JP2005101185A - 基板洗浄乾燥装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 基板保持手段における吸引を分散して行うことにより、液残りを除去してシミの発生を防止することができる。
【解決手段】 乾燥処理を洗浄処理と同じチャンバー内で実施するので、乾燥処理のために基板Wをチャンバー外の空気に晒して移動する必要がない。さらに、多孔質部材93を介して吸引穴61cから吸引することにより、従来例のように一つの吸引穴から吸引するよりも基板Wの外周に沿った方向に広く分散して水滴を吸引でき、また乾燥用の気体を吸引できる。したがって、吸引穴61cの直上に位置する基板Wの下縁部だけでなく、その両外側に位置する基板Wの円弧部分Rにおいても水滴を吸引でき、また気体を十分に吸引させることができる。その結果、基板Wの下縁の両外側Rをも十分に乾燥させることができ、液残りに起因するシミの発生を防止できる。
【選択図】 図17
【解決手段】 乾燥処理を洗浄処理と同じチャンバー内で実施するので、乾燥処理のために基板Wをチャンバー外の空気に晒して移動する必要がない。さらに、多孔質部材93を介して吸引穴61cから吸引することにより、従来例のように一つの吸引穴から吸引するよりも基板Wの外周に沿った方向に広く分散して水滴を吸引でき、また乾燥用の気体を吸引できる。したがって、吸引穴61cの直上に位置する基板Wの下縁部だけでなく、その両外側に位置する基板Wの円弧部分Rにおいても水滴を吸引でき、また気体を十分に吸引させることができる。その結果、基板Wの下縁の両外側Rをも十分に乾燥させることができ、液残りに起因するシミの発生を防止できる。
【選択図】 図17
Description
この発明は、半導体ウエハ、フォトマスク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基板、光ディスク用の基板など(以下、単に基板と称する)を洗浄処理した後に乾燥処理する基板洗浄乾燥装置に係り、特に、洗浄処理後の乾燥処理を保持手段からの吸引によって施す技術に関する。
従来、この従来のこの種の装置として、処理槽で洗浄処理を施した基板を純水中から引き上げ、処理槽とは別体の乾燥装置に移動させた後、基板が載置された基板保持部から吸引するとともに、上方から流下させているクリーンルーム内のエアによって基板を乾燥させるものが挙げられる(例えば、特許文献1参照)。
この特許公報には、基板保持部で吸引するための穴形状については詳細に記載されていないが、各基板保持部に1個だけ丸穴が吸引穴として形成されているというものである。今までの半導体基板に対する半導体デバイスメーカの要求レベルであれば、若干のシミ(残渣であり、いわゆるウォータマーク)であれば特段問題はないとされてきた。
特許第3244220号公報(段落番号0015、図3)
しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
すなわち、半導体デバイスの技術がさらに進むと、非常に微細な基板エッジのシミさえもデバイス製造における問題となることがデバイスメーカから指摘され始めている。これらは、例えば、基板搬送系に蓄積し、他の基板を汚染し、洗浄装置等で汚染された基板から洗浄液若しくはリンス液中に放出されてデバイス面に付着し、最終的にはデバイス欠陥を引き起こす。
従来の装置における各基板保持部は、通常の丸穴が一つ形成されているだけであるので、これでは上記のような要求に対して応えることができないという問題がある。
なお、上記の問題は、丸穴と基板保持部との物理的な位置関係に起因して生じる。つまり、丸穴の場合、その直上から流入する気体によって、丸穴の上方に位置する基板下縁部に付着した純水は比較的短時間で乾燥するのでシミは生じない。しかし、その両外側にあたる部分、詳細には基板の中心から斜め下方に位置する円弧部分と基板保持部の丸穴に挟まれた近辺には、十分に乾燥用の気体が流下しないので、乾燥が遅くシミが生じる。このようなシミは、シリコン基板の場合、残っている純水へのシリコンの溶解及び気液固界面でのシリコンの酸化による酸化シリコンの生成、並びに残っている純水中への酸化シリコン等の溶解により蓄積した酸化シリコン及びシリコンが、乾燥後に酸化シリコンの水和物として基板面に残ったものである。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、基板保持手段における吸引を分散して行うことにより、液残りを除去してシミの発生を防止することができる基板洗浄乾燥装置を提供することを目的とする。
この発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項1に記載の発明は、基板に洗浄処理を施した後、乾燥処理を施す基板洗浄乾燥装置において、処理液を貯留し、基板を浸漬して洗浄処理を施す処理槽と、基板を搬入出するための開口を上部に有し、前記処理槽を覆う処理室と、吸引のための吸引穴が形成されているとともに、その上部に通気性のある多孔質部材を備えて前記処理室内で基板を保持する保持手段とを備え、前記処理槽による洗浄処理の後、前記処理室内において前記保持手段の吸引穴から吸引するとともに、基板に向けて気体を供給して乾燥処理を行うことを特徴とするものである。
すなわち、請求項1に記載の発明は、基板に洗浄処理を施した後、乾燥処理を施す基板洗浄乾燥装置において、処理液を貯留し、基板を浸漬して洗浄処理を施す処理槽と、基板を搬入出するための開口を上部に有し、前記処理槽を覆う処理室と、吸引のための吸引穴が形成されているとともに、その上部に通気性のある多孔質部材を備えて前記処理室内で基板を保持する保持手段とを備え、前記処理槽による洗浄処理の後、前記処理室内において前記保持手段の吸引穴から吸引するとともに、基板に向けて気体を供給して乾燥処理を行うことを特徴とするものである。
[作用・効果]洗浄処理に続く乾燥処理を洗浄処理と同じ処理室内で実施するので、乾燥処理のために基板を処理室外の空気に晒して移動する必要がない。さらに、多孔質部材を介して吸引穴から吸引することにより、従来であれば水滴があった箇所からも水滴を吸引することができる。また、一つの吸引穴から吸引するよりも基板の外周に沿った方向に広く分散して乾燥用の気体を吸引することができる。したがって、吸引穴の直上に位置する基板下縁部だけでなく、その両外側に位置する基板の円弧部分においても水滴を吸引でき、さらに気体を十分に吸引させることができる。その結果、基板の下縁の両外側をも比較的短時間で十分に乾燥させることができ、液残りに起因するシミの発生を防止することができる。
また、請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の基板洗浄乾燥装置において、前記保持手段は、基板接触部にのみ前記多孔質部材を備えていることを特徴とするものである。
[作用・効果]基板と接触する部分だけに多孔質部材を備える構成であっても、請求項1と同じ作用・効果を奏する。したがって、少ない多孔質部材で構成することができ、低コストとすることができる。
また、前記多孔質部材は、多孔質セラミックスであり、上面に細孔を有する樹脂コーティングを施してあることが好ましく(請求項3)、または発泡樹脂(例えば、発泡ポリウレタン)であることが好ましい(請求項4)。
[作用・効果]樹脂コーティングを施すことにより、多孔質部材が基板より硬い多孔質セラミックスに起因して基板に傷が生じたりするのを防止することができる。
なお、その他に、通気性のある焼結石英であって、その上面に細孔を有する樹脂コーティングを施してあるものや、上記焼結石英に代えて焼結金属が採用できる。
また、基板の上方より気体を供給することも好ましい(請求項5)。
この発明に係る基板洗浄乾燥装置によれば、洗浄処理後の乾燥処理のために基板を処理室外の空気に晒して移動する必要がなく、清浄度高く処理することができる。さらに、通気性を有する多孔質部材を介して吸引穴から吸引することにより、一つの吸引穴から吸引するよりも基板の外周に沿った方向に広く分散して水滴を吸引でき、また乾燥用の気体を吸引することができる。したがって、吸引穴の直上に位置する基板下縁部だけでなく、その両外側に位置する基板の円弧部分においても水滴を吸引でき、また気体を十分に吸引させることができる。その結果、基板の下縁の両外側をも十分に乾燥させることができ、液残りに起因するシミの発生を防止できる。
以下、図面を参照してこの発明の実施例1を説明する。
図1は、洗浄乾燥部を備えた基板処理装置の概略構成図を示す平面図である。
図1は、洗浄乾燥部を備えた基板処理装置の概略構成図を示す平面図である。
この基板処理装置は、例えば、基板Wに対して薬液処理及び洗浄処理並びに乾燥処理を施すための装置であり、占有面積を小さくコンパクト化を図ったものである。基板Wは複数枚(例えば25枚)がカセット1に対して起立姿勢で収納されている。未処理の基板Wを収納したカセット1は、投入部3に載置される。投入部3は、カセット1を載置される載置台5を二つ備えている。基板処理装置の中央部を挟んだ投入部3の反対側には、払出部7が配備されている。この払出部7は、処理済みの基板Wをカセット1に収納してカセット1ごと払い出す。このように機能する払出部7は、投入部3と同様に、カセット1を載置するための二つの載置台9を備えている。
投入部3と払出部7に沿う位置には、これらの間を移動可能に構成された第1搬送機構11が配置されている。第1搬送機構11は、投入部3に載置されたカセット1ごと複数枚の基板Wを第2搬送機構13に対して搬送する。
第2搬送機構13は、収納されている全ての基板Wをカセット1から取り出した後、第3搬送機構15に対して全ての基板Wを搬送する。また、第3搬送機構15から処理済みの基板Wを受け取った後に、基板Wをカセット1に収容して第1搬送機構11に搬送する。
第3搬送機構15は、基板処理装置の長手方向に向けて移動可能に構成されており、上述した第2搬送機構13との間で基板Wの受け渡しを行う。上記第3搬送機構15の移動方向における手前側には、第1処理部19が配備されている。この第1処理部19は、複数枚の基板Wに対して洗浄処理及び乾燥処理を施すための洗浄乾燥部21を備えているとともに、複数枚の基板Wに対して薬液処理を施すための薬液処理部23を備えている。また、洗浄乾燥部21は、薬液処理も実施可能に構成されている。
第1副搬送機構25は、第1処理部19内での基板搬送の他に、第3搬送機構15との間で基板Wを受け渡しする。洗浄乾燥部21の上方に位置する非処理位置では、第3搬送機構15との間で基板Wを受け渡す動作が行なわれる一方、薬液処理部23の上方に位置する非処理位置では基板Wの受け渡しが行なわれない。また、基板Wを処理する際には、洗浄乾燥部21や薬液処理部23の槽内に位置する処理位置にまで下降する。
また、第1処理部19に隣接して、同様の構成を備えた第2処理部27が配備されている。第2処理部27は、洗浄乾燥部29と、薬液処理部31と、第2副搬送機構33とを備えている。
なお、洗浄乾燥部21,29が本発明における基板洗浄乾燥装置に相当する。
次に、図2を参照して洗浄乾燥部21について説明する。なお、図2は、洗浄乾燥部の概略構成を示した縦断面図である。
洗浄乾燥部21は、処理槽35と、この処理槽35を覆うチャンバー37(処理室)を備えている。処理槽35は、処理液を貯留し、基板Wを浸漬して洗浄処理を施すための槽である。チャンバー37は、処理槽35の上方と周囲とに余裕を有して覆うものであり、その上部に基板Wを搬入出するための開口37aを備えている。
処理槽35は、内槽39と外槽41を備えている。内槽39は、その底面両側に、処理液を供給する注入管43が設けられている。外槽41は、内槽39の上部開口を側方で囲うように設けられ、内槽39から溢れた処理液を回収して排出する。内槽39の底部中央には開閉自在であって、用途に応じて処理液や気体をチャンバー37の外部に排出する排出口45が形成されている。
なお、排出口45は、後述する乾燥処理時における排気を円滑に行うために、整流板を備えるようにしてもよい。
処理槽35の注入管43には、処理液供給管47の一端側が連通接続されている。その他端側には、純水供給源49が連通接続されている。処理液供給管47には、下流側から順に、制御弁51とミキシングバルブ53が取り付けられている。ミキシングバルブ53は、複数種類の薬液供給源に連通した薬液配管が連通接続されており、処理に応じて適宜の薬液を処理液供給配管47に注入する。
上述した第1副搬送機構25は、背板55と、基板保持部57とを備えている。背板55は板状部材を備え、懸垂姿勢で第1副搬送機構25に取り付けられているとともに、処理槽39の内壁面に沿って昇降自在に構成されている。その下端部正面側には、複数枚の基板Wを起立姿勢で保持するための基板保持部57が長手方向を水平に取り付けられている。
図3を参照する。なお、図3は、基板保持部57の一部を拡大した縦断面図である。
基板保持部57は、背板55に連結された支持部材59と、支持部材59から基板Wの整列方向に沿って延出された三本の係止部材61とを備えている。係止部材61は、基板Wの厚みよりもやや幅広の係止溝61aと、係止溝61aの間に立設され、基板Wを係止溝61aに案内する突起61bが形成されている。各々の係止溝61aの底面には、基板Wの厚みより小径の吸引穴61cが形成されている。各吸引穴61cは、係止部材61の長手方向に形成された吸引通路61dに連通している。なお、係止部材61の材料としては、例えば、PEEK(ポリ・エーテル・エーテル・ケトン)が挙げられる。
支持部材59は、係止部材61の基端部に連結されており、吸引通路61dに連通した通路59aが形成されている。この通路59aは、処理槽39及びチャンバー37の外部に延出された配管を通して吸引源(図示省略)に連通されている。
図2に戻る。
チャンバー37の開口37a下部の両側には、チャンバー37の内容積を小さくし、かつ乾燥用のエアの流れを整え、基板Wにできるだけ近い位置を気流が流下するように調整するための垂直整流板63が取り付けられている。また、図示省略しているが、基板保持部57の下方にあたる排出口45には、内槽39を流下してきたエアの流れを整えて排気するための水平整流板を取り付けるのが好ましい。
チャンバー37の開口37a下部の両側には、チャンバー37の内容積を小さくし、かつ乾燥用のエアの流れを整え、基板Wにできるだけ近い位置を気流が流下するように調整するための垂直整流板63が取り付けられている。また、図示省略しているが、基板保持部57の下方にあたる排出口45には、内槽39を流下してきたエアの流れを整えて排気するための水平整流板を取り付けるのが好ましい。
洗浄乾燥部21は、チャンバー37の上部に開閉自在の蓋部材65を備えている。この蓋部材65は、水平軸P周りに開閉自在に構成されている。チャンバー37に接する部分には当接板材67を備え、そこに形成された開口からなる供給口67aを囲うように、カバー部69が取り付けられている。カバー部69の空洞部69aにはフィルタ71が取り付けられている。このフィルタ71としては、例えば、ULPAフィルタやケミカルフィルタが好ましい。ULPAフィルタであれば微細なパーティクルを除去でき、ケミカルフィルタであれば有機物・アニオン・カチオンなどの除去が可能となる。また、カバー部69の一側面には、空洞部69aにエアを導入するための配管69bが取り付けられている。
配管69bにはベローズ配管69cの一端側が取り付けられ、その他端側には配管69dが取り付けられている。この配管69dには、主配管73が連通接続されており、主配管73はドライエア供給源75に接続されている。また、主配管73には、開閉弁77が取り付けられている。開閉弁77とドライエア供給源75の間では、主配管73が排気管79に分岐され、そこに開閉弁83が取り付けられている。
チャンバー37は、その上部かつ蓋部材65の下方であって、基板Wの搬入出経路を挟んで対向する側面の位置に、供給口85と排気口87を備えている。供給口85には、上述した主配管73の開閉弁77と分岐管79の間で主配管73から分岐した分岐管88が連通接続されている。この分岐管88には、開閉弁89が取り付けられている。開閉弁89が開放された際には、供給口85から流入したエアが排気口87を通してチャンバー37から排気されるようになっている。
次に、図4を参照してドライエア供給源75について説明する。なお、図4は、ドライエア供給源の動作説明図である。
ドライエア供給源75は、基板処理装置の洗浄乾燥部21と連携して動作する。具体的には、その運転信号に応じて動作し、異常が発生した場合には洗浄乾燥部21に対して総合異常信号を出力する。なお、ドライエア供給源75は、クリーンルームのエアの露点(例えば相対湿度40%の6,7℃)以下の湿度であって、露点が−20℃以下、より好ましくは−60℃以下のエアを生成するのが好ましい。特に、半導体デバイスのクリティカルな用途では、より高い清浄度が求められるので上記エアが好適である。クリティカルな用途とは、例えば、ゲート酸化膜前洗浄やゲート絶縁膜堆積(CVD)前洗浄後の乾燥のことである。
運転信号がオフ、つまりスタンバイ時には、開閉弁77,89は閉止され、開閉弁83は開放され、図中に二点鎖線で示すようにドライエアが供給される。
すなわち、ドライエア供給源75はクリーンルーム大気を吸気し、除湿してドライエアを生成するとともに、除湿剤再生エアを生成する。これらの割合は、ほぼ半分ずつである。そして、ドライエアを主配管73に供給しつつ、除湿剤再生用に利用したエアは水分を含むので、それを熱排気(例えば80℃)として排気している。ドライエアは、排気管79を通して排気されている。
すなわち、ドライエア供給源75はクリーンルーム大気を吸気し、除湿してドライエアを生成するとともに、除湿剤再生エアを生成する。これらの割合は、ほぼ半分ずつである。そして、ドライエアを主配管73に供給しつつ、除湿剤再生用に利用したエアは水分を含むので、それを熱排気(例えば80℃)として排気している。ドライエアは、排気管79を通して排気されている。
なお、洗浄乾燥部21の初期状態や洗浄処理の終了前では、開閉弁77が開放され、閉止された蓋部材65からチャンバー37内にドライエアを供給し、内部を乾燥状態に維持している。つまり、吸引口61cからの吸引を行わないで、以下のような運転状態に近い動作を行っている。
運転信号がオン、つまり、基板Wの搬入出時や乾燥処理時には、開閉弁77又は開閉弁89が開放されるとともに、開閉弁83が閉止される。これにより排気管79を通して排気されていたドライエアが供給され、チャンバー37の上部にエアカーテンを形成したり、基板保持部57に載置された基板Wにドライエアを供給したりする。
次に、図5から図7を参照して、上述した洗浄乾燥部21の動作について説明する。なお、図5は基板の搬入時における動作説明図であり、図6は洗浄処理時における動作説明図であり、図7は基板の乾燥処理時における動作説明図である。
ここで、第1副搬送機構25は、例えば、第1処理部19の薬液処理部23で所定の薬液処理を終えた複数枚の基板Wを保持したまま、図5に示すように第1処理部19の洗浄乾燥部21の上方あたる非処理位置に移動しているものとする。さらに、蓋部材65が開放され、チャンバー37の開口37aが開放されているものとする。また、蓋部材37が開放されるのとほぼ同時に、開閉弁83を閉止するとともに開閉弁89を開放する。これによりチャンバー37の上部にドライエアによるエアカーテンが形成され、蓋部材65の開閉時に発生するパーティクルや、クリーンルーム内に浮遊している湿度の高い気体、パーティクル等がチャンバー37内に流れ込むことを防止できる。したがって、以下の洗浄・乾燥処理をより清浄に施すことができる。なお、図5では、開放されている蓋部材65により第1副搬送機構25が薬液処理部23から洗浄乾燥部21側に移動できないように見えるが、第1副搬送機構25は開放された蓋部材65の上方を通過して非処理位置にまで基板Wを移動させている。
また、制御弁51が開放されて所定の流量で純水供給源49から純水が供給され、注入管43を介して処理槽35の内槽39に処理液として供給されているものとする。この例では、洗浄乾燥部29における処理は純水洗浄だけとするが、例えば、ミキシングバルブ53を介して薬液を純水に混合し、薬液を含む処理液による処理を純水による洗浄処理の前に行うようにしてもよい。
基板Wを受け取っている第1副搬送機構25は、図5及び図6に示すように、エアカーテンを通過させてこれらの基板Wを洗浄乾燥部21の処理槽35内に搬入する。具体的には、基板Wを内槽39内の処理位置に下降させ、図6に示すように第1副搬送機構25はその位置を維持する。基板Wが処理位置に達すると、蓋部材65を閉止してチャンバー37内を閉塞する。蓋部材65が閉止されると、制御弁77,89を閉止し、制御弁83を開放して、チャンバー37内へのドライエア供給を停止する。そして、この状態を所定時間だけ維持して、基板Wに対して洗浄処理を施す。
所定時間に達すると、制御弁51を閉止して処理槽35に対する処理液の供給を停止するとともに、排出口45を開放する。これにより内槽39に貯留していた処理液が排出され、基板Wに対する洗浄処理が完了する。
洗浄液の排出完了とともに、制御弁77を開放し、さらに基板保持部57に対する吸引源による吸引を開始する。これにより、図7に示すように、蓋部材65の下面から下方に向けて、清浄なドライエアが供給されて基板Wに対して乾燥処理が施される。ドライエアは、垂直整流板63に沿って流下するとともに、基板Wの周囲を流下し、内槽39を経て排出口45から排出される。したがって、基板Wは、蓋部材65の下面から供給されるドライエアの蒸発効果と、基板保持部57の吸引穴61cによる吸引効果との相乗効果により、数十秒程度(例えば30秒未満)という短時間で迅速かつ完全に乾燥される。
上記の乾燥処理を所定時間施した後、制御弁77を閉止するとともに、制御弁89を開放し、蓋部材65を開放する。そして、第1副搬送機構25を動作させて基板保持部57を処理位置から非処理位置にまで移動させる。その後、第1副搬送機構25から第3搬送機構15に洗浄乾燥処理を施した基板Wを移載し、第1搬送機構11を介して載置台9のカセット1に基板Wを収納する。
このように乾燥処理を洗浄処理と同じチャンバー37内で実施するので、乾燥処理のために基板Wをチャンバー37外の空気に晒して移動する必要がない。さらに、処理槽35による洗浄処理の後の乾燥処理時には、チャンバー37の上部開口37aを蓋部材65によって閉塞することにより、チャンバー37を密閉することができる。したがって、乾燥処理中であってもチャンバー37の上方で基板Wの搬送を行うことができ、好適に乾燥処理を行うことができる。
なお、本実施例1は、洗浄処理に用いた処理液を処理槽35から排出し、その後、吸引穴61cから吸引を行いつつ乾燥処理を施すので、基板Wを昇降すらさせる必要が無く迅速に乾燥処理に移行することができ、この点において後述する実施例2よりも利点を有する。
また、上記の処理では、基板保持部57を処理槽35内の処理位置に維持したまま吸引したが、処理液を排出することなく処理槽35上方に基板保持部57を上昇させた状態で吸引及びドライエアの供給を行って乾燥させるようにしてもよい。
さらに、昇降自在の基板保持部57とは別体で処理槽35内に固定保持部を設け、処理液の排出後に固定保持部で吸引を行うようにしてもよい。つまり、基板保持部57は基板の搬送だけに専念する形態であってもよい。
次に、上述した洗浄乾燥部21が備えている基板保持部57の実施形態について図8を参照して説明する。なお、図8は、基板保持部の一部拡大図であり、(a)は平面図、(b)は側面図、(c)は正面から見た縦断面図である。
係止部材61は、基板Wの厚みよりもやや幅広の係止溝61aの間隔(基板Wの支持ピッチ)をおいて立設された複数個の突起61bを有する。突起61bは、例えば、図8(b)に示すように、基板Wの整列方向における形状が三角形状を呈し、基板Wの整列方向に面した各傾斜面で基板Wを係止溝61aに案内する。係止溝61aには、吸引穴61cが形成されている。各吸引穴61cは、図8(a)に示すように、平面視で基板Wの外周に沿った方向に長径を有する長穴に形成されており、係止部材61の長手方向に形成された吸引通路61eに連通している。
なお、吸引穴61cの短径は、従来例における丸穴の径と同等である。上記の吸引通路61dは、外部に延出された配管を通して吸引源に連通されている。また、複数個の突起61bの厚みは、図示の関係上、係止溝61aに対する比率において実際のものとは相違する。具体的には、係止溝61aがより近接する程度に薄いものである。
このような構成とすると、図9に示すように、平面視で長穴形状を呈する吸引穴61cの形状が、基板Wの外周に沿った方向に実質的に拡げられた形状をしているので、乾燥処理時には、従来例における丸穴PRの斜め上方に位置する、基板W下縁部の両外側にあたる部分(図9中の点線で囲った領域R)であっても吸引が行われ、十分に乾燥用の気体が流下する。したがって、その部分の乾燥も十分に早く、液残りを防止することができてシミの発生を防止することができる。
換言すると、吸引穴61cを長穴にしたことにより、基板Wを当接保持することになる吸引穴61cの外周は、単なる丸穴に比較して、基板Wの円周方向に対して係止部材61の中心部から見てそれぞれ両外側に移動する。これにより、係止部材61の係止溝61aの上面外周部と基板Wの下円弧部分で挟まれる角度θ(図8(c)に示す)が大きくなる。したがって、この部分で純水の液滴が保持されにくく、若しくは保持する液滴の大きさが小さくなる。また、角度θが大きくなることに伴い、ここから吸引穴61cに向かう除湿エアの流れが生じやすくなる。これらの両効果によって、より乾燥が促進できる。
次に、基板保持部57の他の実施形態について図10を参照して説明する。なお、図10は、基板保持部の一部拡大図であり、(a)は平面図、(b)は側面図、(c)は正面から見た縦断面図である。
この実施形態における吸引穴61cは、基板Wの外周に沿った方向に沿って形成された二つの小径穴61c1,61c2で構成されている。これらの小径穴61c1,61c2は、従来例にある単なる丸穴と同等の径を有する。
この場合、図11に示すように、吸引穴61cの形状が、基板Wの外周に沿った方向に実質的に拡げられた形状をしているので、丸穴の斜め上方に位置する、基板W下縁部の両外側にあたる部分(図11中の点線で囲った領域R)であっても吸引が行われ、十分に乾燥用の気体が流下する。したがって、その部分の乾燥も十分に早く、液残りを防止することができてシミの発生を防止することができる。
換言すると、吸引穴61cを二つの小径穴61c1,61c2で構成したことにより、基板Wは二つの小径穴61c1,61c2の間にあたる係止溝61aによって当接保持される。したがって、この部分に溜まる液滴は、両側の小径穴61c1,61c2に流入する除湿エアで容易に乾燥する。また、係止部材61の係止溝61aの上面外周部と基板Wの下円弧部分で挟まれる角度θ(図10(c)に示す)が大きくなる。したがって、この部分で純水の液滴が保持されにくく、若しくは保持する液滴の大きさが小さくなる。角度θが大きくなることに伴い、ここから吸引穴61cに向かう除湿エアの流れが生じやすくなる。これらの両効果により、従来例に比較して乾燥が促進できる。
また、本実施形態は、従来とほぼ同じ径の小径穴61c1,61c2を二つ形成すればよく、加工が容易にできる利点がある。
次に、基板保持部57の他の実施形態について図12を参照して説明する。なお、図12は、基板保持部の一部拡大図であり、(a)は平面図、(b)は側面図、(c)は正面から見た縦断面図である。
本実施例における吸引穴61cは、基板Wの外周に沿った方向に長径を有する長穴61c3と、平面視ほぼ円形状の丸穴61c4とを、平面視で互いの中心がほぼ一致するように重ねて形成してなる複合穴から構成されている。なお、丸穴61c4は、従来例にある単なる丸穴と同等の径を有する。
この場合も、図13に示すように、吸引穴61cの形状が、基板Wの外周に沿った方向に実質的に拡げられた形状をしているので、図13中の点線で囲った領域Rであっても吸引が行われ、十分に乾燥用の気体が流下する。したがって、上述した各実施形態と同様に、液残りを防止することができてシミの発生を防止できる。
換言すると、吸引穴61cを複合穴にしたことにより、基板Wを当接保持することになる吸引穴61cの外周は、従来例に比較し、基板Wの円周方向に対して係止部材61の中心部から見て両外側に移動する。これにより、係止部材61の係止溝61aの上面外周部と基板Wの下円弧部分で挟まれる角度θ(図12(c)に示す)が大きくなる。したがって、この部分で純水の液滴が保持されにくく、若しくは保持する液滴の大きさが小さくなる。また、角度θが大きくなることに伴い、ここから吸引穴61cに向かう除湿エアの流れが生じやすくなる。これらの両効果により、従来例にある単なる丸穴に比較して乾燥が促進できる。
なお、この吸引穴61cは、上述した実施形態のように長穴61c3を形成した後に、丸穴61c4を形成すればよく、加工が比較的容易であるという利点がある。
次に、基板保持部57の他の実施形態について図14〜図16を参照して説明する。なお、図14は、基板保持部を横方向から見た一部拡大縦断面図であり、図15は基板保持部を正面から見た一部拡大縦断面図であり、図16は基板保持部の一部を拡大した斜視図である。
係止部材61の上部、つまり凹溝61eには、多孔質部材93が埋設されている(ポーラス部材とも呼ばれる)。このように吸引穴61cの上部に多孔質部材93を配していることから基板Wの端縁がはまり込むことがないので、図15に示すように、基板Wの外周に沿った方向に吸引穴61cの長さを従来よりも長くすることができる。
なお、ここにおける多孔質部材93は、その目的から、いわゆる独立気泡型のものではなく、通気性がある、いわゆる連続気泡型であることが必須である。例えば、多孔質部材93としては、多孔質SiC、発泡樹脂(発泡ポリウレタンなど)が挙げられる。
このような構成によると、図17に示すように、基板Wの外周に沿った方向に従来の吸引孔PRよりも長く形成されている吸引穴61c及び多孔質部材93を通して吸引するので、従来例であれば、水滴の残る箇所からも効果的に水滴を吸引できる。また、従来例のように一つの吸引穴PRから直接的に吸引するよりも基板Wの外周に沿った方向に広く分散して除湿エアを吸引することができる。
したがって、吸引穴61cの直上に位置する基板Wの下縁部だけでなく、その両外側に位置する基板Wの円弧部分(図17中に点線で示す領域R)においても水滴を吸引でき、また除湿エアを十分に吸引させることができる。その結果、基板Wの下縁の両外側(R)をも十分に乾燥させることができ、液残りに起因するシミの発生を防止することができる。
なお、上記の基板保持部57を図18に示すような形態で実施してもよい。
ここで図18は、その他の実施例を示し、基板保持部の一部を正面から見た縦断面図である。
ここで図18は、その他の実施例を示し、基板保持部の一部を正面から見た縦断面図である。
すなわち、基板保持部57の係止部材61の上部に多孔質部材93Aを備える。この多孔質部材93Aは、縦断面が上向きの半円形状に形成されており、その円弧部分の上面に多孔膜95が被着されている。
この多孔質部材93Aとしては、例えば、通気性を有するSiC、アルミナ、多孔質セラミックス、焼結石英、焼結金属などが例示される。これらは一般に基板Wよりも硬度が高いので、基板Wの端縁に傷が生じたりする恐れがある。そこで、その表面に多孔膜95を被着することにより、傷等が生じるのを防止することができる。
多孔膜95としては、弾性を有して基板Wの損傷を防止できる樹脂等の被膜が好ましく、具体的にはポリイミド樹脂の被膜が例示される。形成方法としては、例えば、ポリイミド樹脂を多孔質部材93Aの上面に被着した後、フォトレジスト被膜をその上に被着し、多孔のマスクパターンを形成した後にポリイミド樹脂をエッチングして多孔膜95を形成する。
また、電着によって形成すれば、多孔質部材93Aの孔部分以外に樹脂等を被着することができ、少ない工程で多孔膜95を形成することが可能である。
上記のような形態であっても、吸引穴61cの直上に位置する基板Wの下縁部だけでなく、その両外側に位置する基板Wの円弧部分R(図18中に示す点線の領域)においても水滴を吸引でき、また除湿エアを十分に吸引させることができる。したがって、既に詳述した実施形態と同様の作用・効果を奏する。しかも、多孔質部材93Aが上向き円弧状の断面形状を有するので、点接触とすることができ、先に詳述した実施形態に比較して基板Wの下縁と接触する面積を少なくすることができる。
次に、図19〜21を参照してこの発明の実施例2を説明する。
図19は実施例2に係る洗浄乾燥部の概略構成を示した縦断面図であり、図20は移載及び乾燥処理時の動作説明図である。なお、上記実施例1と同じ構成については同符号を付すことで詳細な説明については省略する。
図19は実施例2に係る洗浄乾燥部の概略構成を示した縦断面図であり、図20は移載及び乾燥処理時の動作説明図である。なお、上記実施例1と同じ構成については同符号を付すことで詳細な説明については省略する。
本実施例装置は、上記の構成に加え、中間チャック機構97と、側方供給ノズル99と、側方排気口101と、IPA供給ノズル103とを備えている。但し、基板保持部57の吸引に係る機構は備えていない。
中間チャック機構97は、上述した実施例1の基板保持部57と同様の支持部材や係止部材、係止溝、吸引穴等を備えており、同様に吸引源に連通接続されている。また、水平軸P1周りに回転自在であり、図19中に実線で示す待避位置と、同図中に二点鎖線で示す保持位置とにわたって移動可能に構成されている。
中間チャック97の側方にあたるチャンバー37の一方側には、側方供給ノズル99が備えられ、対向する他方側には側方排気口101が備えられている。側方供給ノズル99は、上述したドライエア供給源75に連通接続されている。側方供給ノズル99から供給されたドライエアは、垂直整流板65を透過して中間位置にある基板Wに向かう。IPA供給ノズル103は、図示しないIPA供給源に連通されており、IPA(イソプロピルアルコール)を噴霧して処理槽35の上部に供給するものである。
また、チャンバー37は、処理槽35の側方にあたる底部に底部排気口105を備えている。この底部排気口105は開閉自在に構成されており、主として蓋部材65からドライエアが供給される際に排気用に利用される。
このように構成されている装置は、次のように動作するが、洗浄処理については上述した実施例1と同様であるので説明を省略する。なお、中間チャック機構97は、図19に示す待避位置にあるものとする。
洗浄処理が完了すると、処理槽35内の処理液を排出することなく、基板保持部57を処理位置(内槽39内の洗浄処理を行う位置)から上昇させ、図19中に示す中間位置にまで基板Wを移動させる。このとき、基板Wの上縁が処理液の液面から出るまでにIPA供給ノズル103からIPAの噴霧を開始し、基板Wが中間位置に移動すると同時にそれを停止する。これにより、基板Wに付着している処理液が置換されて基板Wの乾燥が促進される。なお、IPAの乾燥を促進するため、底部排気口105から弱く排気を行って減圧しておくことが好ましい。この移動により、チャンバー37内には、図20に示す位置に基板Wが位置することになる。
中間位置に基板Wが移動すると、図20に示すように中間チャック機構97を作動させ、その位置を保持位置に移動する。これにより、中間チャック機構97はその係止溝で基板Wを受け取る。そして、基板保持部57は、図20に示すように、処理槽39の若干上方にあたる待機位置に下降して待機する。
次に、制御弁77を開放してドライエア供給源75からドライエアを蓋部材65に対して供給し、中間位置にある基板Wに対して上方からドライエアを供給する。これとともに底部排気口105から排気を行う。さらに、吸引源による中間チャック機構97の吸引を行って乾燥処理が行われる。これにより基板Wは、蓋部材65の下面から供給されるドライエアの蒸発効果と、中間チャック機構97による吸引効果と、IPAの置換効果との相乗効果により、より短時間で迅速かつ完全に乾燥される。
なお、この実施例では、IPAによる置換を乾燥処理時に併用しているので、基板W面におけるメニスカス部を抑制でき、基板Wの処理液からの引き上げ時においても乾燥が促進される。
上記の乾燥処理が終了すると、基板保持部57が待避位置から上昇し、吸引が解除された中間チャック機構97から基板Wを受け取り、蓋部材65の開放とともに上方の非処理位置にまで上昇する。
また、上記の乾燥処理は、次のように行ってもよい。
すなわち、図21に示すように、基板Wを中間位置に移動するまでの間、あるいは移動した後、制御弁77を閉止したまま制御弁89を開放して供給口85と側方供給ノズル99からのみドライエアをチャンバー37内に供給する。これにより、処理液面から顔を出して中間処理に移動する基板Wまたは中間位置に移動した基板Wの側方からドライエアを供給することになり、側方から乾燥処理を施すことができる。
すなわち、図21に示すように、基板Wを中間位置に移動するまでの間、あるいは移動した後、制御弁77を閉止したまま制御弁89を開放して供給口85と側方供給ノズル99からのみドライエアをチャンバー37内に供給する。これにより、処理液面から顔を出して中間処理に移動する基板Wまたは中間位置に移動した基板Wの側方からドライエアを供給することになり、側方から乾燥処理を施すことができる。
なお、蓋部材65からのドライエア供給と、供給口85と側方供給ノズル99からのドライエア供給とを交互に切り替えて行ってもよい。
また、本実施例2は、処理槽35での洗浄処理後、処理槽35上方の中間チャック機構97に基板Wを移載した後に乾燥させるので、移載時に、基板Wの端縁に付着した大きめの液滴をある程度落下させることができ、その後の乾燥処理を円滑に行うことができるという、実施例1に対する有利な点を備えている。
この発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。
(1)乾燥用の気体としてクリーンルームのエアを利用しているが、乾燥用の不活性ガス(例えば、窒素)を代用してもよい。
(2)蓋部材65の開閉時にパーティクルが生じない構成である場合や、その開閉時において発生するパーティクルの影響がない場合には、エアカーテンを形成する構成を備える必要はない。
(3)蓋部材65から清浄な気体が供給できる場合には、フィルタ71を蓋部材65に備える必要はない。また、クリーンルームから清浄な気体が供給できる場合には、蓋部材65を備える必要はない。
(4)基板Wを処理液から引き上げる前に電解水を内槽39に供給する手段をさらに備え、基板Wからのシリコンの溶出を抑制するようにしてもよい。
以上のように、この発明は、基板に対する洗浄及び乾燥を連続的に行う処理に適している。
W … 基板
1 … カセット
3 … 載置部
11 … 第1搬送機構
13 … 第2搬送機構
19 … 第1処理部
21 … 洗浄乾燥部
23 … 薬液処理部
25 … 第1副搬送機構
35 … 処理槽
37 … チャンバー
39 … 内槽
41 … 注入管
47 … 処理液供給管
51 … 制御弁
55 … 背板
57 … 基板保持部
59 … 支持部材
65 … 蓋部材
71 … フィルタ
97 … 中間チャック機構
99 … 側方供給ノズル
101 … 側方排気口
103 … IPA供給ノズル
105 … 底部排気口
1 … カセット
3 … 載置部
11 … 第1搬送機構
13 … 第2搬送機構
19 … 第1処理部
21 … 洗浄乾燥部
23 … 薬液処理部
25 … 第1副搬送機構
35 … 処理槽
37 … チャンバー
39 … 内槽
41 … 注入管
47 … 処理液供給管
51 … 制御弁
55 … 背板
57 … 基板保持部
59 … 支持部材
65 … 蓋部材
71 … フィルタ
97 … 中間チャック機構
99 … 側方供給ノズル
101 … 側方排気口
103 … IPA供給ノズル
105 … 底部排気口
Claims (5)
- 基板に洗浄処理を施した後、乾燥処理を施す基板洗浄乾燥装置において、
処理液を貯留し、基板を浸漬して洗浄処理を施す処理槽と、
基板を搬入出するための開口を上部に有し、前記処理槽を覆う処理室と、
吸引のための吸引穴が形成されているとともに、その上部に通気性のある多孔質部材を備えて前記処理室内で基板を保持する保持手段とを備え、
前記処理槽による洗浄処理の後、前記処理室内において前記保持手段の吸引穴から吸引するとともに、基板に向けて気体を供給して乾燥処理を行うことを特徴とする基板洗浄乾燥装置。 - 請求項1に記載の基板洗浄乾燥装置において、
前記保持手段は、基板接触部にのみ前記多孔質部材を備えていることを特徴とする基板洗浄乾燥装置。 - 請求項1または2に記載の基板洗浄乾燥装置において、
前記多孔質部材は、多孔質セラミックであり、上面に細孔を有する樹脂コーティングを施してあることを特徴とする基板洗浄乾燥装置。 - 請求項1から3のいずれかに記載の基板洗浄乾燥装置において、
前記多孔質部材は、発泡樹脂であることを特徴とする基板洗浄乾燥装置。 - 請求項1から4のいずれかに記載の基板洗浄乾燥装置において、
基板の上方より気体を供給することを特徴とする基板洗浄乾燥装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003331662A JP2005101185A (ja) | 2003-09-24 | 2003-09-24 | 基板洗浄乾燥装置 |
US10/947,712 US7415985B2 (en) | 2003-09-24 | 2004-09-23 | Substrate cleaning and drying apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003331662A JP2005101185A (ja) | 2003-09-24 | 2003-09-24 | 基板洗浄乾燥装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005101185A true JP2005101185A (ja) | 2005-04-14 |
Family
ID=34509652
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003331662A Abandoned JP2005101185A (ja) | 2003-09-24 | 2003-09-24 | 基板洗浄乾燥装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2005101185A (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP2019161097A (ja) * | 2018-03-15 | 2019-09-19 | シンフォニアテクノロジー株式会社 | Efemシステム及びefemシステムにおけるガス供給方法 |
JP2020131330A (ja) * | 2019-02-18 | 2020-08-31 | 株式会社荏原製作所 | 研磨装置および研磨方法 |
CN115837088A (zh) * | 2022-10-18 | 2023-03-24 | 中山大学附属第一医院 | 一种医疗消毒车 |
-
2003
- 2003-09-24 JP JP2003331662A patent/JP2005101185A/ja not_active Abandoned
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|
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|
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|
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