KR101761209B1 - Display device using semiconductor light emitting device - Google Patents

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KR101761209B1 KR1020150012975A KR20150012975A KR101761209B1 KR 101761209 B1 KR101761209 B1 KR 101761209B1 KR 1020150012975 A KR1020150012975 A KR 1020150012975A KR 20150012975 A KR20150012975 A KR 20150012975A KR 101761209 B1 KR101761209 B1 KR 101761209B1
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Abstract

본 발명은 디스플레이 장치에 관한 것으로 특히, 상기 디스플레이 장치는 스캔 구동 신호를 전달하도록 이루어지며, 서로 평행하게 배치되는 복수의 스캔 라인들과, 데이터 구동 신호를 전달하도록 상기 복수의 스캔 라인들과 교차하게 배치되는 복수의 데이터 라인들, 및 적색, 녹색 및 청색의 빛들을 각각 출력하는 적색 출력부, 녹색 출력부 및 청색 출력부를 구비하는 단위화소부를 포함하고, 상기 복수의 스캔 라인들 및 복수의 데이터 라인들은 상기 단위화소부에서 각각 3열씩 배치되며, 상기 단위화소부에 배치되는 3열의 스캔 라인은 상기 스캔 구동 신호가 동시에 가해지도록 서로 연결될 수 있다.The present invention relates to a display device, and more particularly, to a display device, which is adapted to transmit a scan driving signal, includes a plurality of scan lines arranged in parallel to each other, and a plurality of scan lines crossing the plurality of scan lines And a unit pixel portion having a red output portion, a green output portion, and a blue output portion for outputting red, green, and blue lights, respectively, and the plurality of data lines and the plurality of data lines And three rows of scan lines arranged in the unit pixel portion may be connected to each other so that the scan driving signals are simultaneously applied.

Figure R1020150012975
Figure R1020150012975

Description

반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치{DISPLAY DEVICE USING SEMICONDUCTOR LIGHT EMITTING DEVICE}Technical Field [0001] The present invention relates to a display device using a semiconductor light-

본 발명은 디스플레이 장치에 관한 것으로 특히, 반도체 발광 소자를 이용한 플렉서블 디스플레이 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a display device, and more particularly, to a flexible display device using a semiconductor light emitting device.

최근에는 디스플레이 기술분야에서 박형, 플렉서블 등의 우수한 특성을 가지는 디스플레이 장치가 개발되고 있다. 이에 반해, 현재 상용화된 주요 디스플레이는 LCD(Liguid Crystal Display)와 AMOLED(Active Matrix Organic Light Emitting Diodes)로 대표되고 있다. In recent years, display devices having excellent characteristics such as a thin shape and a flexible shape in the field of display technology have been developed. On the other hand, major displays that are commercialized today are represented by LCD (Liguid Crystal Display) and AMOLED (Active Matrix Organic Light Emitting Diodes).

그러나, LCD의 경우에 빠르지 않은 반응 시간과, 플렉서블의 구현이 어렵다는 문제점이 존재하고, AMOLED의 경우에 수명이 짧고, 양산 수율이 좋지 않을 뿐 아니라 플렉서블의 정도가 약하다는 취약점이 존재한다.However, in the case of LCD, there is a problem that the reaction time is not fast and the implementation of flexible is difficult. In the case of AMOLED, there is a weak point that the lifetime is short, the mass production yield is not good, and the degree of flexible is weak.

한편, 발광 다이오드(Light Emitting Diode: LED)는 전류를 빛으로 변환시키는 잘 알려진 반도체 발광 소자로서, 1962년 GaAsP 화합물 반도체를 이용한 적색 LED가 상품화된 것을 시작으로 GaP:N 계열의 녹색 LED와 함께 정보 통신기기를 비롯한 전자장치의 표시 화상용 광원으로 이용되어 왔다. 따라서, 상기 반도체 발광 소자를 이용하여 플렉서블 디스플레이를 구현하여, 상기의 문제점을 해결하는 방안이 제시될 수 있다. Light emitting diodes (LEDs) are well-known semiconductor light emitting devices that convert current into light. In 1962, red LEDs using GaAsP compound semiconductors were commercialized, Has been used as a light source for a display image of an electronic device including a communication device. Accordingly, a method of solving the above problems by implementing a flexible display using the semiconductor light emitting device can be presented.

또한, 반도체 발광 소자를 이용한 플렉서블 디스플레이에서는 단위화소에서 적색, 녹색 및 청색의 조합하여 화소의 색상을 구현한다. 이 경우에, 단위화소에서 빛의 밝기를 향상키는 연결배선의 구조가 착안 될 수 있다.Further, in a flexible display using a semiconductor light emitting element, a pixel color is realized by combining red, green, and blue in a unit pixel. In this case, the structure of the connection wiring improving the brightness of light in the unit pixel can be conceived.

본 발명의 일 목적은 반도체 발광 소자를 단위 화소로 구현한 디스플레이 장치에서 광학성능을 향상시키는 구조를 제공하기 위한 것이다.It is an object of the present invention to provide a structure for improving optical performance in a display device in which a semiconductor light emitting device is implemented as a unit pixel.

본 발명의 다른 일 목적은 다중주사가 가능한 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치를 구현하기 위한 것이다.Another object of the present invention is to realize a display device using a semiconductor light emitting device capable of multi-scanning.

본 발명에 따른 디스플레이 장치는, 스캔 구동 신호를 전달하도록 이루어지며, 서로 평행하게 배치되는 복수의 스캔 라인들과, 데이터 구동 신호를 전달하도록 상기 복수의 스캔 라인들과 교차하게 배치되는 복수의 데이터 라인들, 및 적색, 녹색 및 청색의 빛들을 각각 출력하는 적색 출력부, 녹색 출력부 및 청색 출력부를 구비하는 단위화소부를 포함하고, 상기 복수의 스캔 라인들 및 복수의 데이터 라인들은 상기 단위화소부에서 각각 3열씩 배치되며, 상기 단위화소부에 배치되는 3열의 스캔 라인은 상기 스캔 구동 신호가 동시에 가해지도록 서로 연결되는 것을 특징으로 한다.A display device according to the present invention includes a plurality of scan lines arranged to transmit a scan driving signal and arranged in parallel with each other, a plurality of data lines arranged to cross the plurality of scan lines to transmit a data drive signal, And a unit pixel section having a red output section, a green output section and a blue output section for outputting red, green and blue lights, respectively, and the plurality of scan lines and the plurality of data lines are arranged in the unit pixel section And three rows of scan lines arranged in the unit pixel portion are connected to each other so that the scan driving signals are simultaneously applied.

실시 예에 있어서, 상기 단위화소부에 배치되는 3열의 데이터 라인 중 적어도 하나는 상기 스캔 라인과 평행한 수평부를 구비한다. 상기 수평부에는 빛을 발광하는 반도체 발광소자가 배치될 수 있다.In an exemplary embodiment, at least one of three data lines arranged in the unit pixel portion has a horizontal portion parallel to the scan line. A semiconductor light emitting device for emitting light may be disposed on the horizontal portion.

실시 예에 있어서, 상기 3열의 데이터 라인은 순차적으로 배치되는 제1데이터 라인, 제2데이터 라인 및 제3데이터 라인을 구비하고, 상기 제1데이터 라인 및 상기 제3데이터 라인의 수평부들은 각각 상기 제1데이터 라인 및 상기 제3데이터 라인상에서 상기 제2데이터 라인을 향하여 돌출될 수 있다. In one embodiment of the present invention, the three data lines may include a first data line, a second data line and a third data line sequentially arranged, and the horizontal portions of the first data line and the third data line may include And may protrude toward the second data line on the first data line and the third data line.

실시 예에 있어서, 상기 제2데이터 라인에 구비되는 수평부의 양단에는 각각 상기 스캔 라인과 수직한 방향으로 연장되는 수직부들이 배치될 수 있다. 상기 제1데이터 라인 및 제3데이터 라인의 수평부는 상기 제2데이터 라인의 수평부를 기준으로 대칭되도록 형성될 수 있다.In an exemplary embodiment, vertical portions extending in a direction perpendicular to the scan lines may be disposed at both ends of a horizontal portion of the second data line. The horizontal portions of the first data line and the third data line may be formed to be symmetrical with respect to the horizontal portion of the second data line.

실시 예에 있어서, 상기 3열의 스캔 라인은 순차적으로 배치되는 제1스캔 라인, 제2스캔 라인 및 제3스캔 라인을 구비하고, 상기 단위화소부에는 상기 제1스캔 라인, 제2스캔 라인 및 제3스캔 라인에 각각 연결되어 상기 스캔 구동 신호가 동시에 가해지는 제1반도체 발광소자, 제2반도체 발광소자 및 제3반도체 발광소자가 배치된다.In an exemplary embodiment, the three rows of scan lines may include a first scan line, a second scan line, and a third scan line that are sequentially arranged, and the unit pixel portion may include the first scan line, the second scan line, The first semiconductor light emitting device, the second semiconductor light emitting device, and the third semiconductor light emitting device, which are connected to the scan lines, respectively, and to which the scan driving signals are simultaneously applied, are disposed.

실시 예에 있어서, 상기 제1반도체 발광소자, 제2반도체 발광소자 및 제3반도체 발광소자는 각각 상기 제1데이터 라인, 제2데이터 라인 및 제3데이터 라인에 연결된다. In an embodiment, the first semiconductor light emitting device, the second semiconductor light emitting device, and the third semiconductor light emitting device are connected to the first data line, the second data line and the third data line, respectively.

실시 예에 있어서, 상기 3열의 스캔 라인을 따라 복수의 단위화소부가 순차적으로 형성되도록, 상기 제1스캔 라인, 제2스캔 라인 및 제3스캔 라인에는 각각 적색 출력부, 녹색 출력부 및 청색 출력부가 반복하여 배치될 수 있다.The first scan line, the second scan line, and the third scan line may have a red output unit, a green output unit, and a blue output unit, respectively, such that a plurality of unit pixel portions are sequentially formed along the three scan lines. Can be repeatedly arranged.

실시 예에 있어서, 상기 적색 출력부 및 녹색 출력부는 각각, 반도체 발광소자; 및 상기 반도체 발광소자에서 발광되는 빛을 다른 색상으로 변환시키는 형광체층을 포함한다. 상기 형광체층은 상기 스캔 라인을 따라서 연장되도록 형성될 수 있다.In an embodiment, the red output section and the green output section may include a semiconductor light emitting element; And a phosphor layer for converting light emitted from the semiconductor light emitting device into another color. The phosphor layer may be formed to extend along the scan line.

실시 예에 있어서, 상기 적색 출력부, 녹색 출력부 및 청색 출력부는 각각, 적색 반도체 발광소자, 녹색 반도체 발광소자 및 청색 반도체 발광소자를 구비한다.In an exemplary embodiment, the red output unit, the green output unit, and the blue output unit each include a red semiconductor light emitting device, a green semiconductor light emitting device, and a blue semiconductor light emitting device.

본 발명에 따른 디스플레이 장치에서는, 스캔 라인들 및 데이터 라인들이 단위화소부에서 각각 3열씩 배치됨에 따라, 3열 주사가 가능하게 된다. 이를 통하여, 디스플레이 장치에서 밝기가 향상될 수 있다.In the display device according to the present invention, since the scan lines and the data lines are arranged in three rows in the unit pixel portion, three columns can be scanned. Thus, the brightness of the display device can be improved.

또한, 본 발명은 데이터 라인들이 스캔 라인들과 평행한 수평부를 구비함에 따라, 고정세임에도 불구하고 단위화소부에 데이터 라인들을 3열로 배치하는 것이 가능하게 될 수 있다.
In addition, according to the present invention, since the data lines have a horizontal portion parallel to the scan lines, it is possible to arrange the data lines in three columns in the unit pixel portion regardless of the fixed size.

도 1은 본 발명의 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치의 일 실시예를 나타내는 개념도이다.
도 2는 도 1의 A부분의 부분 확대도이고, 도 3a 및 도 3b는 도 2의 라인 B-B 및 C-C를 따라 취한 단면도들이다.
도 4는 도 3의 플립 칩 타입 반도체 발광 소자를 나타내는 개념도이다.
도 5a 내지 도 5c는 플립 칩 타입 반도체 발광 소자와 관련하여 컬러를 구현하는 여러가지 형태를 나타내는 개념도들이다.
도 6은 본 발명의 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치의 제조방법을 나타낸 단면도들이다.
도 7은 발명의 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치의 다른 일 실시예를 나타내는 사시도이다.
도 8은 도 7의 라인 D-D를 따라 취한 단면도이다.
도 9는 도 8의 수직형 반도체 발광소자를 나타내는 개념도이다.
도 10은 새로운 구조의 배선 연결구조가 적용된 디스플레이 장치의 사시도이다.
도 11a는 도 10의 라인 E-E를 따라 취한 단면도이며, 도 11b는 도 10의 라인 F-F를 따라 취한 단면도이다.
도 12a 및 도 12b는 도 10의 배선 연결구조를 나타내는 개념도들이다.
도 13a 내지 도 13c는 새로운 구조의 연결 배선구조와 관련하여 컬러를 구현하는 여러가지 형태를 나타내는 개념도들이다.
1 is a conceptual diagram showing an embodiment of a display device using the semiconductor light emitting device of the present invention.
Fig. 2 is a partially enlarged view of part A of Fig. 1, and Figs. 3a and 3b are cross-sectional views taken along line BB and CC of Fig.
4 is a conceptual diagram showing a flip chip type semiconductor light emitting device of FIG.
FIGS. 5A to 5C are conceptual diagrams showing various forms of implementing a color in relation to a flip chip type semiconductor light emitting device.
6 is a cross-sectional view illustrating a method of manufacturing a display device using the semiconductor light emitting device of the present invention.
7 is a perspective view showing another embodiment of a display device using the semiconductor light emitting device of the present invention.
8 is a cross-sectional view taken along line DD of FIG.
9 is a conceptual diagram showing a vertical semiconductor light emitting device of FIG.
10 is a perspective view of a display device to which a wiring structure of a new structure is applied.
Fig. 11A is a cross-sectional view taken along the line EE of Fig. 10, and Fig. 11B is a cross-sectional view taken along the line FF of Fig.
12A and 12B are conceptual diagrams showing the wiring connection structure of FIG.
13A to 13C are conceptual diagrams showing various forms of implementing colors in connection with a connection wiring structure of a new structure.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 명세서에 개시된 실시 예를 상세히 설명하되, 도면 부호에 관계없이 동일하거나 유사한 구성요소는 동일한 참조 번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다. 이하의 설명에서 사용되는 구성요소에 대한 접미사 "모듈" 및 "부"는 명세서 작성의 용이함만이 고려되어 부여되거나 혼용되는 것으로서, 그 자체로 서로 구별되는 의미 또는 역할을 갖는 것은 아니다. 또한, 본 명세서에 개시된 실시 예를 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 명세서에 개시된 실시 예의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 첨부된 도면은 본 명세서에 개시된 실시 예를 쉽게 이해할 수 있도록 하기 위한 것일 뿐, 첨부된 도면에 의해 본 명세서에 개시된 기술적 사상이 제한되는 것으로 해석되어서는 아니 됨을 유의해야 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, wherein like reference numerals are used to designate identical or similar elements, and redundant description thereof will be omitted. The suffix "module" and " part "for the components used in the following description are given or mixed in consideration of ease of specification, and do not have their own meaning or role. In the following description of the embodiments of the present invention, a detailed description of related arts will be omitted when it is determined that the gist of the embodiments disclosed herein may be blurred. In addition, it should be noted that the attached drawings are only for easy understanding of the embodiments disclosed in the present specification, and should not be construed as limiting the technical idea disclosed in the present specification by the attached drawings.

또한, 층, 영역 또는 기판과 같은 요소가 다른 구성요소 "상(on)"에 존재하는 것으로 언급될 때, 이것은 직접적으로 다른 요소 상에 존재하거나 또는 그 사이에 중간 요소가 존재할 수도 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.It is also to be understood that when an element such as a layer, region or substrate is referred to as being present on another element "on," it is understood that it may be directly on the other element or there may be an intermediate element in between There will be.

본 명세서에서 설명되는 디스플레이 장치에는 휴대폰, 스마트 폰(smart phone), 노트북 컴퓨터(laptop computer), 디지털방송용 단말기, PDA(personal digital assistants), PMP(portable multimedia player), 네비게이션, 슬레이트 피씨(Slate PC), Tablet PC, Ultra Book, 디지털 TV, 데스크탑 컴퓨터 등이 포함될 수 있다. 그러나, 본 명세서에 기재된 실시 예에 따른 구성은 추후 개발되는 새로운 제품형태이라도, 디스플레이가 가능한 장치에는 적용될 수도 있음을 본 기술분야의 당업자라면 쉽게 알 수 있을 것이다.The display device described in this specification includes a mobile phone, a smart phone, a laptop computer, a digital broadcasting terminal, a personal digital assistant (PDA), a portable multimedia player (PMP), a navigation device, a slate PC, , A Tablet PC, an Ultra Book, a digital TV, a desktop computer, and the like. However, it will be readily apparent to those skilled in the art that the configuration according to the embodiments described herein may be applied to a device capable of being displayed, even in the form of a new product to be developed in the future.

도 1은 본 발명의 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치의 일 실시예를 나타내는 개념도이다.1 is a conceptual diagram showing an embodiment of a display device using the semiconductor light emitting device of the present invention.

도시에 의하면, 디스플레이 장치(100)의 제어부에서 처리되는 정보는 플렉서블 디스플레이(flexible display)를 이용하여 표시될 수 있다. According to the illustrated example, the information processed in the control unit of the display device 100 may be displayed using a flexible display.

플렉서블 디스플레이는 외력에 의하여 휘어질 수 있는, 구부러질 수 있는, 비틀어질 수 있는, 접힐 수 있는, 말려질 수 있는 디스플레이를 포함한다. 예를 들어, 플렉서블 디스플레이는 기존의 평판 디스플레이의 디스플레이 특성을 유지하면서, 종이와 같이 휘어지거나, 구부리거나, 접을 수 있거나 말 수 있는 얇고 유연한 기판 위에 제작되는 디스플레이가 될 수 있다.The flexible display includes a display that can be bent, twistable, collapsible, and curlable, which can be bent by an external force. For example, a flexible display can be a display made on a thin, flexible substrate that can be bent, bent, folded or rolled like paper while maintaining the display characteristics of conventional flat panel displays.

상기 플렉서블 디스플레이가 휘어지지 않는 상태(예를 들어, 무한대의 곡률반경을 가지는 상태, 이하 제1상태라 한다)에서는 상기 플렉서블 디스플레이의 디스플레이 영역이 평면이 된다. 상기 제1상태에서 외력에 의하여 휘어진 상태(예를 들어, 유한의 곡률반경을 가지는 상태, 이하, 제2상태라 한다)에서는 상기 디스플레이 영역이 곡면이 될 수 있다. 도시와 같이, 상기 제2상태에서 표시되는 정보는 곡면상에 출력되는 시각 정보가 될 수 있다. 이러한 시각 정보는 매트릭스 형태로 배치되는 단위 화소(sub-pixel)의 발광이 독자적으로 제어됨에 의하여 구현된다. 상기 단위 화소는 하나의 색을 구현하기 위한 최소 단위를 의미한다.In a state where the flexible display is not bent (for example, a state having an infinite radius of curvature, hereinafter referred to as a first state), the display area of the flexible display is flat. In the first state, the display area may be a curved surface in a state of being bent by an external force (for example, a state having a finite radius of curvature, hereinafter referred to as a second state). As shown in the figure, the information displayed in the second state may be time information output on the curved surface. Such visual information is realized by independently controlling the emission of a sub-pixel arranged in a matrix form. The unit pixel means a minimum unit for implementing one color.

상기 플렉서블 디스플레이의 단위 화소는 반도체 발광 소자에 의하여 구현될 수 있다. 본 발명에서는 전류를 빛으로 변환시키는 반도체 발광 소자의 일 종류로서 발광 다이오드(Light Emitting Diode: LED)를 예시한다. 상기 발광 다이오드는 작은 크기로 형성되며, 이를 통하여 상기 제2상태에서도 단위 화소의 역할을 할 수 있게 된다.The unit pixel of the flexible display may be implemented by a semiconductor light emitting device. In the present invention, a light emitting diode (LED) is exemplified as one type of semiconductor light emitting device for converting a current into light. The light emitting diode is formed in a small size, so that it can serve as a unit pixel even in the second state.

이하, 상기 발광 다이오드를 이용하여 구현된 플렉서블 디스플레이에 대하여 도면을 참조하여 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, a flexible display implemented using the light emitting diode will be described in detail with reference to the drawings.

도 2는 도 1의 A부분의 부분 확대도이고, 도 3a 및 도 3b는 도 2의 라인 B-B 및 C-C를 따라 취한 단면도들이며, 도 4는 도 3a의 플립 칩 타입 반도체 발광 소자를 나타내는 개념도이고, 도 5a 내지 도 5c는 플립 칩 타입 반도체 발광 소자와 관련하여 컬러를 구현하는 여러가지 형태를 나타내는 개념도들이다.FIG. 2 is a partial enlarged view of a portion A of FIG. 1, FIGS. 3 A and 3B are cross-sectional views taken along lines BB and CC of FIG. 2, FIG. 4 is a conceptual view of a flip chip type semiconductor light emitting device of FIG. FIGS. 5A to 5C are conceptual diagrams showing various forms of implementing a color in relation to a flip chip type semiconductor light emitting device.

도 2, 도 3a 및 도 3b의 도시에 의하면, 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치(100)로서 패시브 매트릭스(Passive Matrix, PM) 방식의 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치(100)를 예시한다. 다만, 이하 설명되는 예시는 액티브 매트릭스(Active Matrix, AM) 방식의 반도체 발광 소자에도 적용 가능하다.Referring to FIGS. 2, 3A and 3B, a display device 100 using a passive matrix (PM) semiconductor light emitting device as a display device 100 using a semiconductor light emitting device is illustrated. However, the example described below is also applicable to an active matrix (AM) semiconductor light emitting device.

상기 디스플레이 장치(100)는 기판(110), 제1전극(120), 전도성 접착층(130), 제2전극(140) 및 복수의 반도체 발광 소자(150)를 포함한다.The display device 100 includes a substrate 110, a first electrode 120, a conductive adhesive layer 130, a second electrode 140, and a plurality of semiconductor light emitting devices 150.

기판(110)은 플렉서블 기판일 수 있다. 예를 들어, 플렉서블(flexible) 디스플레이 장치를 구현하기 위하여 기판(110)은 유리나 폴리이미드(PI, Polyimide)를 포함할 수 있다. 이외에도 절연성이 있고, 유연성 있는 재질이면, 예를 들어 PEN(Polyethylene Naphthalate), PET(Polyethylene Terephthalate) 등 어느 것이라도 사용될 수 있다. 또한, 상기 기판(110)은 투명한 재질 또는 불투명한 재질 어느 것이나 될 수 있다.The substrate 110 may be a flexible substrate. For example, to implement a flexible display device, the substrate 110 may comprise glass or polyimide (PI). In addition, any insulating material such as PEN (polyethylene naphthalate) and PET (polyethylene terephthalate) may be used as long as it is insulating and flexible. In addition, the substrate 110 may be either a transparent material or an opaque material.

상기 기판(110)은 제1전극(120)이 배치되는 배선기판이 될 수 있으며, 따라서 상기 제1전극(120)은 기판(110) 상에 위치할 수 있다.The substrate 110 may be a wiring substrate on which the first electrode 120 is disposed, so that the first electrode 120 may be positioned on the substrate 110.

도시에 의하면, 절연층(160)은 제1전극(120)이 위치한 기판(110) 상에 배치될 수 있으며, 상기 절연층(160)에는 보조전극(170)이 위치할 수 있다. 이 경우에, 상기 기판(110)에 절연층(160)이 적층된 상태가 하나의 배선기판이 될 수 있다. 보다 구체적으로, 절연층(160)은 폴리이미드(PI, Polyimide), PET, PEN 등과 같이 절연성이 있고, 유연성 있는 재질로, 상기 기판(110)과 일체로 이루어져 하나의 기판을 형성할 수 있다.The insulating layer 160 may be disposed on the substrate 110 on which the first electrode 120 is located and the auxiliary electrode 170 may be disposed on the insulating layer 160. In this case, a state in which the insulating layer 160 is laminated on the substrate 110 may be one wiring substrate. More specifically, the insulating layer 160 is formed of a flexible material such as polyimide (PI), polyimide (PET), or PEN, and is integrally formed with the substrate 110 to form a single substrate.

보조전극(170)은 제1전극(120)과 반도체 발광 소자(150)를 전기적으로 연결하는 전극으로서, 절연층(160) 상에 위치하고, 제1전극(120)의 위치에 대응하여 배치된다. 예를 들어, 보조전극(170)은 닷(dot) 형태이며, 절연층(160)을 관통하는 전극홀(171)에 의하여 제1전극(120)과 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 전극홀(171)은 비아 홀에 도전물질이 채워짐에 의하여 형성될 수 있다.The auxiliary electrode 170 is an electrode that electrically connects the first electrode 120 and the semiconductor light emitting device 150 and is disposed on the insulating layer 160 and corresponds to the position of the first electrode 120. For example, the auxiliary electrode 170 may be in the form of a dot and may be electrically connected to the first electrode 120 by an electrode hole 171 passing through the insulating layer 160. The electrode hole 171 may be formed by filling a via hole with a conductive material.

본 도면들을 참조하면, 절연층(160)의 일면에는 전도성 접착층(130)이 형성되나, 본 발명은 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 절연층(160)과 전도성 접착층(130)의 사이에 특정 기능을 수행하는 레이어가 형성되거나, 절연층(160)이 없이 전도성 접착층(130)이 기판(110)상에 배치되는 구조도 가능하다. 전도성 접착층(130)이 기판(110)상에 배치되는 구조에서는 전도성 접착층(130)이 절연층의 역할을 할 수 있다.Referring to these drawings, the conductive adhesive layer 130 is formed on one surface of the insulating layer 160, but the present invention is not limited thereto. For example, a layer having a specific function may be formed between the insulating layer 160 and the conductive adhesive layer 130, or a structure in which the conductive adhesive layer 130 is disposed on the substrate 110 without the insulating layer 160 It is also possible. In the structure in which the conductive adhesive layer 130 is disposed on the substrate 110, the conductive adhesive layer 130 may serve as an insulating layer.

상기 전도성 접착층(130)은 접착성과 전도성을 가지는 층이 될 수 있으며, 이를 위하여 상기 전도성 접착층(130)에서는 전도성을 가지는 물질과 접착성을 가지는 물질이 혼합될 수 있다. 또한 전도성 접착층(130)은 연성을 가지며, 이를 통하여 디스플레이 장치에서 플렉서블 기능을 가능하게 한다.The conductive adhesive layer 130 may be a layer having adhesiveness and conductivity. To this end, the conductive adhesive layer 130 may be mixed with a substance having conductivity and a substance having adhesiveness. Also, the conductive adhesive layer 130 has ductility, thereby enabling the flexible function in the display device.

이러한 예로서, 전도성 접착층(130)은 이방성 전도성 필름(anistropy conductive film, ACF), 이방성 전도 페이스트(paste), 전도성 입자를 함유한 솔루션(solution) 등이 될 수 있다. 상기 전도성 접착층(130)은 두께를 관통하는 Z 방향으로는 전기적 상호 연결을 허용하나, 수평적인 X-Y 방향으로는 전기절연성을 가지는 레이어로서 구성될 수 있다. 따라서 상기 전도성 접착층(130)은 Z축 전도층으로 명명될 수 있다(다만, 이하 '전도성 접착층'이라 한다).As an example, the conductive adhesive layer 130 may be an anisotropic conductive film (ACF), an anisotropic conductive paste, a solution containing conductive particles, or the like. The conductive adhesive layer 130 may be formed as a layer having electrical insulation in the horizontal X-Y direction while permitting electrical interconnection in the Z direction passing through the thickness. Accordingly, the conductive adhesive layer 130 may be referred to as a Z-axis conductive layer (hereinafter, referred to as a conductive adhesive layer).

상기 이방성 전도성 필름은 이방성 전도매질(anisotropic conductive medium)이 절연성 베이스부재에 혼합된 형태의 필름으로서, 열 및 압력이 가해지면 특정 부분만 이방성 전도매질에 의하여 전도성을 가지게 된다. 이하, 상기 이방성 전도성 필름에는 열 및 압력이 가해지는 것으로 설명하나, 상기 이방성 전도성 필름이 부분적으로 전도성을 가지기 위하여 다른 방법도 가능하다. 이러한 방법은, 예를 들어 상기 열 및 압력 중 어느 하나만이 가해지거나 UV 경화 등이 될 수 있다.The anisotropic conductive film is a film in which an anisotropic conductive medium is mixed with an insulating base member. When heat and pressure are applied, only a specific part of the anisotropic conductive film has conductivity due to the anisotropic conductive medium. Hereinafter, the anisotropic conductive film is described as being subjected to heat and pressure, but other methods may be used to partially conduct the anisotropic conductive film. In this method, for example, either the heat or the pressure may be applied, or UV curing may be performed.

또한, 상기 이방성 전도매질은 예를 들어, 도전볼이나 전도성 입자가 될 수 있다. 도시에 의하면, 본 예시에서 상기 이방성 전도성 필름은 도전볼이 절연성 베이스 부재에 혼합된 형태의 필름으로서, 열 및 압력이 가해지면 특정부분만 도전볼에 의하여 전도성을 가지게 된다. 이방성 전도성 필름은 전도성 물질의 코어가 폴리머 재질의 절연막에 의하여 피복된 복수의 입자가 함유된 상태가 될 수 있으며, 이 경우에 열 및 압력이 가해진 부분이 절연막이 파괴되면서 코어에 의하여 도전성을 가지게 된다. 이때, 코어의 형태는 변형되어 필름의 두께방향으로 서로 접촉하는 층을 이룰 수 있다. 보다 구체적인 예로서, 열 및 압력은 이방성 전도성 필름에 전체적으로 가해지며, 이방성 전도성 필름에 의하여 접착되는 상대물의 높이차에 의하여 Z축 방향의 전기적 연결이 부분적으로 형성된다.In addition, the anisotropic conduction medium can be, for example, a conductive ball or a conductive particle. According to the example, in the present example, the anisotropic conductive film is a film in which conductive balls are mixed with an insulating base member. When heat and pressure are applied, only specific portions are conductive by the conductive balls. The anisotropic conductive film may be a state in which a plurality of particles coated with an insulating film made of a polymer material are contained in the core of the conductive material. In this case, the insulating film is broken by heat and pressure, . At this time, the shape of the core may be deformed to form a layer in contact with each other in the thickness direction of the film. As a more specific example, heat and pressure are applied to the anisotropic conductive film as a whole, and the electrical connection in the Z-axis direction is partially formed by the height difference of the mating member adhered by the anisotropic conductive film.

다른 예로서, 이방성 전도성 필름은 절연 코어에 전도성 물질이 피복된 복수의 입자가 함유된 상태가 될 수 있다. 이 경우에는 열 및 압력이 가해진 부분이 전도성 물질이 변형되어(눌러 붙어서) 필름의 두께방향으로 전도성을 가지게 된다. 또 다른 예로서, 전도성 물질이 Z축 방향으로 절연성 베이스 부재를 관통하여 필름의 두께방향으로 전도성을 가지는 형태도 가능하다. 이 경우에, 전도성 물질은 뽀족한 단부를 가질 수 있다.As another example, the anisotropic conductive film may be in a state in which a plurality of particles coated with a conductive material are contained in the insulating core. In this case, the conductive material is deformed (pressed) to the portion where the heat and the pressure are applied, so that the conductive material becomes conductive in the thickness direction of the film. As another example, it is possible that the conductive material penetrates the insulating base member in the Z-axis direction and has conductivity in the thickness direction of the film. In this case, the conductive material may have a pointed end.

도시에 의하면, 상기 이방성 전도성 필름은 도전볼이 절연성 베이스 부재의 일면에 삽입된 형태로 구성되는 고정배열 이방성 전도성 필름(fixed array ACF)가 될 수 있다. 보다 구체적으로, 절연성 베이스부재는 접착성을 가지는 물질로 형성되며, 도전볼은 상기 절연성 베이스부재의 바닥부분에 집중적으로 배치되며, 상기 베이스부재에서 열 및 압력이 가해지면 상기 도전볼과 함께 변형됨에 따라 수직방향으로 전도성을 가지게 된다.According to the present invention, the anisotropic conductive film may be a fixed array anisotropic conductive film (ACF) in which conductive balls are inserted into one surface of an insulating base member. More specifically, the insulating base member is formed of a material having adhesiveness, and the conductive ball is concentrated on the bottom portion of the insulating base member, and is deformed together with the conductive ball when heat and pressure are applied to the base member So that they have conductivity in the vertical direction.

다만, 본 발명은 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 상기 이방성 전도성 필름은 절연성 베이스부재에 도전볼이 랜덤하게 혼입된 형태나, 복수의 층으로 구성되며 어느 한 층에 도전볼이 배치되는 형태(double-ACF) 등이 모두 가능하다.However, the present invention is not limited thereto. The anisotropic conductive film may be formed by randomly mixing conductive balls into an insulating base member or by forming a plurality of layers in which a conductive ball is placed in a double- ACF) are all available.

이방성 전도 페이스트는 페이스트와 도전볼의 결합형태로서, 절연성 및 접착성의 베이스 물질에 도전볼이 혼합된 페이스트가 될 수 있다. 또한, 전도성 입자를 함유한 솔루션은 전도성 particle 혹은 nano 입자를 함유한 형태의 솔루션이 될 수 있다.The anisotropic conductive paste is a combination of a paste and a conductive ball, and may be a paste in which a conductive ball is mixed with an insulating and adhesive base material. In addition, solutions containing conductive particles can be solutions in the form of conductive particles or nanoparticles.

다시 도면을 참조하면, 제2전극(140)은 보조전극(170)과 이격하여 절연층(160)에 위치한다. 즉, 상기 전도성 접착층(130)은 보조전극(170) 및 제2전극(140)이 위치하는 절연층(160) 상에 배치된다.Referring again to FIG. 5, the second electrode 140 is located in the insulating layer 160, away from the auxiliary electrode 170. That is, the conductive adhesive layer 130 is disposed on the insulating layer 160 on which the auxiliary electrode 170 and the second electrode 140 are disposed.

절연층(160)에 보조전극(170)과 제2전극(140)이 위치된 상태에서 전도성 접착층(130)을 형성한 후에, 반도체 발광 소자(150)를 열 및 압력을 가하여 플립 칩 형태로 접속시키면, 상기 반도체 발광 소자(150)는 제1전극(120) 및 제2전극(140)과 전기적으로 연결된다. After the conductive adhesive layer 130 is formed in a state where the auxiliary electrode 170 and the second electrode 140 are positioned in the insulating layer 160, the semiconductor light emitting device 150 is connected to the semiconductor light emitting device 150 in a flip chip form The semiconductor light emitting device 150 is electrically connected to the first electrode 120 and the second electrode 140.

도 4를 참조하면, 상기 반도체 발광 소자는 플립 칩 타입(flip chip type)의 발광 소자가 될 수 있다.Referring to FIG. 4, the semiconductor light emitting device may be a flip chip type light emitting device.

예를 들어, 상기 반도체 발광 소자는 p형 전극(156), p형 전극(156)이 형성되는 p형 반도체층(155), p형 반도체층(155) 상에 형성된 활성층(154), 활성층(154) 상에 형성된 n형 반도체층(153) 및 n형 반도체층(153) 상에서 p형 전극(156)과 수평방향으로 이격 배치되는 n형 전극(152)을 포함한다. 이 경우, p형 전극(156)은 보조전극(170)과 전도성 접착층(130)에 의하여 전기적으로 연결될 수 있고, n형 전극(152)은 제2전극(140)과 전기적으로 연결될 수 있다. For example, the semiconductor light emitting device includes a p-type semiconductor layer 155 in which a p-type electrode 156, a p-type electrode 156 are formed, an active layer 154 formed on the p-type semiconductor layer 155, And an n-type electrode 152 disposed on the n-type semiconductor layer 153 and the p-type electrode 156 on the n-type semiconductor layer 153 and 154 in the horizontal direction. In this case, the p-type electrode 156 may be electrically connected to the auxiliary electrode 170 by the conductive adhesive layer 130, and the n-type electrode 152 may be electrically connected to the second electrode 140.

다시 도 2, 도 3a 및 도 3b를 참조하면, 보조전극(170)은 일방향으로 길게 형성되어, 하나의 보조전극이 복수의 반도체 발광 소자(150)에 전기적으로 연결될 수 있다. 예를 들어, 보조전극을 중심으로 좌우의 반도체 발광 소자들의 p형 전극들이 하나의 보조전극에 전기적으로 연결될 수 있다.Referring again to FIGS. 2, 3A and 3B, the auxiliary electrode 170 is elongated in one direction, and one auxiliary electrode may be electrically connected to the plurality of semiconductor light emitting devices 150. For example, the p-type electrodes of the right and left semiconductor light emitting elements may be electrically connected to one auxiliary electrode around the auxiliary electrode.

보다 구체적으로, 열 및 압력에 의하여 전도성 접착층(130)의 내부로 반도체 발광 소자(150)가 압입되며, 이를 통하여 반도체 발광 소자(150)의 p형 전극(156)과 보조전극(170) 사이의 부분과, 반도체 발광 소자(150)의 n형 전극(152)과 제2전극(140) 사이의 부분에서만 전도성을 가지게 되고, 나머지 부분에서는 반도체 발광 소자의 압입이 없어 전도성을 가지지 않게 된다. 이와 같이, 전도성 접착층(130)은 반도체 발광 소자(150)와 보조전극(170) 사이 및 반도체 발광 소자(150)와 제2전극(140) 사이를 상호 결합시켜줄 뿐만 아니라 전기적 연결까지 형성시킨다.More specifically, the semiconductor light emitting device 150 is inserted into the conductive adhesive layer 130 by heat and pressure, and the semiconductor light emitting device 150 is inserted into the conductive adhesive layer 130 through the p- And only the portion between the n-type electrode 152 and the second electrode 140 of the semiconductor light emitting device 150 has conductivity and the semiconductor light emitting device does not have a conductive property because the semiconductor light emitting device is not press- The conductive adhesive layer 130 not only couples the semiconductor light emitting device 150 and the auxiliary electrode 170 and the semiconductor light emitting device 150 and the second electrode 140 but also forms an electrical connection.

또한, 복수의 반도체 발광 소자(150)는 발광 소자 어레이(array)를 구성하며, 발광 소자 어레이에는 형광체층(180)이 형성된다. In addition, the plurality of semiconductor light emitting devices 150 constitute a light emitting element array, and the phosphor layer 180 is formed in the light emitting element array.

발광 소자 어레이는 자체 휘도값이 상이한 복수의 반도체 발광 소자들을 포함할 수 있다. 각각의 반도체 발광 소자(150)는 단위 화소를 구성하며, 제1전극(120)에 전기적으로 연결된다. 예를 들어, 제1전극(120)은 복수 개일 수 있고, 반도체 발광 소자들은 예컨대 수 열로 배치되며, 각 열의 반도체 발광 소자들은 상기 복수 개의 제1전극 중 어느 하나에 전기적으로 연결될 수 있다.The light emitting element array may include a plurality of semiconductor light emitting elements having different brightness values. Each of the semiconductor light emitting devices 150 constitutes a unit pixel and is electrically connected to the first electrode 120. For example, the first electrodes 120 may be a plurality of semiconductor light emitting devices, and the semiconductor light emitting devices may be electrically connected to any one of the plurality of first electrodes.

또한, 반도체 발광 소자들이 플립 칩 형태로 접속되므로, 투명 유전체 기판에 성장시킨 반도체 발광 소자들을 이용할 수 있다. 또한, 상기 반도체 발광 소자들은 예컨대 질화물 반도체 발광 소자일 수 있다. 반도체 발광 소자(150)는 휘도가 우수하므로, 작은 크기로도 개별 단위 픽셀을 구성할 수 있다.Also, since the semiconductor light emitting devices are connected in a flip chip form, the semiconductor light emitting devices grown on the transparent dielectric substrate can be used. The semiconductor light emitting devices may be, for example, a nitride semiconductor light emitting device. Since the semiconductor light emitting device 150 has excellent brightness, individual unit pixels can be formed with a small size.

도시에 의하면, 반도체 발광 소자(150)의 사이에 격벽(190)이 형성될 수 있다. 이 경우, 격벽(190)은 개별 단위 화소를 서로 분리하는 역할을 할 수 있으며, 전도성 접착층(130)과 일체로 형성될 수 있다. 예를 들어, 이방성 전도성 필름에 반도체 발광 소자(150)가 삽입됨에 의하여 이방성 전도성 필름의 베이스부재가 상기 격벽을 형성할 수 있다. According to the structure, the barrier ribs 190 may be formed between the semiconductor light emitting devices 150. In this case, the barrier ribs 190 may separate the individual unit pixels from each other, and may be integrally formed with the conductive adhesive layer 130. For example, by inserting the semiconductor light emitting device 150 into the anisotropic conductive film, the base member of the anisotropic conductive film can form the partition.

또한, 상기 이방성 전도성 필름의 베이스부재가 블랙이면, 별도의 블랙 절연체가 없어도 상기 격벽(190)이 반사 특성을 가지는 동시에 대비비(contrast)가 증가될 수 있다.Also, if the base member of the anisotropic conductive film is black, the barrier 190 may have a reflection characteristic and a contrast may be increased without a separate black insulator.

다른 예로서, 상기 격벽(190)으로 반사성 격벽이 별도로 구비될 수 있다. 이 경우에, 상기 격벽(190)은 디스플레이 장치의 목적에 따라 블랙(Black) 또는 화이트(White) 절연체를 포함할 수 있다. 화이트 절연체의 격벽을 이용할 경우 반사성을 높이는 효과가 있을 수 있고, 블랙 절연체의 격벽을 이용할 경우, 반사 특성을 가지는 동시에 대비비(contrast)를 증가시킬 수 있다.As another example, the barrier ribs 190 may be provided separately from the reflective barrier ribs. In this case, the barrier rib 190 may include a black or white insulation depending on the purpose of the display device. When a barrier of a white insulator is used, an effect of enhancing reflectivity may be obtained. When a barrier of a black insulator is used, a contrast characteristic may be increased while having a reflection characteristic.

형광체층(180)은 반도체 발광 소자(150)의 외면에 위치할 수 있다. 예를 들어, 반도체 발광 소자(150)는 청색(B) 광을 발광하는 청색 반도체 발광 소자이고, 형광체층(180)은 상기 청색(B) 광을 단위 화소의 색상으로 변환시키는 기능을 수행한다. 상기 형광체층(180)은 개별 화소를 구성하는 적색 형광체(181) 또는 녹색 형광체(182)가 될 수 있다. The phosphor layer 180 may be located on the outer surface of the semiconductor light emitting device 150. For example, the semiconductor light emitting device 150 is a blue semiconductor light emitting device that emits blue (B) light, and the phosphor layer 180 converts the blue (B) light into the color of a unit pixel. The phosphor layer 180 may be a red phosphor 181 or a green phosphor 182 constituting an individual pixel.

즉, 적색의 단위 화소를 이루는 위치에서, 청색 반도체 발광 소자(151) 상에는 청색 광을 적색(R) 광으로 변환시킬 수 있는 적색 형광체(181)가 적층될 수 있고, 녹색의 단위 화소를 이루는 위치에서는, 청색 반도체 발광 소자(151) 상에 청색 광을 녹색(G) 광으로 변환시킬 수 있는 녹색 형광체(182)가 적층될 수 있다. 또한, 청색의 단위 화소를 이루는 부분에는 청색 반도체 발광 소자(151)만 단독으로 이용될 수 있다. 이 경우, 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)의 단위 화소들이 하나의 화소를 이룰 수 있다. 보다 구체적으로, 제1전극(120)의 각 라인을 따라 하나의 색상의 형광체가 적층될 수 있다. 따라서, 제1전극(120)에서 하나의 라인은 하나의 색상을 제어하는 전극이 될 수 있다. 즉, 제2전극(140)을 따라서, 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)이 차례로 배치될 수 있으며, 이를 통하여 단위 화소가 구현될 수 있다.That is, a red phosphor 181 capable of converting blue light into red (R) light can be laminated on the blue semiconductor light emitting element 151 at a position forming a red unit pixel, A green phosphor 182 capable of converting blue light into green (G) light may be laminated on the blue semiconductor light emitting element 151. [ In addition, only the blue semiconductor light emitting element 151 can be used alone in a portion constituting a blue unit pixel. In this case, the unit pixels of red (R), green (G), and blue (B) can form one pixel. More specifically, phosphors of one color may be stacked along each line of the first electrode 120. Accordingly, one line in the first electrode 120 may be an electrode for controlling one color. In other words, red (R), green (G), and blue (B) may be arranged in order along the second electrode 140, thereby realizing a unit pixel.

다만, 본 발명은 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 형광체 대신에 반도체 발광 소자(150)와 퀀텀닷(QD)이 조합되어 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)의 단위 화소들을 구현할 수 있다.(R), green (G), and blue (B) unit pixels may be implemented by combining the semiconductor light emitting device 150 and the quantum dot QD instead of the fluorescent material. have.

또한, 대비비(contrast) 향상을 위하여 각각의 형광체층들의 사이에는 블랙 매트릭스(191)가 배치될 수 있다. 즉, 이러한 블랙 매트릭스(191)는 명암의 대조를 향상시킬 수 있다. In addition, a black matrix 191 may be disposed between each of the phosphor layers to improve contrast. That is, the black matrix 191 can improve the contrast of light and dark.

다만, 본 발명은 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 청색, 적색, 녹색을 구현하기 위한 다른 구조가 적용될 수 있다. However, the present invention is not limited thereto, and other structures for implementing blue, red, and green may be applied.

도 5a를 참조하면, 각각의 반도체 발광 소자(150)는 질화 갈륨(GaN)을 주로 하여, 인듐(In) 및/또는 알루미늄(Al)이 함께 첨가되어 청색을 비롯한 다양한 빛을 발광하는 고출력의 발광 소자로 구현될 수 있다.5A, each of the semiconductor light emitting devices 150 includes gallium nitride (GaN), indium (In) and / or aluminum (Al) are added together to form a high output light Device.

이 경우, 반도체 발광 소자(150)는 각각 단위 화소(sub-pixel)를 이루기 위하여 적색, 녹색 및 청색 반도체 발광 소자일 수 있다. 예컨대, 적색, 녹색 및 청색 반도체 발광 소자(R, G, B)가 교대로 배치되고, 적색, 녹색 및 청색 반도체 발광 소자에 의하여 적색(Red), 녹색(Green) 및 청색(Blue)의 단위 화소들이 하나의 화소(pixel)를 이루며, 이를 통하여 풀 칼라 디스플레이가 구현될 수 있다.In this case, the semiconductor light emitting device 150 may be a red, green, and blue semiconductor light emitting device to form a unit pixel (sub-pixel), respectively. For example, red, green, and blue semiconductor light emitting elements R, G, and B are alternately arranged, and red, green, and blue unit pixels Form a single pixel, through which a full color display can be implemented.

도 5b를 참조하면, 반도체 발광 소자는 황색 형광체층이 개별 소자마다 구비된 백색 발광 소자(W)를 구비할 수 있다. 이 경우에는, 단위 화소를 이루기 위하여, 백색 발광 소자(W) 상에 적색 형광체층(181), 녹색 형광체층(182), 및 청색 형광체층(183)이 구비될 수 있다. 또한, 이러한 백색 발광 소자(W) 상에 적색, 녹색, 및 청색이 반복되는 컬러 필터를 이용하여 단위 화소를 이룰 수 있다.Referring to FIG. 5B, the semiconductor light emitting device may include a white light emitting device W having a yellow phosphor layer for each individual device. In this case, a red phosphor layer 181, a green phosphor layer 182, and a blue phosphor layer 183 may be provided on the white light emitting element W to form a unit pixel. Further, a unit pixel can be formed by using a color filter in which red, green, and blue are repeated on the white light emitting element W.

도 5c를 참조하면, 자외선 발광 소자(UV) 상에 적색 형광체층(181), 녹색 형광체층(182), 및 청색 형광체층(183)이 구비되는 구조도 가능하다. 이와 같이, 반도체 발광 소자는 가시광선뿐만 아니라 자외선(UV)까지 전영역에 사용가능하며, 자외선(UV)이 상부 형광체의 여기원(excitation source)으로 사용가능한 반도체 발광 소자의 형태로 확장될 수 있다.Referring to FIG. 5C, a red phosphor layer 181, a green phosphor layer 182, and a blue phosphor layer 183 may be provided on the ultraviolet light emitting element UV. As described above, the semiconductor light emitting device can be used not only for visible light but also for ultraviolet (UV), and can be extended to a form of a semiconductor light emitting device in which ultraviolet (UV) can be used as an excitation source of the upper phosphor .

본 예시를 다시 살펴보면, 반도체 발광 소자(150)는 전도성 접착층(130) 상에 위치되어, 디스플레이 장치에서 단위 화소를 구성한다. 반도체 발광 소자(150)는 휘도가 우수하므로, 작은 크기로도 개별 단위 화소를 구성할 수 있다. 이와 같은 개별 반도체 발광 소자(150)의 크기는 한 변의 길이가 80㎛ 이하일 수 있고, 직사각형 또는 정사각형 소자일 수 있다. 직사각형인 경우에는 20X80㎛ 이하의 크기가 될 수 있다.The semiconductor light emitting device 150 is disposed on the conductive adhesive layer 130 and constitutes a unit pixel in the display device. Since the semiconductor light emitting device 150 has excellent brightness, individual unit pixels can be formed with a small size. The size of the individual semiconductor light emitting device 150 may be 80 mu m or less on one side and may be a rectangular or square device. In the case of a rectangle, the size may be 20 X 80 μm or less.

또한, 한 변의 길이가 10㎛인 정사각형의 반도체 발광 소자(150)를 단위 화소로 이용하여도 디스플레이 장치를 이루기 위한 충분한 밝기가 나타난다. 따라서, 단위 화소의 크기가 한 변이 600㎛, 나머지 한변이 300㎛인 직사각형 화소인 경우를 예로 들면, 반도체 발광 소자의 거리가 상대적으로 충분히 크게 된다. 따라서, 이러한 경우, HD화질을 가지는 플렉서블 디스플레이 장치를 구현할 수 있게 된다.Also, even if a square semiconductor light emitting device 150 having a length of 10 m on one side is used as a unit pixel, sufficient brightness for forming a display device appears. Accordingly, when the unit pixel is a rectangular pixel having a side of 600 mu m and the other side of 300 mu m as an example, the distance of the semiconductor light emitting element becomes relatively large. Accordingly, in such a case, it becomes possible to implement a flexible display device having HD picture quality.

상기에서 설명된 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치는 새로운 형태의 제조방법에 의하여 제조될 수 있다. 이하, 도 6을 참조하여 상기 제조방법에 대하여 설명한다.The display device using the semiconductor light emitting device described above can be manufactured by a novel manufacturing method. Hereinafter, the manufacturing method will be described with reference to FIG.

도 6은 본 발명의 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치의 제조방법을 나타낸 단면도들이다.6 is a cross-sectional view illustrating a method of manufacturing a display device using the semiconductor light emitting device of the present invention.

본 도면을 참조하면, 먼저, 보조전극(170) 및 제2전극(140)이 위치된 절연층(160) 상에 전도성 접착층(130)을 형성한다. 제1기판(110)에 절연층(160)이 적층되어 하나의 기판(또는 배선기판)을 형성하며, 상기 배선기판에는 제1전극(120), 보조전극(170) 및 제2전극(140)이 배치된다. 이 경우에, 제1전극(120)과 제2전극(140)은 상호 직교 방향으로 배치될 수 있다. 또한, 플렉서블(flexible) 디스플레이 장치를 구현하기 위하여 제1기판(110) 및 절연층(160)은 각각 유리 또는 폴리이미드(PI)를 포함할 수 있다. The conductive adhesive layer 130 is formed on the insulating layer 160 on which the auxiliary electrode 170 and the second electrode 140 are disposed. A first electrode 120, an auxiliary electrode 170, and a second electrode 140 are formed on the wiring substrate, and the insulating layer 160 is formed on the first substrate 110 to form a single substrate (or a wiring substrate) . In this case, the first electrode 120 and the second electrode 140 may be arranged in mutually orthogonal directions. In addition, the first substrate 110 and the insulating layer 160 may include glass or polyimide (PI), respectively, in order to implement a flexible display device.

상기 전도성 접착층(130)은 예를 들어, 이방성 전도성 필름에 의하여 구현될 수 있으며, 이를 위하여 절연층(160)이 위치된 기판에 이방성 전도성 필름이 도포될 수 있다.The conductive adhesive layer 130 may be formed, for example, by an anisotropic conductive film, and an anisotropic conductive film may be applied to the substrate on which the insulating layer 160 is disposed.

다음에, 보조전극(170) 및 제2전극(140)들의 위치에 대응하고, 개별 화소를 구성하는 복수의 반도체 발광 소자(150)가 위치된 제2기판(112)을 상기 반도체 발광 소자(150)가 보조전극(170) 및 제2전극(140)와 대향하도록 배치한다.A second substrate 112 corresponding to the positions of the auxiliary electrode 170 and the second electrodes 140 and having a plurality of semiconductor light emitting elements 150 constituting individual pixels is disposed on the semiconductor light emitting element 150 Are arranged so as to face the auxiliary electrode 170 and the second electrode 140.

이 경우에, 제2기판(112)은 반도체 발광 소자(150)를 성장시키는 성장 기판으로서, 사파이어(spire) 기판 또는 실리콘(silicon) 기판이 될 수 있다.In this case, the second substrate 112 is a growth substrate for growing the semiconductor light emitting device 150, and may be a spire substrate or a silicon substrate.

상기 반도체 발광 소자는 웨이퍼(wafer) 단위로 형성될 때, 디스플레이 장치를 이룰 수 있는 간격 및 크기를 가지도록 함으로써, 디스플레이 장치에 효과적으로 이용될 수 있다.When the semiconductor light emitting device is formed in units of wafers, the semiconductor light emitting device can be effectively used in a display device by having an interval and a size at which a display device can be formed.

그 다음에, 배선기판과 제2기판(112)을 열압착한다. 예를 들어, 배선기판과 제2기판(112)은 ACF press head 를 적용하여 열압착될 수 있다. 상기 열압착에 의하여 배선기판과 제2기판(112)은 본딩(bonding)된다. 열압착에 의하여 전도성을 갖는 이방성 전도성 필름의 특성에 의해 반도체 발광 소자(150)와 보조전극(170) 및 제2전극(140)의 사이의 부분만 전도성을 가지게 되며, 이를 통하여 전극들과 반도체 발광소자(150)는 전기적으로 연결될 수 있다. 이 때에, 반도체 발광 소자(150)가 상기 이방성 전도성 필름의 내부로 삽입되며, 이를 통하여 반도체 발광 소자(150) 사이에 격벽이 형성될 수 있다.Then, the wiring substrate and the second substrate 112 are thermally bonded. For example, the wiring board and the second substrate 112 may be thermocompression-bonded using an ACF press head. The wiring substrate and the second substrate 112 are bonded by the thermocompression bonding. Only the portion between the semiconductor light emitting device 150 and the auxiliary electrode 170 and the second electrode 140 has conductivity due to the characteristics of the anisotropic conductive film having conductivity by thermocompression, The device 150 may be electrically connected. At this time, the semiconductor light emitting device 150 is inserted into the anisotropic conductive film, and partition walls may be formed between the semiconductor light emitting devices 150.

그 다음에, 상기 제2기판(112)을 제거한다. 예를 들어, 제2기판(112)은 레이저 리프트 오프법(Laser Lift-off, LLO) 또는 화학적 리프트 오프법(Chemical Lift-off, CLO)을 이용하여 제거할 수 있다.Then, the second substrate 112 is removed. For example, the second substrate 112 may be removed using a laser lift-off method (LLO) or a chemical lift-off method (CLO).

마지막으로, 상기 제2기판(112)을 제거하여 반도체 발광 소자들(150)을 외부로 노출시킨다. 필요에 따라, 반도체 발광 소자(150)가 결합된 배선기판 상을 실리콘 옥사이드(SiOx) 등을 코팅하여 투명 절연층(미도시)을 형성할 수 있다. Finally, the second substrate 112 is removed to expose the semiconductor light emitting devices 150 to the outside. If necessary, a transparent insulating layer (not shown) may be formed by coating a wiring substrate on which the semiconductor light emitting device 150 is coupled with silicon oxide (SiOx) or the like.

또한, 상기 반도체 발광 소자(150)의 일면에 형광체층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 반도체 발광 소자(150)는 청색(B) 광을 발광하는 청색 반도체 발광 소자이고, 이러한 청색(B) 광을 단위 화소의 색상으로 변환시키기 위한 적색 형광체 또는 녹색 형광체가 상기 청색 반도체 발광 소자의 일면에 레이어를 형성할 수 있다.Further, the method may further include forming a phosphor layer on one surface of the semiconductor light emitting device 150. For example, the semiconductor light emitting device 150 is a blue semiconductor light emitting device that emits blue (B) light, and a red phosphor or a green phosphor for converting the blue (B) A layer can be formed on one surface of the device.

이상에서 설명된 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치의 제조방법이나 구조는 여러가지 형태로 변형될 수 있다. 그 예로서, 상기에서 설명된 디스플레이 장치에는 수직형 반도체 발광 소자도 적용될 수 있다. 이하, 도 5 및 도 6을 참조하여 수직형 구조에 대하여 설명한다.The manufacturing method and structure of the display device using the semiconductor light emitting device described above can be modified into various forms. For example, a vertical semiconductor light emitting device may be applied to the display device described above. Hereinafter, the vertical structure will be described with reference to Figs. 5 and 6. Fig.

또한, 이하 설명되는 변형예 또는 실시예에서는 앞선 예와 동일 또는 유사한 구성에 대해서는 동일, 유사한 참조번호가 부여되고, 그 설명은 처음 설명으로 갈음된다. In the modifications or embodiments described below, the same or similar reference numerals are given to the same or similar components as those of the previous example, and the description is replaced with the first explanation.

도 7은 발명의 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치의 다른 일 실시예를 나타내는 사시도이고, 도 8은 도 7의 라인 D-D를 따라 취한 단면도이며, 도 9은 도 8의 수직형 반도체 발광소자를 나타내는 개념도이다.8 is a cross-sectional view taken along the line DD of FIG. 7, and FIG. 9 is a conceptual view illustrating a vertical semiconductor light emitting device of FIG. 8. FIG. 7 is a perspective view showing another embodiment of a display device using the semiconductor light emitting device of the present invention, to be.

본 도면들을 참조하면, 디스플레이 장치는 패시브 매트릭스(Passive Matrix, PM) 방식의 수직형 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치가 될 수 있다.Referring to these drawings, the display device may be a display device using a passive matrix (PM) vertical semiconductor light emitting device.

상기 디스플레이 장치는 기판(210), 제1전극(220), 전도성 접착층(230), 제2전극(240) 및 복수의 반도체 발광 소자(250)를 포함한다.The display device includes a substrate 210, a first electrode 220, a conductive adhesive layer 230, a second electrode 240, and a plurality of semiconductor light emitting devices 250.

기판(210)은 제1전극(220)이 배치되는 배선기판으로서, 플렉서블(flexible) 디스플레이 장치를 구현하기 위하여 폴리이미드(PI)를 포함할 수 있다. 이외에도 절연성이 있고, 유연성 있는 재질이면 어느 것이라도 사용 가능할 것이다.The substrate 210 is a wiring substrate on which the first electrode 220 is disposed. The substrate 210 may include polyimide (PI) to implement a flexible display device. In addition, any insulating and flexible material may be used.

제1전극(220)은 기판(210) 상에 위치하며, 일 방향으로 긴 바(bar) 형태의 전극으로 형성될 수 있다. 상기 제1전극(220)은 데이터 전극의 역할을 하도록 이루어질 수 있다.The first electrode 220 is disposed on the substrate 210 and may be formed as a long bar electrode in one direction. The first electrode 220 may serve as a data electrode.

전도성 접착층(230)은 제1전극(220)이 위치하는 기판(210)상에 형성된다. 플립 칩 타입(flip chip type)의 발광 소자가 적용된 디스플레이 장치와 같이, 전도성 접착층(230)은 이방성 전도성 필름(anistropy conductive film, ACF), 이방성 전도 페이스트(paste), 전도성 입자를 함유한 솔루션(solution) 등이 될 수 있다. 다만, 본 실시예에서도 이방성 전도성 필름에 의하여 전도성 접착층(230)이 구현되는 경우를 예시한다.A conductive adhesive layer 230 is formed on the substrate 210 on which the first electrode 220 is located. The conductive adhesive layer 230 may be formed of an anisotropic conductive film (ACF), an anisotropic conductive paste, a solution containing a conductive particle, or the like, as in a display device using a flip chip type light emitting device. ) And the like. However, the present embodiment also exemplifies the case where the conductive adhesive layer 230 is realized by the anisotropic conductive film.

기판(210) 상에 제1전극(220)이 위치하는 상태에서 이방성 전도성 필름을 위치시킨 후에, 반도체 발광 소자(250)를 열 및 압력을 가하여 접속시키면, 상기 반도체 발광 소자(250)가 제1전극(220)과 전기적으로 연결된다. 이 때, 상기 반도체 발광 소자(250)는 제1전극(220) 상에 위치되도록 배치되는 것이 바람직하다.If the semiconductor light emitting device 250 is connected to the semiconductor light emitting device 250 by applying heat and pressure after the anisotropic conductive film is positioned in a state where the first electrode 220 is positioned on the substrate 210, And is electrically connected to the electrode 220. In this case, the semiconductor light emitting device 250 may be disposed on the first electrode 220.

상기 전기적 연결은 전술한 바와 같이, 이방성 전도성 필름에서 열 및 압력이 가해지면 부분적으로 두께방향으로 전도성을 가지기 때문에 생성된다. 따라서, 이방성 전도성 필름에서는 두께방향으로 전도성을 가지는 부분(231)과 전도성을 가지지 않는 부분(232)으로 구획된다.As described above, the electrical connection is generated because heat and pressure are applied to the anisotropic conductive film to partially conduct in the thickness direction. Therefore, in the anisotropic conductive film, it is divided into a portion 231 having conductivity in the thickness direction and a portion 232 having no conductivity.

또한, 이방성 전도성 필름은 접착 성분을 함유하기 때문에, 전도성 접착층(230)은 반도체 발광 소자(250)와 제1전극(220) 사이에서 전기적 연결뿐만 아니라 기계적 결합까지 구현한다.In addition, since the anisotropic conductive film contains an adhesive component, the conductive adhesive layer 230 realizes electrical connection as well as mechanical bonding between the semiconductor light emitting element 250 and the first electrode 220.

이와 같이, 반도체 발광 소자(250)는 전도성 접착층(230) 상에 위치되며, 이를 통하여 디스플레이 장치에서 개별 화소를 구성한다. 반도체 발광 소자(250)는 휘도가 우수하므로, 작은 크기로도 개별 단위 픽셀을 구성할 수 있다. 이와 같은 개별 반도체 발광 소자(250)의 크기는 한 변의 길이가 80㎛ 이하일 수 있고, 직사각형 또는 정사각형 소자일 수 있다. 직사각형인 경우에는 20X80㎛ 이하의 크기가 될 수 있다.Thus, the semiconductor light emitting device 250 is positioned on the conductive adhesive layer 230, thereby forming individual pixels in the display device. Since the semiconductor light emitting device 250 has excellent brightness, individual unit pixels can be formed with a small size. The size of the individual semiconductor light emitting device 250 may be 80 μm or less on one side and may be a rectangular or square device. In the case of a rectangle, the size may be 20 X 80 μm or less.

상기 반도체 발광 소자(250)는 수직형 구조가 될 수 있다.The semiconductor light emitting device 250 may have a vertical structure.

수직형 반도체 발광 소자들의 사이에는, 제1전극(220)의 길이 방향과 교차하는 방향으로 배치되고, 수직형 반도체 발광 소자(250)와 전기적으로 연결된 복수의 제2전극(240)이 위치한다.A plurality of second electrodes 240 electrically connected to the vertical semiconductor light emitting device 250 are disposed between the vertical semiconductor light emitting devices in a direction crossing the longitudinal direction of the first electrode 220.

도 9를 참조하면, 이러한 수직형 반도체 발광 소자는 p형 전극(256), p형 전극(256) 상에 형성된 p형 반도체층(255), p형 반도체층(255) 상에 형성된 활성층(254), 활성층(254)상에 형성된 n형 반도체층(253) 및 n형 반도체층(253) 상에 형성된 n형 전극(252)을 포함한다. 이 경우, 하부에 위치한 p형 전극(256)은 제1전극(220)과 전도성 접착층(230)에 의하여 전기적으로 연결될 수 있고, 상부에 위치한 n형 전극(252)은 후술하는 제2전극(240)과 전기적으로 연결될 수 있다. 이러한 수직형 반도체 발광 소자(250)는 전극을 상/하로 배치할 수 있으므로, 칩 사이즈를 줄일 수 있다는 큰 강점을 가지고 있다.9, the vertical type semiconductor light emitting device includes a p-type electrode 256, a p-type semiconductor layer 255 formed on the p-type electrode 256, an active layer 254 formed on the p-type semiconductor layer 255 An n-type semiconductor layer 253 formed on the active layer 254 and an n-type electrode 252 formed on the n-type semiconductor layer 253. In this case, the p-type electrode 256 located at the bottom may be electrically connected to the first electrode 220 by the conductive adhesive layer 230, and the n-type electrode 252 located at the top may be electrically connected to the second electrode 240 As shown in FIG. Since the vertical semiconductor light emitting device 250 can arrange the electrodes up and down, it has a great advantage that the chip size can be reduced.

다시 도 8을 참조하면, 상기 반도체 발광 소자(250)의 일면에는 형광체층(280)이 형성될 수 있다. 예를 들어, 반도체 발광 소자(250)는 청색(B) 광을 발광하는 청색 반도체 발광 소자(251)이고, 이러한 청색(B) 광을 단위 화소의 색상으로 변환시키기 위한 형광체층(280)이 구비될 수 있다. 이 경우에, 형광체층(280)은 개별 화소를 구성하는 적색 형광체(281) 및 녹색 형광체(282) 일 수 있다.Referring to FIG. 8 again, a phosphor layer 280 may be formed on one side of the semiconductor light emitting device 250. For example, the semiconductor light emitting device 250 is a blue semiconductor light emitting device 251 that emits blue (B) light, and a phosphor layer 280 for converting the blue (B) . In this case, the phosphor layer 280 may be a red phosphor 281 and a green phosphor 282 constituting individual pixels.

즉, 적색의 단위 화소를 이루는 위치에서, 청색 반도체 발광 소자(251) 상에는 청색 광을 적색(R) 광으로 변환시킬 수 있는 적색 형광체(281)가 적층될 수 있고, 녹색의 단위 화소를 이루는 위치에서는, 청색 반도체 발광 소자(251) 상에 청색 광을 녹색(G) 광으로 변환시킬 수 있는 녹색 형광체(282)가 적층될 수 있다. 또한, 청색의 단위 화소를 이루는 부분에는 청색 반도체 발광 소자(251)만 단독으로 이용될 수 있다. 이 경우, 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)의 단위 화소들이 하나의 화소를 이룰 수 있다.That is, a red phosphor 281 capable of converting blue light into red (R) light can be laminated on the blue semiconductor light emitting element 251 at a position forming a red unit pixel, A green phosphor 282 capable of converting blue light into green (G) light may be laminated on the blue semiconductor light emitting element 251. In addition, only the blue semiconductor light emitting element 251 can be used alone in a portion constituting a blue unit pixel. In this case, the unit pixels of red (R), green (G), and blue (B) can form one pixel.

다만, 본 발명은 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 플립 칩 타입(flip chip type)의 발광 소자가 적용된 디스플레이 장치에서 전술한 바와 같이, 청색, 적색, 녹색을 구현하기 위한 다른 구조가 적용될 수 있다. However, the present invention is not limited thereto, and other structures for implementing blue, red, and green may be applied to a display device to which a flip chip type light emitting device is applied, as described above.

다시 본 실시예를 살펴보면, 제2전극(240)은 반도체 발광 소자들(250) 사이에 위치하고, 반도체 발광 소자들(250)과 전기적으로 연결된다. 예를 들어, 반도체 발광 소자들(250)은 복수의 열로 배치되고, 제2전극(240)은 반도체 발광 소자들(250)의 열들 사이에 위치할 수 있다. The second electrode 240 is located between the semiconductor light emitting devices 250 and electrically connected to the semiconductor light emitting devices 250. For example, the semiconductor light emitting devices 250 may be disposed in a plurality of rows, and the second electrode 240 may be disposed between the columns of the semiconductor light emitting devices 250.

개별 화소를 이루는 반도체 발광 소자(250) 사이의 거리가 충분히 크기 때문에 제2전극(240)은 반도체 발광 소자들(250) 사이에 위치될 수 있다. The second electrode 240 may be positioned between the semiconductor light emitting devices 250 because the distance between the semiconductor light emitting devices 250 forming the individual pixels is sufficiently large.

제2전극(240)은 일 방향으로 긴 바(bar) 형태의 전극으로 형성될 수 있으며, 제1전극과 상호 수직한 방향으로 배치될 수 있다.The second electrode 240 may be formed as a long bar-shaped electrode in one direction and may be disposed in a direction perpendicular to the first electrode.

또한, 제2전극(240)과 반도체 발광 소자(250)는 제2전극(240)에서 돌출된 연결 전극에 의해 전기적으로 연결될 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 연결 전극이 반도체 발광 소자(250)의 n형 전극이 될 수 있다. 예를 들어, n형 전극은 오믹(ohmic) 접촉을 위한 오믹 전극으로 형성되며, 상기 제2전극은 인쇄 또는 증착에 의하여 오믹 전극의 적어도 일부를 덮게 된다. 이를 통하여 제2전극(240)과 반도체 발광 소자(250)의 n형 전극이 전기적으로 연결될 수 있다.The second electrode 240 and the semiconductor light emitting device 250 may be electrically connected by a connection electrode protruding from the second electrode 240. More specifically, the connection electrode may be an n-type electrode of the semiconductor light emitting device 250. For example, the n-type electrode is formed as an ohmic electrode for ohmic contact, and the second electrode covers at least a part of the ohmic electrode by printing or vapor deposition. Accordingly, the second electrode 240 and the n-type electrode of the semiconductor light emitting device 250 can be electrically connected.

도시에 의하면, 상기 제2전극(240)은 전도성 접착층(230) 상에 위치될 수 있다. 경우에 따라, 반도체 발광 소자(250)가 형성된 기판(210) 상에 실리콘 옥사이드(SiOx) 등을 포함하는 투명 절연층(미도시)이 형성될 수 있다. 투명 절연층이 형성된 후에 제2전극(240)을 위치시킬 경우, 상기 제2전극(240)은 투명 절연층 상에 위치하게 된다. 또한, 제2전극(240)은 전도성 접착층(230) 또는 투명 절연층에 이격되어 형성될 수도 있다.According to the example, the second electrode 240 may be disposed on the conductive adhesive layer 230. A transparent insulating layer (not shown) containing silicon oxide (SiOx) or the like may be formed on the substrate 210 on which the semiconductor light emitting device 250 is formed. When the second electrode 240 is positioned after the transparent insulating layer is formed, the second electrode 240 is positioned on the transparent insulating layer. In addition, the second electrode 240 may be formed spaced apart from the conductive adhesive layer 230 or the transparent insulating layer.

만약 반도체 발광 소자(250) 상에 제2전극(240)을 위치시키기 위하여는 ITO(Indium Tin Oxide)와 같은 투명 전극을 사용한다면, ITO 물질은 n형 반도체층과는 접착성이 좋지 않은 문제가 있다. 따라서, 본 발명은 반도체 발광 소자(250) 사이에 제2전극(240)을 위치시킴으로써, ITO와 같은 투명 전극을 사용하지 않아도 되는 이점이 있다. 따라서, 투명한 재료 선택에 구속되지 않고, n형 반도체층과 접착성이 좋은 전도성 물질을 수평 전극으로 사용하여 광추출 효율을 향상시킬 수 있다.If a transparent electrode such as ITO (Indium Tin Oxide) is used for positioning the second electrode 240 on the semiconductor light emitting device 250, the problem that the ITO material has poor adhesion with the n-type semiconductor layer have. Accordingly, the present invention has an advantage in that the second electrode 240 is positioned between the semiconductor light emitting devices 250, so that a transparent electrode such as ITO is not used. Therefore, the light extraction efficiency can be improved by using a conductive material having good adhesiveness with the n-type semiconductor layer as a horizontal electrode without being bound by transparent material selection.

도시에 의하면, 반도체 발광 소자(250) 사이에는 격벽(290)이 위치할 수 있다. 즉, 개별 화소를 이루는 반도체 발광 소자(250)를 격리시키기 위하여 수직형 반도체 발광 소자(250) 사이에는 격벽(290)이 배치될 수 있다. 이 경우, 격벽(290)은 개별 단위 화소를 서로 분리하는 역할을 할 수 있으며, 상기 전도성 접착층(230)과 일체로 형성될 수 있다. 예를 들어, 이방성 전도성 필름에 반도체 발광 소자(250)가 삽입됨에 의하여 이방성 전도성 필름의 베이스부재가 상기 격벽을 형성할 수 있다. According to the structure, the barrier ribs 290 may be positioned between the semiconductor light emitting devices 250. That is, the barrier ribs 290 may be disposed between the vertical semiconductor light emitting devices 250 to isolate the semiconductor light emitting devices 250 forming the individual pixels. In this case, the barrier ribs 290 may separate the individual unit pixels from each other, and may be formed integrally with the conductive adhesive layer 230. For example, by inserting the semiconductor light emitting device 250 into the anisotropic conductive film, the base member of the anisotropic conductive film can form the partition.

또한, 상기 이방성 전도성 필름의 베이스 부재가 블랙이면, 별도의 블랙 절연체가 없어도 상기 격벽(290)이 반사 특성을 가지는 동시에 대비비(contrast)가 증가될 수 있다.Also, if the base member of the anisotropic conductive film is black, the barrier ribs 290 may have a reflection characteristic and a contrast may be increased without a separate black insulator.

다른 예로서, 상기 격벽(190)으로서, 반사성 격벽이 별도로 구비될 수 있다. 격벽(290)은 디스플레이 장치의 목적에 따라 블랙(Black) 또는 화이트(White) 절연체를 포함할 수 있다.As another example, as the partition 190, a reflective barrier may be separately provided. The barrier ribs 290 may include black or white insulators depending on the purpose of the display device.

만일 제2전극(240)이 반도체 발광 소자(250) 사이의 전도성 접착층(230) 상에 바로 위치된 경우, 격벽(290)은 수직형 반도체 발광 소자(250) 및 제2전극(240)의 사이사이에 위치될 수 있다. 따라서, 반도체 발광 소자(250)를 이용하여 작은 크기로도 개별 단위 픽셀을 구성할 수 있고, 반도체 발광 소자(250)의 거리가 상대적으로 충분히 크게 되어 제2전극(240)을 반도체 발광 소자(250) 사이에 위치시킬 수 있고, HD 화질을 가지는 플렉서블 디스플레이 장치를 구현할 수 있는 효과가 있게 된다.If the second electrode 240 is directly disposed on the conductive adhesive layer 230 between the semiconductor light emitting devices 250, the barrier ribs 290 may be formed between the vertical semiconductor light emitting device 250 and the second electrode 240 As shown in FIG. Therefore, individual unit pixels can be formed with a small size by using the semiconductor light emitting device 250, and the distance between the semiconductor light emitting device 250 can be relatively large enough so that the second electrode 240 can be electrically connected to the semiconductor light emitting device 250 ), And it is possible to realize a flexible display device having HD picture quality.

또한, 도시에 의하면, 대비비(contrast) 향상을 위하여 각각의 형광체 사이에는 블랙 매트릭스(291)가 배치될 수 있다. 즉, 이러한 블랙 매트릭스(291)는 명암의 대조를 향상시킬 수 있다. In addition, according to the present invention, a black matrix 291 may be disposed between the respective phosphors to improve the contrast. That is, this black matrix 291 can improve the contrast of light and dark.

상기 설명과 같이, 반도체 발광 소자(250)는 전도성 접착층(230) 상에 위치되며, 이를 통하여 디스플레이 장치에서 개별 화소를 구성한다. 반도체 발광 소자(250)는 휘도가 우수하므로, 작은 크기로도 개별 단위 픽셀을 구성할 수 있다. 따라서, 반도체 발광 소자에 의하여 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)의 단위 화소들이 하나의 화소를 이루는 풀 칼라 디스플레이가 구현될 수 있다.As described above, the semiconductor light emitting device 250 is disposed on the conductive adhesive layer 230, thereby forming individual pixels in the display device. Since the semiconductor light emitting device 250 has excellent brightness, individual unit pixels can be formed with a small size. Therefore, a full color display in which red (R), green (G), and blue (B) unit pixels form one pixel can be realized by the semiconductor light emitting device.

상기에서 설명된 본 발명의 디스플레이 장치에서 반도체 발광 소자는 제1전극(120, 220) 및 제2전극(140, 240, 이상 도 3a 및 도 8 참조)과 전기적으로 연결된다. 이 경우에, 제1전극(120, 220)은 데이터 구동신호를 전달하는 데이터 라인이고, 상기 제2전극(140, 240)은 스캔 구동신호를 전달하는 스캔 라인이 될 수 있다. 전술한 바와 같이, 데이터 라인들에서 하나의 라인은 단일 색상을 제어하는 전극이 될 수 있다. 즉, 하나의 스캔 라인을 따라서, 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)이 차례로 배치될 수 있으며, 이를 통하여 단위 화소가 구현될 수 있다. In the display device of the present invention described above, the semiconductor light emitting device is electrically connected to the first electrodes 120 and 220 and the second electrodes 140 and 240 (see FIGS. 3A and 8). In this case, the first electrodes 120 and 220 may be data lines for transmitting data driving signals, and the second electrodes 140 and 240 may be scan lines for transmitting scan driving signals. As described above, one line in the data lines can be an electrode that controls a single color. That is, red (R), green (G), and blue (B) may be sequentially arranged along one scan line, thereby realizing a unit pixel.

라서, 적색, 녹색 및 청색을 각각 발광하여 특정색을 구현하는 단위화소부에서는 하나의 스캔 라인과 3열의 데이터 라인이 연결된다. 이러한 배선 연결구조에서는 하나의 스캔 라인이 활성화되고 나머지는 꺼진 상태에서, 3열의 데이터 라인이 선택적으로 구동되어 단위화소부내에서 해당 셀을 제어하게 된다. 이와 같이, 수동형 매트릭스 구조에서는 하나의 스캔 라인이 활성화되어 발광될 때 나머지 라인은 구동을 할 수 없기 때문에 한 라인이 단위시간당 발광하는 빛의 밝기가 제한이 된다. 본 발명에서는 이러한 문제를 해결할 수 있는 배선 연결구조를 제시한다. 이하, 이러한 새로운 형태의 배선 연결구조가 적용된 디스플레이 장치에 대하여 보다 상세히 설명한다.Accordingly, one scan line and three columns of data lines are connected in a unit pixel portion that emits red, green, and blue light to emit a specific color. In this wiring connection structure, in a state in which one scan line is activated and the other is off, three data lines are selectively driven to control the corresponding cells in the unit pixel unit. As described above, in the passive matrix structure, when one scan line is activated and light is emitted, the remaining lines can not be driven, so that the brightness of light emitted by one line per unit time is limited. The present invention proposes a wiring connection structure capable of solving such a problem. Hereinafter, a display device to which such a new type of wiring connection structure is applied will be described in more detail.

도 10은 새로운 구조의 배선 연결구조가 적용된 디스플레이 장치의 사시도이고, 도 11a는 도 10의 라인 E-E를 따라 취한 단면도이며, 도 11b는 도 10의 라인 F-F를 따라 취한 단면도이고, 도 12a 및 도 12b는 도 10의 배선 연결구조를 나타내는 개념도들이다.10A is a cross-sectional view taken along line EE of FIG. 10, FIG. 11B is a cross-sectional view taken along line FF of FIG. 10, and FIGS. 12A and 12B Are schematic diagrams showing the wiring connection structure of Fig.

도 10, 도 11a, 도 11b, 도 11c, 도 12a 및 도 12b의 도시에 의하면, 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치(1000)로서 패시브 매트릭스(Passive Matrix, PM) 방식의 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치(1000)를 예시한다. 다만, 이하 설명되는 예시는 액티브 매트릭스(Active Matrix, AM) 방식의 반도체 발광 소자에도 적용 가능하다. 10, 11A, 11B, 11C, 12A and 12B, a display device 1000 using a passive matrix (PM) type semiconductor light emitting device as a display device 1000 using a semiconductor light emitting device, (1000). However, the example described below is also applicable to an active matrix (AM) semiconductor light emitting device.

디스플레이 장치(1000)는 기판(1010), 제1전극(1020), 전도성 접착층(1030), 제2전극(1040) 및 복수의 반도체 발광 소자(1050)를 포함한다. The display device 1000 includes a substrate 1010, a first electrode 1020, a conductive adhesive layer 1030, a second electrode 1040, and a plurality of semiconductor light emitting devices 1050.

기판(1010)은 배선기판으로서, 플렉서블(flexible) 디스플레이 장치를 구현하기 위하여 폴리이미드(PI)를 포함할 수 있다. 이외에도 절연성이 있고, 유연성 있는 재질이면 어느 것이라도 사용 가능할 것이다.The substrate 1010 may be a wiring substrate and may include polyimide (PI) to implement a flexible display device. In addition, any insulating and flexible material may be used.

절연층(1060)은 기판(1010) 상에 배치될 수 있으며, 상기 절연층(1060)에는 보조전극(1070)이 위치할 수 있다. 이 경우에, 상기 기판(1010)에 절연층(1060)이 적층된 상태가 하나의 배선기판이 될 수 있다. 보다 구체적으로, 절연층(1060)은 폴리이미드(PI, Polyimide), PET, PEN 등과 같이 절연성이 있고, 유연성 있는 재질로, 상기 기판(1010)과 일체로 이루어져 하나의 기판을 형성할 수 있다.The insulating layer 1060 may be disposed on the substrate 1010 and the auxiliary electrode 1070 may be disposed on the insulating layer 1060. In this case, a state in which the insulating layer 1060 is laminated on the substrate 1010 may be a single wiring substrate. More specifically, the insulating layer 1060 may be formed integrally with the substrate 1010 by using a flexible material such as polyimide (PI), PET, PEN, or the like.

도시에 의하면, 제1 전극(1020) 및 제2 전극(1040)은 각각 복수의 전극 라인들을 포함할 수 있다. 제1전극(1020)은 절연층(1060) 상에서 일 방향으로 긴 바(bar) 형태의 전극으로 형성될 수 있다. 상기 제1전극(1020)은 데이터 전극의 역할을 하며, 서로 평행하게 배치되는 복수의 데이터 라인들(1020a, 1020b, 1020c)을 포함한다. According to the illustration, the first electrode 1020 and the second electrode 1040 may each include a plurality of electrode lines. The first electrode 1020 may be formed as a long bar-shaped electrode in one direction on the insulating layer 1060. The first electrode 1020 serves as a data electrode and includes a plurality of data lines 1020a, 1020b, and 1020c arranged in parallel to each other.

이 경우에, 제2전극(1040)은 보조전극(1070)과 연결되며, 비아 홀을 통하여 기판(1010)으로 연장되며, 상기 기판(1010) 상에서 일 방향으로 긴 바(bar) 형태의 전극으로 형성될 수 있다. 또한, 상기 제2전극(1040)은 제1전극(1020)의 길이 방향과 교차하는 방향으로 배치된다. 제2전극(1040)은 게이트 전극(스캔 전극)의 역할을 하도록 형성되며, 복수의 스캔 라인들(1040a, 1040b, 1040c)을 포함한다. 복수의 데이터 라인들(1020a, 1020b, 1020c)과 복수의 스캔 라인들(1040a, 1040b, 1040c)은 서로 수직으로 교차하도록 배치된다.In this case, the second electrode 1040 is connected to the auxiliary electrode 1070, extends to the substrate 1010 through the via hole, and is formed as a long bar-shaped electrode in one direction on the substrate 1010 . The second electrode 1040 is disposed in a direction crossing the longitudinal direction of the first electrode 1020. The second electrode 1040 is formed to serve as a gate electrode (scan electrode), and includes a plurality of scan lines 1040a, 1040b, and 1040c. The plurality of data lines 1020a, 1020b, and 1020c and the plurality of scan lines 1040a, 1040b, and 1040c are disposed to cross each other vertically.

보조전극(1070)은 제2전극(1040)과 반도체 발광 소자(1050)를 전기적으로 연결하는 전극으로서, 절연층(1060) 상에 위치하고, 제2전극(1040)의 위치에 대응하여 배치된다. 예를 들어, 보조전극(1070)은 닷(dot) 형태이며, 절연층(1060)을 관통하는 전극홀(1071)에 의하여 제2전극(1040)과 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 전극홀(1071)은 비아 홀에 도전물질이 채워짐에 의하여 형성될 수 있다.The auxiliary electrode 1070 is an electrode that electrically connects the second electrode 1040 and the semiconductor light emitting device 1050 and is disposed on the insulating layer 1060 and is disposed corresponding to the position of the second electrode 1040. For example, the auxiliary electrode 1070 may be in the form of a dot and may be electrically connected to the second electrode 1040 by an electrode hole 1071 penetrating the insulating layer 1060. The electrode hole 1071 may be formed by filling a via hole with a conductive material.

본 도면들을 참조하면, 절연층(1060)의 일면에는 전도성 접착층(1030)이 형성되나, 본 발명은 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 절연층(1060)과 전도성 접착층(1030)의 사이에 특정 기능을 수행하는 레이어가 형성되거나, 절연층(1060)이 없이 전도성 접착층(1030)이 기판(1010)상에 배치되는 구조도 가능하다. 전도성 접착층(1030)이 기판(1010)상에 배치되는 구조에서는 전도성 접착층(1030)이 절연층의 역할을 할 수 있다.Referring to these drawings, a conductive adhesive layer 1030 is formed on one surface of the insulating layer 1060, but the present invention is not limited thereto. For example, a structure in which a layer performing a specific function is formed between the insulating layer 1060 and the conductive adhesive layer 1030, or a structure in which the conductive adhesive layer 1030 is disposed on the substrate 1010 without the insulating layer 1060 It is also possible. In the structure in which the conductive adhesive layer 1030 is disposed on the substrate 1010, the conductive adhesive layer 1030 may serve as an insulating layer.

전술한 플립 칩 타입(flip chip type)의 발광 소자가 적용된 디스플레이 장치와 같이, 전도성 접착층(1030)은 이방성 전도성 필름(anistropy conductive film, ACF), 이방성 전도 페이스트(paste), 전도성 입자를 함유한 솔루션(solution) 등이 될 수 있다. 다만, 본 실시 예에서도 이방성 전도성 필름에 의하여 전도성 접착층(1030)이 구현되는 경우를 예시한다.The conductive adhesive layer 1030 may be an anisotropic conductive film (ACF), an anisotropic conductive paste, a solution containing a conductive particle, or the like, as in a display device using a flip chip type light emitting device described above. solution or the like. However, the present embodiment also exemplifies the case where the conductive adhesive layer 1030 is realized by the anisotropic conductive film.

기판(1010) 상에 이방성 전도성 필름을 위치시킨 후에, 반도체 발광 소자(1050)를 열 및 압력을 가하여 접속시키면, 상기 반도체 발광 소자(1050)가 제1전극(1020) 및 제2전극(1040)과 전기적으로 연결된다. 이때, 제2전극(1040)은 보조전극(1070)을 경유하여 상기 반도체 발광 소자(1050)와 연결된다.When the semiconductor light emitting device 1050 is connected to the first electrode 1020 and the second electrode 1040 by heat and pressure after the anisotropic conductive film is placed on the substrate 1010, Respectively. At this time, the second electrode 1040 is connected to the semiconductor light emitting device 1050 via the auxiliary electrode 1070.

또한, 본 예시에서는 상기 반도체 발광 소자(1050)로서 플립 칩 타입(flip chip type)의 발광 소자를 도시하나, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니며, 여러가지 형태의 반도체 발광소자가 적용될 수 있다.In this example, a flip chip type light emitting device is shown as the semiconductor light emitting device 1050, but the present invention is not limited thereto, and various types of semiconductor light emitting devices can be applied.

본 예시의 반도체 발광 소자는 p형 전극(1056), p형 전극(1056)이 형성되는 p형 반도체층(1055), p형 반도체층(1055) 상에 형성된 활성층(1054), 활성층(1054) 상에 형성된 n형 반도체층(1053) 및 n형 반도체층(1053) 상에서 p형 전극(1056)과 수평방향으로 이격 배치되는 n형 전극(1052)을 포함한다. 이 경우, n형 전극(1052)은 보조전극(1070)과 전도성 접착층(1030)에 의하여 전기적으로 연결될 수 있고, p형 전극(1056)은 제1전극(1020)과 전기적으로 연결될 수 있다. The semiconductor light emitting device of this example includes a p-type semiconductor layer 1055 in which a p-type electrode 1056, a p-type electrode 1056 are formed, an active layer 1054 formed on the p-type semiconductor layer 1055, an active layer 1054, And an n-type electrode 1052 disposed on the n-type semiconductor layer 1053 and on the n-type semiconductor layer 1053 so as to be spaced apart from the p-type electrode 1056 in the horizontal direction. In this case, the n-type electrode 1052 may be electrically connected to the auxiliary electrode 1070 by the conductive adhesive layer 1030, and the p-type electrode 1056 may be electrically connected to the first electrode 1020.

이 경우에, 상기 복수의 데이터 라인들(1020a, 1020b, 1020c)은 데이터 구동 신호를 전달하도록 반도체 발광소자의 p형 전극에 전기적으로 연결되며, 복수의 스캔 라인들(1040a, 1040b, 1040c)은 스캔 구동 신호를 전달하도록 반도체 발광소자의 n형 전극에 전기적으로 연결될 수 있다.In this case, the plurality of data lines 1020a, 1020b, and 1020c are electrically coupled to the p-type electrode of the semiconductor light emitting device to transmit a data driving signal, and the plurality of scan lines 1040a, 1040b, and 1040c And may be electrically connected to the n-type electrode of the semiconductor light emitting device to transmit the scan driving signal.

한편, 도시에 의하면, 복수의 반도체 발광 소자들과 형광체층이 서로 다른 빛을 발광하는 출력부들(1091, 1092, 1093)을 구비하는 단위화소부(1090)를 형성한다. 이러한 예로서, 상기 단위화소부(1090)는 적색, 녹색 및 청색의 빛들을 각각 출력하는 적색 출력부(1091), 녹색 출력부(1092) 및 청색 출력부(1093)를 구비한다. 상기 출력부들의 각각이 서브화소(sub-pixel)를 형성하며, 3개의 서브화소가 하나의 단위화소부(1090)를 이루게 된다.Meanwhile, according to the embodiment, a unit pixel portion 1090 including output portions 1091, 1092, and 1093 that emit light having a plurality of semiconductor light emitting elements and a phosphor layer are formed. As an example, the unit pixel portion 1090 includes a red output portion 1091, a green output portion 1092, and a blue output portion 1093 for outputting red, green, and blue lights, respectively. Each of the output units forms a sub-pixel, and the three sub-pixels form a unit pixel unit 1090.

보다 구체적으로, 단위화소부(1090)내에는, 청색의 반도체 발광 소자(1050)가 적어도 3개 배치되며, 이 중에서 2개에는 청색 광을 적색 광 및 녹색 광으로 변환시킬 수 있는 적색 형광체(1081) 및 녹색 형광체(1082)가 각각 적층될 수 있다. 이를 통하여, 적색 출력부(1091) 및 녹색 출력부(1092)가 각각 구현된다.More specifically, in the unit pixel portion 1090, at least three blue semiconductor light emitting elements 1050 are arranged, and two of them are provided with a red phosphor 1081 capable of converting blue light into red light and green light And a green phosphor 1082 may be stacked, respectively. Through this, a red output unit 1091 and a green output unit 1092 are implemented, respectively.

또한, 청색 출력부(1093)에는 청색의 반도체 발광 소자(1050)만 단독으로 이용될 수 있다. 이 경우, 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)의 단위 화소들이 하나의 단위화소부(1090)를 이룰 수 있다. 보다 구체적으로, 제2전극(1040)의 각 스캔 라인을 따라 하나의 색상의 형광체가 적층될 수 있다. In addition, only the blue semiconductor light emitting element 1050 can be used for the blue output portion 1093 alone. In this case, the unit pixels of red (R), green (G), and blue (B) may form one unit pixel portion 1090. More specifically, phosphors of one color may be stacked along each scan line of the second electrode 1040.

따라서, 상기 형광체층은 상기 스캔 라인을 따라서 연장되도록 형성되며, 상기 스캔 라인에서 하나의 라인은 하나의 색상을 제어하는 전극이 될 수 있다. 반면에, 제1전극(1020), 데이터라인을 따라서, 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)이 차례로 배치될 수 있으며, 이를 통하여 단위화소부(1090)가 구현될 수 있다.Therefore, the phosphor layer is formed to extend along the scan line, and one line in the scan line may be an electrode for controlling one color. On the other hand, red (R), green (G), and blue (B) may be sequentially arranged along the first electrode 1020 and the data line, thereby realizing the unit pixel portion 1090.

다만, 본 발명은 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 형광체 대신에 반도체 발광 소자와 퀀텀닷(QD)이 조합되어 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)의 출력부들을 구현할 수 있다.However, the present invention is not limited thereto. Instead, the semiconductor light emitting device and the quantum dot QD may be combined to realize red (R), green (G), and blue (B) output units.

한편, 이러한 형광체층(1080)의 대비비(Contrast) 향상을 위하여 디스플레이 장치는 각각의 형광체들의 사이에 배치되는 블랙 매트릭스(BM)를 더 포함할 수 있다. 상기 블랙 매트릭스(BM)는 형광체 도트 사이에 갭을 만들고, 흑색 물질이 상기 갭을 채우는 형태로 형성될 수 있다. 이를 통하여 블랙 매트릭스(BM)는 외광반사를 흡수함과 동시에 명암의 대조를 향상시킬 수 있다. 이러한 블랙 매트릭스(BM)는, 형광체층(1080)이 적층된 방향인 제2전극(1040)을 따라 각각의 형광체층들의 사이에 위치한다. In order to improve the contrast of the phosphor layer 1080, the display device may further include a black matrix BM disposed between the phosphors. The black matrix BM may be formed in such a manner that a gap is formed between the phosphor dots and a black material fills the gap. Through this, the black matrix (BM) can absorb the external light reflection and improve the contrast of light and dark. This black matrix BM is located between the respective phosphor layers along the second electrode 1040 in the direction in which the phosphor layers 1080 are stacked.

상기에서 설명된 구조에서 다중 주사를 구현하기 위하여, 본 발명에서는 복수의 스캔 라인(1040a, 1040b, 1040c)들 및 복수의 데이터 라인들(1020a, 1020b, 1020c)은 단위화소부(1090)에서 각각 3열씩 배치되며, 상기 단위화소부(1090)에 배치되는 3열의 스캔 라인(1040a, 1040b, 1040c)은 상기 스캔 구동 신호가 동시에 가해지도록 서로 연결된다.A plurality of scan lines 1040a, 1040b and 1040c and a plurality of data lines 1020a, 1020b and 1020c are formed in a unit pixel portion 1090 The three rows of scan lines 1040a, 1040b, and 1040c arranged in the unit pixel portion 1090 are connected to each other so that the scan driving signals are simultaneously applied.

이 경우에, 상기 3열의 스캔 라인(1040a, 1040b, 1040c)은 순차적으로 배치되는 제1스캔 라인(1040a), 제2스캔 라인(1040b) 및 제3스캔 라인(1040c)을 구비한다. 이 때, 상기 3열의 스캔 라인(1040a, 1040b, 1040c)을 따라 복수의 단위화소부가 순차적으로 형성되도록, 상기 제1스캔 라인(1040a), 제2스캔 라인(1040b) 및 제3스캔 라인(1040c)에는 각각 적색 출력부(1091), 녹색 출력부(1092) 및 청색 출력부(1093)가 반복하여 배치될 수 있다. 이러한 예로서, 상기 제1스캔 라인(1040a)에는 적색 출력부(1091)만이 순차적으로 배치되고, 상기 제2스캔 라인(1040b)에는 녹색 출력부(1092)만이 차례로 배치되며, 상기 제3스캔 라인(1040c)에는 청색 출력부(1093)만이 연속적으로 배치될 수 있다.In this case, the three rows of scan lines 1040a, 1040b, and 1040c include a first scan line 1040a, a second scan line 1040b, and a third scan line 1040c that are sequentially arranged. In this case, the first scan line 1040a, the second scan line 1040b, and the third scan line 1040c are formed so that a plurality of unit pixel portions are sequentially formed along the three scan lines 1040a, 1040b, and 1040c. The red output section 1091, the green output section 1092, and the blue output section 1093 may be repeatedly arranged. In this example, only the red output portion 1091 is sequentially arranged in the first scan line 1040a, only the green output portion 1092 is sequentially arranged in the second scan line 1040b, Only the blue output unit 1093 may be continuously arranged in the display unit 1040c.

또한, 상기 단위화소부(1090)에 배치되는 3열의 데이터 라인(1020a, 1020b, 1020c)은 순차적으로 배치되는 제1데이터 라인(1020a), 제2데이터 라인(1020b) 및 제3데이터 라인(1020c)을 구비한다. The three data lines 1020a, 1020b and 1020c arranged in the unit pixel portion 1090 are sequentially connected to the first data line 1020a, the second data line 1020b and the third data line 1020c ).

예를 들어, 하나의 단위화소부(1090)에는 상기 제1스캔 라인(1040a), 제2스캔 라인(1040b) 및 제3스캔 라인(1040c)에 각각 연결되어 상기 스캔 구동 신호가 동시에 가해지는 제1반도체 발광소자(1050a), 제2반도체 발광소자(1050b) 및 제3반도체 발광소자(1050c)가 배치된다. 하나의 단위화소부(1090)에 구비되는 상기 제1반도체 발광소자(1050a), 제2반도체 발광소자(1050b) 및 제3반도체 발광소자(1050c)는 각각 상기 제1데이터 라인(1020a), 제2데이터 라인(1020b) 및 제3데이터 라인(1020c)에 연결될 수 있다.For example, one unit pixel portion 1090 is connected to the first scan line 1040a, the second scan line 1040b, and the third scan line 1040c, 1 semiconductor light emitting element 1050a, a second semiconductor light emitting element 1050b, and a third semiconductor light emitting element 1050c are disposed. The first semiconductor light emitting element 1050a, the second semiconductor light emitting element 1050b and the third semiconductor light emitting element 1050c included in one unit pixel portion 1090 are connected to the first data line 1020a, 2 data line 1020b and the third data line 1020c.

보다 구체적으로, 도 12a 및 도 12b를 참조하면, 세로 전극은 스캔 라인이며 세개의 서브화소(sub-pixel)의 스캔 라인은 모두 Scan1, Scan2, Scan3 등으로 공통이다. 그리고 디스플레이의 발광 개구율의 증가를 위하여 스캔 라인은 서브화소(sub-pixel)들의 사이에 배치된다More specifically, referring to FIGS. 12A and 12B, the vertical electrode is a scan line, and scan lines of three sub-pixels are common to Scan1, Scan2, and Scan3. In order to increase the emission aperture ratio of the display, the scan lines are disposed between the sub-pixels

도 12a를 참조하면, Scan1이 활성화될 때, Data 1~27까지 3열을 동시에 선택적 주사 및 발광이 가능하게 되며, Scan1을 활성화하는 시간을 단위시간 T라고 하면, 한 화면을 구성하는 데 소요되는 시간은 3T가 된다. 만약, Scan1이 하나의 라인으로 이루어진다면, 한 화면을 구성하는 데 소요되는 시간은 총 9T가 될 것이며, 따라서 본 발명에 의하면 한 화면을 구성하는 데 소요되는 시간이 저감되며, 이에 따라 밝기가 3배로 증가될 수 있다.Referring to FIG. 12A, when Scan 1 is activated, it is possible to selectively scan and emit three columns of Data 1 to 27 at the same time, and when the time for activating Scan 1 is defined as unit time T, The time is 3T. If Scan1 is composed of one line, the time required to construct one screen will be 9T in total, so that according to the present invention, the time required to construct one screen is reduced, Can be doubled.

한편, 도 12b에 의하면, 데이터 라인들은 단위화소부내의 각 서브화소에서 면적이 보다 증대되도록 이루어질 수 있다. 보다 구체적으로, 각 서브화소에서 데이터 라인이 발광물질(반도체 발광소자)와 접합할 때 접합의 용이성과 저항을 최소화하기 위해 접합면적을 도시된 바와 같이 넓게 한다. On the other hand, according to FIG. 12B, the data lines can be formed so that the area of each sub pixel in the unit pixel portion is further increased. More specifically, when the data lines are bonded to the light emitting material (semiconductor light emitting element) in each sub-pixel, the bonding area is enlarged as shown in the figure so as to minimize the ease of bonding and resistance.

보다 구체적으로, 도시에 의하면, 상기 단위화소부(1090)에 배치되는 3열의 데이터 라인(1020a, 1020b, 1020c) 중 적어도 하나는 상기 스캔 라인(1040)과 평행한 수평부(1094)를 구비하며, 상기 수평부(1094)에는 상기 반도체 발광소자(1050)가 배치된다. 이 경우에, 상기 스캔 라인과 수직한 방향, 즉 상기 데이터 라인이 연장되는 방향은 상기 수평부(1094)에 수직한 방향이 되며, 따라서, 상기 데이터 라인에서 상기 수평부(1094)를 제외한 부분은 수직부(1095)가 될 수 있다.More specifically, at least one of the three data lines 1020a, 1020b, and 1020c arranged in the unit pixel portion 1090 has a horizontal portion 1094 parallel to the scan line 1040 And the semiconductor light emitting device 1050 is disposed in the horizontal portion 1094. [ In this case, a direction perpendicular to the scan line, that is, a direction in which the data line extends is perpendicular to the horizontal portion 1094, and therefore, the portion of the data line excluding the horizontal portion 1094 And may be a vertical portion 1095.

보다 구체적인 예로, 상기 제1데이터 라인(1020a) 및 상기 제3데이터 라인(1020c)의 수평부들(1094a, 1094c)은 각각 상기 제1데이터 라인(1020a) 및 상기 제3데이터 라인(1020c)상에서 상기 제2데이터 라인(1020b)을 향하여 돌출될 수 있다. 또한, 상기 제1데이터 라인(1020a) 및 상기 제3데이터 라인(1020c)의 수평부들(1094a, 1094c)은 단위화소부 당 하나씩 구비될 수 있다. 따라서, 상기 제1데이터 라인(1020a) 및 상기 제3데이터 라인(1020c)의 수평부들(1094a, 1094c)은 3개의 반도체 발광소자간의 거리를 피치로 하여 상기 데이터 라인을 따라 순차적으로 배치될 수 있다. 이 경우에, 상기 제1데이터 라인(1020a)의 수평부(1094a)와 상기 제3데이터 라인(1020c)의 수평부(1094c)는 상기 데이터 라인을 따라 서로 어긋나도록 배치될 수 있다.More specifically, the horizontal portions 1094a and 1094c of the first data line 1020a and the third data line 1020c are connected to the first data line 1020a and the third data line 1020c, respectively, And may protrude toward the second data line 1020b. In addition, the horizontal portions 1094a and 1094c of the first data line 1020a and the third data line 1020c may be provided for each unit pixel portion. Accordingly, the horizontal portions 1094a and 1094c of the first data line 1020a and the third data line 1020c may be sequentially arranged along the data line with a pitch between the three semiconductor light emitting devices . In this case, the horizontal portion 1094a of the first data line 1020a and the horizontal portion 1094c of the third data line 1020c may be arranged to be offset from each other along the data line.

한편, 상기 제2데이터 라인(1020b)에 구비되는 수평부(1094b)의 양단에는 각각 상기 스캔 라인과 수직한 방향으로 연장되는 수직부들(1095a,1095b)이 배치될 수 있다. 이러한 구조를 통하여, 상기 제2데이터 라인(1020b)은 상기 수평부(1094b)와 수직한 방향을 따라 요철이 연속적으로 형성되는 형상으로 이루어질 수 있다. 이 경우에, 상기 제1데이터 라인(1020a) 및 상기 제3데이터 라인(1020c)의 수평부(1094a, 1094c)는 상기 제2데이터 라인(1020b)의 수평부(1094b)를 기준으로 대칭되도록 형성될 수 있다.Vertical portions 1095a and 1095b extending in a direction perpendicular to the scan lines may be disposed at both ends of the horizontal portion 1094b of the second data line 1020b. Through this structure, the second data line 1020b may have a shape in which irregularities are continuously formed along a direction perpendicular to the horizontal portion 1094b. In this case, the horizontal portions 1094a and 1094c of the first data line 1020a and the third data line 1020c are formed to be symmetrical with respect to the horizontal portion 1094b of the second data line 1020b .

이와 같이, 데이터 라인들이 단위화소부내의 각 서브화소에서 면적이 보다 증대되도록 이루어짐에 따라, 단위화소부내에 3열의 데이터 라인들이 배치되어도 고정세가 가능하게 된다.In this manner, since the data lines are formed so that the area of each sub-pixel in the unit pixel portion is increased, a fixed count can be made even if three rows of data lines are arranged in the unit pixel portion.

이상에서는, 디스플레이 장치가 청색(B) 광을 발광하는 청색 반도체 발광 소자를 포함하는 경우에 대하여 살펴보았으나, 본 발명은 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 청색, 적색, 녹색을 구현하기 위한 다른 구조가 적용될 수 있다. Although the display device includes a blue light emitting diode that emits blue light, the present invention is not limited thereto, and other structures for implementing blue, red, and green may be used. Can be applied.

도 13a 내지 도 13c는 새로운 구조의 연결 배선구조와 관련하여 컬러를 구현하는 여러가지 형태를 나타내는 개념도들이다.13A to 13C are conceptual diagrams showing various forms of implementing colors in connection with a connection wiring structure of a new structure.

도 13a를 참조하면, 적색 출력부(1091), 녹색 출력부(1092) 및 청색 출력부(1093)는 질화 갈륨(GaN)을 주로 하여, 인듐(In) 및/또는 알루미늄(Al)이 함께 첨가되어 청색을 비롯한 다양한 빛을 발광하는 고출력의 발광 소자로 구현될 수 있다.13A, the red output portion 1091, the green output portion 1092, and the blue output portion 1093 are made of gallium nitride (GaN), and indium (In) and / or aluminum And can be realized as a high output light emitting device that emits various light including blue light.

이 경우, 적색 출력부(1091), 녹색 출력부(1092) 및 청색 출력부(1093)는 각각 적색, 녹색 및 청색 반도체 발광 소자의 구조가 될 수 있다. 예컨대, 적색, 녹색 및 청색 반도체 발광 소자(R, G, B)에서 제2도전형 반도체와 제2도전형 전극이 공유되며, 이를 통하여 하나의 반도체 발광소자에서 적색(Red), 녹색(Green) 및 청색(Blue)의 서브 화소들이 하나의 단위화소부(1090)를 형성하게 된다. In this case, the red output portion 1091, the green output portion 1092, and the blue output portion 1093 may have a structure of red, green, and blue semiconductor light emitting elements, respectively. For example, in the red, green, and blue semiconductor light emitting devices R, G, and B, the second conductivity type semiconductor and the second conductivity type electrode are shared, And blue sub-pixels form one unit pixel portion 1090. [0064] FIG.

이와 같이, 적색 출력부(1091), 녹색 출력부(1092) 및 청색 출력부(1093)가 독자적으로 R, G, B를 구현하는 경우에는 별도의 형광체층이 구비되지 않을 수 있다. If the red output unit 1091, the green output unit 1092, and the blue output unit 1093 independently implement R, G, and B, an additional phosphor layer may not be provided.

한편, 이러한 경우에도, 대비비(Contrast) 향상 및 외광 반사를 위하여, 디스플레이 장치는 적색 출력부(1091), 녹색 출력부(1092) 및 청색 출력부(1093)로 구성되는 복수의 열들 사이에 배치되는 블랙 매트릭스를 더 포함할 수 있다.Also in this case, in order to improve the contrast and to reflect the external light, the display device is arranged between a plurality of columns composed of a red output portion 1091, a green output portion 1092 and a blue output portion 1093 Gt; a < / RTI > black matrix.

또 다른 예로서, 도 13b를 참조하면, 반도체 발광 소자는 황색 형광체층이 구비된 백색 출력부(W)들을 구비할 수 있다. 이 경우에는 백색 출력부(W)는 백색광을 출력하는 구조이며, 백색 출력부(W)의 상면에는 인광물질(Phosphor)층이 형성될 수 있다. 또한, 단위 화소를 이루기 위하여, 백색 출력부(W) 상에 적색 형광체층(1081), 녹색 형광체층(1082), 및 청색 형광체층(1083)이 구비될 수 있다. As another example, referring to FIG. 13B, the semiconductor light emitting device may include white output units W having a yellow phosphor layer. In this case, the white output unit W outputs a white light, and a phosphor layer may be formed on the upper surface of the white output unit W. FIG. Further, a red phosphor layer 1081, a green phosphor layer 1082, and a blue phosphor layer 1083 may be provided on the white output portion W to form a unit pixel.

또한, 이러한 백색 출력부(W) 상에 적색, 녹색, 및 청색이 반복되는 컬러 필터를 이용하여 단위 화소를 이룰 수 있다. 이와 같은 구조에서도, 앞서 살펴본 것과 마찬가지로, 백색 출력부(W)들 각각은 복수의 제1도전형 전극, 제1도전형 반도체층들을 구비하고, 단일의 제2도전형 반도체층 상에 형성될 수 있다. In addition, a unit pixel can be formed by using a color filter in which red, green, and blue are repeated on the white output section W. Also in this structure, as described above, each of the white output sections W includes a plurality of first conductive type electrodes and first conductive type semiconductor layers, and may be formed on a single second conductive type semiconductor layer have.

한편, 이러한 경우에도, 대비비(Contrast) 향상 및 외광 반사를 위하여, 디스플레이부는 형광체들로 구성되는 복수의 열들 사이에 배치되는 블랙 매트릭스(1091)를 더 포함할 수 있다. 이러한 블랙 매트릭스(BM)는 적색 형광체층(1081), 녹색 형광체층(1082), 및 청색 형광체층(1083)들 사이에 배치될 수 있다.In this case, the display unit may further include a black matrix 1091 disposed between the plurality of rows of phosphors for improving the contrast and reflecting the external light. This black matrix (BM) may be disposed between the red phosphor layer 1081, the green phosphor layer 1082, and the blue phosphor layer 1083.

또 다른 예로서, 도 13c를 참조하면, 자외선을 출력하는 자외선 출력부(UV) 상에 적색 형광체층(1081), 녹색 형광체층(1082), 및 청색 형광체층(1083)이 구비되는 구조도 가능하다. 이와 같이, 반도체 발광 소자는 가시광선뿐만 아니라 자외선(UV)까지 전 영역에 사용가능하며, 자외선(UV)이 상부 형광체의 여기원(excitation source)으로 사용가능한 반도체 발광 소자의 형태로 확장될 수 있다.13C, a red phosphor layer 1081, a green phosphor layer 1082, and a blue phosphor layer 1083 may be provided on an ultraviolet ray output portion UV for outputting ultraviolet rays Do. As described above, the semiconductor light emitting device can be used not only for visible light but also for ultraviolet (UV), and can be extended to a form of a semiconductor light emitting device in which ultraviolet (UV) can be used as an excitation source of the upper phosphor .

한편, 이러한 경우에도, 대비비(Contrast) 향상 및 외광 반사를 위하여, 디스플레이 장치는 형광체들로 구성되는 복수의 열들 사이에 배치되는 블랙 매트릭스(BM)를 더 포함할 수 있다. 이러한 블랙 매트릭스(BM)는 적색 형광체층(1081), 녹색 형광체층(1082), 및 청색 형광체층(1083)들 사이에 배치될 수 있다.In this case, the display device may further include a black matrix (BM) disposed between a plurality of rows of phosphors for improving contrast and reflecting external light. This black matrix (BM) may be disposed between the red phosphor layer 1081, the green phosphor layer 1082, and the blue phosphor layer 1083.

이상에서 설명한 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치는 위에서 설명된 실시예들의 구성과 방법에 한정되는 것이 아니라, 상기 실시예들은 다양한 변형이 이루어질 수 있도록 각 실시예들의 전부 또는 일부가 선택적으로 조합되어 구성될 수도 있다.The above-described display device using the semiconductor light emitting device is not limited to the configuration and the method of the embodiments described above, but all or a part of the embodiments may be selectively combined so that various modifications may be made to the embodiments It is possible.

Claims (12)

스캔 구동 신호를 전달하도록 이루어지며, 서로 평행하게 배치되는 복수의 스캔 라인들;
데이터 구동 신호를 전달하도록 상기 복수의 스캔 라인들과 교차하게 배치되는 복수의 데이터 라인들; 및
적색, 녹색 및 청색의 빛들을 각각 출력하는 적색 출력부, 녹색 출력부 및 청색 출력부를 구비하는 단위화소부를 포함하고,
상기 복수의 스캔 라인들 및 복수의 데이터 라인들은 상기 단위화소부에서 각각 3열씩 배치되며, 상기 단위화소부에 배치되는 3열의 스캔 라인은 상기 스캔 구동 신호가 동시에 가해지도록 서로 연결되며,
상기 단위화소부에는 n형 전극, n형 반도체층, 활성층, p형 반도체층 및 p형 전극을 구비하는 반도체 발광소자들이 배치되며,
상기 반도체 발광소자들의 p형 전극은 상기 데이터 라인들에 중첩되는 위치에서 연결되고, 상기 반도체 발광소자들의 n형 전극은 상기 스캔 라인들에 연결되며,
상기 단위화소부에 배치되는 3열의 데이터 라인 중 적어도 2열은 각각 상기 스캔 라인과 평행하며 서로 반대방향으로 돌출되는 수평부를 구비하며,
상기 3열의 데이터 라인은 순차적으로 배치되는 제1데이터 라인, 제2데이터 라인 및 제3데이터 라인을 구비하고,
상기 제1데이터 라인 및 상기 제3데이터 라인의 수평부들은 각각 상기 제1데이터 라인 및 상기 제3데이터 라인 상에서 상기 제2데이터 라인을 향하여 돌출되며,
상기 제2데이터 라인은 상기 수평부와 수직한 방향을 따라 요철이 연속적으로 배치되는 형상으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.
A plurality of scan lines arranged to transmit a scan driving signal and arranged in parallel with each other;
A plurality of data lines arranged to cross the plurality of scan lines to transmit a data drive signal; And
And a unit pixel section having a red output section, a green output section and a blue output section for outputting red, green and blue lights, respectively,
The plurality of scan lines and the plurality of data lines are arranged in three rows in each unit pixel portion. The three rows of scan lines arranged in the unit pixel portion are connected to each other so that the scan driving signals are simultaneously applied.
In the unit pixel portion, semiconductor light emitting devices including an n-type electrode, an n-type semiconductor layer, an active layer, a p-type semiconductor layer, and a p-
The p-type electrode of the semiconductor light emitting devices is connected at a position overlapping the data lines, the n-type electrode of the semiconductor light emitting devices is connected to the scan lines,
Wherein at least two rows of the three data lines arranged in the unit pixel portion each have a horizontal portion which is parallel to the scan line and protrudes in opposite directions to each other,
The three data lines may include a first data line, a second data line, and a third data line sequentially arranged,
Wherein the horizontal portions of the first data line and the third data line protrude toward the second data line on the first data line and the third data line, respectively,
Wherein the second data line has a shape in which irregularities are continuously arranged along a direction perpendicular to the horizontal portion.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 반도체 발광소자들의 p형 전극은 상기 수평부에 배치되는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.
The method according to claim 1,
And the p-type electrode of the semiconductor light emitting devices is disposed in the horizontal portion.
삭제delete 제3항에 있어서,
상기 3열의 데이터 라인은 순차적으로 배치되는 제1데이터 라인, 제2데이터 라인 및 제3데이터 라인을 구비하고,
상기 제2데이터 라인에 구비되는 수평부의 양단에는 각각 상기 스캔 라인과 수직한 방향으로 연장되는 수직부들이 배치되는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.
The method of claim 3,
The three data lines may include a first data line, a second data line, and a third data line sequentially arranged,
And vertical portions extending in a direction perpendicular to the scan lines are disposed at both ends of a horizontal portion of the second data line.
제3항에 있어서,
상기 3열의 데이터 라인은 순차적으로 배치되는 제1데이터 라인, 제2데이터 라인 및 제3데이터 라인을 구비하고,
상기 제1데이터 라인 및 제3데이터 라인의 수평부는 상기 제2데이터 라인의 수평부를 기준으로 대칭되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.
The method of claim 3,
The three data lines may include a first data line, a second data line, and a third data line sequentially arranged,
Wherein the horizontal portions of the first data line and the third data line are formed to be symmetrical with respect to the horizontal portion of the second data line.
제1항에 있어서,
상기 3열의 스캔 라인은 순차적으로 배치되는 제1스캔 라인, 제2스캔 라인 및 제3스캔 라인을 구비하고,
상기 단위화소부에는 상기 제1스캔 라인, 제2스캔 라인 및 제3스캔 라인에 각각 연결되어 상기 스캔 구동 신호가 동시에 가해지는 제1반도체 발광소자, 제2반도체 발광소자 및 제3반도체 발광소자가 배치되는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.
The method according to claim 1,
The three rows of scan lines may include a first scan line, a second scan line, and a third scan line sequentially arranged,
A first semiconductor light emitting element, a second semiconductor light emitting element, and a third semiconductor light emitting element connected to the first scan line, the second scan line, and the third scan line, respectively, And wherein the display device is disposed on the display device.
제7항에 있어서,
상기 제1반도체 발광소자, 제2반도체 발광소자 및 제3반도체 발광소자는 각각 상기 제1데이터 라인, 제2데이터 라인 및 제3데이터 라인에 연결되는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.
8. The method of claim 7,
Wherein the first semiconductor light emitting device, the second semiconductor light emitting device, and the third semiconductor light emitting device are connected to the first data line, the second data line and the third data line, respectively.
제7항에 있어서,
상기 3열의 스캔 라인을 따라 복수의 단위화소부가 순차적으로 형성되도록,
상기 제1스캔 라인, 제2스캔 라인 및 제3스캔 라인에는 각각 적색 출력부, 녹색 출력부 및 청색 출력부가 반복하여 배치되는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.
8. The method of claim 7,
A plurality of unit pixel portions are sequentially formed along the three rows of scan lines,
And a red output unit, a green output unit, and a blue output unit are repeatedly disposed in the first scan line, the second scan line, and the third scan line, respectively.
제1항에 있어서,
상기 적색 출력부 및 녹색 출력부는 각각,
상기 반도체 발광소자에서 발광되는 빛을 다른 색상으로 변환시키는 형광체층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.
The method according to claim 1,
The red output section and the green output section respectively output,
And a phosphor layer for converting light emitted from the semiconductor light emitting device into another color.
제10항에 있어서,
상기 형광체층은 상기 스캔 라인을 따라서 연장되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.
11. The method of claim 10,
And the phosphor layer is formed to extend along the scan line.
제1항에 있어서,
상기 적색 출력부, 녹색 출력부 및 청색 출력부는 각각, 적색 반도체 발광소자, 녹색 반도체 발광소자 및 청색 반도체 발광소자를 구비하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the red output unit, the green output unit, and the blue output unit each include a red semiconductor light emitting device, a green semiconductor light emitting device, and a blue semiconductor light emitting device.
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