KR20160066382A - 초음파 세정 시스템 - Google Patents
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Abstract
초음파 세정 시스템이 개시된다. 본 발명의 초음파 세정 시스템은, 제조부품의 오염을 세정하는 시스템으로서, 수평방향으로 길게 형성되고 내부에 세정액을 저장하는 저장공간을 형성하는 베이스; 상기 베이스의 상단부에 설치되는 세정모듈; 및 상기 세정모듈을 통과하며 제조부품을 이동시키는 컨베이어유닛을 포함하고, 상기 세정모듈은, 상기 컨베이어유닛을 향해 세정액의 이류체를 분사하는 분사유닛, 내부에 세정액이 채워지고 상기 컨베이어유닛을 향해 초음파를 발진하는 세정유닛 및 상기 컨베이어유닛을 향해 열풍을 공급하는 건조유닛을 포함하며, 상기 분사유닛, 세정유닛 및 건조유닛은, 제조부품의 상측 및 하측 각각에 이류체, 초음파 및 열풍을 전달하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 제조부품의 양쪽 면에 균일한 세정이 이루어지고, 다단계로 세정되는 과정에서 제조부품의 유동이 방지되며, 고장이 발생하더라도 세정과정을 신속하게 재개할 수 있도록 이루어지는 초음파 세정 시스템을 제공할 수 있게 된다.
Description
본 발명은 초음파 세정 시스템에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 제조부품이 이동되는 과정에서 제조부품의 상측 및 하측을 향해 이류체 분사, 초음파 발진 및 열풍 공급을 인라인(inline) 방식으로 실시하여 제조부품을 신속하고 균일하게 세정하도록 이루어지는 초음파 세정 시스템에 관한 것이다.
초음파 세정(ultrasonic cleaning, 超音波洗淨)은 초음파가 액체 중을 통과할 때에 액체 중에 작은 진공의 공동(空洞)을 만들어 공동 중의 액이 증발하여 큰 거품으로 되면 이것이 파괴소멸할 때에 생기는 캐비테이션(cavitation)에 의하여 기구의 표면에 붙은 더러움을 제거는 세정법이다.
초음파 세정 기술은 대한민국 공개특허공보 제1994-0019363호, 제2011-0090120호, 제2006-0019471호에 게시된 바와 같이 공지된 기술로서 PCB, 웨이퍼, 기계부품 등의 세정공정에 널리 사용되고 있다.
특히 대한민국 공개특허공보 제2006-0019471호에는 하이브리드 세정 시스템이 게시되어 있으며, 공개특허공보 제2006-0019471호는 컨베이어를 따라 이송되는 정밀한 기계 가공부품을 1차로 고압 노즐을 사용하여 비교적 커다란 이물질을 분무 세척하고, 2차로 초음파 진동자를 이용하여 미세한 이물질을 세척하기 위한 것으로, 소정의 경로를 따라가는 컨베이어에 피세척물을 유입시켜 고압분무 세정과정과 초음파 세정과정을 통하여 세척과정을 이루어지게 함으로써 우수한 세척효과를 얻을 수 있고, 가공이나 조립 등의 중간과정에 삽입하여 원활한 흐름을 이루어지게 하여 가공정도와 조립정도를 향상시킬 수 있으며, 세척과정이 자동으로 이루어지게 되므로 작업에 소요되는 시간과 경비를 줄일 수 있도록 이루어지는 것을 특징으로 한다.
그러나, 공개특허공보 제2006-0019471호를 포함하는 종래의 세정 시스템은 초음파가 제조부품을 향해 어느 한쪽 방향에서만 공급됨에 따라, 부품의 양쪽 면에 공급되는 초음파의 세기에 차이가 발생함으로써, 제조부품을 균일성 있게 세정하지 못하는 문제가 있었다.
또한, 공개특허공보 제2006-0019471호를 포함하는 종래의 세정 시스템은 고압분무 세정과 초음파 세정 중 제조부품을 이동시키는 컨베이어벨트가 독립적으로 설치됨에 따라, 컨베이어벨트를 옮겨가는 과정에서 제조부품에 유동이 발생하여 고압분무 세정과 초음파 세정의 균일성을 해치는 문제가 있었다.
또한, 공개특허공보 제2006-0019471호를 포함하는 종래의 세정 시스템은 컨베이어벨트 등이 세정액이 저장되는 본체에 고정적으로 설치됨에 따라, 세정 시스템의 어느 한 구성에 고장이 발생하는 경우 세정 시스템 전체의 가동이 중단되는 단점이 있었다.
본 발명의 목적은, 제조부품의 양쪽 면에 균일한 세정이 이루어지고, 다단계로 세정되는 과정에서 제조부품의 유동이 방지되며, 고장이 발생하더라도 세정과정을 신속하게 재개할 수 있도록 이루어지는 초음파 세정 시스템을 제공하는 것이다.
상기 목적은, 본 발명에 따라, 제조부품의 오염을 세정하는 시스템으로서, 수평방향으로 길게 형성되고 내부에 세정액을 저장하는 저장공간을 형성하는 베이스; 상기 베이스의 상단부에 설치되는 세정모듈; 및 상기 세정모듈을 통과하며 제조부품을 이동시키는 컨베이어유닛을 포함하고, 상기 세정모듈은, 상기 컨베이어유닛을 향해 세정액의 이류체를 분사하는 분사유닛, 내부에 세정액이 채워지고 상기 컨베이어유닛을 향해 초음파를 발진하는 세정유닛 및 상기 컨베이어유닛을 향해 열풍을 공급하는 건조유닛을 포함하며, 상기 분사유닛, 세정유닛 및 건조유닛은, 제조부품의 상측 및 하측 각각에 이류체, 초음파 및 열풍을 전달하는 것을 특징으로 하는 초음파 세정 시스템에 의하여 달성된다.
상기 컨베이어유닛은, 제조부품의 하부를 지지하고, 상기 베이스의 상부에서 순환하는 하부컨베이어유닛; 및 제조부품의 상부를 상기 하부컨베이어유닛 측으로 가압하고, 상기 베이스의 하부에서 순환하는 상부컨베이어유닛을 포함하여 이루어질 수 있다.
상기 분사유닛은, 상기 베이스의 상단부에 설치되고, 상기 컨베이어유닛이 통과하는 한 쌍의 제1 통과홀이 형성되는 분사하우징; 및 상기 분사하우징의 내부에 설치되어 이류체를 분사하고, 상기 컨베이어유닛의 상측에 형성되는 제1 분사장치; 및 상기 컨베이어유닛의 하측에 형성되는 제2 분사장치를 포함하여 이루어질 수 있다.
상기 제1 분사장치 및 제2 분사장치 각각은, 세정액이 유입되는 제1 관로; 기체가 유입되는 제2 관로; 상기 제1 관로 및 제2 관로와 연결되고 이류체가 유출되는 제3 관로; 및 이류체가 균일한 타력을 형성하도록 상기 제3 관로와 반대쪽으로 형성되는 버퍼관로를 포함하여 이루어질 수 있다.
상기 세정유닛은, 상기 베이스의 상단부에 설치되고, 상기 컨베이어유닛이 통과하는 한 쌍의 제2 통과홀이 형성되는 세정하우징; 및 상기 세정하우징의 내부에 설치되어 초음파를 발진하고, 상기 컨베이어유닛의 상측에 형성되는 제1 세정장치; 및 상기 컨베이어유닛의 하측에 형성되는 제2 세정장치를 포함하여 이루어질 수 있다.
상기 건조유닛은, 상기 베이스의 상단부에 설치되고, 상기 컨베이어유닛이 통과하는 한 쌍의 제3 통과홀이 형성되는 건조하우징; 및 상기 건조하우징의 내부에 설치되어 열풍을 공급하고, 상기 컨베이어유닛의 상측에 형성되는 제1 건조장치; 및 상기 컨베이어유닛의 하측에 형성되는 제2 건조장치를 포함하여 이루어질 수 있다.
상기 분사유닛은 제조부품의 이동방향을 기준으로 상기 세정유닛 앞에 설치되며, 상기 세정모듈은, 상기 세정유닛과 건조유닛 사이에 설치되고, 상기 컨베이어유닛을 향해 세정액을 분사하는 후처리유닛을 더 포함하여 이루어질 수 있다.
상기 저장공간은 상기 세정유닛과 후처리유닛 아래의 제1 저장공간 및 상기 분사유닛 아래의 제2 저장공간으로 구획되고, 상기 제1 저장공간의 세정액을 상기 세정유닛으로 공급하는 제1 펌프유닛; 상기 제2 저장공간의 세정액을 상기 분사유닛으로 공급하는 제2 펌프유닛; 및 상기 제2 저장공간의 세정액을 상기 후처리유닛으로 공급하는 제3 펌프유닛을 포함하여 이루어질 수 있다.
상기 제1 펌프유닛은, 상기 제1 저장공간과 연결되는 유입라인, 상기 세정유닛과 연결되는 유출라인 및 상기 제1 관로 및 제2 관로 사이에 형성되는 제1 펌프를 포함하고, 상기 제2 저장공간은 상기 후처리유닛 측보다 상기 세정유닛 측 바닥면이 낮게 형성되고, 상기 유입라인은 상기 세정유닛 측 바닥면에 연결되도록 이루어질 수 있다.
본 발명에 의하면, 분사유닛, 세정유닛 및 건조유닛은, 제조부품의 상측 및 하측 각각에 이류체, 초음파 및 열풍을 전달하도록 이루어짐으로써, 제조부품의 양쪽 면에 균일한 세정이 이루어지는 초음파 세정 시스템을 제공할 수 있게 된다.
또한, 하부컨베이어유닛 및 상부컨베이어유닛이 제조부품의 상하측을 가압하여 이동시킴에 따라, 다단계로 세정되는 과정에서 제조부품의 유동이 방지되도록 이루어지는 초음파 세정 시스템을 제공할 수 있게 된다.
아울러, 세정모듈이, 분사유닛, 세정유닛 및 건조유닛의 유닛형태로 이루어짐에 따라, 고장이 발생하더라도 세정과정을 신속하게 재개할 수 있도록 이루어지는 초음파 세정 시스템을 제공할 수 있게 된다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 초음파 세정 시스템의 정면도.
도 2는 도 1의 초음파 세정 시스템의 개략도.
도 3은 도 1의 초음파 세정 시스템의 분사유닛의 단면도.
도 2는 도 1의 초음파 세정 시스템의 개략도.
도 3은 도 1의 초음파 세정 시스템의 분사유닛의 단면도.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세하게 설명하면 다음과 같다. 다만, 본 발명을 설명함에 있어서, 이미 공지된 기능 혹은 구성에 대한 설명은, 본 발명의 요지를 명료하게 하기 위하여 생략하기로 한다.
본 발명의 초음파 세정 시스템은, 제조부품의 양쪽 면에 균일한 세정이 이루어지고, 다단계로 세정되는 과정에서 제조부품의 유동이 방지되며, 고장이 발생하더라도 세정과정을 신속하게 재개할 수 있도록 이루어진다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 초음파 세정 시스템의 정면도, 도 2는 도 1의 초음파 세정 시스템의 개략도, 도 3은 도 1의 초음파 세정 시스템의 분사유닛의 단면도.
도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명은 초음파 세정 시스템(1)은, 제조부품(C)이 이동되는 과정에서 제조부품(C)의 상측 및 하측을 향해 이류체 분사, 초음파 발진 및 열풍 공급을 인라인(inline) 방식으로 실시하여 제조부품(C)을 신속하고 균일하게 세정하도록 이루어지며, 베이스(10), 세정모듈(20) 및 컨베이어유닛(30)을 포함하여 구성된다.
도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 베이스(10)는 내부에 세정액(W)을 저장하는 저장공간(A)을 형성하며, 수평방향으로 길게 형성된다. 베이스(10)는 상측이 개구되며, 세정모듈(20)에서 제조부품(C)의 세정에 사용된 세정액(W)이 낙하하여 저장된다.
세정모듈(20)은 베이스(10)의 상단부에 설치되며, 분사유닛(21), 세정유닛(22), 후처리유닛(24) 및 건조유닛(23)을 포함하여 구성된다. 분사유닛(21), 세정유닛(22), 후처리유닛(24) 및 건조유닛(23)은 각각이 독립적으로 이루어져 베이스(10)의 길이방향(컨베이어유닛(30)의 이동방향)을 따라 설치됨으로써 하나의 세정모듈(20)을 구성하게 된다.
컨베이어유닛(30)은 세정모듈(20)을 일방향으로 통과하며 제조부품(C)을 이동시키는 구성으로서, 하부컨베이어유닛(31) 및 상부컨베이어유닛(32)을 포함하여 구성된다. 컨베이어유닛(30)에 의해 이동되는 제조부품(C)은 세정모듈(20)을 차례대로 통과하면서 신속한 세정이 이루어지게 된다.
하부컨베이어유닛(31)은 제조부품(C)의 하부를 지지하며, 베이스(10)의 상부에서 순환하도록 설치된다. 상부컨베이어유닛(32)은 제조부품(C)의 상부를 하부컨베이어유닛(31) 측으로 가압하며, 베이스(10)의 하부에서 순환하도록 설치된다.
자세하게 도시되지는 않았으나, 하부컨베이어유닛(31) 및 상부컨베이어유닛(32) 각각은 컨베이어벨트, 롤러 및 모터(미도시)를 포함하여 구성된다. 컨베이어벨트를 순환형으로 이동시키는 기술은 공지된 기술로서 자세한 설명은 생략하기로 한다.
도 2에 도시된 바와 같이, 제조부품(C)은 컨베이어유닛(30)에 의해 분사유닛(21), 세정유닛(22), 후처리유닛(24) 및 건조유닛(23)을 순차적으로 통과하여 이물질이 제거된다.
도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 분사유닛(21)은 컨베이어유닛(30)을 향해 세정액(W)의 이류체를 분사하는 구성으로서, 분사하우징(21H), 제1 분사장치(21A) 및 제2 분사장치(21B)를 포함하여 구성된다.
분사하우징(21H)은 베이스(10)의 상단부에 안착되어 설치되며, 제1 분사장치(21A) 및 제2 분사장치(21B)에서 분사된 세정액(W)이 자유낙하에 의해 저장공간(A)에 유입되도록 하측이 저장공간(A)으로 개구된다. 분사하우징(21H)에는 컨베이어유닛(30)이 통과하는 한 쌍의 제1 통과홀(H1)이 형성된다.
제1 분사장치(21A) 및 제2 분사장치(21B)는 분사하우징(21H)의 내부에 설치되어 이류체를 분사하는 구성으로서, 제1 분사장치(21A)는 컨베이어유닛(30)의 상측에서 컨베이어유닛(30)을 향해 이류체를 분사하고, 제2 분사장치(21B)는 컨베이어유닛(30)의 하측에서 컨베이어유닛(30)을 향해 이류체를 분사한다.
제1 분사장치(21A) 및 제2 분사장치(21B)는 제2 펌프유닛(50)에 의해 저장공간(A)의 세정액(W)이 공급된다. 제2 펌프유닛(50)에는 제1 분사장치(21A) 및 제2 분사장치(21B)로 이물질이 유입되지 않도록 이물질을 거르는 필터(F)가 설치된다.
도 3에 도시된 바와 같이, 제1 분사장치(21A) 및 제2 분사장치(21B) 각각은, 세정액(W)이 유입되는 제1 관로(D1), 기체가 유입되는 제2 관로(D2), 제1 관로(D1) 및 제2 관로(D2)와 연결되고 이류체가 유출되는 제3 관로(D3) 및 상기 제3 관로(D3)와 반대쪽으로 형성되는 버퍼관로(DB)를 포함하여 구성된다.
제3 관로(D3)와 반대쪽에 버퍼관로(DB)가 형성되면, 버퍼관로(DB)에서 세정액(W)과 기체가 균일하게 혼합된 후 제3 관로(D3)를 통해 이류체가 분사됨으로써, 세정액(W)과 기체의 유입량에 순간적인 변동이 발생하더라도 이류체의 미립도 변동이 최소화되어 제조부품(C) 쪽으로 보다 균일한 타력을 형성하게 되는 이점이 있다.
제조부품(C)은 분사유닛(21)을 통과하며 이류체의 타력에 의해 먼지나 제조과정 중 달라붙은 이물질이 제거된다. 분사유닛(21)을 통과한 제조부품(C)은 컨베이어유닛(30)에 의해 세정유닛(22)으로 이동하게 된다.
도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 세정유닛(22)은 컨베이어유닛(30)을 향해 초음파를 발진하는 구성으로서, 세정하우징(22H), 제1 세정장치(22A) 및 제2 세정장치(22B)를 포함하여 구성된다.
세정하우징(22H)은 베이스(10)의 상단부에 설치되며, 제1 세정하우징(22H1) 및 제2 세정하우징(22H2)을 포함하여 구성된다.
제1 세정하우징(22H1)은 베이스(10)의 상단부에 안착되어 설치되며, 세정액(W)이 자유낙하에 의해 저장공간(A)에 유입되도록 하측이 저장공간(A)으로 개구된다. 제2 세정하우징(22H2)은 제1 세정하우징(22H1)의 내부에 설치되고, 내부에 제1 세정장치(22A) 및 제2 세정장치(22B)가 설치된다. 제1 세정하우징(22H1) 및 제2 세정하우징(22H2) 각각에는 컨베이어유닛(30)이 통과하는 한 쌍의 제2 통과홀(H2)이 형성된다.
제2 세정하우징(22H2)의 내부는 세정액(W)으로 채워지며, 제2 통과홀(H2)을 통해 배출되는 세정액(W)은 제1 펌프유닛(40)에 의해 저장공간(A)의 세정액(W)이 공급됨으로써 보충된다.
제1 세정장치(22A) 및 제2 세정장치(22B)는 세정하우징(22H)의 내부에 설치되어 초음파를 발진하는 구성으로서, 제1 세정장치(22A)는 컨베이어유닛(30)의 상측에서 컨베이어유닛(30)을 향해 초음파를 발진하고, 제2 세정장치(22B)는 컨베이어유닛(30)의 하측에서 컨베이어유닛(30)을 향해 초음파를 발진한다.
제조부품(C)은 세정유닛(22)을 통과하며 상측 및 하측에 제1 세정장치(22A) 및 제2 세정장치(22B)의 초음파 발진에 의한 캐비테이션(cavitation) 현상에 의해 균일하고 강력한 세정이 이루어지게 된다. 세정유닛(22)을 통과한 제조부품(C)은 컨베이어유닛(30)에 의해 후처리유닛(24)으로 이동하게 된다.
도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 후처리유닛(24)은 컨베이어유닛(30)을 향해 세정액(W)을 분사하는 구성으로서, 후처리하우징(24H), 제1 스프레이장치(24A) 및 제2 스프레이장치(24B)을 포함하여 구성된다.
후처리하우징(24H)은 베이스(10)의 상단부에 안착되어 설치되며, 제1 스프레이장치(24A) 및 제2 스프레이장치(24B)에서 분사된 세정액(W)이 자유낙하에 의해 저장공간(A)에 유입되도록 하측이 저장공간(A)으로 개구된다. 후처리하우징(24H)에는 컨베이어유닛(30)이 통과하는 한 쌍의 제4 통과홀(H4)이 형성된다.
제1 스프레이장치(24A) 및 제2 스프레이장치(24B)는 후처리하우징(24H)의 내부에 설치되어 세정액(W)을 분사하는 구성으로서, 제1 스프레이장치(24A)는 컨베이어유닛(30)의 상측에서 컨베이어유닛(30)을 향해 세정액(W)을 분사하고, 제2 스프레이장치(24B)는 컨베이어유닛(30)의 하측에서 컨베이어유닛(30)을 향해 세정액(W)을 분사한다. 제1 스프레이장치(24A) 및 제2 스프레이장치(24B)는 제3 펌프유닛(60)에 의해 저장공간(A)의 세정액(W)이 공급된다.
제조부품(C)은 후처리유닛(24)을 통과하며 세정액(W) 분사에 의해 잔류 파티클이 제거된다. 후처리유닛(24)을 통과한 제조부품(C)은 컨베이어유닛(30)에 의해 건조유닛(23)으로 이동하게 된다.
도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 건조유닛(23)은 컨베이어유닛(30)을 향해 열풍을 공급하는 구성으로서, 건조하우징(23H), 제1 건조장치(23A) 및 제2 건조장치(23B)를 포함하여 구성된다.
건조하우징(23H)은 베이스(10)의 상단부에 안착되어 설치되며, 컨베이어유닛(30)이 통과하는 한 쌍의 제3 통과홀(H3)이 형성된다.
제1 건조장치(23A) 및 제2 건조장치(23B)는 건조하우징(23H)의 내부에 설치되어 열풍을 공급하는 구성으로서, 제1 건조장치(23A)는 컨베이어유닛(30)의 상측에서 컨베이어유닛(30)을 향해 열풍을 공급하고, 제2 건조장치(23B)는 컨베이어유닛(30)의 하측에서 컨베이어유닛(30)을 향해 열품을 공급한다.
도 2에 도시된 바와 같이, 제1 건조장치(23A) 및 제2 건조장치(23B)에는 공기펌프(AP)가 연결된다. 공기펌프의 전후에는 이물질을 거르는 공기필터(F)가 구비된다.
제조부품(C)은 건조유닛(23)을 통과하며 열풍에 의해 고속으로 건조되며, 도시되지는 않았으나 이동장치 또는 작업자에 의해 후속공정으로 이동하게 된다.
세정유닛(22)은 제2 통과홀(H2)을 통해 세정액(W)이 유출됨에 따라 분사유닛(21) 및 후처리유닛(24)보다 다량의 세정액(W)이 저장공간(A)으로 유입되며, 이에 따라 세정유닛(22)에는 분사유닛(21) 및 후처리유닛(24)보다 많은 량의 세정액(W)이 공급되어야 한다.
도 2에 도시된 바와 같이, 저장공간(A)에는 분사유닛(21)과 세정유닛(22) 사이에 격벽(I)이 형성되며, 이에 따라 저장공간(A)은 세정유닛(22)과 후처리유닛(24) 아래의 제1 저장공간(A1) 및 분사유닛(21) 아래의 제2 저장공간(A2)으로 구획으로 구획된다. 제2 저장공간(A2)은 후처리유닛(24) 측보다 세정유닛(22) 측 바닥면이 낮게 형성되며, 이에 따라 세정유닛(22) 아래의 제1 저장공간(A1)에 가장 많은 량의 세정액(W)이 저장된다.
제1 펌프유닛(40)은 제1 저장공간(A1)의 세정액(W)을 세정유닛(22)으로 공급하고, 제2 펌프유닛(50)은 제2 저장공간(A2)의 세정액(W)을 분사유닛(21)으로 공급하며, 제3 펌프유닛(60)은 제2 저장공간(A2)의 세정액(W)을 후처리유닛(24)으로 공급하도록 이루어진다.
그리고, 제1 펌프유닛(40)은 제1 저장공간(A1)과 연결되는 유입라인(L1), 세정유닛(22)과 연결되는 유출라인(L2) 및 제1 관로(D1) 및 제2 관로(D2) 사이에 형성되는 제1 펌프(P1)를 포함하여 구성되며, 유입라인(L1)은 제1 저장공간(A1)의 세정유닛(22) 측 바닥면에 연결된다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 초음파 세정 시스템(1)은, 세정유닛(22)으로 세정액(W)이 원활하게 공급되는 구조로 이루어짐에 따라, 세정액(W)이 외부로 다량 유출되는 사고가 발생하더라도 제2 세정하우징(22H2) 내부의 세정액(W) 부족을 방지할 수 있다.
본 발명에 의하면, 분사유닛(21), 세정유닛(22) 및 건조유닛(23)은, 제조부품(C)의 상측 및 하측 각각에 이류체, 초음파 및 열풍을 전달하도록 이루어짐으로써, 제조부품(C)의 양쪽 면에 균일한 세정이 이루어지는 초음파 세정 시스템(1)을 제공할 수 있게 된다.
또한, 하부컨베이어유닛(31) 및 상부컨베이어유닛(32)이 제조부품(C)의 상하측을 가압하여 이동시킴에 따라, 다단계로 세정되는 과정에서 제조부품(C)의 유동이 방지되도록 이루어지는 초음파 세정 시스템(1)을 제공할 수 있게 된다.
아울러, 세정모듈(20)이, 분사유닛(21), 세정유닛(22) 및 건조유닛(23)의 유닛형태로 이루어짐에 따라, 고장이 발생하더라도 세정과정을 신속하게 재개할 수 있도록 이루어지는 초음파 세정 시스템(1)을 제공할 수 있게 된다.
앞에서, 본 발명의 특정한 실시예가 설명되고 도시되었지만 본 발명은 기재된 실시예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형할 수 있음은 이 기술의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 일이다. 따라서, 그러한 수정예 또는 변형예들은 본 발명의 기술적 사상이나 관점으로부터 개별적으로 이해되어서는 안되며, 변형된 실시예들은 본 발명의 특허청구범위에 속한다 하여야 할 것이다.
1 : 초음파 세정 시스템
10 : 베이스
20 : 세정모듈 30 : 컨베이어유닛
40 : 제1 펌프유닛 50 : 제2 펌프유닛
60 : 제3 펌프유닛 A : 저장공간
21 : 분사유닛 A1 : 제1 저장공간
21H : 분사하우징 A2 : 제2 저장공간
H1 : 제1 통과홀 I : 격벽
21A : 제1 분사장치 31 : 하부컨베이어유닛
21B : 제2 분사장치 32 : 상부컨베이어유닛
D1 : 제1 관로 P1 : 제1 펌프
D2 : 제2 관로 P2 : 제2 펌프
D3 : 제3 관로 P3 : 제3 펌프
DB : 버퍼관로 L1 : 유입라인
22 : 세정유닛 L2 : 유출라인
22H : 세정하우징 F : 필터
22H1 : 제1 세정하우징 C : 제조부품
22H2 : 제2 세정하우징 W : 세정액
22A : 제1 세정장치
22B : 제2 세정장치
23 : 건조유닛
23H : 건조하우징
H3 : 제3 통과홀
23A : 제1 건조장치
23B : 제2 건조장치
AP : 공기펌프
24 : 후처리유닛
24H : 후처리하우징
H4 : 제4 통과홀
24A : 제1 스프레이장치
24B : 제2 스프레이장치
20 : 세정모듈 30 : 컨베이어유닛
40 : 제1 펌프유닛 50 : 제2 펌프유닛
60 : 제3 펌프유닛 A : 저장공간
21 : 분사유닛 A1 : 제1 저장공간
21H : 분사하우징 A2 : 제2 저장공간
H1 : 제1 통과홀 I : 격벽
21A : 제1 분사장치 31 : 하부컨베이어유닛
21B : 제2 분사장치 32 : 상부컨베이어유닛
D1 : 제1 관로 P1 : 제1 펌프
D2 : 제2 관로 P2 : 제2 펌프
D3 : 제3 관로 P3 : 제3 펌프
DB : 버퍼관로 L1 : 유입라인
22 : 세정유닛 L2 : 유출라인
22H : 세정하우징 F : 필터
22H1 : 제1 세정하우징 C : 제조부품
22H2 : 제2 세정하우징 W : 세정액
22A : 제1 세정장치
22B : 제2 세정장치
23 : 건조유닛
23H : 건조하우징
H3 : 제3 통과홀
23A : 제1 건조장치
23B : 제2 건조장치
AP : 공기펌프
24 : 후처리유닛
24H : 후처리하우징
H4 : 제4 통과홀
24A : 제1 스프레이장치
24B : 제2 스프레이장치
Claims (9)
- 제조부품의 오염을 세정하는 시스템으로서,
수평방향으로 길게 형성되고 내부에 세정액을 저장하는 저장공간을 형성하는 베이스; 상기 베이스의 상단부에 설치되는 세정모듈; 및 상기 세정모듈을 통과하며 제조부품을 이동시키는 컨베이어유닛을 포함하고,
상기 세정모듈은, 상기 컨베이어유닛을 향해 세정액의 이류체를 분사하는 분사유닛, 내부에 세정액이 채워지고 상기 컨베이어유닛을 향해 초음파를 발진하는 세정유닛 및 상기 컨베이어유닛을 향해 열풍을 공급하는 건조유닛을 포함하며,
상기 분사유닛, 세정유닛 및 건조유닛은, 제조부품의 상측 및 하측 각각에 이류체, 초음파 및 열풍을 전달하는 것을 특징으로 하는 초음파 세정 시스템. - 제1항에 있어서,
상기 컨베이어유닛은,
제조부품의 하부를 지지하고, 상기 베이스의 상부에서 순환하는 하부컨베이어유닛; 및
제조부품의 상부를 상기 하부컨베이어유닛 측으로 가압하고, 상기 베이스의 하부에서 순환하는 상부컨베이어유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 초음파 세정 시스템. - 제1항에 있어서,
상기 분사유닛은,
상기 베이스의 상단부에 설치되고, 상기 컨베이어유닛이 통과하는 한 쌍의 제1 통과홀이 형성되는 분사하우징; 및
상기 분사하우징의 내부에 설치되어 이류체를 분사하고, 상기 컨베이어유닛의 상측에 형성되는 제1 분사장치; 및 상기 컨베이어유닛의 하측에 형성되는 제2 분사장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 초음파 세정 시스템. - 제3항에 있어서,
상기 제1 분사장치 및 제2 분사장치 각각은,
세정액이 유입되는 제1 관로; 기체가 유입되는 제2 관로; 상기 제1 관로 및 제2 관로와 연결되고 이류체가 유출되는 제3 관로; 및 이류체가 균일한 타력을 형성하도록 상기 제3 관로와 반대쪽으로 형성되는 버퍼관로를 포함하는 것을 특징으로 하는 초음파 세정 시스템. - 제1항에 있어서,
상기 세정유닛은,
상기 베이스의 상단부에 설치되고, 상기 컨베이어유닛이 통과하는 한 쌍의 제2 통과홀이 형성되는 세정하우징; 및
상기 세정하우징의 내부에 설치되어 초음파를 발진하고, 상기 컨베이어유닛의 상측에 형성되는 제1 세정장치; 및 상기 컨베이어유닛의 하측에 형성되는 제2 세정장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 초음파 세정 시스템. - 제1항에 있어서,
상기 건조유닛은,
상기 베이스의 상단부에 설치되고, 상기 컨베이어유닛이 통과하는 한 쌍의 제3 통과홀이 형성되는 건조하우징; 및
상기 건조하우징의 내부에 설치되어 열풍을 공급하고, 상기 컨베이어유닛의 상측에 형성되는 제1 건조장치; 및 상기 컨베이어유닛의 하측에 형성되는 제2 건조장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 초음파 세정 시스템. - 제1항에 있어서,
상기 분사유닛은 제조부품의 이동방향을 기준으로 상기 세정유닛 앞에 설치되며,
상기 세정모듈은, 상기 세정유닛과 건조유닛 사이에 설치되고, 상기 컨베이어유닛을 향해 세정액을 분사하는 후처리유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 초음파 세정 시스템. - 제7항에 있어서,
상기 저장공간은 상기 세정유닛과 후처리유닛 아래의 제1 저장공간 및 상기 분사유닛 아래의 제2 저장공간으로 구획되고,
상기 제1 저장공간의 세정액을 상기 세정유닛으로 공급하는 제1 펌프유닛; 상기 제2 저장공간의 세정액을 상기 분사유닛으로 공급하는 제2 펌프유닛; 및 상기 제2 저장공간의 세정액을 상기 후처리유닛으로 공급하는 제3 펌프유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 초음파 세정 시스템. - 제8항에 있어서,
상기 제1 펌프유닛은, 상기 제1 저장공간과 연결되는 유입라인, 상기 세정유닛과 연결되는 유출라인 및 상기 제1 관로 및 제2 관로 사이에 형성되는 제1 펌프를 포함하고,
상기 제2 저장공간은 상기 후처리유닛 측보다 상기 세정유닛 측 바닥면이 낮게 형성되고,
상기 유입라인은 상기 세정유닛 측 바닥면에 연결되는 것을 특징으로 하는 초음파 세정 시스템.
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020140170702A KR20160066382A (ko) | 2014-12-02 | 2014-12-02 | 초음파 세정 시스템 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20160066382A true KR20160066382A (ko) | 2016-06-10 |
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| KR (1) | KR20160066382A (ko) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106076936A (zh) * | 2016-06-30 | 2016-11-09 | 芜湖精锋园林机械科技有限公司 | 一种电链锯连接片高效水洗装置 |
| CN107695031A (zh) * | 2017-11-16 | 2018-02-16 | 张家港市科宇信超声有限公司 | 用于管型工件的超声波清洗机及超声波清洗方法 |
| KR20190104731A (ko) * | 2018-03-02 | 2019-09-11 | 김현태 | 세정액 균등분사를 이용하여 세정대상물의 독립세정이 가능한 Flux 크리너 시스템 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR940019363A (ko) | 1993-02-22 | 1994-09-14 | 요시히데 시바노 | 초음파세정에 있어서의 초음파진동자의 발진방법 |
| KR20060019471A (ko) | 2004-08-26 | 2006-03-03 | 주식회사 인벤트로닉스 | 하이브리드 세정 시스템 |
| KR20110090120A (ko) | 2010-02-02 | 2011-08-10 | 주식회사 듀라소닉 | 초음파 세정장치 및 그 방법 |
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2014
- 2014-12-02 KR KR1020140170702A patent/KR20160066382A/ko not_active Application Discontinuation
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