KR101698557B1 - 스팟 크리닝 시스템 - Google Patents

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KR101698557B1
KR101698557B1 KR1020150030515A KR20150030515A KR101698557B1 KR 101698557 B1 KR101698557 B1 KR 101698557B1 KR 1020150030515 A KR1020150030515 A KR 1020150030515A KR 20150030515 A KR20150030515 A KR 20150030515A KR 101698557 B1 KR101698557 B1 KR 101698557B1
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김현태
박명규
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김현태
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    • B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
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Abstract

본 발명에 따른 스팟 크리닝 시스템은 세정 대상물이 유입되어 세정액에 의해 상기 세척대상물을 세정하는 챔버, 상기 챔버로 세정액을 공급하는 저장탱크 및 상기 챔버에서 기화된 기화 세정액을 포집하여 상기 기화 세정액을 액화하여 상기 저장탱크로 환원시키는 리커버리부를 포함한다.

Description

스팟 크리닝 시스템{Spot Cleaning System}
본 발명은 스팟 크리닝 시스템에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 휴대폰 카메라 등에 사용되는 렌즈 등의 세정 대상물의 세정을 신속하게 진행하고, 세정 대상물의 세정에 사용되는 휘발성이 높은 세정액의 회수율을 높여 세정액의 낭비를 최소화할 수 있는 스팟 크리닝 시스템에 관한 것이다.
최근 디지털 카메라 기능을 갖는 휴대폰과 같은 휴대형 전자기기가 널리 보급되고 있다. 또한, 이러한 전자기기들이 점차 소형화 되면서, 디지털 카메라 기능을 구현하기 위하여 전자기기들에 탑재되는 소형 카메라 역시 소형화되고, 규격화되고 있다.
소형 카메라는 도달하는 빛의 명도를 식별하기 위한 다수의 픽셀을 구비한 촬상 소자와 촬상 소자가 안착된 기판, 촬상 소자의 전방에 위치하여 주변의 광을 수집하여 촬상소자에 초점을 맺도록 복수의 렌즈가 배치된 렌즈 모듈을 구비한다.
여기서, 렌즈 모듈은 촬상 소자에 가장 가까운 접안 렌즈와 물체를 향하는 대물렌즈, 접안 렌즈와 대물 렌즈 사이에 배치되는 하나 또는 복수의 렌즈를 포함하여 이루어진다.
이러한 렌즈의 표면에 먼지 등의 이물이 부착되면 렌즈 모듈을 투과하는 광에 의해 촬영되는 화상은 이물에 의해 투과하는 빛의 양이 줄어들어 촬영된 화상의 전체가 어두워지거나 이물의 그림자가 나타날 수 있다.
따라서, 렌즈 제조공정에는 렌즈 표면에 부착된 렌즈의 세정작업이 필수적으로 포함되며, 이러한 세정작업은 통상적으로 에어 블로우 또는 세정액을 이용하여 이루어진다.
이와 같이, 세정작업에 사용되는 세정액은 일반적으로 강한 휘발성을 가지고 있기 때문에 세정액 보관 또는 세정 작업 중에 많은 양의 세정액이 기화되어 낭비되는 문제점이 있다.
또한, 기화로 인해 낭비되는 세정액으로 인해 세정작업의 비용이 상승하며, 결국 렌즈 제조 비용이 상승하는 문제점이 있다.
본 발명은 종래의 문제를 해결하기 위한 것으로서, 휴대폰 카메라 등에 사용되는 렌즈 등의 세정 대상물의 세정을 신속하게 진행하고, 세정 대상물의 세정에 사용되는 휘발성이 높은 세정액의 회수율을 높여 세정액의 낭비를 최소화할 수 있는 스팟 크리닝 시스템을 제공하는데 그 목적이 있다.
본 발명의 목적은 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위한 스팟 크리닝 시스템은 세정 대상물이 유입되어 세정액에 의해 상기 세척대상물을 세정하는 챔버, 상기 챔버로 세정액을 공급하는 저장탱크 및 상기 챔버에서 기화된 기화 세정액을 포집하여 상기 기화 세정액을 액화하여 상기 저장탱크로 환원시키는 리커버리부를 포함한다.
이때, 상기 리커버리부는, 상기 챔버에서 상기 기화 세정액이 유입되어 냉각을 통해 상기 기화 세정액을 다시 액화 세정액으로 액화 시키는 메인 리커버리 바디 및 상기 메인 리커버리 바디에서 상기 액화 세정액이 유입되어 액화 과정에서 혼합된 수분 및 불순물을 상기 액화 세정액과 분리하는 제1분리조를 포함하고, 상기 제1분리조에서 분리된 세정액은 상기 저장탱크로 환원될 수 있다.
또한, 상기 리커버리부는, 상기 메인 리커버리 바디에서 액화되지 못하고 기화된 상태로 상기 기화 세정액 및 상기 메인 리커버리 바디 내부에 충진된 공기를 흡입하여 상기 기화 세정액을 액화 시키는 액화된 액화 세정액을 상기 제1분리조로 유입시키고, 상기 액화 세정액과 분리된 공기를 상기 챔버 내부의 압력 조절을 위하여 상기 챔버 내부로 유입시키는 제1서브 리커버리 바디를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 메인 리커버리 바디 및 상기 제1서브 리커버리 바디 사이에는 상기 메인 리커버리 바디에서 상기 기화 세정액 및 상기 공기를 흡입하여 상기 제1서브 리커버리 바디로 공급하기 위한 블로어가 더 구비될 수 있다.
또한, 상기 리커버리부는, 상기 메인 리커버리 바디로 유입되는 상기 기화 세정액 중 적어도 일부가 분기되어 유입되어 상기 기화 세정액을 액화 세정액으로 액화 시켜 상기 액화 세정액을 상기 제1분리조로 유입시키는 제2서브 리커버리 바디를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 제1분리조에서 배기되는 공기 중 적어도 일부는 상기 공기 중에 포함된 기화 세정액을 재차 액화시키기 위하여 상기 메인 리커버리 바디로 환원시킬 수 있다.
또한, 상기 리커버리부는, 상기 저장탱크 내부에서 기화되는 기화 세정액을 포집하여, 상기 기화 세정액을 액화 시켜 액화 세정액을 상기 저장탱크로 환원시키거나, 상기 기화 세정액을 상기 메인 리커버리 바디로 유동시키는 릴리즈 탱크가 더 구비될 수 있다.
또한, 상기 리커버리부의 일측에는 상기 기화 세정액을 냉각시켜 액화시키기 위하여 상기 리커버리부의 내부를 순환하는 냉각수와 열교환을 통해 상기 냉각수의 온도를 지속적으로 낮춰주기 위한 칠러유닛이 더 구비될 수 있다.
또한, 상기 챔버와 연결되어 상기 세정 대상물을 세척 후 기화되지 않고, 흐르는 상기 세정액이 유입되어 수분 및 불순물을 분리하여 상기 저장탱크로 환원시키는 제2분리조를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 챔버는, 상기 세정 대상물이 유입되는 제1챔버, 상기 제1챔버와 연결되어 상기 제1챔버를 통해 유입되는 상기 세정 대상물을 세정하는 제2챔버 및 상기 제2챔버와 연결되어 상 제2챔버에서 세정이 완료된 상기 세정 대상물을 건조하는 제3챔버를 포함할 수 있다.
또한, 상기 제3챔버에는 상기 세정 대상물을 신속하게 건조시키고, 상기 세정 대상물에 남아 있는 상기 세정액을 기화시켜 상기 기화 세정액의 회수율을 향상시키기 위한 핫 플레이트를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 스팟 크리닝 시스템은 다음과 같은 효과가 있다.
첫째, 세정 대상물을 세정하는 세정액의 보관 또는 세정 작업 중에 발생하는 기화 세정액을 리커버리부를 통해 액화 시켜 세정액 저장탱크로 환원시켜 세정액의 낭비를 최소화할 수 있는 효과가 있다.
둘째, 리커버리부를 통해 기화 세정액을 액화시켜 환원시킴으로써 세정액의 낭비가 최소화됨으로써, 세정 비용 및 세정 대상물의 제조단가를 감소시킬 수 있는 효과가 있다.
셋째, 챔버 내부에 핫 플레이트를 설치하여 세정 대상물의 건조 및 세정액의 기화를 신속하게 이루어지게 함으로써, 세정 대상물의 건조 시간을 감소하고, 기화 세정액의 포집량을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
넷째, 리커버리부는 메인 리커버리 바디, 제1서브 리커버리 바디 및 제2서브 리커버리 바디를 포함하기 때문에 전술한 리커버리 바디 중 어느 하나가 고장 등으로 인해 기능이 정지하더라도 세정액의 환원 작업은 중지되지 않고 수행할 수 있는 효과가 있다.
본 발명의 효과들은 상기 언급한 효과에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과들은 청구범위의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 명세서에서 첨부되는 다음의 도면들은 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 것이며, 발명의 상세한 설명과 함께 본 발명의 기술사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 발명은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어 해석되어서는 아니 된다.
도 1은 본 발명에 따른 스팟 크리닝 시스템의 설계도;
도 2는 본 발명에 따른 스팟 크리닝 시스템의 사시도;
도 3은 본 발명에 따른 스팟 크리닝 시스템의 투과 측면도;
도 4는 본 발명에 따른 챔버의 부분 투과 사시도; 및
도 5는 본 발명에 따른 리커버리부의 부분 투과 사시도이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명한다.
스팟 크리닝 시스템의 구성
도 1은 본 발명에 따른 스팟 크리닝 시스템의 설계도이고, 도 2는 본 발명에 따른 스팟 크리닝 시스템의 사시도이고, 도 3은 본 발명에 따른 스팟 크리닝 시스템의 투과 측면도이다. 본 발명에 따른 스팟 크리닝 시스템(10)은 도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 크게, 세정부 및 리커버리부(300)로 구성된다.
세정부는 렌즈 등의 세정 대상물을 세정액, 바람직하게는 미세버블을 형성시킨 세정액을 통해 세정하는 장치이다. 이러한 세정부는 크게 챔버, 저장탱크(200), 제 2분리조(250)로 구성된다.
도 4는 본 발명에 따른 챔버의 부분 투과 사시도이다. 챔버는 외부와 폐쇄된 박스 형상의 구조물로서, 보다 상세하게 구분하면 도 4에 도시된 바와 같이, 3개의 챔버로 구성된다.
제1챔버(110)는 실질적으로 세정 대상물의 세정이 이루어지는 제2챔버(120)로 유입되기 전에 세정 대상물이 대기하는 장소이다. 즉, 제2챔버(120)에서 선행되어 유입된 세정 대성물의 세정이 이루어지고 있는 경우, 작업 대기 시간 없이 다음 세정 대상물이 신속하게 유입되어 세정이 이루어질 수 있도록 제1챔버(110)는 세정 대상물이 대기하는 장소를 제공한다.
제2챔버(120)는 제1챔버(110)와 연결되어 제1챔버(110)에서 대기 중인 세정 대상물이 유입되어 실질적으로 세정 대상물의 세정이 이루어지는 공간을 제공하는 장치이다. 이러한 제2챔버(120)는 세정 대상물의 세정이 이루어질 수 있는 것이라면 어떠한 구성으로 이루어져도 무방하다. 일예로, 제2챔버(120)의 내부에는 복수의 노즐이 구비되어 노즐에서 고압으로 세정액을 분사하여 세정 대상물을 세정할 수 있도록 복수의 노즐이 구비될 수 있다. 이때, 제2챔버(120)에서 세정 대상물을 세정하기 위한 세정액으로는 HFE Chemical이 사용될 수 있다.
제3챔버(130)는 제2챔버(120)와 연결되어 제2챔버(120)에서 세정이 완료된 세정 대상물을 건조시키는 공간을 제공하는 장치이다. 이러한 제3챔버(130)는 제2챔버(120)에서 세정이 완료된 세정 대상물이 일정 시간 대기하며 세정 대상물에 잔류한 세정액을 회수하여 세정액의 낭비를 최소화하고, 건조 시간 동안 이물질 등이 세정 대상물에 부착되는 것을 방지하는 장치이다.
이때, 도 3에 도시된 바와 같이, 제3챔버(130)의 내부 일측, 바람직하게는 제3챔버(130)의 하부 일측에는 핫 플레이트(131)가 구비된다. 이러한 핫 플레이트(131)는 세정 대상물의 건조를 신속하게 하고, 세정 대상물에 잔류하는 세정액을 기화 시켜 후술하는 리커버리부(300)에서 기화된 기화 세정액의 포집을 신속하고 용이하게 할 수 있도록 한다. 여기서, 기화 세정액은 챔버에서 세정 대상물을 세정하기 위하여 분사되는 세정액과의 차이를 명확하게 하기 위하여 분사 이후 기화된 세정액을 기화 세정액으로 명명한다.
저장탱크(200)는 내부에 세정액을 보관하고, 챔버에서 세정이 이루어지는 경우 챔버 내부로 세정액을 공급하는 장치이다. 이러한 저장탱크(200)의 형상 및 크기 등은 사용양태 및 스팟 크리닝 시스템(10)의 설치 장소 등을 고려하여 다양한 형상 및 크기로 이루어질 수 있다.
제2분리조(250)는 챔버, 바람직하게는 세정액이 분사되어 세정 대상물의 세척이 이루어지는 제2챔버(120) 및 저장탱크(200)와 연결되도록 구비된다. 이러한 제2분리조(250)는 세정 대상물의 세정을 위하여 분사된 세정액 중 기화되지 않고 액상인 체로 흘러 내리는 세정액을 환원시켜 수분 및 불순물 등과 세정액을 분리하여 분리가 완료된 세정액을 저장탱크(200)로 환원시키는 장치이다. 이와 같이, 제2분리조(250)는 세정액에서 수분 및 불순물을 분리시켜 순수한 세정액을 분리할 수 있는 장치라면 어떠한 장치를 사용하여도 무방하지만, 바람직하게는 물분리조를 사용하는 것이 좋다.
도 5는 본 발명에 따른 리커버리부의 부분 투과 사시도이다. 리커버리부(300)는 세정부, 바람직하게는 챔버와 연결되어 챔버 내에서 기화가 이루어진 기화 세정액을 흡입하여 이를 액화 시킨 액화 세정액을 저장탱크(200)로 환원시키는 장치이다. 이러한 리커버리부(300)의 구성을 보다 상세하게 설명하면 다음과 같다. 여기서, 액화 세정액은 챔버에서 분사되는 세정액 및 기화 세정액과의 차이를 명확하게 하기 위하여 기화 세정액이 액화된 것을 액화 세정액으로 명명하기로 한다.
리버커리부는 크게 메인 리커버리 바디(310), 제1분리조(320), 제1서브 리커버리 바디(330), 블로어(335), 제2서브 리커버리 바디(340), 릴리즈 탱크 (Release Tank)(350) 및 칠러유닛(Chiller Unit)(360)을 포함한다.
메인 리커버리 바디(310)는 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 챔버와 연결되어 챔버 내에서 기화되는 기화 세정액이 유입되어 유입된 기화 세정액을 냉각을 통해 액화 세정액으로 액화시키는 장치이다. 이때, 메인 리커버리 바디(310)의 일측에는 기화 세정액을 냉각시키기 위한 냉각수가 순환하는 냉각라인(미도시)이 연결되어 있다. 메인 리커버리 바디(310)의 내부로 흡입된 기화 세정액은 냉각라인을 순환하는 냉각수와의 열교환을 통해 냉각되어 액화 세정액으로 액화한다.
칠러유닛(360)은 냉각라인을 유동하는 냉각수의 온도를 지속적으로 낮춰주기 위한 장치로서, 이러한 목적을 달성할 수 있는 것이라면 어떠한 장치를 사용하여도 무방하다. 일반적으로, 공업용수 등을 공급하는 곳에서는 냉수를 공급하기 용이하지 않은 사용환경이 일반적이기 때문에 이와 같이, 냉각수의 온도를 지속적으로 낮춰주기 위한 장치를 필요로 한다.
제1분리조(320)는 메인 리커버리 바디(310)와 연결되어 메인 리커버리 바디(310)에서 액화된 액화 세정액에 포함된 수분 및 불순물 등과 액화 세정액을 분리하는 장치이다. 이러한 제1분리조(320)는 액화 세정액을 챔버 또는 제2분리조(250)로 환원시킬 수 있도록 챔버 또는 제2분리조(250) 중 적어도 어느 하나와 연결된다. 이때, 제1분리조(320)는 제2분리조(250)에서 챔버로 세정액을 공급하는 라인과 연결되도록 구비될 수도 있다.
또한, 제1분리조(320)에서 배기되는 공기 중 적어도 일부는 공기 중에 포함된 기화 세정액을 재차 액화시키기 위하여 메인 리커버리 바디(310)로 환원시킬 수 있다. 제1분리조(320) 내부에서 수분 및 불순물을 제거하는 과정에서 액화 세정액이 재차 기화할 수 있기 때문에 공기 중에 포함된 기화 세정액이 그대로 외부로 방출됨으로써 기화 세정액이 낭비되는 것을 방지하기 위하여 메인 리커버리 바디(310)로 환원시킨다.
제1서브 리커버리 바디(330)는 메인 리커버리 바디(310) 내부에서 완전히 액화되지 못하고, 기화 세정액이 포함되어 있는 공기를 흡입하여 공기 중에 잔류되어 있는 기화 세정액을 2차로 액화시키는 장치이다. 제1서브 리커버리 바디(330)에서 액화된 액화 세정액은 메인 리커버리 바디(310)와 마찬가지로 제1분리조(320)로 유입시키고, 제1서브 리커버리 바디(330) 내부에 남아 있는 공기는 챔버의 내부 압력을 일정 압력으로 유지하기 위하여 챔버로 환원시킨다. 이와 같이, 제1서브 리커버리 바디(330)에서 챔버의 내부로 공기를 유입시키기 때문에 챔버에서 기화 세정액이 유출되더라도 챔버 내부의 압력이 일정하게 유지된다.
블로어(335)는 메인 리커버리 바디(310) 및 제1서브 리커버리 바디(330) 사이에 구비되어 메인 리커버리 바디(310)에서 기화 세정액 및 공기를 흡입하여 제1서브 리커버리 바디(330)로 공급하는 장치이다. 이러한 목적을 달성할 수 있는 것이라면 블로어(335) 외에 어떠한 송풍장치를 사용하여도 무방하다. 이와 같이, 블로어(335)가 메인 리커버리 바디(310)에서 기화 세정액 및 공기를 흡입하여 주기 때문에 챔버에서 메인 리커버리 바디(310)로 기화 세정액이 흡입되는 것도 용이해 진다.
제2서브 리커버리 바디(340)는 챔버에서 메인 리커버리 바디(310)로 유입되는 기화 세정액 중 적어도 일부가 분기되어 유입되어 기화 세정액을 액화 세정액으로 액화 시켜 액화 세정액을 제1분리조(320)로 유입시키는 장치이다. 이와 같이, 적어도 일부의 기화 세정액이 분기되어 제2서브 리커버리 바디(340)로 유입되기 때문에 메인 리커버리 바디(310)에 문제가 생기더라도 기화 세정액을 액화 시킬 수 있다. 또한, 제2서브 리커버리 바디(340)의 일측에는 배기라인이 연결되어 리커버리부(300)의 내부 압력이 일정 압력 이상으로 상승하는 경우에는 배기 라인을 통해 내부 공기 및 기화 세정액을 외부로 배출함으로써 리커버리부(300) 내부의 압력을 조절할 수 있다.
릴리즈 탱크(350)는 저장탱크(200) 내부에 저장된 세정액이 기화되어 발생하는 기화 세정액을 포집하여 기화 세정액을 액화시켜 액화된 액화 세정액을 저장탱크(200)로 환원시키거나, 적어도 일부의 기화 세정액을 메인 리커버리 바디(310)로 유동시키는 장치이다. 즉, 릴리즈 탱크(350)는 일정량의 기화 세정액을 포집 후 메인 리커버리 바디(310)로 유동시키는 역할을 수행하거나, 릴리즈 탱크(350) 내부에서 기화 세정액을 액화 시킬 수 도 있으며, 전술한 두 가지 기능을 동시에 수행할 수도 있다.
스팟 크리닝 시스템의 사용양태
전술한 구성으로 이루어진 스팟 크리닝 시스템(10)의 사용양태를 설명하면 다음과 같다.
먼저, 챔버에 세정 대상물을 투입한다. 이때, 세정 대상물은 사용양태에 따라 카세트 등에 안착된 상태로 챔버에 투입될 수 있다. 만약, 먼저 투입되어 세정이 이루어지고 있는 세정 대상물이 있다면 추가 투입된 세정 대상물은 제1챔버(110)에서 대기한다. 이후, 먼저 투입된 세정 대상물의 세정이 완료되면 제1챔버(110)에서 대기 중인 세정 대상물은 제2챔버(120)로 투입된다.
다음으로, 제2챔버(120)에서 세정 대상물의 세정이 이루어진다. 제2챔버(120)는 저장탱크(200)에 저장된 세정액을 공급받아, 노즐 등을 통해 분사하여 세정 대상물을 세정한다. 이때, HFE Chemical 등과 같은 세정액은 강한 휘발성을 갖는 물질이기 때문에 세정 대상물을 세정하는 과정에서 많은 양의 세정액이 기화한다. 이때, 기화가 이루어지지 않고, 흘러 내리는 세정액은 회수하여 제2분리조(250)로 유입시킨다.
제2분리조(250)로 유입된 세정액은 제2분리조(250) 내부에서 수분 및 불순물 등을 분리시켜 순수한 세정액을 저장탱크(200)로 환원시켜 세정액의 낭비를 최소화한다. 이때, 제2분리조(250) 내부에서도 기화하는 기화 세정액이 발생할 수 있다. 여기서 기화하는 세정액은 포집하여 리커버리부(300)로 유입시킨다.
또한, 제2챔버(120)에서 세정이 완료된 세정 대상물은 제3챔버(130)로 유입시켜 세정 대상물을 유입시킨다. 세정이 완료된 세정 대상물을 바로 외부로 방출하는 경우에는 세정 대상물에 남아 있는 세정액의 낭비가 발생하기 때문에 제3챔버(130) 내부에서 건조를 완료시킨 후 외부로 배출한다. 이때, 제3챔버(130)의 내부에는 핫 플레이트(131)가 구비되어 세정 대상물의 건조 시간을 단축시키고, 세정 대상물에 남아 있는 세정액을 신속히 기화시킨다. 세정액은 전술한 바와 같이 강한 휘발성을 갖고 있기 때문에 핫 플레이트(131)로 인해 제3챔버(130)의 내부 온도를 상승시킴에 따라 신속한 건조 및 기화가 이루어진다.
세정 대상물의 세정 순서는 전술한 과정을 통해 이루어지며, 기화되는 기화 세정액의 환원 방법을 보다 상세하게 설명하면 다음과 같다.
먼저, 제1챔버(110) 내지 제3챔버(130)의 내부에서 세정 또는 건조 중 기화하는 기화 세정액을 포집하여 리커버리부(300), 바람직하게는 메인 리커버리 바디(310)로 공급한다.
다음으로, 메인 리커버리 바디(310)로 공급된 기화 세정액은 메인 리커버리 일측을 순환하는 냉각수와의 열교환을 통해 액화 세정액으로 액화된다. 이때, 냉각수는 칠러유닛(360)을 통해 지속적으로 냉각수의 온도를 낮춰주기 때문에 지속적인 작업이 가능하다.
다음으로, 액화 세정액은 제2분리조(250)로 공급되어 액화 중 혼합된 수분 또는 불순물 등을 세정액과 분리하고, 분리가 완료된 세정액은 제1분리조(320) 또는 저장탱크(200)로 환원된다. 이때, 제2분리조(250)에서 분리가 완료된 세정액은 제1분리조(320)에서 저장탱크(200)로 세정액을 환원시키는 라인과 합류되도록 연결하여 저장탱크(200)로 환원시키는 것이 바람직하다.
또한, 제2분리조(250) 내부에서도 세정액 분리 과정에서 기화되는 기화 세정액이 발생 될 수 있는데 이러한 기화 세정액은 포집하여 메인 리커버리 바디(310)로 환원시켜 액화 및 분리 작업의 순환이 이루어지도록 하는 것이 바람직하다.
만약, 메인 리커버리 바디(310) 내부에서 미처 액화되지 못하고, 공기 중에 기화 세정액이 잔존할 수 있기 때문에 이러한 공기 중에 포함된 기화 세정액이 그대로 방출되어 세정액이 낭비되는 것을 최소화하기 위하여 메인 리커버리 바디(310) 내부의 공기는 블로어(335)의 흡입력을 통해 제1서브 리커버리 바디(330)로 공급된다. 이처럼, 블로어(335)가 흡입력을 통해 메인 리커버리 바디(310) 내부의 공기를 제1서브 리커버리 바디(330)로 흡입하기 때문에 챔버 내부의 공기 역시 메인 리커버리 바디(310)로 용이하게 공급될 수 있다.
제1서브 리커버리 바디(330) 내부에서도 메인 리커버리 바디(310)와 마찬가지로 제1서브 리커버리 바디(330)의 일측에서 순환하는 냉각수와의 열교환을 통해 공기를 냉각하여 기화 세정액을 액화한다. 이처럼, 제1서브 리커버리 바디(330) 내부에서 액화된 액화 세정액 역시 제1분리조(320)로 유입된다.
전술한 바와 같이, 챔버에서 메인 리커버리 바디(310) 및 제1서브 리커버리 바디(330)를 유동하며 2차 액화를 통해 공기 중에 잔존하는 기화 세정액을 액화 시키고 남은 공기는 챔버로 유입된다. 지속적으로 챔버 내부의 공기를 외부로 유출시키기만 하는 경우 챔버 내부의 압력이 낮아질 수 있기 때문에 제1서브 리커버리 바디(330)에서 액화 후 남은 공기를 챔버 내부로 공급함으로써 챔버 내부의 압력을 일정하게 유지할 수 있다.
또한, 챔버에서 메인 리커버리 바디(310)로 공급되는 공기 중 적어도 일부는 제2서브 리커버리 바디(340)로 공급될 수 있다. 이처럼, 제2서브 리커버리 바디(340)에서 챔버에서 유출되는 공기 중 적어도 일부가 유입되기 때문에 메인 리커버리 바디(310) 내부로 많은 양의 기화 세정액을 포함하는 공기가 유입되어 기화 세정액의 액화가 용이하지 않은 경우에도 제2서브 리커버리 바디(340)에서 이를 커버할 수 있다. 또한, 메인 리커버리 바디(310)가 고장 등의 이유로 작동이 여의치 않은 경우에는 챔버에서 배출되는 모든 공기를 제2서브 리커버리 바디(340)로 유입시킴으로써 지속적으로 세정액의 환원이 가능하다.
제2서브 리커버리 바디(340) 역시 메인 리커버리 바디(310) 및 제1서브 리커버리 바디(330)와 같이 일측에서 순환하는 냉각수와의 열교환을 통해 기화 세정액을 액화 시킨다. 여기서 액화된 액화 세정액은 제1분리조(320)로 유입되고, 액화 후 남은 공기는 릴리즈 탱크(350) 또는 메인 리커버리 장치로 환원시킨다. 또한, 제2서브 리커버리 바디(340)의 일측에는 배기라인이 형성되어 리커버리부(300)의 압력이 높아지는 경우에는 공기를 배기시켜 리커버리부(300)의 압력을 조절할 수 있다.
전술한 바와 같이, 세정액은 강한 휘발성을 갖고 있기 때문에 저장탱크(200) 내부에서도 기화가 발생할 수 있다. 이와 같이, 저장탱크(200) 내부에서 기화된 기화 세정액은 릴리즈 탱크(350)로 공급하여 릴리즈 탱크(350) 내부에서 액화시키거나, 릴리즈 탱크(350)에서 포집된 기화 세정액을 메인 리커버리 바디(310)로 공급하여 전술한 공정을 통해 액화가 이루어질 수 있도록 한다.
전술한 바와 같이, 각각의 공정 및 장치에서 기화 되는 기화 세정액을 복수의 과정을 통해 최소 2차의 공정을 통해 공기 중에 포함된 기화 세정액을 액화 시켜 저장탱크(200)로 환원시키기 때문에 세정액의 낭비를 최소화할 수 있다.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명이 속하는 기술분야의 당업자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 상술한 실시예들은 모든 면에 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해해야만 한다. 본 발명의 범위는 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
10 : 스팟 크리닝 시스템
100 : 챔버
110 : 제1챔버
120 : 제2챔버
130 : 제3챔버
131 : 핫 플레이트
200 : 저장탱크
250 : 제2분리조
300 : 리커버리부
310 : 메인 리커버리 바디
320 : 제1분리조
330 : 제1서브 리커버리 바디
335 : 블로어
340 : 제2서브 리커버리 바디
350 : 릴리즈 탱크
360 : 칠러유닛

Claims (11)

  1. 세정 대상물이 유입되어 세정액에 의해 상기 세정 대상물을 세정하는 챔버;
    상기 챔버로 세정액을 공급하는 저장탱크; 및
    상기 챔버에서 기화된 기화 세정액을 포집하여 상기 기화 세정액을 액화하여 상기 저장탱크로 환원시키는 리커버리부; 를 포함하고,
    상기 리커버리부는,
    상기 챔버에서 상기 기화 세정액이 유입되어 냉각을 통해 상기 기화 세정액을 다시 액화 세정액으로 액화 시키는 메인 리커버리 바디;
    상기 메인 리커버리 바디에서 상기 액화 세정액이 유입되어 액화 과정에서 혼합된 수분 및 불순물을 상기 액화 세정액과 분리하는 제1분리조; 및
    상기 메인 리커버리 바디에서 액화되지 못하고 기화된 상태의 상기 기화 세정액과 상기 메인 리커버리 바디 내부에 충진된 공기를 흡입하여 상기 기화 세정액을 액화 시키며, 액화된 액화 세정액을 상기 제1분리조로 유입시키고, 상기 액화 세정액과 분리된 공기를 상기 챔버 내부의 압력 조절을 위하여 상기 챔버 내부로 유입시키는 제1서브 리커버리 바디; 를 포함하며,
    상기 제1분리조에서 분리된 세정액은 상기 저장탱크로 환원되는 스팟 크리닝 시스템.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 메인 리커버리 바디 및 상기 제1서브 리커버리 바디 사이에는 상기 메인 리커버리 바디에서 상기 기화 세정액 및 상기 공기를 흡입하여 상기 제1서브 리커버리 바디로 공급하기 위한 블로어가 더 구비되는 스팟 크리닝 시스템.
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 리커버리부는,
    상기 메인 리커버리 바디로 유입되는 상기 기화 세정액 중 적어도 일부가 분기되어 유입되어 상기 기화 세정액을 액화 세정액으로 액화 시켜 상기 액화 세정액을 상기 제1분리조로 유입시키는 제2서브 리커버리 바디를 더 포함하는 스팟 크리닝 시스템.
  6. 제 1항에 있어서,
    상기 제1분리조에서 배기되는 공기 중 적어도 일부는 상기 공기 중에 포함된 기화 세정액을 재차 액화시키기 위하여 상기 메인 리커버리 바디로 환원시키는 스팟 크리닝 시스템.
  7. 제 1항에 있어서,
    상기 리커버리부는,
    상기 저장탱크 내부에서 기화되는 기화 세정액을 포집하여, 상기 기화 세정액을 액화 시켜 액화 세정액을 상기 저장탱크로 환원시키거나, 상기 기화 세정액을 상기 메인 리커버리 바디로 유동시키는 릴리즈 탱크가 더 구비되는 스팟 크리닝 시스템.
  8. 제 1항에 있어서,
    상기 리커버리부의 일측에는 상기 기화 세정액을 냉각시켜 액화시키기 위하여 상기 리커버리부의 내부를 순환하는 냉각수와 열교환을 통해 상기 냉각수의 온도를 지속적으로 낮춰주기 위한 칠러유닛이 더 구비되는 스팟 크리닝 시스템.
  9. 제 1항에 있어서,
    상기 챔버와 연결되어 상기 세정 대상물을 세척 후 기화되지 않고, 흐르는 상기 세정액이 유입되어 수분 및 불순물을 분리하여 상기 저장탱크로 환원시키는 제2분리조를 더 포함하는 스팟 크리닝 시스템.
  10. 제 1항에 있어서,
    상기 챔버는,
    상기 세정 대상물이 유입되는 제1챔버;
    상기 제1챔버와 연결되어 상기 제1챔버를 통해 유입되는 상기 세정 대상물을 세정하는 제2챔버; 및
    상기 제2챔버와 연결되어 상기 제2챔버에서 세정이 완료된 상기 세정 대상물을 건조하는 제3챔버;
    를 포함하는 스팟 크리닝 시스템.
  11. 제 10항에 있어서,
    상기 제3챔버에는 상기 세정 대상물을 신속하게 건조시키고, 상기 세정 대상물에 남아 있는 상기 세정액을 기화시켜 상기 기화 세정액의 회수율을 향상시키기 위한 핫 플레이트를 더 포함하는 스팟 크리닝 시스템.
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