KR101724071B1 - 단일단계 전처리 과정을 갖는 엘디에스(lds) 무전해 도금 방법 및 이에 의한 인테나 - Google Patents

Abstract

본 발명은 엘디에스(LDS) 무전해 도금 방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따르면, 엘디에스(LDS) 무전해 도금 방법 및 이에 의한 인테나 제조 시 사출에 따라 발생 가능한 도금 불량 요인과 레이저 가공에 따른 도금 불량 요인을 단일단계 전처리만으로 동시에 제거할 수 있으므로, 불량률을 감소시키고 제품의 수율을 증대시켜 생산성을 향상시킬 수 있고, 신뢰성, 내구성을 향상시킬 수 있다. 또한, 본 발명에 따르면, 엘디에스(LDS) 무전해 도금 방법 및 이에 의한 인테나 제조 시 도금의 씨앗(seed)이 되는 금속입자의 산화를 예방할 수 있고, 불필요한 부분에 도금이 되지 않으며, 도금층의 밀착력이 우수하고 RF 특성, 저항값 등에서도 우수한 특징이 있을 뿐더러 또한, 공정의 경제성이 현저히 향상된다.

Description

단일단계 전처리 과정을 갖는 엘디에스(LDS) 무전해 도금 방법 및 이에 의한 인테나{LASER DIRECT STRUCTURING ELECTROLESS PLATING METHOD WITH SINGLE-STEP PRE-TREATMENT PROCESS AND INTENNA THEREOF}

본 발명은 단일단계 전처리 과정을 갖는 엘디에스(LDS) 무전해 도금 방법 및 이에 의한 인테나에 관한 것이다.

일반적으로 송수신기기 혹은 휴대폰의 외부로 돌출된 안테나를 구비한 스마트폰과 같은 모바일기기는 그 디자인의 다양화와 슬림화가 어렵다. 따라서 안테나를 모바일기기 하우징 내부에 인쇄회로기판과 연결시켜 놓아 외부에 돌출부가 없으면서 안테나 특성을 유지하도록 설계한 것을 안테나 중에서도 인테나(Intenna)라고 한다. 이러한 인테나는 모바일기기의 디자인을 다양하게 설계할 수 있게 할 뿐만 아니라 모바일기기의 두께를 줄여 슬림화할 수 있는 장점을 제공한다.

인테나는 현재 크게 두, 세 가지 방법으로 제조하고 있으며 제조방법은 다음과 같다. 하나의 방법은 모바일기기 설계에 따라 하우징과 인쇄회로기판이 배치되며 인테나 내장 공간이 정해지고 이에 대응한 플라스틱 사출금형을 제작하여 사출성형된 베이스에 인테나 회로 패턴에 대응한 프레스 금형을 제작하여 동박판이나 스테인레스 박판 등으로 타발하고 절곡하여 베이스에 끼운 다음, 열융착으로 고정시켜 인테나의 기능을 부가하는 방법으로 현재에도 사용되고 있다.

다른 방법은 이중사출법으로 인테나 내장 공간의 형태에 따라 설계된 베이스에 회로패턴을 설계한 후 베이스 사출금형과 회로패턴 사출금형을 연계하여 제작하고 이중사출기를 사용하여 베이스와 회로패턴의 사출재료를 각기 다른 성분의 플라스틱 재료로 이중사출함으로써 베이스에 회로패턴을 형성하며, 이중사출품의 회로패턴 부위에만 무전해도금을 실시하여 인테나를 제조한다. 상기 이중사출법은 금형 제작 기간에 시간과 비용이 많이 소요되며 금형 개발 등에 시간이 많이 걸리는 단점이 있다.

또 다른 방법은 플라스틱 원재료에 도금이 될 수 있도록 활성제인 금속성분 및 충진제를 혼입하여 사용하는 레이저(Laser) 방식이다. 이 방법은 사출성형품에 회로패턴을 레이저로 가공하여 인테나를 제조하므로 엘디에스(LDS, Laser Direct Structuring)법이라고 하며 개발 내지 제조과정에서 시간을 절감할 수 있어 경제성을 향상시킬 수 있는 최신 기술의 하나이다. 즉, 도금의 씨앗(seed)인 금속 성분이 원재료(Resin)에 혼입되어 있어 이중사출법에 따른 공정과 비교하면 에칭공정, 중화공정, 활성공정 등이 생략되어 제조 시간을 절감할 수 있다는 장점을 갖는다.

한편, 상기와 같은 엘디에스법에 따르면 사출 시 발생하는 밀핀 자국 및 배면 격자 긁힘 등에 의해 도금 불량 요인이 존재하며, 또한 레이저 가공에 의해 발생하는 분진 내지 가스 등에 의한 도금 불량 요인 또한 존재한다.

대한민국 등록특허 제10-1166350호(2012.07.11.)

본 발명의 목적은, 사출시 발생 가능한 도금 불량 요인과 레이저 가공에 따른 도금 불량 요인을 동시에 제거할 수 있는 단일단계 전처리 과정을 갖는 엘디에스(LDS) 무전해 도금 방법 및 이에 의한 인테나를 제공하는 것이다.

또한 본 발명의 목적은, 불량률을 감소시켜 제품의 수율을 증대시키고 신뢰성을 향상시킬 수 있는 단일단계 전처리 과정을 갖는 엘디에스(LDS) 무전해 도금 방법 및 이에 의한 인테나를 제공하는 것이다.

또한, 본 발명의 또 다른 목적은, 도금의 씨앗(seed)이 되는 금속입자의 산화를 예방할 수 있는 단일단계 전처리 과정을 갖는 엘디에스(LDS) 무전해 도금 방법 및 이에 의한 인테나를 제공하는 것이다.

또한, 본 발명의 또 다른 목적은, 불필요한 부분에 도금이 되지 않는 단일단계 전처리 과정을 갖는 엘디에스(LDS) 무전해 도금 방법 및 이에 의한 인테나를 제공하는 것이다.

또한, 본 발명의 또 다른 목적은, 도금층의 밀착력이 우수한 단일단계 전처리 과정을 갖는 엘디에스(LDS) 무전해 도금 방법 및 이에 의한 인테나를 제공하는 것이다.

본 발명의 일실시예에 따른 엘디에스(LDS) 무전해 도금 방법은 a) 플라스틱을 포함하는 소재를 사출 성형하는 단계; b) 사출 성형된 소재에 레이저로 회로 패턴을 가공하는 단계; c) 상기 회로 패턴 영역에 존재하는 금속입자를 활성화시키기 위한 제1 활성화 단계; d) 동스트라이크를 진행시켜 상기 회로 패턴 영역에 동입자가 형성된 형상을 확인하고 검증하는 동스트라이크 단계; e) 상기 소재에 동도금을 균일하게 형성하는 무전해 동도금 단계; f) 무전해 동도금 된 소재를 처리 용액을 이용하여 재활성화시키는 제2 활성화 단계; g) 상기 재활성화를 거친 소재의 회로 패턴 상에 니켈 금속막을 형성하는 무전해 니켈 도금단계; 및 h) 상기 무전해 니켈 도금단계 이후에 도금된 영역에 산화 방지를 위하여 후처리하는 후처리 단계; 를 포함하는 엘디에스(LDS) 무전해 도금 방법으로서, 상기 a 단계 후 b 단계 전, 사출 성형된 소재를 특정 처리 용액이 포함된 도금 욕조에 넣고 초음파 처리하는 전처리 과정을 거치는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 또 다른 일실시예에 따르면, 상기 방법에 따라 제조된 인테나를 제공한다.

본 발명에 따르면, 엘디에스(LDS) 무전해 도금 방법 및 이에 의한 인테나 제조 시 사출에 따라 발생 가능한 도금 불량 요인과 레이저 가공에 따른 도금 불량 요인을 단일단계 전처리만으로 동시에 제거할 수 있으므로, 불량률을 감소시키고 제품의 수율을 증대시켜 생산성을 향상시킬 수 있고, 신뢰성, 내구성을 향상시킬 수 있다.

또한, 본 발명에 따르면, 엘디에스(LDS) 무전해 도금 방법 및 이에 의한 인테나 제조 시 도금의 씨앗(seed)이 되는 금속입자의 산화를 예방할 수 있고, 불필요한 부분에 도금이 되지 않으며, 도금층의 밀착력이 우수하고 RF 특성, 저항값 등에서도 우수한 특징이 있을 뿐더러 또한, 공정의 경제성이 현저히 향상된다.

도 1 은 본 발명의 일실시예에 따른 단일단계 엘디에스(LDS) 무전해 도금 방법을 설명하기 위한 순서도이다.

이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 관하여 상세히 설명한다. 이하에서는, 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 우려가 있다고 판단되는 경우, 이미 공지된 기능 및 구성에 관한 구체적인 설명을 생략한다. 또한, 이하에서 설명하는 내용은 어디까지나 본 발명의 일 실시예에 관한 것일 뿐 본 발명이 이로써 제한되는 것은 아니다.

우선 본 발명의 일실시예에 따른 엘디에스(LDS) 무전해 도금 방법은 a) 플라스틱을 포함하는 소재를 사출 성형하는 단계; b) 사출 성형된 소재에 레이저로 회로 패턴을 가공하는 단계; c) 상기 회로 패턴 영역에 존재하는 금속입자를 활성화시키기 위한 제1 활성화 단계; d) 동스트라이크를 진행시켜 상기 회로 패턴 영역에 동입자가 형성된 형상을 확인하고 검증하는 동스트라이크 단계; e) 상기 소재에 동도금을 균일하게 형성하는 무전해 동도금 단계; f) 무전해 동도금 된 소재를 처리 용액을 이용하여 재활성화시키는 제2 활성화 단계; g) 상기 재활성화를 거친 소재의 회로 패턴 상에 니켈 금속막을 형성하는 무전해 니켈 도금단계; 및 h) 상기 무전해 니켈 도금단계 이후에 도금된 영역에 산화 방지를 위하여 후처리하는 후처리 단계; 를 포함하는 엘디에스(LDS) 무전해 도금 방법으로서, 상기 a 단계 후 b 단계 전, 사출 성형된 소재를 특정 처리 용액이 포함된 도금 욕조에 넣고 초음파 처리하는 전처리 과정을 거치는 것을 특징으로 한다.

먼저, 플라스틱을 포함하는 소재를 사출 성형한다(단계 a).

상기 단계는 원하는 제품의 크기, 디자인에 따라 필요로하는 형상을 플라스틱을 포함하는 원재료를 이용하여 사출 성형하는 것으로 통상의 공지된 방법 중에서 선택적으로 이루어지므로 본 단계에 대하여는 상세한 설명을 생략한다.

상기 단계는 원재료, 예를 들면, 폴리카보네이트(PC, polycarbonate)와 에이비에스(ABS, Acrylonitrile Butadiene Styrene) 등과 같은 원재료에 도금의 씨앗(seed)이 되는 금속 물질인 동(Cu), 팔라듐(Pd), 크롬(Cr) 등을 혼합한 소재를 사용하여 사출하여 도금이 되는 피도금물인 소재를 성형한다. 사출 성형 단계에서 소재를 밀어내는 밀핀의 작동에 따라 소재에 밀핀 긁힘 자국이 발생할 수 있으며, 배면 격자 형상에도 유사한 측벽 긁힘 등으로 소재의 표면이 매끄럽지 못하여 후술하는 레이저 가공 이후의 표면 형태와 매우 유사하다.

한편, 본 발명의 일실시예에서, 상기 a 단계 후 후술할 b 단계 전, 사출 성형된 소재를 특정 처리 용액이 포함된 도금 욕조에 넣고 초음파 처리하는 전처리 과정을 거칠 수 있다.

본 발명의 일실시예에서, 상기 단계에서 사용되는 특정 처리 용액은 초순수 100중량부를 기준으로 중아황산소다(sodium bisulfite) 43중량부, 계면활성제 25중량부, 황산 8중량부, 염산 6중량부, 과산화수소 4중량부, 규산소다 2중량부, 폴리옥시에틸렌알킬에테르 2중량부, 알코올 7 내지 10중량부 및 표면코팅제 3 내지 7중량부가 혼합된 용액일 수 있다.

본 발명의 일실시예에서, 상기 표면코팅제는 유무기복합코팅제일 수 있으며, 예를 들어 우레탄 아크릴레이트, 에폭시 아크릴레이트, 폴리에스테르 아크릴레이트 및 아크릴릭 아크릴레이트로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상이 사용될 수 있으며, 상세하게는 우레탄 아크릴레이트와 에폭시 아크릴레이트가 1 : 0.7 내지 1 : 0.9의 중량비로 혼합된 유무기복합코팅제가 사용될 수 있고, 이 경우 소재에 표면코팅 효과를 부여하여, 후술할 b 단계에서 이루어지는 레이저 가공 시 분진 발생을 더욱 저감할 수 있는 효과가 있다. 더욱 상세하게는 우레탄 아크릴레이트와 에폭시 아크릴레이트가 1 : 0.8의 중량비로 혼합된 유무기복합코팅제가 사용되는 것이 가장 큰 효과를 기대할 수 있다.

본 단계에서 상기와 같은 성분들이 조합된 특정 처리 용액을 사용함으로써, 사출 성형 단계에서 밀핀 등에 의해 발생한 긁힘 등이 발생한 영역 등에 존재하는 금속 입자가 도금되지 않도록 하는 동시에 소재에 표면코팅 효과를 부여하여, 후술할 b 단계의 레이저 가공 시 분진 발생을 효과적으로 저감하게 된다.

한편, 본 발명의 일실시예에서 상기 전처리 과정은 16 내지 18분 동안 수행될 수 있으며, 상세하게는 17분 동안 수행되는 것일 수 있다. 전처리 과정이 상기 시간 범위 미만으로 수행되는 경우 효과적으로 표면코팅 효과가 부여되지 않을 수 있고, 상기 시간 범위를 초과하여 수행되는 경우 레이저 가공에 문제가 생길 수 있으므로, 상기 범위 내로 수행되는 것이 적절하다.

또한, 본 발명의 일실시예에서 상기 전처리 과정에 사용되는 도금 욕조의 온도는 72 내지 75℃ 범위를 유지하는 것일 수 있다. 상기 온도 범위에서 사출 성형 단계에서 발생한 긁힘 등이 발생한 영역 등에 존재하는 금속 입자가 도금되지 않도록 하는 효과가 극대화된다. 또한, 표면코팅이 효과적으로 수행되어 레이저 가공 시 분진이 거의 발생하지 않도록 할 수 있다.

종래 기술에 따르면, 밀핀 등에 의해 긁힘 등이 발생한 영역에 존재하는 금속 입자가 도금되지 않도록 하는 전처리 과정 및 레이저 가공 후 발생하는 분진을 제거하는 전처리 과정과 같이 2개의 별도 전처리 과정이 반복되어 실시되어야 하지만, 본원 발명에 따르면, 앞서 설명한 단일단계 전처리 과정만으로 상기 2개의 별도 전처리 과정에 따른 효과를 모두 구현할 수 있게 되므로 공정이 단순화 될 뿐만 아니라 경제성측면에서 현저히 향상된다.

다음으로, 사출 성형된 소재에 레이저로 회로 패턴을 가공한다(단계 b).

레이저 가공 단계는 소정의 설계에 의하여 필요로 하는 형상의 회로 패턴을 소재에 레이저로 가공을 한다. 상기 레이저 가공 단계는 통상의 공지된 방법 중에서 선택적으로 이루어지므로 상세한 설명을 생략한다.

다음으로, 회로 패턴 영역에 존재하는 금속입자를 활성화시키기 위한 제1 활성화 단계를 거친다(단계 c).

상기 제1 활성화 단계에서는 촉매로서 팔라듐 촉매를 사용하는데, 팔라듐 촉매인 50~ 100ml/L, 황산(H2SO4) 50~ 100ml/L 및 초순수 800~ 900ml/L 를 혼합하여 이루어지는을 사용할 수 있다. 한편, 본 발명의 일실시예에서, 상기 제1 활성화 단계는 20 내지 70℃ 온도 범위 내에서 소재를 3 내지 15분 침지시켜 수행되는 것일 수 있다.

다음으로, 동스트라이크를 진행시켜 상기 회로 패턴 영역에 동입자가 형성된 형상을 확인하고 검증하는 동스트라이크 단계를 거친다(단계 d).

동스트라이크 단계는 레이저 가동되어 표면이 다소 거칠은 회로 패턴에 촉매를 부여하고 동도금을 진행하는 단계로 가공된 회로 패턴에 동입자가 형성된 형상을 확인하고 검증한다. 동스트라이크 단계에서 사용되는 도금용액은 초순수 700 내지 800mg/L, 금속동 3 내지 5g/L, 착화제(예를 들면, 에틸렌디아민 사아세트산, EDTA, ethylene diamine tetra acetic acid) 5 내지 40g/L, 수산화나트륨(NaOH) 8 내지 10g/L, HCHO 3 내지 5g/L, 촉진제 2.2-비피레딜 0.1 내지 1.5g/L, 안정제인 시안화칼륨(Potassium cyanide) 0.1 내지 1.5g/L, 입자 제어제인 폴리에틸렌글리콜(Polyethylene glycol) 0.5 내지 1.5g/L 로 혼합하여 이루어지며 온도를 40 내지 60℃ 범위로, 5 내지 20분 정도 소재를 침지시킨 다음 동입자의 형상을 확인한다. 동스크라이크 단계에서 소재에 형성된 동입자층이 균일하게 도막층을 형성한 것을 확인한 후 다음 단계인 동도금 단계의 작업이 이루어진다.

다음으로, 상기 소재에 동도금을 균일하게 형성하는 무전해 동도금 단계가 진행된다(단계 e).

동도금 단계에서 도금용액은 초순수 700 내지 800mg/L, 금속동 3 내지 5g/L, 착화제(예를 들면, 에틸렌디아민 사아세트산, EDTA, ethylene diamine tetra acetic acid) 5 내지 40g/L, 수산화나트륨(NaOH) 8 내지 10g/L, HCHO 3 내지 5g/L, 촉진제로 2.2-비피레딜 0.1 내지 1.5g/L, 안정제로 시안화칼륨(potassium cyanide) 0.1 내지 1.5g/L, 입자 제어제로 폴리에틸렌글리콜(polyethylene glycol) 0.5 내지 1.5g/L 로 혼합하여 이루어지며 온도를 40 내지 60℃ 범위로, 180 내지 300분 정도 충분하게 소재를 침지시킨 후 동 두께를 확인하고, 동 두께의 일예가 10 내지 15㎛이다.

다음으로 무전해 동도금 된 소재를 처리 용액을 이용하여 재활성화시키는 제2 활성화 단계를 거친다(단계 f).

상기 제2 활성화 단계는 c 단계의 활성화 단계와 동일한 처리 용액을 사용하여 수행되되, 상기 추가적인 활성화 단계는 온도를 20 내지 30℃ 범위로 유지한 상태에서 2 내지 7분 정도 소재를 용액에 침지시키는 것일 수 있다. 이와 같이, 추가적인 활성화 단계 진행 시 동일한 처리 용액을 사용하여 재료비가 절감될 수 있고 효율성도 향상될 수 있다. 상기와 같은 추가적인 활성화 단계를 수행하는 경우, 동도금층 표면에서 특히 파라듐 촉매 이온의 활성화가 왕성하게 일어나 후공정인 무전해 니켈도금 단계에서 니켈이온이 금속입자로 석출되어 균일한 니켈도금층을 얻을 수 있게 한다.

다음으로, 상기 재활성화를 거친 소재의 회로 패턴 상에 니켈 금속막을 형성하는 무전해 니켈 도금단계를 거친다(단계 g).

상기 단계에서는 회로 패턴 상에 니켈 금속막이 형성되며. 처리 용액은 초순수 700 내지 800ml/L, 니켈 4 내지 6g/L, 차아인산나트륨 5 내지 10g/L, 젖산 15 내지 30g/L, 빙초산 15 내지 30g/L, 가성소다 1 내지 6g/L, 안정제 0.5 내지 2g/L, 촉진제 1 내지 1.5g/L로 이루어지고 온도를 50 내지 65℃ 범위로, pH를 5.5 내지 7.0 범위로 유지시켜 소재에 도금이 되도록 한다.

마지막으로 상기 무전해 니켈 도금단계 이후에 도금된 영역에 산화 방지를 위하여 후처리하는 후처리 단계를 거친다(단계 h).

본 발명의 일실시예에 따르면, 후처리 단계를 포함할 수 있다. 상기 후처리 단계는 무전해 니켈도금이 완료되면 니켈이 대기 중의 산소와 결합하여 산화가 발생되어 니켈 표면 색상이 어두운 색으로 변하게 되는데 이러한 현상을 예방할 수 있도록 후처리하는 것일 수 있다. 후처리 단계에 사용되는 용액은 이소프로필알콜(Isopropyl Alcohol) 10 내지 15g/L, 프로필렌글리콜(Propylene Glycol) 13 내지 25g/L, 지방산 유기화합물 6 내지 10g/L, 초순수 900 내지 950mg/L로 이루어지고, 상기 후처리는 온도를 25 내지 55℃ 범위로 유지한 상태에서 1 내지 5분 동안 소재를 용액에 침지시켜 수행되는 것일 수 있다.

상기 후처리 단계 후, 세척 및 건조 공정을 통해 제품이 세척된 후 건조되어 포장되어 출고된다.

위 설명한 바와 같은 단일단계 전처리 과정을 갖는 엘디에스(LDS) 무전해 도금 방법은 사출시 발생 가능한 도금 불량 요인과 레이저 가공에 따른 도금 불량 요인을 단일단계 전처리 과정 만으로 동시에 제거할 수 있으며, 불량률을 감소시켜 제품의 수율을 증대시켜 생산성을 향상시킬 수 있고 신뢰성, 내구성을 향상시킬 수 있게 된다.

또한, 본 발명에 따르면, 엘디에스(LDS) 무전해 도금 방법 및 이에 의한 인테나 제조 시 도금의 씨앗(seed)이 되는 금속입자의 산화를 예방할 수 있고, 불필요한 부분에 도금이 되지 않으며, 도금층의 밀착력이 우수하고 RF 특성, 저항값 등에서도 우수한 특징이 있을 뿐더러 또한, 공정의 경제성이 현저히 향상된다.

여기서, 본 발명의 여러 실시예를 도시하여 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술 분야의 통상의 지식을 가진 당업자라면 본 발명의 원칙이나 정신에서 벗어나지 않으면서 본 실시예를 변형할 수 있음을 알 수 있을 것이다. 발명의 범위는 첨부된 청구항과 그 균등물에 의해 정해질 것이다.

Claims (6)

1. a) 플라스틱을 포함하는 소재를 사출 성형하는 단계;
   b) 사출 성형된 소재에 레이저로 회로 패턴을 가공하는 단계;
   c) 상기 회로 패턴 영역에 존재하는 금속입자를 활성화시키기 위한 제1 활성화 단계;
   d) 동스트라이크를 진행시켜 상기 회로 패턴 영역에 동입자가 형성된 형상을 확인하고 검증하는 동스트라이크 단계;
   e) 상기 소재에 동도금을 균일하게 형성하는 무전해 동도금 단계;
   f) 무전해 동도금 된 소재를 처리 용액을 이용하여 재활성화시키는 제2 활성화 단계;
   g) 상기 재활성화를 거친 소재의 회로 패턴 상에 니켈 금속막을 형성하는 무전해 니켈 도금단계; 및
   h) 상기 무전해 니켈 도금단계 이후에 도금된 영역에 산화 방지를 위하여 후처리하는 후처리 단계;를 포함하는 엘디에스(LDS) 무전해 도금 방법으로서,
   상기 a 단계 후 b 단계 전, 사출 성형된 소재를 특정 처리 용액이 포함된 도금 욕조에 넣고 초음파 처리하는 전처리 과정을 거치며,
   상기 특정 처리 용액은 초순수 100중량부를 기준으로 중아황산소다(sodium bisulfite) 43중량부, 계면활성제 25중량부, 황산 8중량부, 염산 6중량부, 과산화 수소 4중량부, 규산소다 2중량부, 폴리옥시에틸렌알킬에테르 2중량부, 알코올 7 내지 10중량부 및 표면코팅제 3 내지 7중량부가 혼합된 용액인 엘디에스(LDS) 무전해 도금 방법.
   
2. 삭제
3. 제 1 항에 있어서,
   상기 초음파 처리는 16 내지 18분 동안 수행되는 엘디에스(LDS) 무전해 도금 방법.
   
4. 제 3 항에 있어서,
   상기 초음파 처리는 17분 동안 수행되는 엘디에스(LDS) 무전해 도금 방법.
   
5. 제 1 항에 있어서,
   상기 초음파 처리 시 도금 욕조의 온도는 72 내지 75℃ 범위를 유지하는 엘디에스(LDS) 무전해 도금 방법.
   
6. 제 1 항의 방법에 따라 제조된 인테나.
   

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