KR101846617B1 - 도전성 중합체용 고분자 화합물 및 그의 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 유기 용제에 가용이며, 연료 전지용이나 도전성 재료용의 도펀트로서 적절하게 사용되는 특정한 초강산의 술포기를 갖는 도전성 중합체용 고분자 화합물을 제공한다.
본 발명은 하기 화학식 (1)로 표시되는 반복 단위 a를 1종 이상 포함하는 도전성 중합체용 고분자 화합물이며, 술폰산 잔기의 리튬염, 나트륨염, 칼륨염 또는 질소 화합물염의 이온 교환에 의해 합성된 것이며, 중량 평균 분자량이 1,000 내지 500,000의 범위의 것인 도전성 중합체용 고분자 화합물을 제공한다.

Description

도전성 중합체용 고분자 화합물 및 그의 제조 방법{POLYMER COMPOUND FOR A CONDUCTIVE POLYMER AND METHOD FOR PRODUCING SAME}
본 발명은 도전성 중합체용 고분자 화합물 및 그의 제조 방법에 관한 것이다.
연료 전지나 도전성 고분자의 도펀트 중합체로서 술포기 함유 중합체가 사용되고 있다. 연료 전지용으로서는 등록 상표 나피온으로 대표되는 비닐퍼플루오로알킬에테르술폰산, 도전성 고분자용의 도펀트 중합체로서는, 비닐술폰산이나 스티렌술폰산의 중합체가 널리 사용되고 있다(특허문헌 1).
비닐퍼플루오로알킬에테르술폰산은 화학적으로는 안정성이 높고 내구성이 우수하지만 유리 전이점이 낮아, 이것을 사용한 연료 전지가 고온에 노출되면 중합체가 열 플로우를 일으켜 이온 전도성이 저하되는 문제가 있다. 이온 전도성을 높이기 위해서는, α위치가 불소화된 술포기를 갖는 초강산 중합체가 유효하지만, 이에 수반하여 유리 전이점이 높고 화학적으로도 안정한 재료는 발견되지 않고 있다.
또한, 폴리티오펜, 폴리아닐린, 폴리피롤 등의 공액 이중 결합을 갖는 도전성 고분자는, 이것 자체는 도전성을 나타내지 않지만 술폰산 등의 강산을 도핑함으로써 도전성이 발현된다. 도펀트로서는 폴리스티렌술폰산(PSS)이 가장 잘 사용되고 있다. 이것은, PSS의 도핑에 의해 도전율이 가장 높아지기 때문이다.
PSS는 수용성 수지이며, 유기 용제에는 거의 용해되지 않는다. 따라서, PSS를 도펀트로 한 폴리티오펜도 수용성이다.
PSS를 도펀트로 한 폴리티오펜은 고도전성 또한 고투명이기 때문에 ITO(인듐-주석 산화물)로 바뀌는 유기 EL 조명용의 도전막으로서 기대되고 있다. 그러나 유기 EL의 발광체는, 수분에 의해 화학 변화되어 발광하지 않게 된다. 즉, 수용성 수지의 도전막을 유기 EL에 사용하면, 수지가 물을 포함하기 때문에 유기 EL의 발광 수명이 짧아진다는 문제가 있다.
일본 특허 공개 제2008-146913호 공보
본 발명은 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 유기 용제에 가용이며, 연료 전지용이나 도전성 재료용의 도펀트로서 적절하게 사용되는 특정한 초강산의 술포기를 갖는 도전성 중합체용 고분자 화합물을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또한, 이러한 도전성 중합체용 고분자 화합물의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 과제를 해결하기 위하여, 본 발명에서는, 하기 화학식 (1)로 표시되는 반복 단위 a를 1종 이상 포함하는 도전성 중합체용 고분자 화합물이며,
술폰산 잔기의 리튬염, 나트륨염, 칼륨염 또는 질소 화합물염의 이온 교환에 의해 합성된 것이며, 중량 평균 분자량이 1,000 내지 500,000의 범위의 것인 도전성 중합체용 고분자 화합물을 제공한다.
Figure 112015068303594-pat00001
(화학식 중, R1은 수소 원자 또는 메틸기이며, R2는 단결합, 에스테르기, 또는 에테르기, 에스테르기 중 어느 하나 또는 이들 양쪽을 갖고 있을 수도 있는 탄소수 1 내지 12의 직쇄상, 분지상, 환상의 탄화수소기 중 어느 하나이며, R3은 탄소수 1 내지 4의 직쇄상, 분지상의 알킬렌기이며, R3 중의 수소 원자 중 1개 또는 2개가 불소 원자로 치환되어 있을 수도 있고, Z는 페닐렌기, 나프틸렌기, 에스테르기 중 어느 하나이며, Z가 페닐렌기인 경우, R2는 에테르기를 포함하지 않고, a는 0<a≤1.0임)
이러한 도전성 중합체용 고분자 화합물이면, 유기 용제에 가용이며, 연료 전지용이나 도전성 재료용의 도펀트로서 적절하게 사용되는 특정한 초강산의 술포기를 갖는 도전성 중합체용 고분자 화합물로 된다.
이때, 상기 도전성 중합체용 고분자 화합물이, 하기 화학식 (2)로 표시되는 반복 단위 b를 더 갖는 것임이 바람직하다.
Figure 112015068303594-pat00002
(화학식 중, b는 0<b<1.0임)
상기 반복 단위 a가, 폴리스티렌술폰산의 반복 단위 b와 공중합한 것이면, 도전성이 높은 도펀트 중합체로서 사용할 수 있다.
또한 이때, 상기 화학식 (1)로 표시되는 반복 단위 a가, 하기 화학식 (3-1) 내지 (3-4)로 표시되는 반복 단위 a1 내지 a4로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것임이 바람직하다.
Figure 112015068303594-pat00003
(화학식 중, R1, R3은 상기와 마찬가지이며, a1, a2, a3 및 a4는 0≤a1≤1.0, 0≤a2≤1.0, 0≤a3≤1.0, 0≤a4≤1.0, 또한 0<a1+a2+a3+a4≤1.0임)
이러한 반복 단위이면, 연료 전지용이나 도전성 재료용의 도펀트로서 더욱 적합한 것으로 된다.
또한 이때, 상기 술폰산 잔기의 리튬염, 나트륨염, 칼륨염 또는 질소 화합물염은, 하기 화학식 (4)로 표시되는 반복 단위를 포함하는 것임이 바람직하다.
Figure 112015068303594-pat00004
(화학식 중, R1, R2, R3, Z, a는 상기와 마찬가지이며, X는 리튬, 나트륨, 칼륨 또는 하기 화학식 (5)로 표시되는 질소 화합물임)
Figure 112015068303594-pat00005
(화학식 중, R101d, R101e, R101f, R101g는 각각 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 12의 직쇄상, 분지상 또는 환상의 알킬기, 알케닐기, 옥소알킬기 또는 옥소알케닐기, 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 또는 탄소수 7 내지 12의 아르알킬기 또는 아릴옥소알킬기를 나타내고, 이들 기의 수소 원자의 일부 또는 전부가 알콕시기에 의해 치환되어 있을 수도 있고, R101d와 R101e, R101d와 R101e와 R101f는 환을 형성할 수도 있고, 환을 형성하는 경우에는 R101d와 R101e 및 R101d와 R101e와 R101f는 탄소수 3 내지 10의 알킬렌기, 또는 식 중의 질소 원자를 환 중에 갖는 복소 방향족환을 나타냄)
이러한 반복 단위이면, 이온 교환에 의해 용이하게 상기 화학식 (1)로 표시되는 반복 단위 a로 변환된다.
또한, 본 발명에서는 하기 화학식 (1)로 표시되는 반복 단위 a를 포함하는 도전성 중합체용 고분자 화합물의 제조 방법이며,
술폰산 잔기와 리튬, 나트륨, 칼륨 또는 질소 화합물을 포함하는 염의 구조를 갖는 단량체를 사용하여 중합 반응을 행하고, 중합 후, 이온 교환에 의해, 상기 술폰산 잔기와 리튬, 나트륨, 칼륨 또는 질소 화합물을 포함하는 염의 구조를 술포기로 변환하는 도전성 중합체용 고분자 화합물의 제조 방법을 제공한다.
Figure 112015068303594-pat00006
(화학식 중, R1은 수소 원자 또는 메틸기이며, R2는 단결합, 에스테르기, 또는 에테르기, 에스테르기 중 어느 하나 또는 이들 양쪽을 갖고 있을 수도 있는 탄소수 1 내지 12의 직쇄상, 분지상, 환상의 탄화수소기 중 어느 하나이며, R3은 탄소수 1 내지 4의 직쇄상, 분지상의 알킬렌기이며, R3 중의 수소 원자 중 1개 또는 2개가 불소 원자로 치환되어 있을 수도 있고, Z는 페닐렌기, 나프틸렌기, 에스테르기 중 어느 하나이며, Z가 페닐렌기인 경우, R2는 에테르기를 포함하지 않고, a는 0<a≤1.0임)
이러한 제조 방법이면, 상기 화학식 (1)로 표시되는 반복 단위 a를 포함하는 도전성 중합체용 고분자 화합물을 용이하게 제조할 수 있다.
이상과 같이, 본 발명의 도전성 중합체용 고분자 화합물이면, 유기 용제에 가용이며, 연료 전지용이나 도전성 재료용의 도펀트로서 적절하게 사용되는 특정한 초강산의 술포기를 갖는 도전성 중합체용 고분자 화합물로 된다.
이 도전성 중합체용 고분자 화합물을 연료 전지에 사용함으로써, 고유전율의 연료 전지용 재료를 형성할 수 있다. 또한, 공액 이중 결합 중합체용의 도펀트로서 사용함으로써, 고투명, 고도전성이며 내구성이 높은 도전막을 형성하는 것이 가능해진다. 본 발명의 도전성 중합체용 고분자 화합물은, α위치가 불소화된 초강산의 술폰산을 갖고 있기 때문에, 강한 이온 결합에 의해 도펀트로서의 능력이 높고, 또한, 이온으로서의 안정성이 높은 것으로 된다. 그로 인해, 이것을 도전성 재료로서 사용한 경우에 높은 도전성과 안정성을 나타낸다. 또한, 유기 용제에 대한 용해성이 우수하기 때문에, 유기 EL 조명용의 도전막에 사용함으로써 유기 EL 소자의 열화를 방지할 수 있다.
또한, 본 발명의 제조 방법이면, 이러한 본 발명의 도전성 중합체용 고분자 화합물을 용이하게 제조할 수 있다.
상술한 바와 같이, 유기 용제에 가용이며, 연료 전지용이나 도전성 재료용의 도펀트로서 적절하게 사용되는 특정한 초강산의 술포기를 갖는 도전성 중합체용 고분자 화합물의 개발이 요구되고 있었다.
본 발명자들은, 유기 EL 소자의 열화를 초래하는 물을 함유하는 수용성의 도전성 중합체를, 수분 함유율이 매우 적은 유기 용제 가용형으로 하여 소자 열화를 방지하기 위하여, 수용성이고 유기 용제에 대한 용해성이 부족한 도펀트인 폴리스티렌술폰산으로부터, 유기 용제에 대한 용해성이 높은 도펀트용의 중합체의 개발을 시도했다. 유기 용제에 대한 용해성을 높이기 위해서는 장쇄 알킬기나 불소 도입이 효과적인 점에서 불소의 도입을 검토하고, 특히 α위치가 불소화된 술포기를 갖는 반복 단위를 포함하는 고분자 화합물이면 상술한 과제를 달성할 수 있는 것을 발견하여, 본 발명을 완성시켰다.
즉, 본 발명은 하기 화학식 (1)로 표시되는 반복 단위 a를 1종 이상 포함하는 도전성 중합체용 고분자 화합물이며,
술폰산 잔기의 리튬염, 나트륨염, 칼륨염 또는 질소 화합물염의 이온 교환에 의해 합성된 것이며, 중량 평균 분자량이 1,000 내지 500,000의 범위의 것인 도전성 중합체용 고분자 화합물이다.
Figure 112015068303594-pat00007
(화학식 중, R1은 수소 원자 또는 메틸기이며, R2는 단결합, 에스테르기, 또는 에테르기, 에스테르기 중 어느 하나 또는 이들 양쪽을 갖고 있을 수도 있는 탄소수 1 내지 12의 직쇄상, 분지상, 환상의 탄화수소기 중 어느 하나이며, R3은 탄소수 1 내지 4의 직쇄상, 분지상의 알킬렌기이며, R3 중의 수소 원자 중 1개 또는 2개가 불소 원자로 치환되어 있을 수도 있고, Z는 페닐렌기, 나프틸렌기, 에스테르기 중 어느 하나이며, Z가 페닐렌기인 경우, R2는 에테르기를 포함하지 않고, a는 0<a≤1.0임)
이하, 본 발명에 대하여 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 도전성 중합체용 고분자 화합물은, 하기 화학식 (1)로 표시되는 반복 단위 a를 1종 이상 포함하는 중합체이다. 본 발명의 도전성 중합체용 고분자 화합물은, 화학식 (1)로 표시되는 반복 단위 a를 함유함으로써, 특히 투명성이 높은 것으로 된다.
Figure 112015068303594-pat00008
(화학식 중, R1은 수소 원자 또는 메틸기이며, R2는 단결합, 에스테르기, 또는 에테르기, 에스테르기 중 어느 하나 또는 이들 양쪽을 갖고 있을 수도 있는 탄소수 1 내지 12의 직쇄상, 분지상, 환상의 탄화수소기 중 어느 하나이며, R3은 탄소수 1 내지 4의 직쇄상, 분지상의 알킬렌기이며, R3 중의 수소 원자 중 1개 또는 2개가 불소 원자로 치환되어 있을 수도 있고, Z는 페닐렌기, 나프틸렌기, 에스테르기 중 어느 하나이며, Z가 페닐렌기인 경우, R2는 에테르기를 포함하지 않고, a는 0<a≤1.0임)
화학식 (1) 중, R1은 수소 원자 또는 메틸기이다.
R2는 단결합, 에스테르기, 또는 에테르기, 에스테르기 중 어느 하나 또는 이들 양쪽을 갖고 있을 수도 있는 탄소수 1 내지 12의 직쇄상, 분지상, 환상의 탄화수소기 중 어느 하나이며, 탄화수소기로서는, 예를 들어 알킬렌기, 아릴렌기, 알케닐렌기 등을 들 수 있다.
R3은 탄소수 1 내지 4의 직쇄상, 분지상의 알킬렌기이며, R3 중의 수소 원자 중 1개 또는 2개가 불소 원자로 치환되어 있을 수도 있다.
Z는 페닐렌기, 나프틸렌기, 에스테르기 중 어느 하나이다. Z가 페닐렌기인 경우, R2는 에테르기를 포함하지 않는다.
a는 0<a≤1.0이다.
또한, 상기 화학식 (1)로 표시되는 반복 단위 a가, 하기 화학식 (3-1) 내지 (3-4)로 표시되는 반복 단위 a1 내지 a4로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것임이 바람직하다.
Figure 112015068303594-pat00009
(화학식 중, R1, R3은 상기와 마찬가지이며, a1, a2, a3 및 a4는 0≤a1≤1.0, 0≤a2≤1.0, 0≤a3≤1.0, 0≤a4≤1.0, 또한 0<a1+a2+a3+a4≤1.0임)
이러한 반복 단위이면, 연료 전지용이나 도전성 재료용의 도펀트로서 더욱 적합한 것으로 된다.
또한, 본 발명의 도전성 중합체용 고분자 화합물은, 하기 화학식 (2)로 표시되는 반복 단위 b를 더 갖는 것임이 바람직하다. 상기 반복 단위 a가, 폴리스티렌술폰산의 반복 단위 b와 공중합한 것이면, 도전성이 높은 도펀트 중합체로서 사용할 수 있다.
Figure 112015068303594-pat00010
(화학식 중, b는 0<b<1.0임)
또한, 후술하는 바와 같이, 본 발명의 도전성 중합체용 고분자 화합물은 반복 단위 a, 반복 단위 b 이외의 반복 단위 c를 갖고 있을 수도 있다.
또한, 본 발명의 도전성 중합체용 고분자 화합물은 술폰산 잔기의 리튬염, 나트륨염, 칼륨염 또는 질소 화합물염의 이온 교환에 의해 합성된 것이다.
이 술폰산 잔기의 리튬염, 나트륨염, 칼륨염 또는 질소 화합물염은, 하기 화학식 (4)로 표시되는 반복 단위를 포함하는 것임이 바람직하다.
Figure 112015068303594-pat00011
(화학식 중, R1, R2, R3, Z, a는 상기와 마찬가지이며, X는 리튬, 나트륨, 칼륨 또는 하기 화학식 (5)로 표시되는 질소 화합물임)
Figure 112015068303594-pat00012
(화학식 중, R101d, R101e, R101f, R101g는 각각 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 12의 직쇄상, 분지상 또는 환상의 알킬기, 알케닐기, 옥소알킬기 또는 옥소알케닐기, 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 또는 탄소수 7 내지 12의 아르알킬기 또는 아릴옥소알킬기를 나타내고, 이들 기의 수소 원자의 일부 또는 전부가 알콕시기에 의해 치환되어 있을 수도 있고, R101d와 R101e, R101d와 R101e와 R101f는 환을 형성할 수도 있고, 환을 형성하는 경우에는 R101d와 R101e 및 R101d와 R101e와 R101f는 탄소수 3 내지 10의 알킬렌기, 또는 식 중의 질소 원자를 환 중에 갖는 복소 방향족환을 나타냄)
이러한 반복 단위이면, 이온 교환에 의해 용이하게 상기 화학식 (1)로 표시되는 반복 단위 a로 변환되기 때문에, 바람직하다.
또한, 본 발명의 도전성 중합체용 고분자 화합물은, 중량 평균 분자량이 1,000 내지 500,000, 바람직하게는 2,000 내지 200,000의 범위의 것이다. 중량 평균 분자량이 1,000 미만에서는, 내열성이 떨어지는 것으로 된다. 한편, 중량 평균 분자량이 500,000을 초과하면, 점도가 상승하여, 작업성이 악화되어, 유기 용제나 물에 대한 용해성이 저하된다.
또한, 중량 평균 분자량(Mw)은, 용제로서 물, 디메틸포름아미드(DMF), 테트라히드로푸란(THF)을 사용한 겔 투과 크로마토그래피(GPC)에 의한 폴리스티렌 환산 측정값이다.
상술한 바와 같이 본 발명의 도전성 중합체용 고분자 화합물이면, 유기 용제에 가용이며, 연료 전지용이나 도전성 재료용의 도펀트로서 적절하게 사용되는 특정한 초강산의 술포기를 갖는 도전성 중합체용 고분자 화합물로 된다.
또한, 본 발명에서는 이러한 본 발명의 도전성 중합체용 고분자 화합물을 제조하는 방법을 제공한다.
즉, 본 발명의 제조 방법은, 하기 화학식 (1)로 표시되는 반복 단위 a를 포함하는 도전성 중합체용 고분자 화합물의 제조 방법이며,
술폰산 잔기와 리튬, 나트륨, 칼륨 또는 질소 화합물을 포함하는 염의 구조를 갖는 단량체를 사용하여 중합 반응을 행하고, 중합 후, 이온 교환에 의해, 상기 술폰산 잔기와 리튬, 나트륨, 칼륨 또는 질소 화합물을 포함하는 염의 구조를 술포기로 변환하는 도전성 중합체용 고분자 화합물의 제조 방법이다.
Figure 112015068303594-pat00013
(화학식 중, R1은 수소 원자 또는 메틸기이며, R2는 단결합, 에스테르기, 또는 에테르기, 에스테르기 중 어느 하나 또는 이들 양쪽을 갖고 있을 수도 있는 탄소수 1 내지 12의 직쇄상, 분지상, 환상의 탄화수소기 중 어느 하나이며, R3은 탄소수 1 내지 4의 직쇄상, 분지상의 알킬렌기이며, R3 중의 수소 원자 중 1개 또는 2개가 불소 원자로 치환되어 있을 수도 있고, Z는 페닐렌기, 나프틸렌기, 에스테르기 중 어느 하나이며, Z가 페닐렌기인 경우, R2는 에테르기를 포함하지 않고, a는 0<a≤1.0임)
본 발명의 제조 방법에 사용되는 술폰산 잔기와 리튬, 나트륨, 칼륨 또는 질소 화합물을 포함하는 염의 구조를 갖고, 반복 단위 a를 얻기 위한 단량체로서는, 구체적으로는 하기의 것을 예시할 수 있다.
Figure 112015068303594-pat00014
Figure 112015068303594-pat00015
Figure 112015068303594-pat00016
(화학식 중, R1은 상기와 마찬가지이며, X는 리튬, 나트륨, 칼륨 또는 질소 화합물임)
또한, 상술한 바와 같이 화학식 (1)로 표시되는 반복 단위 a로서는, 상술한 화학식 (3-1) 내지 (3-4)로 표시되는 반복 단위 a1 내지 a4로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것이 바람직하다. 즉, 상기 예시한 단량체 중, 반복 단위 a1 내지 a4를 얻기 위한 단량체가 특히 바람직하다.
또한, 상술한 바와 같이, 본 발명의 도전성 중합체용 고분자 화합물로서는, 화학식 (2)로 표시되는 반복 단위 b를 갖는 것이 바람직하고, 이러한 반복 단위 b를 얻기 위한 단량체로서는, 구체적으로는 하기의 것을 예시할 수 있다.
Figure 112015068303594-pat00017
(화학식 중, X2는 수소 원자, 리튬, 나트륨, 칼륨, 질소 화합물 또는 술포늄 화합물임)
상기 X, X2가 질소 화합물인 경우로서는, 하기 화학식 (5)로 표시되는 화합물을 들 수 있다.
Figure 112015068303594-pat00018
(화학식 중, R101d, R101e, R101f, R101g는 각각 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 12의 직쇄상, 분지상 또는 환상의 알킬기, 알케닐기, 옥소알킬기 또는 옥소알케닐기, 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 또는 탄소수 7 내지 12의 아르알킬기 또는 아릴옥소알킬기를 나타내고, 이들 기의 수소 원자의 일부 또는 전부가 알콕시기에 의해 치환되어 있을 수도 있고, R101d와 R101e, R101d와 R101e와 R101f는 환을 형성할 수도 있고, 환을 형성하는 경우에는 R101d와 R101e 및 R101d와 R101e와 R101f는 탄소수 3 내지 10의 알킬렌기, 또는 식 중의 질소 원자를 환 중에 갖는 복소 방향족환을 나타냄)
또한, 상술한 바와 같이, 본 발명의 도전성 중합체용 고분자 화합물은 반복 단위 a, 반복 단위 b 이외의 반복 단위 c를 갖고 있을 수도 있고, 이 반복 단위 c로서는, 스티렌계, 비닐나프탈렌계, 비닐실란계, 아세나프틸렌, 인덴, 비닐카르바졸 등을 들 수 있다.
반복 단위 c를 얻기 위한 단량체로서는, 구체적으로는 하기의 것을 예시할 수 있다.
Figure 112015068303594-pat00019
Figure 112015068303594-pat00020
Figure 112015068303594-pat00021
Figure 112015068303594-pat00022
본 발명의 도전성 중합체용 고분자 화합물을 합성하는 방법으로서는, 예를 들어 상술한 단량체 중 원하는 단량체를, 용제 중, 라디칼 중합 개시제를 첨가하여 가열 중합을 행함으로써, 공중합체의 고분자 화합물을 얻는 방법을 들 수 있다.
중합 시에 사용하는 용제로서는 물, 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소프로필알코올, 메톡시에탄올, 에톡시에탄올, n-부탄올, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 글리세린, 디에틸렌글리콜, 디메틸술포아미드, 디메틸아세트아미드, 아세톤, 디메틸술폭시드, N-메틸피롤리돈, 톨루엔, 벤젠, 테트라히드로푸란, 디에틸에테르, 디옥산, 시클로헥산, 시클로펜탄, 메틸에틸케톤, γ-부티로락톤 등을 예시할 수 있다.
라디칼 중합 개시제로서는, 디-t-부틸퍼옥시드, 디쿠밀퍼옥시드, t-부틸쿠밀퍼옥시드, 벤조일퍼옥시드, 디라우릴퍼옥시드, 쿠멘히드로퍼옥시드, t-부틸히드로퍼옥시드, t-부틸퍼옥시이소부티레이트, 과황산칼륨, 과황산암모늄, 과산화수소수, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴(AIBN), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴), 디메틸 2,2-아조비스(2-메틸프로피오네이트), 라우로일퍼옥시드, 2,2'-아조비스(2-아미디노프로판)이염산염, 또는 4,4'-아조비스(4-시아노발레르산)의 알칼리 금속염 또는 암모늄염 등을 예시할 수 있다.
반응 온도는, 바람직하게는 50 내지 80℃이고, 반응 시간은 바람직하게는 2 내지 100시간, 보다 바람직하게는 5 내지 20시간이다.
본 발명의 도전성 중합체용 고분자 화합물에 있어서, 화학식 (1)로 표시되는 반복 단위 a로 되는 단량체는 1종류일 수도 있고 2종류 이상의 조합일 수도 있지만, 중합성을 높이기 위해서는 메타크릴 타입과 스티렌 타입의 단량체를 조합하는 것이 바람직하다.
또한, 반복 단위 a를 형성하는 2종류 이상의 단량체가 랜덤하게 공중합되어 있을 수도 있고, 각각이 블록으로 공중합되어 있을 수도 있다. 블록공중합 중합체(블록 공중합체)를 도전막으로 한 경우에는, 2종류 이상의 반복 단위 a를 포함하는 반복 단위 부분끼리 응집되어 해도 구조를 형성함으로써 도전성이 향상되는 장점이 기대된다.
또한, 반복 단위 a 내지 c를 얻기 위한 단량체가 랜덤하게 공중합되어 있을 수도 있고, 각각이 블록으로 공중합되어 있을 수도 있다. 이 경우도, 상술한 반복 단위 a의 경우와 마찬가지로, 블록 공중합체로 함으로써 도전율이 향상되는 장점이 기대된다.
라디칼 중합으로 랜덤 공중합을 행하는 경우는, 공중합을 행하는 단량체나 라디칼 중합 개시제를 혼합하여 가열에 의해 중합을 행하는 방법이 일반적이다. 제1 단량체와 라디칼 중합 개시제 존재 하에서 중합을 개시하고, 후에 제2 단량체를 첨가한 경우는, 중합체 분자의 한쪽측이 제1 단량체가 중합한 구조이고, 다른 한쪽이 제2 단량체가 중합한 구조로 된다. 그러나 이 경우, 중간 부분에는 제1과 제2 단량체의 반복 단위가 혼재되어 있어, 블록 공중합체와는 형태가 상이하다. 라디칼 중합으로 블록 공중합체를 형성하기 위해서는, 리빙 라디칼 중합이 바람직하게 사용된다.
RAFT 중합(가역적 첨가 분절 쇄 이동 중합; Reversible Addition Fragmentation chain Transfer polymerization)이라고 불리는 리빙 라디칼의 중합 방법은, 중합체 말단의 라디칼이 항상 살아 있으므로, 제1 단량체로 중합을 개시하여, 이들이 소비된 단계에서 제2 단량체를 첨가함으로써 제1과 제2 반복 단위에 의한 블록 공중합체를 형성하는 것이 가능하다. 또한, 제1 단량체로 중합을 개시하여, 이것이 소비된 시점에서 제2 단량체를 첨가하고, 계속하여 제3 단량체를 첨가한 경우는 트리블록 공중합체를 형성할 수도 있다.
RAFT 중합을 행한 경우는 분자량 분포(분산도)가 좁은 협분산 중합체가 형성되는 특징이 있고, 특히 단량체를 한번에 첨가하여 RAFT 중합을 행한 경우는, 보다 분자량 분포가 좁은 중합체를 형성할 수 있다.
또한, 본 발명의 도전성 중합체용 고분자 화합물에 있어서는, 분자량 분포(Mw/Mn)는 1.0 내지 2.0인 것이 바람직하고, 특히 1.0 내지 1.5로 협분산인 것이 바람직하다. 협분산이면, 고분자 화합물을 사용하여 합성한 도전성 중합체의 도전율이 불균일해지는 것을 방지할 수 있다.
RAFT 중합을 행하기 위해서는 연쇄 이동제가 필요하며, 구체적으로는 2-시아노-2-프로필벤조티오에이트, 4-시아노-4-페닐카르보노티오일티오펜탄산, 2-시아노-2-프로필도데실트리티오카르보네이트, 4-시아노-4-[(도데실술파닐티오카르보닐)술파닐]펜탄산, 2-(도데실티오카르보노티오일티오)-2-메틸프로판산, 시아노메틸도데실티오카르보네이트, 시아노메틸메틸(페닐)카르바모티오에이트, 비스(티오벤조일)디술피드, 비스(도데실술파닐티오카르보닐)디술피드를 들 수 있다. 이들 중에서는, 특히 2-시아노-2-프로필벤조티오에이트가 바람직하다.
여기서, 반복 단위 a 내지 c의 비율은, 0<a≤1.0, 0≤b<1.0 0≤c<1.0이며, 바람직하게는 0.1≤a≤0.9, 0.1≤b≤0.9, 0≤c≤0.8이며, 보다 바람직하게는 0.2≤a≤0.8, 0.2≤b≤0.8, 0≤c≤0.5이다.
또한, a+b+c=1인 것이 바람직하다.
또한, 반복 단위 a가 상술한 바와 같이 반복 단위 a1 내지 a4로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것인 경우 0≤a1≤1.0, 0≤a2≤1.0, 0≤a3≤1.0, 0≤a4≤1.0, 또한 0<a1+a2+a3+a4≤1.0인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0≤a1≤0.9, 0≤a2≤0.9, 0≤a3≤0.9, 0≤a4≤0.9, 또한 0.1≤a1+a2+a3+a4≤0.9이며, 더욱 바람직하게는 0≤a1≤0.8, 0≤a2≤0.8, 0≤a3≤0.8, 0≤a4≤0.8, 또한 0.2≤a1+a2+a3+a4≤0.8이다.
본 발명의 도전성 중합체용 고분자 화합물의 제조 방법에서는, 상술한 바와 같이 하여 단량체를 중합시킨 후, 이온 교환에 의해, 술폰산 잔기와 리튬, 나트륨, 칼륨 또는 질소 화합물을 포함하는 염의 구조를 술포기로 변환한다.
이때, 이온 교환은, 예를 들어 이온 교환 수지를 사용하여 행하면 된다.
상술한 바와 같은 방법으로, 상기 화학식 (1)로 표시되는 반복 단위 a를 포함하는 도전성 중합체용 고분자 화합물을 용이하게 제조할 수 있다.
이상과 같이, 본 발명의 도전성 중합체용 고분자 화합물이면, 유기 용제에 가용이며, 연료 전지용이나 도전성 재료용의 도펀트로서 적절하게 사용되는 특정한 초강산의 술포기를 갖는 도전성 중합체용 고분자 화합물로 된다.
이 도전성 중합체용 고분자 화합물을 연료 전지에 사용함으로써, 고유전율의 연료 전지용 재료를 형성할 수 있다. 또한, 공액 이중 결합 중합체용의 도펀트로서 사용함으로써, 고투명, 고도전성이며 내구성이 높은 도전막을 형성하는 것이 가능해진다. 또한, 유기 용제에 대한 용해성이 우수하기 때문에, 유기 EL 조명용의 도전막에 사용함으로써 유기 EL 소자의 열화를 방지할 수 있다.
또한, 본 발명의 제조 방법이면, 이러한 본 발명의 도전성 중합체용 고분자 화합물을 용이하게 제조할 수 있다.
<실시예>
이하, 실시예를 사용하여 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다.
이하에 실시예의 합성에서 사용한 단량체를 나타낸다.
Figure 112015068303594-pat00023
단량체 1: 나트륨1,1-디플루오로-2-(메타크릴로일옥시)에틸-1-술포네이트
단량체 2: 리튬1,1-디플루오로-2-(메타크릴로일옥시)에틸-1-술포네이트
단량체 3: 벤질트리메틸암모늄1,1-디플루오로-2-(아크릴로일옥시)에틸-1-술포네이트
단량체 4: 리튬1,1,2,2-테트라플루오로-4-(메타크릴로일옥시)부틸-1-술포네이트
단량체 5: 리튬1,1,2-트리플루오로-4-(메타크릴로일옥시)부틸-1-술포네이트
단량체 6: 벤질트리메틸암모늄1,1-디플루오로-2-(3-아크릴로일옥시-아다만탄-1-카르보닐옥시)-에틸-1-술포네이트
단량체 7: 벤질트리메틸암모늄1,1-디플루오로-2-(4-메타크릴로일옥시-벤젠-1-카르보닐옥시)-에틸-1-술포네이트
단량체 8: 피리디늄2-(4-비닐벤조일옥시)-1,1-디플루오로에틸-1-술포네이트
[실시예 1]
질소 분위기 하에서, 64℃에서 교반한 메탄올 37.5g에, 단량체 1 25.1g과 2,2'-아조비스(이소부티르산)디메틸 5.13g을 메탄올 112.5g에 녹인 용액을 4시간에 걸쳐 적하했다. 또한 64℃에서 4시간 교반했다. 실온까지 냉각한 후, 1,000g의 아세트산에틸에 격렬하게 교반하면서 적하했다. 발생한 고형물을 여과하여 취하고, 50℃에서 15시간 진공 건조하여, 백색 중합체 20.2g을 얻었다.
얻어진 백색 중합체를 순수 912g에 용해하고, 이온 교환 수지를 사용하여 나트륨염을 술포기로 변환했다. 얻어진 중합체를 19F, 1H-NMR 및 GPC 측정한 바, 이하의 분석 결과로 되었다.
중량 평균 분자량(Mw)=43,000
분자량 분포(Mw/Mn)=1.89
이 고분자 화합물을 (중합체 1)로 한다.
Figure 112015068303594-pat00024
[실시예 2]
질소 분위기 하에서, 64℃에서 교반한 메탄올 37.5g에, 단량체 2 11.8g과 스티렌술폰산리튬 9.5g과 2,2'-아조비스(이소부티르산)디메틸 5.13g을 메탄올 112.5g에 녹인 용액을 4시간에 걸쳐 적하했다. 또한 64℃에서 4시간 교반했다. 실온까지 냉각한 후, 1,000g의 아세트산에틸에 격렬하게 교반하면서 적하했다. 발생한 고형물을 여과하여 취하고, 50℃에서 15시간 진공 건조하여, 백색 중합체 19.3g을 얻었다.
얻어진 백색 중합체를 순수 912g에 용해하고, 이온 교환 수지를 사용하여 리튬염을 술포기로 변환했다. 얻어진 중합체를 19F, 1H-NMR 및 GPC 측정한 바, 이하의 분석 결과로 되었다.
공중합 조성비(몰비) 단량체 2:스티렌술폰산=1:1
중량 평균 분자량(Mw)=57,000
분자량 분포(Mw/Mn)=1.84
이 고분자 화합물을 (중합체 2)로 한다.
Figure 112015068303594-pat00025
[실시예 3]
질소 분위기 하에서, 64℃에서 교반한 메탄올 37.5g에, 단량체 3 36.5g과 2,2'-아조비스(이소부티르산)디메틸 5.13g을 메탄올 112.5g에 녹인 용액을 4시간에 걸쳐 적하했다. 또한 64℃에서 4시간 교반했다. 실온까지 냉각한 후, 1,000g의 아세트산에틸에 격렬하게 교반하면서 적하했다. 발생한 고형물을 여과하여 취하고, 50℃에서 15시간 진공 건조하여, 백색 중합체 29.5g을 얻었다.
얻어진 백색 중합체를 순수 912g에 용해하고, 이온 교환 수지를 사용하여 벤질트리메틸암모늄염을 술포기로 변환했다. 얻어진 중합체를 19F, 1H-NMR 및 GPC 측정한 바, 이하의 분석 결과로 되었다.
중량 평균 분자량(Mw)=36,000
분자량 분포(Mw/Mn)=1.65
이 고분자 화합물을 (중합체 3)으로 한다.
Figure 112015068303594-pat00026
[실시예 4]
질소 분위기 하에서, 64℃에서 교반한 메탄올 37.5g에, 단량체 4 15.0g과 스티렌술폰산리튬 9.5g과 2,2'-아조비스(이소부티르산)디메틸 2.82g을 메탄올 112.5g에 녹인 용액을 4시간에 걸쳐 적하했다. 또한 64℃에서 4시간 교반했다. 실온까지 냉각한 후, 1,000g의 아세트산에틸에 격렬하게 교반하면서 적하했다. 발생한 고형물을 여과하여 취하고, 50℃에서 15시간 진공 건조하여, 백색 중합체 21.5g을 얻었다.
얻어진 백색 중합체를 메탄올 421g에 용해하고, 이온 교환 수지를 사용하여 리튬염을 술포기로 변환했다. 얻어진 중합체를 19F, 1H-NMR 및 GPC 측정한 바, 이하의 분석 결과로 되었다.
공중합 조성비(몰비) 단량체 4:스티렌술폰산=1:1
중량 평균 분자량(Mw)=53,000
분자량 분포(Mw/Mn)=1.81
이 고분자 화합물을 (중합체 4)로 한다.
Figure 112015068303594-pat00027
[실시예 5]
질소 분위기 하에서, 64℃에서 교반한 메탄올 37.5g에, 단량체 5 14.1g과 스티렌술폰산리튬 9.5g과 2,2'-아조비스(이소부티르산)디메틸 2.82g을 메탄올 112.5g에 녹인 용액을 4시간에 걸쳐 적하했다. 또한 64℃에서 4시간 교반했다. 실온까지 냉각한 후, 1,000g의 아세트산에틸에 격렬하게 교반하면서 적하했다. 발생한 고형물을 여과하여 취하고, 50℃에서 15시간 진공 건조하여, 백색 중합체 21.5g을 얻었다.
얻어진 백색 중합체를 메탄올 421g에 용해하고, 이온 교환 수지를 사용하여 리튬염을 술포기로 변환했다. 얻어진 중합체를 19F, 1H-NMR 및 GPC 측정한 바, 이하의 분석 결과로 되었다.
공중합 조성비(몰비) 단량체 5:스티렌술폰산=1:1
중량 평균 분자량(Mw)=51,000
분자량 분포(Mw/Mn)=1.79
이 고분자 화합물을 (중합체 5)로 한다.
Figure 112015068303594-pat00028
[실시예 6]
질소 분위기 하에서, 64℃에서 교반한 메탄올 37.5g에, 단량체 6 16.3g과 스티렌술폰산리튬 13.3g과 2,2'-아조비스(이소부티르산)디메틸 4.19g을 메탄올 112.5g에 녹인 용액을 4시간에 걸쳐 적하했다. 또한 64℃에서 4시간 교반했다. 실온까지 냉각한 후, 1,000g의 아세트산에틸에 격렬하게 교반하면서 적하했다. 발생한 고형물을 여과하여 취하고, 50℃에서 15시간 진공 건조하여, 백색 중합체 26.0g을 얻었다.
얻어진 백색 중합체를 메탄올 396g에 용해하고, 이온 교환 수지를 사용하여 벤질트리메틸암모늄염과 리튬염을 술포기로 변환했다. 얻어진 중합체를 19F, 1H-NMR 및 GPC 측정한 바, 이하의 분석 결과로 되었다.
공중합 조성비(몰비) 단량체 6:스티렌술폰산=3:7
중량 평균 분자량(Mw)=39,300
분자량 분포(Mw/Mn)=1.91
이 고분자 화합물을 (중합체 6)으로 한다.
Figure 112015068303594-pat00029
[실시예 7]
질소 분위기 하에서, 64℃에서 교반한 메탄올 37.5g에, 단량체 7 15.0g과 스티렌술폰산리튬 13.3g과 2,2'-아조비스(이소부티르산)디메틸 4.19g을 메탄올 112.5g에 녹인 용액을 4시간에 걸쳐 적하했다. 또한 64℃에서 4시간 교반했다. 실온까지 냉각한 후, 1,000g의 아세트산에틸에 격렬하게 교반하면서 적하했다. 발생한 고형물을 여과하여 취하고, 50℃에서 15시간 진공 건조하여, 백색 중합체 24.9g을 얻었다.
얻어진 백색 중합체를 메탄올 396g에 용해하고, 이온 교환 수지를 사용하여 벤질트리메틸암모늄염과 리튬염을 술포기로 변환했다. 얻어진 중합체를 19F, 1H-NMR 및 GPC 측정한 바, 이하의 분석 결과로 되었다.
공중합 조성비(몰비) 단량체 7:스티렌술폰산=3:7
중량 평균 분자량(Mw)=41,100
분자량 분포(Mw/Mn)=1.98
이 고분자 화합물을 (중합체 7)로 한다.
Figure 112015068303594-pat00030
[실시예 8]
질소 분위기 하에서, 64℃에서 교반한 메탄올 37.5g에, 단량체 8 37.1g과 2,2'-아조비스(이소부티르산)디메틸 4.19g을 메탄올 112.5g에 녹인 용액을 4시간에 걸쳐 적하했다. 또한 64℃에서 4시간 교반했다. 실온까지 냉각한 후, 1,000g의 아세트산에틸에 격렬하게 교반하면서 적하했다. 발생한 고형물을 여과하여 취하고, 50℃에서 15시간 진공 건조하여, 백색 중합체 33.1g을 얻었다.
얻어진 백색 중합체를 메탄올 396g에 용해하고, 이온 교환 수지를 사용하여 피리디늄염을 술포기로 변환했다. 얻어진 중합체를 19F, 1H-NMR 및 GPC 측정한 바, 이하의 분석 결과로 되었다.
중량 평균 분자량(Mw)=36,000
분자량 분포(Mw/Mn)=1.69
이 고분자 화합물을 (중합체 8)로 한다.
Figure 112015068303594-pat00031
[실시예 9]
질소 분위기 하에서, 64℃에서 교반한 메탄올 37.5g에, 단량체 8 26.0g과 스티렌술폰산리튬 5.7g과 2,2'-아조비스(이소부티르산)디메틸 4.19g을 메탄올 112.5g에 녹인 용액을 4시간에 걸쳐 적하했다. 또한 64℃에서 4시간 교반했다. 실온까지 냉각한 후, 1,000g의 아세트산에틸에 격렬하게 교반하면서 적하했다. 발생한 고형물을 여과하여 취하고, 50℃에서 15시간 진공 건조하여, 백색 중합체 26.9g을 얻었다.
얻어진 백색 중합체를 메탄올 396g에 용해하고, 이온 교환 수지를 사용하여 피리디늄염과 리튬염을 술포기로 변환했다. 얻어진 중합체를 19F, 1H-NMR 및 GPC 측정한 바, 이하의 분석 결과로 되었다.
공중합 조성비(몰비) 단량체 8:스티렌술폰산=7:3
중량 평균 분자량(Mw)=41,000
분자량 분포(Mw/Mn)=1.67
이 고분자 화합물을 (중합체 9)로 한다.
Figure 112015068303594-pat00032
[실시예 10]
질소 분위기 하에서, 64℃에서 교반한 메탄올 37.5g에, 단량체 3 18.3g과 단량체 8 9.3g과 4-(1,1,1,3,3,3-헥사플루오로-2-프로판올)스티렌 12.3g과 2,2'-아조비스(이소부티르산)디메틸 4.19g을 메탄올 112.5g에 녹인 용액을 4시간에 걸쳐 적하했다. 또한 64℃에서 4시간 교반했다. 실온까지 냉각한 후, 1,000g의 아세트산에틸에 격렬하게 교반하면서 적하했다. 발생한 고형물을 여과하여 취하고, 50℃에서 15시간 진공 건조하여, 백색 중합체 31.7g을 얻었다.
얻어진 백색 중합체를 메탄올 396g에 용해하고, 이온 교환 수지를 사용하여 벤질트리메틸암모늄염과 피리디늄염을 술포기로 변환했다. 얻어진 중합체를 19F, 1H-NMR 및 GPC 측정한 바, 이하의 분석 결과로 되었다.
공중합 조성비(몰비) 단량체 3:단량체 8:4-(1,1,1,3,3,3-헥사플루오로-2-프로판올)스티렌=2:1:1
중량 평균 분자량(Mw)=39,800
분자량 분포(Mw/Mn)=1.77
이 고분자 화합물을 (중합체 10)으로 한다.
Figure 112015068303594-pat00033
[실시예 11]
하기 RAFT 중합에 의해 디블록 공중합체를 합성했다.
질소 분위기 하에서, 2-시아노-2-프로필벤조디티오에이트 0.42g, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.10g을 메탄올 37.5g에 용해시켜, 그 용액을 질소 분위기 하 64℃에서 3시간 교반했다. 그 용액에 단량체 8 18.6g을 메탄올 64.3g에 용해시킨 용액을 2시간에 적하했다. 계속하여 그 용액에 단량체 3 18.3g을 메탄올 48.2g에 용해시킨 용액을 2시간에 적하했다. 적하 종료 후, 64℃에서 4시간 교반했다. 실온까지 냉각한 후, 1,000g의 아세트산에틸에 격렬하게 교반하면서 적하했다. 발생한 고형물을 여과하여 취하고, 50℃에서 15시간 진공 건조하여, 적색 중합체 33.8g을 얻었다.
얻어진 적색 중합체를 메탄올 306g에 용해하고, 이온 교환 수지를 사용하여 피리디늄염과 벤질트리메틸암모늄염을 술포기로 변환했다. 얻어진 중합체를 19F, 1H-NMR 및 GPC 측정한 바, 이하의 분석 결과로 되었다.
공중합 조성비(몰비) 단량체 8:단량체 3=1:1
중량 평균 분자량(Mw)=29,000
분자량 분포(Mw/Mn)=1.33
이 고분자 화합물을 (중합체 11)로 한다.
Figure 112015068303594-pat00034
[실시예 12]
하기 RAFT 중합에 의해 트리블록 공중합체를 합성했다.
질소 분위기 하에서, 2-시아노-2-프로필벤조디티오에이트 0.42g, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.10g을 메탄올 37.5g에 용해시켜, 그 용액을 질소 분위기 하 64℃에서 3시간 교반했다. 그 용액에 단량체 8 9.3g을 메탄올 32.2g에 용해시킨 용액을 2시간에 적하했다. 계속하여 그 용액에 단량체 3 18.3g을 메탄올 48.2g에 용해시킨 용액을 2시간에 적하했다. 계속하여 그 용액에 단량체 8 9.3g을 메탄올 32.2g에 용해시킨 용액을 2시간에 적하했다. 적하 종료 후, 64℃에서 4시간 교반했다. 실온까지 냉각한 후, 1,000g의 아세트산에틸에 격렬하게 교반하면서 적하했다. 발생한 고형물을 여과하여 취하고, 50℃에서 15시간 진공 건조하여, 적색 중합체 30.9g을 얻었다.
얻어진 적색 중합체를 메탄올 306g에 용해하고, 이온 교환 수지를 사용하여 피리디늄염과 벤질트리메틸암모늄염을 술포기로 변환했다. 얻어진 중합체를 19F, 1H-NMR 및 GPC 측정한 바, 이하의 분석 결과로 되었다.
공중합 조성비(몰비) 단량체 8:단량체 3=1:1
중량 평균 분자량(Mw)=26,000
분자량 분포(Mw/Mn)=1.39
이 고분자 화합물을 (중합체 12)로 한다.
Figure 112015068303594-pat00035
상술한 바와 같이 하여 합성한 중합체 1 내지 12는, 물, 메탄올, 에탄올, 이소프로필알코올, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 테트라히드로푸란, 디메틸포름아미드에 가용이었다.
이와 같이 본 발명의 제조 방법이면, 유기 용제에 가용이며, 특정한 초강산의 술포기를 갖는 본 발명의 도전성 중합체용 고분자 화합물을 용이하게 제조할 수 있다.
또한, 본 발명은 상기 실시 형태에 한정되는 것은 아니다. 상기 실시 형태는 예시이며, 본 발명의 특허 청구 범위에 기재된 기술적 사상과 실질적으로 동일한 구성을 갖고, 마찬가지의 작용 효과를 발휘하는 것은, 어떠한 것이든 본 발명의 기술적 범위에 포함된다.

Claims (6)

  1. 하기 화학식 (3-2)로 표시되는 반복 단위 a2, 하기 화학식 (3-3)으로 표시되는 반복 단위 a3, 및 하기 화학식 (3-4)로 표시되는 반복 단위 a4로 이루어지는 군으로부터 선택되는 반복 단위 a를 1종 이상;
    하기 화학식 (2)로 표시되는 반복 단위 b; 및
    하기 화학식 (3-1)로 표시되는 반복 단위 a1
    을 포함하는 도전성 중합체용 고분자 화합물이며,
    술폰산 잔기의 리튬염, 나트륨염, 칼륨염 또는 질소 화합물염의 이온 교환에 의해 합성된 것이고, 중량 평균 분자량이 1,000 내지 500,000의 범위인, 도전성 중합체용 고분자 화합물.
    Figure 112018004300077-pat00045

    Figure 112018004300077-pat00046

    (화학식 중, R1은 수소 원자 또는 메틸기이고,
    R3은 탄소수 1 내지 4의 직쇄상 알킬렌기 또는 탄소수 2 내지 4의 분지상 알킬렌기이며, R3 중의 수소 원자 중 1개 또는 2개가 불소 원자로 치환되어 있을 수도 있고,
    a2, a3 및 a4는 각각 0≤a2＜1.0, 0≤a3＜1.0, 0≤a4＜1.0, 또한 0<a2+a3+a4＜1.0을 만족하는 수이고,
    b는 0<b<1.0을 만족하는 수이며,
    a1은 0<a1<1.0을 만족하는 수임)
  2. 제1항에 있어서, 상기 술폰산 잔기의 리튬염, 나트륨염, 칼륨염 또는 질소 화합물염은 하기 화학식 (4)로 표시되는 반복 단위로 이루어지는 것인, 도전성 중합체용 고분자 화합물.
    Figure 112018004300077-pat00039

    (화학식 중, R1은 수소 원자 또는 메틸기이고,
    R2는 단결합, 에스테르기, 또는 에테르기, 에스테르기 중 어느 하나 또는 이들 양쪽을 갖고 있을 수도 있는, 탄소수 1 내지 12의 직쇄상 탄화수소기, 탄소수 2 내지 12의 분지상 탄화수소기, 또는 탄소수 3 내지 12의 환상 탄화수소기이고,
    R3은 탄소수 1 내지 4의 직쇄상 알킬렌기 또는 탄소수 2 내지 4의 분지상 알킬렌기이며, R3 중의 수소 원자 중 1개 또는 2개가 불소 원자로 치환되어 있을 수도 있고,
    Z는 페닐렌기, 나프틸렌기, 에스테르기 중 어느 하나이며, Z가 페닐렌기인 경우, R2는 에테르기를 포함하지 않고,
    a는 0<a＜1.0을 만족하는 수이고,
    X는 리튬, 나트륨, 칼륨 또는 하기 화학식 (5)로 표시되는 질소 화합물임)
    Figure 112018004300077-pat00040

    (화학식 중, R101d, R101e, R101f, R101g는 각각 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 12의 직쇄상, 또는 탄소수 3 내지 12의 분지상 또는 환상의 알킬기, 알케닐기, 옥소알킬기 또는 옥소알케닐기, 탄소수 6 내지 20의 아릴기, 또는 탄소수 7 내지 12의 아르알킬기 또는 아릴옥소알킬기를 나타내고, 이들 기의 수소 원자의 일부 또는 전부가 알콕시기에 의해 치환되어 있을 수도 있고,
    R101d와 R101e 또는 R101d와 R101e와 R101f는 환을 형성할 수도 있고, 환을 형성하는 경우에는 R101d와 R101e 또는 R101d와 R101e와 R101f는 탄소수 3 내지 10의 알킬렌기, 또는 식 중의 질소 원자를 환 중에 갖는 복소 방향족환을 나타냄)
  3. 삭제
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