KR101841925B1 - 웨이퍼 내장 풉에 대한 지상 퍼지 스테이션 - Google Patents

웨이퍼 내장 풉에 대한 지상 퍼지 스테이션 Download PDF

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Abstract

본 발명은, 웨이퍼를 내장하는 풉(FOUP)을 수용하도록 형성된 수용 상체와, 상기 풉이 상기 수용 상체 내로 투입되거나 상기 수용 상체에서 인출될 때 상기 수용 상체를 개폐하도록 조작되는 도어를 구비하는 프레임; 및 상기 수용 상체에 투입된 상기 풉에 대해 상기 웨이퍼의 퍼지를 위한 퍼지 가스를 제공하도록 구성되는 퍼지 유닛을 포함하고, 상기 프레임은, 상기 수용 상체의 하측에 위치하여 바닥에 지지되며, 상기 퍼지 유닛을 수용하는 수용 하체를 더 포함하는, 웨이퍼 내장 풉에 대한 지상 퍼지 스테이션을 제공한다.

Description

웨이퍼 내장 풉에 대한 지상 퍼지 스테이션{GROUND FURGING STATION FOR WAFER ACCOMODATING FOUP}
본 발명은 웨이퍼 내장 풉에 대한 지상 퍼지 스테이션에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체 제조 공정에서는 웨이퍼를 생산하고, 생산된 웨이퍼를 다음 단계로 이송하여 반도체 패키지를 제조하게 된다.
이때, 생산된 웨이퍼는 바로 다음 단계에 사용되지 못하고 일정 시간 대기한 후에 필요에 따라 순차적으로 다음 단계로 보내질 수 있다. 이러한 대기 과정에서 웨이퍼의 표면이 산화되거나 표면의 정전기에 의해 대전되어, 웨이퍼의 결함 또는 불량이 발생하는 문제가 있다.
또한, 웨이퍼는 주로 천정에 설치된 주행대차를 통해 이동되므로, 천정에 설치된 보관 장치에는 대기 중에 웨이퍼에 불활성 가스를 주입하여 표면 산화를 막기도 한다. 그러나, 이는 웨이퍼의 대전 상태를 해소하지는 못한다. 나아가, 웨이퍼에 대한 분석 등을 위해서 지상으로 내려와서 다시 천정으로 올라가기 전에 대기 상태인 웨이퍼에 대해서는 불활성 가스의 주입 자체도 안 되고 있는 실정이다.
본 발명의 일 목적은, 지상으로 내려온 웨이퍼에 대해서도 퍼지 가스를 주입할 수 있도록 하는, 웨이퍼 내장 풉에 대한 지상 퍼지 스테이션을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 일 목적은, 웨이퍼에 대한 퍼지 가스가 웨이퍼의 표면 산화 방지뿐만 아니라 대전 상태 해소까지 수행할 수 있도록 하는, 웨이퍼 내장 풉에 대한 지상 퍼지 스테이션을 제공하는 것이다.
상기한 과제를 실현하기 위한 본 발명의 일 측면에 따른 웨이퍼 내장 풉에 대한 지상 퍼지 스테이션은, 웨이퍼를 내장하는 풉(FOUP)을 수용하도록 형성되며 상기 풉을 지지하는 지지판을 구비하는 수용 상체와, 상기 풉이 상기 수용 상체 내로 투입되거나 상기 수용 상체에서 인출될 때 상기 수용 상체를 개폐하도록 조작되는 도어를 구비하는 프레임; 및 상기 수용 상체에 투입된 상기 풉에 대해 상기 웨이퍼의 퍼지를 위한 퍼지 가스를 제공하도록 구성되는 퍼지 유닛을 포함하고, 상기 프레임은, 상기 수용 상체의 하측에 위치하여 바닥에 지지되며, 상기 퍼지 유닛을 수용하는 수용 하체를 더 포함할 수 있다.
여기서, 상기 퍼지 유닛은, 상기 지지판에 상기 풉을 향해 노출되도록 설치되며, 상기 풉의 유입 포트에 접속되는 공급 노즐; 및 상기 공급 노즐에 연통되는 가스 공급 유로에 상기 공급 노즐 전에 위치하도록 설치되어, 상기 공급 노즐 및 상기 유입 포트를 통해 상기 풉 내로 공급되는 상기 퍼지 가스를 인라인 방식으로 이온화하는 인라인 이온화기를 포함할 수 있다.
여기서, 상기 풉의 유입 포트가 복수 개임에 대응하여, 상기 가스 공급 유로 및 상기 인라인 이온화기도 복수 개로 구비될 수 있다.
여기서, 상기 퍼지 유닛은, 상기 복수 개의 가스 공급 유로 각각에 대응하여, 상기 복수 개의 가스 공급 유로 별로 상기 퍼지 가스의 공급 유량을 제어하는 복수 개의 유량 조절기를 더 포함할 수 있다.
여기서, 상기 인라인 이온화기는, 전압인가식 이온화기 또는 방사선식 이온화기를 포함할 수 있다.
여기서, 상기 퍼지 유닛은, 상기 풉의 유출 포트에 접속되는 배출 노즐; 상기 배출 노즐에 연통되어, 상기 배출 노즐을 통해 상기 풉 내의 상기 퍼지 가스를 배출하는 가스 배출 유로; 상기 가스 배출 유로에서 분기되는 진공 배출 유로; 및 상기 진공 배출 유로에 연결되는 진공 펌프를 더 포함할 수 있다.
여기서, 상기 퍼지 유닛은, 상기 가스 배출 유로에 설치되는 배출 개폐밸브 및 상기 진공 배출 유로에 형성되는 진공 개폐밸브를 더 포함하고, 상기 배출 개폐밸브 및 상기 진공 개폐밸브 중 어느 하나가 개방되면 다른 하나는 폐쇄될 수 있다.
여기서, 상기 퍼지 유닛은, 상기 진공 배출 유로에서 상기 진공 개폐밸브의 후류와 상기 진공 펌프 사이에 설치되어, 상기 진공 배출 유로의 압력을 조절하는 진공 조절밸브를 더 포함할 수 있다.
여기서, 상기 프레임은, 상기 수용 상체와 연통되어 상기 풉에서 누설되는 누설 가스가 유입되도록 배치되는 흡입 후드; 상기 흡입 후드에 연통되어, 상기 누설 가스를 상기 흡입 후드를 통해 흡입 배출 유로로 펌핑하는 후드 펌프; 및 상기 흡입 배출 유로에 설치되어, 상기 흡입 배출 유로를 개폐하는 흡입 개폐밸브를 더 포함할 수 있다.
여기서, 상기 수용 상체와 연통되어 상기 풉의 누설 가스에 의한 산소 농도 변화를 검출하는 산소농도 측정기가 더 구비될 수 있다.
상기와 같이 구성되는 본 발명에 관련된 웨이퍼 내장 풉에 대한 지상 퍼지 스테이션에 의하면, 지상으로 내려온 웨이퍼에 대해서도 퍼지 가스가 주입되어 지상 웨이퍼에 대해서도 퍼지가 이루어질 수 있다.
또한, 상기 퍼지는 웨이퍼에 대해 웨이퍼의 표면 산화 방지뿐만 아니라 대전 상태 해소까지 수행할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 웨이퍼 내장 풉에 대한 지상 퍼지 스테이션(100)에 대한 사시도이다.
도 2는 도 1의 웨이퍼 내장 풉에 대한 지상 퍼지 스테이션(100)에 대한 퍼지 회로 구성도이다.
도 3은 도 2의 인라인 이온화기 중 일 예인 전압인가식 이온화기의 작동원리를 보인 개념도이다.
도 4는 도 3은 도 2의 인라인 이온화기 중 다른 일 예인 방사선식 이온화기의 작동원리를 보인 개념도이다.
도 5는 도 1의 흡입 시스템에 대한 흡입 회로 구성도이다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 웨이퍼 내장 풉에 대한 지상 퍼지 스테이션에 대하여 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다. 본 명세서에서는 서로 다른 실시예라도 동일·유사한 구성에 대해서는 동일·유사한 참조번호를 부여하고, 그 설명은 처음 설명으로 갈음한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 웨이퍼 내장 풉에 대한 지상 퍼지 스테이션(100)에 대한 사시도이다.
본 도면을 참조하면, 웨이퍼 내장 풉에 대한 지상 퍼지 스테이션(100)은, 프레임(110)과, 퍼지 유닛(130, 도 2 참조), 그리고 산소 농도측정기를 포함할 수 있다.
프레임(110)은 지면에 놓이도록 형성되는 구조물이다. 구체적으로, 프레임(110)은 지면에 지지되는 수용하체(115)를 가진다. 수용하체(115)의 상측에는 수용상체(111)가 위치하고, 수용상체(111)에는 흡입 후드(117)가 결합될 수 있다.
수용상체(111)는 웨이퍼를 내장하는 풉(F, FOUP)을 수용하는 부분이다. 이를 위해, 수용상체(111)는 풉(F)을 지지하는 지지판(112)을 가진다. 풉(F)은 지지판(112) 외에도 벽이나 천정에 의해 외부와 격리된다. 풉(F)을 지지판(112) 상에 로딩하거나 그로부터 언로딩하기 위해서 도어(113)가 구비될 수 있다. 이러한 도어(113)나 벽, 천정 등은 투명 소재로 제작되어, 그들이 한정하는 공간 내부에 풉(F)이 로딩되어 있는지를 작업자가 육안으로 확인하게 할 수 있다.
수용하체(115)는 퍼지 유닛(130)을 수용하는 부분이다. 여기서, 퍼지 유닛(130)은 수용상체(111)에 로딩된 풉(F) 내에 퍼지 가스를 공급하고, 나아가 그로부터 퍼지 가스를 배출시키는 구성이다. 이러한 퍼지 유닛(130)은 외부로 노출될 필요가 없으므로, 수용하체(115)의 커버는 투명 재질로 형성하지는 않을 수 있다. 수용하체(115)는 서포트(116)에 의해 나머지 부분이 지면에서 이격되도록 형성될 수 있다.
상기 산소 농도측정기(미도시)는 수용하체(115)에 내장될 수 있다. 상기 산소농도측정기는 수용상체(111)의 도어(113)에 인접 위치한 측정홀에 연통되는 튜브와 연결되어, 수용상체(111)에서 풉(F)의 누설 가스에 의한 산소 농도 변화와 관한 데이터를 획득할 수 있게 한다.
이러한 구성에 의하면, 천정에서 주행대차에 의해 반송 중에 지상으로 내려온 풉(F)에 대해서도, 수용상체(111)에 로딩하여 퍼지 유닛(130)으로 퍼지를 수행할 수 있게 된다. 이는 천정의 주행대차 시스템에 부속된 보관함에서만 이루어지던 퍼지 작업이 지상에서도 이루어질 수 있게 하면서도, 그 퍼지를 위한 시스템을 간단한 퍼지 스테이션의 형태로 구성할 수 있게 한다.
또한, 상기 산소농도측정기에 의해 풉(F)이 위치하는 내부 공간의 산소 농도가 실시간으로 모니터링될 수 있다. 그에 따라, 도어(113) 측으로 누설되는 누설 가스가 발생할 경우 산소 농도가 설정 농도 이하로 떨어지면, 컨트롤러는 알람이 발생되게 하며 퍼지 유닛(130)을 통한 풉(F)에 대한 퍼지가스 공급을 차단할 수 있다.
이러한 지상 퍼지 스테이션의 퍼지 유닛(130)의 구체적 구성은 도 2를 참조하여 설명한다.
도 2는 도 1의 웨이퍼 내장 풉에 대한 지상 퍼지 스테이션(100)에 대한 퍼지 회로 구성도이다.
본 도면을 참조하면, 퍼지 유닛(130)은 풉(F)의 유입 포트(Fi)를 통해 퍼지 가스를 풉(F) 내로 공급하고, 나아가 풉(F) 내의 퍼지 가스를 풉(F)의 유출 포트(Fe)를 통해 배출시키는 구성이다.
퍼지 유닛(130)은, 퍼지 가스의 공급을 위해서, 가스 공급 유로(131), 공급 노즐(132), 인라인 이온화기(133), 필터(134), 유량 센서(135), 유량 조절기(136), 공급 개폐밸브(137), 메인 밸브(138), 레귤레이터(139), 및 훅업(140)을 포함할 수 있다.
가스 공급 유로(131)는 퍼지 가스를 풉(F) 내로 공급하기 위한 유로이다. 이를 위해, 가스 공급 유로(131)는 공급 노즐(132)과 가스 탱크(미도시)를 연결할 수 있다.
공급 노즐(132)은 가스 공급 유로(131)의 일 단에 설치된다. 이러한 공급 노즐(132)은 프레임(110)의 지지판(112, 도 1)에 풉(F)을 향해 노출되도록 설치될 수 있다. 공급 노즐(132)은 지지판(112)에 로딩된 풉(F)의 유입 포트(Fi)에 접속될 수 있다.
인라인 이온화기(133)는 가스 공급 유로(131)를 통해 풉(F) 내로 공급되는 퍼지 가스를 인라인 방식으로 이온화하기 위한 구성이다. 여기서, 퍼지 가스는 불활성 가스로서, 예를 들어 질소(N2), 청정건조공기(CDA)가 될 수 있다. 퍼지 가스가 이온화됨에 의해, 이온화된 퍼지 가스는 웨이퍼 표면의 산화를 방지함과 동시에, 정전기를 제거하여 웨이퍼의 대전을 해소할 수 있다. 나아가, 인라인 이온화기(133)는 퍼지 가스가 풉(F)으로 공급되기 위해 유동하는 것을 막지 않고 그 유동 중에 이온화되게 하여, 풉(F)에 대한 퍼지 가스의 공급에 장애를 만들지 않는다.
필터(134)는 가스 공급 유로(131) 중 인라인 이온화기(133)의 전류에 설치되어, 인라인 이온화기(133)로 공급되는 퍼지 가스 중 이물질을 제거하는 구성이다.
유량 센서(135)는 인라인 이온화기(133) 측으로 공급되는 퍼지 가스의 유량에 관한 데이터를 얻기 위한 구성이다.
유량 조절기(136)는 유량 센서(135)에서 얻어진 데이터를 바탕으로, 인라인 이온화기(133) 측으로 공급되는 퍼지 가스의 유량을 조절하기 위한 구성이다.
공급 개폐밸브(137)는 가스 공급 유로(131)를 개폐하는 구성이다. 이때, 가스 공급 유로(131)는 각 인라인 이온화기(133)에 대응하는 개별 공급 유로(131a)를 복수 개로 포함하고, 공급 개폐밸브(137)는 이러한 개별 공급 유로(131a) 마다 설치되어 개별 공급 유로(131a)를 독립적으로 개폐하게 할 수 있다. 하나의 개별 공급 유로(131a)에는 공급 개폐밸브(137), 유량 조절기(136), 유량 센서(135), 필터(134), 인라인 이온화기(133), 및 공급 노즐(132)이 각각 설치된다. 따라서, 복수의 개폐밸브(137)를 개폐 조작함에 의해, 복수의 개별 공급 유로(131a) 중 일부는 퍼지 가스를 공급하고 나머지는 그렇지 않을 수 있다. 이러한 조작에 의해, 풉(F)에 대한 퍼지 가스의 공급량을 조절하거나, 풉(F)의 종류에 따라서 특정 영역에만 퍼지 가스가 공급되게 할 수 있다.
메인 밸브(138)는 가스 공급 유로(131) 중 복수의 개별 공급 유로(131a)가 합쳐진 단일 공급 유로(131b)에 설치되는 밸브이다. 메인 밸브(138)를 개폐 조작함에 의해서는 복수의 개별 공급 유로(131a) 전체에 대한 퍼지 가스 유동을 온, 오프할 수 있다.
레귤레이터(139)는 퍼지 가스의 압력을 조절하기 위한 구성이다. 레귤레이터(139)의 메인 밸브(138)의 전류 측에 배치될 수 있다.
훅업(140)은 레귤레이터(139)의 전류 측에 배치되며, 퍼지 가스 공급 시설에 연결되는 구성이다. 상기 퍼지 가스 공급 시설은, 앞서 말한 대로, 퍼지 가스를 저장하는 퍼지 가스 탱크를 구비할 수 있다.
퍼지 유닛(130)은, 퍼지 가스의 배출을 위해서, 가스 배출 유로(141), 배출 노즐(142), 배출 개폐밸브(143), 유량 센서(144)를 포함할 수 있다.
가스 배출 유로(141)는 풉(F) 내의 퍼지 가스를 외부로 배출하기 위한 퍼지 가스의 유동 경로이다. 이러한 풉(F) 내의 퍼지 가스는 가스 배출 유로(141)를 통해, 퍼지 스테이션(100)이 설치된 공장의 유틸리티로 연결될 수 있다. 상기 유틸리티는 퍼지 가스를 펌핑하는 펌프를 포함할 수 있다. 또한, 상기 펌프로는, 후술할 후드 펌프(119)가 이용될 수도 있다.
배출 노즐(142)은 가스 배출 유로(141)의 일 단부에 위치하여, 풉(F)의 유출 포트(Fe)에 접속되는 구성이다.
배출 개폐밸브(143)는 가스 배출 유로(141)의 개폐를 담당하는 구성이다. 배출 개폐밸브(143)는 배출 노즐(142)과 유량 센서(144) 사이에 배치된다.
유량 센서(144)는 가스 배출 유로(141)를 통해 배출되는 퍼지 가스의 유량을 측정하기 위한 센서이다. 유량 센서(144)에서 측정된 퍼지 가스의 배출 유량에 근거하여, 유량 조절기(136)는 풉(F)으로 공급되는 퍼지 가스의 공급 유량을 조절할 수 있다.
퍼지 유닛(130)은, 퍼지 가스의 배출 및 풉(F)에 대한 진공 상태 유지를 위해서, 진공 배출 유로(145), 진공 개폐밸브(146), 압력 센서(147), 진공 조절밸브(148), 메인 밸브(149), 진공 펌프(150), 메인 밸브(151), 그리고 훅업(152)을 포함할 수 있다.
진공 배출 유로(145)는 가스 배출 유로(141)에서 분기되는 유로로서, 가스 배출 유로(141) 및 배출 노즐(142)을 통해 풉(F)에 연통되는 것이다.
진공 개폐밸브(146)는 배출 노즐(142)의 후류에 배치되어, 진공 배출 유로(145)를 개/폐하도록 구성된다. 진공 배출 유로(145)와 가스 배출 유로(141)가 연통되어 있음으로 인해, 진공 개폐밸브(146)가 개방되어 있으면 배출 개폐밸브(143)는 폐쇄되게 제어되며, 혹은 그 반대의 경우도 가능하다.
압력 센서(147)는 진공 배출 유로(145)의 압력을 감지하여, 진공 조절밸브(148)와 통신하게 된다. 진공 조절밸브(148)는 압력 센서(147)의 압력 데이터에 근거하여 제어부(미도시)와 통신하면서, 상기 제어부의 제어 하에 진공 배출 유로(145)의 압력을 제어하게 된다.
메인 밸브(149)와 메인 밸브(151)는 진공 펌프(150)의 전, 후에 배치된다. 그들은 진공 펌프(150)의 작동과 관련하여 진공 배출 유로(145)를 온, 오프하게 된다.
진공 펌프(150)는 풉(F) 내가 진공 상태에 도달하도록 작동할 수 있다. 그에 의해, 풉(F) 내의 웨이퍼의 표면은 퍼지 가스에 의해 퍼지되나 웨이퍼의 표면 상에 퍼지 가스가 잔존하지는 않게 할 수 있다.
메인 밸브(151) 다음에는 훅업(152)이 배치된다. 훅업(152)은 배출하려는 퍼지 가스를 수용하는 시설에 연결될 수 있다.
이상의 구성에 의하면, 풉(F)에 공급되는 퍼지 가스는 인라인 이온화기(133)에 의해 실시간으로 이온화될 수 있다. 그에 의해, 풉(F) 내의 웨이퍼는 그 표면의 산화가 방지되고, 나아가 대전 상태도 해소될 수 있게 된다.
또한, 웨이퍼의 산화 방지 및 대전 상태 해소 등의 기능을 한 퍼지 가스(이온화된)는 가스 배출 유로(141)로 통상의 수준으로 배출되거나, 진공 배출 유로(145)를 통해 풉(F) 내를 진공으로 만드는 수준으로 배출될 수 있다. 후자의 경우는 지상 퍼지 스테이션(100)을 사용하는 사용자의 웨이퍼에 대한 높은 수준의 클린 환경에 대한 요구를 충족시킬 수 있게 된다.
다음으로, 위의 인라인 이온화기(133)의 두 가지 형태에 대해 도 3 및 도 4를 참조하여 설명한다.
도 3은 도 2의 인라인 이온화기 중 일 예인 전압인가식 이온화기의 작동원리를 보인 개념도이다.
본 도면을 참조하면, 인라인 이온화기(133, 도 2)는 전압인가식 이온화기일 수 있다.
상기 전압인가식 이온화기는, 고전압을 방전시켜 양이온과 음이온을 상대물(퍼지 가스)에 보내어, 대전된 정전기와 반대 극성으로 중화하여 소멸시키는 구성이다.
도 4는 도 3은 도 2의 인라인 이온화기 중 다른 일 예인 방사선식 이온화기의 작동원리를 보인 개념도이다.
본 도면을 참조하면, 인라인 이온화기(133, 도 2)는 방사선식 이온화기일 수 있다.
가속된 전자가 원자핵 부근에서 쿨롱력에 의해 감속되고 감속된 차이만큼 전자파를 방출하는데 이를 제동복사라 하고, 방출되는 선을 제동복사선 또는 연속 X선이라고 한다.
상기 연속 X선은 가열된 음극으로부터 나온 열전자가 가속되어 타켓(대음극)에 충돌하면서 방사되는 것이다. 이러한 X선은 대전된 정전기를 반대 극성으로 중화하여 소멸시킨다.
다음으로, 풉(F)에서 누설되는 누설 가스에 대한 흡입 시스템은 도 5를 참조하여 설명한다.
도 5는 도 1의 흡입 시스템에 대한 흡입 회로 구성도이다.
본 도면(및 도 1)을 참조하면, 풉(F)의 도어는 프레임(110)의 도어(113, 이상 도 1)에 반대되는 벽을 대면하도록 배치된다. 이때, 풉(F)의 도어와 풉(F)의 몸체 사이의 틈새로는 누설 가스가 발생할 수 있다. 이러한 누설 가스는 지상 퍼지 스테이션(100) 주변의 작업자의 건강에 영향을 미칠 수 있는바, 그에 대한 대책으로서 상기 흡입 시스템이 채용된다.
상기 흡입 시스템을 구성하기 위해서, 프레임(110)의 수용상체(111)의 뒷벽 측에는 흡입 후드(117)가 설치된다. 흡입 후드(117)는 수용상체(111)이 풉(F)이 로딩된 공간과 연통되어, 풉(F)의 누설 가스가 유입되도록 구성된다. 흡입 후드(117)는 각 풉(F)에 대응하도록, 풉(F) 별로 하나씩 구비될 수 있다.
흡입 개폐밸브(118)는 흡입 후드(117)에서부터 시작되는 가스 흡입 경로 상에 배치된다. 흡입 개폐밸브(118)는 상기 가스 흡입 경로의 온, 오프를 담당하게 된다.
후드 펌프(119)는 상기 가스 흡입 경로에 설치되어, 누설 가스를 펌핑하게 된다. 후드 펌프(119)의 작동 시에, 흡입 후드(117)로 유입된 누설 가스는 별도의 누설 가스 수집 유틸리티로 배출될 수 있다.
후드 펌프(119)의 후류에는 메인 밸브(120)가 배치될 수 있다. 또한, 메인 밸브(120)의 후류에는 상기 누설 가스 수집 유틸리티에 접속되는 훅업(121)이 설치될 수 있다.
이러한 구성에 의하면, 수용상체(111) 내에서 풉(F)을 퍼지하는 중에, 풉(F)에서 누설 가스가 발생하는 경우라도 그 누설 가스가 수용상체(111) 밖으로 배출되는 것을 차단할 수 있게 된다. 그에 따라, 지상 퍼지 스테이션(100) 주변의 작업자의 안전성을 보다 높일 수 있다.
여기서, 흡입 펌프(119)는 수용상체(111)에 풉(F)이 로딩되면 그 풉(F)을 감지하는 재하센서가 온되면서 작동되고, 풉(F)이 언로딩되면 재하센서가 오프되면서 작동이 정지되도록 운영될 수 있다.
상기와 같은 웨이퍼 내장 풉에 대한 지상 퍼지 스테이션은 위에서 설명된 실시예들의 구성과 작동 방식에 한정되는 것이 아니다. 상기 실시예들은 각 실시예들의 전부 또는 일부가 선택적으로 조합되어 다양한 변형이 이루어질 수 있도록 구성될 수도 있다.
100: 지상 퍼지 스테이션 110: 프레임
111: 수용상체 115: 수용하체
117: 흡입 후드 119: 흡입 펌프
130: 퍼지 유닛 131: 가스 공급 유로
132: 공급 노즐 133: 인라인 이온화기
136: 유량 조절기 141: 가스 배출 유로
145: 진공 배출 유로 150: 진공 펌프

Claims (10)

  1. 웨이퍼를 내장하는 풉(FOUP)을 수용하도록 형성되며 상기 풉을 지지하는 지지판을 구비하는 수용 상체와, 상기 풉이 상기 수용 상체 내로 투입되거나 상기 수용 상체에서 인출될 때 상기 수용 상체를 개폐하도록 조작되는 도어를 구비하는 프레임; 및 상기 수용 상체에 투입된 상기 풉에 대해 상기 웨이퍼의 퍼지를 위한 퍼지 가스를 제공하도록 구성되는 퍼지 유닛을 포함하고,
    상기 프레임은, 상기 수용 상체의 하측에 위치하여 바닥에 지지되며, 상기 퍼지 유닛을 수용하는 수용 하체를 더 포함하고,
    상기 퍼지 유닛은, 상기 지지판에 상기 풉을 향해 노출되도록 설치되며, 상기 풉의 유입 포트에 접속되는 공급 노즐; 상기 공급 노즐에 연통되는 가스 공급 유로에 상기 공급 노즐 전에 위치하도록 설치되어, 상기 공급 노즐 및 상기 유입 포트를 통해 상기 풉 내로 공급되는 상기 퍼지 가스를 인라인 방식으로 이온화하는 인라인 이온화기; 상기 풉의 유출 포트에 접속되는 배출 노즐; 상기 배출 노즐에 연통되어, 상기 배출 노즐을 통해 상기 풉 내의 상기 퍼지 가스를 배출하는 가스 배출 유로; 상기 가스 배출 유로에서 분기되는 진공 배출 유로; 상기 진공 배출 유로에 연결되는 진공 펌프; 및 상기 가스 배출 유로에 설치되는 배출 개폐밸브 및 상기 진공 배출 유로에 형성되는 진공 개폐밸브를 포함하고,
    상기 배출 개폐밸브 및 상기 진공 개폐밸브 중 어느 하나가 개방되면 다른 하나는 폐쇄되며,
    상기 퍼지 유닛은, 상기 진공 배출 유로에서 상기 진공 개폐밸브의 후류와 상기 진공 펌프 사이에 설치되어, 상기 진공 배출 유로의 압력을 조절하는 진공 조절밸브; 및 상기 진공 배출 유로에서 상기 진공 개폐밸브와 상기 진공 조절밸브 사이에 설치되어, 상기 진공 개폐밸브의 개방시 상기 진공 배출 유로의 압력을 감지하는 압력 센서를 더 포함하고,
    상기 진공 조절밸브는, 상기 압력 센서의 압력 데이터에 근거하여 상기 배출 노즐 및 상기 진공 배출 유로를 통한 상기 풉 내의 상기 퍼지 가스의 배출 및 상기 퍼지 가스의 배출에 따른 상기 풉의 진공 상태 유지를 위해 상기 진공 배출 유로의 압력을 조절하는, 웨이퍼 내장 풉에 대한 지상 퍼지 스테이션.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서,
    상기 풉의 유입 포트가 복수 개임에 대응하여, 상기 가스 공급 유로 및 상기 인라인 이온화기도 복수 개로 구비되는, 웨이퍼 내장 풉에 대한 지상 퍼지 스테이션.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 퍼지 유닛은,
    상기 복수 개의 가스 공급 유로 각각에 대응하여, 상기 복수 개의 가스 공급 유로 별로 상기 퍼지 가스의 공급 유량을 제어하는 복수 개의 유량 조절기를 더 포함하는, 웨이퍼 내장 풉에 대한 지상 퍼지 스테이션.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 인라인 이온화기는,
    전압인가식 이온화기 또는 방사선식 이온화기를 포함하는, 웨이퍼 내장 풉에 대한 지상 퍼지 스테이션.
  6. 삭제
  7. 삭제
  8. 삭제
  9. 제1항에 있어서,
    상기 프레임은,
    상기 수용 상체와 연통되어 상기 풉에서 누설되는 누설 가스가 유입되도록 배치되는 흡입 후드;
    상기 흡입 후드에 연통되어, 상기 누설 가스를 상기 흡입 후드를 통해 흡입 배출 유로로 펌핑하는 후드 펌프; 및
    상기 흡입 배출 유로에 설치되어, 상기 흡입 배출 유로를 개폐하는 흡입 개폐밸브를 더 포함하는, 웨이퍼 내장 풉에 대한 지상 퍼지 스테이션.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 수용 상체와 연통되어 상기 풉의 누설 가스에 의한 산소 농도 변화를 검출하는 산소농도 측정기를 더 포함하는, 웨이퍼 내장 풉에 대한 지상 퍼지 스테이션.
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