KR101696784B1 - 고내식 도금용 무산화 씰링장치의 분사노즐 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 무산화 씰링장치(10)의 내측 및 하부 일측에 설치하여 질소가스를 분사하기 위한 분사노즐(100)에 있어서, 상기 분사노즐(100)은 중앙에 길이방향을 따라서 관통하는 관통공(111)을 구비하고 전방에 분사공(112)을 형성하는 분사관(110); 상기 관통공(111)의 내부에 길이방향을 따라서 균압부재(120)를 삽입하되, 상기 균압부재(120)는 양측에서 중간으로 갈수록 점차 지름이 증가하는 확경부(121)를 포함하는 것을 고내식 도금용 무산화 씰링장치의 분사노즐을 제공하기 위한 것으로, 본 발명은 질소가스를 균일한 압력으로 무산화 씰링장치의 내부로 공급하여 무산화 분위기를 조성함으로써 도금강판의 생산품질을 향상할 수 있는 효과를 갖는다. 특히 본 발명은 질소가스의 압력변화를 최소화하여 압력평형이 이루어지는 대기시간을 단축시켜 작업효율을 향상할 수 있는 효과를 갖는다.
Description
본 발명은 고내식 도금용 무산화 씰링장치의 분사노즐에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 균일한 압력으로 질소가스를 공급하여 씰링장치의 내부에 무산화 분위기를 조성할 수 있도록 하는 고내식 도금용 무산화 씰링장치의 분사노즐에 관한 것이다.
일반적으로 무산화 씰링장치는 에어나이프를 전체적으로 밀폐하여 도금강판의 표면 산화를 최소화할 수 있다.
여기서 무산화 씰링장치의 분사노즐은 도금강판의 표면 산화를 최소화할 수 있도록 무산화 씰링장치의 하부 및 내부 일측에 다수개를 설치하여 질소가스를 공급한다.
그러나 종래에는 분사노즐의 양측에서 질소가스를 공급하기 때문에 분사노즐의 중간에서 질소가스가 서로 충돌하여 와류가 발생하고 압력이 증가하면서 균일한 압력의 질소가스를 공급할 수 없는 구조상의 한계를 갖게 되었다.
또한, 종래에는 분사노즐은 질소를 분사하는 과정에서 압력변화가 발생하여 압력평형이 이루어지는 대기시간의 증가로 작업효율을 저하하는 문제점을 갖게 되었다.
아울러 종래에는 질소가스를 균일한 압력으로 무산화 씰링장치의 내부로 공급할 수 없으므로 도금강판의 생산품질을 저하하는 문제점을 갖게 되었다.
따라서 본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로서,
본 발명은 질소가스를 균일한 압력으로 씰링장치의 내부로 공급하여 무산화 분위기를 향상할 수 있는 고내식 도금용 무산화 씰링장치의 분사노즐를 제공함에 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명 고내식 도금용 무산화 씰링장치의 분사노즐은,
무산화 씰링장치(10)의 내측 및 하부 일측에 설치하여 질소가스를 분사하기 위한 분사노즐(100)에 있어서,
상기 분사노즐(100)은 중앙에 길이방향을 따라서 관통하는 관통공(111)을 구비하고 전방에 분사공(112)을 형성하는 분사관(110); 상기 관통공(111)의 내부에 길이방향을 따라서 균압부재(120)를 삽입하되, 상기 균압부재(120)는 양측에서 중간으로 갈수록 점차 지름이 증가하는 확경부(121)를 포함하는 것을 특징으로 한다.
여기서 상기 확경부(121)의 내측 사이에 동일한 지름을 갖는 연장부(122)를 형성하고, 상기 확경부(121)의 외측에 방사상으로 다수개의 지지구(123)를 구비하는 것을 특징으로 한다.
본 발명은 질소가스를 균일한 압력으로 무산화 씰링장치의 내부로 공급하여 무산화 분위기를 조성함으로써 도금강판의 생산품질을 향상할 수 있는 효과를 갖는다.
특히 본 발명은 질소가스의 압력변화를 최소화하여 압력평형이 이루어지는 대기시간을 단축시켜 작업효율을 향상할 수 있는 효과를 갖는다.
도 1은 종래 고내식 도금용 무산화 씰링장치의 분사노즐에 대한 설치상태를 나타내기 위한 참고도.
도 2는 본 발명 고내식 도금용 무산화 씰링장치의 분사노즐에 대한 구조를 나타내기 위한 분리 사시도.
도 3은 본 발명 고내식 도금용 무산화 씰링장치의 분사노즐에 대한 구조를 나타내기 위한 단면도.
도 2는 본 발명 고내식 도금용 무산화 씰링장치의 분사노즐에 대한 구조를 나타내기 위한 분리 사시도.
도 3은 본 발명 고내식 도금용 무산화 씰링장치의 분사노즐에 대한 구조를 나타내기 위한 단면도.
상기한 바와 같이 본 발명의 구성을 첨부한 도면에 의해 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 2는 본 발명 고내식 도금용 무산화 씰링장치의 분사노즐에 대한 구조를 나타내기 위한 분리 사시도이고, 도 3은 본 발명 고내식 도금용 무산화 씰링장치의 분사노즐에 대한 구조를 나타내기 위한 단면도를 도시한 것이다.
본 발명은 무산화 씰링장치(10)의 내측 및 하부 일측에 설치하여 질소가스를 분사하기 위한 분사노즐(100)에 있어서,
상기 분사노즐(100)은 중앙에 길이방향을 따라서 관통하는 관통공(111)을 구비하고 전방에 분사공(112)을 형성하는 분사관(110); 상기 관통공(111)의 내부에 길이방향을 따라서 균압부재(120)를 삽입하되, 상기 균압부재(120)는 양측에서 중간으로 갈수록 점차 지름이 증가하는 확경부(121)를 포함한다.
본 발명에서 상기 균압부재(120)는 질소가스가 균일한 압력으로 분사할 수 있도록 유도하는 매우 중요한 역할을 수행한다.
즉, 상기 관통공(111)의 양측을 통해서 공급되는 질소가스는 상기 균압부재(120)의 양측에서 내측으로 유입되면서 확경부(121)의 외측에서는 이동속도는 늦어지고 압력이 높아지고, 상대적으로 확경부(121)의 중간에서는 이동속도는 빨라지고 압력이 낮아지면서, 결과적으로 상기 분사공(112)의 외측과 중간의 분사속도가 평형을 이루면서 질소가스를 균일한 분사압력으로 상기 분사공(112)을 통해서 공급할 수 있다.
이를 위해서 상기 확경부(121)는 외측에서 중간으로 갈수록 점차 지름이 증가하도록 형성하여 상기 분사관(110)의 외측에는 상기 관통공(111)과 확경부(121)의 사이에 넓은 공간을 형성하고, 상대적으로 상기 분사관(110)의 중간에는 상기 관통공(111)과 확경부(121)의 사이에 좁은 공간을 형성함으로써 상기 분사관(110)의 외측과 중간 부분의 질소가스의 이동속도 및 내부압력을 서로 균일하게 유지할 수 있다.
아울러 상기 확경부(121)의 내측 사이에 동일한 지름을 갖는 연장부(122)를 형성하여 상기 확경부(121)를 통해서 이동하는 질소가스의 속도가 상기 연장부(122)에 도달하여 감속되면서 상기 분사공(112)을 통해서 분사된다.
본 발명에서 상기 균압부재(120)는 질소가스가 공급될 경우 헛돌면서 질소가스를 혼합 및 분사할 수 있도록 유도할 수 있음은 물론 상기 확경부(121)의 외측에 방사상으로 다수개의 지지구(123)를 구비하여 상기 관통공(111)의 내경에 맞닿아 지지 및 고정할 수 있다.
이처럼 상기와 같이 본 발명의 실시예에 대하여 상세히 설명하였으나, 본 발명의 권리범위는 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 실시예와 실질적으로 균등의 범위에 있는 구성까지 본 발명의 권리범위에 포함됨은 당연하다.
10: 무산화 씰링장치
100: 분사노즐 110: 공급관
111: 관통공 112: 분사공
120: 균압부재 121: 확경부
122: 연장부 123: 지지구
100: 분사노즐 110: 공급관
111: 관통공 112: 분사공
120: 균압부재 121: 확경부
122: 연장부 123: 지지구
Claims (2)
- 무산화 씰링장치(10)의 내측 및 하부 일측에 설치하여 질소가스를 분사하기 위한 분사노즐(100)에 있어서,
상기 분사노즐(100)은 중앙에 길이방향을 따라서 관통하는 관통공(111)을 구비하고 전방에 분사공(112)을 형성하는 분사관(110); 상기 관통공(111)의 내부에 길이방향을 따라서 균압부재(120)를 삽입하되, 상기 균압부재(120)는 양측에서 중간으로 갈수록 점차 지름이 증가하는 확경부(121)를 포함하는 것을 특징으로 하는 고내식 도금용 무산화 씰링장치의 분사노즐. - 제 1항에 있어서, 상기 확경부(121)의 내측 사이에 동일한 지름을 갖는 연장부(122)를 형성하고, 상기 확경부(121)의 외측에 방사상으로 다수개의 지지구(123)를 구비하는 것을 특징으로 하는 고내식 도금용 무산화 씰링장치의 분사노즐.
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