KR101687083B1 - 러빙포, 롤러, ｌｃ 정렬 각 형성 방법, 및 잔존물 세정 방법 - Google Patents

Abstract

러빙포, 롤러, LC 정렬 각 형성 방법, 및 잔존물 세정 방법이 제공된다. 러빙포는 하이드록시기와 시안기 중 적어도 하나를 포함하는 염료가 용해된 용액을 사용함으로써 염색된다. 러빙포가 롤러의 외면에 제공된다. LC 정렬 각 형성 방법은 본 발명의 러빙포에 의해 둘러싸인 외면을 갖는 롤러를 사용하여 LC 정렬 각을 형성한다. 잔존물 세정 방법은 조명 조건 하에서 러빙포 또는 롤러를 사용함으로써 잔존물을 세정한다. 이들은 우수한 세정 효과, 간단한 구현, 및 낮은 비용이라는 이점들을 제공한다.

Description

러빙포, 롤러, ＬＣ 정렬 각 형성 방법, 및 잔존물 세정 방법{RUBBING CLOTH, ROLLER, METHOD OF FORMING LC ALIGNMENT ANGLE AND METHOD OF CLEANING DEBRIS}

본 발명의 실시예들은 러빙포, 롤러, 액정(LC) 정렬 각 형성 방법, 및 잔존물 세정 방법에 관한 것이다.

액정(LC) 패널의 제조 프로세스 중에, LC의 사전 정렬을 위한 어레이 기판과 컬러 필터 기판의 양자 상에 정렬막(alignment film)들을 형성할 필요가 있다. 정렬막을 형성하는 프로세스는 우선 폴리이미드(PI) 액체를 기판에 균일하게 도포하여 PI 층을 형성하고, 그 다음에 필요에 따라 PI 층에 정렬 각 또는 정렬 채널을 형성하기 위해 롤러에 의해 PI 층을 러빙하는 것을 보통 포함한다.

이러한 러빙 프로세스는 치수가 상이한 많은 잔존물, 예를 들어, PI 층으로부터 떨어지는 잔존물을 생성할 수 있다. 종래의 잔존물 제거 프로세스는 주로 어레이 기판 및 컬러 필터 기판의 세정에 중점을 두었지만, 이는 포화 상태의 기술(mature technology)에 속하며 다음의 문제점을 쉽게 수반한다.

첫째, 종래의 세정 방식의 측면에서 상대적으로 미세한 잔존물을 완전히 제거하는 것이 어려우며, 그에 따라 작업 효율이 낮다.

둘째, 세정이 완전히 수행되지 않으면, 조립된 디스플레이 패널은 디스플레이 고장을 수반할 것이다.

셋째, 구현이 복잡하고, 비용이 비싸다.

본 발명의 실시예들은 우수한 세정 효과를 획득할 수 있고, 구현이 간단하고 비용이 저렴한 러빙포, 롤러, 정렬 각을 형성하는 방법, 및 잔존물을 세정하는 방법을 제공한다.

본 발명의 일 양태에 따르면, 러빙포가 제공된다. 러빙포는 하이드록시기(hydroxyl group)와 시안기(cyano-group) 중 적어도 하나를 포함하는 염료가 용해된 용액을 사용함으로써 염색된다.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 염료는

2-시아노-3-{6-{4-[N,N-비스(4-헥실옥시페닐)아미노]페닐}-4,4-디헥실-4H-디티에닐[2,1-b:3,4-b’]펜탈렌}크릴산,

2-시아노-3-{N-헥실-{4-[N,N-비스(4-헥실옥시페닐)아미노]페닐}-디티에닐[3,2-b:2,3’-d] 피롤}크릴산, 및

2-시아노-3-{6-{4-[N,N-비스(4-헥실옥시페닐)아미노]페닐}-4,4-디헥실-4H-디티에닐[2,1-b:3,4-b’]실롤}크릴산

중 하나 이상일 수 있다.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 염료를 용해하기 위한 용매는 클로로포름(chloroform) 및/또는 에탄올이다.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 러빙포의 소재는 면(cotton)이다.

본 발명의 다른 양태에 따르면, 롤러가 제공된다. 롤러의 외면에는 전술한 러빙포가 제공된다.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 롤러는 LC 정렬 각을 형성하는 롤러이다.

본 발명의 다른 양태에 따르면, LC 정렬 각을 형성하는 방법이 제공되며, 이 방법은 전술한 롤러를 사용하여 LC 정렬 각을 형성하는 단계를 포함한다.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 이 방법은 폴리이미드(PI) 액체를 기판에 균일하게 도포하여 PI 층을 형성하는 단계; 및 조명(illumination) 하에서 미리 결정된 LC 정렬에 따라 PI 층을 러빙하기 위해 PI 층 상에 롤러를 롤링하여 LC 정렬 각을 형성하는 단계를 포함한다.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 이 방법은 기판에 남은 정전기를 제거하는 단계를 더 포함한다.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 기판에 남은 정전기는 이온화 공기(ionizing air)에 의해 제거될 수 있다.

본 발명의 또 다른 양태에 따르면, 잔존물을 세정하는 방법이 제공된다. 본 방법은 조명 하에서 러빙포를 사용하거나 롤러를 사용함으로써 잔존물을 세정한다.

본 발명의 실시예들은 이 기술분야의 통상의 기술자가 본 발명을 더 명확히 이해할 수 있도록 첨부 도면을 참조하여 아래에서 더 상세히 설명될 것이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 롤러의 구조를 예시한 개략도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 롤러의 구조를 예시한 다른 개략도이다.
도 3는 본 발명의 일 실시예에 따른 LC 정렬 각을 형성하는 방법을 예시한 개략도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 LC 정렬 각을 형성하는 방법을 예시한 흐름도이다.

본 발명의 실시예들의 목적, 기술적 상세사항, 및 이점들을 명백히 하기 위해, 본 발명의 실시예들에 따른 기술적 해결 방안들이 본 발명의 실시예들의 첨부 도면과 함께 이하 명확하고 완벽하게 설명될 것이다. 설명된 실시예들은 본 발명의 예시적인 실시예들의 전부가 아닌 일부일 뿐이라는 점이 이해되어야 한다. 본 발명의 설명된 실시예들에 기초하여, 다양한 다른 실시예들이 창조적 작업 없이 이 기술분야의 통상의 기술자에 의해 획득될 수 있고, 이들 실시예는 본 발명의 보호 범위 내에 있을 것이다.

본 발명의 실시예들에 따른 러빙포는 하이드록시기와 시안기 중 적어도 하나를 포함하는 염료가 용해된 용액을 사용하여 염색된다.

하이드록시기 및 시안기 모두는 전자들에 대한 강한 흡착력을 갖는 기(group)이며, 이로써, 적절한 조명을 받는 카르복실기 및 시안기의 전자들은 π-공액계(π-conjugated system)를 통과하여 불안정한 에너지 준위를 갖는 상태에 도달하며, 이로써 방전 현상을 초래하여 러빙포를 대전시키는 에너지 준위 변이(energy level transition)를 개시한다. 그 결과, 러빙포는 전하 흡착 현상에 의해 잔존물을 흡착할 수 있다. 본 발명의 실시예들의 러빙포는 러빙에 의해 세정을 수행할 뿐만 아니라 전하 흡착에 의해 세정을 수행하며, 이로써 강한 세정 능력이라는 장점이 있다.

구현 중에, 본 실시예의 러빙포를 제조하기 위해 카르복실기를 함유하는 염료, 또는 시안기를 함유하는 염료, 또는 카르복실기와 시안기 양자를 함유하는 염료가 활용될 수 있다. 본 발명의 실시예들은 다음과 같은 예시적인 염료들을 제공한다.

염료는

2-시아노-3-{6-{4-[N,N-비스(4-헥실옥시페닐)아미노]페닐}-4,4-디헥실-4H-디티에닐[2,1-b:3,4-b’]펜탈렌}크릴산,

2-시아노-3-{N-헥실-{4-[N,N-비스(4-헥실옥시페닐)아미노]페닐}-디티에닐[3,2-b:2,3’-d] 피롤}크릴산, 및

2-시아노-3-{6-{4-[N,N-비스(4-헥실옥시페닐)아미노]페닐}-4,4-디헥실-4H-디티에닐[2,1-b:3,4-b’]실롤}크릴산

중 하나 이상일 수 있다.

전술한 3가지 타입의 염료 또는 그 혼합물은 성능 면에서 안정적이고 내구성이 있으며, 세정 및 흡착이 더 우수한 내구성 있는 러빙포를 제조하는데 사용될 수 있다.

본 발명의 실시예의 추가적인 개선점으로서, 염료를 용해시키는 용매는 클로로포름 및/또는 에탄올일 수 있다. 염료는 일종의 유기질이고, 유기질은 유사성-상호 혼화성 이론(similarity-intermiscibility theory)에 따라 염료를 용해하기 위해 선택된다. 예를 들어, 클로로포름 및/또는 에탄올은 카르복실기 및/또는 시안기를 함유하는 염료에 대한 높은 용해성으로 인해 용매로서 선택된다. 클로로포름 또는 에탄올을 사용함으로써 염료를 용해하는 것은 다량의 염료가 용액에 용해될 수 있게 하며, 이로써 훨씬 더 강한 흡착력을 갖는 러빙포가 제조될 수 있는데, 이 경우 특히 염료는

2-시아노-3-{6-{4-[N,N-비스(4-헥실옥시페닐)아미노]페닐}-4,4-디헥실-4H-디티에닐[2,1-b:3,4-b’]펜탈렌}크릴산,

2-시아노-3-{N-헥실-{4-[N,N-비스(4-헥실옥시페닐)아미노]페닐}-디티에닐[3,2-b:2,3’-d] 피롤}크릴산, 및

2-시아노-3-{6-{4-[N,N-비스(4-헥실옥시페닐)아미노]페닐}-4,4-디헥실-4H-디티에닐[2,1-b:3,4-b’]실롤}크릴산

중 하나 이상이다.

예시적인 구현예에서, 러빙포는 나일론 및 섬유와 같은 직물 소재(cloth materials)로 형성될 수 있다. 예를 들어, 본 실시예에서의 사용을 위해 면 직물이 선택된다. 면 직물은 카르복실기 및/또는 시안기를 포함하는 작용기를 갖는 염료를 위한 더 강한 흡착 친화도를 보이며, 이로써 면 직물로 형성된 본 실시예의 러빙포는 훨씬 더 강한 흡착력을 제공한다.

전술한 바와 같이, 본 실시예의 러빙포는 간단한 제조, 낮은 비용, 및 우수한 세정 효과 등의 이점을 갖는다.

본 발명의 실시예들에 따른 롤러의 외면에는 전술한 러빙포가 제공된다. 도 1을 참조하면, 롤러(11)의 외면은 카르복실기 및/또는 시안기를 함유하는 염료 용액을 이용하여 염색함으로써 형성된 러빙포(12)로 커버된다. 롤러(11)가 러빙에 의해 객체 상의 먼지를 제거할 뿐 아니라 객체를 세정하는데 사용되는 경우, 조명 하에서 생성되는 흡착력에 의해 러빙포(12)로부터 잔존물을 흡착할 수 있다. 또한, 매우 작은 잔존물에 대한 우수한 흡착력을 제공한다.

본 실시예의 추가적인 개선점으로서, 롤러(21)는 도 2에 도시된 바와 같이 LC 정렬 각을 형성하기 위한 롤러이다. LC 정렬 각을 형성하기 위한 롤러의 외면에는 LC 정렬 각을 형성하기 위한 텍스처(26)가 제공된다. 러빙포(22)가 텍스처(26)의 표면 상에 적용되고, LC 정렬 각을 형성하기 위한 텍스처(26)에 인접해 있어, LC 정렬 각이 롤러에 의해 형성되는데, 조명 하에서 전하들에 대한 흡착 친화도를 발생시켜서 미세한 잔존물을 흡착한다. 게다가, 러빙포 상의 염료에 의해 발생된 전하량은 상대적으로 작으며, 이에 따라 이들 전하는 어레이 기판 또는 컬러 필터 기판의 내부 회로에 영향을 미지치 않을 것이다. 또한, 이러한 종류의 전하는 크기가 안정적이고, 제어가 쉽다.

본 발명의 실시예에 따른 정렬 각을 형성하는 방법은 전술한 롤러를 사용함으로써 LC 정렬 각을 형성하는 단계를 포함한다.

도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 본 실시예를 더 개선하기 위해, 정렬 각을 형성하는 방법은 다음의 단계를 포함한다.

단계 S1에서, 폴리이미드(PI) 액체가 기판(24)에 균일하게 도포되어 PI 층(23)을 형성한다. 기판은 어레이 기판이거나, 예를 들어 컬러 필터 기판일 수 있다.

단계 S2에서, 조명 조건 하에서 미리 결정된 LC 정렬에 따라 PI 층(23)을 러빙하기 위해 PI 층(23) 상에 롤러(21)를 롤링하여 LC 정렬 각을 형성한다. 도면에서 참조 부호 25는 조명 조건을 설정하기 위한 광원을 지시한다. 롤러(21)는 본 발명의 실시예들에 따라 러빙포(22)로 감싸진다. LC 정렬 각을 형성하기 위한 텍스처(26)가 러빙포(22) 아래 배치되고, 러빙포(22)는 텍스처(26)에 인접한다.

이와 같이, LC 정렬 각이 형성되는 동안, 러빙포를 이용한 러빙에 의해 및 전하에 대한 흡착 친화도에 의해 잔존물들이 제거된다. 즉, 2가지 업무가 하나의 단일 단계에서 완료되어, 프로세스 단계들의 개수를 감소시키며, 이로써 구현이 간단하다. 전술한 이점뿐 아니라, 본 발명의 실시예들은 또한 세척(washing)에 의한 종래의 방식에 비해, 미세한 잔존물을 제거하는데 특히 중요한 세정 효과에서 매우 우수하다.

롤러가 조명되는 경우 방전이 일어나는데, 결과적으로 기판 상의 전하들의 나머지 부분을 초래할 수 있다. 전술한 전하들을 제거하기 위해, 이 방법은 본 실시예의 추가적인 개선점으로서, 정전기를 제거하는 다른 단계 S3를 포함할 수 있다. 정전기를 제거하는 단계 S3는 예를 들어, 이온화 공기에 기초한 정전기 제거 방법에 의해 수행될 수 있다. 이온화 공기에 기초한 정전기 제거 방법은 이온화 공기의 중화 효과(neutralization effect)를 활용하여, 예를 들어 보통 음의 이온화 공기를 활용함으로써 정전기를 제거하는 것이다.

구현 중에, 본 발명의 실시예들에 따른 러빙포에 의해 방출되는 전하량이 많지 않으며, 이에 따라 어레이 기판 또는 컬러 필터 기판 상의 회로들에 대한 임의의 장애 또는 손상이 거의 존재하지 않는다. 더구나, 단계 S3을 통해, 파괴력을 거의 갖지 않는 정전기가 더 제거되며, 이는 제조된 제품의 품질을 더 우수하게 한다.

구현 중에, LC 정렬 각을 형성하는 프로세스는 변화하지 않은 상태로 남을 수 있고, 잔존물을 세정하는 단계에서 세정을 수행하기 위해 본 발명에 따른 러빙포 및 롤러를 사용할 필요가 있을 뿐이다. 종래의 세정 방법에 비해, 이러한 구현은 또한 세정 효과가 우수한 이점이 있다.

본 발명의 실시예들에 따른 잔존물을 세정하는 방법에서, 본 발명의 러빙포 또는 롤러는 조명 조건 하에서 잔존물을 세정하는데 활용된다. 예를 들어, 본 실시예에 따른 잔존물을 세정하는 방법은 LC 정렬 각이 종래의 방법으로 형성된 후 잔존물을 세정하는데 사용될 수 있다.

본 발명의 실시예들에 따른 잔존물을 세정하는 방법에서, 본 발명의 러빙포 및 롤러는 세정에 사용되는데, 이는 우수한 세정 효과, 간단하고 빠른 구현, 낮은 비용과 같은 여러 이점들을 제공한다.

본 발명의 실시예들에 따른 러빙포, 롤러, LC 정렬 각을 형성하는 방법, 및 잔존물을 세정하는 방법은 아래와 같이 유리한 효과를 제공할 수 있다.

첫째, 본 발명의 실시예들에 따른 러빙포, 롤러, LC 정렬 각을 형성하는 방법, 및 잔존물을 세정하는 방법은 카르복실기 및/또는 시안기를 포함하는 염료가 용해된 용액을 사용하여 러빙포를 염색하는 것을 수반한다. 카르복실기 및/또는 시안기 모두가 전자들에 대한 강한 흡착력을 갖는 기이기 때문에, 조명 하에서 에너지 준위 변이를 개시하여 정전기를 발생시킬 것이고, 잔존물은 정전기 부착 현상에 의해 제거된다. 그러므로, 이들은 우수한 흡착 효과 및 세정 효과의 이점을 갖는다.

둘째, LC 정렬 각을 형성하는 방법에서 사용될 때, 본 발명의 실시예들에 따른 러빙포, 롤러, 및 LC 정렬 각을 형성하는 방법은 LC 정렬 각을 형성하는 단계 및 형성 프로세스 중에 발생된 잔존물을 세정하는 단계를 하나의 단일 단계에서 동시에 수행하는 것을 수반하며, 이에 따라 후속 세정 단계가 제거된다. 이와 같이, 종래의 프로세스에 비해, 본 발명은 더 적은 프로세스 단계, 더 높은 제조 효율, 더 낮은 제조 비용의 이점들을 갖는다. 또한, LC 정렬 각이 형성된 후, 본 발명의 실시예들에 따른 잔존물을 세정하는 방법은 종래의 세척 방법의 대체로서 잔존물을 세정하는데 활용될 수 있고, 이는 또한 간단하고 빠른 구현, 낮은 비용, 우수한 효과, 및 높은 효율의 이점을 제공한다.

전술한 설명은 본 발명을 설명하기 위한 예시적인 구현예 및 실시예일 뿐이고, 본 발명을 제한하려는 것이 아님을 이해할 것이다. 이 기술분야의 통상의 기술자는 본 발명의 사상 및 범위로부터 벗어나지 않고 본 발명에 대한 다양한 변형 및 수정을 행할 수 있으며, 이러한 변형, 수정, 및 이들의 균등물은 본 발명의 범위 내에 있다. 본 발명의 범위는 청구항들에 의해 정의된다.

Claims (21)

1. 러빙포(rubbing cloth)로서,
   구조식 I의 2-시아노-3-{6-{4-[N,N-비스(4-헥실옥시페닐)아미노]페닐}-4,4-디헥실-4H-디티에닐[2,1-b:3,4-b’]펜탈렌}아크릴산
   [구조식 I]
   

   

   
   을 포함하는 염료를 포함하는, 러빙포.
2. 제1항에 있어서,
   상기 염료는 클로로포름(chloroform) 및/또는 에탄올의 용매에서 용해되는, 러빙포.
3. 제1항에 있어서,
   상기 러빙포의 소재는 면(cotton)인, 러빙포.
4. 롤러로서,
   상기 롤러의 외면에 제1항에 따른 러빙포를 포함하는, 롤러.
5. 제4항에 있어서,
   상기 롤러는 액정(LC) 정렬 각을 형성하도록 구성된 롤러인, 롤러.
6. 액정(LC) 정렬 각을 형성하는 방법으로서,
   제5항에 따른 롤러를 사용함으로써 상기 LC 정렬 각을 형성하는 단계를 포함하는, LC 정렬 각 형성 방법.
7. 제6항에 있어서,
   폴리이미드(PI) 액체를 기판에 균일하게 도포하여 PI 층을 형성하는 단계; 및
   조명 조건 하에서 미리 결정된 LC 정렬에 따라 상기 PI 층을 러빙하기 위해 상기 PI 층 상에 상기 롤러를 롤링(rolling)하여 상기 LC 정렬 각을 형성하는 단계
   를 포함하는, LC 정렬 각 형성 방법.
8. 제7항에 있어서,
   상기 기판에 남은 정전기를 제거하는 단계를 더 포함하는, LC 정렬 각 형성 방법.
9. 제8항에 있어서,
   상기 기판에 남은 정전기는 이온화 공기(ionizing air)에 의해 제거되는, LC 정렬 각 형성 방법.
10. 잔존물을 세정하는 방법으로서,
    조명 조건 하에서 제1항에 따른 러빙포를 사용하거나 제4항에 따른 롤러를 사용함으로써 잔존물을 세정하는 단계를 포함하는, 잔존물 세정 방법.
11. 제1항에 있어서,
    상기 염료는,
    구조식 III의 2-시아노-3-{6-{4-[N,N-비스(4-헥실옥시페닐)아미노]페닐}-4,4-디헥실-4H-디티에닐[2,1-b:3,4-b’]실롤}아크릴산
    [구조식 III]
    

    

    
    을 더 포함하는, 러빙포.
12. 러빙포로서,
    직물 소재(cloth material);
    상기 직물 소재에서의 용매; 및
    상기 용매에서 용해되는 염료를 포함하며,
    상기 염료는,
    구조식 I의 2-시아노-3-{6-{4-[N,N-비스(4-헥실옥시페닐)아미노]페닐}-4,4-디헥실-4H-디티에닐[2,1-b:3,4-b’]펜탈렌}아크릴산,
    [구조식 I]
    

    

    
    구조식 II의 2-시아노-3-{N-헥실-{4-[N,N-비스(4-헥실옥시페닐)아미노]페닐}-디티에닐[3,2-b:2,3’-d] 피롤}아크릴산, 및
    [구조식 II]
    

    

    
    구조식 III의 2-시아노-3-{6-{4-[N,N-비스(4-헥실옥시페닐)아미노]페닐}-4,4-디헥실-4H-디티에닐[2,1-b:3,4-b’]실롤}아크릴산
    [구조식 III]
    

    

    
    으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는, 러빙포.
13. 제12항에 있어서,
    롤러를 더 포함하며, 상기 직물 소재는 상기 롤러의 외면 상에 위치하는, 러빙포.
14. 제12항에 있어서,
    상기 염료는,
    구조식 I의 2-시아노-3-{6-{4-[N,N-비스(4-헥실옥시페닐)아미노]페닐}-4,4-디헥실-4H-디티에닐[2,1-b:3,4-b’]펜탈렌}아크릴산
    을 포함하는, 러빙포.
15. 제12항에 있어서,
    상기 염료는,
    구조식 II의 2-시아노-3-{N-헥실-{4-[N,N-비스(4-헥실옥시페닐)아미노]페닐}-디티에닐[3,2-b:2,3’-d] 피롤}아크릴산
    을 포함하는, 러빙포.
16. 제12항에 있어서,
    상기 염료는,
    구조식 III의 2-시아노-3-{6-{4-[N,N-비스(4-헥실옥시페닐)아미노]페닐}-4,4-디헥실-4H-디티에닐[2,1-b:3,4-b’]실롤}아크릴산
    을 포함하는, 러빙포.
17. 제12항에 있어서,
    상기 용매는 에탄올 및 클로로포름으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는, 러빙포.
18. 제12항에 있어서,
    상기 직물 소재는 면을 포함하는, 러빙포.
19. 제12항에 있어서,
    상기 염료는,
    구조식 I의 2-시아노-3-{6-{4-[N,N-비스(4-헥실옥시페닐)아미노]페닐}-4,4-디헥실-4H-디티에닐[2,1-b:3,4-b’]펜탈렌}아크릴산,
    구조식 II의 2-시아노-3-{N-헥실-{4-[N,N-비스(4-헥실옥시페닐)아미노]페닐}-디티에닐[3,2-b:2,3’-d] 피롤}아크릴산, 및
    구조식 III의 2-시아노-3-{6-{4-[N,N-비스(4-헥실옥시페닐)아미노]페닐}-4,4-디헥실-4H-디티에닐[2,1-b:3,4-b’]실롤}아크릴산
    을 포함하는, 러빙포.
20. 제2항에 있어서,
    상기 용매는 클로로포름을 포함하는, 러빙포.
21. 제2항에 있어서,
    상기 용매는 에탄올을 포함하는, 러빙포.

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