.
도 7은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 수직지그 정면 구조도.
도 8은 본 발명의 다른 실시 예에서의 탄성패드 단면도.
도 9는 본 발명의 응용 예에 따른 탄성패드 단면도.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a front view of a vertical transfer device for etching according to an embodiment of the present invention; FIG.
BACKGROUND OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to a vertical transfer device,
3 is a side cross-sectional view of the vertical transfer device of the present invention.
4 is a state in which an object to be processed is mounted on a vertical jig of the apparatus of the present invention.
5 is a front view of the operation state of the vertical transfer device of the present invention.
6 is a sectional view of an operation state of the vertical transfer device of the present invention.
7 is a front view of a vertical jig according to another embodiment of the present invention.
8 is a sectional view of an elastic pad according to another embodiment of the present invention.
9 is a sectional view of an elastic pad according to an application example of the present invention.

이하, 본 발명의 구체적인 실시 예를 첨부 도면을 참조하여 상세히 살펴보기로 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

먼저, 본 발명의 일 실시 예에 따른 에칭용 수직이송장치의 구성을 도 1 내지 도 4를 통해 살펴보면 다음과 같다.First, the construction of a vertical transfer device for etching according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 4. FIG.

본 실시 예에서의 에칭용 수직이송장치는, 원판형상을 이루는 가운데 가공 대상물(P)이 수직방향으로 세워진 상태로 지지되어질 수 있는 수직지그(10)와, 상기 수직지그(10)의 착탈이 가능한 가운데 수직지그(10)를 수평방향으로 이송시키기 위해 상부와 하부에 쌍을 이루어 각각 구성되는 이송체인(20,21)과, 상기 이송체인(20,21)의 길이방향을 따라 하부에 구성되어 약액이 보관되는 보관탱크(30)와, 상기 보관탱크(30)로 부터 가공 대상물(P)의 양면에 동시에 분사하기 위한 분사노즐(40)로 구성된다.The vertical transfer device for etching according to the present embodiment includes a vertical jig 10 which can be supported in a state in which the object P to be processed is erected in a vertical direction with a disk shape, A conveyance chain (20, 21) constituted by a pair of upper and lower parts for horizontally conveying the vertical jig (10) And a spray nozzle 40 for simultaneously spraying the object P from the storage tank 30 on both sides of the object P to be processed.

특히, 수직지그(10)는 테두리측 외주면을 따라 체인기어(10a)가 일체로 형성됨으로서 상,하부 이송체인(20,21)과 치합이 이루어지게 되며, 이송체인(20,21)은 수직지그(10)가 회전되어질 수 있도록 상부와 하부에서 상호 반대 방향으로 구동이 이루어지고, 필요에 따라서는 상부 이송체인(20)과 하부 이송체인(21)의 구동 속도를 상이하게 제어함으로서 수직지그(10)의 수평방향 이동이 이루어질 수 있는 구성을 이루게 된다.Particularly, in the vertical jig 10, the chain gear 10a is integrally formed along the outer circumferential surface of the frame so as to engage with the upper and lower transfer chains 20 and 21. The transfer chains 20, The driving force of the upper transfer chain 20 and the lower transfer chain 21 are controlled differently so as to rotate the upper jig 10 ) Can be made to move in the horizontal direction.

또한, 수직지그(10)에는 가공 대상물의 양면이 노출되어질 수 있도록 관통공(11)이 형성된 것을 확인할 수 있다.Also, it is confirmed that the through hole 11 is formed in the vertical jig 10 so that both surfaces of the object to be processed can be exposed.

또한, 이송체인(20,21)과 체인기어(10a) 상호간의 치합상태를 안정적으로 유지시키기 위해 이송체인(20,21)의 양단 구동측에는 텐션 유지용 아이들롤러(25)가 구성된 것을 확인할 수 있다.It can be confirmed that the idle rollers 25 for tension maintenance are formed on the both-end driven sides of the conveyance chains 20 and 21 in order to stably maintain the state of engagement between the conveyance chains 20 and 21 and the chain gears 10a .

또한, 보관탱크(30)에는 현상액과 에칭액 그리고 박리액이 순차적으로 격리 보관되어질 수 있도록 칸막이(31)가 구비됨이 바람직하다.In addition, it is preferable that the storage tank 30 is provided with a partition 31 so that the developer, the etching solution and the peeling solution can be sequenced and stored.

도면 중 미설명 부호 41은 보관탱크(40)에 보관되는 약액을 분사노즐(40)로 고압 공급하기 위한 약액펌프를 나타낸다.Reference numeral 41 denotes a chemical liquid pump for supplying a chemical liquid stored in the storage tank 40 to the injection nozzle 40 at a high pressure.

이와 같은 구성을 이루는 본 발명 수직이송장치의 동작에 따른 작용효과를 도 5 및 도 6을 통해 살펴보기로 한다.The operation and effect of the vertical transfer device according to the present invention will be described with reference to FIGS. 5 and 6. FIG.

먼저, 수직지그(10)에 형성된 관통공(11)에 반도체 부품 또는 회로기판 등과 같은 가공 대상물(P)을 끼움형태로 장착시킨 상태에서 수직지그(10)의 체인기어(10a)를 상,하부 이송체인(20,21)에 각각 치합 체결시키게 된다.First, the chain gear 10a of the vertical jig 10 is inserted into the through hole 11 formed in the vertical jig 10 in such a manner that the object to be processed P such as a semiconductor component, a circuit board, And are engaged with the transfer chains 20 and 21, respectively.

그리고, 수직지그(10)의 장착이 완료되면 이송체인(20,21)을 구동시킴으로서 다단계의 현상, 에칭, 박리 과정이 하나의 라인상에서 순차적으로 이루어지게 된다.When the vertical jig 10 is completely mounted, the transfer chains 20 and 21 are driven to sequentially perform development, etching, and peeling in a single line.

즉, 이때에는 상,하부 이송체인(20,21)이 상호 반대방향으로 구동되어짐에 따라 수직지그(10)가 서서히 회전되어지게 되고, 이러한 이송과정에서 보관탱크(30)에 보관되어지고 있는 약액이 분사노즐(40)를 통해 가공 대상물(P)의 양측 표면에 동시에 분사되어지게 된다.That is, at this time, the vertical jig 10 is slowly rotated as the upper and lower transfer chains 20 and 21 are driven in mutually opposite directions. In this transfer process, the chemical liquid stored in the storage tank 30 Is simultaneously sprayed onto both surfaces of the object P through the injection nozzle 40. [

그리고, 다음 공정으로 수직지그(10)를 수평방향 이송시키기 위해서는 상,하부 이송체인(20,21)의 구동속도를 다르게 함으로서, 현상->에칭->박리 의 공정이 순차적으로 진행되어질 수 있게 된다.In order to transport the vertical jig 10 in the horizontal direction in the next step, the driving speed of the upper and lower conveying chains 20 and 21 is made different, so that the developing-etching-detachment process can be sequentially performed .

특히, 본 발명에서는 이러한 수직지그(10)의 회전 및 이송이 동시에 이루어지게 됨으로서 에칭액이 분사노즐(40)를 통해 분사되었을 때, 가공 대상물(P)의 전체 면에 고르게 분사가 이루어짐으로서 액고임 등의 조건변화가 없이 균일한 에칭성능이 발휘될 수 있게 된다.Particularly, in the present invention, since the vertical jig 10 is rotated and conveyed at the same time, when the etching liquid is injected through the injection nozzle 40, the entire surface of the object P is evenly sprayed, Uniform etching performance can be achieved without changing the conditions of the etching conditions.

또한, 상,하부 이송체인(20,21)의 구동속도 제어를 통하여 수직지그(10)의 회전속도 및 이송속도의 제어가 가능함으로서 보다 정밀한 약액 분사가 이루어질 수 있게 된다.Further, since the rotational speed and the conveying speed of the vertical jig 10 can be controlled through the driving speed control of the upper and lower conveying chains 20 and 21, more precise chemical liquid injection can be performed.

따라서, 공정 과정에서 작업자가 제품을 터치하지 않아도 됨으로 불량율을 감소시키고, 이에 따른 반도체 부품 및 회로기판의 제품 가공품질을 향상시키는 효과를 나타낼 수 있게 됨을 알 수 있다.Therefore, it is possible to reduce defective rate because the operator does not have to touch the product in the process, and it is possible to improve the quality of the semiconductor parts and the product processing quality of the circuit board.

한편, 도 7 및 도 8은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 구성을 나타낸 것으로서, 관통공(11) 양측에는 가공 대상물(P)의 안정적 지지를 위한 원통형상의 탄성패드(12)가 구성되되, 상기 탄성패드(12) 내부에는 일정크기의 공간부(12')가 형성되었으며, 상기 공간부(12')에는 2중의 탄성 지지력 작용을 위한 탄성스프링(13)이 내장 구성된다.FIGS. 7 and 8 illustrate a configuration according to another embodiment of the present invention. In FIGS. 7 and 8, a cylindrical elastic pad 12 for stably supporting the object P is formed on both sides of the through hole 11, A space 12 'having a predetermined size is formed in the elastic pad 12 and an elastic spring 13 is installed in the space 12'.

이와 같은 구성을 이루게 되면, 탄성패드(12)가 관통공(11)에 장착된 가공 대상물(P)을 양측에서 일정 탄성력을 이용하여 안정적으로 지지함으로서, 회전 또는 이송 과정에서의 유동발생을 방지하여 가공 대상물(P)에 대한 안정적 지지상태가 유지되어질 수 있게 된다.With this configuration, the elastic pad 12 stably supports the object P mounted on the through-hole 11 on both sides by using a certain elastic force, thereby preventing the occurrence of the flow during the rotation or transfer process So that a stable supporting state with respect to the object P can be maintained.

또한, 에칭액 분사과정에서 분사압력으로 인한 가공 대상물(P)의 이탈 발생이 방지되어질 수 있게 된다.In addition, it is possible to prevent the occurrence of deviation of the object P due to the injection pressure during the etching liquid injection process.

특히, 탄성패드(12) 내에는 탄성스프링(13)이 내장 구비됨으로, 2중의 탄성력을 이용한 가공 대상물(P)의 안정적인 지지효과를 극대화할 수 있는 이점을 나타낸다.Particularly, since the elastic pad 12 is provided with the elastic spring 13 in its interior, it shows an advantage that the stable supporting effect of the object P using the bi-elastic force can be maximized.

또한, 본 발명의 응용 예로는 도 9에서 나타내어지는 바와 같이, 공간부(12')에 탄성스프링(13)의 급격한 변형을 방지하기 위한 실리콘오일(S)이 충진 구비되며, 공간부(12') 내벽면에는 실리콘오일의 누유를 방지함과 함께 탄성패드(12)의 변형에 대응이 가능하도록 플렉시블 재질의 불소수지층(12a)이 코팅 형성됨이 바람직하다.9, the space 12 'is filled with the silicone oil S for preventing the elastic spring 13 from being abruptly deformed, and the space 12' The fluorine resin layer 12a of the flexible material is coated on the inner wall surface of the flexible pad 12 so as to prevent leakage of the silicone oil and to cope with deformation of the elastic pad 12. [

특히, 불소수지층(12a)은 불소수지의 윤활 특성으로 인해 탄성스프링(13)의 산화 발생을 방지하게 되는 이점을 나타낼 수 있게된다.Particularly, the fluororesin layer 12a can exhibit the advantage of preventing oxidation of the elastic spring 13 due to the lubricating property of the fluororesin.

그리고, 상기에서 본 발명의 특정한 실시 예가 설명 및 도시되었지만 본 발명의 수직이송장치 구조가 당업자에 의해 다양하게 변형되어 실시될 수 있음은 자명한 일이다. Although specific embodiments of the present invention have been illustrated and described above, it should be apparent that the vertical transport structure of the present invention can be implemented by various modifications by those skilled in the art.

예를 들면, 상기 실시 예에서는 보관탱크(30)내에 현상액, 에칭액, 박리액 3종류의 약액이 보관되는 형태가 설명 및 도시되었으나, 필요에 따라서는 추가적인 종류의 약액이 보관 및 사용되어질 수 있게 된다.For example, in the above embodiment, the form in which the developer, etchant, and three kinds of chemical liquids are stored in the storage tank 30 has been described and shown, but it is possible to store and use additional types of chemical liquids .

따라서, 이와 같은 변형된 실시예들은 본 발명의 기술적 사상이나 범위로부터 개별적으로 이해되어져서는 안되며, 이와 같은 변형된 실시 예들은 본 발명의 첨부된 특허청구범위 내에 포함된다 해야 할 것이다. Therefore, it should be understood that such modified embodiments should not be understood individually from the technical spirit and scope of the present invention, and such modified embodiments should be included in the appended claims of the present invention.

10 : 수직지그 10a: 체인기어
11 : 관통공 20 : 이송체인(상부)
21 : 이송체인(하부) 25 : 아이들롤러
30 : 보관탱크 31 : 칸막이
40 : 분사노즐 41 : 약액펌프
P : 가공 대상물10: vertical jig 10a: chain gear
11: Through hole 20: Feed chain (upper)
21: Feed chain (lower) 25: idler roller
30: Storage tank 31: Partition
40: injection nozzle 41: chemical pump
P: object to be processed

Claims (6)

가공 대상물(P)이 수직방향으로 세워진 상태로 지지되어지되, 외주면에는 체인기어(10a)가 일체로 형성되어 있는 수직지그(10);
상기 체인기어(10a)와 치합되어진 상태에서 수직지그(10)를 회전시킴과 함께 수평방향으로 이송시키기 위해 상부와 하부에 쌍을 이루어 각각 구성되는 이송체인(20,21);
상기 이송체인(20,21)과 체인기어(10a) 상호간의 치합상태를 안정적으로 유지시키기 위해 이송체인(20,21)을 지지하는 아이들롤러(25);
상기 이송체인(20,21)의 길이방향을 따라 하부에 구성되어 약액이 보관되는 보관탱크(30); 및
상기 보관탱크(30)로 부터 약액을 가공 대상물(P)의 양면에 동시에 분사하기 위한 분사노즐(40);
을 포함하되,
상기 수직지그(10)는 가공 대상물(P)의 양면이 노출되어질 수 있도록 관통공(11)이 형성되며,
상기 관통공(11) 양측에는 가공 대상물(P)의 안정적 지지를 위한 원통형상의 탄성패드(12)가 구성되되, 상기 탄성패드(12) 내부에는 공간부(12')가 형성되었으며, 상기 공간부(12')에는 2중의 탄성 지지력 작용을 위한 탄성스프링(13)이 내장 구성된 것을 특징으로 하는 에칭용 수직이송장치.
A vertical jig 10 in which the object P is supported in a state standing upright in the vertical direction, and on the outer peripheral surface thereof, a chain gear 10a is integrally formed;
A transfer chain (20, 21) each of which is formed as a pair at an upper portion and a lower portion for rotating the vertical jig (10) in a horizontal state while being engaged with the chain gear (10a);
An idle roller 25 for supporting the conveying chains 20 and 21 to stably maintain the state of engagement between the conveying chains 20 and 21 and the chain gears 10a;
A storage tank 30 formed at a lower portion along the longitudinal direction of the conveyance chains 20 and 21 and storing the chemical liquid; And
An injection nozzle (40) for simultaneously injecting the chemical liquid from the storage tank (30) onto both surfaces of the object to be processed (P);
≪ / RTI >
The vertical jig 10 is formed with a through hole 11 so that both surfaces of the object P can be exposed,
A cylindrical elastic pad 12 for stably supporting the object P is formed on both sides of the through hole 11. A space 12 'is formed in the elastic pad 12, (12) has a built-in elastic spring (13) for bi-elastic supporting force action.
청구항 1에 있어서,
상기 이송체인(20,21)은 수직지그(10)가 회전되어질 수 있도록 상부와 하부에서 상호 반대 방향으로 구동이 이루어지며, 상부 이송체인(20)과 하부 이송체인(21)의 구동 속도를 상이하게 함으로서 수직지그(10)의 수평 이동이 이루어지게 됨을 특징으로 하는 에칭용 수직이송장치.The method according to claim 1,
The conveying chains 20 and 21 are driven in opposite directions to each other so that the vertical jig 10 can be rotated and the driving speeds of the upper conveying chain 20 and the lower conveying chain 21 are different from each other So that the vertical jig (10) is horizontally moved. 삭제delete 청구항 1에 있어서,
상기 보관탱크(30)에는 현상액과 에칭액 그리고 박리액이 순차적으로 격리 보관되어질 수 있도록 칸막이(31)이 구비된 것을 특징으로 하는 에칭용 수직이송장치.The method according to claim 1,
Characterized in that a partition (31) is provided in the storage tank (30) so that a developing solution, an etchant and a peeling liquid can be sequenced and stored. 삭제delete 청구항 1에 있어서,
상기 공간부(12')에는 탄성스프링(13)의 급격한 변형을 방지하기 위한 실리콘오일이 충진 구비되며, 공간부(12') 내벽면에는 실리콘오일의 누유 방지함과 함께 탄성패드(12)의 변형에 대응이 가능하도록 플렉시블 재질의 불소수지층(12a)이 코팅 형성된 것을 특징으로 하는 에칭용 수직이송장치.The method according to claim 1,
Silicone oil is filled in the space 12 'to prevent sudden deformation of the elastic spring 13 and silicone oil is prevented from leaking on the wall surface of the space 12' Characterized in that a fluorine resin layer (12a) of flexible material is coated so as to be able to cope with deformation.
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