JP2003062495A - Rotary liquid treatment apparatus - Google Patents

Rotary liquid treatment apparatus

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JP2003062495A
JP2003062495A JP2001253366A JP2001253366A JP2003062495A JP 2003062495 A JP2003062495 A JP 2003062495A JP 2001253366 A JP2001253366 A JP 2001253366A JP 2001253366 A JP2001253366 A JP 2001253366A JP 2003062495 A JP2003062495 A JP 2003062495A
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JP
Japan
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spray
work
rotary
liquid
roller
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Application number
JP2001253366A
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Japanese (ja)
Inventor
Yuji Sakamoto
裕二 坂本
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Ishii Hyoki Co Ltd
Original Assignee
Ishii Hyoki Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a rotary liquid treatment apparatus which can homogeneously treat the surface of a work at a high speed. SOLUTION: An upper-side roller mechanism 20, a lower-side roller mechanism 40, and a lower-side spray apparatus 60 are located below an upper-side spray apparatus 10. The upper-side and lower-side spray apparatuses 10 and 60 are constructed by spirally arranging a number of spray nozzles 14 and 64 on a plurality of branch pipes extending radially from rotors 12 and 62, respectively.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ロータリー液処理
装置に関し、特にプリント基板などの比較的大きな面積
を有するワークの全面にムラなく、しかも、効率良く連
続的にエッチングなどの液処理を施すロータリー液処理
装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a rotary liquid processing apparatus, and more particularly, to a rotary liquid processing apparatus for uniformly and continuously performing a liquid processing such as etching on a whole surface of a work having a relatively large area such as a printed circuit board. The present invention relates to a liquid processing device.

【0002】[0002]

【従来の技術】プリント基板は、絶縁基板の片面または
両面に貼着した銅箔上にフォトレジスト膜を形成し、フ
ォトレジスト膜の露光および現像、レジスト膜から露出
した銅箔のエッチング、フォトレジスト膜の剥離、銅箔
のマイクロエッチング、水洗などの諸工程を経て製造さ
れており、その現像、エッチング、剥離、水洗などは、
それぞれ現像液、エッチング液、剥離液、洗浄水などの
各種の処理液を使用して行なわれている。
2. Description of the Related Art In a printed circuit board, a photoresist film is formed on a copper foil attached to one side or both sides of an insulating substrate, the photoresist film is exposed and developed, the copper foil exposed from the resist film is etched, and the photoresist is used. It is manufactured through various processes such as film peeling, copper foil micro-etching, and water washing, and its development, etching, peeling, water washing, etc.
It is carried out by using various processing solutions such as a developing solution, an etching solution, a stripping solution, and washing water.

【0003】このような処理液を使用するウェット処理
では、一般に処理槽内に処理液を溜めておいて、プリン
ト基板を処理液に浸漬して処理する浸漬法が行なわれて
いるが、処理によって生じた異物などによってプリント
基板が汚損されるために、オーバーフロー方式の処理槽
が用いられているが、それでも処理液の汚れおよびそれ
による処理効率の低下が避けられないために、微細パタ
ーンを有するプリント基板の製造には適さないという問
題点がある。
In the wet treatment using such a treatment liquid, generally, a treatment liquid is stored in a treatment tank, and a dipping method of immersing a printed circuit board in the treatment liquid for treatment is performed. Although the overflow processing tank is used because the printed circuit board is contaminated by the generated foreign matter, etc., it is inevitable that the processing solution will be contaminated and the processing efficiency will be reduced, so printing with a fine pattern will occur. There is a problem that it is not suitable for manufacturing substrates.

【0004】そこで、プリント基板の上方に配置したス
プレーノズルから処理液をスプレーするスプレー式の液
処理装置が使用されるようになってきた。このようなス
プレー式の液処理装置として、例えば、プリント基板を
吸着保持した回転テーブルを回転させながら、ノズルか
ら処理液をスプレーするものがある。しかしながら、こ
のような枚葉式処理装置では、スループットが小さく、
しかも、両面プリント基板の場合は片面ずつの処理を行
なわなければならないために、大量生産に適さないとい
う問題点がある。
Therefore, a spray type liquid processing apparatus has been used in which a processing liquid is sprayed from a spray nozzle arranged above a printed circuit board. As such a spray type liquid processing apparatus, for example, there is one that sprays the processing liquid from a nozzle while rotating a rotary table that holds a printed circuit board by suction. However, such a single-wafer processing apparatus has a small throughput,
Moreover, in the case of a double-sided printed circuit board, it is necessary to perform processing on each side, which is not suitable for mass production.

【0005】そこで、搬送コンベアでプリント基板を搬
送しながら、その上方に配置したスプレーノズルから処
理液をスプレーする連続式液処理装置が使用されるよう
になってきた。このような連続式液処理装置では、当
初、スプレーノズルが固定式のものが使用されていた
が、比較的大きな面積を有するプリント基板では、スプ
レーノズルの数が少ないとプリント基板の全面に処理液
を満遍なく供給して均一な液処理を施すことが困難であ
り、一方、スプレーノズルの数を増加すると隣接するス
プレーノズルからスプレーされた処理液同士が干渉し合
って、その干渉部分で使用済みの処理液がプリント基板
上に滞留するため、その干渉部分の処理速度が低くな
り、プリント基板の面内均一処理性が悪いという問題点
があった。
Therefore, a continuous liquid processing apparatus has been used in which a printed circuit board is carried by a carrying conveyor and a processing solution is sprayed from a spray nozzle arranged above the printed board. Initially, such a continuous type liquid processing apparatus used a fixed type spray nozzle, but for a printed circuit board with a relatively large area, if the number of spray nozzles is small, the processing liquid will be spread over the entire surface of the printed circuit board. It is difficult to evenly supply the same to perform uniform liquid treatment.On the other hand, when the number of spray nozzles is increased, the treatment liquids sprayed from adjacent spray nozzles interfere with each other and Since the processing liquid stays on the printed circuit board, the processing speed of the interference portion becomes low, and the in-plane uniform processing property of the printed circuit board is poor.

【0006】また、スプレーノズルが首振り往復動作す
る首振り式のものでは、プリント基板に対する処理液の
供給方向が斜めになるため、例えば、エッチング処理の
場合は、レジスト膜下の導電パターンのサイドエッチン
グが進行して導電パターンの断面形状が不安定になり、
しかも、首振り往復動作の折り返し時に死点(線)が生
じるので、その部分への処理液供給量が多くなり部分的
にエッチングが進行して、プリント基板面内での均一処
理性も悪いという問題点があった。
Further, in the case of a swing type in which the spray nozzle swings back and forth, the supply direction of the processing liquid to the printed circuit board becomes oblique. For example, in the case of etching processing, the side of the conductive pattern under the resist film is formed. Etching progresses and the cross-sectional shape of the conductive pattern becomes unstable,
Moreover, since the dead point (line) is generated when the swinging reciprocating motion is turned back, the amount of the processing liquid supplied to that portion is increased, the etching is partially progressed, and the uniform processing property on the printed circuit board surface is also poor. There was a problem.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】そこで、本出願人は、
先に、回転軸の下端に水平円盤を固定保持し、同円盤の
下面に処理液を垂直下方に向けて噴射するスプレーノズ
ルを散点状に設けたスプレー式の連続液処理装置(実開
平6−2739号公報参照)や、プリント基板の搬送面
へこの面と直角になるように向けられたスプレーノズル
を同搬送面と平行した特定面に対して複数配置した構成
のスプレーノズル群装設体と、このスプレーノズル群装
設体をプリント基板搬送面と平行した適当半径の円軌道
に沿って変位するように案内させる支持案内手段および
その駆動装置とからなる連続液処理装置(特開平7−1
42842号公報参照)を提案した。
Therefore, the applicant of the present invention is
First, a horizontal disc is fixedly held at the lower end of the rotary shaft, and a spray type continuous liquid treatment device (actual flat plate 6) is provided on the lower surface of the disc with spray nozzles spraying vertically downward. No. 2739) or a spray nozzle group installation body in which a plurality of spray nozzles directed to the conveyance surface of the printed circuit board at a right angle to this surface are arranged on a specific surface parallel to the conveyance surface. And a supporting and guiding means for guiding the spray nozzle group installation body so as to be displaced along a circular orbit of an appropriate radius parallel to the printed circuit board conveying surface, and a driving device therefor (JP-A-7- 1
No. 42842).

【0008】これらの連続式液処理装置は、いずれも、
従来のスプレーノズル固定式の連続液処理装置や、スプ
レーノズル首振り式の連続液処理装置に比較して、プリ
ント基板の面内均一処理性および処理速度の向上が図れ
てはいるが、プリント基板の面内均一処理性には、まだ
改善すべき余地があった。特に、最近では量産性向上の
ために、一枚のプリント基板から最終工程で分割するプ
リント基板の取り数が多くなってきて、プリント基板が
ますます大面積化する傾向にあり、プリント基板の面内
均一処理性の改善が強く要望されている。
Each of these continuous type liquid processing devices is
Compared to the conventional continuous liquid processing device with a fixed spray nozzle and the continuous liquid processing device with a swinging spray nozzle, the in-plane uniform processing property and processing speed of the printed circuit board are improved, but There was still room for improvement in the in-plane uniform processability of. In particular, recently, in order to improve mass productivity, the number of printed circuit boards to be divided from one printed circuit board in the final process has increased, and the printed circuit board tends to have a larger area. There is a strong demand for improvement in uniform processability.

【0009】そこで、本発明は、プリント基板などのワ
ークに対して、液処理のスプレーによる面内均一処理性
および高速処理性を向上したロータリー液処理装置を提
供することを目的とする。
Therefore, an object of the present invention is to provide a rotary liquid processing apparatus which has improved in-plane uniform processing property and high-speed processing property by spraying the liquid processing on a work such as a printed circuit board.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に記載
されたロータリー液処理装置は、上記の課題を解決する
ために、板状のワークを所定方向に搬送する搬送コンベ
アと、前記搬送コンベアに沿って搬送されるワークの表
面に処理液をスプレーするスプレー装置とを備え、前記
スプレー装置は、所定方向に回転駆動される回転ヘッド
と、前記回転ヘッドの周囲から放射状に延びた複数の分
岐パイプと、前記各分岐パイプにそれぞれ設けられた複
数のスプレーノズルとを備え、前記回転ヘッドを介して
前記分岐パイプに供給される処理液を前記スプレーノズ
ルから前記ワークの表面に向けて垂直方向にスプレーす
るものであり、前記複数のスプレーノズルは、全体とし
て、前記回転ヘッドおよび分岐パイプの回転に伴い、前
記ワークの表面にスプレーされた処理液をその中心部か
ら周辺部に向けて流すように渦巻状に配列されているこ
とを特徴とするものである。
In order to solve the above-mentioned problems, a rotary liquid processing apparatus according to a first aspect of the present invention includes a conveyor for conveying a plate-like work in a predetermined direction, and the conveyor. A spray device for spraying a treatment liquid onto the surface of a work conveyed along a conveyor is provided, wherein the spray device includes a rotary head that is driven to rotate in a predetermined direction, and a plurality of radial heads that extend radially from the periphery of the rotary head. A branch pipe and a plurality of spray nozzles respectively provided in the branch pipes are provided, and the processing liquid supplied to the branch pipes through the rotary head is directed in the vertical direction from the spray nozzles toward the surface of the work. The plurality of spray nozzles as a whole are formed on the surface of the work as the rotary head and the branch pipe rotate. And it is characterized in that it is arranged in a spiral form to flow toward the periphery of the play has been treated liquid from the center section.

【0011】上記のロータリー液処理装置によれば、回
転する複数の分岐パイプにスプレーノズルが渦巻状に配
列されているから、従来のスプレーノズル静止型の液処
理装置に比較して、少ないスプレーノズル数でプリント
基板などのワークに対して、その全面に均等に処理液が
供給される結果、ワークの面内均一処理性が向上すると
ともに、プリント基板などのワークに供給された処理液
は、その中心部から周辺部に向かって流れるために、ワ
ーク上に常に新しい処理液が供給され、使用済みの処理
液が滞留することが無くなり、処理速度が向上する。ま
た、従来の首振り式の液処理装置に比較して、処理液が
ワークに対して直角に供給されるので、プリント基板な
どのエッチング処理においては、レジスト膜下の導電パ
ターンのサイドエッチングがなくなって導電パターンの
断面形状が安定になり、より高精度かつ高品質のプリン
ト基板の製造が可能になる。
According to the above rotary liquid processing apparatus, since the spray nozzles are spirally arranged on the plurality of rotating branch pipes, the number of spray nozzles is smaller than that of the conventional spray nozzle stationary type liquid processing apparatus. As a result of the processing liquid being uniformly supplied to the entire surface of the work such as the printed circuit board in number, the in-plane uniform processing property of the work is improved, and the processing liquid supplied to the work such as the printed circuit board is Since the solution flows from the central portion toward the peripheral portion, new processing liquid is always supplied onto the work, the used processing liquid does not stay, and the processing speed is improved. Further, compared with the conventional swing type liquid processing apparatus, since the processing liquid is supplied at a right angle to the work, side etching of the conductive pattern under the resist film is eliminated in etching processing of a printed circuit board or the like. As a result, the cross-sectional shape of the conductive pattern becomes stable, and it becomes possible to manufacture a higher-precision and high-quality printed circuit board.

【0012】なお、本発明において、「渦巻状」なる用
語は、回転体を中心とする1本の仮想渦巻線上にスプレ
ーノズルが配列される場合のみならず、回転体を中心と
する複数本の仮想渦巻線上にスプレーノズルが配列され
るような場合も含むものである。
In the present invention, the term "spiral" means not only a case where the spray nozzles are arranged on one virtual spiral winding centering on the rotating body, but also a plurality of spraying nozzles centering on the rotating body. This also includes the case where spray nozzles are arranged on the virtual spiral.

【0013】請求項2に記載されたロータリー液処理装
置は、前記複数のスプレーノズルが、スプレー径が異な
る2種以上のスプレーノズルで構成されていることを特
徴とするものである。
The rotary liquid treatment apparatus according to a second aspect of the present invention is characterized in that the plurality of spray nozzles are composed of two or more kinds of spray nozzles having different spray diameters.

【0014】ここで、スプレー径が異なる2種以上のス
プレーノズルは、原則的には、分岐パイプの外周部に配
列されたスプレーノズルのスプレー径が、分岐パイプの
内周部に配列されたノズルのスプレー径よりも大きくな
るように配設される。ただし、実際にそのような配列で
処理液のスプレー状態を観察して、ワークの面内での処
理液のスプレー状態をより均一化するために、必要に応
じて、適宜、分岐パイプの外周部に内周部と同等のスプ
レー径のスプレーノズルを追加配設する場合や、内周部
のスプレーノズルよりもスプレー径が小さいスプレーノ
ズルを配設するような場合を除外する趣旨ではない。ス
プレーノズルの種類は2種類あるいは3種類以上であっ
てもよい。
Here, as for two or more kinds of spray nozzles having different spray diameters, in principle, the spray diameters of the spray nozzles arranged on the outer peripheral portion of the branch pipe are the nozzles arranged on the inner peripheral portion of the branch pipe. The spray diameter is larger than the spray diameter. However, in order to make the spraying state of the processing liquid more uniform within the surface of the workpiece by actually observing the spraying state of the processing liquid in such an arrangement, the outer peripheral portion of the branch pipe is appropriately changed as necessary. It does not mean that the case of additionally arranging a spray nozzle having the same spray diameter as the inner peripheral portion or the case of arranging a spray nozzle having a smaller spray diameter than the spray nozzle of the inner peripheral portion is excluded. The number of spray nozzles may be two or three or more.

【0015】上記の装置によれば、回転体から放射状に
延びる分岐パイプ間の間隔は、分岐パイプの外周部に近
くなるほど大きくなるが、原則的に、分岐パイプの外周
部に配列されたスプレーノズルのスプレー径を、分岐パ
イプの内周部に配列されたスプレーノズルのスプレー径
よりも大きく設定することにより、ワーク全面に処理液
を、容易、かつ、確実にスプレーすることができ、ワー
ク面内の均一処理性および高速処理性が向上する。
According to the above apparatus, the distance between the branch pipes extending radially from the rotating body becomes larger as the distance to the outer peripheral portion of the branch pipe increases, but in principle, the spray nozzles arranged on the outer peripheral portion of the branch pipe. By setting the spray diameter of the larger than the spray diameter of the spray nozzles arranged on the inner peripheral part of the branch pipe, the processing liquid can be easily and reliably sprayed onto the entire surface of the work, The uniform processability and high-speed processability of are improved.

【0016】請求項3に記載されたロータリー液処理装
置は、前記各スプレーノズルのスプレー距離が80〜1
00mmの範囲内に設定されていることを特徴とするも
のである。
In the rotary liquid treatment apparatus according to the third aspect, the spray distance of each of the spray nozzles is 80 to 1.
It is characterized in that it is set within the range of 00 mm.

【0017】上記の装置によれば、従来のスプレーノズ
ルのスプレー距離が150mm以上の場合に比較して、
処理液によるアタック力が増大し、処理速度が向上す
る。ただし、このスプレー距離が80mm未満になる
と、処理液によるアタック力が過大となり、例えば、レ
ジスト膜の剥離などの新たな問題点が生じる可能性があ
るため、スプレー距離は80〜100mmの範囲内に限
定される。
According to the above apparatus, compared with the conventional spray nozzle having a spray distance of 150 mm or more,
The attack force of the processing liquid is increased, and the processing speed is improved. However, if the spray distance is less than 80 mm, the attack force by the treatment liquid becomes excessive, which may cause new problems such as peeling of the resist film. Therefore, the spray distance is within the range of 80 to 100 mm. Limited.

【0018】請求項4に記載されたロータリー液処理装
置は、前記搬送コンベアは、相互間で前記ワークを挟持
して搬送する上部ローラ機構と下部ローラ機構とを備
え、前記上部ローラ機構および下部ローラ機構のうち少
なくとも一方は、第1の回転軸に所定間隔で装着された
複数個の幅狭状のローラを有する第1のローラ軸ユニッ
トと、第2の回転軸に所定間隔で装着された複数個の幅
狭状のローラを有する第2のローラ軸ユニットとを備
え、かつ、前記第1のローラ軸ユニットのローラと、前
記第2のローラ軸ユニットのローラとが、相互に接触し
ない状態で、前記ワークの搬送方向にオーバーラップし
ていることを特徴とするものである。
In the rotary liquid processing apparatus according to a fourth aspect of the present invention, the transport conveyor includes an upper roller mechanism and a lower roller mechanism for sandwiching and transporting the work, and the upper roller mechanism and the lower roller mechanism. At least one of the mechanisms includes a first roller shaft unit having a plurality of narrow rollers mounted on the first rotation shaft at predetermined intervals, and a plurality of rollers mounted on the second rotation shaft at predetermined intervals. A second roller shaft unit having a plurality of narrow rollers, wherein the roller of the first roller shaft unit and the roller of the second roller shaft unit are not in contact with each other. It is characterized in that they overlap each other in the conveying direction of the work.

【0019】上記のロータリー液処理装置によれば、搬
送コンベアの投影面積に比較して、回転軸やローラの投
影面積の占める割合が小さく、したがって搬送コンベア
の隙間が多いので、搬送コンベアの液切れが良い。しか
も、第1のローラ軸ユニットのローラと、第2のローラ
軸ユニットのローラとが、相互に接触しない状態で相手
方のローラ間に入り込むように配置されており、各ロー
ラでワークの端部を持ち上げるようにして搬送すること
ができるので、大面積のワークはもちろんのこと、小面
積のワークであっても、また、フレキシブルプリント基
板などの薄いワークであっても円滑に搬送することがで
きる。
According to the above-described rotary liquid processing apparatus, the ratio of the projected area of the rotary shaft and the roller is small compared to the projected area of the transfer conveyor, and therefore the transfer conveyor has many gaps. Is good. Moreover, the rollers of the first roller shaft unit and the rollers of the second roller shaft unit are arranged so as to enter between the rollers of the other party without contacting each other. Since the work can be lifted and conveyed, not only a large-area work, but also a small-area work or a thin work such as a flexible printed circuit board can be smoothly carried.

【0020】請求項5に記載されたロータリー液処理装
置は、前記スプレー装置が、前記搬送コンベアを挟ん
で、上下方向に相対向して配設されていることを特徴と
するものである。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided the rotary liquid treatment device in which the spray devices are arranged so as to face each other in the vertical direction with the transport conveyor interposed therebetween.

【0021】上記の装置によれば、例えば、表裏両面に
パターンを有する両面プリント基板などの両面型ワーク
を、上下部スプレー装置から同時に処理液をスプレーし
て、表裏両面を同時に液処理することができる。その
際、上部ローラ機構は、下部スプレー装置からスプレー
される処理液によって、ワークが浮上または吹き飛ばさ
れないように防止する役割をも果たす。
According to the above apparatus, for example, a double-sided work such as a double-sided printed circuit board having a pattern on the front and back sides can be simultaneously sprayed with the processing liquid from the upper and lower spraying devices to perform liquid processing on both the front and back sides at the same time. it can. At that time, the upper roller mechanism also serves to prevent the work from being floated or blown off by the processing liquid sprayed from the lower spray device.

【0022】ここで、上部ローラ機構は、フレキシブル
プリント基板などの薄いワークにあっては、搬送時にプ
リント基板が下部スプレー装置からの処理液のスプレー
によって浮き上がったり、変形したりしないように、下
部ローラ機構と同一の構成にすることが望ましい。しか
し、ワークが厚板プリント基板などの変形しにくいもの
である場合には、回転軸にローラを取り付けたローラ軸
ユニット間で、ローラが相互に離隔した位置関係になる
ように構成してもよい。
Here, in the case of a thin work such as a flexible printed circuit board, the upper roller mechanism serves to prevent the printed circuit board from being lifted or deformed by the spray of the processing liquid from the lower spray device during transportation. It is desirable to have the same structure as the mechanism. However, when the work is a thick printed circuit board or the like that is not easily deformed, the rollers may be arranged so that the rollers are separated from each other between the roller shaft units in which the rollers are attached to the rotary shaft. .

【0023】請求項6に記載されたロータリー液処理装
置は、前記ワークがプリント基板であり、前記処理液が
エッチング液であることを特徴とするものである。
According to a sixth aspect of the present invention, in the rotary liquid processing apparatus, the work is a printed circuit board and the processing liquid is an etching liquid.

【0024】上記の装置によれば、プリント基板の銅箔
を、プリント基板の全面に均一に供給されるエッチング
液によってエッチングすることによって、プリント基板
全面を均一にエッチング処理できるのみならず、スプレ
ー装置からプリント基板に対してエッチング液を垂直方
向にスプレーするので、レジスト膜下の導電パターンの
サイドエッチングが生じないため、導電パターンの幅寸
法および形状が安定して、高精度の導電パターンが得ら
れる。
According to the above apparatus, not only the entire surface of the printed board can be uniformly etched by etching the copper foil of the printed board with the etching liquid that is uniformly supplied to the entire surface of the printed board, but also the spray device. Since the etching solution is vertically sprayed onto the printed circuit board from the side, side etching of the conductive pattern under the resist film does not occur, so that the width dimension and shape of the conductive pattern are stable and a highly accurate conductive pattern can be obtained. .

【0025】[0025]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態に係るロ
ータリー液処理装置について、図面を参照して説明す
る。図1はロータリー液処理装置1の概略正面図、図2
(a)は上部スプレー装置の下面図(および下部スプレ
ー装置の平面図)、図2(b)はそのスプレーノズル配
置説明図、図2(c)はスプレーノズルによる処理液の
スプレー径説明図である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION A rotary liquid processing apparatus according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic front view of the rotary liquid processing apparatus 1, FIG.
(A) is a bottom view of the upper spray device (and a plan view of the lower spray device), FIG. 2 (b) is an explanatory view of the spray nozzle arrangement, and FIG. 2 (c) is an explanatory view of the spray diameter of the treatment liquid by the spray nozzle. is there.

【0026】図1および図2(a)(b)(c)におい
て、ロータリー液処理装置1は、大きく分けて、上部ス
プレー装置10と、その下方に配置された上部ローラ機
構20と、その下方に配置された下部ローラ機構40
と、その下方に配置された下部スプレー装置60とで構
成されている。前記上部ローラ機構20と下部ローラ機
構40とで、搬送コンベアを構成している。
1 and 2 (a) (b) (c), the rotary liquid treatment device 1 is roughly divided into an upper spray device 10, an upper roller mechanism 20 arranged below the upper spray device 10, and a lower part thereof. Lower roller mechanism 40 arranged at
And a lower spray device 60 disposed therebelow. The upper roller mechanism 20 and the lower roller mechanism 40 form a conveyor.

【0027】前記上部スプレー装置10は、処理液供給
管11と、この処理液供給管11に接続された回転体1
2と、この回転体12の周囲から放射状に延びた複数個
の分岐パイプ13と、この各分岐パイプ13の下方に後
述する配列で取り付けられた複数種類の多数個のスプレ
ーノズル14とを具備し、前記回転体12は、駆動傘歯
車15および受動傘歯車16を介して駆動モータ17に
より回転可能に構成されており、かつ、その回転速度が
例えば、0〜30rpmの範囲で可変になっている。
The upper spray device 10 includes a processing liquid supply pipe 11 and a rotating body 1 connected to the processing liquid supply pipe 11.
2, a plurality of branch pipes 13 radially extending from the periphery of the rotating body 12, and a plurality of spray nozzles 14 of a plurality of types mounted below the respective branch pipes 13 in an arrangement described later. The rotating body 12 is configured to be rotatable by a drive motor 17 via a drive bevel gear 15 and a passive bevel gear 16, and the rotation speed thereof is variable in the range of 0 to 30 rpm, for example. .

【0028】前記分岐パイプ13は、図2(a)に示す
ように、回転体12の周面部等間隔位置から放射方向
に、例えば、12本が突出するように設けられており、
それぞれの分岐パイプ13にスプレーノズル14が直角
に取り付けられている。
As shown in FIG. 2 (a), the branch pipes 13 are provided so that, for example, twelve pipes project radially from the circumferential surface of the rotating body 12 at equal intervals.
A spray nozzle 14 is attached at a right angle to each branch pipe 13.

【0029】前記スプレーノズル14は、図2(b)に
示すように、ロータリー回転方向に沿って渦巻状に配置
されている。すなわち、図2(b)は回転体12が下面
視で反時計(左)方向に回転する場合で、回転体12を
中央部とする3本の仮想渦巻線18a,18b,18c
に沿って、原則的に分岐パイプ13の内周部から外周部
に向かって、スプレー径が大きくなるように、3種類の
スプレーノズル14a,14b,14cが配列されてい
る。
As shown in FIG. 2B, the spray nozzles 14 are spirally arranged along the rotary direction. That is, FIG. 2B shows a case where the rotating body 12 rotates counterclockwise (left) in a bottom view, and the three virtual spiral windings 18a, 18b, and 18c having the rotating body 12 as a central portion.
In principle, three types of spray nozzles 14a, 14b, 14c are arranged so that the spray diameter increases from the inner peripheral portion to the outer peripheral portion of the branch pipe 13.

【0030】なお、図示例では、ワーク面内での処理液
のスプレー状態を均一化するために、回転体12にもス
プレー径が小さい1個のスプレーノズル14aが取り付
けられている。また、図中白抜き丸印で示すように、回
転体12や任意の分岐パイプ13の任意位置に、スプレ
ーノズルを取り付け可能なプラグ部分を設けておいても
よい。
In the illustrated example, one spray nozzle 14a having a small spray diameter is also attached to the rotating body 12 in order to make the spray state of the processing liquid uniform on the surface of the work. Further, as shown by a white circle in the drawing, a plug portion to which a spray nozzle can be attached may be provided at an arbitrary position of the rotary body 12 or an arbitrary branch pipe 13.

【0031】各スプレーノズル14a,14b,14c
の基本構造は、図3に示すように、分岐パイプ13にワ
ンタッチ接続するノズル部分140に、スペーサ部分1
41を介して、ノズル部分142を接続したものであ
る。したがって、用途に応じて、スペーサ部分141お
よびノズル部分142を取り外しても、使用できるよう
になっている。
Each spray nozzle 14a, 14b, 14c
As shown in FIG. 3, the basic structure of No. 1 is such that the spacer portion 1 is attached to the nozzle portion 140 which is connected to the branch pipe 13 with one touch.
The nozzle portion 142 is connected via 41. Therefore, it can be used even if the spacer portion 141 and the nozzle portion 142 are removed according to the application.

【0032】各スプレーノズル14a,14b,14c
は、取り扱うワークWの大きさによって適宜設定され
る。例えば、取り扱い可能な最大ワークWの大きさが6
00mm×600mmの場合は、上下搬送コンベア2
0,40の幅寸法が約800mmに設定され、スペーサ
部分141およびノズル部分142を取り付けた状態で
は、ノズル部分140からワークWへのスプレー距離は
約90mmに設定され、図2(c)の上段に示すよう
に、スプレーノズル14a,14b,14cによる処理
液のスプレー径が、例えば、φ114、φ123、φ1
38になるように設定されている。また、スペーサ部分
141およびノズル部分142を取り外した状態では、
ノズル部分140からワークWへのスプレー距離は約1
40mmに設定され、図2(c)の下段に示すように、
スプレーノズル14a,14b,14cによる処理液の
スプレー径が、例えば、φ177、φ195、φ213
になるように設定されている。
Each spray nozzle 14a, 14b, 14c
Is appropriately set according to the size of the work W to be handled. For example, the maximum workable size W that can be handled is 6
For 00 mm x 600 mm, upper and lower conveyors 2
When the width dimension of 0, 40 is set to about 800 mm, and the spacer portion 141 and the nozzle portion 142 are attached, the spray distance from the nozzle portion 140 to the work W is set to about 90 mm. As shown in, the spray diameter of the processing liquid by the spray nozzles 14a, 14b, 14c is, for example, φ114, φ123, φ1.
It is set to be 38. Further, in a state where the spacer portion 141 and the nozzle portion 142 are removed,
The spray distance from the nozzle part 140 to the work W is about 1
It is set to 40 mm, and as shown in the lower part of FIG.
The spray diameter of the treatment liquid by the spray nozzles 14a, 14b, 14c is, for example, φ177, φ195, φ213.
Is set to.

【0033】図4は上部ローラ機構20の部分平面図を
示し、上部ローラ機構20は、第1ローラ軸ユニット2
1と、第2ローラ軸ユニット22とを、ワークの搬送方
向に沿って交互に配列して構成されている。
FIG. 4 is a partial plan view of the upper roller mechanism 20. The upper roller mechanism 20 includes the first roller shaft unit 2
The first roller shaft unit 22 and the second roller shaft unit 22 are arranged alternately along the workpiece conveying direction.

【0034】図5は図4における第1ローラ軸ユニット
21(および第2ローラ軸ユニット22)の分解斜視図
を示す。第1ローラ軸ユニット21は、回転軸23に所
定間隔で幅狭状の多数個のローラ24が取り付けられ、
各ローラ24に、ワークとの摩擦係数を大きくして搬送
中の滑りが生じないようにするともに、ワークWの表面
に傷を付けないようにするために、エチレンプロピレン
ゴムやポリテトラフルオロエチレンなどの高分子樹脂よ
りなる弾性摩擦部材25が取り付けられている。また、
各ローラ24にはワークを支持するために、その軸方向
に複数本(図示例は60度間隔で6本)のピン26が突
設されて構成されている。さらに、回転軸23の一方端
には、この回転軸23を後述する下部ローラ機構の駆動
用平歯車によって回転させるための受動用の平歯車27
が取り付けられている。
FIG. 5 is an exploded perspective view of the first roller shaft unit 21 (and the second roller shaft unit 22) in FIG. In the first roller shaft unit 21, a large number of narrow rollers 24 are attached to the rotating shaft 23 at predetermined intervals,
Each roller 24 has a large coefficient of friction with the work to prevent slippage during conveyance, and in order to prevent the surface of the work W from being scratched, ethylene propylene rubber, polytetrafluoroethylene, or the like is used. An elastic friction member 25 made of polymer resin is attached. Also,
In order to support the work, each roller 24 is provided with a plurality of pins (six in the illustrated example, six at intervals of 60 degrees) projectingly provided in the axial direction thereof. Further, at one end of the rotary shaft 23, a passive spur gear 27 for rotating the rotary shaft 23 by a drive spur gear of a lower roller mechanism described later.
Is attached.

【0035】第2ローラ軸ユニット22は、回転軸28
に所定間隔で幅狭状の多数個のローラ29を取り付け、
各ローラ29に前述同様の弾性摩擦部材30が取り付け
られている。また、各ローラ29には、ワークを支持可
能なように、その軸方向に複数本(図示例では、6本)
のピン31が突設されて構成されている。また、回転軸
28の一方端には、この回転軸28を後述する下部ロー
ラ機構の駆動用平歯車によって回転させるための受動用
の平歯車32が取り付けられている。
The second roller shaft unit 22 includes a rotary shaft 28.
Attach a large number of narrow rollers 29 at a predetermined interval to
An elastic friction member 30 similar to the above is attached to each roller 29. Further, a plurality of rollers (six in the illustrated example) are provided in the axial direction of each roller 29 so as to support the work.
The pin 31 is formed to project. Further, a passive spur gear 32 for rotating the rotary shaft 28 by a drive spur gear of a lower roller mechanism described later is attached to one end of the rotary shaft 28.

【0036】そして、多数の第1ローラ軸ユニット21
と第2ローラ軸ユニット22とを、ワークの進行方向に
沿って交互に、かつ、第1ローラ軸ユニット21のロー
ラ24と、第2ローラ軸ユニット22のローラ29と
が、接触しない状態で相互に相手方のローラ24,24
間、または29,29間に入り込むように、また、ワー
クの進行方向に沿って、ローラ24,29が少しずつ幅
方向にずれるように構成されている。なお、前記ローラ
24,29の弾性摩擦部材25,30の下端高さは同一
に設定されている。
Then, a large number of first roller shaft units 21
The second roller shaft unit 22 and the second roller shaft unit 22 are alternately arranged along the traveling direction of the work, and the roller 24 of the first roller shaft unit 21 and the roller 29 of the second roller shaft unit 22 are not in contact with each other. To the other roller 24, 24
Between the rollers 24, 29 along the traveling direction of the work, and the rollers 24, 29 are slightly displaced in the width direction. The lower end heights of the elastic friction members 25 and 30 of the rollers 24 and 29 are set to be the same.

【0037】図6は下部ローラ機構40の部分平面図を
示す。下部ローラ機構40は、第1ローラ軸ユニット4
1と、第2ローラ軸ユニット42とで構成されている図
7は図6における第1ローラ軸ユニット41(および第
2ローラ軸ユニット42)の分解斜視図を示す。第1ロ
ーラ軸ユニット41は、回転軸43に所定間隔で幅狭状
の多数個のローラ44が取り付けられ、各ローラ44に
前述と同様に、ワークとの摩擦係数を大きくして搬送中
の滑りが生じないようにするともに、ワークWの表面に
傷を付けないようにするために、エチレンプロピレンゴ
ムやポリテトラフルオロエチレンなどの高分子樹脂より
なる弾性摩擦部材45が取り付けられている。また、各
ローラ44にはワークを支持可能なように、軸方向に複
数本(図示例では6本)のピン46が突設されている。
さらに、回転軸43の一方端にはこの回転軸43を後述
する駆動用ねじ歯車によって回転する受動用のねじ歯車
47が取り付けられており、他方端には前記上部ローラ
機構20の第1ローラ軸ユニット21の回転軸23に取
り付けられた受動用の平歯車27と噛み合い結合する駆
動用の平歯車48が取り付けられている。
FIG. 6 is a partial plan view of the lower roller mechanism 40. The lower roller mechanism 40 includes the first roller shaft unit 4
7, which is composed of 1 and the second roller shaft unit 42, is an exploded perspective view of the first roller shaft unit 41 (and the second roller shaft unit 42) in FIG. In the first roller shaft unit 41, a large number of narrow rollers 44 are attached to the rotating shaft 43 at predetermined intervals, and each roller 44 has a large coefficient of friction with the work and slips during conveyance as in the above. An elastic friction member 45 made of a polymer resin such as ethylene propylene rubber or polytetrafluoroethylene is attached in order to prevent scratches from occurring on the surface of the work W as well as to prevent scratches. Further, a plurality of (six in the illustrated example) pins 46 are provided in the axial direction on each roller 44 so as to support the work.
Further, a passive screw gear 47 for rotating the rotary shaft 43 by a drive screw gear described later is attached to one end of the rotary shaft 43, and the first roller shaft of the upper roller mechanism 20 is attached to the other end. A drive spur gear 48 that meshes with a passive spur gear 27 attached to the rotary shaft 23 of the unit 21 is attached.

【0038】第2ローラ軸ユニット42は、回転軸49
に所定間隔で幅狭状の多数個のローラ50が取り付けら
れ、各ローラ50に前述と同様に、弾性摩擦部材51が
取り付けられているとともに、各ローラ50には軸方向
に複数本(図示例では4本)のピン52が突設されてい
る。さらに、各回転軸49の一方端にはこの回転軸49
を後述する駆動用ねじ歯車によって回転する受動用のね
じ歯車53が取り付けられており、他方端には前記上部
ローラ機構20の第2ローラ軸ユニット22の回転軸2
8に取り付けられた受動用の平歯車32と噛み合い結合
する駆動用の平歯車54が取り付けられている。
The second roller shaft unit 42 includes a rotary shaft 49.
A large number of narrow rollers 50 are attached to the roller 50 at predetermined intervals, and the elastic friction member 51 is attached to each roller 50 in the same manner as described above. 4 pins 52 are provided in a protruding manner. Further, at one end of each rotary shaft 49, the rotary shaft 49
Is attached with a passive screw gear 53 that is rotated by a driving screw gear described later, and the rotary shaft 2 of the second roller shaft unit 22 of the upper roller mechanism 20 is attached to the other end.
The drive spur gear 54 is meshed with the passive spur gear 32 mounted on the drive shaft 8.

【0039】下部ローラ機構40は、多数の前記第1ロ
ーラ軸ユニット41と第2ローラ軸ユニット42とを、
進行方向に交互に配列して構成されており、かつ、前記
第1ローラ軸ユニット41のローラ44と、第2ローラ
軸ユニット42のローラ50とが、接触しない状態で相
互に相手方のローラ44,44間またはローラ50,5
0間に入り込むように、また、ワークの進行方向に沿っ
て、ローラ44,50が少しずつ幅方向にずれるように
構成されている。なお、前記各ローラ44,50の弾性
摩擦部材45,51の上端高さは同一に設定されてい
る。
The lower roller mechanism 40 includes a large number of the first roller shaft unit 41 and the second roller shaft unit 42.
The rollers 44 of the first roller shaft unit 41 and the rollers 50 of the second roller shaft unit 42 are arranged alternately in the traveling direction and are in mutual contact with each other, so that the rollers 44, Between 44 or rollers 50,5
The rollers 44 and 50 are configured so as to be inserted between 0 and along the traveling direction of the work, and are gradually displaced in the width direction. The heights of the upper ends of the elastic friction members 45 and 51 of the rollers 44 and 50 are set to be the same.

【0040】上記の上部ローラ機構20および下部ロー
ラ機構40は、図8、図9、図10に示すように、それ
ぞれの回転軸23,28,43,49がワークの進行方
向の両側に配置された軸受部材55,55によって、上
下配列で支持されている。ここで、上部ローラ機構20
の第1ローラ軸ユニット21の回転軸23に取り付けら
れた受動用の平歯車27が、下部ローラ機構40の第1
ローラ軸ユニット41の回転軸43に取り付けられた駆
動用の平歯車48と噛み合い結合されている。また、上
部ローラ機構20の第2ローラ軸ユニット22の回転軸
28に取り付けられた受動用の平歯車32が、下部ロー
ラ機構40の第2ローラ軸ユニット42の回転軸49に
取り付けられた駆動用の平歯車54と噛み合い結合され
ている。
In the upper roller mechanism 20 and the lower roller mechanism 40, as shown in FIGS. 8, 9 and 10, the respective rotary shafts 23, 28, 43 and 49 are arranged on both sides in the traveling direction of the work. The bearing members 55, 55 are supported in a vertical arrangement. Here, the upper roller mechanism 20
The passive spur gear 27 attached to the rotary shaft 23 of the first roller shaft unit 21 of
The spur gear 48 for driving, which is attached to the rotary shaft 43 of the roller shaft unit 41, is meshed and coupled. Further, the passive spur gear 32 attached to the rotary shaft 28 of the second roller shaft unit 22 of the upper roller mechanism 20 is for driving attached to the rotary shaft 49 of the second roller shaft unit 42 of the lower roller mechanism 40. Of the spur gear 54.

【0041】ここで、図8から明らかなように、上部ロ
ーラ機構20の第1ローラ軸ユニット21,21…と、
第2ローラ軸ユニット22,22…とは、ローラ24,
29が少しずつ軸方向にずれており、同様に、下部ロー
ラ機構40の第1ローラ軸ユニット41,41…と、第
2ローラ軸ユニット42,42…とは、ローラ44,5
0が少しずつ軸方向にずれており、ワークの搬送時に、
ワークの同じ位置に、ローラ24,29の弾性摩擦部材
25,30およびローラ44,50の弾性摩擦部材4
5,51が接触しないようになっている。それによっ
て、ワーク全面の液処理の均一化を図っている。
Here, as is apparent from FIG. 8, the first roller shaft units 21, 21 ... Of the upper roller mechanism 20,
The second roller shaft units 22, 22, ...
29 are slightly displaced in the axial direction, and similarly, the first roller shaft units 41, 41 ... Of the lower roller mechanism 40 and the second roller shaft units 42, 42 ...
0 is shifted in the axial direction little by little,
The elastic friction members 25 and 30 of the rollers 24 and 29 and the elastic friction member 4 of the rollers 44 and 50 are provided at the same position on the work.
It is designed so that 5,51 are not in contact with each other. As a result, the liquid treatment on the entire surface of the work is made uniform.

【0042】そして、前記上部ローラ機構20における
第1,第2ローラ軸ユニット21,22のローラ24,
29の弾性摩擦部材25,30は、下部ローラ機構40
における第1,第2ローラ軸ユニット41,42のロー
ラ44,50の弾性摩擦部材45,51と接触して対向
している。
Then, the rollers 24 of the first and second roller shaft units 21, 22 in the upper roller mechanism 20,
The elastic friction members 25 and 30 of 29 are the lower roller mechanism 40.
In contact with the elastic friction members 45, 51 of the rollers 44, 50 of the first and second roller shaft units 41, 42, and face each other.

【0043】また、下部ローラ機構40における第1,
第2ローラ軸ユニット41,42における回転軸43、
49の一方端に取り付けられたねじ歯車47,53は、
駆動軸56に取り付けられたねじ歯車57,58と噛み
合い結合されている。したがって、駆動軸56を駆動モ
ータ(図示省略)によって回転駆動することによって、
それぞれのねじ歯車57,58が回転される。それに伴
ってそれぞれに噛み合い結合している下部ローラ機構4
0の第1,第2ローラ軸ユニット41,42の受動用ね
じ歯車47,53が回転させられて、回転軸43,49
が回転させられる。これらの回転軸43、49が回転す
ると、それぞれの回転軸43、49に取り付けられてい
るローラ44,50が回転する。
Further, the first and the first in the lower roller mechanism 40
The rotary shaft 43 in the second roller shaft units 41, 42,
The screw gears 47 and 53 attached to one end of 49 are
It is meshed and coupled with screw gears 57 and 58 attached to the drive shaft 56. Therefore, by rotating the drive shaft 56 by a drive motor (not shown),
The respective screw gears 57 and 58 are rotated. Along with that, the lower roller mechanism 4 meshingly coupled with each other.
The passive screw gears 47, 53 of the first and second roller shaft units 41, 42 of 0 are rotated to rotate the rotary shafts 43, 49.
Is rotated. When the rotary shafts 43 and 49 rotate, the rollers 44 and 50 attached to the rotary shafts 43 and 49 rotate.

【0044】また、第1,第2ローラ軸ユニット41,
42の回転軸43、49が回転させられると、これらの
回転軸43、49の他方端に取り付けられている駆動用
の平歯車48,54が回転する。すると、この平歯車4
8,54と噛み合い結合している上部ローラ機構20の
第1,第2ローラ軸ユニット21,22における回転軸
23,28の端部に取り付けられた受動用の平歯車2
7,32が同期して回転する。それによって、上部ロー
ラ機構20の第1,第2ローラ軸ユニット21,22に
おける回転軸23,28に取り付けられているローラ2
4,29が同期して回転する。
Further, the first and second roller shaft units 41,
When the rotary shafts 43 and 49 of 42 are rotated, the spur gears 48 and 54 for driving attached to the other ends of these rotary shafts 43 and 49 rotate. Then, this spur gear 4
Passive spur gear 2 attached to the ends of the rotary shafts 23 and 28 in the first and second roller shaft units 21 and 22 of the upper roller mechanism 20 meshingly coupled with
7, 32 rotate in synchronization. Thereby, the rollers 2 attached to the rotary shafts 23 and 28 of the first and second roller shaft units 21 and 22 of the upper roller mechanism 20.
4, 29 rotate in synchronization.

【0045】したがって、駆動軸56を回転駆動させ
て、上下部ローラ機構20,40のローラ24,29お
よび44,50を同期回転させておいて、上下部ローラ
機構20,40の一方端側からプリント基板などのワー
クが供給されると、このワークは、上下部ローラ機構2
0,40の弾性摩擦部材25,30および45,51に
よって挟まれて、一方端側から他方端側に向かって搬送
される。
Therefore, the drive shaft 56 is rotationally driven so that the rollers 24, 29 and 44, 50 of the upper and lower roller mechanisms 20, 40 are synchronously rotated, and one end side of the upper and lower roller mechanisms 20, 40 is rotated. When a work such as a printed circuit board is supplied, the work is handled by the upper and lower roller mechanism 2
It is sandwiched by 0, 40 elastic friction members 25, 30 and 45, 51 and conveyed from one end side to the other end side.

【0046】下部スプレー装置60は、基本的には、上
部スプレー装置10と同様の構成を有する。すなわち、
下部スプレー装置60は、図1に示すように、処理液供
給管61と、この処理液供給管61に接続された回転体
62と、この回転体62の周囲から放射状に延びる複数
個の分岐パイプ63と、各分岐パイプ63の上方に後述
する配列で取り付けられた多数個のスプレーノズル64
とを具備し、前記回転体62は、駆動用傘歯車65およ
び受動用傘歯車66を介して駆動モータ67により回転
可能、かつ、その回転数が例えば、0〜30rpmの範
囲で可変になっている。
The lower spray device 60 basically has the same structure as the upper spray device 10. That is,
As shown in FIG. 1, the lower spray device 60 includes a processing liquid supply pipe 61, a rotating body 62 connected to the processing liquid supply pipe 61, and a plurality of branch pipes radially extending from the periphery of the rotating body 62. 63, and a plurality of spray nozzles 64 mounted above each branch pipe 63 in an arrangement described later.
The rotating body 62 is rotatable by a drive motor 67 via a driving bevel gear 65 and a passive bevel gear 66, and the number of rotations thereof is variable in a range of 0 to 30 rpm, for example. There is.

【0047】上記の下部スプレー装置60の分岐パイプ
63における各スプレーノズル64の構成、その配列お
よびスプレー径などは、図2(a)(b)(c)および
図3に示すものと同様であるので、図示および説明を省
略する。
The structure, arrangement, and spray diameter of each spray nozzle 64 in the branch pipe 63 of the lower spray device 60 are the same as those shown in FIGS. 2 (a) (b) (c) and FIG. Therefore, illustration and description are omitted.

【0048】次に、上記のロータリー液処理装置1の動
作について説明する。まず、下部ローラ機構40の駆動
軸56を回転駆動して、ねじ歯車57,58を介してね
じ歯車47,53を回転させる。すると、下部ローラ機
構40の第1,第2ローラ軸ユニット41,42の回転
軸43,49が回転駆動され、それによって各回転軸4
3,49に固定されたローラ44,50が回転する。
Next, the operation of the rotary liquid processing apparatus 1 will be described. First, the drive shaft 56 of the lower roller mechanism 40 is rotationally driven to rotate the screw gears 47 and 53 via the screw gears 57 and 58. Then, the rotary shafts 43 and 49 of the first and second roller shaft units 41 and 42 of the lower roller mechanism 40 are rotationally driven, whereby the rotary shafts 4 and 4 are driven.
The rollers 44, 50 fixed to 3, 49 rotate.

【0049】前述のように、下部ローラ機構40の第
1,第2ローラ軸ユニット41,42の回転軸43,4
9に取り付けられた駆動用の平歯車48,54には、上
部ローラ機構20の第1,第2ローラ軸ユニット21,
22の回転軸23,28に取り付けられた受動用の平歯
車27,32が噛み合い結合しているので、下部ローラ
機構40の回転軸43,49の回転動作によって、上部
ローラ機構20の第1,第2ローラ軸ユニット21,2
2の回転軸23,28も回転駆動され、この回転軸2
3,28に取り付けられたローラ24,29も同期して
回転する。
As described above, the rotary shafts 43, 4 of the first and second roller shaft units 41, 42 of the lower roller mechanism 40.
The drive spur gears 48, 54 attached to the first and second roller shaft units 21, 21
Since the passive spur gears 27 and 32 attached to the rotary shafts 23 and 28 of the gear 22 are meshed with each other, the rotary motion of the rotary shafts 43 and 49 of the lower roller mechanism 40 causes the first and second rotary rollers of the upper roller mechanism 20 to rotate. Second roller shaft unit 21,2
The two rotary shafts 23 and 28 are also driven to rotate, and
The rollers 24 and 29 attached to the rollers 3 and 28 also rotate in synchronization.

【0050】そこで、上下部ローラ機構20,40の一
方端側からプリント基板などのワークWを供給すると、
ワークWは、上下部ローラ機構20,40からなる搬送
コンベアに挟まれて、一方端側から他方端側に搬送され
る。そして、ワークWが上下部スプレー装置10,60
の位置に来ると、上下部スプレー装置10,60によっ
て処理液がスプレーされて、ワークの両面を同時に液処
理することができる。このワーク搬送時に、ワークWに
接触するのは、弾性摩擦部材25,30,45,51で
あるので、ワークWを傷付けることはない。また、ワー
クが薄いフレキシブルプリント基板であっても、上部ロ
ーラ機構20の存在によって、下部スプレー装置60か
らの処理液のスプレーによって、ワークが浮き上がった
り、変形したりすることがない。
Therefore, when a work W such as a printed circuit board is supplied from one end side of the upper and lower roller mechanisms 20 and 40,
The work W is sandwiched by a transfer conveyor including upper and lower roller mechanisms 20 and 40, and is transferred from one end side to the other end side. And, the work W is the upper and lower spray devices 10, 60.
At the position, the treatment liquid is sprayed by the upper and lower spray devices 10 and 60, and both sides of the work can be treated at the same time. Since the elastic friction members 25, 30, 45, 51 are in contact with the work W during this work transfer, the work W is not damaged. Further, even if the work is a thin flexible printed board, the work is not lifted or deformed by the spray of the processing liquid from the lower spray device 60 due to the presence of the upper roller mechanism 20.

【0051】ここで、上下部スプレー装置10,60の
回転体11,61をモータ17,67によって回転させ
ながら、処理液供給管11,61にエッチング液などの
処理液を供給する。すると、この処理液は回転体12,
62から分岐パイプ13,63に導かれ、スプレーノズ
ル14,64から、それぞれワークの上面および下面に
処理液がスプレーされる。
Here, while rotating the rotating bodies 11, 61 of the upper and lower spray devices 10, 60 by the motors 17, 67, a processing liquid such as an etching liquid is supplied to the processing liquid supply pipes 11, 61. Then, this processing liquid is
From 62, it is guided to the branch pipes 13 and 63, and the treatment liquid is sprayed from the spray nozzles 14 and 64 to the upper surface and the lower surface of the work, respectively.

【0052】各スプレーノズル14,64は、前述のと
おり、渦巻状に配列されているので、回転体12,62
の回転動作と相俟って、少ないスプレーノズル数でも、
ワークWの全面に処理液をスプレー供給することができ
る。
Since the spray nozzles 14 and 64 are spirally arranged as described above, the rotating bodies 12 and 62 are
In combination with the rotating operation of, even with a small number of spray nozzles,
The treatment liquid can be spray-supplied onto the entire surface of the work W.

【0053】また、各スプレーノズル14,64が、渦
巻状に配列されていることによって、ワークWの上下面
に供給された処理液は、順次、ワークWの外周部に向か
って押し流されるので、ワークWには、常に新しい処理
液が供給されることになり、処理液同士の干渉がなくな
り、ワークWの面内の均一処理性が向上する。
Further, since the spray nozzles 14 and 64 are arranged in a spiral shape, the treatment liquid supplied to the upper and lower surfaces of the work W is sequentially swept toward the outer peripheral portion of the work W. A new processing liquid is constantly supplied to the work W, the interference between the processing liquids is eliminated, and the uniform processing property in the surface of the work W is improved.

【0054】さらに、各スプレーノズル14,64から
は、ワークWに向かって垂直に処理液がスプレーされる
ので、プリント基板における銅箔のエッチング処理の場
合は、レジスト膜下の導電パターンのサイドエッチング
がなく、導電パターンの断面形状が安定するので、高品
質のプリント基板が製造できる。
Further, since the treatment liquid is sprayed vertically from the spray nozzles 14 and 64 toward the work W, in the case of etching the copper foil on the printed board, side etching of the conductive pattern under the resist film is performed. Since the conductive pattern has a stable cross-sectional shape, a high-quality printed circuit board can be manufactured.

【0055】図11(a)はプリント基板などのワーク
Wが大型化した場合の上部スプレー装置10Aの下面図
で、図11(b)はスプレーノズル14の配列説明図、
図11(c)はスプレーノズル14による処理液のスプ
レー径の説明図である。基本的な構造は、図1(a)
(b)(c)と同様であるが、この場合は、ロータリー
回転方向が図示時計(右)方向の場合であり、かつ、最
大ワークWが1,000mm×1,000mmの大きさ
に対応するもので、各スプレーノズル14a,14b,
14cからワークWへのスプレー距離は、例えば、スペ
ーサ部分141およびノズル部分142を取り付けた状
態では(図3参照)約90mmで、11(c)の上段に
示すように、処理液のスプレー径が、例えば、φ18
2、φ197、φ221になるように設定されている。
また、スペーサ部分141およびノズル部分142を取
り外した状態では、ノズル部分140からワークWへの
スプレー距離は、約140mmとなり、各ノズル部分1
40からの処理液のスプレー径は、図11(c)の下段
に示すように、例えば、φ283、φ312、φ341
になるように設定されている。
FIG. 11A is a bottom view of the upper spray device 10A when the work W such as a printed circuit board is enlarged, and FIG. 11B is an explanatory view of the arrangement of the spray nozzles 14,
FIG. 11C is an explanatory diagram of the spray diameter of the processing liquid by the spray nozzle 14. The basic structure is shown in Figure 1 (a).
(B) Similar to (c), but in this case, the rotary rotation direction is the clockwise (right) direction in the drawing, and the maximum work W corresponds to a size of 1,000 mm × 1,000 mm. Each of the spray nozzles 14a, 14b,
The spray distance from 14c to the work W is, for example, about 90 mm when the spacer portion 141 and the nozzle portion 142 are attached (see FIG. 3), and the spray diameter of the treatment liquid is as shown in the upper part of 11 (c). , For example, φ18
2, φ197 and φ221 are set.
Further, when the spacer portion 141 and the nozzle portion 142 are removed, the spray distance from the nozzle portion 140 to the work W is about 140 mm.
The spray diameter of the treatment liquid from 40 is, for example, φ283, φ312, and φ341 as shown in the lower part of FIG.
Is set to.

【0056】図12は上記のロータリー液処理装置1
(1a,1b,1c)を3台直列接続したロータリー液
処理装置100の正面図を示す。このように、ロータリ
ー液処理装置1を複数台直列接続すると、各ロータリー
液処理装置1の液処理速度が等しいものと仮定すると、
全体の液処理速度は、単一のロータリー液処理装置1を
用いる場合の3倍に高速化でき、より大量生産化が実現
できる。この直列台数は任意でよいが、後述するよう
に、3台あれば、各種の対応が可能である。
FIG. 12 shows the rotary liquid processing apparatus 1 described above.
The front view of the rotary liquid processing apparatus 100 which connected three (1a, 1b, 1c) in series is shown. As described above, when a plurality of rotary liquid processing apparatuses 1 are connected in series, assuming that the liquid processing speeds of the rotary liquid processing apparatuses 1 are equal,
The total liquid processing speed can be tripled as compared with the case where a single rotary liquid processing apparatus 1 is used, and mass production can be realized. The number of units in series may be arbitrary, but as will be described later, if there are three units, various correspondences are possible.

【0057】すなわち、このように3台のロータリー液
処理装置1a,1b,1cを直列接続する場合は、上下
部スプレー装置10,60の回転方向を、1台目の装置
1aは時計方向、2台目の装置1bは反時計方向、3台
目の装置1cは時計方向のように、回転方向を交互に変
えることによって、3台とも同一回転方向にした場合に
比較して、スプレー装置10,60の回転方向による傾
向をなくすことができる。
That is, when the three rotary liquid treatment apparatuses 1a, 1b, 1c are connected in series in this manner, the upper and lower spray apparatuses 10, 60 are rotated in the clockwise direction, and the first apparatus 1a is rotated in the clockwise direction. The spray device 10, the third device 1b is rotated counterclockwise, and the third device 1c is rotated clockwise. The tendency due to the direction of rotation of 60 can be eliminated.

【0058】また、各上下部スプレー装置10,60の
処理液供給管11a〜11cおよび61a〜61cに設
けられた開閉弁(図示省略)を適宜開閉することによっ
て、例えば、3台とも直列接続使用する場合や、2台ま
たは1台だけ使用することもできる。このようにすれ
ば、例えば、銅箔厚さなどが異なるプリント基板などの
ワークWの種類に応じて、あるいは、同一のワークWに
対して処理速度を切り替えて使用することが可能にな
る。
By appropriately opening and closing the on-off valves (not shown) provided in the processing liquid supply pipes 11a to 11c and 61a to 61c of the upper and lower spray devices 10 and 60, for example, three units are connected in series. Alternatively, two or only one can be used. With this configuration, it is possible to use the work W depending on the type of the work W such as a printed circuit board having a different copper foil thickness, or for the same work W by switching the processing speed.

【0059】この場合、仮に単一のロータリー液処理装
置1によるエッチング量が4μmとした場合、単純に2
台使用時には8μm、3台使用時には12μmのエッチ
ング量を得ることもできるが、2台使用時と3台使用時
とで、上下部ローラ機構20,40よりなる搬送ローラ
の搬送速度を可変にして、例えば、エッチング量が2台
使用時は6〜10μm、3台使用時は10〜14μmと
いったことも可能になる。このようにすれば、ワークW
に応じた最適の液処理条件を設定することができる。
In this case, if the etching amount by the single rotary liquid processing apparatus 1 is 4 μm, it is simply 2
It is possible to obtain an etching amount of 8 μm when using three units and 12 μm when using three units, but the transport speed of the transport rollers including the upper and lower roller mechanisms 20 and 40 can be varied between when using two units and when using three units. For example, the etching amount can be 6 to 10 μm when two units are used and 10 to 14 μm when three units are used. By doing this, the work W
It is possible to set the optimum liquid treatment conditions according to the above.

【0060】なお、図示は省略するが、複数のロータリ
ー液処理装置1A,1Bを、ワークWの搬送方向に沿っ
て、並列に設置したロータリー液処理装置200を構成
することもできる。このように複数のロータリー液処理
装置1A,1Bを並列設置することにより、さらにスル
ープットを向上することができる。
Although not shown, a plurality of rotary liquid processing apparatuses 1A and 1B may be installed in parallel along the conveyance direction of the work W to form a rotary liquid processing apparatus 200. By thus installing a plurality of rotary liquid processing apparatuses 1A and 1B in parallel, the throughput can be further improved.

【0061】また、上記実施形態は、いずれも両面型で
フレキシブル型の薄いプリント基板のようなワークを想
定して、ワークの両面を同時処理する場合について説明
したが、厚板プリント基板などのワークの場合は、上部
ローラ機構20の構成はもっと簡略化してもよい。すな
わち、厚板プリント基板のようなワークの場合は、上下
部スプレー装置10,60から処理液をスプレーして
も、薄いプリント基板のように浮き上がったり、変形し
たりし難いため、上部ローラ機構20は、第1ローラ軸
ユニット21または第2ローラ軸ユニット22のいずれ
か一方のみで構成してもよい。また、場合によっては、
上部ローラ機構20を省略してもよい。
In each of the above-described embodiments, the case where both surfaces of a work are processed at the same time is described assuming a work such as a double-sided and flexible thin printed circuit board. In this case, the structure of the upper roller mechanism 20 may be simplified. That is, in the case of a work such as a thick printed circuit board, even if the processing liquid is sprayed from the upper and lower spray devices 10 and 60, it is difficult for the work liquid to float or be deformed like a thin printed circuit board. May be configured by only one of the first roller shaft unit 21 and the second roller shaft unit 22. Also, in some cases,
The upper roller mechanism 20 may be omitted.

【0062】また、上記実施形態では、下部ローラ機構
40の駆動軸56を回転駆動して、ねじ歯車57,58
を介してねじ歯車47,53を回転させて、下部ローラ
機構40の第1,第2ローラ軸ユニット41,42の回
転軸43,49を回転駆動し、それによって各回転軸4
3,49に固定されたローラ44,50を回転する場合
について説明したが、下部ローラ機構40の駆動軸56
の回転駆動力で下部ローラ機構40の第1,第2ローラ
軸ユニット41,42の回転軸43,49を回転駆動す
る駆動力伝達手段は、ねじ歯車57,58およびねじ歯
車47,53の組み合わせに限らず、傘歯歯車同士、ま
たは傘歯歯車と傘歯ラックとの組み合わせなど、任意の
駆動力伝達手段を採用できる。
Further, in the above embodiment, the drive shaft 56 of the lower roller mechanism 40 is rotationally driven to drive the screw gears 57 and 58.
The screw gears 47, 53 are rotated through the rotary gears 47, 53 to rotationally drive the rotary shafts 43, 49 of the first and second roller shaft units 41, 42 of the lower roller mechanism 40.
Although the case where the rollers 44 and 50 fixed to 3, 49 are rotated has been described, the drive shaft 56 of the lower roller mechanism 40 is described.
The driving force transmission means for rotationally driving the rotating shafts 43, 49 of the first and second roller shaft units 41, 42 of the lower roller mechanism 40 by the rotational driving force of is a combination of screw gears 57, 58 and screw gears 47, 53. Not limited to this, any driving force transmission means such as bevel gears or a combination of bevel gears and a bevel gear rack can be adopted.

【0063】さらに、上記実施形態では、両面型および
片面型のいずれのワークにも対応できるように、上下部
スプレー装置10,60および上下部ローラ機構20,
40を具備するものについて説明したが、本発明は必ず
しもこのように構成することを必要とするものではな
く、上部スプレー装置10および下部ローラ機構40に
より、片面型ワーク処理専用の構成としてもよい。
Further, in the above-described embodiment, the upper and lower spray devices 10 and 60 and the upper and lower roller mechanisms 20 and 60 are provided so that both double-sided and single-sided works can be handled.
However, the present invention does not necessarily need to be configured in this way, and the upper spray device 10 and the lower roller mechanism 40 may be used exclusively for single-sided work processing.

【0064】[0064]

【発明の効果】本発明は、以上のように、板状のワーク
を所定方向に搬送する搬送コンベアと、前記搬送コンベ
アに沿って搬送されるワークの表面に処理液をスプレー
するスプレー装置とを備え、前記スプレー装置は、所定
方向に回転駆動される回転ヘッドと、前記回転ヘッドの
周囲から放射状に延びた複数の分岐パイプと、前記各分
岐パイプにそれぞれ設けられた複数のスプレーノズルと
を備え、前記回転ヘッドを介して前記分岐パイプに供給
される処理液を前記スプレーノズルから前記ワークの表
面に向けて垂直方向にスプレーするものであり、前記複
数のスプレーノズルは、全体として、前記回転ヘッドお
よび分岐パイプの回転に伴い、前記ワークの表面にスプ
レーされた処理液をその中心部から周辺部に向けて流す
ように渦巻状に配列されていることを特徴とするもので
あるから、少ないスプレーノズル数でワークの全面に処
理液を供給することができ、しかも、ワークに供給され
た処理液は、順次、ワークの外周部に流されていくの
で、ワーク上に使用済みの処理液が滞留することがな
く、ワークに常に新しい処理液を供給することができ、
高速処理が可能となる。また、ワークに対して処理液が
垂直方向に供給されるので、プリント基板の銅箔エッチ
ングの場合には、サイドエッチングがなく導電パターン
の断面形状が安定して、高品質のプリント基板などの製
品が得られるという効果を奏する。
As described above, the present invention comprises a conveyor for conveying a plate-shaped work in a predetermined direction, and a spray device for spraying a treatment liquid onto the surface of the workpiece conveyed along the conveyor. The spray device includes a rotary head that is rotationally driven in a predetermined direction, a plurality of branch pipes that radially extend from the periphery of the rotary head, and a plurality of spray nozzles that are provided in each of the branch pipes. A spraying process liquid supplied to the branch pipe through the rotary head in a vertical direction from the spray nozzle toward the surface of the work, and the plurality of spray nozzles as a whole include the rotary head. And as the branch pipe rotates, the treatment liquid sprayed on the surface of the work is spirally arranged so as to flow from the central portion to the peripheral portion. Therefore, the treatment liquid can be supplied to the entire surface of the work with a small number of spray nozzles, and the treatment liquid supplied to the work sequentially flows to the outer peripheral portion of the work. As a result, the used processing liquid does not stay on the work and new processing liquid can be constantly supplied to the work.
High-speed processing becomes possible. In addition, since the processing liquid is supplied vertically to the work, in the case of copper foil etching of printed circuit boards, there is no side etching and the cross-sectional shape of the conductive pattern is stable, making it possible to produce high-quality printed circuit boards and other products. The effect is obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る実施形態のロータリー液処理装置
の概略正面図である。
FIG. 1 is a schematic front view of a rotary liquid processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】(a)は図1のロータリー液処理装置における
上部スプレー装置の下面図、(b)はそのスプレーノズ
ル配置説明図、(c)はスプレーノズルによる処理液の
スプレー径説明図である。
2A is a bottom view of an upper spray device in the rotary liquid processing apparatus of FIG. 1, FIG. 2B is an explanatory view of the spray nozzle arrangement, and FIG. 2C is an explanatory view of a spray diameter of the processing liquid by the spray nozzle. .

【図3】スプレーノズルの拡大正面図である。FIG. 3 is an enlarged front view of a spray nozzle.

【図4】本発明のロータリー液処理装置における上部ロ
ーラ機構の部分拡大平面図である。
FIG. 4 is a partially enlarged plan view of an upper roller mechanism in the rotary liquid processing apparatus of the present invention.

【図5】図4の上部ローラ機構における第1および第2
ローラ軸ユニットの分解斜視図である。
5 is a first and second upper roller mechanism of FIG.
It is an exploded perspective view of a roller shaft unit.

【図6】本発明のロータリー液処理装置における下部ロ
ーラ機構の部分拡大平面図である。
FIG. 6 is a partially enlarged plan view of a lower roller mechanism in the rotary liquid processing apparatus of the present invention.

【図7】図4の下部ローラ機構における第1および第2
ローラ軸ユニットの分解斜視図である。
7 is a first and second bottom roller mechanism of FIG.
It is an exploded perspective view of a roller shaft unit.

【図8】上下部ローラ機構の駆動部を除去した平面図で
ある。
FIG. 8 is a plan view in which a driving unit of the upper and lower roller mechanisms is removed.

【図9】上下部ローラ機構の駆動部を除去した正面図で
ある。
FIG. 9 is a front view of the upper and lower roller mechanisms from which a driving unit is removed.

【図10】上下部ローラ機構の正面図である。FIG. 10 is a front view of an upper and lower roller mechanism.

【図11】(a)は本発明の他の実施形態における上部
スプレー装置の下面図、(b)はスプレーノズルの配列
説明図、(c)はスプレーノズルによる処理液のスプレ
ー径説明図である。
11A is a bottom view of an upper spray device according to another embodiment of the present invention, FIG. 11B is an explanatory view of the arrangement of spray nozzles, and FIG. 11C is an explanatory view of the spray diameter of the processing liquid by the spray nozzles. .

【図12】本発明の他の実施形態におけるロータリー液
処理装置の概略正面図である。
FIG. 12 is a schematic front view of a rotary liquid processing apparatus according to another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,1a,1b,1c,100 ロータリー液処理装置 10,10A 上部スプレー装置 11,11a,11b,11c,61,61a,61
b,61c, 処理液供給管 12,62 回転体 13,63 分岐パイプ 14,64 スプレーノズル 17,67 駆動モータ 20,40 ローラ機構 21,22,41,42 ローラ軸ユニット 23,28,43,49 回転軸 24,29,44,50 ローラ 25,30,45,51 弾性摩擦部材 26,31,46,52 ピン 27,32 受動用の平歯車 47,53 受動用のねじ歯車 48,54 駆動用の平歯車 55 軸受部材 56 駆動軸 57,58 駆動用のねじ歯車
1, 1a, 1b, 1c, 100 Rotary liquid processing device 10, 10A Upper spray device 11, 11a, 11b, 11c, 61, 61a, 61
b, 61c, processing liquid supply pipe 12, 62 rotating body 13, 63 branch pipe 14, 64 spray nozzle 17, 67 drive motor 20, 40 roller mechanism 21, 22, 41, 42 roller shaft unit 23, 28, 43, 49 Rotating shafts 24, 29, 44, 50 Rollers 25, 30, 45, 51 Elastic friction members 26, 31, 46, 52 Pins 27, 32 Passive spur gears 47, 53 Passive screw gears 48, 54 Drive Spur gear 55 Bearing member 56 Drive shafts 57, 58 Drive screw gears

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成13年9月5日(2001.9.5)[Submission date] September 5, 2001 (2001.9.5)

【手続補正1】[Procedure Amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0038[Correction target item name] 0038

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0038】第2ローラ軸ユニット42は、回転軸49
に所定間隔で幅狭状の多数個のローラ50が取り付けら
れ、各ローラ50に前述と同様に、弾性摩擦部材51が
取り付けられているとともに、各ローラ50には軸方向
に複数本(図示例では本)のピン52が突設されてい
る。さらに、各回転軸49の一方端にはこの回転軸49
を後述する駆動用ねじ歯車によって回転される受動用の
ねじ歯車53が取り付けられており、他方端には前記上
部ローラ機構20の第2ローラ軸ユニット22の回転軸
28に取り付けられた受動用の平歯車32と噛み合い結
合する駆動用の平歯車54が取り付けられている。
The second roller shaft unit 42 includes a rotary shaft 49.
A large number of narrow rollers 50 are attached to the roller 50 at predetermined intervals, and the elastic friction member 51 is attached to each roller 50 in the same manner as described above. 6 pins 52 are protrudingly provided. Further, at one end of each rotary shaft 49, the rotary shaft 49
A passive screw gear 53 rotated by a driving screw gear described later is attached to the other end, and a passive screw gear 53 attached to the rotary shaft 28 of the second roller shaft unit 22 of the upper roller mechanism 20 is attached to the other end. A drive spur gear 54 that meshes with the spur gear 32 is mounted.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 3B201 AA02 AB16 BB24 BB33 BB43 BB92 4F033 AA14 CA01 DA05 EA05 NA01 4F035 AA04 CA02 CA05 CB03 CB13 CC01 CD08 5E339 AB00 BE13 BE16 GG02    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F term (reference) 3B201 AA02 AB16 BB24 BB33 BB43                       BB92                 4F033 AA14 CA01 DA05 EA05 NA01                 4F035 AA04 CA02 CA05 CB03 CB13                       CC01 CD08                 5E339 AB00 BE13 BE16 GG02

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】板状のワークを所定方向に搬送する搬送コ
ンベアと、前記搬送コンベアに沿って搬送されるワーク
の表面に処理液をスプレーするスプレー装置とを備え、 前記スプレー装置は、所定方向に回転駆動される回転ヘ
ッドと、前記回転ヘッドの周囲から放射状に延びた複数
の分岐パイプと、前記各分岐パイプにそれぞれ設けられ
た複数のスプレーノズルとを備え、前記回転ヘッドを介
して前記分岐パイプに供給される処理液を前記スプレー
ノズルから前記ワークの表面に向けて垂直方向にスプレ
ーするものであり、 前記複数のスプレーノズルは、全体として、前記回転ヘ
ッドおよび分岐パイプの回転に伴い、前記ワークの表面
にスプレーされた処理液をその中心部から周辺部に向け
て流すように渦巻状に配列されていることを特徴とする
ロータリー液処理装置。
1. A transport conveyor for transporting a plate-shaped work in a predetermined direction, and a spray device for spraying a treatment liquid onto the surface of the work transported along the transport conveyor, wherein the spray device is in a predetermined direction. A rotary head driven to rotate, a plurality of branch pipes radially extending from the periphery of the rotary head, and a plurality of spray nozzles respectively provided in the respective branch pipes, and the branch is provided via the rotary head. A process liquid supplied to a pipe is sprayed in a vertical direction from the spray nozzle toward the surface of the work, and the plurality of spray nozzles as a whole are accompanied by the rotation of the rotary head and the branch pipe. It is characterized in that it is arranged in a spiral so that the treatment liquid sprayed on the surface of the work flows from the center to the periphery. That rotary fluid processing apparatus.
【請求項2】前記複数のスプレーノズルが、スプレー径
が異なる2種以上のスプレーノズルで構成されているこ
とを特徴とする請求項1に記載のロータリー液処理装
置。
2. The rotary liquid processing apparatus according to claim 1, wherein the plurality of spray nozzles are composed of two or more kinds of spray nozzles having different spray diameters.
【請求項3】前記各スプレーノズルのスプレー距離が8
0〜100mmの範囲内に設定されていることを特徴と
する請求項1または2に記載のロータリー液処理装置。
3. The spray distance of each spray nozzle is 8
The rotary liquid processing apparatus according to claim 1 or 2, wherein the rotary liquid processing apparatus is set within a range of 0 to 100 mm.
【請求項4】前記搬送コンベアは、相互間で前記ワーク
を挟持して搬送する上部ローラ機構と下部ローラ機構と
を備え、前記上部ローラ機構および下部ローラ機構のう
ち少なくとも一方は、第1の回転軸に所定間隔で装着さ
れた複数個の幅狭状のローラを有する第1のローラ軸ユ
ニットと、第2の回転軸に所定間隔で装着された複数個
の幅狭状のローラを有する第2のローラ軸ユニットとを
備え、かつ、前記第1のローラ軸ユニットのローラと、
前記第2のローラ軸ユニットのローラとが、相互に接触
しない状態で、前記ワークの搬送方向にオーバーラップ
していることを特徴とする請求項1から3のいずれかに
記載のロータリー液処理装置。
4. The transport conveyor comprises an upper roller mechanism and a lower roller mechanism for sandwiching and transporting the work between them, and at least one of the upper roller mechanism and the lower roller mechanism has a first rotation mechanism. A first roller shaft unit having a plurality of narrow rollers mounted on a shaft at predetermined intervals, and a second roller shaft unit having a plurality of narrow rollers mounted on a second rotating shaft at predetermined intervals. And a roller of the first roller shaft unit,
4. The rotary liquid processing apparatus according to claim 1, wherein the rollers of the second roller shaft unit overlap each other in the conveyance direction of the work without contacting each other. .
【請求項5】前記スプレー装置が、前記搬送コンベアを
挟んで、上下方向に相対向して配設されていることを特
徴とする請求項1から4のいずれかに記載のロータリー
液処理装置。
5. The rotary liquid treatment apparatus according to claim 1, wherein the spray devices are arranged so as to face each other in the vertical direction with the transport conveyor interposed therebetween.
【請求項6】前記ワークがプリント基板であり、前記処
理液がエッチング液であることを特徴とする請求項1か
ら5のいずれかに記載のロータリー液処理装置。
6. The rotary liquid processing apparatus according to claim 1, wherein the work is a printed circuit board, and the processing liquid is an etching liquid.
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005305566A (en) * 2004-04-19 2005-11-04 Watanabegumi:Kk Concrete chipping machine
JP2006205048A (en) * 2005-01-27 2006-08-10 Kubota Matsushitadenko Exterior Works Ltd Method of coating base material
KR100649325B1 (en) 2005-12-28 2006-11-27 안용욱 Automatic washing device which uses the air-pressure
KR100981861B1 (en) 2008-06-30 2010-09-13 임미숙 Rotation type spray device
JP2011230075A (en) * 2010-04-28 2011-11-17 Taikisha Ltd Coating gun and coating method using the same
CN112547637A (en) * 2020-11-19 2021-03-26 重庆电子工程职业学院 PCBA belt cleaning device
CN113286664A (en) * 2019-01-10 2021-08-20 埃尔雷特股份有限公司 Industrial rotary chamber for leather spraying treatment
JP2022522036A (en) * 2020-03-17 2022-04-13 蘇州汪永亨絲綢科技文化有限公司 Surface coating equipment for processing Song Nishiki spun fabric

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005305566A (en) * 2004-04-19 2005-11-04 Watanabegumi:Kk Concrete chipping machine
JP4510502B2 (en) * 2004-04-19 2010-07-28 株式会社佐藤渡辺 Concrete chiseling machine
JP2006205048A (en) * 2005-01-27 2006-08-10 Kubota Matsushitadenko Exterior Works Ltd Method of coating base material
KR100649325B1 (en) 2005-12-28 2006-11-27 안용욱 Automatic washing device which uses the air-pressure
KR100981861B1 (en) 2008-06-30 2010-09-13 임미숙 Rotation type spray device
JP2011230075A (en) * 2010-04-28 2011-11-17 Taikisha Ltd Coating gun and coating method using the same
CN113286664A (en) * 2019-01-10 2021-08-20 埃尔雷特股份有限公司 Industrial rotary chamber for leather spraying treatment
CN113286664B (en) * 2019-01-10 2023-03-14 埃尔雷特股份有限公司 Industrial rotary chamber for leather spraying treatment
JP2022522036A (en) * 2020-03-17 2022-04-13 蘇州汪永亨絲綢科技文化有限公司 Surface coating equipment for processing Song Nishiki spun fabric
JP7098845B2 (en) 2020-03-17 2022-07-11 蘇州汪永亨絲綢科技文化有限公司 Surface coating equipment for processing Song Nishiki spun fabric
CN112547637A (en) * 2020-11-19 2021-03-26 重庆电子工程职业学院 PCBA belt cleaning device

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