KR101740088B1 - 안티몬 주석 산화물（ａｔｏ）나노입자의 제조방법 - Google Patents

안티몬 주석 산화물（ａｔｏ）나노입자의 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 안티몬 주석 산화물(ATO) 나노입자의 제조방법에 관한 것으로, 수열합성반응을 사용하여 열처리 또는 분쇄공정 없이 결정성과 분산성이 우수한 나노 스케일의 ATO 입자를 제조함으로써 투명 전도성 박막 소재로 사용할 수 있다.

Description

안티몬 주석 산화물（ＡＴＯ）나노입자의 제조방법{Method for preparing antimony tin oxide nanoparticles}
본 발명은 안티몬 주석 산화물 나노입자의 제조방법, 상기 안티몬 주석 산화물 나노입자를 포함하는 분산액 및 이의 제조방법, 및 상기 분산액의 용도에 관한 것이다.
현재까지 플렉서블 투명 전도성 박막을 형성하기 위하여 주로 ITO(Indium doped tin oxide) 스퍼터링하는 방법과 ITO 입자, 금속나노입자 및 전도성 고분자 입자와 같은 전도성 필러를 매트릭스에 분산시켜 박막화하는 방법을 주로 연구하여 왔다. 그러나, ITO를 스퍼터링한 박막은 전도도 및 투명도는 우수하지만, 반복적인 기계적 자극에 의해 크랙이 발생하여 저항이 급격히 높아지는 단점이 있으며, 특히 ITO 전극 필름을 한번만 접어도, 접힌 면에 크랙이 발생하여 저항이 급격히 증가한다. 또한, 인듐이 고갈되는 문제점도 있으며, 향후 플렉서블 대면적 소자에 적용하여야 하는 연속공정(roll-to-roll) 방식에 의한 패턴 형성에 어려움이 있다. ITO 나노입자 또는 금속나노입자 등과 같은 전도성 입자를 분산시키는 방법은 입자의 특성에 다라 여러 단점이 있다. 특히 투명성을 보존하기 위해 100 nm 이하의 입자로 제조되어야 하며, 분산 특성도 뛰어나야 한다. 하지만, 입자의 결정성의 확보를 위해서는 열처리 등의 공정을 거쳐야 하므로 실질적으로 열처리 후 분산액을 형성하는 것에는 많은 어려움이 따른다. 이것을 해결하기 위해 정밀한 분쇄공정 및 메탈 킬레이트제를 사용하여 분산하는 방법이 있다. 하지만 분쇄하는 과정에서 불순물이 유입되기 쉽고, 생산성도 떨어진다. 특히 메탈 킬레이트제의 사용에 의해 저항이 증가하는 경우가 야기되므로 이것의 사용이 매우 제한적이다.
그러므로 이제까지의 연구에서 보인 가격, 투명성, 공정성 및 유연성 등을 개선하기 위해 ATO(antimony doped tin oxide) 나노분산액을 개발하고 이것을 플렉서블 투명 전도성 박막소재에 적용하고자 한다.
대한민국 등록특허 제10-1089566호 (2011.11.29) 대한민국 등록특허 제10-0348702호 (2002.07.31)
D.E. Dyshel et al., Powder Metallurgy and Metal Ceramics, vol.34(3,4), pp.219-220 (1995)
본 발명의 목적은 안티몬 주석 산화물(ATO) 나노입자를 제조하는 방법, 상기 안티몬 주석 산화물 나노입자를 포함하는 분산액 및 이의 제조방법, 및 상기 분산액의 용도를 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 주석 화합물 및 안티몬 화합물을 제 1 유기용매 내에서 반응시켜 안티몬 주석 산화물 전구체를 제조하는 단계; 및 물에 분산된 상기 안티몬 주석 산화물 전구체를 수열합성반응시키는 단계를 포함하는 하기 화학식 1로 표시되는 안티몬 주석 산화물 나노입자를 제조하는 방법을 제공한다:
[화학식 1]
SbxSn(1-x)O2
상기 화학식 1에서 x는 0.02 내지 0.3의 범위 내의 수이다.
본 발명은 또한 주석 화합물 및 안티몬 화합물을 제 1 유기용매 내에서 반응시켜 안티몬 주석 산화물 전구체를 제조하는 단계; 및 물에 분산된 상기 안티몬 주석 산화물 전구체를 수열합성반응시키는 단계를 포함하는 하기 화학식 1로 표시되는 안티몬 주석 산화물 나노입자를 포함하는 분산액을 제조하는 방법을 제공한다:
[화학식 1]
SbxSn(1-x)O2
상기 화학식 1에서 x는 0.02 내지 0.3의 범위 내의 수이다.
본 발명은 또한 본 발명의 방법으로 제조되고, 평균 직경이 1 nm 내지 20 nm인 상기 화학식 1의 안티몬 주석 산화물 나노입자를 0.1 내지 50 중량부로 포함하는 분산액을 제공한다.
본 발명은 또한 상기 분산액을 사용하여 제조된 전도성 막을 제공한다.
본 발명은 또한 상기 전도성 막을 포함하는 전자 소자를 제공한다.
본 발명은 열처리 또는 분쇄공정 없이 20 nm 이하의 크기에 우수한 분산성을 가지며, 예를 들면, 플렉서블 투명 전도성 박막소재로 사용될 수 있는 안티몬 주석 산화물(ATO) 나노입자를 제공할 수 있다.
또한, 상기 안티몬 주석 산화물 나노입자는 투명성, 인쇄성, 가격성 및 유연성 측면에서 우수한 물성을 갖는 전도성 막 소재로 사용할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 구현예에 따른 안티몬 주석 산화물(ATO) 나노입자의 TEM 사진도이다.
도 2는 본 발명의 일 구현예에 따른 안티몬 주석 산화물(ATO) 나노입자의 X-선 회절(XRD) 패턴을 나타낸 것이다.
도 3은 비교예 1에 따른 주석 산화물(SnO2)의 X-선 회절(XRD) 패턴을 나타낸 것이다.
이하, 본 발명의 구성을 구체적으로 설명한다.
본 발명은 주석 화합물 및 안티몬 화합물을 제 1 유기용매 내에서 반응시켜 안티몬 주석 산화물 전구체를 제조하는 단계; 및 물에 분산된 상기 안티몬 주석 산화물 전구체를 수열합성반응시키는 단계를 포함하는 하기 화학식 1로 표시되는 안티몬 주석 산화물 나노입자를 제조하는 방법에 관한 것이다:
[화학식 1]
SbxSn(1-x)O2
상기 화학식 1에서 x는 0.02 내지 0.3의 범위 내의 수이다.
본 발명은 열처리 또는 별도의 분쇄공정 없이 결정성이 높은 나노 스케일의 안티몬 주석 산화물(ATO) 입자를 제조하는 것을 특징으로 한다. 즉, 비싼 인듐 주석 산화물(ITO)의 주원료로 사용되는 인듐을 사용하는 것 대신 안티몬을 산화주석에 도핑하였으며, 열처리공정 없이도 결정성과 분산성이 우수한 ATO 나노입자를 제조하였다.
본 발명에 따른 ATO 입자는 두 단계의 반응을 거쳐 제조될 수 있다. ATO 전구체를 제조하는 것으로, 주석 화합물 및 안티몬 화합물을 제 1 유기용매 내에서 침전 반응시켜 ATO 전구체를 제조하는 과정이다.
일반적으로 안티몬 주석 산화물을 제조하는 데 사용하는 침전법에는 용매로서 증류수가 사용된다. 그러나, 증류수는 침전 반응 과정에서 결정되는 입자 표면에 수소 결합을 형성시키면서 입자간 결합을 유도하게 되고, 결국 결정화가 진행됨에 따라 강한 응집체가 형성되므로 추후 입자의 분산성에 좋지 않은 결과를 야기한다.
따라서, 본 발명은 증류수 대신 유기용매를 사용함으로써 입자 생성 시 표면에 카본기를 형성시켜 그것이 입자간 응집을 막는 분산제 역할을 하며, 핵생성 후 성장과정의 속도를 늦추어 최종적으로 상기 지적된 문제점을 해결하였다. 또한, 용매는 각각 고유한 유전상수 값을 가지며, 용매의 유전상수는 분말 합성 시 핵 생성 및 결정 성장에 있어 표면에너지나 표면전하 등을 변화시켜 핵의 응집 및 성장에 영향을 주고 이는 분말의 크기 및 형상 등에 영향을 주게 된다.
상기 제 1 유기용매로서 특별히 제한하지는 않으나, 유전 상수가 10 내지 50이고, 끓는 점이 50 내지 300℃인 것을 사용할 수 있다. 예를 들어, 제 1 유기용매는 글리콜계 또는 알코올계 용매일 수 있다. 상기 글리콜계는 탄소수 1 내지 20, 더 구체적으로 탄소수 1 내지 16, 보다 구체적으로 탄소수 1 내지 12, 가장 구체적으로 탄소수 1 내지 8의 글리콜계 용매일 수 있다. 예컨대, 에틸렌 글리콜, 1,4-부탄디올, 디에틸렌 글리콜 등을 사용할 수 있으나, 이에 특별히 제한하는 것은 아니다. 상기 알코올계는 탄소수 1 내지 20, 더 구체적으로 탄소수 1 내지 16, 보다 구체적으로 탄소수 1 내지 12, 가장 구체적으로 탄소수 1 내지 8의 1가 알코올일 수 있다. 예컨대, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올 등일 수 있으나, 이에 특별히 제한하는 것은 아니다.
상기 주석 화합물은 주석염일 수 있고, 예컨대, 염화주석, 황산주석, 아세테이트주석, 또는 브롬화주석 등을 사용할 수 있다. 상기 주석염을 유기용매에 직접 용해시켜 전구체 용액을 제조할 수 있다.
상기 주석염은 유기용매 1L 당 0.05 mol 내지 2.0 mol, 더 구체적으로 0.05 mol 내지 1.8 mol, 0.05 mol 내지 1.6 mol, 0.05 mol 내지 1.4 mol, 0.05 mol 내지 1.2 mol, 0.05 mol 내지 1 mol의 농도로 포함되는 것이 좋다. 상기 농도가 0.05 mol/L 미만인 경우, 형태학적으로 제조된 입자의 균일도 측면에서 유리한 점이 있으나, 침전되는 입자의 양이 적어 생산성 측면에서는 불리하다. 상기 농도가 2.0 mol/L를 초과하는 경우, 용액의 pH를 조절하기가 쉽지 않아 많은 양의 침전제가 추가적으로 필요하게 되며, 조절이 된다 하더라도 반응 중 용해도가 증가하여 잉여되는 염이 발생하게 되어 입자의 결정성장 내지는 균일도 측면에서 분리한 문제가 발생하게 된다.
상기 안티몬 화합물은 안티몬염일 수 있고, 예컨대, 염화안티몬, 불화안티몬, 요오드화안티몬, 또는 안티몬아세테이트 등을 사용할 수 있다. 상기 안티몬염을 유기용매에 직접 용해시켜 전구체 용액을 제조할 수 있다.
상기 안티몬염은 화학식 1에 따라 화학양론을 고려하여 함량을 정할 수 있다.
상기 ATO 전구체를 제조할 때는 용매와 염들 간의 용해도를 고려하여 강한 혼합 시스템, 초음파 시스템 또는 볼 밀링 등을 이용할 수 있다.
상기 주석염과 안티몬염 간의 농도에 의해 입자를 구성하는 원자간 비율을 조절할 수 있다.
[화학식 1]
SbxSn(1-x)O2
상기 화학식 1에서 x는 0.02 내지 0.3의 범위 내의 수이다.
상기 x가 0.02 미만인 경우, 안티몬 원자가 부족하게 되어 에너지 밴드 갭에 미미한 영향을 미쳐 전극물질로서 역할을 할 수 없게 되며, 안티몬이 과량으로 첨가되어 x가 0.3을 초과하는 경우 전기저항이 증가하여 전기전도도가 감소하게 된다.
상기 ATO 전구체는 주석 전구체 용액과 안티몬 전구체 용액을 혼합하고, 침전제를 부가하여 용액 내 pH를 3 내지 9로 조절하고, 반응온도를 30℃ 내지 250℃로 하여 2시간 내지 24시간 동안 침전 반응시켜 침전물 형태로 얻을 수 있다.
상기 pH를 조절하기 위한 침전제로는 수산화기를 포함하는 화합물이라면 특별히 제한하지는 않으나, 예컨대, 수산화암모늄, 수산화칼륨, 또는 수산화나트륨 중 1종이 사용되며, 상기 침전제를 이용하여 반응 용액의 pH를 3.0 내지 9.0으로 조절할 수 있다. 상기 pH가 3.0 미만인 경우, 적은 양의 침전물이 생성되어 생산성 측면에서 불리하며, pH가 9.0을 초과하면 반응 용액의 용해도가 낮아져 불균일한 결정 입자를 생성시킬 수 있다.
상기 침전 반응 온도는 30℃ 이상, 더 구체적으로, 30 내지 250℃, 30 내지 140℃, 30 내지 120℃, 30 내지 100℃, 30 내지 80℃, 40 내지 80℃, 50 내지 80℃로 제 1 유기용매의 끓는 점 이하인 것이 좋다. 예컨대, 제 1 유기용매로 알코올계 용매를 사용할 경우 끓는 점을 고려하여 90℃ 이하에서 반응을 진행하되 필요한 경우 응축기를 이용할 수 있다.
또한, 침전 반응 시간은 2시간 내지 24시간, 더 구체적으로 4시간 내지 9시간, 3시간 내지 8시간, 3시간 내지 7시간, 3시간 내지 6시간 동안 진행할 수 있다. 반응 시간은 침전물의 수율과 관련이 있어 2시간 미만인 경우, 반응이 완전히 진행되지 않으므로 생산성이 좋지 않고, 입자가 균일하지 않을 수 있다. 또한, 24시간을 초과하는 경우 공정효율 면에서 불리하다.
한편, 상기 단계에서 형성된 침전물은 유기용매를 이용하여 제조된 것이므로 제조된 입자 표면 및 내부에 존재하고 있는 유기물 및 불순물들을 제거하는 세척 단계를 추가로 실시할 수 있다.
상기 세척은 유기용매 하에서 디칸터(decanter) 또는 원심분리 공정 중 1종을 선택하여 세척할 수 있다.
상기 세척 단계에 사용되는 세척 용액으로는 알코올 또는 케톤 등을 이용할 수 있고, 예컨대 아세톤과 에탄올을 사용할 수 있다. 만약 세척 단계에서 이들을 사용하지 않고 증류수를 사용하게 되면, 그것에 의한 수화반응이 진행되고, 입자간 수소결합이 형성되어 급격한 응집이 발생할 수 있다.
본 발명에 따른 제2단계는 상기 단계에서 제조된 침전물, 즉 ATO 전구체의 결정성장을 최대화하여 나노 크기의 ATO 입자를 제조하는 과정이다.
이를 위해, 상기 단계 1에서 제조된 노란색의 전구체를 물 100 중량부에 대하여 3 내지 20 중량부, 보다 구체적으로, 5 내지 15 중량부, 가장 구체적으로, 7 내지 10 중량부로 분산시킨다. 상기 범위가 3 중량부 미만인 경우 공정상 효율이 떨어질 수 있고, 상기 범위가 20 중량부를 초과하는 경우, 입자간 응집이 일어날 수 있다.
상기 분산을 위해 분산제를 추가로 사용할 수 있다. 상기 분산제의 예로, 탄소수 1 내지 8의 글리콜, 탄소수 1 내지 8의 알코올, 또는 탄소수 8 내지 20의 알칸 등을 사용할 수 있다. 예컨대, 에틸렌 글리콜, 1,4-부탄디올, 디에틸렌 글리콜, 또는 테트라데칸 등을 사용할 수 있으나, 이에 특별히 제한하는 것은 아니다.
상기 분산제는 물 100 중량부에 대하여 5 내지 50 중량부, 보다 구체적으로, 10 내지 30 중량부, 가장 구체적으로, 15 내지 20 중량부로 로 포함될 수 있다. 상기 범위가 5 중량부 미만인 경우, 분산의 효과가 적을 수 있고, 상기 범위가 50 중량부를 초과하는 경우, 부반응물이 생길 수 있고 오히려 분산성이 떨어질 수 있다.
상기 물에 분산된 ATO 전구체에 강산을 첨가하여 해교 시키고, pH를 1 이하로 낮춘다. 상기 강산은 황산, 질산, 염산, 아세트산 등을 사용할 수 있다.
상기 물에 분산된 ATO 전구체의 수열합성반응은 오토클레이브에서 교반하면서 150℃ 내지 240℃의 온도, 바람직하게는 180℃ 내지 200℃에서 1시간 내지 24시간 동안 진행하여 입자의 결정성장을 유도할 수 있다.
상기 반응 시간은 1시간 내지 24시간, 바람직하게는 15시간 내지 20시간 동안 수행하는데, 1시간 미만인 경우, 반응이 완전히 진행되지 않으므로 원하는 결정상을 얻을 수 없고, 24시간을 초과하면 공정효율 측면에서 불리할 수 있다.
상기 단계를 거쳐 제조된 화학식 1의 ATO 입자는 원심분리를 이용하여 침전시킬 수 있다. 침전된 입자는 푸른색을 띠며, 직경 크기는 1 내지 20 nm 일 수 있다. 상기 화학식 1로 표시되는 ATO 입자는 XRD 분석에서 (110) 회절 피크, (101) 회절 피크, (200) 회절 피크 및 (211) 회절 피크 중에서 적어도 하나의 회절 피크를 나타낼 수 있다.
본 발명은 또한 주석 화합물 및 안티몬 화합물을 제 1 유기용매 내에서 반응시켜 안티몬 주석 산화물 전구체를 제조하는 단계; 및 물에 분산된 상기 안티몬 주석 산화물 전구체를 수열합성반응시키는 단계를 포함하는 하기 화학식 1로 표시되는 안티몬 주석 산화물 나노입자를 포함하는 분산액을 제조하는 방법에 관한 것이다:
[화학식 1]
SbxSn(1-x)O2
상기 화학식 1에서 x는 0.02 내지 0.3의 범위 내의 수이다.
본 발명은 열처리 공정 없이 결정성이 우수한 나노 스케일의 안티몬 주석 산화물(ATO) 나노입자가 안정적으로 분산되어 있는 분산액을 제조하는 방법을 제공하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 일 구체예에 따르면, 상기 ATO 입자는 열처리 또는 분쇄공정 없이 결정성이 우수하고, 분산성 역시 우수하였다.
본 발명에 따른 ATO 나노입자를 포함하는 분산액은 ATO 나노입자가 용매 상에 분산되어 있는 분산액으로서, 유기용매 하에서 ATO 전구체를 제조하고, 상기 전구체를 물에 분산시켜 결정성장을 위한 수열합성반응을 통해 ATO 나노입자를 제조함으로써 상기 ATO 나노입자가 분산되어 있는 분산액을 제조할 수 있다.
본 발명의 방법에 따라 제조된 상기 ATO 나노입자가 분산된 분산액은 정밀한 분쇄공정 또는 메탈 킬레이트제의 사용 없이도 분산성이 우수하였다. 또한, 상기 ATO 나노입자는 분산액 100 중량부에 대하여 0.1 내지 50 중량부로 포함될 수 있다.
따라서, 본 발명은 본 발명의 방법에 따라 제조되고, 평균 직경이 1 nm 내지 20 nm인 상기 화학식 1의 안티몬 주석 산화물 나노입자를 0.1 내지 50 중량부로 포함하는 분산액을 제공한다.
본 발명은 또한 본 발명에 따른 분산액을 사용하여 제조된 전도성 막에 관한 것이다.
본 발명에 따른 ATO 나노입자를 포함하는 분산액은 ATO 나노입자의 결정성과 분산성이 유수하여 투명성, 인쇄성, 가격성 및 유연성 측면에서 우수한 플렉서블 투명 전도성 박막 소재로 사용될 수 있다.
상기 ATO 나노입자를 포함하는 분산액은 광투과도가 우수하고, 전기전도도가 우수하여 대전방지막, 열반사막, 유기태양전지, 유기박막트랜지스터, 액정표시장치, 유기발광다이오드 등의 각종 평판 디스플레이의 투명 전극으로 사용될 수 있다.
상기 전도성 막은 담금법, 스핀코팅법, 스프레이법 등을 이용하여 ATO 입자를 포함하는 분산액을 기판 위에 코팅하여 형성할 수 있다.
본 발명은 또한 상기 전도성 막을 포함하는 전자 소자에 관한 것이다.
본 발명의 전자 소자는 ATO 나노입자를 포함하는 분산액을 사용하여 제조된 전도성 막을 이용한 것으로, ATO 나노입자를 포함하는 분산액을 기판 위에 코팅하고, 정공의 주입 및 수송을 돕기 위한 PEDOT:PSS를 스핀 코팅하여 열처리한 후 발광층으로 사용하고자 하는 고분자를 스핀코팅하여 열처리한 다음 불화바륨(BaF2)과 바륨(Ba), 알루미늄(Al)을 각각 진공 증착하여 고분자 발광 다이오드 형태로 제조할 수 있다.
이하, 본 발명을 실시예에 의해 상세히 설명한다. 단, 하기 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐, 본 발명의 내용이 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.
<실시예 1>
염화제이주석 5수화물(SnCl4·5H2O) 14.529g을 500 mL의 메탄올에 용해시킨 후 1000 mL-반응기에 투입하였다. 또한, 삼염화안티몬(SbCl3) 0.96g을 100 mL의 메탄올에 용해시키고 두 용액을 혼합하고, 임펠러로 교반하면서 암모니아수를 이용하여 pH를 5.2로 맞춘 후, 65℃에서 18시간 동안 반응시켰다. 반응 후 침전물을 원심분리하여 침전시켰다.
침전된 6g의 침전물을 60g의 증류수에 혼합하여 분산시킨 뒤, 10g의 에틸렌 글리콜을 첨가하였다. 또한 질산(HNO3)을 이용하여 상기 용액을 해교시킨 후 교반하였다. 상기 용액 100 mL을 오토클레이브에 투입한 후, 180℃의 온도에서 18시간 동안 반응시켜 푸른색의 안티몬이 첨가된 나노분산액을 제조하였다.
상기 제조된 나노분산액은 FETEM(JEM ARM200F, JEOL)을 사용하여 가속전압 200kV으로 배율 ×1,500,000과 Atomic resolution 0.17 nm의 조건으로 입자의 크기를 분석하였다.
분석 결과 도 1 및 2에 나타난 바와 같이, ATO 입자는 약 20 nm 정도의 균일한 크기로 제조되었으며, XRD 측정 결과 Sn0 .9Sb0 .1O2으로 분석되었다.
<비교예 1>
상기 나노분산액 제조 시 안티몬이 포함된 산화주석 전구체를 제조하는 단계에서 증류수를 사용하는 것 외에는 상기 실시예 1과 동일한 방법에 의해 나노분산액을 제조하였다.
상기 방법에 의해 응집이 심한 노란색 침전물이 제조되었으며, 도 3에 나타난 바와 같이, XRD 분석 결과 SnO2로 형성되었음을 알 수 있고, 추가의 열처리 공정이 필요함을 알 수 있었다.

Claims (25)

  1. 주석 화합물 및 안티몬 화합물을 pH 3 내지 9의 제 1 유기용매 내에서 반응시킨 후 원심분리하여 안티몬 주석 산화물 전구체를 수득하는 단계; 및
    분산제를 포함하는 물에 상기 안티몬 주석 산화물 전구체를 분산시켜 150℃ 내지 240℃의 온도에서 수열합성반응시키고, 원심분리하여 하기 화학식 1의 안티몬 주석 산화물 나노입자를 수득하는 단계를 포함하는 안티몬 주석 산화물 나노입자를 제조하는 방법:
    [화학식 1]
    SbxSn(1-x)O2
    상기 화학식 1에서 x는 0.02 내지 0.3의 범위 내의 수이다.
  2. 제1항에 있어서,
    주석 화합물은 주석염이고, 안티몬 화합물은 안티몬염인 방법.
  3. 제1항에 있어서,
    제1 유기용매는 유전 상수가 10 내지 50인 방법.
  4. 제1항에 있어서,
    제 1 유기용매는 글리콜계 또는 알코올계인 용매인 방법.
  5. 제4항에 있어서,
    제 1 유기용매는 탄소수 1 내지 8의 글리콜 또는 탄소수 1 내지 8의 1가 알코올인 방법.
  6. 제1항에 있어서,
    제 1 유기용매 내에서의 주석 화합물의 농도는 0.05 mol/L 내지 2.0 mol/L인 방법.
  7. 삭제
  8. 제1항에 있어서,
    pH는 수산화기를 포함하는 화합물에 의해 조절된 것인 방법.
  9. 제1항에 있어서,
    제 1 유기용매 내에서의 반응은 30℃ 내지 250℃에서 진행되는 방법.
  10. 제1항에 있어서,
    제 1 유기용매 내에서의 반응은 2시간 내지 24시간 동안 진행되는 방법.
  11. 삭제
  12. 제1항에 있어서,
    원심분리 시 알코올 및 케톤으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 첨가하여 수행하는 방법.
  13. 제1항에 있어서,
    물에 분산된 안티몬 주석 산화물 전구체의 비율은 물 100 중량부에 대하여 3 내지 20 중량부인 방법.
  14. 삭제
  15. 제1항에 있어서,
    분산제는 탄소수 1 내지 8의 글리콜, 탄소수 1 내지 8의 알코올 및 탄소수 8 내지 20의 알칸으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상인 방법.
  16. 제1항에 있어서,
    분산제는 물 100 중량부에 대하여 5 내지 50 중량부로 포함되는 방법.
  17. 제1항에 있어서,
    수열합성반응은 1 이하의 pH에서 진행하는 방법.
  18. 삭제
  19. 제1항에 있어서,
    수열합성반응은 1시간 내지 24시간 동안 진행하는 방법.
  20. 삭제
  21. 제1항에 있어서,
    안티몬 주석 산화물 나노입자의 평균 직경은 1 nm 내지 20 nm인 방법.
  22. 주석 화합물 및 안티몬 화합물을 pH 3 내지 9의 제 1 유기용매 내에서 반응시킨 후 원심분리하여 안티몬 주석 산화물 전구체를 수득하는 단계; 및
    분산제를 포함하는 물에 상기 안티몬 주석 산화물 전구체를 분산시켜 150℃ 내지 240℃의 온도에서 수열합성반응시키고, 원심분리하여 하기 화학식 1의 안티몬 주석 산화물 나노입자를 수득하는 단계를 포함하는 안티몬 주석 산화물 나노입자를 포함하는 분산액을 제조하는 방법:
    [화학식 1]
    SbxSn(1-x)O2
    상기 화학식 1에서 x는 0.02 내지 0.3의 범위 내의 수이다.
  23. 제22항의 방법으로 제조되고, 평균 직경이 1 nm 내지 20 nm인 하기 화학식 1의 안티몬 주석 산화물 나노입자를 0.1 내지 50 중량부로 포함하는 분산액:
    [화학식 1]
    SbxSn(1-x)O2
    상기 화학식 1에서 x는 0.02 내지 0.3의 범위 내의 수이다.
  24. 제23항의 분산액을 사용하여 제조된 전도성 막.
  25. 제24항의 전도성 막을 포함하는 전자 소자.
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