CN110216094B - 能够独立清洁清洁对象物的助焊剂清洁系统 - Google Patents

Abstract

本发明的能够独立清洁清洁对象物的助焊剂清洁系统的特征在于，包括：移送模块，用于移送以预设的模式配置的多个清洁对象物；清洁模块，具有与上述清洁对象物相对应的多个喷嘴，通过从每个上述喷嘴均匀喷射清洁液来去除杂质；净化模块，与上述清洁模块连续配置，通过向上述清洁对象物喷射另外的混合液来去除上述清洁液及上述杂质；以及干燥模块，用于干燥经过上述清洁模块及上述净化模块的上述清洁对象物，在上述清洁模块以与上述清洁对象物的配置模式相对应的方式配置有多个上述喷嘴，每个喷嘴以均匀的压力喷射上述清洁液来独立清洁上述清洁对象物。

Description

能够独立清洁清洁对象物的助焊剂清洁系统

技术领域

本发明涉及助焊剂(Flux)清洁系统，更详细地，涉及如下的能够均匀喷射清洁液来独立清洁清洁对象物的助焊剂清洁系统：具有分别向多个清洁对象物独立地喷射清洁液的喷嘴，可通过从多个喷嘴均匀喷射清洁液来同时去除包含在清洁对象物的助焊剂等的杂质。

背景技术

当灰尘等异物附着在用于照相机等的镜头的表面时，借助透过镜头模块的光拍摄到的画像因异物而减少所透过的光量从而可能导致整体变暗或出现异物的影子。

因此，制造镜头的工艺中必须包括去除附着于镜头表面异物的镜头的清洁工作，通常，这种清洁工作使用吹气或清洁液来执行。

由于用于清洁工作的清洁液具有强挥发性，因而存在在清洁工作期间因大量的清洁液气化而造成浪费的问题。

并且，存在如下的问题：由于因气化而浪费清洁液，因而清洁工作成本上升，最终导致镜头的制造成本上升。

不仅如此，还存在如下的问题：当利用清洁液清洁时，难以同时清洁多个，因而可清洁的清洁对象物的受限范围明确，消耗较长的清洁时间。

因此，需要一种解决这些问题的方法。

发明内容

本发明是为了解决现有技术的问题而提出，提供如下的能够实现清洁对象物的独立清洁的助焊剂清洁系统：通过利用乱流流动来使从多个喷嘴均匀喷射清洁液，由此毫无偏差地均匀清洁多个清洁对象物，从而可通过同时清洁多个清洁对象物来缩短整体清洁时间。

本发明所要解决的问题并不局限于以上所提及的技术问题，未提及的其他技术问题可通过以下的记载使本发明所属技术领域的普通技术人员明确地理解。

用于实现上述目的的本发明的能够均匀喷射清洁液来独立清洁清洁对象物的助焊剂清洁系统的特征在于，包括：移送模块，用于移送以预设的模式配置的多个清洁对象物；清洁模块，具有与上述清洁对象物相对应的多个喷嘴，通过从每个上述喷嘴均匀喷射清洁液来去除杂质；净化模块，与上述清洁模块连续配置，通过向上述清洁对象物喷射另外的混合液来去除上述清洁液及上述杂质；以及干燥模块，用于干燥经过上述清洁模块及上述净化模块的上述清洁对象物，在上述清洁模块以与上述清洁对象物的配置模式相对应的方式配置有多个上述喷嘴，每个喷嘴以均匀的压力喷射上述清洁液来独立清洁上述清洁对象物。

并且，上述清洁模块可包括：清洁腔室，配置于上述移送模块的移送路径上，用于在内部收容上述清洁对象物；均匀喷射单元，具有多个上述喷嘴，在内部形成有用于使上述清洁液流动的流动空间，通过上述流动空间向各个上述喷嘴均匀地传输上述清洁液；以及多个阻力体，设置于上述均匀喷射单元的内部，通过干扰上述清洁液的流动来产生乱流流动，并使上述清洁液均匀地分散于上述喷嘴。

并且，上述阻力体呈球形，在相邻的多个上述阻力体之间可形成空隙。

并且，上述清洁模块以沿着上述移送模块连续配置有多个，并能够以多级的方式向上述清洁对象物喷射上述清洁物。

并且，上述清洁模块的特征在于，上述清洁模块清洁上述清洁对象物的时间比上述净化模块的净化时间长，上述清洁模块的数量根据上述净化模块的净化时间与上述清洁模块的清洁时间之差而定，并分别工作均匀的时间。

并且，上述净化模块可包括：净化腔室，设置于上述移送模块的路径上，用于收容上述清洁对象物；以及混合喷射单元，在内部具有混合空间，用于向上述清洁对象物喷射混合有分别供应的多个流体的上述混合液。

并且，上述净化模块还可包括：混合喷射单元，接收流体并通过形成于下部的流出口进行喷射；第一注入线，用于向上述混合喷射单元注入清洁干燥空气(CDA)；第二注入线，用于向上述混合喷射单元注入混合有去离子水(DI Water)和微泡的混合流体；以及第三注入线，用于向上述混合喷射单元注入蒸汽。

并且，上述混合喷射单元还可包括用于防止注入于内部的上述清洁干燥空气和上述混合流体回流的防回流引导件。

用于解决上述问题的本发明的利用清洁液的均匀喷射的助焊剂清洁系统具有如下的效果。

第一，具有如下优点：在每个清洁对象物的位置设置有多个喷嘴来喷射清洁液，并从每个喷嘴以均匀的压力喷射清洁液来缩短清洁对象物的清洁时间。

第二，具有如下优点：在喷射清洁液的清洁单元的内部设置有单独的阻力体来在清洁单元的内部产生乱流流动，从而以均匀的压力向多个喷嘴分别传输清洁液。

第三，具有如下优点：向清洁对象物喷射第二次喷射混合液，当清洁时，由预先混合有微泡和去离子水的混合流体经过扭转混合的混合液生成气泡，所生成的气泡碰撞清洁对象物来可去除细杂质。

本发明的效果不限于上述效果，本发明所属领域普通技术人员从发明要求保护范围的记载中可以清楚地理解未提及的其他效果。

附图说明

当结合附图阅读时，可以更好地理解以下说明的本申请实施例的详细说明以及上述说明的摘要。出于例示本申请的目的，在附图中示出了实施例。然而，应理解，本申请不限于所示的精确布置和手段。

图1为简要示出本发明第一实施例的助焊剂清洁系统的整体状态的图。

图2为简要示出本发明实施例的清洁模块的结构的图。

图3为示出图2的清洁模块的内部结构的图。

图4为示出图1的助焊剂清洁系统中的净化单元的结构的图。

图5为图4的净化单元的A—A剖视图。

图6为图4的净化单元的B—B剖视图。

具体实施方式

以下，参照附图，说明可以具体实现本发明目的的本发明的优选实施例。在说明本实施例时，对于相同的结构使用了相同的名称及附图标记，并省略了对其的附加说明。并且，在说明本发明的实施例时，附图中示出的结构仅用于帮助理解详细说明的例示，其形状可以不受限制地呈多种形状，并且发明要求保护范围不因此而受限。

首先，本发明的能够均匀喷射清洁液来独立清洁清洁对象物的助焊剂清洁系统作为用于移送清洁对象物且清洁及干燥杂质的装置，将多个清洁对象物以预设的形式配置并集中进行清洁。

像这样，参照附图简要观察本发明的助焊剂清洁系统，本发明的上述助焊剂清洁系统大致包括移送模块100、清洁模块200、净化模块300以及干燥模块400。

上述移送模块100被配置为将上述清洁对象物20移送到目标位置，使上述清洁对象物20沿着上述移送模块100移送，并相继经过上述清洁模块200、上述净化模块300及上述干燥模块400。

具体地，上述移送模块100以框架形态长的方式形成，并且沿着长度方向形成移送路径，沿着上述移送路径移送上述清洁对象物20。

其中，在上述移送模块100中，在沿着长度方向的两端分别设置有装料机(Loader)120和卸料机(Unloader)130，使得上述清洁对象物20分别放置或脱离。

在本实施例中，如图所示，上述移送模块100通过用于支撑整体的主体框架10设置在规定高度的位置，并且由于长度较长因而沿着长度方向移送上述清洁对象物20。

更详细地，上述移送模块100以长的方式形成，并包括具有多个辊子112的移送框架110、设置于上述移送框架110的一侧的上述装料机120以及设置于上述移送框架110的另一侧的卸料机130。

上述移送框架110以沿着上述清洁对象物20的移送路径长的方式形成，并具有规定的宽度。

而且，上述移送框架110具有多个辊子112，通过每个辊子的旋转来移送上述清洁对象物20。在此情况下，在上述移送框架110中，后述的上述清洁模块200、上述净化模块300以及上述干燥模块400分别放置于移送路径上。

在本实施例中，如图所示，上述移送框架110在规定高度以上高度的位置得到支撑，并且可配置有上述辊子112，可在上述辊子112的上部放置上述清洁对象物20。

在此情况下，多个上述清洁对象物20以预设的模式配置并以放置于单独的移送托盘22的状态沿着上述移送框架110移送。

通常，上述清洁对象物20呈尺寸小的半导体设备或相机模块等小芯片形态，以具有均匀间隔的方式配置于上述移送托盘22，从而可同时清洁多个上述清洁对象物20。

在本实施例中，上述清洁对象物20作为用于电子设备等的相机模块，当制造时由于附着有杂质或助焊剂，因而可以通过清洁液30来去除。

像这样，上述移送模块100将放置有多个上述清洁对象物20的上述移送托盘22移送到目标位置，并使其经过后述的上述清洁模块200、上述净化模块300以及上述干燥模块400来去除杂质。

另一方面，上述清洁模块200被配置为清洁上述清洁对象物20，设置于上述清洁对象物20的移送路径，用于向上述清洁对象物20喷射清洁液30。

其中，上述清洁模块200以在内部收容被移送的上述清洁对象物20的状态向每个上述清洁对象物20喷射上述清洁液30。

具体地，上述清洁模块200具有多个喷嘴222，多个喷嘴222以与如上所述的预设的模式配置的上述清洁对象物20相对应的方式配置，每个喷嘴222向上述清洁对象物20喷射清洁液30。

本发明的上述清洁模块200大致包括清洁腔室210、均匀喷射单元220、阻力体230以及位置调节单元240。

上述清洁腔室210被配置为在内部收容通过上述移送模块100移送的上述清洁对象物20以使其与外部阻隔，并呈至少一部分被阻断的形态，从而在内部喷射上述清洁液30。

具体地，上述清洁腔室210呈普通的腔室形态，并形成有内部空间212，从而防止喷射到上述清洁对象物20的上述清洁液30泄漏到外部。

在本实施例中，如图所示，上述清洁腔室210呈四边形态的腔室，可使上述清洁对象物20与上述移送托盘22一同收容在内部。

在此情况下，在上述清洁腔室210的内部设置有后述的均匀喷射单元220，通过上述均匀喷射单元220向上述清洁对象物20喷射上述清洁液30。

上述均匀喷射单元220被配置为在上述清洁腔室210的内部向上述清洁对象物20喷射上述清洁液30，包括多个喷嘴222，每个上述喷嘴222以均匀的压力喷射上述清洁液30。

具体地，上述均匀喷射单元220包括多个上述喷嘴222，通过向放置于上述移送托盘22的上述清洁对象物20高压喷射清洁液30来清洁上述清洁对象物20。

其中，上述喷嘴222以与上述清洁对象物20配置于上述移送托盘22的形态相对应地分别1：1匹配的方式构成。

即，上述喷嘴222以对应每个上述清洁对象物20的方式设置有多个，多个上述喷嘴222通过以均匀的速度和压力喷射上述清洁液30来清洁上述清洁对象物20。

上述清洁液30可以使用各种种类，尤其，优选地，使用氢氟醚(HFE，hydrofluoroether)。

像这样，在上述均匀喷射单元220的内部设置有单独的流动空间224，通过接收上述清洁液30来向每个上述喷嘴222进行分配及传输。

由此，每个上述喷嘴222通过向对应位置的上述清洁对象物20喷射上述清洁液30来进行清洁。

其中，在上述流动空间224填充有上述阻力体230，从而基于上述清洁液30的移送而产生阻力。

具体地，上述阻力体230设置于上述均匀喷射单元220的内部来干扰上述清洁液30的流动并产生乱流流动。而且，随着在上述流动空间224的内部产生上述清洁液30的乱流流动，上述清洁液30以均匀分散的方式供应到多个上述喷嘴222。

即，供应到上述均匀喷射单元220的上述清洁液30经过上述流动空间224并被分散，从而传输到每个上述喷嘴222，随着在上述流动空间224设置有上述阻力体230，可使上述清洁液30均匀地分散于整个上述流动空间224。

在本发明的上述均匀喷射单元220中，多个上述喷嘴222与上述流动空间224连通，但是向上述流动空间224进行供应的供应口226的数量较少。

通常，在流体由单个管分支成多个分支来进行喷射的情况下，存在无法将流体均匀地喷射到产品的缺点，为了解决该问题，在流体的移动路径上设置阻力体，从而在分散流体流动后，可使通过喷嘴喷射的流体的流量、压力及速度变得均匀。

在此情况下，当在上述流动空间224中不存在上述阻力体230时，与上述供应口226相邻的上述多个上述喷嘴222中的一部分以相对更强的水压喷射上述清洁液30。

但是，如同本发明，在上述流动空间224的内部设置上述阻力体230，从而在上述流动空间224产生乱流流动，并且与是否与上述供应口226相邻无关地，使上述清洁液30均匀地分散并供应到多个上述喷嘴222。

其中，上述阻力体230呈球形状，并且在相邻的多个上述阻力体230之间形成空隙，从而在上述流动空间224的内部产生上述清洁液30的乱流流动。

像这样，在上述均匀喷射单元220中，通过多个上述喷嘴222独立地向每个上述清洁对象物20喷射上述清洁液30，并且在内部设置上述阻力体230，从而可从每个上述喷嘴222均匀地喷射上述清洁液30。

另一方面，上述位置调节单元240被配置为在上述清洁腔室210的内部支撑上述均匀喷射单元220，将上述均匀喷射单元配置于规定高度的位置并选择性地调节其位置。

如图所示，上述位置调节单元240以使至少一个上述均匀喷射单元220配置于上述清洁对象物20的上部的方式进行支撑，并以使每个上述喷嘴222与上述清洁对象物20的位置相匹配的方式进行调节。

在本实施例中，上述位置调节单元240包括：垂直杆242，与上述移送模块100的宽度相对应地隔开并沿着上下方向配置；以及水平杆244，在上述垂直杆242的上部相互连接，在上述水平杆244上设置有至少一个上述均匀喷射单元220。

而且，在上述均匀喷射单元220中，上述喷嘴222在以朝向上述清洁对象物20的方式配置的状态下其位置沿着横向调节。

由此，上述喷嘴222的位置沿着横向调节，并且能够以对应于配置在上述移送托盘22上的上述清洁对象物20的方式配置。

像这样，上述位置调节单元240在规定高度支撑上述均匀喷射单元220的同时调节上述喷嘴222的位置，使得上述喷嘴222向每个上述清洁对象物20喷射上述清洁液30。

像这样，本发明的上述清洁模块200包括上述清洁腔室210、上述均匀喷射单元220、上述阻力体230以及上述位置调节单元240，并且通过向上述清洁对象物20喷射上述清洁液30来去除助焊剂(Flux)等的杂质。

另一方面，上述净化模块300沿着上述清洁对象物20的移动路径与上述清洁模块200连续配置，通过向上述清洁对象物20喷射另外的混合液40来去除上述清洁液30及上述杂质。

具体地，上述净化模块300被配置为使上述清洁对象物20经过上述清洁模块200来进行一次清洁后进行进一步清洁，通过喷射上述混合液40来去除残留在上述清洁对象物20的助焊剂等的杂质及上述清洁液30。

在此情况下，上述净化模块300与上述清洁模块200单独设置，设置于在经过上述清洁模块200后移送的上述清洁对象物20的移送路径来进行清洁。

本发明的上述净化模块300大致包括净化腔室310、混合喷射单元320、用于向上述混合喷射单元320注入清洁干燥空气的第一注入线330、用于向上述混合喷射单元320注入混合有去离子水和微泡的混合流体的第二注入线340以及第三注入线350。

在上述净化腔室310的内部形成有单独的收容空间312，用于在内部收容上述清洁对象物20。

上述净化腔室310的具体结构与如上所述的上述清洁腔室210类似，在内部设置有上述混合喷射单元320，用于防止从上述混合喷射单元320喷射的上述混合液40泄漏到外部。

在本实施例中，上述净化腔室310呈与上述清洁腔室210相同的形态，设置于上述移送模块100上，可在内部的收容空间312收容上述移送托盘22。

另一方面，上述混合喷射单元320被配置为设置于上述净化腔室310的内部来向上述清洁对象物20喷射上述混合液40，从外部接收流体并通过形成于下部的流出口向上述清洁对象物20进行喷射。

其中，在上述混合喷射单元320的内部形成有单独的混合空间321，与上述第一注入线330、上述第二注入线340及上述第三注入线350相连接，通过上述第一注入线330、上述第二注入线340及上述第三注入线350接收互不相同的流体并在内部进行混合。而且，经混合的上述混合液40通过上述流出口向上述清洁对象物20喷射。

具体地，上述混合喷射单元320从上述第一注入线330、上述第二注入线340及上述第三注入线350接收蒸汽、清洁干燥空气及流体，并将这些进行混合并喷射，以能够执行对清洁对象物20的精细清洁。

本发明的上述混合喷射单元320与用于注入清洁干燥空气的第一注入线330、用于注入混合有去离子水和微泡的混合流体(DI+Micro Bubble)的第二注入线340以及用于注入蒸汽的第三注入线350分别相连接。

另一方面，上述第一注入线330从外部接收干净的干燥空气并向扭转的上述喷嘴进行供应，通过单独的阀(未示出)和调节器(未示出)来调节注入流量和注入压力。

而且，上述第二注入线340供应由单独的混合器(未示出)生成的混合流体，与上述第一注入线330相同地，通过阀和调节器来调节注入流量和注入压力。

在此情况下，在上述混合器生成的上述混合流体经过单独的缓冲罐(未示出)，在被供应到上述混合喷射单元320之前临时储存在上述单独的缓冲罐。

另一方面，上述第三注入线350用于向上述混合喷射单元320供应蒸汽，其一端与混合喷射单元320相结合，另一端与蒸汽发生器(Steam generator)相结合。

作为一例，蒸汽发生器能够有以高压注入约120℃的蒸汽，通过在混合喷射单元320内与其他注入物扭转混合来使其温度降低到60℃至70℃。

蒸汽发生器包括并列配置的多个加热棒，根据由加热棒的加热生成的蒸汽量和通过第三注入线350注入的蒸汽量来调节注入于蒸汽发生器的去离子水的量，从而可向混合喷射单元320注入24小时的蒸汽。

上述第一注入线330、上述第二注入线340及上述第三注入线350以如上所述的方式配置，用于向上述混合喷射单元320供应各自的流体。

像这样，上述净化模块300将上述清洁对象物20收容于上述净化腔室310内部，并向上述清洁对象物20喷射混合有被供应到上述混合喷射单元320的流体的上述混合液40，从而清洁上述清洁对象物20。

另一方面，更详细观察上述混合喷射单元320的结构，上述混合喷射单元320包括喷射腔室322、第一注入部323、第二注入部324、第三注入部325、流出口326以及防回流引导件328。

第一注入部323、第二注入部324及第三注入部325对应于上述第一注入线330、第二注入线340、第三注入线350且相互连接，以便如上所述地向上述喷射腔室322的内部分别注入清洁干燥空气(CDA)、混合流体及蒸汽等。

而且，上述喷射腔室322提供用于使多种流体通过上述第一注入部323、第二注入部324及第三注入部325流入并储存及混合上述流体的场所，在其内部形成有混合空间321。

并且，在上述喷射腔室322的底部形成有用于向外部喷射经混合的上述混合液40的至少一个流出口326。

另一方面，观察上述第一注入部323、上述第二注入部324及上述第三注入部325，上述第一注入部323、上述第二注入部324及上述第三注入部325分别与上述第一注入线330、上述第二注入线及上述第三注入线350相连接，以向上述喷射腔室322的内部供应清洁干燥空气、上述混合流体以及蒸汽。

在以下说明中，将上述清洁干燥空气称为第一流体，将混合流体称为第二流体。

具体地，第一注入部323及第二注入部324是设置于喷射腔室322的上部一侧且用作使流体流入喷射腔室322内部的通道的装置。

第一注入部323是设置于喷射腔室322的本体110的上部一侧且用作第一流体(CDA)流入的通道的装置。这种第一注入部323被配置为进入喷射腔室322的内部规定长度，进入喷射腔室322的内部的第一注入部323向下方弯曲而成。

第二注入部324是用于提供第二流体(去离子水与微泡的混合流体)流入的通道的装置。这种第二注入部324设置于喷射腔室322的本体110的上部一侧，详细地，以第三注入部325为基准与第一注入部323相向，与第一注入部323相同地，呈向下部弯曲的形状。在此情况下，第一注入部323及第二注入部324的下端以相同的高度形成，以便在相同的位置供应从第一注入部323供应的清洁干燥空气、从第二注入部324供应的去离子水以及微泡的混合流体。

然而，根据使用方式，按照注入流体的种类可使第一注入部323及第二注入部324的高度互不相同来提高混合性能。

作为在本发明中所使用的第一流体及第二流体的一例，第一流体可以是清洁干燥空气(CDA，Clean Dried Air)，第二流体可以是混合有去离子水(DIW，Deionized Water)和微泡的流体。

上述第一注入部323及上述第二注入部324以如上所述的方式配置，在本发明中，如图所示，在上述喷射腔室322的侧面隔开设置有多个上述第一注入部323及上述第二注入部324，上述第一注入部323及上述第二注入部324彼此相连通，并与上述第一注入线330及上述第二注入线340相连接。

其中，如图5及图6所示，在上述本体110的内部分支的上述第一注入部323及上述第二注入部324的多个流路配置于上述喷射腔室322的内部。

即，上述第一注入部323在上述喷射腔室322的侧面横向分支为多个，向上述混合空间321供应通过上述第一注入线330供应的上述第一流体。而且，上述第二注入部324也在与上述第一注入部323相向的位置以类似的方式形成。

第三注入部325是通过形成于喷射腔室322的上部中心一侧的贯通孔来与喷射腔室322相结合并向喷射腔室322的内部供应高温、高压的蒸汽的装置。

通过第三注入部325供应高温、高压的蒸汽，从而即使在喷射腔室322的内部不使用搅拌机等，第一流体、第二流体及蒸汽也可以通过以高压流入的蒸汽碰撞喷射腔室322的内壁面，并且通过扭转方式实现混合。并且，喷射腔室322的内部的压力通过以高压流入的蒸汽上升，由此在喷射腔室322的内部通过流出口326高压喷出上述混合液40。

并且，由于蒸汽以高压来供应，可以将在喷射腔室322的内部混合的清洁液30加热到预定温度，从而可以进一步提高清洁效率。

在喷射腔室322的下端形成有至少一个流出口326。这种流出口326尽可能不与第一注入部323、第二注入部324及第三注入部325的中心轴位于同一线上。这是因为，若流出口326位于与第一注入部323、第二注入部324及第三注入部325中的一种相一致的位置，则有可能从流出口326排出未充分混合的流体。

并且，由于以高压供应的高压蒸汽碰撞喷射腔室322的底部面后弹回(Rebounding)，多种流体再一次被混合，使得混合变得更容易，因此，优选地，流出口326不与各自的注入部323、324、325位于同一线上。

在流出口326的上部及下部两侧末端中，可在流入清洁液30的一侧末端形成有朝向流出口326的方向逐渐变窄的圆锥，可在另一侧末端形成有朝向从流出口326喷射的方向逐渐变宽的圆锥，使得清洁液30的流入及扩散变得容易。像这样，通过在两侧形成圆锥来使清洁液30更容易流入，并且在喷射清洁液30的末端使清洁液30容易扩张。

上述混合喷射单元320以如上所述的方式配置，从而可通过生成上述混合液40来将其喷射到上述清洁对象物20。

另一方面，本发明的上述混合喷射单元320还可以包括单独的防回流引导件328。上述防回流引导件328形成于上述喷射腔室322的内部的上述混合空间321，向下部方向引导从上述喷射腔室322的侧面供应的上述第一流体及上述第二流体，从而防止回流。

具体地，如图所示，上述防回流引导件328在上述混合空间321的内部与上述第一注入部323或上述第二注入部324中的至少一个上部相邻，并以预设的长度突出而成。

在此情况下，上述防回流引导件328从上述第一注入部323或上述第二注入部324的上部向下倾斜并突出而成，从而防止回流。

在本实施例中，上述防回流引导件328独立地分别设置于上述第一注入部323及上述第二注入部324的上部，并以沿着横向方向长的方式形成。

其中，如图所示，上述第一注入部323及上述第二注入部324以相向的方式配置，并分别沿着横向方向隔开设置有多个。

由此，从上述第一注入线330及上述第二注入线340供应的上述第一流体及上述第二流体沿着上述第一注入部323及上述第二注入部324的流路分支并被供应到上述喷射腔室322的内部。

而且，在以如上所述的方式供应的上述第一流体及上述第二流体在流入上述喷射腔室322的内部后，被上述防回流引导件328向下部方向引导，从而防止回流。

本发明的上述净化模块300以如上所述的方式配置，通过第二次清洁在上述清洁模块200中经过清洁的上述清洁对象物20来去除上述清洁液30及杂质。

另一方面，上述干燥模块400设置于上述移送模块100的路径来干燥经过上述净化模块300的上述清洁对象物20。

具体地，上述干燥模块400呈单独的腔室形态，通过在内部设置干燥单元来对上述清洁对象物20进行干燥。

在此情况下，上述清洁对象物20处于经过上述净化模块300并被上述混合液40清洁的状态，由此可通过上述干燥模块400来去除水分。

在本发明中，可以连续地配置至少一个上述干燥模块400，并且通过各种干燥单元来对上述清洁对象物20进行干燥。

具体地，上述干燥模块400包括：干燥腔室410，呈腔室形态，用于在内部收容被移送的上述清洁对象物20；以及干燥单元420，在上述干燥腔室410的内部对上述清洁对象物20进行干燥。

在上述干燥腔室410的结构与如上所述的净化腔室310或上述清洁腔室210类似，可在内部收容配置于上述移送模块100上并被移送的上述清洁对象物20。

而且，上述干燥单元420被配置为在上述干燥腔室410的内部形成有至少一个且用于对上述清洁对象物20进行干燥，可使用热空气(Hot air)或热板(Hot Plate)等的各种形态，并利用其来去除水分。

在本实施例中，如图所示，连续配置有两个上述干燥模块400，且分别具有互不相同的形态的干燥单元420。

首先，在第一个干燥模块400的情况下，上述干燥单元420呈喷射热空气的形态，由上述干燥模块400第一次去除水分，在第二个干燥模块400的情况下，上述干燥单元420由单独的热板构成，从而去除残留水分。

即，本发明的上述干燥模块400可以使用各种形态的上述干燥单元420来对上述清洁对象物20进行干燥，多个干燥单元420能够以多层的方式配置来连续进行干燥。

像这样，在本发明的助焊剂清洁系统中，设置于上述清洁模块200的多个上述喷嘴222分别与上述清洁对象物20的配置相对应，可通过从每个上述喷嘴222以均匀的压力喷射上述清洁液30来在短时间内去除助焊剂等的杂质。

尤其，以往，由于难以从上述清洁模块200以均匀的压力向上述清洁对象物20喷射上述清洁液30，因而使用装有清洁液30的浴缸等来对上述清洁对象物20进行清洁，由此存在清洁时间长的问题。

然而，如本发明所述，通过分别以均匀的压力向上述清洁对象物20喷射上述清洁液30，可以明显缩短清洁时间。

接下来，对本发明的助焊剂清洁器中的多个上述清洁模块200的配置结构观察如下。

如图所示，本发明的上述清洁模块200沿着上述移送模块100连续配置有多个，并以多级的方式向上述清洁对象物20喷射上述清洁液30。

在此情况下，存在如下的特征：上述清洁模块200清洁上述清洁对象物20的时间比上述净化模块300的净化时间长，上述清洁模块200的数量根据上述净化模块300的净化时间与上述清洁模块200的清洁时间之差而定，并分别工作均匀的时间。

具体地，本发明的上述清洁模块200被配置为一次性清洁上述清洁对象物20的结构，因而比上述净化模块300驱动相对更长的时间。

由此，在对应于上述清洁模块200与上述净化模块300的驱动时间之差来设置更多的上述清洁模块200的情况下，每个上述清洁模块200的驱动时间保持相同，可增加经过上述清洁模块200的数量。

即，经过上述清洁模块200的上述清洁对象物20可以在净化时间之后持续移动，而不停留在上述净化模块300的内部。

例如，当对清洁对象物20进行清洁时，需要在上述清洁模块200清洁30分钟之后在上述净化模块300清洁10分钟的情况下，沿着上述移送模块100以连续配置的方式设置三个清洁模块200且仅设置一个上述净化模块300，而不是将清洁模块200仅设置一个。

而且，上述清洁对象物20在各个模块停留10分钟来进行清洁，从而可以连续清洁上述清洁对象物20。

像这样，上述清洁模块200被配置为多个，形成与上述净化模块300的净化时间之差相对应的数量，从而连续清洁上述清洁对象物20，可最小化时间的浪费。

如上所述，说明了本发明的优选实施例，除了如上所述的实施例之外，在不脱离其主旨或范畴的情况下，本发明能够以其他特定形式具体化，这对于本发明所属领域普通技术人员而言是显而易见的。因此，上述实施例是例示性的，而不是限制性的，由此，本发明不限于如上所述的说明，而是可以在所附的发明要求保护范围的范畴及其等同范围内变更。

Claims (6)

1.一种能够均匀喷射清洁液来独立清洁清洁对象物的助焊剂清洁系统，其特征在于，

包括：

移送模块，用于移送以预设的模式配置的多个清洁对象物；

清洁模块，具有与上述清洁对象物相对应的多个喷嘴，通过从每个上述喷嘴均匀喷射清洁液来去除杂质；

净化模块，与上述清洁模块连续配置，通过向上述清洁对象物喷射另外的混合液来去除上述清洁液及上述杂质；以及

干燥模块，用于干燥经过上述清洁模块及上述净化模块的上述清洁对象物，

在上述清洁模块以与上述清洁对象物的配置模式相对应的方式配置有多个上述喷嘴，每个喷嘴以均匀的压力喷射上述清洁液来独立清洁上述清洁对象物，

上述清洁模块包括：

清洁腔室，配置于上述移送模块的移送路径上，用于在内部收容上述清洁对象物；

均匀喷射单元，具有多个上述喷嘴，在内部形成有用于使上述清洁液流动的流动空间，通过上述流动空间向各个上述喷嘴均匀地传输上述清洁液；以及

多个阻力体，设置于上述均匀喷射单元的内部，通过干扰上述清洁液的流动来产生乱流流动，并使上述清洁液均匀地分散于上述喷嘴，

上述阻力体呈球形，在相邻的多个上述阻力体之间形成空隙。

2.根据权利要求1所述的能够均匀喷射清洁液来独立清洁清洁对象物的助焊剂清洁系统，其特征在于，上述清洁模块以沿着上述移送模块连续配置有多个，并以多级的方式向上述清洁对象物喷射上述清洁液。

3.根据权利要求2所述的能够均匀喷射清洁液来独立清洁清洁对象物的助焊剂清洁系统，其特征在于，上述清洁模块清洁上述清洁对象物的时间比上述净化模块的净化时间长，上述清洁模块的数量根据上述净化模块的净化时间与上述清洁模块的清洁时间之差而定，并分别工作均匀的时间。

4.根据权利要求1所述的能够均匀喷射清洁液来独立清洁清洁对象物的助焊剂清洁系统，其特征在于，上述净化模块包括：

净化腔室，设置于上述移送模块的路径上，用于收容上述清洁对象物；以及

混合喷射单元，在内部具有混合空间，用于向上述清洁对象物喷射混合有分别供应的多个流体的上述混合液。

5.根据权利要求4所述的能够均匀喷射清洁液来独立清洁清洁对象物的助焊剂清洁系统，其特征在于，上述净化模块还包括：

混合喷射单元，接收流体并通过形成于下部的流出口进行喷射；

第一注入线，用于向上述混合喷射单元注入清洁干燥空气；

第二注入线，用于向上述混合喷射单元注入混合有去离子水和微泡的混合流体；以及

第三注入线，用于向上述混合喷射单元注入蒸汽。

6.根据权利要求5所述的能够均匀喷射清洁液来独立清洁清洁对象物的助焊剂清洁系统，其特征在于，上述混合喷射单元还包括用于防止注入于内部的上述清洁干燥空气和上述混合流体回流的防回流引导件。

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