KR101832808B1 - 폴리싱 장치 - Google Patents

Abstract

본원은 폴리싱 장치에 관한 것으로서, 저가의 장비로 대면적에 대한 폴리싱 작업이 가능하게 하고, 여러 사이즈에 대응하여 폴리싱 작업을 할 수 있는 간단한 구조의 폴리싱 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 상기한 과제를 달성하기 위하여, 본원의 한 실시예에 따르면 대상체가 안착되어 고정되는 정반을 포함하는 베이스부; 및 상기 대상체에 접촉되어 폴리싱을 수행하는 헤드부를 포함하되, 상기 베이스부는 상기 헤드부에 대하여 상대적으로 수평 방향 이동 가능한 것인 폴리싱 장치가 제공된다.

Description

폴리싱 장치{POLISHING APPARATUS}

본원은 대면적 경면 폴리싱 등에 적용 가능한 폴리싱 장치에 관한 것이다.

기존의 폴리싱 방식인 회전 정반 방식은 회전 정반의 크기가 제품 길이의 2배 이상을 요구하고 있어 회전 정반의 사이즈가 커지게 되면서 장비제작비용이 높아지는 측면이 있다. 또한, 기존의 회전 정반 방식은 장비가 차지하는 면적에 의한 생산 단가도 높아지는 측면이 있다.

한편, 디스플레이 시장이 발달하면서 대면적 경면 폴리싱의 요구가 늘어나고 있다. 특히, OLED 분야의 경우, 길이 1 m에 가까운 대면적 Ti에 대한 경면 폴리싱 기술을 요구하고 있다. 그런데, 상기와 같은 기존의 회전 정반 방식은 이러한 대면적 폴리싱 장비에 적용하였을 때 회전 정반의 사이즈가 과도하게 커져야만 하기 때문에, 장비제작비용이 크게 상승하고 장비가 차지하는 면적 또한 크게 증가되는 문제점이 있었다.

본원의 배경이 되는 기술은 일본공개특허공보 제2012-238824호에 개시되어 있다.

본원은 전술한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 하나의 장비를 통해 여러 대상체의 다양한 사이즈에 플렉시블하게 대응할 수 있으며, 복잡하지 않은 간단한 구조를 이용하고 장비가 차지하는 면적을 대상체에 대응하여 최소화할 수 있어 장비제작비용을 절감하면서도 효율적인 폴리싱을 수행할 수 있는 폴리싱 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.

다만, 본원의 실시예가 이루고자 하는 기술적 과제는 상기된 바와 같은 기술적 과제들도 한정되지 않으며, 또 다른 기술적 과제들이 존재할 수 있다.

상기한 기술적 과제를 달성하기 위한 기술적 수단으로서, 본원의 제1 측면에 따른 폴리싱 장치는 대상체가 안착되어 고정되는 정반을 포함하는 베이스부; 및 상기 대상체에 접촉되어 폴리싱을 수행하는 헤드부를 포함하되, 상기 베이스부는 상기 헤드부에 대하여 상대적으로 수평 방향 이동 가능한 것일 수 있다.

또한, 상기 정반은 상기 대상체의 열을 냉각할 수 있는 냉각수라인을 포함할 수 있다.

또한, 상기 베이스부는 X축 방향으로 상기 정반을 이동시키는 X축 이송 구동부와 Y축 방향으로 상기 정반을 이동시키는 Y축 이송 구동부를 포함할 수 있다.

또한, 상기 헤드부는 X축 방향으로 접촉헤드를 이송시키는 X축 이송 구동부와 Y축 방향으로 상기 접촉헤드를 이송시키는 Y축 이송 구동부를 포함할 수 있다.

또한, 상기 정반은 석정반일 수 있다.

또한, 상기 베이스부는 상기 정반의 일측과 이웃하여 배치되는 드레싱부를 포함할 수 있다.

또한, 상기 헤드부는 상기 대상체에 접촉되는 접촉헤드; 상기 접촉헤드에 하향 압력을 가하는 가압부; 상기 접촉헤드를 회전시키는 회전 구동부; 및 상기 접촉헤드 상에 배치되어 상기 가압부의 가압력 및 상기 회전 구동부의 회전력을 상기 접촉헤드에 전달하는 가압헤드를 포함할 수 있다.

또한, 상기 가압헤드는 상기 대상체의 열을 냉각할 수 있는 냉각 순환라인을 가질 수 있다.

또한, 상기 가압헤드에는 연마제 공급 노즐이 배치되도록 중앙 부분에 상하방향으로 통공된 연마제 공급 홀이 형성될 수 있다.

또한, 상기 접촉헤드는 상기 가압헤드에 대하여 탈착 가능하게 장착될 수 있다.

또한, 상기 가압헤드는 상기 대상체의 상면의 면 기울기를 따라 상기 접촉헤드를 기울임 정렬시키는 자동 조심(self-aligning) 구조를 포함할 수 있다.

또한, 상기 베이스부 및 상기 헤드부의 구동을 제어하는 제어부를 포함하고, 상기 제어부는 상기 정반 상의 대상체 중 적어도 일부에 대하여 상기 헤드부가 X축 방향을 따라 지그재그 형태로 상대적으로 이동되도록 제어하며, 상기 지그재그 형태는, 상기 헤드부가 Y축 방향에 대한 상기 정반 상의 대상체의 양측으로 교번하여 이동하면서 X축 방향을 따라 상대적으로 이동되는 형태일 수 있다.

또한, 상기 제어부는 상기 헤드부의 중심이 Y축 방향에 대한 상기 정반 상의 대상체의 양측 끝단까지 이동되도록 상기 헤드부의 상대적인 이동을 제어할 수 있다.

또한, 상기 제어부는 X축 방향으로의 교번 주기에 대응하는 교번 간격이 접촉헤드의 반경보다 작도록 상기 베이스부 및 상기 헤드부 중 적어도 하나를 제어할 수 있다.

또한, 상기 제어부는 상기 정반 상의 대상체 중 일부에 대하여 상기 헤드부가 X축 방향을 따라 지그재그 형태로 상대적으로 이동되도록 제어하고, 상기 정반 상의 대상체 중 다른 일부에 대하여 상기 헤드부가 불규칙적인 경로를 따라 상대적으로 이동되도록 제어할 수 있다.

또한, 상기 정반 상의 대상체 중 일부는 상기 정반 상의 대상체의 중간 영역이고, 상기 정반 상의 대상체 중 다른 일부는 X축 방향에 대한 상기 정반 상의 대상체의 양측 단부 영역일 수 있다.

또한, 상기 정반 상의 대상체의 양측 단부 영역은 X축 방향에 대하여 상기 정반 상의 대상체의 양측 끝단으로부터 접촉헤드의 반경에 대응하는 범위 이상의 영역일 수 있다.

또한, 상기 제어부는, 상기 헤드부가 상기 대상체에 대하여 상대적으로 이동되어 상기 양측 단부 영역 중 어느 하나에 진입하고 나면, 상기 양측 단부 영역 중 어느 하나의 영역 범위 내에서 정반사형 이동을 하도록 상기 헤드부를 제어하고, 상기 양측 단부 영역의 X축 방향으로의 범위는 상기 헤드부의 X축 방향으로의 교번 주기에 대응하는 교번 간격의 절반의 배수에 대응되지 않도록 설정될 수 있다.

또한, 상기 불규칙적인 경로는, 상기 양측 단부 영역의 X축 방향으로의 범위가 상기 헤드부의 X축 방향으로의 교번 주기에 대응하는 교번 간격의 절반의 배수에 대응되지 않도록 설정된 상태에서, 상기 정반사형 이동이 이루어짐으로써 제공될 수 있다.

또한, 상기 제어부는, 미리 설정된 시간이 경과하면 상기 양측 단부 영역 중 어느 하나의 영역 범위 내에서의 정반사형 이동 제어를 종료하고 상기 헤드부가 상기 중간 영역을 통과하여 상기 양측 단부 영역 중 다른 하나에 진입하도록 제어할 수 있다.

또한, 상기 미리 설정된 시간은, 상기 헤드부가 상기 정반사형 이동을 통해 상기 양측 단부 영역 중 어느 하나의 X축 방향으로의 양측 경계부를 적어도 2회 왕복하는 데 소요되는 시간 이상으로 설정될 수 있다.

또한, 상기 정반의 양측 단부 영역의 X축 방향으로의 범위는, 상기 헤드부가 상기 정반사형 이동을 통해 상기 양측 단부 영역 중 어느 하나의 X축 방향으로의 양측 경계부를 왕복할 때마다 확장될 수 있다.

상술한 과제 해결 수단은 단지 예시적인 것으로서, 본원을 제한하려는 의도로 해석되지 않아야 한다. 상술한 예시적인 실시예 외에도, 도면 및 발명의 상세한 설명에 추가적인 실시예가 존재할 수 있다.

전술한 본원의 과제 해결 수단에 의하면, 대상체가 안착되는 정반을 포함하는 베이스부가 폴리싱을 수행하는 헤드부에 대하여 상대적으로 수평 방향 이동 가능하도록 구비됨으로써, 간단한 구조로 만들어진 저가의 장비를 이용하여 정반 사이즈 내에서는 여러 대상체의 사이즈에 플렉시블하게 대응하여 폴리싱할 수 있고, 종래 회전 정반 폴리싱 장비에 비해 장비가 차지하는 면적을 최소화할 수 있어, 시장에서 요구하는 빠른 생산과 저비용 생산에 대응하여 저가의 장비로도 효과적인 폴리싱(예를 들어 경면 폴리싱)을 가능하게 할 수 있다.

도 1은 본원의 일 실시예에 따른 폴리싱 장치의 사시도이다.
도 2는 본원의 일 실시예에 따른 폴리싱 장치의 정면도이다.
도 3은 본원의 일 실시예에 따른 폴리싱 장치의 우측면도이다.
도 4는 본원의 일 실시예에 따른 폴리싱 장치의 좌측면도이다.
도 5는 본원의 일 실시예에 따른 폴리싱 장치의 헤드부를 설명하기 위한 개념도이다.
도 6은 본원의 일 실시예에 따른 폴리싱 장치의 헤드부가 대상체에 대하여 상대적으로 이동되는 경로의 일 구현예를 설명하기 위한 개념도이다.
도 7은 본원의 일 실시예에 따른 폴리싱 장치의 헤드부가 대상체에 대하여 상대적으로 이동되는 경로의 다른 구현예를 설명하기 위한 개념도이다.
도 8 및 도 9는 본원의 일 실시예에 따른 폴리싱 장치의 헤드부가 대상체에 대하여 상대적으로 이동되는 경로의 구체적인 일 구현예를 설명하기 위한 개념도이다.

아래에서는 첨부한 도면을 참조하여 본원이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본원의 실시예를 상세히 설명한다. 그러나 본원은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 그리고 도면에서 본원을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.

본원 명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 "연결"되어 있다고 할 때, 이는 "직접적으로 연결"되어 있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 다른 소자를 사이에 두고 "전기적으로 연결"되어 있는 경우도 포함한다.

본원 명세서 전체에서, 어떤 부재가 다른 부재 "상에", "상부에", "상단에", "하에", "하부에", "하단에" 위치하고 있다고 할 때, 이는 어떤 부재가 다른 부재에 접해 있는 경우뿐 아니라 두 부재 사이에 또 다른 부재가 존재하는 경우도 포함한다.

본원 명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함" 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.

참고로, 본원의 실시예에 관한 설명 중 방향이나 위치와 관련된 용어(X축, Y축, 상부, 하향 등)는 도면에 나타나 있는 각 구성의 배치 상태를 기준으로 설명한 것이다. 예를 들면, 도 2에서 보았을 때 9시-3시 방향이 X축 방향일 수 있고, 도 3 또는 도 4에서 보았을 때 9시-3시 방향이 Y축 방향일 수 있다. . 또한, 도 2 내지 도 4에서 보았을 때, 12시-6시 방향이 상하 방향일 수 있다.

이하에서는 본원의 실시예에 따른 폴리싱 장치(100)에 대하여 설명한다.

도 1은 본원의 일 실시예에 따른 폴리싱 장치의 사시도이고, 도 2는 본원의 일 실시예에 따른 폴리싱 장치의 정면도이다. 도 3은 본원의 일 실시예에 따른 폴리싱 장치의 우측면도이고, 도 4는 본원의 일 실시예에 따른 폴리싱 장치의 좌측면도이다.

폴리싱 장치(100)는 베이스부(110) 및 헤드부(120)를 포함한다. 베이스(110)부의 상부에 헤드부(120)가 배치될 수 있다.

베이스부(110)는 대상체(500)가 안착되어 고정되는 정반(111)을 포함한다.

여기서 대상체(500)는 폴리싱의 대을 하는 제품으로서, 폴리싱 기술을 이용해 제조 및 임가공이 필요한 대상을 포괄적으로 지칭하는 개념으로 이해될 수 있다. 예를 들어, 대상체(500)는 티타늄, 세라믹, SIC, 사파이어 등을 포함하는 재질을 가질 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다. 예시적으로, 대상체(500)는 OLED 분야에 적용되는 Ti 재질의 제품, 반도체 장비 부품, 세라믹 홀더, 밸브, 박형 디스플레이 용도의 THIN 사파이어 제품, 알루미늄 소재 미러 등일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.

또한, 대상체(500)는 정반(111)의 상면 상에 안착된 상태에서, 그 둘레가 X축 및 Y축 중 하나 이상의 방향으로 움직이는 것을 방지하도록 가이드하는 고정 유닛에 의해 고정될 수 있다. 예를 들면, 상기 고정 유닛은 장공이 형성된 고정 부재 및 상기 고정 부재의 장공에 조임 결합되는 나사 부재를 포함할 수 있다. 또한, 정반의 상면에는 이러한 나사 부재가 볼트 결합될 수 있는 홀이 적정한 위치에 가공 형성될 수 있다. 다만, 대상체(500)를 고정하는 구조는 상술한 사항(구성)으로만 한정되는 것은 아니다. 다른 예로, 대상체(500)는 진공 구조(흡착에 의한 진공화 구조)에 의해 고정될 수 있다. 이러한 진공 구조는 다공질 진공 척(Porous Vacuum Chuck) 구조와 동일 내지 유사한 구조로 이해될 수 있다. 본원의 일 실시예에 따른 폴리싱 장치의 경우, 종래의 회전 정반 구조와 달리 정반(111) 상에 대상체(500)가 안착된 상태로 고정되는 구조를 가지기 때문에, 정반(111)에 상기와 같은 진공 구조를 마련하여 흡착하면, 중력 방향으로 흡착하는 고정이 이루어질 수 있다.

정반(111)은 석정반일 수 있다. 품질이 높고, 단가가 낮으며 제작과 구매가 쉬운 석정반을 사용함으로써, 여러 사이즈의 제품에 쉽고, 간단하게 대응할 수 있다. 예를 들어, 석정반은 KS B 5254규격에 명시되어 있는 0등급을 사용할 수 있다. 예시적으로, 석정반은 세락믹 재질의 정반일 수 있다. 또한, 이러한 석정반은 평면 정밀도 및 열대응에 따른 냉각구조, 제품고정방법 및 드레싱 구조적용 등 요구하는 제품(대상체)의 폴리싱 품질에 따른 적용 자유도가 높아 높은 수준의 폴리싱이 가능하게 된다.

정반(111)은 대상체(500)의 열을 냉각할 수 있는 냉각수라인(112)을 포함할 수 있다. 냉각수라인(112)은 정반(111)의 내부에 배치되며 냉각수가 냉각수라인(112)을 이동하며 폴리싱 도중 마찰에 의해 발생한 대상체(500)의 열을 냉각시켜주는 역할을 한다. 도면에는 명확히 도시되지 아니하였으나, 냉각수라인(112)은 정반(111)의 내부에서 X축 방향 또는 Y축 방향을 따라 지그재그 형태로 왕복되도록 배열될 수 있다. 또한, 냉각수라인(112)은 대상체(500)가 배치되는 정반(111)의 상면정반(111)의 내부 중 정반(111)의 상면에 가까운 위치에 위치할 수 있다. 냉각수로는 일반적으로 수돗물에 부동액, 방청제 등을 혼합해서 사용되지만, 이에 한정된 것은 아니다.

베이스부(110)는 헤드부(120)에 대하여 상대적으로 수평 방향 이동 가능한 구성이다. 여기서, 상대적으로 수평 방향 이동 가능하다는 것은 베이스부(110)와 후술할 헤드부(120) 중 적어도 하나는 수평 방향(X축 방향 및 Y축 방향 중 하나 이상의 방향)으로 이동 가능하도록 구비된다는 것을 의미한다. 예시적으로, 도 1 내지 도 3을 참조하면, 헤드부(120)는 고정적으로 배치되고, 베이스부(110)가 수평 방향으로 이동 가능하게 구비될 수 있다. 다른 예로, 헤드부(120)가 수평 방향으로 이동 가능하게 구비되고, 베이스부(110)는 고정적으로 배치될 수 있다. 또 다른 예로, 베이스부(110)와 헤드부(120) 모두 수평 방향으로 이동 가능하게 구비될 수도 있을 것이다. 이처럼 본원에 의하면, 베이스부(110)와 헤드부(120)가 상대적으로 이동되며 폴리싱을 하기 때문에, 종래의 회전 정반 구조와 같이 폴리싱의 대상체(500)의 크기에 따라 폴리싱 장치의 면적이 커질 필요가 없고, 여러 사이즈에 플렉시블하게 대응하여 폴리싱이 가능하다.

베이스부(110)는 X축 방향으로 정반(111)을 이동시키는 X축 이송 구동부(113)와 Y축 방향으로 정반(111)을 이동시키는 Y축 이송 구동부(114)를 포함할 수 있다. 이러한 2개의 이송 구동부(113, 114)가 조합되어 수평 방향에 대하여 2축 구동(4방향 구동)이 구현될 수 있다.

도 1을 참조하면, X축 이송 구동부(113)는 정반(111)에 대하여 X축 방향으로 구동력을 제공하는 구동 유닛 및 상기 구동 유닛의 구동력에 따른 정반(111)의 X축 방향 이동을 가이드하는 레일 유닛을 포함할 수 있다. 또한, Y축 이송 구동부(114)는 정반(111)에 대하여 Y축 방향으로 구동력을 제공하는 구동 유닛 및 상기 구동 유닛의 구동력에 따른 정반(111)의 Y축 방향 이동을 가이드하는 레일 유닛을 포함할 수 있다. 이때, 구동 유닛은 모터 타입일 수 있다. 또한, 도 1을 참조하면, Y축 이송 구동부(114)의 상부에 X축 이송 구동부(113)가 배치되는 형태로 베이스부(110)가 구비될 수 있다.

베이스부(110)는 정반(111)의 일측과 이웃하여 배치되는 드레싱부를 포함할 수 있다. 드레싱부는 접촉헤드(121)에서 마모가 일어난 부분을 고려하여 접촉헤드(121) 하면의 편평도를 조정하는 역할을 한다. 이러한 드레싱부의 드레싱 재질(재료)은 사용되는 접촉헤드(121)에 맞추어 다르게 선택될 수 있다. 예를 들어, 접촉헤드(121)가 숫돌일 경우 드레싱부는 숫돌 드레싱을 포함할 수 있다. 다른 예로, 접촉헤드(121)가 폴리싱 패드일 경우 드레싱부는 패드 드레싱을 포함할 수 있다. 여기서 드레싱부가 정반(111)의 일측과 이웃한다는 것은, 대상체(500) 상에서 폴리싱을 수행하는 헤드부(120)이 수평 이동하면 드레싱부의 상면에 접촉 가능하도록 배치되는 관계를 의미한다. 이때, 헤드부(120)의 접촉헤드(121)가 드레싱부의 상면에 접촉되는 정도(접촉 압력)는 후술할 가압부(122)의 제어를 통해 조정될 수 있다. 드레싱부의 상면의 높이는 정반(111) 상에 안착되는 대상체(500)의 상면의 높이에 대응하도록 설정됨이 바람직하다. 예시적으로 도 2를 참조하면, 드레싱부는 도 2 기준 정반(111)의 좌측(9시 방향) 또는 우측(3시 방향)에 나란하게 배치될 수 있다.

헤드부(120)는 대상체(500)에 접촉되어 폴리싱을 수행할 수 있다.

도 2를 참조하면, 헤드부(120)는 접촉헤드(121), 가압부(122), 회전 구동부(123) 및 가압헤드(124)를 포함할 수 있다.

헤드부(120)는 X축 방향으로 접촉헤드(121)를 이동시키는 X축 이송 구동부와 Y축 방향으로 접촉헤드(121)를 이동시키는 Y축 이송 구동부를 포함한다. 이러한 헤드부(120)의 X축 이송 구동부 및 Y축 이송 구동부는 도면에 명확히 도시되지 아니하였지만, 전술한 베이스부(110)의 X축 이송 구동부 및 Y축 이송 구동부와 동일 또는 유사한 구성으로 이해할 수 있다. 다만, 헤드부(120)의 X축 이송 구동부 및 Y축 이송 구동부는 베이스부(110)의 X축 이송 구동부 및 Y축 이송 구동부와 동일한 구성을 적용하는 것으로만 한정되는 것은 아니며, 베이스부(110)의 상측에 위치하는 헤드부(120)의 위치적 특성 및 기능적 특성을 고려하여 가계 분야에서 선택될 수 있는 적정한 구동 유닛을 채택할 수 있음은 물론이다.

접촉헤드(121)는 대상체(500)에 접촉할 수 있다. 도 2를 참조하면, 접촉헤드(121)는 가압헤드(124)에 대하여 탈착 가능할 수 있다. 접촉헤드(121)는 가압헤드(124)에 연결 장착되어 대상체(500)와 직접적으로 접촉하여 폴리싱을 수행하는 역할을 한다. 또한, 접촉헤드(121)는 대상체(500)의 가공목적 및 공정에 따라 교체하여 장착될 수 있다. 예를 들어, 접촉헤드(121)는 연마작업용 헤드, 래핑용 헤드, 폴리싱 헤드 등 다양한 타입으로 구비될 수 있다.

가압부(122)는 접촉헤드(121)에 하향압력을 가할 수 있다. 가압부(122)에서 접촉헤드(121)에 하향압력을 가함으로써, 대상체(500)에 압력을 전달하여 폴리싱이 이루어질 수 있도록 한다. 예시적으로, 가압부(122)는 공압 실린더를 포함할 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다. 다른 예로, 가압부(122)는 유압 실린더, 서보모터 등을 포함할 수 있다. 이러한 가압부는 접촉헤드(121)에 단순 하향 가압력을 가하는 것에서 더 나아가, 서보모터를 포함하는 경우 등 필요에 따라서는 접촉헤드(121)를 Z축 방향(높이 방향)으로 이동 제어할 수 있다.

회전 구동부(123)는 접촉헤드(121)를 회전시킬 수 있다. 회전 구동부(123)는 스핀들 구조일 수 있다. 예시적으로 회전 구동부(123)는 가압헤드(124)의 상측 중심 부분과 연결되는 실린더 또는 파이프 형태의 회전 부재 회전시킴으로써 결과적으로 가압헤드(124)와 연결되는 접촉헤드(121)를 회전시킬 수 있다. 이때, 접촉헤드(121)의 중심은 가압헤드(124)의 중심과 일치하도록 정렬됨이 바람직하다.

가압헤드(124)는 접촉헤드(121)상에 배치되어 가압부(122)의 가압력 및 회전 구동부(123)의 회전력을 접촉헤드(121)에 전달할 수 있다. 가압헤드(124)에서 접촉헤드(121)로 전달된 가압력과 회전력을 이용하여 대상체(500)의 폴리싱이 이루어 질 수 있다.

또한, 가압헤드(124)는 자동 조심(self-aligning) 구조를 포함할 수 있다. 자동 조심 구조는 대상체(500)의 상면의 면 기울기를 따라 접촉헤드(121)가 플렉시블(flexible)하게 움직이도록(기울임 정렬되도록) 하는 구성이다. 자동 조심 구조는 가압헤드(124)의 하면 또는 접촉헤드(121)의 하면이 대상체(500)의 상면의 면 형태(굴곡 또는 면 기울기)에 맞추어 기울임 정렬되도록 회전시킬 수 있는 힌지 유닛을 포함할 수 있다. 한편, 예시적으로, 필요에 따라서는 가압헤드(124)가 자동 조심 구조를 포함하지 않는 경우, 숫돌의 평면 연마 역할을 수행할 수 있다.

도5는 본원의 일 실시예에 따른 폴리싱 장치의 헤드부를 설명하기 위한 개념도이다.

도 5를 참조하면, 가압헤드(124)는 대상체(500)의 열을 냉각 할 수 있는 냉각 순환라인(125)을 가질 수 있다. 냉각 순환라인(125)은 냉각수가 냉각 순환라인(125)을 순환하여 폴리싱 도중 마찰에 의해 발생한 대상체(500)의 열을 냉각시켜주는 역할을 한다. 냉각수는 일반적으로 수돗물에 부동액, 방청제 등을 혼합해서 사용할 수 있지만 이에 한정된 것은 아니다. 예시적으로, 냉각 순환라인(125)는 전술한 실린더 또는 파이프 형태의 회전 부재의 내측을 통해 상향 연장될 수 있다. 즉, 냉각 순환라인(125)에 냉각수를 공급하는 냉각수 공급 장치는 상기 회전 부재의 상측으로 연장되는 냉각 순환라인(125)의 말단과 연결되어 냉각수를 순환시킬 수 있다.

도 5를 참조하면, 가압헤드(124)에는 연마제 공급 노즐(126)이 배치되도록 중앙 부분에 상하방향으로 통공된 연마제 공급 홀(127)이 형성될 수 있다. 연마제 공급 노즐(126)의 단부로부터 공급된 연마제는 연마제 공급 홀(126)을 통해 대상체(500)로 전달된다. 연마제는 폴리싱이 이루어지는 대상체(500)에 윤활성을 부여하기 위한 연마 조성물을 의미하며, 이는 당 분야에서 통상의 기술자에게 자명한 구성이므로 보다 상세한 설명은 생략하기로 한다. 가압헤드(124)에서 공급된 연마제는 베이스부(110)에서 연마제를 밖으로 배출시킬 수 있는 드레인 구조에 의해 베이스부(110)의 외측으로 배출될 수 있다. 예시적으로, 드레인 구조는 베이스부(110) 상에서 정반(111)의 둘레 측에 형성될 수 있다. 또한, 드레인 구조는 대상체(500) 또는 정반(111) 상으로부터 흘러나온 연마제를 드레인 홀로 유도하는 흐름이 형성될 수 있도록 정반(111)의 상면보다 낮은 위치에 드레인 홀이 형성될 수 있다. 또한, 드레인 구조는 상기 드레인 홀까지 소정의 구배(경사)가 형성되도록 마련될 수 있다.

도6은 본원의 일 실시예에 따른 폴리싱 장치의 헤드부가 대상체에 대하여 상대적으로 이동되는 경로의 일 구현예를 설명하기 위한 개념도이다.

폴리싱 장치(100)는 베이스부(110) 및 헤드부(120)의 구동을 제어하는 제어부를 포함한다. 제어부는 베이스부(110) 및 헤드부(120)의 상대적인 이동을 제어하는 구성이다. 도 6을 참조하면, 제어부는 정반(111) 상의 대상체(500) 중 적어도 일부에 대하여 헤드부(110)가 X축 방향을 따라 지그재그 형태로 상대적으로 이동되도록 제어할 수 있도록 한다. 지그재그 형태는 헤드부(120)가 Y축 방향에 대한 정반(111) 상의 대상체(500)의 양측(도 6 기준 상하측)으로 교번하여(번갈아가며) 이동하면서 X축 방향을 따라 상대적으로 이동되는 형태를 의미할 수 있다. 예시적으로 도 6을 참조하면, 지그재그 형태는 'W' 형태와 같이 비스듬한 직선(사선) 경로가 조합되는 형태일 수 있다.

예시적으로 도 6을 참조하면, 제어부는 대상체(500)에 대하여 헤드부(120)가 X축 방향으로는 플러스 방향 또는 마이너스 방향으로 일정한 속력으로 이동하도록 제어함과 동시에 Y축 방향으로는 일정한 왕복 범위(예를 들면, 대상체(500)의 Y축 방향 양끝단에 헤드부(120)의 중심이 위치하는 것을 상하한으로 하는 그 사이의 범위) 내에서 일정한 속력으로 계속적으로 왕복하도록 제어함으로써, 상기한 지그재그 형태의 상대적 이동 구동이 이루어지도록 할 수 있다.

또한, 제어부는 헤드부(120)가 상대적인 이동에 따라 대상체(500)의 X축 방향 최단부(X축 방향 경계부)에 그 중심이 도달하고 나면 헤드부(120)의 X축 이동 방향을 반대 방향으로 전환할 수 있다. 이때, 제어부는 헤드부(120)를 Y축 방향에 대해서는 여전히 일정한 왕복 범위 내에서 계속적(연속적)으로 왕복시키는 제어를 함께 수행할 수 있다. 이러한 제어부의 제어에 따르면, 헤드부(120)는 대상체(500)의 X축 방향 경계 및 Y축 방향 경계에서 빛이 반사되는 것과 유사한 정반사형 이동이 이루어지게 된다. 이처럼, 지그재그 형태의 이동은 대상체(500)의 외곽 경계와 같은 소정의 범위 내에서 헤드부(120)가 경계에서 정반사되는 형태의 이동으로 이해될 수 있다. 다만, 헤드부(120)의 중심이 지그재그 형태로 이동되는 소정의 범위는 반드시 대상체(500)의 외곽 경계 이내의 범위로만 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 필요에 따라서는 헤드부(120)의 중심이 대상체(500)의 외곽 경계를 소정 이상 벗어나는 보다 확장된 범위가 헤드부(120)가 이동되는 소정의 범위로 설정될 수 있다.

이와 같이 본원의 발명자는, 접촉헤드(121)가 회전을 통한 원운동을 할 때, 그 중심부와 외곽부에 선속도 차이가 발생한다는 점에 착안하여, 헤드부(120)가 X축 방향뿐만 아니라, Y축 방향으로도 이동하도록 제어함으로써, 반경 방향으로의 위치 차이에 따른 선속도 차이로 인해 연마량의 차이가 발생되는 것을 해소할 수 있도록 하였다.

도 6을 참조하면, 제어부는 헤드부(120)의 중심(예를 들어 헤드부가 원형 단면을 가지는 경우, 원 중심)이 Y축 방향에 대한 정반(111) 상의 대상체(500)의 양측 끝단까지 이동되도록 헤드부(120)의 상대적인 이동을 제어할 수 있다.

도 6을 참조하면, 제어부는 X축 방향으로의 교번 주기에 대응하는 교번 간격(S)이 접촉헤드(121)의 반경보다 작도록 베이스부(110) 및 헤드부(120) 중 적어도 하나를 제어할 수 있다. 즉, 상기 교번 간격(S)은 헤드부(120)의 이동 경로의 최소 반복 단위가 X축 방향에 대하여 반복되는 간격(교번 거리)을 의미할 수 있다. 이처럼 교번 간격을 접촉헤드(121)의 반경보다 작게 설정하면, 그만큼 X축 방향에 대한 헤드부(120)의 상대적인 이동속도가 줄어들 수 있다. 이에 따르면, 정반(111)의 후술할 중간 영역(10) 대비 후술할 양측 단부 영역(20)의 연마량 차이가 최소화될 수 있다.

참고로, 제어부는 상기와 같은 유닛 또는 장치들의 구동 또는 이동을 제어하는 컴퓨팅 장치일 수 있다. 예시적으로, 제어부는 데스크탑 컴퓨터, 노트북 등일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다. 이러한 제어부의 구성은 당 분야의 통상의 기술자에게 자명한 구성을 통해 구현될 수 있으므로, 보다 상세한 설명은 생략하기로 한다.

도7은 본원의 일 실시예에 따른 폴리싱 장치의 헤드부가 대상체에 대하여 상대적으로 이동되는 경로의 다른 구현예를 설명하기 위한 개념도이다.

도7을 참조하면, 제어부는 정반(111) 상의 대상체(500) 중 일부에 대하여 헤드부(120)가 X축 방향을 따라 지그재그 형태로 상대적으로 이동되도록 제어하고, 정반(111) 상의 대상체(500) 중 다른 일부에 대하여 헤드부(120)가 불규칙적인 경로를 따라 상대적으로 제어할 수 있다. 또한, 제어부는 정반(111) 중 다른 일부에 대하여 헤드부(120)가 불규칙적인 경로를 따라 상대적으로 이동되도록 제어할 수 있다. 도 7을 참조하면, 대상체(500) 중 일부는 대상체(500)의 중간 영역(10)이고, 대상체(500) 중 다른 일부는 X축 방향에 대한 대상체(500)의 양측 단부 영역(20)일 수 있다.

본원의 발명자는, 대상체(500)의 양측 단부 영역(20)의 경우, 폴리싱 반복작업을 미리 설정된 규칙(경로)에 따라 규칙적으로 하게 되면 접촉헤드(121)가 반복하여 이동되는 경로의 양측(윤곽 또는 테두리)을 따라 경계면(단차)가 발생할 수 있음을 인지하고, 이러한 양측 단부 영역(20)에서는 불규칙적인 경로를 따라 헤드부(120)가 베이스부(110)에 대하여 상대적으로 이동될 수 있도록 한 것이다.

전술한 바와 같이, 제어부는 헤드부(120)를 이동 범위의 경계에서 정반사되는 형태로 이동되게 제어할 수 있다. 이에 따르면, 헤드부(120)가 상대적인 이동에 따라 대상체(500)의 중간 영역(10)을 지나 양측 단부 영역(20) 중 어느 하나에 진입한 다음 해당 양측 단부 영역(20)의 X축 방향 경계부에 도달하고 나면, 헤드부(120)는 X축 방향 경계부에 대하여 정반사되면서 X축 이동 방향이 반대 방향으로 전환될 수 있다. 이때, 제어부는 헤드부(120)가 Y축 방향에 대해서는 여전히 일정한 왕복 범위 내에서 계속적(연속적)으로 왕복되도록 하는 제어를 함께 수행하여 상기와 같은 정반사형 이동을 구현할 수 있다.

헤드부(120)가 X축 방향 경계부에서 정반사되고 난 다음 헤드부(120)는 해당 양측 단부 영역(20)의 반대측 X축 방향 경계부에서, 이러한 제어부의 제어에 따르면, 헤드부(120)에는 대상체(500)의 X축 방향 경계에서 빛이 반사되는 것과 유사한 정반사형 이동이 이루어지게 된다.

힌편, 도 8 및 도 9는 본원의 일 실시예에 따른 폴리싱 장치의 헤드부가 대상체에 대하여 상대적으로 이동되는 경로의 구체적인 일 구현예를 설명하기 위한 개념도이다.

도 8을 참조하면, 제어부는, 헤드부(120)가 대상체(500)에 대하여 상대적으로 이동되어 대상체(500)의 양측 단부 영역(20) 중 어느 하나에 진입하고 나면, 양측 단부 영역(20) 중 어느 하나의 영역 범위 내에서 정반사형 이동을 하도록 헤드부(500)를 제어할 수 있다. 이때, 양측 단부 영역(20)의 X축 방향으로의 범위(T1)는 헤드부(120)의 X축 방향으로의 교번 주기에 대응하는 교번 간격(S)의 절반의 배수에 대응되지 않도록 설정될 수 있다. 도 8을 참조하면, 이처럼 양측 단부 영역(20)의 X축 방향 크기(T1)가 교번 간격(S)의 절반(1/2)의 배수에 대응되지 않도록 설정됨으로써, 양측 단부 영역(20) 중 어느 하나의 영역 범위 내에서 헤드부(120)가 정반사형 이동이 소정 이상 반복될 때, 헤드부(120)의 중심의 궤적이 반복적으로 중첩되는 것이 방지되는 불규칙적인 경로 설정이 이루어질 수 있어, 양측 단부 영역(20)에서의 폴리싱이 보다 균일하게 진행될 수 있다.

즉, 상기 불규칙적인 경로는, 대상체(500)의 양측 단부 영역(20)의 X축 방향으로의 범위(T1)가 헤드부(120)의 X축 방향으로의 교번 주기에 대응하는 교번 간격(S)의 절반의 배수에 대응되지 않도록 설정된 상태에서, 상술한 정반사형 이동이 이루어짐으로써 제공될 수 있다.

또한, 제어부는, 미리 설정된 시간이 경과하면 양측 단부 영역(20) 중 어느 하나의 영역 범위 내에서의 정반사형 이동 제어를 종료하고 헤드부(120)가 중간 영역(10)을 다시 지그재그 형태의 이동을 통해 통과하여 양측 단부 영역(20) 중 다른 하나에 진입하도록 제어할 수 있다. 이같이 헤드부(120)가 대상체(500)에 대하여 상대적으로 이동되어 대상체(500)의 양측 단부 영역(20) 중 다른 하나에 진입하고 나면, 제어부는 양측 단부 영역(20) 중 다른 하나의 영역 범위 내에서 정반사형 이동을 하도록 헤드부(500)를 제어할 수 있다. 이는 상술한 양측 단부 영역(20) 중 어느 하나의 영역 범위 내에서의 제어와 동일하거나 상응하는 범위 내에서 이해될 수 있으므로, 보다 상세한 설명은 생략하기로 한다.

이때, 상기 미리 설정된 시간(t)은, 헤드부(120)가 정반사형 이동을 통해 양측 단부 영역(20) 중 어느 하나의 X축 방향으로의 양측 경계부(도 8 기준 좌측 경계부 및 우측 경계부)를 적어도 2회 왕복하는 데 소요되는 시간 이상으로 설정될 수 있다. 예를 들어, 미리 설정된 시간(t)은, X축 방향으로 T1의 크기(여기서, T1은 이동하는 데 있어서 t1의 시간이 소요되는 거리라고 하자)를 갖는 양측 단부 영역(20) 중 어느 하나의 영역을 2회 왕복하는 데 걸리는 시간인 t1x4 이상의 시간으로 설정될 수 있다.

또한, 도 8 및 도 9를 함께 참조하면, 양측 단부 영역(20)의 X축 방향으로의 범위는, 헤드부(120)가 정반사형 이동을 통해 양측 단부 영역(20) 중 어느 하나의 X축 방향으로의 양측 경계부(도 8 및 도 9 기준 좌측 경계부 및 우측 경계부)를 왕복할 때마다 증가될 수 있다. 도 8을 참조하면, 헤드부(120)가 양측 단부 영역(20) 중 어느 하나에 진입하고 끝단(도 8 기준 좌측 경계부)에 도달하고 난 다음 X축 방향으로의 첫 왕복시에는 양측 단부 영역(20)의 X축 방향으로의 범위가 T1(t1의 시간이 걸리는 거리)일 수 있다. 도 9를 참조하면, X축 방향으로의 두번째 왕복시에는 양측 단부 영역(20)의 X축 방향으로의 범위가 T2(t2의 시간이 걸리는 거리)일 수 있다. 도 8 및 도 9를 참조하면, 왕복할 때마다 범위가 확장되도록, 상기 T2는 상기 T1보다 큰 값으로 설정될 수 있다. 도면에는 명확히 도시되지 아니하였으나, X축 방향으로의 세번째 왕복시에는 양측 단부 영역(20)의 X축 방향으로의 범위가 T2보다 더 큰 T3(t3의 시간이 걸리는 거리)일 수 있다.

이때, T1, T2, T3 등과 같은 헤드부(120)의 양측 단부 영역(20) 중 어느 하나의 영역 범위는 점차 확장되는 경우에도 상술한 바와 같이 양측 단부 영역(20)의 X축 방향 크기(T1)가 교번 간격(S)의 절반(1/2)의 배수에 대응되지 않도록 설정하는 것이 보다 균일한 단부 폴리싱을 위해 바람직하다.

또한, 제어부는 헤드부(120)가 양측 단부 영역(20) 중 어느 하나의 영역 범위를 왕복시마다 확장하며 2회 이상 왕복하는 중에 상술한 미리 설정된 시간(t)에 도달하면, 전술한 바와 같이, 양측 단부 영역(20) 중 어느 하나의 영역 범위 내에서의 정반사형 이동 제어를 종료하고 헤드부(120)가 중간 영역(10)을 다시 지그재그 형태의 이동을 통해 통과하여 양측 단부 영역(20) 중 다른 하나에 진입하도록 제어할 수 있다.

한편, 다른 구현예로, 상기 불규칙적인 경로는 상기 양측 단부 영역(20)의 범위 내에서 임의로 포인트를 순차 생성한 다음, 이러한 순차 생성된 포인트를 따라 헤드부(120)가 상대적으로 이동되도록 하는 경로일 수 있다.

이처럼 헤드부(120)가 대상체(500) 양측 단부 영역(20)에 대해서는 상대적으로 불규칙적인 경로에 따라 이동되도록 제어됨으로써, 대상체(500)의 중간 영역(10)과 대상체(500)의 양측 단부 영역(20)의 연마량 차이가 최소화될 수 있다.

대상체(500)의 양측 단부 영역(20)은 X축 방향에 대하여 대상체(500)의 양측 끝단으로부터 접촉헤드(헤드부)의 반경에 대응하는 범위 이상의 영역일 수 있다. 도 7을 참조하면, 양측 단부 영역(20)은 도 7 기준 양측 단부 영역(20)의 좌우 방향 길이(20a)가 접촉헤드(헤드부)의 반경 이상이 되도록 설정될 수 있다. 또한, 대상체(500)의 양측 단부 영역(20)은 X축 방향에 대하여 대상체(500)의 양측 끝단으로부터 접촉헤드(헤드부)의 직경에 대응하는 범위 이내의 영역일 수 있다. 또한, 이러한 양측 단부 영역(20)의 X축 방향으로의 영역 범위는 X축 이송 구동부(113)에 의해 베이스부(110)가 헤드부(120)에 대해 상대적으로 X축 방향으로 이동되는 속도를 함께 고려하여 설정될 수 있다. 예를 들면, X축 이송 구동부(113)에 의한 X축 방향 이동 속도가 느려질수록 양측 단부 부분은 여러 차례 중첩되는 폴리싱이 더욱 중첩되며 이루어질 수 있기 때문에, X축 방향 이동 속도가 상대적으로 빠를 때보다 양측 단부 영역(20)의 X축 방향으로의 영역 범위를 좁힐 수 있을 것이다.

전술한 본원의 설명은 예시를 위한 것이며, 본원이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본원의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.

본원의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본원의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.

100: 폴리싱 장치
110: 베이스부
111:정반
112:냉각수라인
113:X축 이송 구동부
114:Y축 이송 구동부
120:헤드부
121:접촉헤드
122:가압부
123:회전 구동부
124:가압헤드
125:냉각 순환라인
126:연마제 공급 노즐
127:연마제 공급 홀
500: 대상체
10: 중간 영역
20: 양측 단부 영역

Claims (22)

1. 폴리싱 장치로서,
   대상체가 안착되어 고정되는 정반을 포함하는 베이스부;
   상기 대상체에 접촉되어 폴리싱을 수행하는 헤드부; 및
   상기 베이스부 및 상기 헤드부의 구동을 제어하는 제어부를 포함하되,
   상기 대상체 중 일부는 상기 대상체의 중간 영역이고,
   상기 대상체 중 다른 일부는 X축 방향에 대한 상기 대상체의 양측 단부 영역이고,
   상기 베이스부는 상기 헤드부에 대하여 상대적으로 수평 방향 이동 가능하고,
   상기 제어부는,
   상기 정반 상의 대상체 중 일부에 대하여 상기 헤드부가 X축 방향을 따라 지그재그 형태로 상대적으로 이동되도록 제어하고,
   상기 대상체 중 다른 일부에 대하여 상기 헤드부가 불규칙적인 경로를 따라 상대적으로 이동되도록 제어하고,
   상기 헤드부가 상기 대상체에 대하여 상대적으로 이동되어 상기 양측 단부 영역 중 어느 하나에 진입하고 나면, 상기 양측 단부 영역 중 어느 하나의 영역 범위 내에서 정반사형 이동을 하도록 상기 헤드부를 제어하고,
   상기 양측 단부 영역의 X축 방향으로의 범위는 상기 헤드부의 X축 방향으로의 교번 주기에 대응하는 교번 간격의 절반의 배수에 대응되지 않도록 설정되며,
   상기 지그재그 형태는, 상기 헤드부가 Y축 방향에 대한 상기 정반 상의 대상체의 양측으로 교번하여 이동하면서 X축 방향을 따라 상대적으로 이동되는 형태인 것인, 폴리싱 장치.
2. 제1항에 있어서,
   상기 정반은 상기 대상체의 열을 냉각할 수 있는 냉각수라인을 포함하는 것인, 폴리싱 장치.
3. 제1항에 있어서,
   상기 베이스부는 X축 방향으로 상기 정반을 이동시키는 X축 이송 구동부와 Y축 방향으로 상기 정반을 이동시키는 Y축 이송 구동부를 포함하는 것인, 폴리싱 장치.
4. 제1항에 있어서,
   상기 헤드부는 X축 방향으로 접촉헤드를 이송시키는 X축 이송 구동부와 Y축 방향으로 상기 접촉헤드를 이송시키는 Y축 이송 구동부를 포함하는 것인 폴리싱 장치.
5. 제1항에 있어서,
   상기 정반은 석정반인 것인, 폴리싱 장치.
6. 제1항에 있어서,
   상기 베이스부는 상기 정반의 일측과 이웃하여 배치되는 드레싱부를 포함하는 것인, 폴리싱 장치.
7. 제1항에 있어서,
   상기 헤드부는,
   상기 대상체에 접촉되는 접촉헤드;
   상기 접촉헤드에 하향 압력을 가하는 가압부;
   상기 접촉헤드를 회전시키는 회전 구동부; 및
   상기 접촉헤드 상에 배치되어 상기 가압부의 가압력 및 상기 회전 구동부의 회전력을 상기 접촉헤드에 전달하는 가압헤드를 포함하는 것인, 폴리싱 장치.
8. 제7항에 있어서,
   상기 가압헤드는 상기 대상체의 열을 냉각 할 수 있는 냉각 순환라인을 가지는 것인, 폴리싱 장치.
9. 제7항에 있어서,
   상기 가압헤드에는 연마제 공급 노즐이 배치되도록 중앙 부분에 상하방향으로 통공된 연마제 공급 홀이 형성되는 것인, 폴리싱 장치.
10. 제7항에 있어서,
    상기 접촉헤드는 상기 가압헤드에 대하여 탈착 가능하게 장착되는 것인, 폴리싱 장치.
11. 제7항에 있어서,
    상기 가압헤드는 상기 대상체의 상면의 면 기울기를 따라 상기 접촉헤드를 기울임 정렬시키는 자동 조심(self-aligning) 구조를 포함하는 것인, 폴리싱 장치.
12. 삭제
13. 제1항에 있어서,
    상기 제어부는 상기 헤드부의 중심이 Y축 방향에 대한 상기 정반 상의 대상체의 양측 끝단까지 이동되도록 상기 헤드부의 상대적인 이동을 제어하는 것인, 폴리싱 장치.
14. 제1항에 있어서,
    상기 제어부는 X축 방향으로의 교번 주기에 대응하는 교번 간격이 접촉헤드의 반경보다 작도록 상기 베이스부 및 상기 헤드부 중 적어도 하나를 제어하는 것인, 폴리싱 장치.
15. 삭제
16. 삭제
17. 제1항에 있어서,
    상기 대상체의 양측 단부 영역은 X축 방향에 대하여 상기 대상체의 양측 끝단으로부터 접촉헤드의 반경에 대응하는 범위 이상의 영역인 것인, 폴리싱 장치.
18. 삭제
19. 제1항에 있어서,
    상기 불규칙적인 경로는, 상기 양측 단부 영역의 X축 방향으로의 범위가 상기 헤드부의 X축 방향으로의 교번 주기에 대응하는 교번 간격의 절반의 배수에 대응되지 않도록 설정된 상태에서, 상기 정반사형 이동이 이루어짐으로써 제공되는 것인, 폴리싱 장치.
20. 제1항에 있어서,
    상기 제어부는, 미리 설정된 시간이 경과하면 상기 양측 단부 영역 중 어느 하나의 영역 범위 내에서의 정반사형 이동 제어를 종료하고 상기 헤드부가 상기 중간 영역을 통과하여 상기 양측 단부 영역 중 다른 하나에 진입하도록 제어하는 것인, 폴리싱 장치.
21. 제20항에 있어서,
    상기 미리 설정된 시간은, 상기 헤드부가 상기 정반사형 이동을 통해 상기 양측 단부 영역 중 어느 하나의 X축 방향으로의 양측 경계부를 적어도 2회 왕복하는 데 소요되는 시간 이상으로 설정되는 것인, 폴리싱 장치.
22. 제21항에 있어서,
    상기 정반의 양측 단부 영역의 X축 방향으로의 범위는, 상기 헤드부가 상기 정반사형 이동을 통해 상기 양측 단부 영역 중 어느 하나의 X축 방향으로의 양측 경계부를 왕복할 때마다 확장되는 것인, 폴리싱 장치.

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