KR101729728B1 - Recirculation Cooling Unit and Heat Treatment Apparatus Having the Same - Google Patents
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Abstract
본 발명은 일측이 공정 챔버의 제 1 배관에 연결되며 타측이 상기 공정 챔버의 제 2 배관에 연결되어 상기 공정 챔버의 공정 가스를 흡입하여 냉각한 후에 상기 공정 챔버로 재공급하며, 상기 공정 가스의 공급 방향을 상기 제 1 배관으로부터 흡입하여 제 2 배관으로 공급하는 제 1 방향과 제 2 배관으로부터 흡입하여 제 1 배관으로 공급하는 제 2 방향으로 교대로 전환하는 순환 냉각 유닛 및 이를 포함하는 열처리 장치를 개시한다..The present invention relates to a process chamber comprising a process chamber and a process chamber, wherein one side is connected to a first pipe of the process chamber and the other side is connected to a second pipe of the process chamber to suck and cool the process gas in the process chamber, A circulation cooling unit for alternately switching between a first direction in which the supply direction is sucked from the first pipe and supplied to the second pipe and a second direction in which the second direction is sucked from the second pipe and supplied to the first pipe, Start.
Description
본 발명은 기판의 열처리 과정에서 사용된 공정 챔버의 공정 가스를 냉각하여 재공급하며 공급 방향을 교대로 전환하는 순환 냉각 유닛 및 이를 구비하는 열처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a circulation cooling unit for alternately switching a supply direction by cooling and re-supplying a process gas of a process chamber used in a heat treatment process of a substrate, and a heat treatment apparatus having the same.
일반적으로, LCD 또는 OLED와 같은 평판표시장치용 또는 태양 전지용 유리 기판의 열처리 또는 유리 기판의 표면에 형성된 비정질 실리콘 박막의 결정화에 사용되는 열처리 장치로 배치(batch) 타입의 열처리 장치와 인라인 타입의 열처리 장치가 있다. 상기 배치 타입 열처리 장치는 밀폐된 상태에서 유리 기판의 열처리가 진행되므로 유리 기판의 열처리 특성이 향상되는 면이 있다. In general, a heat treatment apparatus used for a flat panel display such as an LCD or an OLED, or a glass substrate for a solar cell or a crystallization of an amorphous silicon thin film formed on the surface of a glass substrate, includes a batch type heat treatment apparatus and an inline type heat treatment apparatus There is a device. In the batch type heat treatment apparatus, since the heat treatment of the glass substrate proceeds in a sealed state, the heat treatment characteristics of the glass substrate are improved.
상기 배치 타입 열처리 장치는 공정 챔버의 내부에 다수 개의 유리 기판을 매엽식으로 적층한 상태에서 열처리 공정을 진행한다. 상기 배치 타입 열처리 장치는 열처리 과정이 종료되면 유리 기판을 유출하기 위하여 내부에 질소 가스와 같은 공정 가스를 공급하여 내부를 냉각시킨다. 상기 배치 타입 열처리 장치는 반도체 웨이퍼의 열처리에도 사용된다. The batch type heat treatment apparatus performs a heat treatment process in a state where a plurality of glass substrates are stacked in a single wafer process in the process chamber. When the heat treatment process is completed, the batch type heat treatment apparatus supplies a process gas such as nitrogen gas to the interior of the glass substrate to cool the glass substrate. The batch type heat treatment apparatus is also used for heat treatment of a semiconductor wafer.
그러나, 상기 배치 타입 열처리 장치는 일측에서 공정 가스를 공정 챔버로 공급하고, 공정 챔버의 타측으로 공정 가스를 배출하므로 공정 가스의 사용량이 많아 열처리 비용이 증가되는 측면이 있다. 또한, 상기 배치 타입 열처리 장치가 설치되는 공장 내부가 양압 조절을 필요로 하는 경우에 배치 타입 열처리 장치에서 배출되는 공정 가스가 공장 내부의 양압 조절에 영향을 주게 되어 문제가 된다.However, since the batch type heat treatment apparatus supplies the process gas to the process chamber from one side and discharges the process gas to the other side of the process chamber, the amount of the process gas used is increased and the heat treatment cost is increased. Further, when the inside of the plant where the batch type heat treatment apparatus is installed needs to regulate the positive pressure, the process gas discharged from the batch type heat treatment apparatus affects the positive pressure control in the factory, which is a problem.
또한, 상기와 같은 문제는 인라인 타입 열처리 장치에서도 동일하게 발생될 수 있다.In addition, the above-described problems can be similarly generated in an in-line type heat treatment apparatus.
본 발명은 유리 기판의 열처리 과정에서 공정 챔버에서 사용되고 배출되는 공정 가스를 냉각시켜 공정 챔버로 재공급하며 공급 방향을 교대로 전환할 수 있는 순환 냉각 유닛 및 이를 구비하는 열처리 장치를 제공한다.The present invention provides a circulation cooling unit that can be used in a process chamber in a process of heat-treating a glass substrate and re-supply the process gas to the process chamber by cooling the process gas to be discharged, and to alternately change the supply direction, and a heat treatment apparatus having the same.
본 발명의 순환 냉각 유닛은 일측이 공정 챔버의 제 1 배관에 연결되며 타측이 상기 공정 챔버의 제 2 배관에 연결되어 상기 공정 챔버의 공정 가스를 흡입하여 냉각한 후에 상기 공정 챔버로 재공급하며, 상기 공정 가스의 공급 방향을 상기 제 1 배관으로부터 흡입하여 제 2 배관으로 공급하는 제 1 방향과 제 2 배관으로부터 흡입하여 제 1 배관으로 공급하는 제 2 방향으로 교대로 전환하는 것을 특징으로 한다.The circulation cooling unit of the present invention is connected to the first pipe of the process chamber on the one side and to the second pipe of the process chamber on the other side to suck and cool the process gas of the process chamber, And a second direction in which the process gas is sucked from the first pipe and supplied to the second pipe and a second direction in which the process gas is sucked from the second pipe and supplied to the first pipe, are alternately switched.
상기 순환 냉각 유닛은 상기 제 1 배관에 연결되며 상기 공정 가스를 냉각하는 제 1 쿨링 모듈과, 일측이 상기 제 1 쿨링 모듈에 연결되며 상기 공정 챔버의 공정 가스를 흡입하는 블로워 모듈 및 일측이 상기 제 1 배관과 제 1 쿨링 모듈 사이에 연결되고 타측이 상기 제 2 배관과 상기 블로워 사이에 연결되며 상기 공정 가스가 상기 제 1 방향과 제 2 방향으로 교대로 흐르도록 하는 스위칭 모듈을 포함하여 형성될 수 있다.The circulation cooling unit includes a first cooling module connected to the first pipe and cooling the process gas, a blower module having one side connected to the first cooling module and sucking the process gas of the process chamber, And a switching module connected between the first pipe and the first cooling module and the other side connected between the second pipe and the blower so that the process gas alternately flows in the first direction and the second direction have.
또한, 상기 스위칭 모듈은 제 1 메인 밸브를 구비하며 일단이 상기 제 1 배관에 연결되고 타단이 제 1 쿨링 모듈에 연결되는 제 1 메인 배관과, 제 2 메인 밸브를 구비하며 일단이 상기 블로워 모듈에 연결되고 타단이 상기 제 2 배관에 연결되는 제 2 메인 배관과, 제 1 스위칭 밸브를 구비하며 일단이 상기 제 1 메인 배관에서 상기 제 1 메인 밸브의 전단에 연결되며, 타단이 상기 제 2 메인 배관에서 상기 제 2 메인 밸브의 전단에 연결되는 제 1 스위칭 배관 및 제 2 스위칭 밸브를 구비하며 일단이 상기 제 1 메인 배관에서 상기 제 1 메인 밸브의 후단에 연결되며, 타단이 상기 제 2 메인 배관에서 상기 제 2 메인 밸브의 후단에 연결되는 제 2 스위칭 배관을 포함하여 형성될 수 있다.The switching module may include a first main pipe having a first main valve, one end connected to the first pipe and the other end connected to the first cooling module, and a second main valve, one end of which is connected to the blower module And a first switching valve, one end of which is connected to the front end of the first main valve in the first main pipe, and the other end of which is connected to the second main pipe, And a second switching valve connected to a front end of the second main valve at one end of the second main pipe, wherein one end of the first main pipe is connected to the rear end of the first main valve at the first main pipe, And a second switching pipe connected to a rear end of the second main valve.
또한, 상기 제 1 방향은 상기 제 1 메인 밸브와 상기 제 2 메인 밸브가 개방되고 상기 제 1 스위칭 밸브와 제 2 스위칭 밸브가 차단되어 이루어지며, 상기 제 2 방향은 상기 제 1 메인 밸브와 상기 제 2 메인 밸브가 차단되고 상기 제 1 스위칭 밸브와 제 2 스위칭 밸브가 개방되어 이루어질 수 있다.The first main valve and the second main valve are opened and the first switching valve and the second switching valve are shut off in the first direction, and the second direction is closed by the first main valve and the second main valve, 2 main valve is shut off and the first switching valve and the second switching valve are opened.
또한, 순환 냉각 유닛은 일측이 상기 블로워 모듈에 연결되며, 타측이 상기 스위칭 모듈의 타측에 연결되는 필터 모듈 및 상기 블로워 모듈과 상기 필터 모듈 사이에 연결되는 제 2 쿨링 모듈을 포함하여 형성될 수 있다. 이때, 상기 필터 모듈은 헤파 필터, 울파 필터, 카본 필터 또는 메쉬 필터를 포함하여 형성될 수 있다.The circulation cooling unit may include a filter module having one side connected to the blower module and the other side connected to the other side of the switching module and a second cooling module connected between the blower module and the filter module . At this time, the filter module may include a HEPA filter, an UL filter, a carbon filter, or a mesh filter.
또한, 상기 순환 냉각 유닛은 일측이 상기 제 1 배관에 연결되며 상기 공정 챔버의 공정 가스를 냉각하는 제 1 쿨링 모듈과, 일측이 상기 제 1 쿨링 모듈과 연결되며 상기 공정 챔버의 공정 가스를 흡입하여 제 1 방향과 제 2 방향으로 교대로 흐르도록 하는 블로워 모듈 및 일측이 상기 블로워 모듈과 연결되고 타측이 상기 제 2 배관에 연결되며, 상기 공정 챔버의 공정 가스를 냉각하는 제 2 쿨링 모듈을 포함하여 형성될 수 있다. 이때, 상기 블로워 모듈은 상기 공정 가스를 흡입하여 공급하는 블로워와, 일단이 상기 제 1 쿨링 모듈에 연결되고 타단이 상기 블로워에 연결되는 제 1 블로워 배관과, 일단이 상기 블로워에 연결되고, 타단이 상기 제 2 쿨링 모듈에 연결되는 제 2 블로워 배관과, 일단이 상기 제 1 블로워 배관에 연결되고, 타단이 상기 제 2 블로워 배관에 연결되는 제 1 서브 블로워 배관 및 일단이 상기 제 1 서브 블로워 배관의 일단과 상기 제 1 블로워 배관의 타단 사이에서 상기 제 1 블로워 배관에 연결되며, 타단이 상기 제 1 서브 블로워 배관의 타단과 상기 제 2 블로워 배관의 타단 사이에서 상기 제 2 블로워 배관에 연결되는 제 2 서브 블로워 배관을 포함하여 형성될 수 있다. 또한, 상기 블로워 모듈은 상기 제 1 서브 블로워 배관의 일단과 상기 제 2 서브 블로워 배관의 일단 사이에서 상기 제 1 블로워 배관에 결합되는 제 1 블로워 밸브와, 상기 제 1 서브 블로워 배관의 타단과 제 2 서브 블로워 배관의 타단 사이에서 상기 제 2 블로워 배관에 결합되는 제 2 블로워 밸브와, 상기 제 1 서브 블로워 배관에 결합되는 제 1 서브 블로워 밸브 및 상기 제 2 서브 블로워 배관에 결합되는 제 2 서브 블로워 밸브를 더 포함하여 형성될 수 있다.The circulation cooling unit may include a first cooling module, one side of which is connected to the first pipe and cools the process gas of the process chamber, and a second cooling module, one side of which is connected to the first cooling module, And a second cooling module for cooling the process gas of the process chamber, the blower module having one side connected to the blower module and the other side connected to the second pipe, . The blower module includes a blower for sucking and supplying the process gas, a first blower pipe having one end connected to the first cooling module and the other end connected to the blower, one end connected to the blower, A second blower pipe connected to the second cooling module, a first sub-blower pipe having one end connected to the first blower pipe and the other end connected to the second blower pipe, and a second sub blower pipe having one end connected to the first blower pipe And a second blower pipe connected between the other end of the first blower pipe and the other end of the first blower pipe and connected to the second blower pipe at the other end thereof between the other end of the first blower pipe and the other end of the second blower pipe, And may include a sub-blower pipe. The blower module may further include a first blower valve coupled to the first blower pipe between one end of the first sub-blower pipe and one end of the second sub blower pipe, and a second blower valve connected to the other end of the first sub- A second sub-blower valve coupled to the first sub-blower pipe, and a second sub-blower valve coupled to the second sub-blower pipe, the second sub-blower valve being coupled to the second sub- As shown in FIG.
또한, 상기 블로워 모듈은 상기 제 1 방향으로 상기 공정 가스를 흐르게 하는 제 1 블로워 및 상기 제 2 방향으로 상기 공정 가스를 흐르게 하는 2 블로워(320a)를 포함하며, 상기 제 1 블로워와 제 2 블로워가 교대로 작동할 수 있다.Also, the blower module may include a first blower to flow the process gas in the first direction and a second blower to flow the process gas in the second direction, wherein the first blower and the second blower Can be operated alternately.
또한, 상기 순환 냉각 유닛은 상기 제 2 배관과 제 2 쿨링 모듈 사이에 위치하며, 상기 제 2 배관으로 공급되는 상기 공정 가스를 필터링하는 제 1 필터 모듈 및 상기 제 1 배관과 제 1 쿨링 모듈 사이에 위치하며, 상기 제 1 배관으로 공급되는 상기 공정 가스를 필터링하는 제 2 필터 모듈을 더 포함하여 형성될 수 있다.The circulation cooling unit may further include a first filter module positioned between the second pipe and the second cooling module for filtering the process gas supplied to the second pipe and a second filter module disposed between the first pipe and the first cooling module, And a second filter module for filtering the process gas supplied to the first pipe.
또한, 상기 제 1 필터 모듈은 일측이 상기 제 2 쿨링 모듈에 연결되고 타측이 상기 제 2 배관에 연결되는 제 1 필터와, 일단이 상기 제 1 필터의 일측에 연결되고 타단이 상기 제 1 필터의 타측에 연결되는 제 1 필터 배관과, 상기 제 1 필터의 전단에 결합되는 제 1 메인 필터 밸브 및 상기 제 1 필터 배관에 설치되는 제 1 서브 필터 밸브를 포함하며, 상기 제 2 필터 모듈은 일측이 상기 제 1 배관에 연결되며, 타측이 상기 제 1 쿨링 모듈에 연결되는 제 2 필터와, 일단이 상기 제 2 필터의 일측에 연결되고 타단이 상기 제 2 필터의 타측에 연결되는 제 2 필터 배관과, 상기 제 2 필터의 후단에 결합되는 제 2 메인 필터 밸브 및 상기 제 2 필터 배관에 설치되는 제 2 서브 필터 밸브를 포함하여 형성될 수 있다. 이때, 상기 제 1 필터와 제 2 필터는 헤파 필터, 울파 필터, 카본 필터 또는 메쉬 필터를 포함하여 형성될 수 있다. 또한, 상기 제 1 방향은 상기 제 1 배관과 상기 제 2 필터 배관과 상기 제 1 쿨링 모듈과 상기 제 1 메인 블로워 배관과 상기 블로워와 상기 제 2 메인 블로워 배관과 상기 제 2 쿨링 모듈과 상기 제 1 필터와 상기 제 2 배관을 순차적으로 흐르도록 이루어지며, 상기 제 2 방향은 상기 제 2 배관과 상기 제 1 필터 배관과 상기 제 2 쿨링 모듈과 상기 제 2 서브 블로워 배관과 상기 블로워와 상기 제 1 서브 블로워 배관과 상기 제 2 쿨링 모듈과 상기 제 2 필터와 상기 제 1 배관을 순차적으로 흐르도록 이루어질 수 있다.The first filter module may include a first filter having one end connected to the second cooling module and the other end connected to the second pipe, and a second filter having one end connected to one side of the first filter, A first filter filter connected to the other side of the first filter filter, a first main filter valve coupled to a front end of the first filter, and a first sub filter filter installed in the first filter pipe, A second filter pipe connected to the first pipe and having the other end connected to the first cooling module, a second filter pipe having one end connected to one side of the second filter and the other end connected to the other side of the second filter, A second main filter valve coupled to a rear end of the second filter, and a second sub filter valve installed in the second filter pipe. At this time, the first filter and the second filter may include a HEPA filter, an UL filter, a carbon filter, or a mesh filter. In addition, the first direction may be one of the first pipe, the second filter pipe, the first cooling module, the first main blower pipe, the blower, the second main blower pipe, the second cooling module, The filter and the second pipe, and the second direction is configured to flow sequentially through the second pipe, the first filter pipe, the second cooling module, the second sub-blower pipe, the blower and the first sub- The blower pipe, the second cooling module, the second filter, and the first pipe.
또한, 상기 블로워는 링 블로워, 터보 블로워, 송풍기, 로터리 펌프 또는 부스터 펌프로 형성될 수 있다. 또한, 상기 블로워는 적어도 2 개로 형성될 수 있다.The blower may be formed by a ring blower, a turbo blower, a blower, a rotary pump, or a booster pump. The blower may be formed of at least two blowers.
본 발명의 열처리 장치는 제 1 배관과 제 2 배관을 구비하며 내부에 기판이 위치하여 열처리되는 공정 챔버 및 상기 제 1 배관과 상기 제 2 배관 사이에 연결되며, 상기와 같은 순환 냉각 유닛을 포함하여 형성되는 것을 특징으로 한다.The heat treatment apparatus of the present invention includes a process chamber having a first pipe and a second pipe, the substrate being positioned inside and being heat-treated, and a circulation cooling unit connected between the first pipe and the second pipe, Is formed.
또한, 상기 공정 챔버는 외부 하우징과 상기 외부 하우징의 내부에 수용되는 내부 하우징을 포함하며, 상기 제 1 배관은 상기 외부 하우징의 일측면을 관통하여 상기 내부 하우징의 일측면에 연결되며, 상기 제 2 배관은 상기 외부 하우징의 타측면을 관통하여 상기 내부 하우징의 타측면에 연결될 수 있다.The process chamber also includes an outer housing and an inner housing received within the outer housing, wherein the first pipe is connected to one side of the inner housing through one side of the outer housing, The piping may be connected to the other side of the inner housing through the other side of the outer housing.
또한, 상기 공정 챔버는 상기 외부 하우징과 상기 내부 하우징이 일체로 형성될 수 있다. 또한, 상기 공정 챔버는 배치 타입 열처리 장치용 챔버 또는 인라인 타입 열처리 장치용 챔버일 수 있다.In addition, the process chamber may be formed integrally with the outer housing and the inner housing. Further, the process chamber may be a chamber for a batch type heat treatment apparatus or a chamber for an inline type heat treatment apparatus.
또한, 상기 기판은 평판 표시 장치용 또는 태양 전지용 유리 기판, 또는 반도체 웨이퍼일 수 있다.The substrate may be a flat panel display device, a glass substrate for a solar cell, or a semiconductor wafer.
본 발명에 따른 순환 냉각 유닛 및 이를 구비하는 열처리 장치는 공정 챔버로부터 배출되는 공정 가스를 냉각시켜 공정 챔버로 다시 공급하며, 공정 가스의 공급 방향을 교대로 변경함으로써 공정 챔버 내부와 유리 기판의 냉각 속도를 증가시키고 온도 편차를 감소시킬 수 있는 효과가 있다.The circulation cooling unit and the heat treatment apparatus having the same according to the present invention cool the process gas discharged from the process chamber to supply the process gas to the process chamber again and change the supply direction of the process gas alternately to change the cooling rate And the temperature deviation can be reduced.
또한, 본 발명에 따른 순환 냉각 유닛과 이를 구비하는 열처리 장치는 공정 챔버로부터 배출되는 공정 가스를 냉각시켜 공정 챔버로 다시 공급하므로 별도의 공정 가스에 대한 추가 사용이 없어 공정 가스의 사용량을 감소시키는 효과가 있다.In addition, the circulation cooling unit and the heat treatment apparatus having the same according to the present invention cool the process gas discharged from the process chamber and supply the process gas to the process chamber again. Therefore, there is no additional use of the process gas, .
또한, 본 발명에 따른 순환 냉각 유닛 및 이를 구비하는 열처리 장치는 공정 챔버에서 배출되는 사용된 공정 가스를 냉각하여 재공급하므로 보다 효율적으로 유리 기판을 냉각시킬 수 있는 효과가 있다.Further, the circulation cooling unit and the heat treatment apparatus having the same according to the present invention can cool the glass substrate more efficiently since the used process gas discharged from the process chamber is cooled and re-supplied.
또한, 본 발명에 따른 순환 냉각 유닛 및 이를 구비하는 열처리 장치는 공정 가스를 공장 내부로 배출하지 않으므로 공장 내부의 양압에 영향을 주지 않는 효과가 있다.In addition, the circulation cooling unit and the heat treatment apparatus having the circulation cooling unit according to the present invention do not discharge the process gas into the factory, so that there is no effect on the positive pressure inside the plant.
또한, 본 발명에 따른 순환 냉각 유닛 및 이를 구비하는 열처리 장치는 공정 챔버와 금속 냉각 유닛을 포함하여 공정 가스가 흐르는 경로가 밀폐 경로를 형성하므로, 열처리 과정에서 산소 농도 제어를 위한 질소 분위기 형성이 용이한 효과가 있다. In addition, the circulating cooling unit and the heat treatment apparatus having the circulation cooling unit according to the present invention include a process chamber and a metal cooling unit, and the path through which the process gas flows forms a closed path. Therefore, it is easy to form a nitrogen atmosphere for controlling the oxygen concentration in the heat treatment process There is an effect.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 순환 냉각 유닛과 이를 구비하는 열처리 장치의 구성도이다.
도 2는 도 1의 열처리 장치에서 공정 가스가 제 1 방향으로 흐를 때 공정 가스의 흐름을 나타낸다.
도 3은 도 1의 열처리 장치에서 공정 가스가 제 2 방향으로 흐를 때 공정 가스의 흐름을 나타낸다.
도 4는 도 1의 진공 챔버에서 공정 가스가 제 1 방향으로 흐를 때 급기와 배기를 나타낸다.
도 5는 도 1의 열처리 장치에서 공정 가스가 제 2 방향으로 흐를 때 공정 챔버에서의 급기와 배기를 나타낸다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 순환 냉각 유닛과 이를 구비하는 열처리 장치의 구성도이다.
도 7은 도 6의 블로워 모듈의 구체적인 구성도이다.
도 8은 도 6의 제1 필터 모듈의 구체적인 구성도이다.
도 9는 도 6의 제 2 필터 모듈의 구체적인 구성도이다.
도 10은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 블로워 모듈의 구체적인 구성도이다. 1 is a configuration diagram of a circulation cooling unit and a heat treatment apparatus having the same according to an embodiment of the present invention.
Figure 2 shows the flow of process gas as it flows in a first direction in the heat treatment apparatus of Figure 1;
Figure 3 shows the flow of process gas as it flows in a second direction in the heat treatment apparatus of Figure 1;
Fig. 4 shows the supply and exhaust when the process gas flows in the first direction in the vacuum chamber of Fig.
Figure 5 shows the supply and exhaust in the process chamber when the process gas flows in the second direction in the heat treatment apparatus of Figure 1;
6 is a configuration diagram of a circulation cooling unit and a heat treatment apparatus having the same according to another embodiment of the present invention.
Fig. 7 is a specific configuration diagram of the blower module of Fig. 6;
8 is a specific configuration diagram of the first filter module of Fig.
FIG. 9 is a specific configuration diagram of the second filter module of FIG. 6. FIG.
10 is a specific configuration diagram of a blower module according to another embodiment of the present invention.
이하에서 실시예와 첨부한 도면을 통하여 본 발명의 순환 냉각 유닛과 이를 구비하는 열처리 장치에 대하여 구체적으로 설명한다.
Hereinafter, a circulation cooling unit and a heat treatment apparatus having the same according to the present invention will be described in detail with reference to embodiments and attached drawings.
먼저, 본 발명의 실시예에 따른 순환 냉각 유닛과 이를 구비하는 열처리 장치에 대하여 설명한다.First, a circulation cooling unit and a heat treatment apparatus having the same according to an embodiment of the present invention will be described.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 순환 냉각 유닛과 이를 구비하는 열처리 장치의 구성도이다.
1 is a configuration diagram of a circulation cooling unit and a heat treatment apparatus having the same according to an embodiment of the present invention.
본 발명의 일 실시예에 따른 순환 냉각 유닛과 이를 구비하는 열처리 장치(100)는, 도 1을 참조하면, 공정 챔버(110)와 제 1 쿨링 모듈(120)과 블로워 모듈(130) 및 스위칭 모듈(170)을 포함하여 형성된다. 또한, 상기 열처리 장치(100)는 필터 모듈(140) 및 제 2 쿨링 모듈(150)을 포함하여 형성될 수 있다. 상기 열처리 장치(100)는 공정 가스에 대한 필터링이 필요하지 않은 경우에 제 1 필터 모듈(140)이 생략될 수 있다. 또한, 상기 열처리 장치(100)는 블로워 모듈(130)을 통과한 공정 가스에 대한 추가 냉각이 필요하지 않은 경우에 제 2 필터 모듈(260)이 생략될 수 있다.1, a circulation cooling unit and a
여기서, 상기 제 1 쿨링 모듈(120)과 블로워 모듈(130)과 스위칭 모듈(170)은 공정 챔버(110)에서 배출되는 고온의 공정 가스를 냉각시켜 공정 챔버(110)로 재공급하는 순환 냉각 유닛(100a)을 구성한다. 또한, 상기 순환 냉각 유닛(100a)은 필터 모듈(140)과 제 2 쿨링 모듈(150)도 더 포함할 수 있다. The
상기 열처리 장치(100)는 공정 챔버(110)에서 기판(10)의 열처리가 진행된 후에 순환 냉각 유닛(100a)이 공정 챔버(110)의 내부로 냉각된 공정 가스를 공급하여 기판(10)을 배출할 수 있는 온도로 공정 챔버(110)와 기판(10)을 냉각시킨다. 이때, 상기 순환 냉각 유닛(100a)은 블로워 모듈(130)이 작동하면서 공정 챔버(110)에서 배출되는 고온의 공정 가스를 흡입하고 제 1 쿨링 모듈(120)가 냉각시킨 후에 공정 챔버(110)로 다시 공급한다. 이때, 상기 스위칭 모듈(170)은 블로워 모듈(130)이 공정 가스를 흡입하여 공급하는 방향이 교대로 형성되도록 한다. 즉, 상기 순환 냉각 유닛(100a)은 공정 가스가 제 1 방향으로 흐르고 소정 시간 후에 제 2 방향으로 흐르도록 한다. 따라서, 상기 열처리 장치(100)는 공정 가스가 제 1 방향과 제 2 방향으로 교대로 흐르면서 공정 챔버(110)로 공급되어 공정 챔버(110)와 기판(10)을 냉각시킨다. 여기서, 상기 제 1 방향은 도 1에서 공정 챔버(110)를 시작점으로 하여 공정 가스가 시계 방향으로 흐르는 방향을 의미하며, 제 2 방향은 반시계 방향으로 흐르는 방향을 의미한다. 또한, 일측 또는 전단은 공정 가스가 제 1 방향으로 흐를 때 구성 요소에서 먼저 접촉되는 방향의 측부 또는 단부를 의미하며, 타측 또는 후단은 그 반대 방향의 측부 또는 단부를 의미한다. The
상기 열처리 장치(100)는 공정 챔버(110)와 순환 냉각 유닛(100a)이 공정 가스가 흐르는 밀폐 경로를 형성한다. 따라서, 상기 열처리 장치(100)는 공정 챔버(110)의 냉각중에는 공정 가스가 외부로 유출되지 않도록 하여 공정 가스의 사용량을 감소시킨다. 또한, 상기 열처리 장치(100)는 외부로 공정 가스가 유출되지 않도록 하므로 공정 챔버(110)가 설치되는 공장 내부의 압력 변화에 영향을 주지 않는다. The
상기 열처리 장치(100)는 LCD 또는 OLED와 같은 평판표시장치용 또는 태양 전지용으로 사용되는 유리 기판과 같은 기판(10)의 열처리에 사용된다. 또한, 상기 열처리 장치(100)는 반도체 웨이퍼와 같은 기판의 열처리에도 사용될 수 있다. 따라서, 상기 열처리 장치(100)는 유리 기판 또는 반도체 웨이퍼의 열처리에 사용될 수 있다. 또한, 상기 순환 냉각 유닛(100a)은 유리 기판 또는 웨이퍼를 열처리하는 다양한 열처리 장치에 사용될 수 있다. The
한편, 이하에서는 상기 제 1 쿨링 모듈(120)과 블로워 모듈(130)과 제 1 필터 모듈(140) 및 제 2 쿨링 모듈(150)은 각각 하나씩 포함하는 것으로 설명하지만, 공정 챔버(110)의 크기와 공급되는 공정 가스의 양에 따라 각각 2 개 이상으로 형성될 수 있다.
In the following description, the
상기 공정 챔버(110)는 외부 하우징(111)과 내부 하우징(112)과 제 1 배관(113) 및 제 2 배관(114)을 포함하여 형성된다. 상기 공정 챔버(110)는 구체적으로 도시하지 않았지만 외부 하우징(111)과 내부 하우징(112) 사이에 별도의 히팅 모듈(미도시)을 구비하여 내부 하우징(112)의 내부 공간을 열처리 조건에 따라 설정된 온도로 가열한다. 또한, 상기 공정 챔버(110)는 내부 하우징(112)의 내부에서 내측벽을 따라 평판 히터(미도시)가 장착되어 형성될 수 있다. 또한, 상기 공정 챔버(110)는 외부 하우징(111)과 내부 하우징(112)이 일체로 형성될 수 있다. The
한편, 상기 공정 챔버(110)는 내부 하우징(112) 내부로 공정 가스를 열처리 공정 시작 전 또는 종료 후에 공급하는 별도의 공정 가스 공급관(미도시)를 더 포함하여 형성된다. The
상기 공정 챔버(110)는 내부에 기판(10)을 수용하여 설정된 열처리 조건에 따라 열처리를 진행한다. 상기 공정 챔버(110)는 열처리 공정 중에는 상압 상태를 유지하거나 질소 가스와 같은 공정 가스에 의하여 불활성 분위기를 유지할 수 있다. The
상기 공정 챔버(110)는 배치 타입 열처리 장치용 챔버로 형성될 수 있다. 또한, 상기 공정 챔버(110)는 인라인 타입 열처리 장치용 챔버로 형성될 수 있다. 상기 배치 타입 열처리 장치용 챔버와 인라인 타입 열처리 장치용 챔버는 열처리 공정이 진행되는 동안에 기판이 출입되는 유입구와 유출구가 별도의 셔터에 의하여 밀폐된다. The
상기 외부 하우징(111)은 전측이 개방되고 내부가 비어 있는 대략 육면체 형상으로 형성된다. 상기 외부 하우징(111)은 내부에 내부 하우징(112)을 수용하여 감싸도록 형성된다. 상기 외부 하우징(111)은 제 1 배관(113)과 제 2 배관(114)이 내부 하우징(112)의 내부와 연결되도록 양측면을 관통하여 결합된다. The
상기 내부 하우징(112)은 전측이 개방되고, 속이 비어 있는 대략 육면체 형태를 한다. 상기 내부 하우징(112)은 내부에 기판(10)이 수용되며 기판(10)을 가열하여 열처리한다. 따라서, 상기 내부 하우징(112)은 기판(10)을 수용하기에 충분한 용적을 가지도록 형성된다. The
상기 내부 하우징(112)은 일측으로 관통되는 다수의 제 1 배관(113)이 결합되고, 타측으로 관통되는 다수의 제 2 배관(114)이 결합되어 있다. 상기 내부 하우징(112)은 제 1 배관(113)과 제 2 배관(114)으로부터 교대로 공급되는 공정 가스에 의하여 기판(10)이 냉각되도록 한다. 또한, 상기 내부 하우징(112)은 냉각에 사용된 공정 가스를 제 2 배관(114)과 제 1 배관(113)을 통하여 교대로 배출시킨다. 상기 공정 가스는 질소 가스, 아르곤 가스와 같은 불활성 가스가 사용된다. 또한, 상기 공정 가스는 열처리 공정에 따라 산소 농도가 제어될 수 있다.The
상기 제 1 배관(113)은 관 형태로 이루어지며, 일측이 내부 하우징(112)의 일측면에 결합된다. 또한, 상기 제 1 배관(113)은 타측이 스위칭 모듈(170)의 일측에 결합된다. 상기 제 1 배관(113)은 공정 챔버(110)의 내부에서 사용된 공정 가스가 공정 챔버(110)로부터 배출되는 경로를 제공한다. 또한, 상기 제 1 배관(113)은 냉각된 공정 가스가 공정 챔버(110)의 내부로 공급되는 경로를 제공한다. 즉, 상기 제 1 배관(113)은 공정 가스가 제 1 방향으로 흐를 때에 공정 가스가 공정 챔버(110)로부터 배출되는 경로를 제공하며, 공정 가스가 제 2 방향으로 흐를 때에 공정 가스가 공정 챔버(110)로 공급되는 경로를 제공한다. 한편, 상기 제 1 배관(113)은 구체적으로 도시하지는 않았지만, 내부 하우징(112)에 결합되는 단부가 복수 개로 분기되어 형성될 수 있다. 이러한 경우에 상기 제 1 배관(113)은 내부 하우징(112)의 내부로 보다 균일하게 급기 또는 배기가 되도록 할 수 있다. The
또한, 상기 제 1 배관(113)은 중간에 연결되는 제 1 제어 밸브(113a)를 더 포함할 수 있다. 상기 제 1 제어 밸브(113a)는 제 1 배관(113)을 흐르는 공정 가스의 흐름을 제어한다. 상기 제 1 제어 밸브(113a)는 공정 챔버(110)에서 열처리가 진행중인 때는 폐쇄되어 공정 가스의 흐름을 차단하며, 열처리가 종료된 때에 개방되어 공정 가스가 내부 하우징(112)의 내부로 공급될 수 있도록 한다.In addition, the
상기 제 2 배관(114)은 관 형태로 이루어지며, 내부 하우징(112)의 타측면에 결합된다. 또한, 상기 제 2 배관(114)은 타측이 스위칭 모듈(170)의 타측에 결합된다. 상기 제 2 배관(114)은 공정 챔버(110)의 내부에서 사용된 공정 가스가 공정 챔버(110)로부터 배출되는 경로를 제공한다. 또한, 상기 제 2 배관(114)은 냉각된 공정 가스가 공정 챔버(110)의 내부로 공급되는 경로를 제공한다. 즉, 상기 제 2 배관(114)은 공정 가스가 제 1 방향으로 흐를 때에 공정 가스가 공정 챔버(110)로 공급되는 경로를 제공하며, 공정 가스가 제 2 방향으로 흐를 때에 공정 가스가 공정 챔버(110)로부터 배출되는 경로를 제공한다. 한편, 상기 제 2 배관(114)은 구체적으로 도시하지는 않았지만, 내부 하우징(112)에 결합되는 단부가 복수 개로 분기되어 형성될 수 있다. 이러한 경우에 상기 제 2 배관(114)은 내부 하우징(112)의 내부로 보다 균일하게 급기 또는 배기가 되도록 할 수 있다. The
또한, 상기 제 2 배관(114)은 중간에 연결되는 제 2 제어 밸브(143)를 더 포함할 수 있다. 상기 제 2 제어 밸브(143)는 제 2 배관(114)의 내부를 흐르는 공정 가스의 흐름을 제어한다. 상기 제 2제어 밸브(143)는 공정 챔버(110)에서 열처리가 진행중인 때는 폐쇄되어 공정 가스의 흐름을 차단하며, 열처리가 종료된 때에 개방되어 공정 가스가 배출될 수 있도록 한다.The
한편, 상기 내부 하우징(112)은, 도 2를 참조하면, 일측면에 전체적으로 제 1 배관(113)이 형성되며, 타측면에 전체적으로 제 2 배관(114)이 형성되는 경우에 내부의 기류가 제 1 배관(113)에서 제 2 배관(114) 방향으로 또는 제 2 배관(114)에서 제 1 배관(113) 방향으로 전체적으로 흐르도록 형성될 수 있다. 따라서, 상기 내부 하우징(112)의 내부에는 기판(10)이 수직 방향으로 이격되면서 수평 방향으로 적층되므로 공정 가스가 보다 효율적으로 기판(10) 사이로 흐르면서 기판(10)을 냉각할 수 있다.
Referring to FIG. 2, the
상기 제 1 쿨링 모듈(120)은 일측이 스위칭 모듈(170)의 일측에 연결되며, 타측이 블로워 모듈(130)에 연결된다. 즉, 상기 제 1 쿨링 모듈(120)은 공정 가스가 제 1 방향으로 흐를 때를 기준으로 스위칭 모듈(170)의 일측과 블로워 모듈(130)의 일측 사이에 위치한다. 상기 제 1 쿨링 모듈(120)은 스위칭 모듈(170)로부터 공급되는 사용된 공정 가스를 냉각시켜 블로워 모듈(130)로 공급한다. 따라서, 상기 제 1 쿨링 모듈(120)은 공정 가스를 냉각시켜 블로워 모듈(130)이 고온의 공정 가스에 의하여 손상되는 것을 방지한다. One side of the
상기 제 1 쿨링 모듈(120)은 기체 또는 액체의 냉각에 사용되는 일반적인 쿨링 모듈로 형성될 수 있다. 예를 들면, 상기 제 1 쿨링 모듈(120)은 구체적으로 도시하지는 않았지만, 쿨링 하우징과 쿨링 파이프와 방열판을 포함하여 형성될 수 있다. 상기 쿨링 하우징은 내부가 중공이며, 일측과 타측에 유입구와 유출구가 형성되도록 형성된다. 또한, 상기 쿨링 파이프는 쿨링 하우징의 길이 방향 또는 폭 방향으로 가로질러 관통되며, 내부에 냉각수와 같은 냉각 매체가 흐르도록 형성된다. 또한, 상기 방열판은 판상으로 형성되며, 쿨링 파이프의 외주면에 수직인 향으로 배열되도록 결합된다. 상기 방열판은 쿨링 파이프의 내부를 흐르는 냉각 매체에 의하여 냉각되며, 쿨링 하우징의 내부로 유입되어 접촉되는 기체 또는 액체를 냉각시킨다. 따라서, 상기 제 1 쿨링 모듈(120)은 쿨링 파이프를 흐르는 냉각 매체에 의하여 방열판이 냉각되며, 쿨링 하우징의 유입구를 통하여 유입되는 공정 가스를 방열판에 접촉시켜 냉각한다. The
또한, 상기 제 1 쿨링 모듈(120)은 펠티어 소자를 이용한 쿨링 모듈로 형성될 수 있다. 예를 들면, 상기 제 1 쿨링 모듈(120)은 구체적으로 도시하지는 않았지만, 쿨링 하우징과 방열판과 펠티어 소자를 포함하여 형성될 수 있다. 상기 쿨링 하우징은 내부가 중공이며, 일측과 타측에 유입구와 유출구가 형성되도록 형성된다. 또한, 상기 방열판은 쿨링 하우징의 일측면에서 내부로 연장되도록 형성된다. 상기 펠티어 소자는 쿨링 하우징의 일측면에서 방열판과 접촉되도록 결합된다. 따라서, 상기 제 1 쿨링 모듈(120)은 펠티어 소자에 의하여 방열판이 냉각되고, 쿨링 하우징의 유입구를 통하여 유입되는 공정 가스를 방열판에 접촉시켜 공정 가스를 냉각한다.
Also, the
상기 블로워 모듈(130)은 일측이 제 1 쿨링 모듈(120)과 연결되며, 타측이 필터 모듈(140)에 연결된다. 즉, 상기 블로워 모듈(130)은 공정 가스의 흐름을 기준으로 제 1 쿨링 모듈(120)의 후단과 필터 모듈(140)의 전단 사이에 위치한다. 또한, 상기 블로워 모듈(130)은 타측에 제 2 쿨링 모듈(150)이 형성되는 경우에 제 2 쿨링 모듈(150)에 연결될 수 있다. 상기 블로워 모듈(130)은 배기관(140)을 통하여 공정 챔버(110)의 내부에 있는 공정 가스를 흡입하여, 공정 가스를 제 1 쿨링 모듈(120)로 유입시킨다.One side of the
상기 블로워 모듈(130)는 블로워를 포함하여 형성된다. 상기 블로워는 바람직하게는 흡기구(미도시)와 배기구(미도시) 사이가 외부와 밀폐되어 있는 블로워로 형성된다. 예를 들면, 상기 블로워는 링 블로워 또는 터보 블로워로 형성될 수 있다. 또한, 상기 블로워(300)는 로터리 펌프 또는 부스터 펌프로 형성될 수 있다. 상기 링 블로워와 터보 블로워는 구체적인 구조에서는 차이가 있으나 흡기구로부터 배기구 사이가 외부와 밀폐되어 흡기구로 흡입되는 기체를 중간에 유출시키지 않고 모두 배기구로 배출시킨다. 또한, 상기 로터리 펌프 또는 부스터 펌프도 블로워들과 구체적인 구조에서는 차이가 있으나 흡기구로부터 배기구 사이가 외부와 밀폐되어 흡기구로 흡입되는 기체를 중간에 유출시키지 않고 모두 배기구로 배출시키는 블로워로 작용할 수 있다. 따라서, 상기 블로워(300)는 흡입하는 공정 가스가 외부로 유출되지 않도록 한다. 상기 링 블로워와 터보 블로워는 일반적으로 사용되는 장치이므로 여기서 구체적인 설명은 생략한다. 한편, 상기 블로워(300)는 흡기구(미도시)와 배기구(미도시) 사이가 외부와 밀폐될 필요가 없는 경우에 일반적인 송풍기가 사용될 수 있다.
The
상기 필터 모듈(140)은 일측이 블로워 모듈(130)에 연결되며, 타측이 스위칭 모듈(170)의 타측과 연결된다. 즉, 상기 필터 모듈(140)은 공정 가스의 흐름을 기준으로 블로워 모듈(130)와 스위칭 모듈(170)의 타측 사이에 위치한다. 또한, 상기 필터 모듈(140)은 일측에 제 2 쿨링 모듈(150)이 형성되는 경우에 제 2 쿨링 모듈(150)에 연결될 수 있다. 상기 필터 모듈(140)은 블로워 모듈(130)로부터 공급되는 공정 가스를 필터링하여 스위칭 모듈(170)로 공급한다. One side of the
상기 필터 모듈(140)은 헤파 필터(Hepa Filter), 울파 필터, 카본 필터 또는 메쉬 필터와 같은 필터를 포함하여 형성된다. 상기 필터들은 반도체 공정 또는 평판 디스플레이 장치 제조 공정에서 많이 사용되는 필터이므로 여기서 구체적인 설명을 생략한다.
The
상기 제 2 쿨링 모듈(150)은 일측이 블로워 모듈(130)에 연결되며, 타측이 필터 모듈(140)에 연결된다. 즉, 상기 제 2 쿨링 모듈(150)은 공정 가스의 흐름을 기준으로 블로워 모듈(130)과 필터 모듈(140) 사이에 위치한다.One side of the
상기 제 2 쿨링 모듈(150)은 블로워 모듈(130)을 통하여 공급되는 공정 가스를 다시 한번 냉각시켜 필터 모듈(140)로 공급한다. 상기 공정 가스는 블로워 모듈(130)에 의하여 송풍되는 과정에서 블로워 모듈(130)의 블레이드 또는 팬과 마찰되면서 온도가 상승된다. 따라서, 상기 제 2 쿨링 모듈(150)은 블로워 모듈(130)을 통과한 공정 가스를 냉각시켜 필터 모듈(140)로 공급하게 되므로 보다 낮은 온도의 공정 가스가 필터 모듈(140)로 공급된다.The
또한, 상기 제 2 쿨링 모듈(150)은 제 1 쿨링 모듈(120)과 동일한 모듈로 형성될 수 있다.
Also, the
상기 스위칭 모듈(170)은 제 1 메인 배관(171)과 제 2 메인 배관(172)과 제 1 스위칭 배관(173) 및 제 2 스위칭 배관(174)을 포함하여 형성된다. 또한, 상기 스위칭 모듈(170)은 제 1 메인 밸브(171a)와 제 2 메인 밸브(172a)와 제 1 스위칭 밸브(173a)와 제 2 스위칭 밸브(174a)를 포함하여 형성된다. 한편, 상기 제 1 메인 밸브(171a)와 제 1 스위칭 밸브(173a)는 하나의 쓰리웨이 밸브로 형성될 수 있다. 또한, 상기 제 2 메인 밸브(172a)와 제 2 스위칭 밸브(174a)는 하나의 쓰리웨이 밸브로 형성될 수 있다. The
상기 스위칭 모듈(170)은 일측이 공정 챔버(110)의 제 1 배관(113)과 제 1쿨링 모듈 사이에 연결되며, 타측이 공정 챔버(110)의 제 2 배관(114)과 필터 모듈(140) 사이에 연결된다. 상기 스위칭 모듈(170)은 제 1 배관(113)으로부터 배출되는 공정 가스를 제 1 쿨링 모듈(120)로 공급하거나 필터 모듈(140)로 공급한다. 또한, 상기 스위칭 모듈(170)은 필터 모듈(140)로부터 공급되는 공정 가스를 제 2 배관(114) 또는 제 1 배관(113)으로 공급한다. 즉, 상기 스위칭 모듈(170)은 공정 가스가 제 1 방향으로 흐를 때 제 1 배관(113)으로부터 배출되는 공정 가스를 제 1 쿨링 모듈(120)로 공급하고, 필터 모듈(140)로부터 공급되는 공정 가스를 제 2 배관(114)으로 공급한다. 또한, 상기 스위칭 모듈(170)은 공정 가스가 제 2 방향으로 흐를 때 제 2 배관(114)으로부터 배출되는 공정 가스를 제 1 쿨링 모듈(120)로 공급하고, 필터 모듈(140)로부터 공급되는 공정 가스를 제 1 배관(113)으로 공급한다. One end of the
상기 제 1 메인 배관(171)은 일단이 제 1 배관(113)에 연결되고 타단이 제 1 쿨링 모듈(120)에 연결된다. 상기 제 1 메인 배관(171)은 제 1 메인 밸브(171a)를 포함한다. 상기 제 1 메인 배관(171)은 제 1 배관(113)으로부터 배출되는 공정 가스가 제 1 쿨링 모듈(120)로 흐르는 경로를 제공한다. 상기 제 1 메인 밸브(171a)는 제 1 메인 배관(171)을 흐르는 공정 가스의 흐름을 제어한다. One end of the first
상기 제 2 메인 배관(172)은 일단이 블로워 모듈(130) 또는 필터 모듈(140)에 연결되고 타단이 제 2 배관(114)에 연결된다. 상기 제 2 메인 배관(172)은 제 2 메인 밸브(172a)를 포함한다. 상기 제 2 메인 배관(172)은 필터 모듈(140)로부터 배출되는 공정 가스가 제 2 배관(114)으로 흐르는 경로를 제공한다. 상기 제 2 메인 밸브(172a)는 제 2 메인 배관(172)을 흐르는 공정 가스의 흐름을 제어한다. One end of the second
상기 제 1 스위칭 배관(173)은 일단이 제 1 메인 배관(171)에서 제 1 메인 밸브(171a)의 전단에 연결되며, 타단이 제 2 메인 배관(172)에서 제 2 메인 밸브(172a)의 전단에 연결된다. 상기 제 1 스위칭 배관(173)은 제 1 스위칭 밸브(173a)를 포함한다. 상기 제 1 스위칭 밸브(173a)는 제 1 스위칭 배관(173)을 흐르는 공정 가스의 흐름을 제어한다. 상기 제 1 스위칭 배관(173)은 필터 모듈(140)에서 공급되는 공정 가스가 제 1 배관(113)으로 흐르는 경로를 제공한다. 즉, 상기 제 1 메인 밸브(171a)와 제 2 메인 밸브(172a)가 차단된 상태에서 제 1 스위칭 밸브(173a)와 제 2 스위칭 밸브(174a)가 개방되면, 제 1 스위칭 배관(173)은 제 1쿨링 모듈(120)과 제 1 배관(113)을 연결한다. 따라서, 상기 제 1 배관(113)이 공정 챔버(110)로 공정 가스가 공급되도록 하는 급기관의 역할을 하며, 필터 모듈(140)에서 공급되는 공정 가스가 제 1 배관(113)을 통하여 공정 챔버(110)로 유입된다. One end of the
상기 제 2 스위칭 배관(174)은 일단이 제 1 메인 배관(171)에서 제 1 메인 밸브(171a)의 후단에 연결되며, 타단이 제 2 메인 배관(172)에서 제 2 메인 밸브(172a)의 후단에 연결된다. 상기 제 2 스위칭 배관(174)은 제 2 스위칭 밸브(174a)를 포함한다. 상기 제 2 스위칭 밸브(174a)는 제 2 스위칭 배관(174)을 흐르는 공정 가스의 흐름을 제어한다. 상기 제 2 스위칭 배관(174)은 제 2 배관(114)에서 배출되는 공정 가스가 제 1 쿨링 모듈(120)로 흐르는 경로를 제공한다. 즉, 상기 제 1 메인 밸브(171a)와 제 2 메인 밸브(172a)가 차단된 상태에서 제 1 스위칭 밸브(173a)와 제 2 스위칭 밸브(174a)가 개방되면, 제 2 스위칭 배관(174)은 제 2 배관(114)과 제 1 쿨링 모듈(120)을 연결한다. 따라서, 상기 제 2 배관(114)이 공정 챔버(110)의 공정 가스가 배기되는 배기관의 역할을 하며, 제 2 배관(114)으로부터 배기되는 공정 가스가 제 1 쿨링 모듈(120)로 유입된다.
The
다음으로, 본 발명의 일 실시예에 따른 순환 냉각 유닛과 이를 구비하는 열처리 장치의 작용에 대하여 설명한다.Next, the operation of the circulation cooling unit and the heat treatment apparatus having the circulation cooling unit according to an embodiment of the present invention will be described.
도 2는 도 1의 열처리 장치에서 공정 가스가 제 1 방향으로 흐를 때 공정 가스의 흐름을 나타낸다. 도 3은 도 1의 열처리 장치에서 공정 가스가 제 2 방향으로 흐를 때 공정 가스의 흐름을 나타낸다. 도 4는 도 1의 열처리 장치에서 공정 가스가 제 1 방향으로 흐를 때 공정 챔버에서의 급기와 배기를 나타낸다. 도 5는 도 1의 열처리 장치에서 공정 가스가 제 2 방향으로 흐를 때 공정 챔버에서의 급기와 배기를 나타낸다.
Figure 2 shows the flow of process gas as it flows in a first direction in the heat treatment apparatus of Figure 1; Figure 3 shows the flow of process gas as it flows in a second direction in the heat treatment apparatus of Figure 1; Figure 4 shows the supply and exhaust in the process chamber when the process gas flows in the first direction in the heat treatment apparatus of Figure 1; Figure 5 shows the supply and exhaust in the process chamber when the process gas flows in the second direction in the heat treatment apparatus of Figure 1;
먼저, 상기 공정 챔버(110)에 기판(10)이 장입되어 열처리 공정이 진행되며, 열처리 공정이 종료된 후에 제 1 배관(113)의 제 1 제어 밸브(113a)와 제 2 배관(114)의 제 2 제어 밸브(114a)가 개방된다. 또한, 상기 스위칭 모듈(170)의 제 1 메인 밸브(171a)와 제 2 메인 밸브(172a)가 개방되며, 제 1 스위칭 밸브(173a)와 제 2 스위칭 밸브(174a)가 차단된다. 상기 블로워 모듈(130)이 작동되어 공정 챔버(110)의 내부에 있는 사용된 고온의 공정 가스가 제 1 배관(113)을 통하여 배출되며, 스위칭 모듈(170)로 유입된다. 상기 공정 가스는 스위칭 모듈(170)의 제 1 메인 배관(171)을 통하여 제 1 쿨링 모듈(120)로 유입되며, 필터 모듈(140)을 통하여 제 2 배관(114)으로 공급되며 공정 챔버(110)로 유입된다. 따라서, 상기 열처리 장치(100)는 도 2를 참조하면 공정 가스가 제 1 방향으로 흐르는 경로가 형성되어 공정 가스가 공정 챔버(110)의 제 1 배관(113)으로부터 배출되어 냉각된 후에 공정 챔버(110)의 제 2 배관(114)로 공급된다. 이때, 상기 공정 챔버(110)내에서는 제 2 배관(114)에서 제 1 배관(113) 방향으로 공정 가스가 흐르게 된다.First, the
다음으로 상기 공정 가스가 소정 시간 동안 제 1 방향으로 흐른 뒤에, 스위칭 모듈(170)의 제 1 메인 밸브(171a)와 제 2 메인 밸브(172a)가 차단되며, 제 1 스위칭 밸브(173a)와 제 2 스위칭 밸브(174a)가 개방되어 공정 가스가 제 2 방향으로 흐르게 된다. 상기 공정 챔버(110)의 내부에 있는 사용된 고온의 공정 가스가 제 2 배관(114)을 통하여 배출되며, 스위칭 모듈(170)로 유입된다. 상기 공정 가스는 스위칭 모듈(170)의 제 2 스위칭 배관(174)을 통하여 제 1 쿨링 모듈(120)로 유입되며, 필터 모듈(140)과 제 1 스위칭 배관(173)을 통하여 제 1 배관(113)으로 공급되며 공정 챔버(110)로 유입된다. 따라서, 상기 열처리 장치(100)는 도 3을 참조하면 공정 가스가 제 2 방향으로 흐르는 경로가 형성되어 공정 가스가 공정 챔버(110)로부터 배출되어 냉각된 후에 공정 챔버(110)로 공급된다. 이때, 상기 공정 챔버(110)내에서는 제 1 배관(113)에서 제 2 배관(114) 방향으로 공정 가스가 흐르게 된다.Next, after the process gas flows in the first direction for a predetermined time, the first
상기 공정 가스는 공정 챔버(110)에서 450℃ 정도로 가열된 상태로 제 1 쿨링 모듈(120)로 유입된다. 상기 제 1 쿨링 모듈(120)은 유입되는 공정 가스를 100℃이하로 냉각시켜 블로워 모듈(130)로 공급한다. 상기 공정 가스는 블로워 모듈(130)에 의하여 송풍되면서 블로워의 블레이드와 마찰되면서 온도가 다시 상승한다. 상기 제 2 쿨링 모듈(150)은 공정 가스를 추가로 냉각시켜 필터 모듈(140)로 공급한다. 상기 제 2 쿨링 모듈(150)은 온도가 상승한 공정 가스를 다시 냉각시켜 40 ∼ 60℃로 냉각시킨다. 따라서, 상기 열처리 장치(100)는 냉각된 공정 가스가 공정 챔버(110)로 공급되도록 한다. The process gas is introduced into the
상기 공정 챔버(110)와 기판(10)의 온도가 일정 온도 이하로 떨어지는 경우에 블로워(231)의 작동을 중지하고 공정 챔버(110)의 셔터를 개방하여 기판(10)을 꺼내게 된다.
The operation of the
다음으로, 본 발명의 다른 실시예에 따른 순환 냉각 유닛과 이를 구비하는 열처리 장치에 대하여 설명한다.Next, a circulation cooling unit and a heat treatment apparatus having the same according to another embodiment of the present invention will be described.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 순환 냉각 유닛과 이를 구비하는 열처리 장치의 구성도이다. 도 7은 도 6의 블로워 모듈의 구체적인 구성도이다. 도 8은 도 6의 제1 필터 모듈의 구체적인 구성도이다. 도 9는 도 6의 제 2 필터 모듈의 구체적인 구성도이다.
6 is a configuration diagram of a circulation cooling unit and a heat treatment apparatus having the same according to another embodiment of the present invention. Fig. 7 is a specific configuration diagram of the blower module of Fig. 6; 8 is a specific configuration diagram of the first filter module of Fig. FIG. 9 is a specific configuration diagram of the second filter module of FIG. 6. FIG.
본 발명의 다른 실시예에 따른 순환 냉각 유닛 및 이를 구비하는 열처리 장치(200)는, 도 6내지 도 9를 참조하면, 공정 챔버(110)와 제 1 쿨링 모듈(120)과 블로워 모듈(230)과 제 2 쿨링 모듈(150)을 포함하여 형성된다. 또한, 상기 열처리 장치는 제 1 필터 모듈(240)과 제 2 필터 모듈(260)을 더 포함하여 형성될 수 있다. 여기서, 상기 제 1 쿨링 모듈(120)과 블로워 모듈(230)과 제 2 쿨링 모듈(150)은 공정 챔버(110)에서 배출되는 고온의 공정 가스를 냉각시켜 재공급하는 순환 냉각 유닛(200a)을 구성한다. 또한, 상기 순환 냉각 유닛(200a)은 제 1 필터 모듈(240)과 제 2 필터 모듈(260)도 더 포함할 수 있다. 상기 순환 냉각 유닛(200a)은 블로워 모듈에서 도 1의 순환 냉각 유닛(100a)의 스위칭 모듈(170)의 작용을 함께 수행한다. 6 to 9, the circulation cooling unit and the
한편, 이하에서는 상기 제 1 쿨링 모듈(120)과 블로워 모듈(230)과 제 2 쿨링 모듈(150)은 각각 하나씩 포함하는 것으로 설명하지만, 공정 챔버(110)의 크기와 공급되는 공정 가스의 양에 따라 각각 2 개 이상으로 형성될 수 있다. 또한, 상기 제 1 필터 모듈(240)과 제 2 필터 모듈(260)도 공정 가스의 원활한 필터링을 위하여 2개 이상으로 형성될 수 있다. In the following description, the
또한, 상기 열처리 장치(200)는 공정 가스에 대한 필터링이 필요하지 않은 경우에 제 1 필터 모듈(240)과 제 2 필터 모듈(260)이 생략될 수 있다.In addition, the
이하에서는 본 발명의 다른 실시예에 대한 설명에서는 도 1에 따른 본 발명의 일 실시예와 동일한 구성요소에 대하여는 동일한 도면 부호를 부여하고 구체적인 설명을 생략하며, 차이가 있는 구성 요소를 중심으로 설명한다.
Hereinafter, in the description of other embodiments of the present invention, the same constituent elements as those of the embodiment of the present invention shown in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and a detailed description thereof will be omitted, .
상기 제 1 쿨링 모듈(120)은 일측이 공정 챔버(110)의 제 1 배관(113)에 연결되며, 타측이 블로워 모듈(230)에 연결된다. 또한, 상기 제 1 쿨링 모듈(120)은 제 2 필터 모듈(260)이 연결되는 경우에 일측이 제 2 필터 모듈(260)의 타측에 연결된다. 즉, 상기 제 1 쿨링 모듈(120)은 제 1방향을 기준으로 제 1 배관(113) 또는 제 2 필터 모듈(260)과 블로워 모듈(230)의 일측 사이에 위치한다. 상기 제 1 쿨링 모듈(120)은 제 1 배관(113) 또는 제 2 필터 모듈(260)로부터 공급되는 사용된 공정 가스를 냉각시켜 블로워 모듈(230)로 공급한다. 상기 제 1 쿨링 모듈(120)은 블로워 모듈(230)이 고온의 공정 가스에 의하여 손상되는 것을 방지한다.
One side of the
상기 블로워 모듈(230)은 블로워(231)와 제 1 블로워 배관(232)과 제 2 블로워 배관(233)과 제 1 서브 블로워 배관(234)과 제 2 서브 블로워 배관(235)과 제 1 블로워 밸브(236)와 제 2 블로워 밸브(237)와 제 1 서브 블로워 밸브(238) 및 제 2 서브 블로워 밸브(239)를 포함하여 형성된다. 상기 블로워 모듈(230)은 제 1 블로워 배관(232)이 제 1 쿨링 모듈(120)에 연결되고, 제 2 블로워 배관(233)이 제 2 쿨링 모듈(150) 또는 제 1 필터 모듈(240)에 연결된다. 상기 블로워 모듈(230)은 제 1 쿨링 모듈(120)을 통하여 제 1 방향으로 공정 가스를 흡입하여 제 2 쿨링 모듈(150) 또는 제 1 필터 모듈(240)로 공급하고, 교대로 제 1 필터 모듈(240) 또는 제 2 쿨링 모듈(150)을 통하여 제 2 방향으로 공정 가스를 흡입하여 제 1 쿨링 모듈(120)로 공급한다. 보다 구체적으로는, 상기 블로워 모듈(230)은 제 1 블로워 밸브(236)와 제 2 블로워 밸브(237)가 개방되고 제 1 서브 블로워 밸브(238) 및 제 2 서브 블로워 밸브(239)가 차단된 상태에서 제 1 방향으로 공정 가스를 공급하며, 제 1 블로워 밸브(236)와 제 2 블로워 밸브(237)가 차단되고 제 1 서브 블로워 밸브(238) 및 제 2 서브 블로워 밸브(239)가 개방된 상태에서 제 2 방향으로 공정 가스를 공급한다.The
한편, 상기 제 1 블로워 밸브(236)와 제 1 서브 블로워 밸브(238)가 일체로 되어 제 1 쓰리웨이 밸브로 형성되고, 제 2 블로워 밸브(237)와 제 2 서브 블로워 밸브(239)가 일체로 되어 제 2 쓰리웨이 밸브로 형성될 수 있다.Meanwhile, the
상기 블로워(231)는 일측이 제 1 블로워 배관(232)을 통하여 제 1 쿨링 모듈(120)에 연결되고, 타측이 제 2 블로워 배관(233)을 통하여 제 2 쿨링 모듈(150)에 연결된다. 상기 블로워(231)는 제 1 배관(113)을 통하여 공정 챔버(110)의 내부에 있는 공정 가스를 흡입하여 제 1 쿨링 모듈(120)로 유입되도록 한다. 또한, 상기 블로워(231)는 제 2 배관(114)을 통하여 공정 챔버(110)의 내부에 있는 공정 가스를 흡입하여 제 2 쿨링 모듈(150)로 유입되도록 한다.One side of the
상기 블로워(231)는 필요로 하는 공정 가스의 양에 따라 적어도 2 개로 형성될 수 있다.The
상기 블로워(231)는 바람직하게는 흡기구(미도시)와 배기구(미도시) 사이가 외부와 밀폐되어 있는 블로워로 형성된다. 예를 들면, 상기 블로워(231)는 링 블로워 또는 터보 블로워로 형성될 수 있다. 상기 링 블로워와 터보 블로워는 구체적인 구조에서는 차이가 있으나 흡기구로부터 배기구 사이가 외부와 밀폐되어 흡기구로 흡입되는 기체를 중간에 유출시키지 않고 모두 배기구로 배출시킨다. 따라서, 상기 블로워(231)는 흡입하는 공정 가스가 외부로 유출되지 않도록 한다. 상기 링 블로워와 터보 블로워는 일반적으로 사용되는 장치이므로 여기서 구체적인 설명은 생략한다.The
상기 제 1 블로워 배관(232)은 일단이 제 1 쿨링 모듈(120)에 연결되고, 타단이 블로워(231)에 연결된다. 상기 제 1 블로워 배관(232)은 공정 가스가 제 1 방향으로 흐를 때 공정 가스가 블로워(231)로 유입되는 경로를 제공한다.The
상기 제 2 블로워 배관(233)은 일단이 블로워(231)에 연결되고, 타단이 제 2 쿨링 모듈(150)에 연결된다. 상기 제 2 블로워 배관(233)은 공정 가스가 제 1 방향으로 흐를 때 공정 가스가 블로워(231)로부터 유출되는 경로를 제공한다.The
상기 제 1 서브 블로워 배관(234)은 일단이 제 1 블로워 배관(232)에 연결되고, 타단이 제 2 블로워 배관(233)에 연결된다. 상기 제 1 서브 블로워 배관(234)은 공정 가스가 제 2 방향으로 흐를 때 블로워(231)로 공정 가스가 유입되는 경로를 제공한다. 또한, 상기 제 1 서브 블로워 배관(234)은 공정 가스가 제 1 방향으로 흐를 때 차단되어 공정 가스가 흐르지 않는다. The first
상기 제 2 서브 블로워 배관(235)은 일단이 제 1 블로워 배관(232)에 연결되며, 타단이 제 2 블로워 배관(233)에 연결된다. 이때, 상기 제 2 서브 블로워 배관(235)의 일단은 제 1 서브 블로워 배관(234)의 일단과 제 1 블로워 배관(232)의 타단 사이에서 제 1 블로워 배관(232)에 연결된다. 또한, 상기 제 1 서브 블로워 배관(234)의 타단은 제 1 서브 블로워 배관(234)의 타단과 제 2 블로워 배관(233)의 타단 사이에 연결된다. 상기 제 2 서브 블로워 배관(235)은 공정 가스가 제 2 방향으로 흐를 때 블로워(231)로부터 공정 가스가 유출되는 경로를 제공한다. 또한, 상기 제 2 서브 블로워 배관(235)은 공정 가스가 제 1 방향으로 흐를 때 차단되어 공정 가스가 흐르지 않는다. The second
상기 제 1 블로워 밸브(236)는 제 1 서브 블로워 배관(234)의 일단과 제 2 서브 블로워 배관(235)의 일단 사이에서 제 1 블로워 배관(232)에 결합된다. 상기 제 1 블로워 밸브는 제 1 블로워 배관(232)을 통하여 블로워(231)로 공정 가스가 유입되는 것을 제어한다. 따라서, 상기 제 1 블로워 밸브(236)가 개방되면 제 1 블로워 배관(232)을 통하여 블로워(231)로 공정 가스가 유입된다. 또한, 상기 제 1 블로워 밸브(236)가 제 2 서브 블로워 밸브(239) 차단되면, 제 1 블로워 배관(232)을 통하여 블로워(231)로 공정 가스가 유입되는 것이 차단된다.The
상기 제 2 블로워 밸브(237)는 제 1 서브 블로워 배관(234)의 타단과 제 2 서브 블로워 배관(235)의 타단 사이에서 제 2 블로워 배관(233)에 결합된다. 상기 제 2 블로워 밸브는 제 2 블로워 배관(233)을 통하여 블로워(231)로부터 공정 가스가 유출되는 것을 제어한다. 따라서, 상기 제 2 블로워 밸브(237)가 개방되면 제 2 블로워 배관(233)을 통하여 블로워(231)로부터 공정 가스가 유출된다. 또한, 상기 제 2 블로워 밸브(237)가 차단되면, 제 2 블로워 배관(233)을 통하여 블로워(231)로부터 공정 가스가 유출되는 것이 차단된다.The
상기 제 1 서브 블로워 밸브(238)는 제 1 서브 블로워 배관(234)에 결합된다. 상기 제 1 서브 블로워 밸브(238)는 제 1 서브 블로워 배관(234)에 공정 가스가 흐르는 것을 제어한다. 따라서, 상기 제 1 서브 블로워 밸브(238)가 개방되면 제 1 서브 블로워 배관(234)을 통하여 공정 가스가 흐르게 된다. 즉, 상기 제 1 서브 블로워 배관(234)은 공정 가스가 제 2 방향으로 흐를 때, 공정 가스가 블로워(231)로부터 유출되는 경로를 제공한다. The first
상기 제 2 서브 블로워 밸브(239)는 제 2 서브 블로워 배관(235)에 결합된다. 상기 제 2 서브 블로워 밸브(239)는 제 2 서브 블로워 배관(235)에 공정 가스가 흐르는 것을 제어한다. 따라서, 상기 제 2 서브 블로워 밸브(239)가 개방되면 제 2 서브 블로워 배관(235)을 통하여 공정 가스가 흐르게 된다. 즉, 상기 제 2 서브 블로워 배관(235)은 공정 가스가 제 2 방향으로 흐를 때, 공정 가스가 블로워(231)로 유입되는 경로를 제공한다.
The second
상기 제 1 필터 모듈(240)은 제 1 필터(241)와 제 1 필터 배관(242)과 제 1 메인 필터 밸브(243) 및 제 1 서브 필터 밸브(244)를 포함하여 형성된다. 상기 제 1 필터 모듈은 일측이 제 2 쿨링 모듈(150)에 연결되며, 타측이 제 2 배관(114)에 연결된다. 상기 제 1 필터 모듈(240)은 공정 가스가 제 2 방향으로 흐를 때 공정 가스가 제 1 필터(241)로 흐르지 않고 제 1 필터 배관(242)으로 바이 패스되어 흐르도록 한다. 따라서, 상기 제 1 필터 모듈(240)은 공정 챔버(110)의 제 2 배관(114)에서 유출되는 가열된 공정 가스가 냉각되지 않은 상태에서 제 1 필터(241)로 유입되어 제 1 필터(241)를 손상시키는 것을 방지한다. 또한, 상기 제 1 필터 모듈(240)은 공정 가스가 제 2 방향으로 흐를 때 공정 가스가 제 1 필터(241)를 통과하여 흐르도록 한다. 따라서, 상기 제 1 필터 모듈(240)은 제 2 쿨링 모듈(150)을 통과하면서 냉각된 공정 가스를 제 1 필터(241)로 통과시켜 공정 가스가 필터링되어 제 2 배관(114)을 통하여 공정 챔버(110)로 유입되도록 한다. The
상기 제 1 필터(241)는 일측이 제 2 쿨링 모듈(150)에 연결되며, 타측이 제 2 배관(114)에 연결된다. 상기 제 1 필터(241)는 공정 가스가 제 1 방향으로 흐를 때 제 2 쿨링 모듈(150)로부터 공급되는 공정 가스를 필터링하여 제 2 배관(114)으로 공급한다. 상기 제 1 필터(241)는 헤파 필터(Hepa Filter), 울파 필터, 카본 필터 또는 메쉬 필터와 같은 필터를 포함하여 형성된다. 상기 필터들은 반도체 공정 또는 평판 디스플레이 장치 제조 공정에서 많이 사용되는 필터이므로 여기서 구체적인 설명을 생략한다. One side of the
상기 제 1 필터 배관(242)은 일단이 제 1 필터(241)의 일측에 연결되고 타단이 제 1 필터(241)의 타측에 연결된다. 상기 제 1 필터 배관(242)은 제 1 필터(241)에 대하여 공정 가스가 흐르는 바이 패스 경로를 형성한다. 따라서, 상기 제 1 필터 배관(242)은 공정 가스가 제 2 방향으로 흐를 때 공정 가스가 흐르는 경로를 제공하여, 공정 가스가 제 1 필터(241)로 흐르지 않도록 한다. 한편, 상기 공정 가스가 제 1 방향으로 흐를 때 차단되어 공정 가스가 흐르지 않는다.One end of the
상기 제 1 메인 필터 밸브(243)는 제 1 필터(241)의 후단에 결합되며, 공정 가스가 제 1 필터(241)로 유입되는 것을 제어한다. 즉 상기 제 1 메인 필터 밸브(243)는 공정 가스가 제 2 방향으로 흐를 때 차단되어 공정 가스가 제 1 필터(241)로 유입되는 것을 차단한다. 또한, 상기 제 1 메인 필터 밸브(243)는 공정 가스가 제 1 방향으로 흐를 때 개방되어 공정 가스가 제 1 필터(241)를 통과하도록 한다. The first
상기 제 1 서브 필터 밸브(244)는 제 1 필터 배관(242)에 설치되며, 공정 가스가 제 1 필터 배관(242)으로 흐르는 것을 제어한다. 상기 제 1 서브 필터 밸브(244)는 공정 가스가 제 2 방향으로 흐를 때 개방되어 공정 가스가 흐르는 경로를 제공한다. 또한, 상기 제 1 서브 필터 밸브(244)는 공정 가스가 제 1 방향으로 흐를 때 차단되어 공정 가스가 제 1 필터 배관(242)으로 흐르는 것을 차단한다.
The
상기 제 2 필터 모듈(260)은 제 2 필터(261)와 제 2 필터 배관(262)과 제 2 메인 필터 밸브(263) 및 제 2 서브 필터 밸브(264)를 포함하여 형성된다. 상기 제 2 필터 모듈(260)은 공정 가스가 제 1 방향으로 흐를 때 공정 가스가 제 1 필터(241)로 흐르지 않게 하며, 제 2 필터 배관(262)으로 흐르도록 한다. 또한, 상기 제 2 필터 모듈(260)은 공정 가스가 제 2 방향으로 흐를 때 공정 가스가 제 2 필터(261)를 통과하도록 한다. 따라서, 상기 제 2 필터 모듈(260)은 제 1 쿨링 모듈(120)을 통과하면서 냉각된 공정 가스를 제 2 필터(261)로 통과시켜 공정 가스가 필터링되어 제 1 배관(113)을 통하여 공정 챔버(110)로 유입되도록 한다. 또한, 상기 제 2 필터 모듈(260)은 공정 챔버(110)의 제 1 배관(113)에서 유출되는 가열된 공정 가스가 냉각되지 않은 상태에서 제 2 필터(261)로 유입되어 제 2 필터(261)를 손상시키는 것을 방지한다.The
상기 제 2 필터(261)는 일측이 제 1 배관(113)에 연결되며, 타측이 제 1 쿨링 모듈(120)에 연결된다. 상기 제 2 필터(261)는 공정 가스가 제 2 방향으로 흐를 때 제 1 쿨링 모듈(120)로부터 공급되는 공정 가스를 필터링하여 제 1 배관(113)으로 공급한다. 상기 제 2 필터(261)는 헤파 필터(Hepa Filter), 울파 필터, 카본 필터 또는 메쉬 필터와 같은 필터를 포함하여 형성된다. One side of the
상기 제 2 필터 배관(262)은 일단이 제 2 필터(261)의 일측에 연결되고 타단이 제 2 필터(261)의 타측에 연결된다. 상기 제 2 필터 배관(262)은 제 2 필터(261)에 대하여 공정 가스가 흐르는 바이 패스 경로를 형성한다. 따라서, 상기 제 2 필터 배관(262)은 공정 가스가 제 1 방향으로 흐를 때 공정 가스가 흐르는 경로를 제공하여, 공정 가스가 제 2 필터(261)로 흐르지 않도록 한다. One end of the
상기 제 2 메인 필터 밸브(263)는 제 2 필터(261)의 전단에 결합되며, 공정 가스가 제 2 필터(261)로 유입되는 것을 제어한다. 상기 제 2 메인 필터 밸브(263)는 공정 가스가 제 1 방향으로 흐를 때 차단되어 가열된 공정 가스가 제 2 필터(261)로 유입되는 것을 차단한다. 또한, 상기 제 2 메인 필터 밸브(263)는 공정 가스가 제 2 방향으로 흐를 때 개방되어 공정 가스가 제 2 필터(261)를 통과하도록 한다. The second
상기 제 2 서브 필터 밸브(264)는 제 2 필터 배관(262)에 설치되며, 공정 가스가 제 2 필터 배관(262)으로 흐르는 것을 제어한다. 상기 제 2 서브 필터 밸브(264)는 공정 가스가 제 1 방향으로 흐를 때 개방되어 공정 가스가 흐르는 경로를 제공한다. 또한, 상기 제 2 서브 필터 밸브(264)는 공정 가스가 제 2 방향으로 흐를 때 차단되어 공정 가스가 제 2 필터 배관(262)으로 흐르는 것을 차단한다.
The
다음은 본 발명의 다른 실시예에 따른 순환 냉각 유닛을 구비하는 열처리 장치의 작용에 대하여 설명한다. Next, the operation of the heat treatment apparatus having the circulation cooling unit according to another embodiment of the present invention will be described.
먼저, 상기 공정 챔버(110)에 기판(10)이 장입되어 열처리 공정이 진행되며, 열처리 공정이 종료된 후에 제 1 배관(113)의 제 1 제어 밸브(113a)와 제 2 배관(114)의 제 2 제어 밸브(114a)가 개방된다. 또한, 상기 제 1 필터 모듈(240)의 제 1 필터 밸브(243)가 개방되고 제 1 서브 필터 밸브(244)가 차단된다. 또한, 상기 블로워 모듈(230)의 제 1 메인 블로워 밸브(236)와 제 2 메인 블로워 밸브(237)가 개방되고 제 1 서브 블로워 밸브(238)와 제 2 서브 블로워 밸브(239)가 차단된다. 또한, 상기 제 2 필터 모듈(260)의 제 2 필터 밸브(263)가 차단되고 제 2 서브 필터 밸브(264)가 개방된다. 따라서, 상기 순환 냉각 유닛은 공정 가스가 제 1 방향으로 흐르는 경로를 형성한다.First, the
다음으로, 상기 블로워(231)가 작동되어 공정 챔버(110)의 내부에 있는 사용된 고온의 공정 가스가 제 1 방향으로 흐르게 되며, 제 1 배관(113)을 통하여 제 1 쿨링 모듈(120)로 유입된다. 이때, 상기 공정 가스는 450℃ 정도로 가열된 상태로 제 1 쿨링 모듈(120)로 유입된다. 상기 제 1 쿨링 모듈(120)은 유입되는 공정 가스를 냉각시켜 제 1 메인 블로워 배관(232)을 통하여 블로워(231)로 유입되도록 한다. 상기 블로워(231)로 유입되는 공정 가스는 제 1 쿨링 모듈(120)에 의하여 냉각되어 100℃이하로 냉각된다. 상기 블로워(231)를 통과한 공정 가스는 제 2 메인 블로워 배관(233)을 통하여 제 2 쿨링 모듈(150)로 공급된다. 상기 블로워(231)를 통과한 공정 가스는 블로워(231)의 블레이드와 마찰되면서 온도가 다시 상승한다. 상기 제 2 쿨링 모듈(150)은 공정 가스를 추가로 냉각시켜 제 1 필터 모듈(240)로 공급한다. 상기 제 2 쿨링 모듈(150)은 온도가 상승한 공정 가스를 다시 냉각시켜 40 ∼ 60℃로 냉각시킨다. 따라서, 상기 제 2 쿨링 모듈(150)은 공정 가스가 블로워(231)를 통과하면서 온도가 많이 상승하지 않는 경우에, 바이 패스될 수 있다. 상기 공정 가스는 제 1 필터(241)를 통과하면서 필터링되며 제 2 배관(114)을 통하여 공정 챔버(110)로 유입된다. Next, the
다음으로, 상기 순환 냉각 유닛은 공정 가스가 제 2 방향으로 흐르는 경로를 형성한다. 즉, 상기 제 1 배관(113)의 제 1 제어 밸브(113a)와 제 2 배관(114)의 제 2 제어 밸브(114a)가 개방된다. 또한, 상기 제 1 필터 모듈(240)의 제 1 필터 밸브(243)가 차단되고 제 1 서브 필터 밸브(244)가 개방된다. 또한, 상기 블로워 모듈(230)의 제 1 메인 블로워 밸브(236)와 제 2 메인 블로워 밸브(237)가 차단되고 제 1 서브 블로워 밸브(238)와 제 2 서브 블로워 밸브(239)가 개방된다. 또한, 상기 제 2 필터 모듈(260)의 제 2 필터 밸브(263)가 개방되고 제 2 서브 필터 밸브(264)가 차단된다. 따라서, 상기 순환 냉각 유닛은 공정 가스가 제 2 방향으로 흐르는 경로를 형성한다. 상기 공정 가스는 제 2 배관(114)과 제 1필터 모듈(240)의 제 2 서브 필터 배관(242)과 제 2 쿨링 모듈(150)과 블로워 모듈(230)의 제 2 서브 블로워 배관(235)과 블로워(231)와 제 1 서브 블로워 배관(234)과 제 1 쿨링 모듈(120)과 제 1 배관(113)을 통하여 흐르게 된다. 또한, 상기 공정 가스는 공정 챔버(110)내에서 제 1 배관(113)에서 제 2 배관(114) 방향으로 흐른다.Next, the circulation cooling unit forms a path through which the process gas flows in the second direction. That is, the
상기 열처리 장치(200)는 상기와 같은 작용에 의하여 공정 챔버(110) 내부의 공정 가스를 제 1 방향과 제 2 방향으로 교대로 흐르게 하면서 냉각시켜 공정 챔버(110) 내부로 다시 공급한다. 상기 공정 챔버(110)와 기판(10)의 온도가 일정 온도 이하로 떨어지는 경우에 블로워(231)의 작동을 중지하고 공정 챔버(110)의 셔터를 개방하여 기판(10)을 꺼내게 된다.
The
다음은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 열처리 장치에 사용되는 블로워 모듈에 대하여 설명한다.Next, a blower module used in a heat treatment apparatus according to another embodiment of the present invention will be described.
도 10은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 블로워 모듈의 구체적인 구성도이다.10 is a specific configuration diagram of a blower module according to another embodiment of the present invention.
본 발명의 또 다른 실시예에 따른 블로워 모듈(330)은, 도 10을 참조하면, 제 1 블로워(331)와 제 2 블로워(332)를 포함하여 형성된다. 상기 블로워 모듈(330)은 공정 가스가 제 1 방향과 제 2 방향으로 교대로 흐르도록 한다. 상기 블로워 모듈은 본 발명의 다른 실시예에 따른 열처리 장치의 순환 냉각 유닛을 구성하는 블로워 모듈(200을 대체하여 사용될 수 있다.Referring to FIG. 10, the
한편, 상기 제 1 블로워(331)와 제 2 블로워(332)는 일체로 형성될 수 있다. 또한, 상기 제 1 블로워(331)와 제 2 블로워(332)는 공정 가스가 흐르도록 하는 방향에서만 상기의 블로워와 차이가 있으며, 구성에 있어서는 동일 또는 유사하므로 여기서 구체적인 설명을 생략한다. 또한, 상기 블로워 모듈(330)도 각각 제 1 쿨링 모듈(120)과 제 2 쿨링 모듈(150)을 연결하는 배관이 형성되지만, 배관이 특징적인 작용을 하지 않으므로 여기서는 도면 부호를 부여하여 추가적으로 설명하는 것을 생략한다.Meanwhile, the
상기 제 1 블로워(331)는 일측이 제 1 쿨링 모듈(120)에 연결되며, 타측이 제 2 쿨링 모듈(150)에 연결된다. 상기 제 1 블로워(331)는 공정 가스가 제 1 방향으로 흐르도록 형성된다. 즉, 상기 제 1 블로워(331)는 제 1 배관(113)으로부터 공정 가스를 흡입하여 제 2 배관(114)으로 공급하도록 작동된다. One side of the
상기 제 2 블로워(332)는 일측이 제 1 쿨링 모듈(120)에 연결되며, 타측이 제 2 쿨링 모듈(150)에 연결된다. 상기 제 2 블로워(332)는 공정 가스가 제 2 방향으로 흐르도록 형성된다. 즉, 상기 제 2 블로워(332)는 제 2 배관(114)으로부터 공정 가스를 흡입하여 제 1 배관(113)으로 공급하도록 작동된다. One side of the
상기 블로워 모듈(330)은 제 1 블로워(331)를 작동시키고 제 2 블로워(332)를 정지시켜 공정 가스가 제 1 방향으로 흐르도록 한다. 또한, 상기 블로워 모듈(330)은 제 1 블로워(331)를 정지시키고 제 2 블로워(332)를 작동시켜 공정 가스가 제 2 방향으로 흐르도록 한다.
The
상기 열처리 장치는 공정 챔버에서 사용된 공정 가스를 순환 냉각을 통하여 재공급하여 공정 가스의 급배기 흐름을 형성함으로써 공정 챔버와 기판의 급속 냉각이 가능하게 한다. The heat treatment apparatus re-supplies the process gas used in the process chamber through circulation cooling to form a supply / exhaust flow of the process gas, thereby enabling rapid cooling of the process chamber and the substrate.
더욱이, 상기 열처리 장치는 공정 가스가 제 1 방향과 제 2 방향으로 교대로 흐르면서 공정 챔버(110)로 공급되므로 보다 효율적으로 공정 챔버(110)와 기판을 냉각하여 냉각시간이 단축되며, 공정 챔버(110)와 기판의 양측에서의 온도 편차가 감소된다. 즉, 도 4와 도 5를 참조하면, 상기 열처리 장치에서 공정 가스가 제 1 방향으로 흐르는 경우에, 공정 챔버(110) 내부에서는 제 2 배관(114) 측으로 냉각된 공정 가스가 유입되고 가열된 공기가 제 1 배관(113)으로 배출되므로 제 2 배관(114)측이 상대적으로 온도가 높게 된다. 그러나, 상기 공정 가스가 제 2 방향으로 흐르는 경우에, 제 1 배관(113) 측으로 냉각된 공정 가스가 유입되어 제 1 배관(113)측을 효과적으로 냉각시킨다. 따라서, 상기 공정 챔버(110)는 제 1 배관(113)측과 제 2 배관(114)측이 함께 온도가 낮아지게 된다. Further, since the process gas is supplied to the
또한, 상기 열처리 장치는 산소 농도 제어가 필요한 금속 어닐 공정에서 공정 챔버(110)에 미리 공급되어 있는 질소 가스를 재순환시켜 공정 챔버(110)로 공급함으로써 질소 가스의 소모없이 산소 농도의 제거가 가능하게 된다. Also, in the above-described heat treatment apparatus, the nitrogen gas previously supplied to the
100, 200: 열처리 장치
100a. 200a: 순환 냉각 유닛
110: 공정 챔버 120: 제 1 쿨링 유닛
130, 230, 330: 블로워 모듈 140: 필터 모듈
150: 제 2 쿨링 유닛 240: 제 1 필터 모듈
260: 제 2 필터 모듈 170: 스위칭 모듈100, 200: Heat treatment apparatus
100a. 200a: circulating cooling unit
110: process chamber 120: first cooling unit
130, 230, 330: Blower module 140: Filter module
150: second cooling unit 240: first filter module
260: second filter module 170: switching module
Claims (21)
상기 공정 가스의 공급 방향을 상기 제 1 배관으로부터 흡입하여 제 2 배관으로 공급하는 제 1 방향과 제 2 배관으로부터 흡입하여 제 1 배관으로 공급하는 제 2 방향으로 교대로 전환하며,
상기 제 1 배관에 연결되며 상기 공정 가스를 냉각하는 제 1 쿨링 모듈과
일측이 상기 제 1 쿨링 모듈에 연결되며 상기 공정 챔버의 공정 가스를 흡입하는 블로워를 포함하는 블로워 모듈 및
일측이 상기 제 1 배관과 제 1 쿨링 모듈 사이에 연결되고 타측이 상기 제 2 배관과 상기 블로워 모듈 사이에 연결되며 상기 공정 가스가 상기 제 1 방향과 제 2 방향으로 교대로 흐르도록 하는 스위칭 모듈을 포함하는 것을 특징으로 하는 순환 냉각 유닛.One side connected to the first pipe of the process chamber and the other side connected to the second pipe of the process chamber to suck and cool the process gas in the process chamber and then supply the process gas to the process chamber,
A first direction in which the supply direction of the process gas is sucked from the first pipe and supplied to the second pipe and a second direction in which the second pipe is sucked from the second pipe and supplied to the first pipe,
A first cooling module connected to the first pipe and cooling the process gas,
A blower module having one side connected to the first cooling module and a blower for sucking the process gas of the process chamber;
A switching module connected between the first pipe and the first cooling module and the other connected between the second pipe and the blower module and allowing the process gas to alternately flow in the first direction and the second direction, And the circulation cooling unit.
상기 스위칭 모듈은
제 1 메인 밸브를 구비하며 일단이 상기 제 1 배관에 연결되고 타단이 제 1 쿨링 모듈에 연결되는 제 1 메인 배관과,
제 2 메인 밸브를 구비하며 일단이 상기 블로워 모듈에 연결되고 타단이 상기 제 2 배관에 연결되는 제 2 메인 배관과,
제 1 스위칭 밸브를 구비하며 일단이 상기 제 1 메인 배관에서 상기 제 1 메인 밸브의 전단에 연결되며, 타단이 상기 제 2 메인 배관에서 상기 제 2 메인 밸브의 전단에 연결되는 제 1 스위칭 배관 및
제 2 스위칭 밸브를 구비하며 일단이 상기 제 1 메인 배관에서 상기 제 1 메인 밸브의 후단에 연결되며, 타단이 상기 제 2 메인 배관에서 상기 제 2 메인 밸브의 후단에 연결되는 제 2 스위칭 배관을 포함하는 것을 특징으로 하는 순환 냉각 유닛.3. The method of claim 2,
The switching module
A first main pipe having a first main valve, one end connected to the first pipe and the other end connected to a first cooling module,
A second main pipe having a second main valve, one end connected to the blower module and the other end connected to the second pipe,
A first switching pipe having a first switching valve and having one end connected to the front end of the first main valve in the first main pipe and the other end connected to the front end of the second main valve in the second main pipe;
And a second switching pipe having one end connected to the rear end of the first main valve in the first main pipe and the other end connected to the rear end of the second main valve in the second main pipe, And the cooling water is cooled.
상기 제 1 방향은 상기 제 1 메인 밸브와 상기 제 2 메인 밸브가 개방되고 상기 제 1 스위칭 밸브와 제 2 스위칭 밸브가 차단되어 이루어지며,
상기 제 2 방향은 상기 제 1 메인 밸브와 상기 제 2 메인 밸브가 차단되고 상기 제 1 스위칭 밸브와 제 2 스위칭 밸브가 개방되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 순환 냉각 유닛.The method of claim 3,
The first main valve and the second main valve are opened and the first and second switching valves are closed in the first direction,
Wherein the first main valve and the second main valve are blocked and the first switching valve and the second switching valve are opened in the second direction.
일측이 상기 블로워 모듈에 연결되며, 타측이 상기 스위칭 모듈의 타측에 연결되는 필터 모듈 및
상기 블로워 모듈과 상기 필터 모듈 사이에 연결되는 제 2 쿨링 모듈을 포함하는 것을 특징으로 하는 순환 냉각 유닛.3. The method of claim 2,
A filter module having one side connected to the blower module and the other side connected to the other side of the switching module;
And a second cooling module connected between the blower module and the filter module.
상기 필터 모듈은 헤파 필터, 울파 필터, 카본 필터 또는 메쉬 필터를 포함하여 형성되는 것을 특징으로 하는 순환 냉각 유닛. 6. The method of claim 5,
Wherein the filter module is formed to include a HEPA filter, an UL wave filter, a carbon filter, or a mesh filter.
상기 공정 가스의 공급 방향을 상기 제 1 배관으로부터 흡입하여 제 2 배관으로 공급하는 제 1 방향과 제 2 배관으로부터 흡입하여 제 1 배관으로 공급하는 제 2 방향으로 교대로 전환하며,
일측이 상기 제 1 배관에 연결되며 상기 공정 챔버의 공정 가스를 냉각하는 제 1 쿨링 모듈과,
일측이 상기 제 1 쿨링 모듈과 연결되며 상기 공정 챔버의 공정 가스를 흡입하여 제 1 방향과 제 2 방향으로 교대로 흐르도록 하는 블로워 모듈 및
일측이 상기 블로워 모듈과 연결되고 타측이 상기 제 2 배관에 연결되며, 상기 공정 챔버의 공정 가스를 냉각하는 제 2 쿨링 모듈을 포함하는 것을 특징으로 하는 순환 냉각 유닛.One side connected to the first pipe of the process chamber and the other side connected to the second pipe of the process chamber to suck and cool the process gas in the process chamber and then supply the process gas to the process chamber,
A first direction in which the supply direction of the process gas is sucked from the first pipe and supplied to the second pipe and a second direction in which the second pipe is sucked from the second pipe and supplied to the first pipe,
A first cooling module connected to the first pipe and cooling the process gas of the process chamber,
A blower module having one side connected to the first cooling module and sucking the process gas of the process chamber to alternately flow in the first direction and the second direction;
And a second cooling module for cooling the process gas of the process chamber, one side of which is connected to the blower module and the other side of which is connected to the second pipe.
상기 블로워 모듈은
상기 공정 가스를 흡입하여 공급하는 블로워와,
일단이 상기 제 1 쿨링 모듈에 연결되고 타단이 상기 블로워에 연결되는 제 1 블로워 배관과,
일단이 상기 블로워에 연결되고, 타단이 상기 제 2 쿨링 모듈에 연결되는 제 2 블로워 배관과,
일단이 상기 제 1 블로워 배관에 연결되고, 타단이 상기 제 2 블로워 배관에 연결되는 제 1 서브 블로워 배관 및
일단이 상기 제 1 서브 블로워 배관의 일단과 상기 제 1 블로워 배관의 타단 사이에서 상기 제 1 블로워 배관에 연결되며, 타단이 상기 제 1 서브 블로워 배관의 타단과 상기 제 2 블로워 배관의 타단 사이에서 상기 제 2 블로워 배관에 연결되는 제 2 서브 블로워 배관을 포함하는 것을 특징으로 하는 순환 냉각 유닛.8. The method of claim 7,
The blower module
A blower for sucking and supplying the process gas,
A first blower pipe having one end connected to the first cooling module and the other end connected to the blower,
A second blower pipe having one end connected to the blower and the other end connected to the second cooling module,
A first sub-blower pipe having one end connected to the first blower pipe and the other end connected to the second blower pipe,
And the other end of the first sub blower pipe is connected to the first blower pipe between the one end of the first sub blower pipe and the other end of the first blower pipe and the other end is connected between the other end of the first sub blower pipe and the other end of the second blower pipe And a second sub-blower pipe connected to the second blower pipe.
상기 블로워 모듈은
상기 제 1 서브 블로워 배관의 일단과 상기 제 2 서브 블로워 배관의 일단 사이에서 상기 제 1 블로워 배관에 결합되는 제 1 블로워 밸브와,
상기 제 1 서브 블로워 배관의 타단과 제 2 서브 블로워 배관의 타단 사이에서 상기 제 2 블로워 배관에 결합되는 제 2 블로워 밸브와,
상기 제 1 서브 블로워 배관에 결합되는 제 1 서브 블로워 밸브 및
상기 제 2 서브 블로워 배관에 결합되는 제 2 서브 블로워 밸브를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 순환 냉각 유닛.9. The method of claim 8,
The blower module
A first blower valve coupled to the first blower pipe between one end of the first sub blower pipe and one end of the second sub blower pipe,
A second blower valve coupled to the second blower pipe between the other end of the first sub-blower pipe and the other end of the second sub-blower pipe,
A first sub-blower valve coupled to the first sub-blower pipe and
And a second sub-blower valve coupled to the second sub-blower pipe.
상기 블로워 모듈은
상기 제 1 방향으로 상기 공정 가스를 흐르게 하는 제 1 블로워 및
상기 제 2 방향으로 상기 공정 가스를 흐르게 하는 2 블로워(320a)를 포함하며, 상기 제 1 블로워와 제 2 블로워가 교대로 작동하는 것을 특징으로 하는 순환 냉각 유닛.8. The method of claim 7,
The blower module
A first blower for allowing the process gas to flow in the first direction;
And two blowers (320a) for allowing the process gas to flow in the second direction, wherein the first blower and the second blower alternately operate.
상기 제 2 배관과 제 2 쿨링 모듈 사이에 위치하며, 상기 제 2 배관으로 공급되는 상기 공정 가스를 필터링하는 제 1 필터 모듈 및
상기 제 1 배관과 제 1 쿨링 모듈 사이에 위치하며, 상기 제 1 배관으로 공급되는 상기 공정 가스를 필터링하는 제 2 필터 모듈을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 순환 냉각 유닛.8. The method of claim 7,
A first filter module positioned between the second pipe and the second cooling module for filtering the process gas supplied to the second pipe,
Further comprising a second filter module located between the first pipe and the first cooling module for filtering the process gas supplied to the first pipe.
상기 제 1 필터 모듈은
일측이 상기 제 2 쿨링 모듈에 연결되고 타측이 상기 제 2 배관에 연결되는 제 1 필터와,
일단이 상기 제 1 필터의 일측에 연결되고 타단이 상기 제 1 필터의 타측에 연결되는 제 1 필터 배관과,
상기 제 1 필터의 전단에 결합되는 제 1 메인 필터 밸브 및
상기 제 1 필터 배관에 설치되는 제 1 서브 필터 밸브를 포함하며,
상기 제 2 필터 모듈은
일측이 상기 제 1 배관에 연결되며, 타측이 상기 제 1 쿨링 모듈에 연결되는 제 2 필터와,
일단이 상기 제 2 필터의 일측에 연결되고 타단이 상기 제 2 필터의 타측에 연결되는 제 2 필터 배관과,
상기 제 2 필터의 후단에 결합되는 제 2 메인 필터 밸브 및
상기 제 2 필터 배관에 설치되는 제 2 서브 필터 밸브를 포함하는 것을 특징으로 하는 순환 냉각 유닛.12. The method of claim 11,
The first filter module
A first filter having one side connected to the second cooling module and the other side connected to the second pipe;
A first filter pipe having one end connected to one side of the first filter and the other end connected to the other side of the first filter;
A first main filter valve coupled to a front end of the first filter,
And a first sub-filter valve installed in the first filter pipe,
The second filter module
A second filter having one side connected to the first pipe and the other side connected to the first cooling module;
A second filter pipe having one end connected to one side of the second filter and the other end connected to the other side of the second filter;
A second main filter valve coupled to a downstream end of the second filter,
And a second sub-filter valve installed in the second filter pipe.
상기 제 1 필터와 제 2 필터는 헤파 필터, 울파 필터, 카본 필터 또는 메쉬 필터를 포함하여 형성되는 것을 특징으로 하는 순환 냉각 유닛. 13. The method of claim 12,
Wherein the first filter and the second filter are formed by including a HEPA filter, an ULPA filter, a carbon filter, or a mesh filter.
상기 제 1 방향은 상기 제 1 배관과 상기 제 2 필터 배관과 상기 제 1 쿨링 모듈과 상기 제 1 메인 블로워 배관과 상기 블로워와 상기 제 2 메인 블로워 배관과 상기 제 2 쿨링 모듈과 상기 제 1 필터와 상기 제 2 배관을 순차적으로 흐르도록 이루어지며, 상기 제 2 방향은 상기 제 2 배관과 상기 제 1 필터 배관과 상기 제 2 쿨링 모듈과 상기 제 2 서브 블로워 배관과 상기 블로워와 상기 제 1 서브 블로워 배관과 상기 제 2 쿨링 모듈과 상기 제 2 필터와 상기 제 1 배관을 순차적으로 흐르도록 이루어지는 것을 특징으로 하는 순환 냉각 유닛.13. The method of claim 12,
Wherein the first direction comprises at least one of the first pipe, the second filter pipe, the first cooling module, the first main blower pipe, the blower, the second main blower pipe, the second cooling module, The first sub-blower pipe, the second sub-blower pipe, the first sub-blower pipe, the second sub-blower pipe, and the second sub-blower pipe, and the second direction is made to flow sequentially through the second pipe, And the second cooling module, the second filter, and the first pipe sequentially.
상기 블로워는 링 블로워, 터보 블로워, 송풍기, 로터리 펌프 또는 부스터 펌프로 형성되는 것을 특징으로 하는 순환 냉각 유닛. 9. The method according to claim 2 or 8,
Wherein the blower is formed by a ring blower, a turbo blower, a blower, a rotary pump, or a booster pump.
상기 블로워는 적어도 2 개로 형성되는 것을 특징으로 하는 순환 냉각 유닛.9. The method according to claim 2 or 8,
Wherein the blower is formed of at least two.
상기 제 1 배관과 상기 제 2 배관 사이에 연결되며, 제 2 항 내지 제 14 항중 어느 하나의 항에 따라 형성되는 순환 냉각 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 순환 냉각 유닛을 구비하는 열처리 장치.A process chamber having a first pipe and a second pipe, in which a substrate is positioned and heat-treated;
And a circulation cooling unit connected between the first pipe and the second pipe, the circulation cooling unit being formed according to any one of claims 2 to 14.
상기 공정 챔버는 외부 하우징과 상기 외부 하우징의 내부에 수용되는 내부 하우징을 포함하며,
상기 제 1 배관은 상기 외부 하우징의 일측면을 관통하여 상기 내부 하우징의 일측면에 연결되며,
상기 제 2 배관은 상기 외부 하우징의 타측면을 관통하여 상기 내부 하우징의 타측면에 연결되는 것을 특징으로 하는 순환 냉각 유닛을 구비하는 열처리 장치. 18. The method of claim 17,
Wherein the process chamber includes an outer housing and an inner housing received within the outer housing,
The first pipe is connected to one side of the inner housing through one side of the outer housing,
And the second pipe is connected to the other side of the inner housing through the other side of the outer housing.
상기 공정 챔버는 상기 외부 하우징과 상기 내부 하우징이 일체로 형성되는 것을 특징으로 하는 순환 냉각 유닛을 구비하는 열처리 장치.19. The method of claim 18,
Wherein the process chamber is formed integrally with the outer housing and the inner housing.
상기 공정 챔버는 배치 타입 열처리 장치용 챔버 또는 인라인 타입 열처리 장치용 챔버인 것을 특징으로 하는 순환 냉각 유닛을 구비하는 열처리 장치.18. The method of claim 17,
Wherein the process chamber is a chamber for a batch-type heat-treating apparatus or a chamber for an in-line type heat-treating apparatus.
상기 기판은 평판 표시 장치용, 태양 전지용 유리 기판 또는 반도체 웨이퍼인 것을 특징으로 하는 순환 냉각 유닛을 구비하는 열처리 장치.18. The method of claim 17,
Wherein the substrate is a flat panel display, a glass substrate for a solar cell, or a semiconductor wafer.
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