KR101820748B1 - 압연소재의 디스케일러 - Google Patents

Abstract

본 발명은 충돌압 불균일 현상과 냉각 편차 현상을 해소할 수 있는 압연소재의 디스케일러에 관한 것이다.
본 발명의 일 실시 예에 따르면, 이송되는 압연소재의 표면에 부착된 스케일을 제거하는 디스케일러에 있어서, 상기 압연소재의 상부 및 하부에 각각 설치되는 고압수 분사 헤더; 및 상기 각 고압수 분사 헤더에 설치되어 상기 압연소재의 표면으로 고압수를 분사하는 복수의 분사 노즐을 포함하고, 상기 분사 노즐은 소정 간격으로 배치되어 제1 고압수를 선형으로 분사하는 복수의 제1 분사 노즐을 포함하며, 상기 각 제1 분사 노즐로부터 분사되는 상기 제1 고압수들은 상기 압연소재의 표면에서 제1 간격으로 이격되고, 상기 제1 분사 노즐로부터 분사되는 선형의 상기 제1 고압수들은 상기 압연소재의 표면상에서 모두 동일선상에 위치하는 디스케일러를 제공할 수 있다.

Description

압연소재의 디스케일러{DESCALER OF A ROLLED MATERIAL}

본 발명은 디스케일러에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 가열된 압연소재 표면의 스케일을 제거하기 위한 압연소재의 디스케일러에 관한 것이다.

일반적으로 제철소의 용광로나 전기로 등에서 용해된 용탕(Molten metal)은 주형(Mold)으로 주입되어 소정 형상의 압연소재로 제작된다. 그리고 이러한 압연소재는 가열로에서 가열된 뒤, 제품 특성에 따라 압연된다.

가열로에서 재결정온도 이상으로 가열된 압연소재가 대기 중의 산소와 반응하게 되면, 그 표면에 산화막, 즉 스케일(Scale)이 형성된다. 이 스케일은 압연 시 불량을 야기하는 요인이 되기 때문에, 압연 작업 전에 스케일을 제거하는 작업을 거치게 되는데, 이러한 스케일 제거 작업을 디스케일(Descale) 작업이라 한다.

일반적으로 디스케일 작업은 디스케일러에 의해 수행된다.

디스케일러는 압연소재를 재결정온도 이상으로 가열하는 가열로에서 가열된 압연소재를 인출하여 이송시키는 테이블롤 등의 이송 장치에 설치되어, 이송 장치를 따라 이송되는 압연소재의 표면에 고압의 냉각수를 분사함으로써, 압연소재로부터 스케일을 제거한다.

도 1a 및 도 1b는 종래의 디스케일러를 나타내는 도면이다.

도 1a 및 도 1b를 참조하면, 종래의 디스케일러는 이송되는 압연소재(10)의 상부 및 하부에 각각 배치되는 고압수 분사 헤더(20) 및 고압수 분사 헤더(20)의 길이 방향을 따라 소정 간격으로 이격되어 배치되는 복수의 노즐(30)을 포함한다.

노즐(30)은 고압수 분사 헤더(20)로부터 고압수를 공급받아 압연소재(10)의 표면에 고압수(31)를 분사한다. 이때, 각 노즐(30)은 고압수 분사 헤더(20)의 길이 방향을 따라 일정 간격(p)으로 배치됨과 아울러, 압연소재(10)와 일정 거리(d) 이격되어 압연소재(10)의 표면으로 고압수(31)를 분사하게 된다.

노즐(30)은 보통 팬(Fan) 타입의 선형 노즐로 마련된다. 이에 따라 고압수(31)는 압연소재(10)의 표면에 근접할수록 압연소재(10)의 폭 방향(고압수 분사 헤더의 길이 방향)으로 확장되며, 보통 2 내지 20㎜의 두께를 가지는 얇은 선 형태로 분사된다. 이때, 분사되는 고압수(31)는 노즐(30) 출구의 넓이와 형상에 따라 일정 분사각(A)을 가진다.

노즐(30)에 의해 분사된 고압수(31)는 압연소재(10)와 충돌하여 압연소재(10)의 표면에 부착되어 있는 스케일을 제거한다. 이때, 고압수(31)는 압연소재(10)의 표면과 일정 리드각(Lead angle)(B)을 가지도록 분사되어, 제거된 스케일이 다시 압연소재(10) 측으로 유입되는 것을 방지한다. 즉, 설정된 리드각(B)에 의해 고압수(31)가 비스듬하게 분사되기 때문에, 고압수(31)에 의해 제거된 스케일이, 이미 디스케일된 영역으로 다시 넘어가지 않고, 압연소재(10) 외부로 이동될 수 있다. 또한, 고압수(31)는 압연소재(10)의 폭 방향에 대해 경사진 옵셋각(Offset angle)(C)을 가지도록 분사되어, 각 고압수(31) 간의 간섭을 피하고, 제거된 스케일을 압연소재(10)의 외부로 내보내게 된다. 아울러, 고압수(31)는 스케일을 제거하기 위한 충분한 충돌압을 확보하기 위하여 오버랩 영역(O)이 설정된다.

하지만, 이러한 리드각(B), 옵셋각(C), 오버랩 영역(O)으로 인해 고압수(31)의 충돌압 불균일 현상과 압연소재(10)의 냉각 편차 현상이 발생하게 된다.

도 2a 및 도 2b는 종래의 디스케일러로 인한 고압수(31)의 충돌압 불균일과 냉각 편차를 설명하기 위한 도면이다.

먼저 도 2a를 참조하면, 각 노즐(30)로부터 분사되는 고압수(31)가 압연소재(10)의 폭 방향에 대하여 옵셋각(C)을 가지는 경우, 노즐(30) 배치에 따라 압연소재(10)가 다가오는 방향을 기준으로 전단의 고압수(31-1)와 후단의 고압수(31-2)가 존재한다. 또한 고압수(31)는 상기에서 설명한 바와 같이 소정의 리드각(B)을 가지도록 비스듬한 상태로 분사되기 때문에, 압연소재(10)와 충돌 후 되튄 물(31-3)이 오버랩 영역(O)에서 전단이나 후단의 고압수(31)에 간섭을 일으킨다. 특히, 도 2a와 같은 방향으로 리드각(B)이 형성되는 경우, 후단의 고압수(31-2)에 의해 되튄 물(31-3)이 전단의 고압수(31-1)에 간섭을 일으킨다.

이러한 간섭은 오버랩 영역(O)에서 주로 발생하기 때문에, 오버랩 영역(O)에서의 고압수(31) 충돌압을 감소시킨다.

또한, 도 2b에 도시된 바와 같이, 고압수 분사 헤더(20)의 길이 방향 축은 압연소재(10)의 폭 방향과 일치하게 배치되되, 리드각(B)이 설정되어 고압수(31)가 압연소재(10)의 표면에 대하여 비스듬하게 분사되는 상태에서 각 노즐(30)별로 옵셋각(C)이 설정되면, 노즐(30)의 분사 패턴상 양단 고압수(31)가 압연소재(10)에 닿는 거리(31-4, 31-5)가 달라지게 된다. 이러한 거리차로 인해, 동일한 노즐(30)에서 분사되는 고압수(31)라 하더라도, 영역에 따라 충돌압이 달라질 수밖에 없다.

이러한 충돌압 불균일 현상은 압연소재(10)의 냉각에도 편차를 발생시킬 수 있으며, 냉각 편차 현상은 오버랩 영역(O)에서의 고압수(31) 다중 분사로 인해서도 발생하게 된다.

상기와 같은 충돌압 불균일과 냉각 편차는 압연소재(10) 표면의 스케일이 부분적으로 덜 제거되어 나타나는 줄무늬(Stripe)와 영역별 재질 편차를 발생시킴으로써 압연소재(10) 자체의 품질 저하를 야기한다. 뿐만 아니라, 스케일 제거가 완전하게 이루어지지 않은 압연소재(10)를 압연하는 경우, 표면 품질이 저하되는 문제가 있다.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 충돌압 불균일 현상과 냉각 편차 현상을 해소할 수 있는 압연소재의 디스케일러를 제공하는 데 있다.

본 발명의 일 실시 예에 따르면, 이송되는 압연소재의 표면에 부착된 스케일을 제거하는 디스케일러에 있어서, 상기 압연소재의 상부 및 하부에 각각 설치되는 고압수 분사 헤더; 및 상기 각 고압수 분사 헤더에 설치되어 상기 압연소재의 표면으로 고압수를 분사하는 복수의 분사 노즐을 포함하고, 상기 분사 노즐은 소정 간격으로 배치되어 제1 고압수를 선형으로 분사하는 복수의 제1 분사 노즐을 포함하며, 상기 각 제1 분사 노즐로부터 분사되는 상기 제1 고압수들은 상기 압연소재의 표면에서 제1 간격으로 이격되고, 상기 제1 분사 노즐로부터 분사되는 선형의 상기 제1 고압수들은 상기 압연소재의 표면상에서 모두 동일선상에 위치하는 디스케일러를 제공할 수 있다.

상기 제1 분사 노즐은 분사되는 상기 제1 고압수가 제1 리드각을 가지도록 배치되되, 상기 제1 리드각은 상기 제1 분사 노즐에서 상기 압연소재의 표면에 내린 수선에 대한 상기 제1 고압수의 분사 각도일 수 있다.

상기 분사 노즐은 상기 제1 분사 노즐 사이마다 배치되어 제2 고압수를 분사하는 적어도 하나의 제2 분사 노즐을 포함할 수 있다.

상기 제2 분사 노즐은 상기 제2 고압수가 상기 제1 리드각보다 큰 제2 리드각을 가지도록 배치되되, 상기 제2 리드각은 상기 제2 분사 노즐에서 상기 압연소재의 표면에 내린 수선에 대한 상기 제2 고압수의 분사 각도일 수 있다.

복수의 상기 제1 분사 노즐로부터 분사되는 상기 제1 고압수들의 선형 방향은 상기 압연소재의 폭 방향과 일치할 수 있다.

상기 고압수 분사 헤더는 길이 방향의 축이 상기 압연소재의 폭 방향과 일치하도록 배치될 수 있다.

상기 제1 고압수와 상기 제2 고압수는 상기 압연소재의 이송 방향을 기준으로 서로 오버랩되지 않을 수 있다.

상기 제1 리드각(L1)은 하기와 같이 설정될 수 있다.

5° ＜ L1 ≤ 30°

상기 제2 분사 노즐은 선형 노즐 또는 원형 노즐일 수 있다.

본 발명의 다른 실시 예에 따르면, 이송되는 압연소재의 표면에 부착된 스케일을 제거하는 디스케일러에 있어서, 상기 압연소재의 상부 및 하부에 각각 설치되는 고압수 분사 헤더; 및 상기 각 고압수 분사 헤더에 설치되어 상기 압연소재의 표면으로 고압수를 분사하는 복수의 분사 노즐을 포함하고, 상기 고압수 분사 헤더는 직선 형태의 제1 및 제2 헤더부가 소정 각도를 이루도록 일체형으로 결합된 디스케일러를 제공할 수 있다.

상기 분사 노즐은 상기 제1 헤더부에 소정 간격으로 배치되어 제1 고압수를 선형으로 분사하는 복수의 제1 분사 노즐, 및 상기 제2 헤더부에 소정 간격으로 배치되어 제2 고압수를 선형으로 분사하는 복수의 제2 분사 노즐을 포함하며, 상기 제1 분사 노즐로부터 분사되는 선형의 상기 제1 고압수들은 상기 압연소재의 표면상에서 모두 동일선상에 위치하고, 상기 제2 분사 노즐로부터 분사되는 선형의 상기 제2 고압수들은 상기 압연소재의 표면상에서 모두 동일선상에 위치하며, 상기 제1 고압수들과 상기 제2 고압수들은 상기 압연소재의 표면상에서 소정 각도를 이룰 수 있다.

상기 제1 분사 노즐은 분사되는 상기 제1 고압수가 제1 리드각을 가지도록 배치되되, 상기 제1 리드각은 상기 제1 분사 노즐에서 상기 압연소재의 표면에 내린 수선에 대한 상기 제1 고압수의 분사 각도일 수 있다.

상기 분사 노즐은 상기 제1 분사 노즐 사이마다 배치되어 제3 고압수를 분사하는 적어도 하나의 제3 분사 노즐을 포함할 수 있다.

상기 제3 분사 노즐은 상기 제3 고압수가 상기 제1 리드각보다 큰 제3 리드각을 가지도록 배치되되, 상기 제3 리드각은 상기 제3 분사 노즐에서 상기 압연소재의 표면에 내린 수선에 대한 상기 제3 고압수의 분사 각도일 수 있다.

상기 제2 분사 노즐은 분사되는 상기 제2 고압수가 제2 리드각을 가지도록 배치되되, 상기 제2 리드각은 상기 제2 분사 노즐에서 상기 압연소재의 표면에 내린 수선에 대한 상기 제2 고압수의 분사 각도일 수 있다.

상기 분사 노즐은 상기 제2 분사 노즐 사이마다 배치되어 제4 고압수를 분사하는 적어도 하나의 제4 분사 노즐을 포함할 수 있다.

상기 제4 분사 노즐은 상기 제4 고압수가 상기 제2 리드각보다 큰 제4 리드각을 가지도록 배치되되, 상기 제4 리드각은 상기 제4 분사 노즐에서 상기 압연소재의 표면에 내린 수선에 대한 상기 제4 고압수의 분사 각도일 수 있다.

상기 제1 및 제2 분사 노즐로부터 분사되는 상기 제1 및 제2 고압수들은 상기 압연소재의 표면에서 소정 간격으로 이격될 수 있다.

상기 제1 및 제2 헤더부는 상기 압연소재의 중심축을 기준으로 서로 대칭되는 각도를 가질 수 있다.

상기 제1 및 제2 헤더부는 상기 압연소재의 폭 방향을 기준으로, 상기 압연소재의 이송 방향으로 0° 내지 40°의 각도를 가지도록 배치될 수 있다.

본 발명의 일 실시 예에 따르면, 소정 간격으로 배치되는 제1 분사 노즐을 구비하되, 제1 분사 노즐로부터 분사되는 선형의 고압수들이 압연소재의 표면상에서 모두 동일선상에 위치하도록 설정할 수 있다. 아울러, 제1 분사 노즐 사이마다, 제1 분사 노즐보다 더 큰 리드각을 가지는 고압수를 분사하는 제2 분사 노즐을 배치할 수 있다. 이에 따라 제1 분사 노즐에 의한 고압수 사이의 영역은 제2 분사 노즐의 고압수를 통해 스케일을 사전 제거하고, 그 외의 영역은 제1 분사 노즐의 고압수를 통해 스케일을 제거할 수 있다.

이러한 구성으로 인해, 제1 분사 노즐에 의한 고압수 사이가 이격되어 공백 영역이 발생하거나, 제1 분사 노즐에 의한 고압수 사이에 오버랩 영역이 형성되어 고압수 되튐 현상 등으로 해당 오버랩 영역의 스케일 제거 효율이 떨어진다 하더라도, 제2 분사 노즐의 고압수에 의해 공백 영역 또는 오버랩 영역이 커버될 수 있다. 즉, 제1 분사 노즐의 고압수 사이에 제1 분사 노즐의 고압수에 의해서 스케일이 제거되지 않는 영역이 형성된다 하더라도, 제2 분사 노즐의 고압수를 통해 해당 영역을 커버할 수 있다. 이에 따라 압연소재의 전 영역에 걸쳐 누락되는 영역없이 균일한 분사가 이루어지기 때문에 냉각 편차가 발생하지 않는다.

뿐만 아니라, 제1 분사 노즐을 통한 고압수들의 옵셋각이 0으로 설정되기 때문에, 동일 노즐에서 분사되는 고압수 양단의 충돌압이 균일하다.

또한, 본 발명의 다른 실시 예에 따르면, 고압수 분사 헤더의 형태를 "V"자 형태로 배치함으로써, 압연소재의 표면으로 분사된 고압수가 표면상에 잔존하지 않고, 압연소재 외부로 빠르게 배출될 수 있도록 하여, 잔존하는 체류수로 인한 냉각 불균일을 최소화할 수 있다.

도 1a 및 도 1b는 종래의 디스케일러를 나타내는 도면이다.
도 2a 및 도 2b는 종래 디스케일러의 문제점을 설명하기 위한 도면이다.
도 3a 내지 도 3c는 본 발명의 일 실시 예에 따른 디스케일러를 나타내는 도면이다.
도 4a는 종래의 디스케일러에 따른 고압수 분사 패턴, 도 4b는 본 발명의 디스케일러에 따른 고압수 분사 패턴을 나태는 도면이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시 예에 따른 디스케일러를 나타내는 도면이다.
도 6은 도 5에 도시된 제1 및 제2 헤더부의 배치 예를 나타내는 도면이다.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시 예를 가질 수 있는 바, 특정 실시 예들을 도면에 예시하고 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.

제1, 제2 등과 같이 서수를 포함하는 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되지는 않는다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제2 구성요소는 제1 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제1 구성요소도 제2 구성요소로 명명될 수 있다. 및/또는 이라는 용어는 복수의 관련된 기재된 항목들의 조합 또는 복수의 관련된 기재된 항목들 중의 어느 항목을 포함한다.

어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시 예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 실시 예를 상세히 설명하되, 도면 부호에 관계없이 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 참조 번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.

도 3a 내지 도 3c는 본 발명의 일 실시 예에 따른 디스케일러를 나타내는 도면으로서, 각각 도 3a는 사시도, 도 3b는 정면도, 도 3c는 측면도이다.

도 3a 내지 도 3c를 참조하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 디스케일러는 압연소재(100)의 상부 및 하부에 각각 설치되는 고압수 분사 헤더(200) 및 고압수 분사 헤더(200)에 설치되어 압연소재(100)의 표면으로 고압수를 분사하는 복수의 분사 노즐(300)을 포함할 수 있다.

먼저, 고압수 분사 헤더(200)는 내부에 고압수 유동 공간을 가지는 통 형상의 부재로서, 압연소재(100)와 이격되되 그 길이 방향이 압연소재(100)의 이송 방향과 수직한 방향(압연소재(100)의 폭 방향과 일치하는 방향)이 되도록 배치될 수 있다. 본 명세서에서 압연소재(100)의 폭 방향이란, 압연소재(100)의 폭 방향으로 최단 거리인 가상의 직선 방향을 의미할 수 있다.

분사 노즐(300)은 제1 분사 노즐(310) 및 제2 분사 노즐(320)을 포함할 수 있다.

제1 분사 노즐(310)은 팬(Fan) 타입의 선형 노즐로 마련되며, 고압수 분사 헤더(200)에 소정 간격으로 배치되어 고압수 분사 헤더(200)로부터 공급받은 고압수(311)를 선형의 형태로 압연소재(100)의 표면에 분사할 수 있다. 즉, 고압수(311)는 압연소재(100)의 표면에 근접할수록 폭 방향(고압수 분사 헤더의 길이 방향)으로 확장되는 선형으로 분사될 수 있다.

여기서, 제1 분사 노즐(310)은 선형의 고압수(311)들이 압연소재(100)의 표면상에서 모두 동일선상에 위치함과 아울러, 선형의 방향이 압연소재(100)의 폭 방향과 일치하도록 고압수 분사 헤더(200)에 배치될 수 있다. 또한, 제1 분사 노즐(310)은 제1 분사 노즐(310)로부터 분사되는 고압수(311)들이 압연소재(100)의 표면에서 제1 간격(G1)으로 이격될 수 있도록 고압수 분사 헤더(200)에 배치될 수 있다. 여기서, 제1 간격(G1)은 이웃하는 고압수(311) 간의 간격으로서, 5㎜ 이내로 설정될 수 있다. 하지만 제1 간격(G1)은 이에 한정되지는 않으며, 디스케일러의 제작 규격에 따라 다양한 설정이 가능하다.

즉, 제1 분사 노즐(310)로부터 분사되는 고압수(311)들은 서로 일직선을 이루게 된다.

한편, 제1 분사 노즐(310)은 고압수(311)가 제1 리드각(L1)을 가지며 분사될 수 있도록 고압수 분사 헤더(200)에 설치될 수 있다.

여기서, 제1 리드각(L1)이란, 제1 분사 노즐(310)에서 압연소재(100)의 표면에 내린 수선(h)에 대한 고압수(311)의 분사 각도로서, 더욱 상세하게는 압연소재(100)가 고압수 분사 헤더(200)로 이송되어 오는 방향으로의 분사 각도를 의미할 수 있다. 즉, 제1 분사 노즐(310)은 고압수 분사 헤더(200) 측으로 이송되어 오는 압연소재(100)의 표면를 향하여 비스듬하게 고압수(311)를 분사할 수 있다.

이러한 제1 리드각(L1)은 5° ＜ L1 ≤ 30°로 설정될 수 있다.

이와 같이 본 발명에 따르면, 제1 분사 노즐(310)로부터 분사되는 고압수(311)들이 모두 동일선상에 위치하고, 고압수(311)들 사이에 오버랩 영역이 형성되지 않기 때문에, 고압수(311)의 되튐 현상이 방지되어 충돌압이 균일해진다.

제2 분사 노즐(320)은 압연소재(100)의 표면 영역 중 상기와 같이 설정되는 제1 분사 노즐(310)의 고압수(311) 간 제1 간격(G1)에 포함되는 영역의 스케일을 제거하기 위해 마련될 수 있다.

제2 분사 노즐(320)은 제1 분사 노즐(310)의 고압수(311) 사이에 고압수(321)를 분사할 수 있도록 제1 분사 노즐(310)의 사이마다 배치되되, 폭이 좁은 팬 타입의 선형 노즐 또는 원형 노즐로 마련될 수 있다. 제2 분사 노즐(320)이 선형 노즐로 마련되는 경우, 제2 분사 노즐(320)의 고압수(321)로 인해 압연소재(100)의 표면에 나타나는 선형은 제1 분사 노즐(310)의 고압수(311)에 의한 선형과 평행을 이루도록 설정될 수 있다. 이때, 제2 분사 노즐(320)의 분사 폭(G2)은 상기의 제1 간격(G1)을 보상할 수 있는 길이로 설정될 수 있다. 상세히 하면, 제2 분사 노즐(320)의 분사 폭(G2)은 제2 분사 노즐(320)이 선형 노즐인 경우에는 압연소재(100)의 표면에 나타나는 선형의 길이로 정의될 수 있다. 또한, 제2 분사 노즐(320)이 원형 노즐인 경우에는 압연소재(100)의 표면에 나타나는 원형에 있어서, 제1 분사 노즐(310)의 고압수(311)에 의한 선형과 평행을 이루는 직경이 분사 폭(G2)으로 정의될 수 있다. 일 실시 예에서, 제2 분사 노즐(320)의 분사 폭(G2)은 제1 간격(G1) 이상(G2 ≥ G1)이 되도록 설정될 수 있다. 즉, 제2 분사 노즐(320)에 의해 분사된 고압수(321)는 제1 분사 노즐(310)의 고압수(311) 사이의 간격을 커버함으로써, 제1 분사 노즐(310)의 고압수(311) 사이가 이격되어 소정의 공백 영역이 발생한다 하더라도, 해당 공백 영역을 커버할 수 있다. 이로 인해, 본 발명의 실시 예에서는 제1 분사 노즐(310)의 고압수(311) 사이가 반드시 이격되지 않아도 무방하다. 즉, 제1 분사 노즐(310)의 고압수(311) 사이가 오버랩되는 오버랩 영역이 존재하여, 해당 오버랩 영역에서 고압수(311)의 분사 효과가 떨어진다 하더라도, 제2 분사 노즐(320)의 고압수(321)에 의해 오버랩 영역에 대한 커버가 가능하다.

또한, 제2 분사 노즐(320)은 제2 분사 노즐(320)로부터의 고압수(321)가 제2 리드각(L2)을 가지며 분사될 수 있도록 고압수 분사 헤더(200)에 설치될 수 있다. 여기서, 제2 리드각(L2)이란, 제2 분사 노즐(320)에서 압연소재(100)의 표면에 내린 수선(h)에 대한 고압수(321)의 분사 각도로서, 더욱 상세하게는 제1 리드각(L1)과 마찬가지로 압연소재(100)가 고압수 분사 헤더(200) 측으로 이송되어 오는 방향으로의 분사 각도를 의미할 수 있다.

이러한 제2 리드각(L2)은 제1 리드각(L1)보다 큰 각도(L2 ＞ L1)를 가지도록 형성될 수 있다. 즉, 제2 분사 노즐(320)은 제1 분사 노즐(310)과 마찬가지로 고압수 분사 헤더(200)의 방향으로 이송되는 압연소재(100)의 표면을 향하여 비스듬하게 고압수(321)를 분사하되, 압연소재(100)의 동일 영역에 대하여 제1 분사 노즐(310)보다 먼저 고압수(321)를 분사할 수 있다.

이에 따라, 본 발명에서는 압연소재(100) 영역 중에서 제1 분사 노즐(310)에 의해 분사되는 고압수(311) 사이에 해당되는 영역은 제2 분사 노즐(320)에 의해 분사되는 고압수(321)를 통해 스케일이 사전 제거된 후, 그 외의 영역은 제1 분사 노즐(310)에 의해 분사되는 고압수(311)를 통해 스케일이 제거될 수 있다.

이와 같이, 본 발명에서는 제1 분사 노즐(310)에서 분사되는 고압수(311)의 분사 범위와 제2 분사 노즐(320)에서 분사되는 고압수(321)의 분사 범위가 서로 겹치지 않도록 설정함으로써 두 고압수(311, 321) 간 상호 충돌압 간섭을 방지할 수 있다. 또한, 압연소재(100)의 전 영역에 걸쳐 1회의 분사가 균일하게 이루어지기 때문에 디스케일링 작업으로 인한 냉각 편차가 발생하지 않는다.

뿐만 아니라, 종래에는 고압수가 압연소재(100)의 표면과 리드각을 가지도록 분사됨과 동시에 압연소재(100)의 폭 방향에 대해 경사진 각각의 옵셋각(Offset angle)을 가지도록 분사되어 동일 노즐에서 분사되는 고압수라 하더라도 양단의 충돌압이 서로 다르게 나타나는 문제가 있었다. 하지만, 본 발명에 따르면 제1 분사 노즐(310)을 통한 고압수(311)가 리드각은 가지도록 분사되되, 압연소재(100)의 표면에 나타나는 선형에 있어서 고압수(311) 간 옵셋각은 0이기 때문에, 동일 노즐에서 분사되는 고압수(311) 양단의 충돌압이 균일하고, 고압수(311) 간 되튐 현상으로 인한 간섭이 발생하지 않는다.

도 4a는 종래의 디스케일러를 이용하는 경우, 고압수에 의해 압연소재(100)의 표면에 나타나는 분사 패턴, 즉 고압수에 의해 디스케일링되는 패턴이고, 도 4b는 본 발명의 실시 예에 따른 디스케일러를 이용하는 경우의 분사 패턴을 나타내는 도면이다. 두 경우 모두, 압연소재(100)의 표면에서 고압수의 선형이 71㎜의 폭을 가지도록 셋팅된 2개의 노즐을 사용한 예이다. 상세히 하면, 압연소재(100)로 알루미늄판을 사용하고, 압연소재(100)와 노즐 간 이격거리가 70㎜, 리드각이 15°, 압력이 150bar인 노즐을 사용하여 알루미늄판에 고압수를 분사하는 조건에서 실험된 예로서, 고압수에 의해 알루미늄이 침식된 사진이다. 또한, 종래의 디스케일러를 이용한 도 4a의 경우에는 15°의 옵셋각이 설정되었다.

도 4a를 참조하면, 2개 노즐로부터 분사된 고압수가 각각 옵셋각(15°)을 가지면서 압연소재(100)의 표면에서 서로 오버랩 영역을 가지도록 설정되기 때문에, 2개의 노즐에 의해 디스케일링이 이루어지는 폭(W1)은 총 112㎜이다. 따라서, 오버랩 영역에서는 2개 노즐의 고압수 중 적어도 하나 이상의 고압수는 정상적인 충돌압을 가지지 못하게 된다. 또한, 오버랩되지 않은 영역이라다 하더라도, 고압수의 되튐 현상으로 인해 디스케일링이 정상적으로 이루어지지 않는 영역(B=10㎜)이 발생하기 때문에, B 영역과 오버랩 영역을 포함한 영역(A=35㎜)에 대하여 디스케일링이 충분히 이루어지지 않음을 알 수 있다. 뿐만 아니라, B 영역은 압연소재(100)와 충돌한 고압수가 흐르는 방향으로 워터레이어가 형성되고, 그 워터레이어 위로 근접 고압수가 충돌하는 경우, 완충 작용을 하게 되는 영역으로서, 이에 따라 B 영역의 충돌압이 더욱 약하게 나타날 수 있다.

반면 본 발명의 실시 예에 따른 도 4b를 참조하면, 2개 노즐(도 3a의 제1 분사 노즐(310))로부터 분사되는 선형의 고압수가 동일선상에 배치되도록 설정되기 때문에, 2개의 노즐에 의해 디스케일링이 이루어지는 폭(W2)은 노즐 간 간격(C=1㎜)을 포함하여 총 143㎜이다. 따라서, 동일한 종류의 노즐을 동일한 개수로 사용한다 하더라도 종래에 비해 넓은 영역을 커버할 수 있게 된다. 즉, 본 발명의 실시 예에 따르면, 제2 분사 노즐(320)을 추가적으로 배치하기는 하나, 제1 분사 노즐(310)의 커버 영역이 종래에 비해 넓어지기 때문에, 전체적으로 분사 노즐의 개수를 종래에 비해 증가시키지 않으면서도, 디스케일링 효율을 향상시킬 수 있다.

도 5는 본 발명의 다른 실시 예에 따른 디스케일러를 나타내는 도면이다.

도 5를 참조하면, 본 발명의 다른 실시 예에 따른 디스케일러는 압연소재(100)의 상부 및 하부에 각각 설치되는 고압수 분사 헤더(400) 및 분사 노즐(500)로 이루어지는 기본적인 구성이 도 3a 내지 도 3c의 일 실시 예와 동일하다.

하지만, 도 3a 내지 도 3c의 일 실시 예에서는 고압수 분사 헤더(200)가 전체적으로 일직선 형태인 반면, 도 5의 다른 실시 예에서는 고압수 분사 헤더(400)가 소정 각도로 절곡된 "V"자 형태를 가진다.

이하에서는 도 5를 참조하여, 본 발명의 다른 실시 예에 따른 디스케일러에 대해 보다 상세히 설명하도록 한다.

먼저 고압수 분사 헤더(400)는 각각 직선 형태의 제1 헤더부(410)와 제2 헤더부(420)가 소정 각도를 이루도록 결합되어 구성된다.

이러한 고압수 분사 헤더(400) 구조 또한, 일 실시 예의 고압수 분사 헤더(200)와 마찬가지로 내부에 고압수 유동 공간을 가짐으로써, 분사 노즐(500)을 통해 고압수가 분사될 수 있도록 한다. 여기서, 제1 및 제2 헤더부(410, 420)는 각각 별도의 헤더가 아니라, 내부 공간이 연결된 구조로서, 소정 각도를 이루도록 결합되어 하나의 고압수 분사 헤더(200)를 구성할 수 있다.

각각의 헤더부(410, 420)에는 분사 노즐(500)이 설치될 수 있다.

먼저, 제1 헤더부(410)에는 제1 분사 노즐(510)이 설치될 수 있다.

제1 분사 노즐(510)은 팬(Fan) 타입의 선형 노즐로 마련되며, 제1 헤더부(410)에 소정 간격으로 배치되어 제1 헤더부(410)로부터 공급받은 고압수(511)를 선형의 형태로 압연소재(100)의 표면에 분사할 수 있다. 즉, 고압수(511)는 압연소재(100)의 표면에 근접할수록 폭 방향(제1 헤더부의 길이 방향)으로 확장되는 선형으로 분사될 수 있다.

여기서, 제1 분사 노즐(510)은 선형의 고압수(511)들이 압연소재(100)의 표면상에서 모두 동일선상에 위치하도록 제1 헤더부(410)에 배치될 수 있다. 또한, 제1 분사 노즐(510)은 제1 분사 노즐(510)로부터 분사되는 고압수(511)들이 압연소재(100)의 표면에서 소정 간격으로 이격되도록 제1 헤더부(410)에 배치될 수 있다. 이때, 압연소재(100)의 표면상에서 고압수(511)들 간의 간격은 5㎜ 이내로 설정될 수 있으나, 이에 한정되지는 않으며, 디스케일러의 제작 규격에 따라 다양한 설정이 가능하다.

즉, 제1 분사 노즐(510)로부터 분사되는 고압수(511)들은 압연소재(100)의 표면에서 서로 일직선을 이루게 되며, 그 직선 방향은 제1 헤더부(410)의 길이 방향과 동일한 방향으로서, 고압수(511)들이 이루는 직선축과 제1 헤더부(410)의 직선축은 평행을 이룬다.

한편, 제1 분사 노즐(510)은 고압수(511)가 제1 리드각(L1)을 가지며 분사될 수 있도록 제1 헤더부(410)에 설치될 수 있다.

여기서, 제1 리드각(L1)이란, 제1 분사 노즐(510)에서 압연소재(100)의 표면에 내린 수선에 대한 고압수(511)의 분사 각도로서, 더욱 상세하게는 압연소재(100)가 고압수 분사 헤더(400) 측으로 이송되어 오는 방향으로 분사되는 각도를 의미할 수 있다. 즉, 리드각 자체의 정의는 일 실시 예를 통해 설명한 것과 동일하며, 본원 발명에서 "리드각"은 각각의 분사 노즐에 있어서 동일한 의미를 가질 수 있다. 제1 리드각(L1)에 의해, 제1 분사 노즐(510)은 고압수 분사 헤더(400) 측으로 이송되어 오는 압연소재(100)의 표면을 향하여 비스듬하게 고압수(511)를 분사할 수 있다.

이러한 제1 리드각(L1)은 5° ＜ L1 ≤ 30°로 설정될 수 있다.

한편, 제2 헤더부(420)에는 제2 분사 노즐(520)이 설치될 수 있다.

제2 분사 노즐(520)은 제1 분사 노즐(510)과 동일한 구조를 가질 수 있다. 하지만 제1 분사 노즐(510)은 제1 분사 노즐(510)로부터 분사되는 고압수(511)들이 압연소재(100)의 표면에서 제1 헤더부(410)의 길이 방향과 동일한 방향으로 직선을 이루며 분사될 수 있도록 배치된다. 이에 반해, 제2 분사 노즐(520)은 제2 분사 노즐(520)로부터 분사되는 고압수(521)들이 압연소재(200)의 표면에서 제2 헤더부(420)의 길이 방향과 동일한 방향으로 직선을 이루며 분사될 수 있도록 배치된다.

즉, 제1 분사 노즐(510)로부터 분사되는 고압수(511)들과, 제2 분사 노즐(520)로부터 분사되는 고압수(521)들은 압연소재(200)의 표면상에서 소정 각도를 이루게 되며, 그 각도는 제1 헤더부(410)와 제2 헤더부(420) 간의 각도와 일치할 수 있다.

제2 분사 노즐(520) 또한 제1 분사 노즐(510)과 마찬가지로 고압수(521)가 제2 리드각(L2)을 가지면서 분사될 수 있도록 제2 헤더부(420)에 설치될 수 있으며, 그 각도값은 상술한 제1 리드각(L1)과 동일한 범위 내로 설정될 수 있다.

이와 같은 본 발명의 다른 실시 예에서, 제1 헤더부(410)와 제2 헤더부(420) 사이의 각도는 100° 내지 180°일 수 있다.

제1 헤더부(410)와 제2 헤더부(420)가 180° 각도로 배치되면, 제1 및 제2 헤더부(410, 420)가 일직선을 이루게 되어, 본 발명의 일 실시 예와 동일한 구조가 될 수 있다. 제1 헤더부(410)와 제2 헤더부(420)의 각도가 100°보다 크게 설정되면, 압연소재(100)의 폭을 기준으로 볼 때 일직선상에 있는 영역이라 하더라도 고압수와 접촉하는 시점이 차이가 남에 따라, 오히려 폭 방향 냉각 편차가 발생할 수 있다.

한편, 상기에서 언급한 100° 내지 180°의 각도는 제1 헤더부(410)와 제2 헤더부(420) 사이의 좁은 각도를 의미하는 것으로, 도 5에 도시된 바와 같이 압연소재(100)가 이송되는 방향으로 좁은 각도를 가지는 "V"자 형태를 형성할 수 있다. 상세히 하면, 압연소재(100)가 디스케일 작업을 위해 디스케일러측으로 이송되어 오는 방향으로는 우각이 형성되고, 디스케일 작업이 이루어진 후 송출되는 방향으로는 열각이 형성된다. 즉, 100° 내지 180°의 각도는 열각을 의미한다.

다르게 표현하면, 제1 헤더부(410) 및 제2 헤더부(420)는 각각 압연소재(100)의 폭 방향을 기준으로 0° 내지 40°의 각도를 가지도록 배치될 수 있다. 이때, 제1 및 제2 헤더부(410, 420)의 각도는 앞서 설명한 것과 동일하게 압연소재(100)가 이송되는 방향으로의 각도를 의미할 수 있다.

제1 헤더부(410)가 제2 헤더부(420)가 각각 압연소재(100)의 폭 방향을 기준으로 가지는 각도는 서로 상이하게 설정되어도 무방하다. 하지만, 압연소재(100)의 폭 방향 냉각 균일성을 구현하기 위하여, 제1 및 제2 헤더부(410, 420)는 동일한 각도를 가지는 것이 바람직하다. 즉, 도 6에 도시된 바와 같이 제1 및 제2 헤더부(410, 420)가 압연소재(100)의 중심축(CA)을 기준으로 서로 대칭되는 각도를 가지는 것이 바람직하다.

제3 분사 노즐(530)은 압연소재(100)의 표면 영역 중 상기와 같이 설정되는 제1 분사 노즐(510)의 고압수(511) 간 간격에 포함되는 영역의 스케일을 제거하기 위해 마련될 수 있다. 마찬가지로 제4 분사 노즐(540)은 제2 분사 노즐(520)의 고압수(521) 간 이격 영역의 스케일을 제어하기 위해 마련될 수 있다.

제3 분사 노즐(530)은 제1 분사 노즐(510)의 고압수(511) 사이에 고압수(531)를 분사할 수 있도록 제1 분사 노즐(510) 사이마다 배치되되, 폭이 좁은 팬 타입의 선형 노즐 또는 원형 노즐로 마련될 수 있다. 제3 분사 노즐(530)이 선형 노즐로 마련되는 경우, 제3 분사 노즐(530)의 고압수(531)로 인해 압연소재(100)의 표면에 나타나는 선형은 제1 분사 노즐(510)의 고압수(511)에 의한 선형과 평행을 이루도록 설정될 수 있다. 이때, 제3 분사 노즐(530)의 분사 폭은 제1 분사 노즐(510)의 고압수(511) 간 간격을 보상할 수 있는 길이로 설정될 수 있다. 제1 분사 노즐(510)과 제3 분사 노즐(530) 간의 관계는, 본 발명의 일 실시 예를 통해 설명한 제1 분사 노즐(310) 및 제2 분사 노즐(320)과 동일하므로, 이에 대한 상세한 설명은 생략하도록 한다.

제4 분사 노즐(540) 또한 제3 분사 노즐(530)과 마찬가지로 일 실시 예의 제1 및 제2 분사 노즐(310, 320)과 동일한 배치로 마련되되, 제3 분사 노즐(530)은 제1 분사 노즐(510)을 기준으로 하는 반면, 제4 분사 노즐(540)은 제2 분사 노즐(520)을 기준으로 하는 차이점만 존재하므로, 제4 분사 노즐(540)에 대한 상세한 설명 또한 본 발명의 일 실시 예의 설명으로 대신하도록 한다.

이와 같이 본 발명의 다른 실시 예에 따르면, 기본적으로 제1 및 제2 분사 노즐(510, 520)로부터 분사되는 고압수(511, 521)들이 서로 오버랩되지 않도록 각각 일직선을 이루기 때문에, 고압수(511, 521)들 간의 되튐 현상이 방지되어 충돌압이 균일해진다.

또한, 제1 분사 노즐(510)로부터의 고압수(511)와 제2 분사 노즐(520)로부터의 고압수(521)가 서로 소정 각도를 가짐에 따라, 각 고압수(511, 521)들이 압연소재(100)의 가장자리 방향으로 비스듬하게 분사되기 때문에, 고압수(511, 521)가 압연소재(100)의 표면에 분사된 후, 압연소재(100) 외부로 빠르게 배출될 수 있다.

압연소재(100) 내에서도 압연소재(100) 외측에 위치한 가장자리부는 내측에 위치한 중심부에 비해 냉각이 빠르게 이루어지기 때문에, 중심부와 가장자리부 간에 폭 방향 냉각 편차가 발생할 가능성이 있다. 하지만, 본 발명의 다른 실시 예에 따르면, "V"자 형태로 분사되는 고압수(511, 521)에 의해 압연소재(100) 가장자리부의 고압수 배출이 빠르게 이루어지기 때문에 폭 방향 냉각 편차가 개선되는 효과를 얻을 수 있다.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.

10, 100 : 압연소재 20, 200, 400 : 고압수 분사 헤더
30, 300, 310, 320 : 분사 노즐
31, 310, 321, 511, 521, 531, 541 : 고압수
410, 420 : 헤더부

Claims (19)

1. 이송되는 압연소재의 표면에 부착된 스케일을 제거하는 디스케일러에 있어서,
   상기 압연소재의 상부 및 하부에 각각 설치되는 고압수 분사 헤더; 및
   상기 각 고압수 분사 헤더에 설치되어 상기 압연소재의 표면으로 고압수를 분사하는 복수의 분사 노즐
   을 포함하고,
   상기 분사 노즐은 소정 간격으로 배치되어 제1 고압수를 선형으로 분사하는 복수의 제1 분사 노즐, 및 상기 제1 분사 노즐 사이마다 배치되어 제2 고압수를 분사하는 적어도 하나의 제2 분사 노즐을 포함하며,
   상기 각 제1 분사 노즐로부터 분사되는 상기 제1 고압수들은 상기 압연소재의 표면에서 제1 간격으로 이격되어 서로 오버랩되지 않고,
   상기 제1 분사 노즐로부터 분사되는 선형의 상기 제1 고압수들은 상기 압연소재의 표면상에서 모두 동일선상에 위치하며,
   상기 압연소재 표면에서의 상기 제2 고압수의 분사 폭은 상기 제1 간격과 동일하고,
   상기 압연소재 표면에서의 상기 제1 고압수의 분사 범위와 상기 제2 고압수의 분사 범위는 서로 겹치지 않도록 설정되는 디스케일러.
   
2. 제1항에 있어서,
   상기 제1 분사 노즐은 분사되는 상기 제1 고압수가 제1 리드각을 가지도록 배치되되, 상기 제1 리드각은 상기 제1 분사 노즐에서 상기 압연소재의 표면에 내린 수선에 대한 상기 제1 고압수의 분사 각도인 디스케일러.
   
3. 삭제
4. 제2항에 있어서,
   상기 제2 분사 노즐은 상기 제2 고압수가 상기 제1 리드각보다 큰 제2 리드각을 가지도록 배치되되, 상기 제2 리드각은 상기 제2 분사 노즐에서 상기 압연소재의 표면에 내린 수선에 대한 상기 제2 고압수의 분사 각도인 디스케일러.
   
5. 제1항에 있어서,
   복수의 상기 제1 분사 노즐로부터 분사되는 상기 제1 고압수들의 선형 방향은 상기 압연소재의 폭 방향과 일치하는 디스케일러.
   
6. 제1항에 있어서,
   상기 고압수 분사 헤더는 길이 방향의 축이 상기 압연소재의 폭 방향과 일치하도록 배치되는 디스케일러.
   
7. 제2항에 있어서,
   상기 제1 리드각(L1)은 하기와 같이 설정되는 디스케일러.
   5° ＜ L1 ≤ 30°
   
8. 제1항에 있어서,
   상기 제2 분사 노즐은 선형 노즐 또는 원형 노즐인 디스케일러.
   
9. 이송되는 압연소재의 표면에 부착된 스케일을 제거하는 디스케일러에 있어서,
   상기 압연소재의 상부 및 하부에 각각 설치되는 고압수 분사 헤더; 및
   상기 각 고압수 분사 헤더에 설치되어 상기 압연소재의 표면으로 고압수를 분사하는 복수의 분사 노즐
   을 포함하고,
   상기 고압수 분사 헤더는 직선 형태의 제1 및 제2 헤더부가 서로 180° 미만의 각도를 이루도록 일체형으로 결합되며,
   상기 분사 노즐은 상기 제1 헤더부에 소정 간격으로 배치되어 제1 고압수를 선형으로 분사하는 복수의 제1 분사 노즐, 상기 제2 헤더부에 소정 간격으로 배치되어 제2 고압수를 선형으로 분사하는 복수의 제2 분사 노즐, 상기 제1 분사 노즐 사이마다 배치되어 제3 고압수를 분사하는 적어도 하나의 제3 분사 노즐, 및 상기 제2 분사 노즐 사이마다 배치되어 제4 고압수를 분사하는 적어도 하나의 제4 분사 노즐을 포함하며,
   상기 제1 및 제2 분사 노즐로부터 분사되는 상기 제1 및 제2 고압수들은 각각 상기 압연소재의 표면에서 소정 간격으로 이격되어 서로 오버랩되지 않고,
   선형의 상기 제1 고압수들은 상기 압연소재의 표면상에서 모두 동일 선상에 위치하며,
   선형의 상기 제2 고압수들은 상기 압연소재의 표면상에서 모두 동일 선상에 위치하고,
   상기 압연소재 표면에서의 상기 제3 고압수의 분사 폭은 상기 제1 고압수들간 간격과 동일하여, 상기 압연소재 표면에서의 상기 제1 고압수의 분사 범위와 상기 제3 고압수의 분사 범위는 서로 겹치지 않도록 설정되며,
   상기 압연소재 표면에서의 상기 제4 고압수의 분사 폭은 상기 제2 고압수들간 간격과 동일하여, 상기 압연소재 표면에서의 상기 제2 고압수의 분사 범위와 상기 제4 고압수의 분사 범위는 서로 겹치지 않도록 설정되고,
   상기 제1 및 제2 헤더부는 각각 상기 압연소재의 폭 방향을 기준으로, 상기 압연소재의 이송 방향으로 0° 초과의 각도를 가지도록 배치되는 디스케일러.
   
10. 제9항에 있어서,
    상기 제1 고압수들과 상기 제2 고압수들은 상기 압연소재의 표면상에서 소정 각도를 이루는 디스케일러.
    
11. 제10항에 있어서,
    상기 제1 분사 노즐은 분사되는 상기 제1 고압수가 제1 리드각을 가지도록 배치되되, 상기 제1 리드각은 상기 제1 분사 노즐에서 상기 압연소재의 표면에 내린 수선에 대한 상기 제1 고압수의 분사 각도인 디스케일러.
    
12. 삭제
13. 제11항에 있어서,
    상기 제3 분사 노즐은 상기 제3 고압수가 상기 제1 리드각보다 큰 제3 리드각을 가지도록 배치되되, 상기 제3 리드각은 상기 제3 분사 노즐에서 상기 압연소재의 표면에 내린 수선에 대한 상기 제3 고압수의 분사 각도인 디스케일러.
    
14. 제10항에 있어서,
    상기 제2 분사 노즐은 분사되는 상기 제2 고압수가 제2 리드각을 가지도록 배치되되, 상기 제2 리드각은 상기 제2 분사 노즐에서 상기 압연소재의 표면에 내린 수선에 대한 상기 제2 고압수의 분사 각도인 디스케일러.
    
15. 삭제
16. 제14항에 있어서,
    상기 제4 분사 노즐은 상기 제4 고압수가 상기 제2 리드각보다 큰 제4 리드각을 가지도록 배치되되, 상기 제4 리드각은 상기 제4 분사 노즐에서 상기 압연소재의 표면에 내린 수선에 대한 상기 제4 고압수의 분사 각도인 디스케일러.
    
17. 삭제
18. 제9항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 헤더부는 상기 압연소재의 중심축을 기준으로 서로 대칭되는 각도를 가지는 디스케일러.
    
19. 제9항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 헤더부는 상기 압연소재의 폭 방향을 기준으로, 상기 압연소재의 이송 방향으로 40°이하의 각도를 가지도록 배치되는 디스케일러.

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