KR101720359B1 - 충전제의 제조방법, 충전제 및 칼럼 - Google Patents
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Abstract
Description
본발명은 충전제의 제조방법, 충전제 및 칼럼에 관한 것이다.
종래에는 액체크로마토그래피에서 사용되는 칼럼에 충전되는 충전제로서 실리카겔 표면의 실란올기를 각종 실란커플링제로 실릴화하여 화학수식(chemical modification)한 것이 범용되고 있었다. 실란커플링제로서는 옥타데실클로로 실란화합물, 옥틸클로로 실란화합물, 부틸클로로 실란화합물, 시아노프로필클로로 실란화합물, 페닐클로로 실란화합물 등을 들 수 있고 그 중에서도 옥타데실클로로 실란화합물이 가장 광범위하게 사용되고 있다.
그러나, 이와 같은 충전제는 실리카겔 표면에 실란올기가 잔존하기 때문에 극성물질 특히 염기성물질과의 상호작용이 크고, 칼럼의 염기성물질의 피크 테일링(peak tailing)이 커진다는 문제가 있었다.
아래의 특허문헌 1에는 화학수식된 실리카겔 또는 다공질유리에 잔존한 실란올기와 엔드캡제를 기체상태에서 250℃이상의 반응온도에서 반응시키는 방법이 개시되어 있다.
그러나, 이와 같은 방법을 이용하여도 실리카겔 또는 다공질유리의 표면에는 여전히 실란올기가 잔존하기 때문에 칼럼의 염기성물질의 피크 테일링을 작게 하는 것이 요망되고 있었다.
본발명은 이러한 종래기술이 갖는 문제를 감안하여 이루어진 것으로, 염기성물질의 피크 테일링이 작은 칼럼을 제작할 수 있는 충전제의 제조방법, 그 충전제의 제조방법을 이용하여 제조된 충전제 및 그 충전제가 충전되어 있는 칼럼을 제공하는 것을 목적으로 한다.
청구항 1에 기재된 발명은 충전제의 제조방법에 있어서 히드록실기를 갖는 무기입자를 탄소수 2이상 8이하의 알케닐기 및/또는 탄소수 2이상 7이하의 알키닐기를 갖는 실란커플링제를 포함하는 실란커플링제와 반응시키는 제 1 공정; 및 상기 실란커플링제와 반응시킨 무기입자를 일반식
[식 1]
(식중, R1은 탄소수 4이상 50이하의 알킬기 또는 탄소수 6이상 30이하의 아릴기이고, R2 및 R3는 각각 독립적으로 수소원자, 클로로기 또는 탄소수 1이상 4이하의 알킬기이다.)
로 나타내어지는 화합물과 반응시키는 제 2 공정;을 갖는 것을 특징으로 한다.
청구항 2에 기재된 발명은 청구항 1에 기재된 충전제의 제조방법에 있어서 상기 제 1 공정은 상기 무기입자를 상기 탄소수 2이상 8이하의 알케닐기 및/또는 탄소수 2이상 7이하의 알키닐기를 갖는 실란커플링제와 반응시키는 공정; 및 그 실란커플링제와 반응시킨 무기입자를 알케닐기 또는 알키닐기를 갖지 않는 실란커플링제와 반응시키는 공정;을 포함하는 것을 특징으로 한다.
청구항 3에 기재된 발명은, 충전제에 있어서 청구항 1 또는 2에 기재된 충전제의 제조방법을 이용하여 제조된 것을 특징으로 한다.
청구항 4에 기재된 발명은 칼럼에 있어서 청구항 3에 기재된 충전제가 충전되어 있는 것을 특징으로 한다.
청구항 5에 기재된 발명은 청구항 4에 기재된 칼럼에 있어서 아미트립틸린의 테일링계수가 0.9이상 2.0이하인 것을 특징으로 한다.
본발명에 의하면 염기성물질의 피크 테일링이 작은 칼럼을 제작할 수 있는 충전제의 제조방법, 그 충전제의 제조방법을 이용하여 제조된 충전제 및 그 충전제가 충전되어 있는 칼럼을 제공할 수 있다.
도 1은 실시예 1의 충전제를 충전한 칼럼의 테일링계수 측정결과를 나타낸 도면이다.
도 2는 실시예 2의 충전제를 충전한 칼럼의 테일링계수 측정결과를 나타낸 도면이다.
도 3은 비교예 1의 충전제를 충전한 칼럼의 테일링계수 측정결과를 나타낸 도면이다.
도 2는 실시예 2의 충전제를 충전한 칼럼의 테일링계수 측정결과를 나타낸 도면이다.
도 3은 비교예 1의 충전제를 충전한 칼럼의 테일링계수 측정결과를 나타낸 도면이다.
다음으로 본발명을 실시하기 위한 형태를 도면을 참조하면서 설명한다.
본발명의 충전제의 제조방법은 히드록실기를 갖는 무기입자를 탄소수 2~8의 알케닐기(alkenyl group) 및/또는 탄소수 2~7의 알키닐기(alkynyl group)를 갖는 실란커플링제(이하, 제 1 실란커플링제라고 한다)를 포함하는 실란커플링제와 반응시키는 제 1 공정; 및
이러한 실란커플링제와 반응시킨 무기입자를 일반식
[식 2]
(식중, R1은 탄소수 4~50의 알킬기 또는 탄소수 6~30의 아릴기이고, R2 및 R3는 각각 독립적으로 수소원자, 클로로기 또는 탄소수 1~4의 알킬기이다.)
로 나타내어지는 화합물과 반응시키는 제 2 공정을 갖는다.
이와 같이 무기입자의 표면에 탄소수 4~50의 알킬기 또는 탄소수 6~30의 아릴기를 도입하기 전에 히드록실기를 갖는 무기입자와 실란커플링제를 반응시키므로 무기입자의 표면근방의 히드록실기의 잔존량을 감소시킬 수 있다. 그 결과 염기성물질의 피크 테일링이 작은 충전제가 얻어진다.
제 1 실란커플링제가 탄소수 9이상의 알케닐기를 갖는 경우 및/또는 탄소수 8이상의 알키닐기를 갖는 경우에는 입체장해(steric hindrance)때문에 히드록실기를 갖는 무기입자와 실란커플링제의 반응이 진행하기 어려워진다.
상기 일반식(1)로 나타내어지는 화합물에서 R1가 탄소수 3이하의 알킬기이면 염기성물질의 피크 테일링이 작은 충전제가 얻어지지 않는다. 또한, R1가 탄소수 51이상의 알킬기 또는 탄소수 31이상의 아릴기이면 입체장해때문에 탄소수 2~8의 알케닐기 및/또는 탄소수 2~7의 알키닐기가 도입된 무기입자와 상기 일반식(1)로 나타내어지는 화합물의 반응이 진행하기 어려워진다. 나아가, R2 또는 R3가 탄소수 5이상의 알킬기이면 입체장해때문에 탄소수 2~8의 알케닐기 및/또는 탄소수 2~7의 알키닐기가 도입된 무기입자와 상기 일반식(1)로 나타내어지는 화합물의 반응이 진행하기 어려워진다.
히드록실기를 갖는 무기입자로서는 특별히 한정되는 것은 아니지만 실리카, 산화티탄, 산화아연, 산화지르코늄, 산화알루미늄, 제올라이트 등을 들 수 있다. 그 중에서도 실리카겔, 다공질유리, 모노리스실리카 등의 히드록실기를 갖는 다공질입자가 바람직하다.
히드록실기를 갖는 무기입자는 평균입경이 1~200㎛인 것이 바람직하고, 3~50㎛가 더욱 바람직하다. 또한, 히드록실기를 갖는 다공질입자는 세공직경이 1~100㎚인 것이 바람직하고, 4~50㎚가 더욱 바람직하다. 나아가, 히드록실기를 갖는 다공질입자는 비표면적이 50~800m2/g인 것이 바람직하고, 100~600m2/g가 더욱 바람직하다.
본원명세서 및 청구의 범위에서 히드록실기를 갖는 무기입자는 히드록실기를 갖는 무기입자와 히드록실기를 갖는 실란커플링제를 반응시켜 얻어지는 입자 등의 히드록실기를 갖는 유기무기하이브리드 입자를 포함한다.
상기 일반식 (1)로 나타내어지는 화합물로서는 옥타데실디메틸실란 등을 들 수 있고 2종 이상을 병용하여도 된다.
본발명의 제 1 공정에서 히드록실기를 갖는 무기입자를 제 1 실란커플링제와만 반응시켜도 되지만, 알케닐기의 도입량을 제어할 수 있다는 점에서 제 1 실란커플링제 및 알케닐기 또는 알키닐기를 갖지 않는 실란커플링제(이하, 제 2 실란커플링제라고 한다)와 반응시키는 것이 바람직하다. 이 때 히드록실기를 갖는 무기입자를 소정량의 제 1 실란커플링제와 반응시킨 후, 과잉량의 제 2 실란커플링제와 반응시키는 것이 더욱 바람직하다. 이로써 무기입자의 표면의 알케닐기 및/또는 알키닐기의 도입량을 제어함과 동시에 히드록실기의 잔존량을 감소시킬 수 있다.
또한, 제 1 공정에서 히드록실기를 갖는 무기입자를 제 1 실란커플링제 및/또는 제 2 실란커플링제와 복수회 반응시켜도 된다.
제 1 실란커플링제로서는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 일반식
[식 3]
(식중, R1, R2, R3 및 R4의 적어도 하나는 탄소수 2~8의 알케닐기 또는 탄소수 2~7의 알키닐기이고, R1, R2, R3 및 R4의 적어도 하나는 수소원자, 할로겐기, 히드록실기 또는 탄소수 1~4의 알콕실기이고, 그 외의 R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로 탄소수 1~8의 치환 혹은 무치환 알킬기, 탄소수 2~8의 치환 알케닐기, 탄소수 2~7의 치환 알키닐기 또는 탄소수 6~12의 치환 혹은 무치환 아릴기이다.)
로 나타내어지는 화합물, 일반식
[식 4]
(식중, n은 1~100이고, R1, R2, R3 및 R4의 적어도 하나는 탄소수 2~8의 알케닐기 또는 탄소수 2~7의 알키닐기이고, 그 외의 R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐기, 히드록실기, 비닐디메틸실록시기, 탄소수 1~4의 알콕실기, 탄소수 1~8의 치환 혹은 무치환 알킬기, 탄소수 2~8의 치환 알케닐기, 탄소수 2~7의 치환 알키닐기 또는 탄소수 6~12의 치환 혹은 무치환 아릴기이고, 복수의 R1 및 R3 그리고 복수 존재하는 경우의 R3는 동일해도 되고 상이해도 된다.)
로 나타내어지는 화합물, 일반식
[식 5]
(식중, n은 3~50이고, 복수의 R1 및 R2의 적어도 하나는 탄소수 2~8의 알케닐기 또는 탄소수 2~7의 알키닐기이고, 그 외의 R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐기, 히드록실기, 탄소수 1~4의 알콕실기, 탄소수 1~8의 치환 혹은 무치환 알킬기, 탄소수 2~8의 치환 알케닐기, 탄소수 2~7의 치환 알키닐기 또는 탄소수 6~12의 치환 혹은 무치환 아릴기이고, X는 옥시기 또는 이미노기이다.)
로 나타내어지는 화합물, 일반식
[식 6]
(식중 복수의 R1, R2 및 R3의 적어도 하나는 탄소수 2~8의 알케닐기 또는 탄소수 2~7의 알키닐기이고, 그 외의 R1, R2 및 R3는 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐기, 히드록실기, 탄소수 1~4의 알콕실기, 탄소수 1~8의 치환 혹은 무치환 알킬기, 탄소수 2~8의 치환 알케닐기, 탄소수 2~7의 치환 알키닐기 또는 탄소수 6~12의 치환 혹은 무치환 아릴기이고, X는 단결합, 이미노기 또는 일반식
[식 7]
(식중, R4 및 R5는 각각 독립적으로 수소원자 또는 트리메틸실릴기이고, n은 1~8의 정수이다.)
로 나타내어지는 기이다.)
로 나타내어지는 화합물, 1,1-비스(트리메톡시실릴메틸)에틸렌 등을 들 수 있고 2종 이상을 병용하여도 된다.
또한, 상기 일반식 (2)~(5)에서 탄소수 2~8의 알케닐기 또는 탄소수 2~7의 알키닐기로서는 상기 일반식(1)로 나타내어지는 화합물과의 하이드로실릴화 반응이 가능하면 특별히 한정되는 것은 아니지만 비닐기, 에티닐 등을 들 수 있다. 또한, 할로겐기로서는 무기입자가 갖는 히드록실기와의 축합반응이 가능하면 특별히 한정되는 것은 아니지만 클로로기, 브로모기, 요오드기 등을 들 수 있다. 나아가, 알킬기, 알케닐기, 알키닐기, 아릴기에서의 치환기로서는 반응을 저해하지 않는 치환기이면 특별히 한정되는 것은 아니지만 시아노기, 히드록실기, 카르복실기, 아미드기, 이미드기, 술포기, 아미노기, 글리세로일기 등을 들 수 있다.
상기 일반식 (2)로 나타내어지는 화합물로서는 비닐트리클로로실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리이소프로폭시실란, 비닐트리페녹시실란, 비닐페닐메틸실란, 비닐페닐메틸클로로실란, 비닐페닐디에톡시실란, 비닐페닐디클로로실란, 비닐디페닐클로로실란, 비닐디페닐에톡시실란, 비닐옥틸디클로로실란, 비닐디메틸실란, 비닐디메틸클로로실란, 디비닐디클로로실란, 트리비닐클로로실란, 트리비닐메톡시실란, 트리비닐에톡시실란, 트리비닐실란 등을 들 수 있다.
상기 일반식 (3)으로 나타내어지는 화합물로서는 1,5-디비닐-3,3-디페닐-1,1,5,5-테트라메틸트리실록산 등을 들 수 있다.
상기 일반식 (4)로 나타내어지는 화합물로서는 1,3,5-트리비닐-1,3,5-트리메틸시클로트리실록산, 1,3,5-트리비닐-1,3,5-트리메틸시클로트리실라잔 등을 들 수 있다.
상기 일반식 (5)로 나타내어지는 화합물로서는 1,3-디비닐테트라메틸디실록산, 1,3-디비닐테트라메틸디실라잔 등을 들 수 있다.
제 2 실란커플링제로서는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 일반식
[식 8]
(식중, R1, R2 및 R3는 각각 독립적으로 탄소수 1~9의 알킬기이고, X는 단결합 또는 이미노기이다.)
로 나타내어지는 화합물, 일반식
[식 9]
(식중, n은 0~50이고, 복수의 R1, R2 및 R3중 1~3개는 수소원자 또는 탄소수 1~4의 알콕실기이고, 그 외의 R1, R2 및 R3는 각각 독립적으로 탄소수 1~9의 알킬기이다.)
로 나타내어지는 화합물, 일반식
[식 10]
(식중, n은 1~50이고, R1, R2 및 R3는 각각 독립적으로 탄소수 1~9의 알킬기이다.)
로 나타내어지는 화합물, 일반식
[식 11]
(식중, n은 3~10이고, R1 및 R2는 각각 독립적으로 탄소수 1~9의 알킬기이고, X는 옥시기 또는 이미노기이다.)
로 나타내어지는 화합물 등을 들 수 있고 2종 이상을 병용하여도 된다.
상기 일반식(6)로 나타내어지는 화합물로서는 헥사메틸디실란, 헥사메틸디실라잔 등을 들 수 있다.
상기 일반식(7)로 나타내어지는 화합물로서는 디메틸디메톡시실란, 디에틸메틸실란, 트리에틸실란, 트리메틸메톡시실란, 1,1,3,3-테트라메틸디실록산, 1,1,3,3,5,5-헥사메틸트리실록산, 1,3-디메톡시테트라메틸디실록산 등을 들 수 있다.
상기 일반식(8)로 나타내어지는 화합물로서는 헥사메틸디실록산, 테트라데카메틸헥사실록산 등을 들 수 있다.
상기 일반식(9)로 나타내어지는 화합물로서는 헥사메틸시클로트리실록산, 옥타메틸시클로테트라실록산, 데카메틸시클로펜타실록산, 도데카메틸시클로헥사실록산, 헥사메틸시클로트리실라잔 등을 들 수 있다.
본발명에서 히드록실기를 갖는 무기입자와 실란커플링의 반응은 공지된 방법을 사용할 수 있고, 예를 들어 톨루엔 등 용매의 존재하에 0~400℃에서 30분~72시간동안 반응시킨다.
또한, 제 2 공정에서 실란커플링제와 반응시킨 무기입자와 상기 일반식 (1)로 나타내어지는 화합물의 반응은 공지된 방법을 사용할 수 있고, 예를 들어, 톨루엔 등 용매의 존재하에 50~300℃에서 2시간 이상 반응시킨다. 촉매로서는 루테늄, 로듐, 팔라듐, 오스뮴, 이리듐 또는 백금의 화합물을 사용할 수 있지만, 팔라듐화합물 또는 백금화합물이 바람직하다. 팔라듐화합물로서는 특별히 한정되는 것은 아니지만 염화팔라듐(II), 염화테트라안민팔라듐(II)산암모늄, 산화팔라듐(II), 수산화팔라듐(II) 등을 들 수 있다. 백금화합물로서는 특별히 한정되는 것은 아니지만 염화백금(II), 테트라클로로백금산(II), 염화백금(IV), 헥사클로로백금산(IV), 헥사클로로백금산(IV)암모늄, 산화백금(II), 수산화백금(II), 이산화백금(IV), 산화백금(IV), 이황화백금(IV), 황화백금(IV), 헥사클로로백금(IV)산칼륨 등을 들 수 있다.
또한, 제 2 공정후 공지된 방법을 이용하여 무기입자에 잔존한 실란커플링제 유래의 실란올기를 봉쇄하여도 된다.
본발명의 칼럼은 본발명의 충전제의 제조방법을 이용하여 제조된 충전제가 충전되어 있으므로 염기성물질의 피크 테일링이 작고, 구체적으로는 아미트립틸린의 테일링계수를 0.9~2.0으로 할 수 있다. 또한, 본발명의 칼럼은 액체크로마토그래피에 적용할 수 있고 시료를 분석 또는 분취할 수 있다.
이하 본발명의 실시예에 대하여 더 자세하게 설명한다. 그러나, 본발명은 이하의 실시예로 한정되는 것은 아니다.
[실시예]
[실시예 1]
평균입자경 5㎛, 비표면적 450㎟/g의 실리카겔 1g을 앰플에 넣어 120℃에서 10시간동안 감압건조하였다. 앰플을 냉각한 후 질소분위기하에서 비닐메틸디메톡시실란 0.55㎖를 첨가하여 밀폐하고 350℃에서 12시간동안 반응시켰다. 그 다음으로 생성물을 꺼내어 클로로포름 10㎖ 및 메탄올 10㎖로 세정한 후 120℃에서 10시간동안 감압건조하였다.
이렇게 얻어진 입자 0.7g을 탈수톨루엔 3㎖중에 분산시킨 후 옥타데실디메틸실란 3.1㎖를 첨가하여 교반하였다. 그 다음으로 염화백금산의 3질량% 톨루엔용액 14.45㎕를 첨가하여 70℃에서 8시간동안 반응시킨 후 냉각하고 여과하였다. 이렇게 얻어진 잔류물을 클로로포름 10㎖ 및 메탄올 10㎖로 세정한 후 120℃에서 10시간 감압건조하여 충전제를 얻었다.
[실시예 2]
평균입자경 5㎛, 비표면적 450㎟/g의 실리카겔 15g을 탈수톨루엔 60㎖중에 분산시켰다. 그 다음으로 피리딘 5.79㎖ 및 비닐트리클로로실란 3.12㎖를 첨가하여 3시간동안 가열환류한 후 냉각하고 여과하였다. 이렇게 얻어진 잔류물을 톨루엔 100㎖, 아세토니트릴 100㎖ 및 60질량% 아세토니트릴 수용액 100㎖로 세정하였다. 그 다음으로 60질량% 아세토니트릴 수용액 100㎖중에 분산시켜 실온에서 1.5시간동안 교반하고 여과하였다. 이렇게 얻어진 잔류물을 60질량% 아세토니트릴 100㎖ 및 메탄올 100㎖로 세정한 후 120℃에서 10시간동안 감압건조하였다. 이렇게 얻어진 입자는 탄소함유량이 4.00질량%였다.
얻어진 입자 2g를 앰플에 넣어 120℃에서 10시간동안 감압건조하였다. 앰플을 냉각한 후 질소분위기하에서 디메틸디메톡시실란 0.416㎖를 첨가하여 밀폐하고 350℃에서 6시간동안 반응시켰다. 그 다음으로 생성물을 꺼내어 클로로포름 20㎖ 및 메탄올 20㎖로 세정한 후 120℃에서 10시간동안 감압건조하였다.
이렇게 얻어진 입자 0.7g를 탈수톨루엔 3㎖중에 분산시킨 후 옥타데실디메틸실란 3.1㎖를 첨가하여 교반하였다. 그 다음으로 염화백금산의 3질량% 톨루엔용액 14.45㎕를 첨가하여 70℃에서 8시간동안 반응시킨 후 냉각하고 여과하였다. 얻어진 잔류물을 클로로포름 10㎖ 및 메탄올 10㎖로 세정한 후 120℃에서 10시간동안 감압건조하여 충전제를 얻었다.
[비교예 1]
실리카겔 10g을 120℃에서 10시간동안 감압건조한 후 냉각하여 탈수톨루엔 40㎖중에 분산시켰다. 그 다음으로 피리딘 0.8㎖ 및 옥타데실디메틸클로로실란 3.3㎖를 첨가하여 3시간 가열환류한 후 냉각하고 여과하였다. 얻어진 잔류물을 톨루엔 100㎖, 클로로포름 100㎖ 및 메탄올 100㎖로 세정한 후 120℃에서 10시간동안 감압건조하였다.
이렇게 얻어진 입자 5g을 앰플에 넣어 120℃에서 10시간동안 감압건조하였다. 앰플을 냉각한 후 질소분위기하에서 헥사메틸실라잔 1.0㎖를 첨가하고 밀폐하여 250℃에서 6시간동안 반응시켰다. 그 다음으로, 생성물을 꺼내어 클로로포름 50㎖ 및 메탄올 100㎖로 세정한 후 120℃에서 10시간동안 감압건조하여 충전제를 얻었다.
[테일링계수의 측정]
실시예 1, 실시예 2 및 비교예 1의 충전제를 칼럼에 충전한 후 20mM 인산완충액:아세토니트릴이 60:40(체적비)인 이동상(mobile phase)을 이용하여 강염기성물질인 아미트립틸린의 테일링계수를 측정하였다.
도 1, 도 2 및 도 3의 각각에 실시예 1, 실시예 2 및 비교예 1의 충전제를 충전한 칼럼의 테일링계수 측정결과를 나타낸다. 실시예 1의 충전제를 충전한 칼럼은 테일링계수가 1.39, 이론단수가 6313였고, 실시예 2의 충전제를 충전한 칼럼은 테일링계수가 1.15, 이론단수가 7814였다. 한편, 비교예 1의 충전제를 충전한 칼럼은 테일링계수가 2.19, 이론단수가 3292였다.
본국제출원은 2009년 3월 12일에 출원된 일본특허출원 제2009-59290호에 근거하여 우선권을 주장하는 것으로서 상기 일본특허출원 제2009-59290호의 모든 내용을 본국제출원에 원용한다.
Claims (5)
- 히드록실기를 갖는 무기입자를, 탄소수 2이상 8이하의 알케닐기 또는 탄소수 2이상 7이하의 알키닐기 또는 둘 다를 갖는 실란커플링제를 포함하는 실란커플링제와 반응시키는 제 1 공정; 및
상기 제1 공정에서 무기입자와 반응시킨 실란커플링제 중의 알케닐기 또는 알키닐기 또는 둘 다를, 일반식
[식 1]
(식중, R1은 탄소수 4이상 50이하의 알킬기 또는 탄소수 6이상 30이하의 아릴기이고, R2 및 R3는 각각 독립적으로 수소원자, 클로로기 또는 탄소수 1이상 4이하의 알킬기이다.)
로 나타내어지는 화합물과 반응시키는 제 2 공정
을 갖는 것을 특징으로 하는 충전제의 제조방법. - 제 1 항에 있어서,
상기 제 1 공정은
상기 무기입자를 상기 탄소수 2이상 8이하의 알케닐기 또는 탄소수 2이상 7이하의 알키닐기 또는 둘 다를 갖는 실란커플링제와 반응시키는 공정; 및
상기 실란커플링제와 반응시킨 무기입자를 알케닐기 또는 알키닐기를 갖지 않는 실란커플링제와 반응시키는 공정
을 포함하는 것을 특징으로 하는 충전제의 제조방법. - 제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 충전제의 제조방법을 이용하여 제조된 것을 특징으로 하는 충전제.
- 제 3 항에 기재된 충전제가 충전되어 있는 것을 특징으로 하는 칼럼.
- 제 4 항에 있어서,
아미트립틸린의 테일링계수가 0.9이상 2.0이하인 것을 특징으로 하는 칼럼.
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