KR101811262B1 - 저간섭성 광간섭법 조립체를 통합한 유리 제조 시스템 - Google Patents
저간섭성 광간섭법 조립체를 통합한 유리 제조 시스템 Download PDFInfo
- Publication number
- KR101811262B1 KR101811262B1 KR1020157035780A KR20157035780A KR101811262B1 KR 101811262 B1 KR101811262 B1 KR 101811262B1 KR 1020157035780 A KR1020157035780 A KR 1020157035780A KR 20157035780 A KR20157035780 A KR 20157035780A KR 101811262 B1 KR101811262 B1 KR 101811262B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- probe
- coater
- low
- float
- vapor deposition
- Prior art date
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 69
- 238000005305 interferometry Methods 0.000 title claims abstract description 20
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims description 165
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 4
- 239000000523 sample Substances 0.000 claims abstract description 145
- 239000005329 float glass Substances 0.000 claims abstract description 64
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims abstract description 44
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 54
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 claims description 9
- 239000012809 cooling fluid Substances 0.000 claims description 4
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 53
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 34
- 239000000463 material Substances 0.000 description 16
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000003280 down draw process Methods 0.000 description 8
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 7
- 238000005816 glass manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 239000000156 glass melt Substances 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 2
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 2
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 2
- 239000006066 glass batch Substances 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B17/00—Forming molten glass by flowing-out, pushing-out, extruding or drawing downwardly or laterally from forming slits or by overflowing over lips
- C03B17/06—Forming glass sheets
- C03B17/064—Forming glass sheets by the overflow downdraw fusion process; Isopipes therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B18/00—Shaping glass in contact with the surface of a liquid
- C03B18/02—Forming sheets
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B18/00—Shaping glass in contact with the surface of a liquid
- C03B18/02—Forming sheets
- C03B18/04—Changing or regulating the dimensions of the molten glass ribbon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/001—General methods for coating; Devices therefor
- C03C17/002—General methods for coating; Devices therefor for flat glass, e.g. float glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/458—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for supporting substrates in the reaction chamber
- C23C16/4582—Rigid and flat substrates, e.g. plates or discs
- C23C16/4583—Rigid and flat substrates, e.g. plates or discs the substrate being supported substantially horizontally
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
- G01B11/0616—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating
- G01B11/0675—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating using interferometry
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/14—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring distance or clearance between spaced objects or spaced apertures
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/0209—Low-coherence interferometers
- G01B9/02091—Tomographic interferometers, e.g. based on optical coherence
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
- C03C2218/152—Deposition methods from the vapour phase by cvd
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
- Y02P40/50—Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
- Y02P40/57—Improving the yield, e-g- reduction of reject rates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Radiology & Medical Imaging (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Abstract
플로트 유리 시스템(10)은 용융 금속(16)의 풀을 갖는 플로트 배스(14)를 포함한다. 화학 증착 코터(32)는 플로트 배스(14) 내에서 용융 금속(16)의 풀 위에 배치된다. 코터(32)는 코터(32) 내에 또는 그 위에 배치되며 저간섭성 광간섭법 시스템(36)에 연결되는 적어도 하나의 저간섭성 광간섭법 프로브(38)를 포함한다. 다른 저간섭성 광간섭법 프로브(138)가 플로트 배스(14)의 유출단 외부에 배치되며, 동일한 또는 다른 저간섭성 광간섭법 시스템(36)에 연결될 수 있다.
Description
관련 출원의 상호 참조
본 출원은 본 명세서에 전체로서 참조에 의해 통합되어 있는 2013년 6월 27에 출원된 미국 가특허출원 제 61/839,899 호에 대한 우선권을 주장한다.
본 발명은 개략적으로 유리 제조 처리에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 유리 리본(glass ribbon)의 두께 또는 두께 프로파일(profile)을 측정하기 위해 하나 이상의 저간섭성 광간섭법(optical low-coherence interferometry; OLCI) 시스템을 통합한 유리 제조 처리에 관한 것이다. 하나의 예시적인 태양에서, 본 발명은 또한 플로트 배스(float bath) 내에 배치된 코터(coater)에 대한 코터 간극을 측정하기 위해 하나 이상의 저간섭성 광간섭법(OLCI) 시스템을 통합한 플로트 유리(float glass) 시스템에 관한 것이다.
종래의 플로트 유리 처리에 있어서, 유리 배치 재료(glass batch material)는 노(furnace) 내에서 용융되어 유리 융해물(glass melt)을 형성한다. 유리 융해물은 플로트 배스의 유입단에서 용융 금속, 일반적으로는 용융 주석의 풀(pool)의 상면에 부어진다. 유리 융해물은 용융 주석의 상면 위로 퍼져나가서 유리 리본을 형성한다. 이 유리 리본을 플로트 배스 내의 기계 장치에 의해 늘이고 당겨서 소망의 균일한 두께 또는 소망의 두께 프로파일(즉, 유리 리본의 폭에 걸친 윤곽 또는 두께 변화)를 유리 리본에 제공한다. 유리 리본은 플로트 배스로부터 유출되며, 희망에 따라 유리를 강화(strengthen) 또는 템퍼링하기(temper) 위해 제어식 냉각을 위한 레어(lehr)로 이송될 수 있다.
플로트 배스 내에 있는 동안, 종래의 화학 증착(chemical vapor deposition; CVD) 코팅 처리에 의해 유리 리본의 상면 위에 하나 이상의 코팅이 도포될 수 있다. 이러한 배스 내 CVD 코팅 처리에서는, 기화된 코팅 재료들이 플로트 배스 내의 유리 리본 위에 위치설정된 하나 이상의 코터로 이송된다. 코팅 재료들은 코터(들)의 바닥으로부터 유출되며 유리 리본의 상면에 증착되어 코팅을 형성한다. 종래의 플로트 유리 처리의 구조 및 작용뿐만 아니라 종래의 CVD 코팅 처리의 구조 및 작용은 당업자가 잘 이해할 수 있으므로 상세하게 기술하지 않을 것이다.
플로트 배스 내에서의 코팅 처리시에, 코터 간극, 즉 CVD 코터의 바닥과 고온의 플로트 유리 리본의 상면 사이의 거리는 코팅 처리를 위해 중요하다. 이러한 거리는 최종 코팅의 색 균일성 및 코팅의 두께에 영향을 미친다. 또한, 이러한 코터 간극은 코터의 안전에 중요한데, 코터가 그 밑에 있는 고온의 유리 리본과 의도치 않게 접촉할 경우 코터가 손상될 수도 있다. 종래의 플로트 유리 시스템에서, 배스 내 CVD 코터는 통상 대략 0.2 인치(0.5 센티미터)만 고온 유리 리본의 상면 위에 있는데, 이 유리 리본의 온도는 약 1,400℉(760℃) 정도일 수 있다.
가장 전통적인 플로트 유리 시스템에서는, 유리 리본 위로의 CVD 코터의 거리가 시각적 관찰 및 과거의 코팅 경험에 의존하는 조작자에 의해 설정 또는 조절된다. 일반적으로, 조작자는 플로트 배스의 측부에 있는 창을 통해 보고, 그가 관찰하는 코터 간극이 그의 기량 및 경험에 비추어 올바른지 여부를 판정한다. 만약 조작자가 코터 간극이 올바르지 않아서 조절할 필요가 있다고 결정하면, 조작자는 코터에 연결된 이동 시스템을 사용하여 코터를 승강시킨 후, 새로운 코터 간극이 올바르게 보이는지 여부를 시각적으로 재평가한다. 또한, 코팅 영역에 걸친 코터 간극의 균일성(즉, 코터의 바닥과 유리 리본의 상면 사이의 평행 관계)이 중요하다. 코터가 유리 리본의 상면에 대해 기울어져 있는 경우, 이는 코팅 처리 및 최종 코팅에 악영향을 미칠 수 있으며, 코터의 일부가 의도치 않게 고온의 유리 리본에 접촉할 경우에 코터 손상을 초래할 수도 있다.
또한, 유리 리본의 두께가 중요하다. 소망의 유리 리본 두께는 제조 중인 유리의 최종 용도에 따라 다르며, 의도된 목적을 위해 유리가 상업적으로 허용할 수 있는 특정 공차 내여야만 한다. 유리 리본 두께는 플로트 배스 내로의 유리 융해물의 첨가 속도 및 플로트 배스를 통한 유리 리본의 이동 속도와 같은 인자에 의해 결정된다. 그러므로, 유리로(glass furnace) 및/또는 플로트 배스의 조작자는 플로트 배스로부터 유출되는 유리 리본의 두께가 최종 생산물에 대한 특정 한계값 이내인지 여부를 알 필요가 있다. 그러나, 플로트 배스로부터 유출될 때의 유리 리본의 두께는 유리 리본의 높은 온도, 고온 유리 리본의 가요성, 및 유리 리본이 플로트 배스로부터 유출될 때 통상 경사져 있는 점으로 인해 계측이 어렵다. 두께가 10 밀리미터 초과인 유리 리본의 두께를 정밀하게 계측하는 것은 특히 어렵다. 유리 리본 두께가 사양에 맞지 않는 경우, 최종 유리 시트가 의도된 목적대로 사용되지 않음으로써, 플로트 유리 처리의 생산성을 떨어뜨릴 수 있다. 유리 리본의 두께가 사양에 맞지 않는 회수를 줄임으로써, 플로트 유리 처리의 수율을 증가시킬 수 있다.
유리는 다운드로우(downdraw) 처리를 이용하여 형성될 수 있는데, 이 처리에서는 유리 리본이 냉각될 때 중력 하에서 연직 하향으로 이동한다. 다운드로우 처리의 예에는, 용융 유리가 유리로 아래의 슬롯으로부터 흘러나와서 유리 리본을 형성하는 슬롯 다운드로우 처리; 및 용융 유리가 성형 홈통(forming trough)의 양 측부 너머로 흘러넘치고 2개의 유리막이 성형 홈통 아래에서 융합되어 유리 리본을 형성하는 퓨전(또는 오버플로우) 다운드로우 처리가 포함된다. 플로트 유리 처리에서와 같이 다운드로우 처리에서는, 유리 리본의 두께가 중요한 인자이다.
공지의 처리와 관련된 문제들 중 적어도 일부를 경감 또는 제거하는 유리 제조 처리시에 유리 리본 두께를 측정하는 보다 편리하고 정밀한 방법을 제공하는 것이 바람직할 수도 있다. 예컨대, 코터와 유리 리본의 의도치 않은 접촉을 방지하도록 및/또는 코팅 처리를 개선하도록 플로트 배스 조작자가 플로트 유리 시스템 내에서의 코터 간극를 설정하는 덜 주관적인 방법을 갖는 것이 바람직할 수 있다. 예컨대, 플로트 배스 내의 및/또는 유리 리본이 플로트 배스로부터 유출된 후의 유리 리본 두께를 측정하는 보다 편리하고 정밀한 방법을 제공하는 것이 바람직할 수도 있다. 예컨대, 약 10㎜보다 더 두꺼운 유리 리본을 위한 유리 리본 두께 계측 시스템을 제공하는 것이 바람직할 수 있다. 예컨대, 코터 간극의 설정을 단순화할 뿐만 아니라, 유리 리본 두께 및/또는 유리 리본 상의 코팅의 두께를 측정할 수 있는 시스템을 제공하는 것이 바람직할 수 있다. 예컨대, 다운드로우 유리 제조 처리에 있어서 유리 리본 두께를 측정하는 보다 편리하고 정밀한 방법을 제공하는 것이 바람직할 수 있다.
유리 리본 경로를 따라 이동하는 유리 리본을 형성하도록 용융 유리가 냉각되는 유리 제조 시스템은 유리 리본 경로 근처에 배치되는 적어도 하나의 저간섭성 광간섭법 프로브를 포함한다. 저간섭성 광간섭법(OLCI) 시스템이 적어도 하나의 프로브에 작동 가능하게(operatively) 연결된다. 본 발명과 함께 실시하기에 유용한 유리 제조 시스템의 예에는 플로트 유리 시스템 및 다운드로우 시스템이 포함된다.
플로트 유리 시스템은 용융 금속의 풀을 갖는 플로트 배스를 포함한다. 적어도 하나의 화학 증착 코터가 플로트 배스 내에서 용융 금속의 풀 위에 배치된다. 적어도 하나의 저간섭성 광간섭법 프로브가 적어도 하나의 코터에, 예컨대 코터에 부착되거나 또는 코터 내에 배치되는 방식으로 연결되며, 저간섭성 광간섭법 시스템에 연결된다.
코터 내에 배치되는 경우, 적어도 하나의 프로브는 코터의 바닥 상의 적어도 하나의 투명 창 근처에 배치될 수 있다.
2개 이상의 프로브가 코터 상에서 서로 이격된 거리에 위치설정될 수 있다. 예컨대, 프로브들은 코터에 대해서 서로 대각선으로 이격될 수 있다. 하나 이상의 프로브는 (유리 리본의 이동 방향에 대해) 코터의 전방 코너 또는 그 근처에 배치될 수 있으며, 하나 이상의 다른 프로브는 코터의 대각선으로 대향하는 코너 또는 그 근처에 배치될 수 있다.
복수의 코터가 플로트 배스 내에 배치될 수 있다. 코터들 중 일부 또는 전부가 하나 이상의 OLCI 프로브를 포함할 수 있다. 이 프로브는 동일한 OLCI 시스템 또는 다른 OLCI 시스템에 연결될 수 있다.
플로트 유리 시스템은, 추가적으로 또는 선택적으로, 플로트 배스의 유출단 근처에 배치되며 저간섭성 광간섭법 시스템에 연결되는 적어도 하나의 다른 저간섭성 광간섭법 프로브를 포함할 수 있다. 예컨대, 적어도 하나의 다른 프로브는 플로트 배스의 외부에 배치될 수 있다. 바람직한 구성에서, 적어도 하나의 다른 프로브는 유리 리본을 가로질러 주사될 수 있도록 지지체 상에 이동 가능하게 장착되어 있다.
다른 플로트 유리 시스템은 용융 금속의 풀을 갖는 플로트 배스, 및 플로트 배스 내에 배치되며 저간섭성 광간섭법 시스템에 연결되는 적어도 하나의 저간섭성 광간섭법 프로브를 포함한다. 적어도 하나의 프로브는 플로트 배스 내의 지지체 상에 장착될 수 있는데, 고정식으로(fixedly) 또는 이동 가능하게 장착될 수 있다.
다른 플로트 유리 시스템은 용융 금속의 풀을 갖는 플로트 배스, 및 플로트 배스의 유출단을 지난 지점이면서 유리 리본이 절단되어 포장되는 위치 전의 지점에 배치된 적어도 하나의 저간섭성 광간섭법 프로브를 포함한다. 적어도 하나의 저간섭성 광간섭법 프로브는 저간섭성 광간섭법 시스템에 연결될 수 있다.
화학 증착 코터는 바닥을 갖는 코터 하우징을 포함하며, 코터 하우징의 바닥에는 적어도 하나의 투명 창이 있다. 적어도 하나의 저간섭성 광간섭법 프로브가 코터 하우징 내에서 투명 창 근처에 배치된다. 저간섭성 광간섭법 프로브는 저간섭성 광간섭법 시스템에 연결된다.
2개 이상의 프로브가 코터 상의 서로 이격된 거리에 위치설정될 수 있다. 예컨대, 프로브들은 코터에 대해 서로 대각선으로 이격되어 있을 수 있다. 하나 이상의 프로브는 (유리 리본의 이동 방향에 대해) 코터의 전방 코너 또는 그 근처에 배치될 수 있으며, 하나 이상의 다른 프로브는 코터의 대각선으로 대향하는 코너 또는 그 근처에 배치될 수 있다.
플로트 유리 시스템 내에서 코터 간극을 측정하는 방법은, 적어도 하나의 OLCI 프로브를 사용하여 플로트 배스 내의 CVD 코터의 바닥으로부터 유리 리본의 상면까지의 거리를 계측하는 단계를 포함한다. 이 방법은 OLCI 프로브를 사용하여 유리 리본 상의 코팅 및/또는 코팅층들의 두께를 측정하는 단계를 선택적으로 또는 추가적으로 포함할 수 있다.
플로트 유리 시스템의 플로트 배스 내에서 유리 리본의 두께를 측정하는 방법은, 플로트 배스 내에 배치된 적어도 하나의 OLCI 프로브를 사용하여, 플로트 배스 내의 하나 이상의 위치에서 유리 리본의 두께를 계측하는 단계를 포함한다. 이 방법은 OLCI 프로브를 사용하여 유리 리본 상의 코팅 및/또는 코팅층들의 두께를 측정하는 단계를 선택적으로 또는 추가적으로 포함할 수 있다.
플로트 유리 시스템 내의 플로트 배스 외부에서 유리 리본의 두께를 측정하는 방법은, 플로트 배스의 유출단 근처에 배치된 적어도 하나의 OLCI 프로브를 사용하여, 플로트 배스로부터 유출되는 유리 리본의 두께를 계측하는 단계를 포함한다. 이 방법은 OLCI 프로브를 사용하여 유리 리본 상의 코팅 및/또는 코팅층들의 두께를 측정하는 단계를 선택적으로 또는 추가적으로 포함할 수 있다.
플로트 유리 시스템 내에서 유리 리본의 두께를 측정하는 방법은, 적어도 하나의 OLCI 프로브를 사용하여, 플로트 배스의 토출단을 지난 지점이면서 유리 리본이 절단되어 포장되는 위치 전의 지점에서 유리 리본의 두께를 계측하는 단계를 포함한다. OLCI 프로브는, 유리가 주위 대기에 의해 냉각되고 있는 지점에 위치설정될 수 있다. 이 방법은 OLCI 프로브를 사용하여 유리 리본 상의 코팅 및/또는 코팅층들의 두께를 측정하는 단계를 선택적으로 또는 추가적으로 포함할 수 있다.
플로트 유리 시스템의 플로트 배스 내의 화학 증착 코터의 코터 간극을 측정하기 위한 적어도 하나의 OLCI 프로브의 용도.
플로트 유리 시스템의 플로트 배스 내의 유리 리본에 대한 유리 리본 두께를 측정하기 위한 적어도 하나의 OLCI 프로브의 용도. 프로브는 추가적으로 또는 선택적으로 유리 리본 상의 코팅의 두께를 계측하기 위해 사용될 수 있다.
플로트 유리 시스템의 플로트 배스로부터 유출되는 유리 리본에 대한 유리 리본 두께를 측정하기 위한 적어도 하나의 OLCI 프로브의 용도. 프로브는 추가적으로 또는 선택적으로 유리 리본 상의 코팅의 두께를 계측하기 위해 사용될 수 있다.
본 발명은 첨부 도면을 참조하여 기술될 것이며, 도면 전체에 걸쳐서 유사한 도면부호는 유사한 부분을 가리킨다.
도 1은 OLCI 시스템(장치)에 작동 가능하게 연결된 OLCI 프로브를 구비한 CVD 코터를 갖는 본 발명의 플로트 유리 시스템의 개략적인 부분 절개도(정확한 축척은 아님),
도 2는 다중 OLCI 프로브를 통합한 본 발명의 CVD 코터의 부분 절개 사시도(정확한 축척은 아님),
도 3은 OLCI 프로브가 플로트 배스의 유출단 근처에 위치설정되어 있는 플로트 유리 시스템의 개략적인 부분 절개도(정확한 축척은 아님),
도 4는 도 1의 CVD 코터 및 유리 리본의 일부에 대한 개략적인 부분 절개도(정확한 축척은 아님),
도 5는 도 3의 OLCI 프로브 및 유리 리본의 일부에 대한 부분 절개 측면도(정확한 축척은 아님),
도 6은 도 5의 경우와 유사하지만 유리 리본 상의 코팅을 도시하는 부분 절개 측면도(정확한 축척은 아님),
도 7은 다중 OLCI 프로브를 통합한 다운플로우 유리 제조 처리의 부분 절개 단면도(end view)(정확한 축척은 아님),
도 8은 도 7의 다운플로우 처리의 측면도(정확한 축척은 아님),
도 9 내지 도 11은 예 1에 기술된 바와 같은 광학 거리 데이터를 나타내는 도면,
도 12 내지 도 14는 도 9 내지 도 11의 광학 거리 데이터로부터 변환된 물리적 거리 데이터를 나타내는 도면.
도 2는 다중 OLCI 프로브를 통합한 본 발명의 CVD 코터의 부분 절개 사시도(정확한 축척은 아님),
도 3은 OLCI 프로브가 플로트 배스의 유출단 근처에 위치설정되어 있는 플로트 유리 시스템의 개략적인 부분 절개도(정확한 축척은 아님),
도 4는 도 1의 CVD 코터 및 유리 리본의 일부에 대한 개략적인 부분 절개도(정확한 축척은 아님),
도 5는 도 3의 OLCI 프로브 및 유리 리본의 일부에 대한 부분 절개 측면도(정확한 축척은 아님),
도 6은 도 5의 경우와 유사하지만 유리 리본 상의 코팅을 도시하는 부분 절개 측면도(정확한 축척은 아님),
도 7은 다중 OLCI 프로브를 통합한 다운플로우 유리 제조 처리의 부분 절개 단면도(end view)(정확한 축척은 아님),
도 8은 도 7의 다운플로우 처리의 측면도(정확한 축척은 아님),
도 9 내지 도 11은 예 1에 기술된 바와 같은 광학 거리 데이터를 나타내는 도면,
도 12 내지 도 14는 도 9 내지 도 11의 광학 거리 데이터로부터 변환된 물리적 거리 데이터를 나타내는 도면.
본 명세서에 사용된 바와 같이, "좌(left)", "우(right)", "내(inner)", "외(outer)", "위(above)", "아래(below)", "상면(top)", "바닥(bottom)" 등과 같은 공간 또는 방향에 관한 용어들은 도면에 도시되어 있는 바와 같이 본 발명에 관련된다. 본 발명은 다양한 선택적인 방향설정(orientation)을 가정할 수 있는 것으로 이해되어야 하며, 따라서, 그러한 용어들은 제한적인 것으로 간주되지 않아야 한다. 본 명세서에 사용된 바와 같이, 명세서 및 청구범위에 사용된, 치수, 물리적 특성, 처리 파라미터, 성분의 양, 반응 조건 등을 나타내는 모든 숫자들은 모든 경우에 용어 "약(about)"에 의해 수정되는 것으로 이해되어야만 한다. 본 명세서에 개시된 모든 범위들은 범위 시작값과 범위 최종값 및 그 범위 내에 포함된 임의의 및 모든 부분적 범위들을 포괄하는 것으로 이해되어야만 한다. 본 명세서에 언급된 문서들(예컨대 허여된 특허 및 특허 출원과 같은 것이나 이에 한정되는 것은 아님)은 이들 전체로서 "참조에 의해 통합되는" 것으로 간주되어야만 한다. 용어 "막(film)"은 소망의 또는 선택된 조성물을 갖는 코팅의 영역을 말한다. "층(layer)"은 하나 이상의 "막"을 포함한다. "코팅(coating)" 또는 "코팅 적층체(coating stack)"는 하나 이상의 "층"으로 이루어진다. 용어 "위에(over)"는 "on or above"를 의미한다. 예컨대, 기판 "위에 형성된" 코팅층은 형성된 코팅층과 기판 사이에 배치되는 하나 이상의 다른 코팅층의 존재를 배체하지 않는다. "유리 리본 경로"는 유리 제조 처리 중에 유리 리본이 따르는 경로를 의미한다.
저간섭성 광간섭법(OLCI)은 그 계면에서 광학적으로 불연속인 2개의 물질의 계면들 사이의 광학 거리에 대한 정밀한 측정을 제공하기 위해 소스(source)의 간섭성에 의존하는 광학 기술이다. 일반적인 OLCI 시스템에서, 저간섭성 광원(예컨대 초발광 다이오드)의 전력은 결합기(coupler)를 거쳐서 샘플 아암(sample arm)과 기준 아암(reference arm)으로 분할된다. (샘플 아암을 통해) 샘플에 의해 반사된 광 및 이동 거울(기준 아암)과 같은 기준 반사기에 의해 반사된 광은 다시 결합기를 통해 결합되어 탐지기로 향한다. 광간섭은 샘플과 기준 반사기에 의해 반사된 빔의 광로 길이가 동일할 때(즉, 가간섭 길이(coherence length)보다 적은 분량만큼 상이할 때) 관측된다. 광이 통과하는 물질 또는 물질들의 굴절률은 이들 광학 거리를 물리적 거리로 변환하는데 사용될 수 있다. OLCI 시스템은 방사광과 반사광이 별개의 경로를 따라 이동하는 이중 경로 시스템이거나, 또는 방사광과 반사광이 공선적인(collinear) 단일 경로 시스템일 수 있다.
본 발명의 태양들을 포함한 예시적인 플로트 유리 시스템(10)이 도 1에 도시되어 있다. 플로트 유리 시스템(10)은 유리 배치 재료가 용융되어 유리 융해물을 형성하는 노(12)를 갖는다. 노(12)는 공기 연료 노 또는 산소 연료(oxyfuel) 노일 수 있다. 노(12)의 하류측에는 플로트 배스(14)가 배치된다. 플로트 배스(14)는 용융 주석과 같은 용융 금속(16)의 풀을 수용한다. 유리 융해물은 플로트 배스(14)의 유입단(18) 내로 그리고 용융 주석(16)의 상면 위로 도입된다. 유리 융해물이 용융 주석(16)의 표면에 걸쳐서 퍼져 유리 리본(22)을 형성한다. 유리 리본(22)은 플로트 배스(14)의 유출단(24)에서 유출된다. 플로트 배스(14)의 하류측에 레어(26)가 배치될 수 있다. 유리 리본(22)은 종래의 컨베이어 시스템(28)을 거쳐서 레어(26)로 이송될 수 있는데, 레어(26)에서는, 희망하는 경우, 유리 리본의 두께에 걸친 그리고 그 두께를 통한 제어된 분포의 기계적 응력을 유리에 제공하기 위해, 유리 리본(22)이 제어 가능하게(controllably) 냉각될(템퍼링될) 수 있다. 플로트 배스(14) 내의 용융 금속(16)의 표면 및 플로트 배스(14)로부터 나온 유리 리본을 이송하는 컨베이어(28)가 유리 리본 경로(30)(즉, 처리 중에 유리 리본(22)이 따르는 경로)를 규정한다.
적어도 하나의 화학 증착(CVD) 코터(32)가 플로트 배스(14) 내에 배치된다. 코터(32)를 승강시키거나 및/또는 코터(32)를 (즉, 유리 리본(22)의 이동 방향에 대해 좌, 우, 전, 후로) 기울이기 위해, 위치설정 시스템(34)이 코터(32)에 연결된다. 위치설정 시스템(34)은 코터(32)의 하우징에 연결된 하나 이상의 모터 또는 위치설정 아암을 포함할 수 있다. 논의의 편의를 위해, 오직 하나의 CVD 코터(32)만이 도 1에 도시되어 있다. 그러나, 2개 이상의 CVD 코터(32)가 플로트 배스(14) 내에 배치될 수도 있으며, 본 발명은 각각의 코터를 사용하여, 또는 일부의 코터를 사용하여 실시될 수도 있음을 이해해야만 한다. CVD 코터(32)는, 유리 리본(22)이 용융 주석(16)의 상면에서 플로트 배스(14)를 통해 이동할 때 유리 리본(22) 상면 위에 코팅 재료를 도포하도록 구성된다. 종래의 CVD 코터(32)는, 코팅 재료 증기들이 혼합되는 플리넘 블록(plenum block)과, 혼합된 코팅 재료들이 예컨대 코팅 슬롯을 통해 코터(32)로부터 플로트 유리 리본(22)의 상면 위로 토출되는, 코터(32)의 바닥에 배치된 토출 블록을 포함한다. 코팅 재료들이 반응 또는 결합하여 리본(22)의 상면에 코팅을 형성한다. 플로트 유리 코팅 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 지금까지 기술한 플로트 유리 시스템의 대략적인 개념에 대해 익숙할 것이며, 따라서, 상기 구성요소들에 대한 상세한 설명은 제공되지 않을 것이다.
그러나, 본 발명에 따르면, 적어도 하나의 OLCI 조립체(36)가 코터(32)에 작동 가능하게 연결된다. 도시된 실시예에서, OLCI 조립체(36)는 플로트 배스(14) 내부에 위치설정된 적어도 하나의 프로브(38)를 갖는다. 프로브(38)는 코터(32)에 연결되거나, 또는 코터(32) 상에 유지된다. 도시된 실시예에서, 프로브(38)는 코터(32) 내에, 예컨대 코터 하우징(39) 내에 배치된다. 프로브(38)는 광케이블(46)을 거쳐서 방향성 결합기(directional coupler)(44)에 연결된다. 광케이블(46)은 코터(32) 내에 형성된 도관을 통과하여 플로트 배스(14) 밖으로 이어진다. 프로브(38)는 광케이블(46)의 외측 단부에 연결된 렌즈 조립체(40)를 포함한다. 본 명세서에 사용된 바와 같이, "광케이블(46)의 내측 단부"는 플로트 배스(14) 외부의 (예컨대, 방향성 결합기(44)에 연결된) 광케이블(46)의 단부를 의미하며, "광케이블(46)의 외측 단부"는 광케이블(46)의 반대측 단부를 의미한다. 프로브(38)는 렌즈 조립체(40)를 보호하기 위해 스테인리스강 하우징과 같은 선택적 하우징(42)을 포함할 수 있다. 하우징(42)은 (도 1에 도시된 실시예에서와 같이) 개방 바닥을 구비하거나, 또는 OLCI 시스템(36)에서 사용되는 광에 대해 투명한 투명 창 또는 커버 플레이트(96)(도 7과 관련하여 아래에서 논의됨)가 선택적 하우징(42)의 바닥에 포함될 수도 있다. 도관(48)은 도관(48)의 내부를 냉각하여 광케이블(46)에 대한 손상 방지에 도움을 주는, 예컨대 공기, 질소 또는 그와 유사한 유체인 냉각 유체의 소스와 같은 냉각원(cooling source)(43)에 연결되어 있다. 시준기(collimator)(50)가 광케이블(46)과 작동 가능하게 연결된다. 도 1에 도시된 바람직한 실시예에서, 시준기(50)는 프로브(38)와 방향성 결합기(44) 사이에서 플로트 배스(14) 외부에 배치된다. 선택적으로, 시준기(50)는 선택적 하우징(42) 내부에 배치될 수 있다. 프로브(38)와 광케이블(46)이 OLCI 조립체(36)의 샘플 아암(51)을 규정한다.
탈착 가능한 투명 창(52)이 코터(32)의 바닥에 배치된다. 플로트 배스(14) 내의 거친 환경으로 인해, 이 창(52)은 플로트 유리 처리와 관련된 높은 온도를 견딜 수 있어야만 한다. 창(52)의 재료는 OLCI 소스의 파장에서 광학적으로 투명하며 창(52)이 노출되는 조건에 충분히 견딜 수 있는 임의의 재료일 수 있다. 창(52)에 사용될 수 있는 재료의 구체적인 예에는 석영 및 용융 실리카(fused silica)가 포함된다.
창(52)은 임의의 소망하는 두께를 가질 수 있다. 예컨대, 창(52)은 적어도 0.1㎝, 예컨대 적어도 0.2㎝, 예컨대 적어도 0.5㎝, 예컨대 적어도 0.8㎝, 예컨대 적어도 1㎝, 예컨대 적어도 1.2㎝, 예컨대 적어도 1.25㎝의 두께를 가질 수 있다.
추가적으로 또는 선택적으로, 창(52)은 3㎝ 이하, 예컨대 2㎝ 이하, 예컨대 1.5㎝ 이하, 예컨대 1.3㎝ 이하, 예컨대 1.27㎝ 이하의 두께를 가질 수 있다.
용융 실리카는, 파장이 약 1300나노미터(㎚), 예컨대 1300㎚ 내지 1325㎚의 범위 내, 예컨대 1310㎚이고, 및/또는 주위 온도가 1100℃ 미만, 예컨대 1050℃ 미만인 광원에 대해 특히 유용하다. 바람직한 실시예에서, 창(52)은 석영으로 제조되며, 0.25인치(1.27㎝)의 두께를 갖는다.
창(52)은 예컨대 정사각형, 직사각형, 원형, 타원형 등의 임의의 형상일 수 있다. 바람직한 실시예에서, 창(52)은 정사각형이며, 각 변의 길이가 1.5인치(3.8㎝)이다. 바람직하게, 창(52)은 세정 또는 교체를 위해 코터(32)로부터 탈착 가능하다. 창(52)은, 예컨대 나사식 연결부 또는 체결구(예컨대 볼트)에 의해 코터 하우징에 부착되는 프레임 내에 유지되는 것에 의하는 등 임의의 종래 방법으로 코터 하우징에 연결될 수 있다.
광원(54)은 광케이블(56)을 거쳐서 방향성 결합기(44)에 연결된다. OLCI 조립체(36)의 기준 아암(57)은 광케이블(62)에 의해 다른 시준기(60)를 거쳐서 방향성 결합기(44)에 연결되는, 예컨대 이동 거울과 같은 기준 반사기(58)에 의해 규정된다. 포토다이오드(photodiode)와 같은 탐지기(64)가 광케이블(66)을 거쳐서 방향성 결합기(44)에 연결된다. 계측값 출력 시스템(68)은 예컨대 광케이블(70)에 의해 탐지기(64)에 연결된다.
논의의 편의를 위해 도면에서는 상술한 OLCI 조립체(36)의 구성요소들이 서로 별개로 도시되어 있지만, 이들 구성요소 중 일부 또는 전부는 예컨대 후술하는 상용 시스템을 사용하여 공통의 하우징 내에 배치될 수 있음을 이해할 것이다. 예컨대, 시준기(50)는 위에서 논의한 바와 같이 선택적 하우징(42) 내에 배치될 수 있다.
상기의 논의에서, OLCI 조립체(36)는 이중 경로 OLCI 시스템(별개의 기준 아암과 샘플 아암을 가짐)으로서 기술되었다. 이중 경로 시스템이 바람직하지만, 본 발명은 종래의 공통 경로 OLCI 시스템(기준 빔과 샘플 빔이 동일한 경로를 따라 이동함)을 사용하여 실시될 수도 있다.
본 발명을 실시하는데 사용될 수 있는 OLCI 장치의 예에는 미국 캘리포니아주 샌프란시스코의 포갈나노테크사(Fogale Nanotech Inc.)로부터 상업적으로 입수 가능한 Fogale Nanotech Unit(LISE 시스템) 및 미국 뉴욕주 로체스터의 루메트릭스사(Lumetrics Inc.)로부터 상업적으로 입수 가능한 OptiGauge™ 장치가 포함된다.
상기의 예시적 실시예에서는, 논의의 편의를 위해 코터(32) 내에 오직 하나의 프로브(38)만이 간략하게 도시되어 있다. 그러나, 도 2에 도시된 바와 같이, 코터(32)는 광케이블(46)을 거쳐서 다중 결합기(72)에 연결된 다수의 프로브(38)를 통합할 수 있다. 프로브(38)들은 아래에서 자세히 기술되는 바와 같이 다수의 계측 위치를 제공하기 위해 코터(32)의 측면을 따라, 및/또는 전면에 걸쳐서, 및/또는 후면에 걸쳐서, 및/또는 대각선으로 대향하는 코너들에 위치설정될 수 있다. 이들 다수의 계측값은 유리 리본(22)에 대한 코터(32)의 경사(즉, 코팅 영역에 걸친 코터 간극의 균일성)을 측정하기 위해, 그리고 유리 리본(22)의 두께 및/또는 유리 리본(22)의 폭에 걸친 두께 변화에 관한 정보를 제공하기 위해 사용될 수 있다. 프로브(38)는 추가적으로 또는 선택적으로 유리 리본(22) 상의 코팅 또는 코팅층들의 두께에 관한 정보를 제공할 수도 있다. 이러한 정보는 코터(32)를 소망의 배치로 조절 또는 위치설정하거나 또는 유리 당김(pulling) 설비의 작동 조건을 조절하여 유리 리본(22)의 두께를 제어하기 위해 사용될 수 있다.
코터(32)는 서로 이격된 거리에 위치설정된 2개 이상의 프로브(38)를 가질 수 있다. 예컨대, 프로브(38)는 코터(32)의 대각선으로 대향하는 코너들 또는 그 근처에 배치될 수 있다. 도 2에 도시된 예에서, 하나 이상의 프로브(38)가 코터의 전방 코너(도 2에 도시된 코터(32)의 우측 상단 코너) 또는 그 근처에 배치되며, 하나 이상의 다른 프로브(38)가 코터(32)의 대각선으로 대향하는 코너(도 2에 도시된 코터(32)의 좌측 하단 코너) 또는 그 근처에 배치된다.
도 3에 도시된 바와 같이, 유리 리본(22)이 플로트 배스(14)로부터 유출된 후의 플로트 유리 리본(22)의 두께를 계측하기 위해, 하나 이상의 선택적인 다른 OLCI 프로브(138)가 예컨대 플로트 배스(14)와 레어(26) 사이의 플로트 배스(14) 하류측의 하나 이상의 위치에서 유리 리본(22) 위에(즉, 유리 리본 경로 위에) 위치설정될 수 있다. 프로브(들)(138)는 상술한 OLCI 조립체(36)에, 또는 도 3에 도시된 바와 같이 별도의 OLCI 조립체(136)에 연결될 수 있다. 프로브(들)(138)는 지지체(76)에 장착될 수 있다. 바람직한 실시예에서, 지지체(76)는, 그 폭에 걸친 여러 위치에서 유리 리본(22)의 두께를 측정하기 위해 OLCI 프로브(138)가 유리 리본의 폭의 적어도 일부에 걸쳐서 이동 가능하게 하는 횡단 시스템(traversing system)을 포함한다. 선택적으로, 다수의 두께 기록을 얻을 수 있도록 다수의 프로브(138)가 유리 리본(22) 위의 지지체(76)의 폭에 걸친 고정 위치들에 위치설정될 수도 있다. 프로브(들)(138)는 추가적으로 또는 선택적으로 유리 리본(22) 상의 코팅 또는 코팅층들의 두께에 관한 정보를 제공할 수도 있다.
도 3에 추가로 도시된 바와 같이, 하나 이상의 선택적인 추가 OLCI 프로브(238)가 플로트 배스(14) 내에 배치된 하나 이상의 지지체(78)에 설치될 수 있다(즉, 코터(32)에 직접 연결되는 것은 아님). 이들 추가 프로브(들)(238)는 상술한 OLCI 조립체(36)에, 또는 도 3에 도시된 바와 같이 별도의 OLCI 조립체(236)에 연결될 수 있다. 예컨대, 프로브(들)(238)는 상술한 바와 같이 하나 이상의 지지체(78) 상의 고정 위치에 위치설정되며 다중 결합기(72)에 연결될 수 있다. 따라서, 프로브(들)(238)를 이용하여, 유리 리본(22)의 폭에 걸친 다수의 위치 및 유리 리본(22)의 이동 방향에 따른 다수의 위치에서 유리 리본 두께를 계측할 수 있다. 이러한 정보는 유리 당김 설비의 작동 조건을 조절하여 유리 리본(22)의 두께를 제어하는데 사용될 수 있다. 도 3에서는, 플로트 배스 내의 추가 프로브(238)가 하나의 OLCI 조립체(236)에 연결되며, 플로트 배스(14) 외부에 배치된 다른 프로브(138)가 다른 OLCI 조립체(136)에 연결된 것으로 도시되어 있다. 그러나, 플로트 배스(14) 내의 프로브(238) 및 플로트 배스(14) 외부의 프로브(138)는 예컨대 상술한 OLCI 조립체(36)와 같은 동일한 OLCI 조립체에 연결될 수 있음을 이해해야 한다. 프로브(들)(238)는 추가적으로 또는 선택적으로 유리 리본(22) 상의 코팅 또는 코팅층들의 두께에 관한 정보도 제공한다.
상술한 본 발명의 다양한 태양(예컨대, 도 1에 도시된 OLCI 프로브(들)(38)를 구비한 코터(32), 도 3에 도시된 배스 외부의 다른 프로브(들)(138), 및 도 3에 도시된 배스 내부의 추가 프로브(들)(238))이 별도의 도면에 도시되어 있지만, 이는 단순히 논의의 편의를 위한 것이며, 본 발명의 플로트 유리 시스템(10)은 단일 프로세스 내에 이들 태양 중 임의의 하나 이상의 태양 또는 이들 태양의 임의의 조합을 통합할 수도 있음을 인식할 것이다. 예컨대, 플로트 유리 시스템(10)은 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이 하나 이상의 프로브(38)를 갖는 하나 이상의 코터(32); 및/또는 도 3에 도시된 바와 같이, 플로트 배스(14)의 유출단에, 예컨대 플로트 배스(14)와 레어(26) 사이의 하나 이상의 위치에 배치된 하나 이상의 다른 프로브(138); 및/또는 도 3에 도시된 바와 같이 코터(들)(32)의 외부에서 플로트 배스(14) 내에 위치설정된 하나 이상의 배스 내 추가 프로브(238)를 통합할 수도 있다.
이제, 본 발명의 플로트 유리 시스템(10)의 작동에 대해 특히 도 1 및 도 4를 참조하여 기술할 것이다. 광원(54)으로부터의 광이 방향성 결합기(44)를 통해 샘플 아암(51) 및 기준 아암(57) 둘 모두로 인도된다. 샘플 아암(51)에서, 광은 프로브(38)로부터 석영 창(52)을 통해, 그 후에 플로트 유리 리본(22)을 통해 용융 주석(16)의 상면에 인도된다. 도 4에 도시된 바와 같이, 광(80)은 여러 계면으로부터 역으로 반사된다. 이러한 반사광은 계면들 사이의 거리를 계산하는 탐지기(64)로 이동한다. 창(52)의 바닥면(코터(32)의 바닥과 바람직하게 정렬되어 있음)은 코터(32)의 바닥으로부터 유리 리본(22)의 상면까지의 거리를 계측하기 위한 기준으로서 사용될 수 있다.
도 4에서, 프로브(38)의 바닥으로부터 석영 창(52)의 바닥까지의 광학 거리는 X1으로 표기된다. 프로브(38)의 바닥으로부터 유리 리본(22)의 상면까지의 광학 거리는 X2로 표기된다. 프로브(38)의 바닥으로부터 유리 리본(22)의 바닥면까지의 광학 거리는 X3로 표기된다. 이들 광학 거리를 측정하면, X2로부터 X1을 빼는 것에 의해 코터 간극을 쉽게 측정할 수 있다. 또한, 유리 리본(22)의 광학적 두께는 X3로부터 X2를 빼는 것에 의해 얻어질 수 있다. 물리적 두께는 광학적 두께를 광원의 파장에서의 매질(예컨대, 유리)의 광학 지수(optical index)(n) 및 매질의 온도로 나누는 것에 의해 광학적 두께로부터 계산될 수 있다. 예컨대, 유리 리본의 표면과 창(52) 사이의 주위 매질의 광학 지수는 n=1로서 규정될 수 있는 반면에, 1310㎚에서의 유리 리본(22)의 광학 지수는 일반적으로 약 n=1.51이다. 본 발명에 의하면, 다양한 코팅 재료 또는 증착 파라미터들을 수용하기 위해 코터 간극을 실시간으로 쉽게 확인하고 정밀하게 변경할 수 있다.
상기의 논의로부터 그리고 특히 도 2를 참조하여 알 수 있는 바와 같이, 코터(32) 내에 다수의 OLCI 프로브(38)를 사용하는 것은 유리 리본(22) 위로의 코터 거리를 측정하는데 도움이 될 뿐만 아니라, 코터(32)가 유리 리본의 상면에 대해 적절하게 정렬되어 있는지, 즉 코터 바닥이 유리 리본(22)의 상면에 평행한지 아니면 유리 리본(22)의 상면에 대해 경사져 있는지를 측정하는데 사용될 수도 있다. 예컨대, 몇몇 예에서는, 코터(32)를 유리 리본(22)의 이동 방향에 대해 좌로 또는 우로 또는 상류측으로 또는 하류측으로 기울이는 것이 바람직할 수도 있다. 본 발명을 실시함에 있어서, 유리 리본(22)의 상면으로부터 코터(32)의 바닥까지의 거리가 보다 정밀하게 규정될 수 있으며, 위치설정 시스템(34)이 희망에 따라 코터(32)를 보다 정밀하게 승강시키거나 또는 코터(32)를 기울이는데 사용될 수 있다. 이러한 보다 정밀한 거리 계측은 코팅 처리의 더 나은 제어 및 적극 안전(positive safety)을 제공하여 코터(32)의 바닥과 유리 리본(22)의 상면의 접촉을 방지한다. 유리 리본 두께를 측정함에 있어서 유리 리본(22)과의 물리적인 접촉이 없기 때문에, 유리 리본(22)의 상면이 교란 또는 손상되지 않는다. 추가적으로, 다중 결합기(72) 및 다수의 프로브(38)를 사용함으로써, 유리 리본(22)의 폭에 걸쳐 다수의 OLCI 거리 계측값을 취해서 유리 리본(22)에 걸친 두께 변화가 있는지를 측정할 수 있으며, 이러한 두께 변화는 그 후에 수정될 수 있다. 나아가, 프로브(38) 및 석영 창(52)은 예컨대 프로브(38)의 교체를 위해, 또는 석영 창(52)이 플로트 배스(14) 내의 열에 의해 손상되거나 또는 플로트 배스(14) 내의 용융 금속에 의해 손상되는 경우에 석영 창(52)을 세정 또는 교체하기 위해 용이하게 제거되거나 또는 코터(32)에 설치된다.
도 3 및 도 5와 관련하여, 플로트 배스(14)의 외부에 배치된 OLCI 장치(들)는 유리 리본이 플로트 배스(14)로부터 유출될 때 유리 리본(22)의 두께를 측정하는데 사용될 수 있다. 도 5에서, 하우징(42)은 선택적인 커버 플레이트(96)를 포함하는 것으로 도시되어 있다. 상기의 논의로부터 알 수 있는 바와 같이, 지지체(76) 상의 OLCI 프로브(들)(138)는 유리 리본(22)이 플로트 배스(14)로부터 유출될 때의 유리 리본(22)의 두께를 계측하는데 사용될 수 있다. 이들 계측값은 유리 리본(22)의 두께에 관한 정보뿐만 아니라, 만약에 있다면, 유리 리본(22)의 폭에 걸친 두께 변화에 관한 정보도 제공한다. 이러한 정보에 의해 조작자는 유리 리본(22)의 평균 두께를 변화시키도록 또는 유리 리본(22)의 폭에 걸친 두께 변화를 조절하도록(예컨대 그에 의해 유리 리본(22)의 폭에 걸쳐 보다 균일한 두께를 제공하도록) 플로트 배스(14)를 조절할 수 있다. 본 발명에 사용된 OLCI 프로브는 종래의 시스템으로 가능한 것 이상의 유리 리본 두께에 대한 보다 정밀한 계측을 가능케 한다. 또한, 본 발명은 유리 리본(22)의 상면과 물리적으로 접촉하지 않으며, 따라서 유리 표면을 손상시키지 않을 것이다. 추가적으로, 본 발명의 OLCI 장치 및 처리에 의해 얻어지는 두께 계측값은 유리 리본(22)의 방향설정 또는 편평도에 의존하지 않는다. 예컨대, 유리 리본(22)이 컨베이어 시스템(28) 상에서의 운동 등으로 인해 약간 울퉁불퉁한 부분을 갖는 경우에도, OLCI 프로브에 의해 얻은 두께 계측값은 여전히 정확한 두께인데, 왜냐하면 OLCI 처리는 이들 표면이 평행한지 아니면 만곡되어 있는지와 무관하게 상면으로부터 바닥면까지의 유리 리본(22)의 거리(즉, 상부 계면과 바닥 계면 사이의 거리)를 계측하기 때문이다.
도 6은 도 5와 유사하지만, 유리 리본(22) 위에 코팅(82)이 존재하는 것을 도시한다. 따라서, 본 발명을 실시함에 있어서, 유리 리본(22)의 두께를 계산할 수 있을 뿐만 아니라, 유리 리본(22) 상의 코팅(82)의 두께(코팅(82)을 형성하는 층들의 두께를 포함함)도 계산할 수 있다. 도 6에서, 프로브(38)의 바닥으로부터 코팅(82)의 상면까지의 거리는 X4로 표기된다. 따라서, 코팅(82)의 두께는 X2-X4로 규정된다.
도 7 및 도 8은 다운드로우 유리 제조 처리와 함께 활용되는 본 발명의 개념을 나타낸다. 다운드로우 처리는 용융 유리(80)가 대향 측부(86, 88)를 갖는 성형 홈통(84)의 채널(82) 내로 이송되는 종래의 퓨전 다운드로우 처리로 도시되어 있다. 용융 유리(80)가 채널(82)을 흘러넘쳐서 2개의 유리막(90, 92)을 형성하는데, 이들 유리막(90, 92)은 각각 측부(86, 88)의 외면을 따라 하향으로 흐르며, 홈통(84) 아래에서 함께 결합하여 유리 리본(94)을 형성한다. 유리 리본(94)은 중력 하에서 하향으로 이동한다. 유리 리본(94)이 따라 이동하는 수직 평면은 다운드로우 처리를 위한 유리 리본 경로(95)를 규정한다. 하나 이상의 프로브(338)가 유리 리본(94) 근처에(즉, 유리 리본 경로 근처에) 위치설정된다. 도시된 실시예에서, 프로브(338)는 상술한 프로브(38, 138, 238)와 유사하지만, 렌즈 조립체(40)를 환경 피해로부터 보호하기 위해, OLCI 시스템에 사용된 광에 투명한 바닥 커버 플레이트(96)를 포함한다. 도 7 및 도 8에 도시된 바와 같이, 선택적 위치에서의 유리 리본(94)의 두께를 측정하기 위해 복수의 프로브(338)를 유리 리본(94)에 대한 선택된 높이에 위치설정할 수 있다. 프로브(338)는 하나 이상의 OLCI 조립체(336)에 연결된다. 프로브(338)는 고정식으로 장착될 수 있으며, 또는 도 8에 도시된 바와 같이, 프로브(338)는 유리 리본(94)의 두께 프로파일을 측정하기 위해 프로브(338)가 유리 리본(94)의 폭의 적어도 일부에 걸쳐서 이동할 수 있게 하는 횡단 시스템(100)을 갖는 지지체(98)에 장착될 수 있다.
예 1
도 9는, 코터 창이 임의의 위치로부터 0.100인치(0.25㎝)에 장착되고, 창의 바닥이 코터 바닥과 동일한 높이에 있으며, 유리 리본 표면이 코터 바닥 아래로 0.200인치(0.51㎝)의 거리에 있고, 유리의 두께가 3.2㎜인 경우의 구성에 대한 도 1에 도시된 플로트 유리 시스템으로부터의 신호의 예를 도시한다. 도 10은, 코터 창이 임의의 위치로부터 0.100인치(0.25㎝)에 장착되고 코터 바닥과 동일한 높이에 있으며, 유리 리본 표면이 코터 바닥 아래로 0.300인치(0.76㎝)의 거리에 있고, 유리의 두께가 3.2㎜인 경우의 시스템으로부터의 신호의 예를 도시한다. 도 11은 코터 창이 임의의 위치로부터 0.100인치(0.25㎝)에 장착되고 코터 바닥과 동일한 높이에 있으며, 유리 리본 표면이 코터 바닥 아래로 0.200인치(0.51㎝)의 거리에 있고, 유리의 두께가 6.0㎜인 경우의 구성에 대한 시스템으로부터의 신호의 예를 도시한다. 도 12 내지 도 14는 각각 광학 거리가 물질의 굴절률에 맞춰 조정됨으로써 물리적 거리로 변환되어 있는 도 9 내지 도 11의 신호를 도시한다.
상술한 설명에 개시되어 있는 개념으로부터 벗어나지 않으면서 본 발명에 대한 변형이 이루어질 수도 있음을 당업자는 쉽게 이해할 것이다. 예컨대, 여러 도면에 도시된 본 발명의 다양한 태양들은 반드시 별개로 구체화되어야 함을 의미하는 것으로 여겨져서는 안 된다. 본 발명의 플로트 유리 시스템은 상술한 본 발명의 태양 중 임의의 하나, 2개 이상의 태양의 조합, 또는 이들 태양의 전부를 포함할 수 있다. 따라서, 본 명세서에 상세하게 기술된 특정 실시예는 단지 설명을 위한 것일 뿐 본 발명의 범위를 한정하는 것이 아니며, 본 발명의 범위는 첨부된 청구범위 및 이 청구범위의 임의의 모든 균등물의 전체 범위에 의해 주어진다.
Claims (27)
- 플로트 유리 시스템(float glass system)에 있어서,
용융 금속의 풀(pool)을 갖는 플로트 배스(float bath)와,
상기 용융 금속의 풀의 상방에서 상기 플로트 배스 내에 위치된 적어도 하나의 저간섭성 광간섭법 프로브(optical low-coherence interferometry probe)와,
상기 적어도 하나의 저간섭성 광간섭법 프로브에 작동 가능하게 접속된 저간섭성 광간섭법 시스템과,
상기 플로트 배스 내에 위치된 적어도 하나의 화학 증착 코터(chemical vapor deposition coater)로서, 상기 적어도 하나의 저간섭성 광간섭법 프로브가 접속되어 있는, 상기 적어도 하나의 화학 증착 코터와,
상기 적어도 하나의 화학 증착 코터에 접속된 위치설정 시스템을 포함하는
플로트 유리 시스템. - 제 1 항에 있어서,
상기 적어도 하나의 화학 증착 코터가 코터 하우징을 포함하며, 상기 적어도 하나의 저간섭성 광간섭법 프로브가 상기 코터 하우징 내에 위치되어 있는
플로트 유리 시스템. - 제 1 항에 있어서,
상기 적어도 하나의 화학 증착 코터가 냉각 유체의 소스와 유체 연통하는 도관을 포함하며, 상기 적어도 하나의 저간섭성 광간섭법 프로브가 상기 도관을 통해 연장되는 광 케이블에 의해서 상기 저간섭성 광간섭법 시스템에 접속되어 있는
플로트 유리 시스템. - 제 1 항에 있어서,
상기 적어도 하나의 화학 증착 코터의 바닥에 위치되는 적어도 하나의 창(window)을 포함하고, 상기 적어도 하나의 저간섭성 광간섭법 프로브가 상기 적어도 하나의 화학 증착 코터 내에 위치되며, 또한 상기 적어도 하나의 창과 정렬되는
플로트 유리 시스템. - 제 1 항에 있어서,
지지체에 접속되고, 또한 상기 플로트 배스의 유출단에 인접해서 위치된 적어도 하나의 다른 저간섭성 광간섭법 프로브를 더 포함하는
플로트 유리 시스템. - 제 5 항에 있어서,
상기 적어도 하나의 다른 저간섭성 광간섭법 프로브가 상기 지지체 상에 이동 가능하게 장착되며, 상기 지지체가 상기 플로트 배스의 외측에 위치되는
플로트 유리 시스템. - 제 5 항에 있어서,
상기 플로트 배스의 상기 유출단에 인접한 상기 지지체 상에 장착되며, 또한 플로트 유리의 리본 경로에 인접해서 위치설정되는 복수의 다른 저간섭성 광간섭법 프로브를 포함하는
플로트 유리 시스템. - [청구항 8은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.]제 1 항에 있어서,
상기 적어도 하나의 저간섭성 광간섭법 프로브가 프로브 하우징 내에 위치된 렌즈 조립체를 포함하는
플로트 유리 시스템. - [청구항 9은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.]제 8 항에 있어서,
상기 프로브 하우징이 투명 커버 플레이트를 포함하는
플로트 유리 시스템. - 플로트 유리 시스템에 있어서,
용융 금속의 풀을 갖는 플로트 배스와,
상기 플로트 배스 내에 위치된 적어도 하나의 화학 증착 코터로서, 바닥을 갖는 코터 하우징을 포함하는, 상기 적어도 하나의 화학 증착 코터와,
상기 적어도 하나의 화학 증착 코터의 바닥에 위치된 적어도 하나의 창과,
상기 적어도 하나의 화학 증착 코터에 접속되고, 상기 코터 하우징 내에 위치된 적어도 하나의 저간섭성 광간섭법 프로브로서, 상기 적어도 하나의 창과 정렬되어 있는, 상기 적어도 하나의 저간섭성 광간섭법 프로브와,
상기 적어도 하나의 저간섭성 광간섭법 프로브에 작동 가능하게 접속된 저간섭성 광간섭법 시스템을 포함하는
플로트 유리 시스템. - 제 10 항에 있어서,
상기 적어도 하나의 화학 증착 코터가 냉각 유체의 소스와 유체 연통하는 도관을 포함하며, 상기 적어도 하나의 저간섭성 광간섭법 프로브가 상기 도관을 통해 연장되는 광 케이블에 의해서 상기 저간섭성 광간섭법 시스템에 접속되어 있는
플로트 유리 시스템. - 제 10 항에 있어서,
상기 적어도 하나의 화학 증착 코터에 접속된 위치설정 시스템을 포함하는
플로트 유리 시스템. - 제 10 항에 있어서,
지지체에 접속되고, 또한 상기 플로트 배스의 유출단에 인접해서 위치된 적어도 하나의 다른 저간섭성 광간섭법 프로브를 더 포함하는
플로트 유리 시스템. - 제 13 항에 있어서,
상기 적어도 하나의 다른 저간섭성 광간섭법 프로브가 상기 지지체 상에 이동 가능하게 장착되며, 상기 지지체가 상기 플로트 배스의 외측에 위치되는
플로트 유리 시스템. - [청구항 15은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.]제 10 항에 있어서,
상기 적어도 하나의 저간섭성 광간섭법 프로브가 프로브 하우징 내에 위치된 렌즈 조립체를 포함하는
플로트 유리 시스템. - [청구항 16은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.]제 15 항에 있어서,
상기 프로브 하우징이 투명 커버 플레이트를 포함하는
플로트 유리 시스템. - 플로트 유리 시스템에 있어서,
용융 금속의 풀을 갖는 플로트 배스와,
상기 플로트 배스의 유출단에 인접해서 위치되고 또한 저간섭성 광간섭법 시스템에 접속된 적어도 하나의 저간섭성 광간섭법 프로브와,
상기 플로트 배스 내에 위치된 적어도 하나의 화학 증착 코터와,
상기 적어도 하나의 화학 증착 코터에 접속된 위치설정 시스템을 포함하는
플로트 유리 시스템. - 제 17 항에 있어서,
상기 적어도 하나의 저간섭성 광간섭법 프로브가 프로브 하우징 내에 위치된 렌즈 조립체를 포함하며, 상기 프로브 하우징이 투명 커버 플레이트를 포함하는
플로트 유리 시스템. - 적어도 하나의 저간섭성 광간섭법 프로브를 이용해서, 화학 증착 코터의 바닥으로부터 플로트 배스 내의 유리 리본의 상면까지의 거리를 계측하는 단계를 포함하는, 플로트 유리 시스템 내의 코터 간극을 결정하는 방법으로서,
상기 플로트 유리 시스템이 상기 화학 증착 코터에 접속된 위치설정 시스템과, 상기 화학 증착 코터의 바닥에 위치된 창을 포함하며,
상기 저간섭성 광간섭법 프로브가 상기 화학 증착 코터 내에 위치되며, 또한 상기 창과 정렬되어 있는
코터 간극 결정 방법. - 제 19 항에 있어서,
상기 화학 증착 코터가 코터 하우징을 포함하며, 상기 저간섭성 광간섭법 프로브가 상기 코터 하우징 내에 위치되어 있는
코터 간극 결정 방법. - 제 19 항에 있어서,
상기 화학 증착 코터가 냉각 유체의 소스와 유체 연통하는 도관을 포함하며, 상기 저간섭성 광간섭법 프로브가 상기 도관을 통해 연장되는 광 케이블에 의해서 저간섭성 광간섭법 시스템에 접속되어 있는
코터 간극 결정 방법. - 제 19 항에 있어서,
상기 저간섭성 광간섭법 프로브가 상기 플로트 유리 시스템의 유출단에 인접해서 위치되어 있는
코터 간극 결정 방법. - 제 19 항에 있어서,
상기 저간섭성 광간섭법 프로브가 지지체에 접속되고, 또한 상기 플로트 배스의 유출단에 인접해서 위치되어 있는
코터 간극 결정 방법. - 제 23 항에 있어서,
상기 저간섭성 광간섭법 프로브가 상기 지지체 상에 이동 가능하게 장착되며, 상기 지지체는 상기 플로트 배스의 외측에 위치되는
코터 간극 결정 방법. - 제 23 항에 있어서,
복수의 다른 저간섭성 광간섭법 프로브를 이용해서, 상기 화학 증착 코터의 바닥으로부터 상기 플로트 배스 내의 유리 리본의 상면까지의 거리를 계측하는 단계를 더 포함하는
코터 간극 결정 방법. - [청구항 26은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.]제 19 항에 있어서,
상기 저간섭성 광간섭법 프로브가 프로브 하우징 내에 위치된 렌즈 조립체를 포함하는
코터 간극 결정 방법. - [청구항 27은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.]제 26 항에 있어서,
상기 프로브 하우징이 투명 커버 플레이트를 포함하는
코터 간극 결정 방법.
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US201361839899P | 2013-06-27 | 2013-06-27 | |
| US61/839,899 | 2013-06-27 | ||
| US14/314,238 US9469559B2 (en) | 2013-06-27 | 2014-06-25 | Glass manufacturing system incorporating an optical low-coherence interferometry assembly |
| PCT/US2014/044027 WO2014210114A1 (en) | 2013-06-27 | 2014-06-25 | Glass manufacturing system incorporating an optical low-coherence interferometry assembly |
| US14/314,238 | 2014-06-25 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20160010581A KR20160010581A (ko) | 2016-01-27 |
| KR101811262B1 true KR101811262B1 (ko) | 2017-12-22 |
Family
ID=52114271
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020157035780A KR101811262B1 (ko) | 2013-06-27 | 2014-06-25 | 저간섭성 광간섭법 조립체를 통합한 유리 제조 시스템 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US9469559B2 (ko) |
| EP (1) | EP3013761A1 (ko) |
| JP (1) | JP6178971B2 (ko) |
| KR (1) | KR101811262B1 (ko) |
| CN (1) | CN105431387B (ko) |
| WO (1) | WO2014210114A1 (ko) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10680123B2 (en) * | 2015-03-12 | 2020-06-09 | Vitro Flat Glass Llc | Article with transparent conductive oxide coating |
| DE102017101808A1 (de) * | 2016-02-04 | 2017-08-10 | Schott Ag | Verfahren zur Dickenkontrolle eines Substrates |
| JP2017156701A (ja) * | 2016-03-04 | 2017-09-07 | パナソニック液晶ディスプレイ株式会社 | 液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法 |
| KR102347707B1 (ko) * | 2016-04-07 | 2022-01-06 | 코닝 인코포레이티드 | 연속적인 유리 리본을 성형하기 위한 성형체 및 이를 포함하는 유리 성형 장치 |
| KR20220153678A (ko) * | 2016-06-16 | 2022-11-18 | 호유 가부시키가이샤 | 생선 알레르기의 항원 |
| US10260865B1 (en) * | 2016-09-13 | 2019-04-16 | National Technology & Engineering Solutions Of Sandia, Llc | High resolution, non-contact removal rate module for serial sectioning |
| WO2020005555A1 (en) | 2018-06-28 | 2020-01-02 | Corning Incorporated | Continuous methods of making glass ribbon and as-drawn glass articles from the same |
| GB201902032D0 (en) * | 2019-02-14 | 2019-04-03 | Pilkington Group Ltd | Apparatus and process for determining the distance between a glass substrate and a coater |
| CN114450255B (zh) * | 2019-09-13 | 2023-11-21 | 康宁股份有限公司 | 采用回旋管微波加热装置形成玻璃带的连续方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013508248A (ja) * | 2009-10-14 | 2013-03-07 | コーニング インコーポレイテッド | シート厚さ制御方法および装置 |
Family Cites Families (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2127068A5 (ko) | 1971-02-22 | 1972-10-13 | Schlumberger Compteurs | |
| US3951100A (en) * | 1972-12-15 | 1976-04-20 | Ppg Industries, Inc. | Chemical vapor deposition of coatings |
| US4466562A (en) | 1981-12-15 | 1984-08-21 | Ppg Industries, Inc. | Method of and apparatus for severing a glass sheet |
| US4671155A (en) | 1985-06-13 | 1987-06-09 | Ppg Industries, Inc. | Positioning apparatus |
| US5002622A (en) * | 1989-02-27 | 1991-03-26 | Del Mar Avionics | Glass based optical disc manufacturing process |
| US5298073A (en) * | 1992-02-28 | 1994-03-29 | Libbey-Owens-Ford Co. | Two sensor for determining spacing between surfaces |
| US5707412A (en) * | 1994-09-30 | 1998-01-13 | Ppg Industries, Inc. | Method of reducing glass sheet marking |
| JPH08253332A (ja) * | 1995-03-14 | 1996-10-01 | Asahi Glass Co Ltd | 高温雰囲気内における計測器の移動方法及び装置 |
| JP3459327B2 (ja) * | 1996-06-17 | 2003-10-20 | 理化学研究所 | 積層構造体の層厚および屈折率の測定方法およびその測定装置 |
| JP2002005619A (ja) * | 2000-06-21 | 2002-01-09 | Olympus Optical Co Ltd | 干渉測定方法、装置及びその方法またはその装置により測定された物 |
| DE102004034693B4 (de) * | 2004-07-17 | 2006-05-18 | Schott Ag | Verfahren und Vorrichtung zur berührungslosen optischen Messung der Dicke von heißen Glaskörpern mittels der chromatischen Aberration |
| JPWO2006054730A1 (ja) * | 2004-11-19 | 2008-06-05 | 日本板硝子株式会社 | 薄膜付きガラス板の製造方法 |
| US7516628B2 (en) * | 2005-01-11 | 2009-04-14 | Corning Incorporated | On-line thickness gauge and method for measuring the thickness of a moving glass substrate |
| US8460752B2 (en) * | 2008-09-15 | 2013-06-11 | Cvd Equipment Corporation | High-throughput CVD system |
| US20120127487A1 (en) * | 2010-11-18 | 2012-05-24 | Sergey Potapenko | Methods and apparatuses for measuring the thickness of glass substrates |
| EP2678634A1 (en) * | 2011-02-24 | 2014-01-01 | Corning Incorporated | Methods and apparatus for the measurement of film thickness |
| US9696138B2 (en) | 2011-08-01 | 2017-07-04 | University Of Florida Research Foundation, Inc. | Simultaneous refractive index and thickness measurements with a monochromatic low-coherence interferometer |
-
2014
- 2014-06-25 KR KR1020157035780A patent/KR101811262B1/ko active IP Right Grant
- 2014-06-25 US US14/314,238 patent/US9469559B2/en active Active
- 2014-06-25 EP EP14747741.8A patent/EP3013761A1/en active Pending
- 2014-06-25 JP JP2016523876A patent/JP6178971B2/ja active Active
- 2014-06-25 CN CN201480036414.8A patent/CN105431387B/zh active Active
- 2014-06-25 WO PCT/US2014/044027 patent/WO2014210114A1/en active Application Filing
-
2016
- 2016-09-26 US US15/275,969 patent/US10106450B2/en active Active
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013508248A (ja) * | 2009-10-14 | 2013-03-07 | コーニング インコーポレイテッド | シート厚さ制御方法および装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US9469559B2 (en) | 2016-10-18 |
| KR20160010581A (ko) | 2016-01-27 |
| WO2014210114A8 (en) | 2015-12-23 |
| EP3013761A1 (en) | 2016-05-04 |
| US20170081235A1 (en) | 2017-03-23 |
| US20150000345A1 (en) | 2015-01-01 |
| US10106450B2 (en) | 2018-10-23 |
| JP2016526528A (ja) | 2016-09-05 |
| JP6178971B2 (ja) | 2017-08-16 |
| CN105431387B (zh) | 2019-01-15 |
| WO2014210114A1 (en) | 2014-12-31 |
| CN105431387A (zh) | 2016-03-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101811262B1 (ko) | 저간섭성 광간섭법 조립체를 통합한 유리 제조 시스템 | |
| CN110312687B (zh) | 薄玻璃基板及其制造方法和设备 | |
| CN101336366B (zh) | 刻画玻璃带特性的方法和装置 | |
| JP6630268B2 (ja) | アイソパイプの温度プロファイル制御のための装置及び方法 | |
| US7225665B2 (en) | Process and apparatus for measuring the shape of an article | |
| KR101325426B1 (ko) | 이동하는 유리기판의 두께를 측정하기 위한 온-라인 두께측정기 및 방법 | |
| JP5920216B2 (ja) | 形状測定装置、形状測定方法、およびガラス板の製造方法 | |
| MX2013003334A (es) | Dispositivo y metodo para detectar imperfecciones en vidrio flotado producido continuamente. | |
| KR20140015384A (ko) | 플로트 유리 및 그의 제조 방법 | |
| CN104567598A (zh) | 液晶基板玻璃成型出炉跑偏量测量装置及测量处理方法 | |
| JP2021024782A (ja) | わずかな結晶割合を有する熱成形された化学的に強化可能なガラス製品、殊に板状の化学的に強化可能なガラス製品、ならびにそれを製造する方法および装置 | |
| WO2020129529A1 (ja) | ガラス物品の温度測定方法及び製造方法 | |
| KR20160047638A (ko) | 두께 측정 장치 및 방법 | |
| KR102011426B1 (ko) | THz 빔 스플리터 제작용 박막 코팅 장치 및 이를 이용한 코팅 방법 | |
| KR102651570B1 (ko) | 유리 리본을 제조하기 위한 장치 및 방법들 | |
| US20240158284A1 (en) | Glass pane with low optical defects and process for production and use thereof | |
| TW202300465A (zh) | 壓力感測器，玻璃晶圓及製造方法 | |
| Van Nijnatten | Optical monitoring of thin film properties using in-situ measurement of transmittance and reflectance | |
| CN116143423A (zh) | 通过高分辨率加热改善玻璃条痕的系统和方法 | |
| KR20140114531A (ko) | 평판 표시 장치의 제조를 위한 기판 밀봉 시스템 및 그 제어 방법 | |
| Abramova et al. | Comparison of national standards of Russia and Finland for the unit of length |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| N231 | Notification of change of applicant | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right |