JP7477785B2 - Efemシステム及びefemシステムにおけるガス供給方法 - Google Patents
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Description
まず、EFEM1及びその周辺の概略構成について、図1を用いて説明する。図1は、本実施形態に係るEFEM1及びその周辺の概略的な平面図である。図1に示すように、EFEM1は、筐体2と、搬送ロボット3と、複数のロードポート4と、を備える。EFEM1の後方には、ウェハWに所定の処理を施す基板処理装置6が配置されている。EFEM1は、筐体2内に配置された搬送ロボット3によって、ロードポート4に載置されているFOUP(Front-Opening Unified Pod)100と基板処理装置6との間でウェハWの受渡しを行う。
101が開けられる。これにより、FOUP100内のウェハWが、搬送ロボット3によって取出可能になる。
次に、筐体2及びその内部の構成について、図2を用いて説明する。図2は、本実施形態に係るEFEM1の断面図である。なお、図2においては、搬送ロボット3等の図示を省略している。
7には、柱23の中空空間23aとFFU設置室42とを接続する流路37bが形成されている。帰還路43は、導入ダクト27の導入路27aと、柱23の中空空間23aと、支持板37の流路37bとがつながった構成を有する。
以上のように構成されたEFEM1では、内部空間40の雰囲気を窒素で置換することによって、内部空間40(特に搬送室41)の酸素濃度及び湿度が目標値以下に維持される。本実施形態では、酸素濃度の目標値が100ppm、湿度の目標値として露点温度が-70℃に設定されているものとする。もちろん、これらの目標値は適宜変更が可能であるし、湿度の目標値を露点温度以外の指標で設定してもよい。
メンテナンス等でEFEM1の内部空間40を開放する際や、メンテナンス等の終了後にEFEM1の内部空間40を窒素雰囲気に戻す際には、通常稼働時と異なる制御が行われる。図4は、メンテナンス時のガス供給制御を示すフローチャートである。オペレータによってメンテナンスを行う旨の信号が入力されると、制御装置5は、バルブ63を閉めるとともにバルブ73を開いて、EFEM1の内部空間40にCDAを供給し始める(ステップS11)。その後、内部空間40の酸素濃度が所定値(例えば19.5%)以上となり(ステップS12でYES)、内部空間40を安全に開放できる状態となったら、制御装置5はインターロック58を開錠する(ステップS13)。
本実施形態に係るEFEMシステム10は、EFEM1の内部空間40の雰囲気を窒素
(不活性ガス)で置換することによって、内部空間40の酸素濃度及び湿度(露点温度)を目標値以下に維持するものであって、内部空間40に窒素を供給可能な窒素供給路61(不活性ガス供給路)と、窒素供給路61から内部空間40に窒素を供給する状態と供給しない状態とに切り換えるバルブ63(第1切換部)と、内部空間40にCDA(乾燥空気)を供給可能なCDA供給路71(乾燥空気供給路)と、CDA供給路71から内部空間40にCDAを供給する状態と供給しない状態とに切り換えるバルブ73(第2切換部)と、を備える。このような構成を有するEFEMシステム10によれば、大気開放されていたEFEM1の内部空間40に、窒素の代わりにCDAを供給することによって、内部空間40の湿度を下げることができる。したがって、内部空間40の湿度を目標値まで下げるのに必要となる窒素の供給量を削減することができる。
上記実施形態に種々の変更を加えた変形例について説明する。
き、装置や配線等に吸着している水分を蒸発させやすくなる。その結果、内部空間40の湿度を目標値まで下げるのに要する時間を短縮できるとともに、乾燥ガス(窒素又はCDA)の消費量を削減することができる。筐体2の底面に多くの装置や配線等が配置されることを鑑みると、ヒータ59を筐体2の底面近傍に設けるのが好ましいが、他の箇所に設けることももちろん可能である。
5:制御装置(制御部)
10:EFEMシステム
40:内部空間
57:湿度計
61:窒素供給路(不活性ガス供給路)
63:バルブ(第1切換部)
71:CDA供給路(乾燥空気供給路)
73:バルブ(第2切換部)
74:除湿フィルタ
75:分岐路
76:窒素富化フィルタ
77:切換バルブ(第3切換部)
Claims (5)
- EFEMの内部空間の雰囲気を不活性ガスで置換することによって、前記内部空間の酸素濃度及び湿度を目標値以下に維持するEFEMシステムであって、
前記内部空間に前記不活性ガスを供給可能な不活性ガス供給路と、
前記不活性ガス供給路から前記内部空間に前記不活性ガスを供給する状態と供給しない状態とに切り換える第1切換部と、
前記内部空間に乾燥空気を供給可能な乾燥空気供給路と、
前記乾燥空気供給路から前記内部空間に前記乾燥空気を供給する状態と供給しない状態とに切り換える第2切換部と、
前記内部空間の湿度を測定する湿度計と、
前記第1切換部及び前記第2切換部を制御する制御部と、
を備え、
前記制御部は、前記内部空間の湿度が所定値に下がるまでは前記不活性ガスを供給せずに前記乾燥空気を供給し、前記内部空間の湿度が前記所定値まで下がると前記不活性ガスを供給するように、前記第1切換部と前記第2切換部とを制御することを特徴とするEFEMシステム。 - 請求項1に記載のEFEMシステムであって、
前記不活性ガス供給路と前記乾燥空気供給路が合流して前記内部空間に接続することを特徴とするEFEMシステム。 - 請求項1または2のいずれか1項に記載のEFEMシステムであって、
前記内部空間は、ダウンフローを形成するファンフィルタユニットが設置されたFFU設置室を備え、
前記不活性ガス供給路または前記乾燥空気供給路は、前記FFU設置室と連通していることを特徴とするEFEMシステム。 - 請求項1~3のいずれか1項に記載のEFEMシステムであって、
前記内部空間は、
ダウンフローを形成するファンフィルタユニットが設置されたFFU設置室と、
搬送ロボットが設置された搬送室と、
前記搬送室から上昇気流を形成して気体をFFU設置室へ送る帰還路と、を有することを特徴とするEFEMシステム。 - EFEMの内部空間の雰囲気を不活性ガスで置換することによって、前記内部空間の酸素濃度及び湿度を目標値以下に維持するEFEMシステムにおけるガス供給方法であって、
乾燥空気を前記内部空間に供給する乾燥空気供給工程と、
不活性ガスを前記内部空間に供給する不活性ガス供給工程と、
を備え、
前記内部空間の湿度が所定値に下がるまでは前記不活性ガス供給工程を実行せずに前記乾燥空気供給工程を実行し、前記内部空間の湿度が前記所定値まで下がると前記不活性ガス供給工程を実行することを特徴とするEFEMシステムにおけるガス供給方法。
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