KR101684245B1 - 화학 기상 증착 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 화학 기상 증착 장치에 관한 것으로서, 화학 기상 증착 장치와 기판의 온도 상승을 효과적으로 억제하여 냉각 효율을 높이고, 화학 기상 증착 장치의 보수 관리상의 편의를 제공하고자 한다.
본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 화학 기상 증착 장치는, 도가니가 설치되는 베이스 플레이트와; 베이스 플레이트의 상면에 결합되고 내부에 수용 공간을 가지는 상측이 개방된 형태의 몸체부와; 몸체부의 상측에 설치되며 내부에 냉각 유로가 형성되는 제1 냉각 수단; 및 몸체부의 내부 수용 공간에 설치되고 내부에 냉각 유로가 형성되는 제2 냉각 수단; 을 포함하며, 제1 냉각 수단은 화학 기상 증착 장치의 보수 관리 상의 편의를 위해 개폐가 가능한 형태를 갖는다.

Description

화학 기상 증착 장치{Chemical Vapor Deposition Apparatus}
본 발명은 화학 기상 증착 장치(Chemical Vapor Deposition Apparatus)에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 냉각 수단을 추가함으로써 화학 기상 증착 장치와 기판의 냉각 효율을 높일 수 있고, 일부 냉각 수단은 도어식 개폐가 가능한 구조로 구성함으로써 화학 기상 증착 장치의 보수 관리상의 편의를 제고할 수 있는 화학 기상 증착 장치에 관한 것이다.
화학 기상 증착 장치는 일반적으로 히터 등의 발열부와 도가니를 포함하며, 도가니 내부에 증착 물질을 넣고 발열부에 의해 도가니를 가열하면 증착 물질이 증발, 기화되면서 그 대향면에 위치한 기판에 증착된다. 여기에서, 도가니를 가열하는 히터의 열은 그 내부의 증착 물질을 기화시킬 정도의 높은 열에너지이므로, 기판에 열이 전달되어 기판의 손상 및 변형에 의해 기판에 증착되는 박막의 결함이 증가할 뿐만 아니라, 특정한 두께로의 박막 증착이 제대로 구현되지 않는 문제점이 있다.
이러한 문제점을 해결하기 위하여 종래에는 화학 기상 증착 장치의 몸체부와 베이스 플레이트에 냉각제가 순환하도록 냉각 유로를 설치하고, 도가니와 기판 사이의 화학 기상 증착 장치 몸체부의 상부에 쉴드 플레이트(Shield Plate)를 배치하거나 도가니 상측 히터 부위에 쉴드 플레이트를 부착하여 히터의 열이 기판으로 전달되지 않도록 하였다.
그러나 상기와 같은 냉각 유로는 화학 기상 증착 장치의 몸체부와 베이스 플레이트에만 설치되었고, 상기와 같은 쉴드 플레이트는 얇은 플레이트를 사용하기 때문에 증착 소스 장치로부터 전달되는 간접적인 대류, 복사열로부터 발생하는 화학 기상 증착 장치와 기판의 온도 상승을 효과적으로 억제하지 못하는 단점이 있었다.
또한, 상기의 쉴드 플레이트는 화학 기상 증착 장치의 몸체의 상측에 볼트로 체결되어 고정되므로, 히터와 도가니의 보수 관리를 위해서는 해당부분의 볼트 체결을 해체한 후 재조립해야 하는 작업상의 불편함이 있었다.
이에, 등록특허공보 제10-1084234호(특허문헌 1)에는 증착 물질을 저장하고, 가열하거나 냉각하면서 공급해주는 제1, 제2 증착 원부를 포함하며, 각 증착 원부에는 증착 물질을 저장하는 도가니가 구비되고, 각 도가니에는 가열부와 냉각부가 설치되는 "증착원, 이를 구비하는 증착 장치 및 박막 형성 방법"이 개시되어 있다. 이러한 특허문헌 1에 개시된 증착 장치에서는 제1 증착 원부와 제2 증착 원부는 증착 물질을 교대로 공급하며, 하나의 증착 원부가 저장된 증착 물질을 가열하면, 다른 하나의 증착 원부는 저장된 증착 물질을 냉각하는 방식으로 증착에 사용되지 않는 도가니를 냉각한다. 이때, 각각의 증착 원부 내의 도가니에 설치되는 냉각부는 각각의 도가니의 둘레를 감싸는 형태일 수 있으며, 냉각 수단은 냉각 가스 또는 냉각수가 흐르는 냉각 라인일 수 있다.
그러나 이상과 같은 특허문헌 1에 개시된 종래 증착 장치의 냉각 방식은, 증착 공정 중 증착에 사용되지 않는 도가니를 냉각하는 방식으로서, 증착에 사용되는 도가니로부터 전달되는 간접적인 대류, 복사열로부터 발생하는 화학 기상 증착 장치와 기판의 온도 상승을 효과적으로 억제하지 못하는 문제점이 있다.
그리고, 등록특허공보 제10-0761079호(특허문헌 2)에는 증착 물질이 저장되는 도가니와 그 도가니를 가열하는 가열 수단을 포함하며, 증착 물질을 저장하고 증발시키는 증발 원부와, 증발 원부에서 증발되는 증착 물질을 기판 측으로 분사하는 노즐부 및 도가니의 하부로 냉각 가스를 주입하여 증발 원부를 냉각하는 냉각수단을 포함하는 "냉각 수단을 갖는 증발원 및 이를 이용한 증착 장치"가 개시되어 있다. 이러한 특허문헌 2에 개시된 증착 장치에서는 가열 수단으로 고주파 유도가열코일을 포함할 수 있으며, 이 경우, 고주파 유도가열코일의 내부에는 냉각수가 흐르도록 냉각수 통로가 마련될 수 있다. 그리고, 증발 원부는 도가니의 외부에 배치되어 도가니와 가열 수단 등을 보호하는 역할을 하는 반응조가 설치되며, 반응조의 외부에는 냉각수관이 마련된 냉각 커버가 배치되어 반응조 내부의 열을 냉각시켜준다. 또한, 노즐부에는 노즐의 외부에 마련되어 노즐과, 노즐을 가열하는 역할을 하는 히터 등을 외부로부터 보호하는 역할을 하는 하우징의 외부에 배치되어 하우징 내부의 열을 냉각시켜주는 노즐부 냉각 커버를 더 포함할 수 있다.
그러나 이상과 같은 특허문헌 2에 개시된 증착 장치의 냉각 수단은 증착 공정이 종료된 후, 고온으로 가열된 도가니가 내부 증착 물질의 용융점 근처까지 자연냉각된 후부터 도가니 등을 강제 냉각하여 증발 원부의 유지 보수를 위해 작업이 가능한 온도로 냉각시키는 역할을 하는 것으로서, 증착 공정 중 도가니로부터 전달되는 열로 인한 화학 기상 증착 장치와 기판의 온도 상승을 효과적으로 억제하지 못하는 단점이 있다.
또한, 공개특허공보 공개번호 제10-2011-0032695호(특허문헌 3)에는 도가니의 고열이 기판에 직접 전열되는 것을 차단하는 역할을 하여 고열에 의한 기판의 손상을 방지하는 냉각 쉴드가 도가니의 개구부 인접부 및 히터 등의 발열부 상측부에 설치된 "유도가열 금속 증착원"이 개시되어 있다.
그러나, 이러한 방식 또한 단일 플레이트의 사용으로 열 차단 효과가 미비하며, 고온에 의한 냉각 쉴드의 휨 현상이 발생하여 열 차단이 효율적으로 되지 않는 단점이 있다.
등록특허공보 제10-1084234호(2011.11.10. 등록) 등록특허공보 제10-0761079호(2007.09.17. 등록) 공개특허공보 공개번호 제10-2011-0032695호(2011.03.30. 공개)
본 발명은 이상과 같은 종래 기술에서의 문제점을 해소하기 위하여 창출된 것으로서, 종래 몸체부와 베이스 플레이트에만 냉각 유로가 존재하였던 화학 기상 증착 장치의 상단부와 몸체부의 내부 수용 공간에도 냉각 수단을 추가적으로 설치함으로써 화학 기상 증착 장치와 기판의 온도 상승을 효과적으로 억제하여 냉각 효율을 높이는 것을 그 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 상기 화학 기상 증착 장치의 상단부의 냉각 수단을 도어식 개폐가 가능한 형태로 설치하여 화학 기상 증착 장치의 보수 관리상의 편의를 제공함을 다른 목적으로 한다.
상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 일 실시 예에 따른 화학 기상 증착 장치는, 내부에 냉각제가 순환하는 냉각 유로가 설치되고, 히터에 의해 가열되어 상부로 증착 물질을 증발시켜주는 도가니가 설치되는 베이스 플레이트(Base Plate)와, 상기 베이스 플레이트의 상면에 결합되고, 벽체 내부에는 냉각제가 순환하는 냉각 유로가 설치되며, 4면의 벽체로 이루어지는 수용 공간을 가지는 상측이 개방된 형태의 몸체부를 구비하는 화학 기상 증착 장치에 있어서,
상기 몸체부의 개방된 상측에는 제1 냉각 수단이 설치되고,
상기 몸체부의 상기 수용 공간의 내부 소정 부위에는 제2 냉각 수단이 설치되며,
상기 제1 냉각 수단은 증착 공정 시 상기 도가니로부터 증발된 증착 물질이 상기 제1 냉각 수단의 상측에 위치되는 기판의 표면에 증착될 수 있도록, 중앙부가 개방된 형태를 갖는다.
여기서, 상기 제1 냉각 수단에는 증착 공정 시 상기 기판의 온도 상승을 억제하기 위해 냉각제가 순환하는 냉각 유로가 내부에 설치된다.
또한, 상기 제1 냉각 수단은 양단부에 위치하는 냉각 플레이트와, 상기 냉각 플레이트들을 서로 연결하는 연결 부재로 구성된다.
여기서, 바람직하게는 상기 제1 냉각 수단은 상기 히터와 상기 도가니의 보수 관리를 용이하게 수행할 수 있도록 도어식 개폐가 가능한 형태로 상기 몸체부에 설치되며, 이때, 바람직하게는 상기 제1 냉각 수단은 "ㅁ"자 형태의 단일 몸체로 구성된다.
또한, 바람직하게는 상기 제2 냉각 수단은 상기 도가니로부터 증발되는 증착 물질의 증발 경로에 간섭하지 않도록 상기 몸체부의 내부 수용 공간의 소정의 위치에 설치된다.
여기서, 상기 제2 냉각 수단에는 증착 공정 시 상기 기판과 상기 화학 기상 증착 장치의 온도 상승을 억제하기 위해 냉각제가 순환하는 냉각 유로가 내부에 설치된다.
본 발명에 따른 화학 기상 증착 장치의 냉각 장치는 다음과 같은 효과가 있다.
종래 몸체부와 베이스 플레이트에만 냉각 유로가 존재하였던 화학 기상 증착 장치의 상단부와 몸체부의 내부 수용 공간에도 냉각 수단을 추가적으로 설치함으로써 상기 화학 기상 증착 장치와 기판의 온도 상승을 효과적으로 억제하여 냉각 효율을 높일 수 있다.
상기 화학 기상 증착 장치의 상단부의 냉각 수단을 개폐가 가능한 형태로 설치함으로써, 상기 냉각 수단의 탈거 작업 없이 화학 기상 증착 장치의 보수 관리가 가능하다.
도 1은 본 발명의 제1 실시 예에 따른 화학 기상 증착 장치를 나타낸 사시도이다.
도 2는 도 1에 도시된 화학 기상 증착 장치의 제1 냉각 수단이 개방된 상태를 나타낸 도면이다.
도 3은 도 1에 도시된 화학 기상 증착 장치의 제1 냉각 수단의 개폐동작 및 제2 냉각 수단과 증착 물질의 증발 경로와의 위치 관계를 보여주는 도면이다.
도 4는 본 발명의 제2 실시 예에 따른 화학 기상 증착 장치를 나타낸 사시도이다.
도 5는 도 4에 도시된 화학 기상 증착 장치의 제1 냉각 수단이 개방된 상태를 나타낸 도면이다.
도 6은 종래의 화학 기상 증착 장치를 나타낸 사시도이다.
본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정되어 해석되지 말아야 하며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야 한다.
명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있다는 것을 의미하며, 동일 참조 부호는 동일 구성요소를 지칭한다.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예를 상세히 설명한다.
도 1 내지 도 3은 본 발명의 제1 실시 예에 따른 화학 기상 증착 장치를 나타낸 것으로서, 도 1은 사시도이고, 도 2는 제1 냉각 수단이 개방된 상태를 나타낸 도면이며, 도 3은 제1 냉각 수단의 개폐 동작과 제2 냉각 수단과 증착 물질의 증발 경로와의 위치 관계 및 제2 냉각 수단의 크기를 나타낸 도면이다.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명의 제1 실시 예에 따른 화학 기상 증착 장치는 베이스 플레이트(100), 몸체부(200), 제1 냉각수단(300) 및 제2 냉각수단(220) 등을 포함하여 구성된다.
베이스 플레이트(100)의 하부에는 히터(미도시)에 의해 가열되어 후술하는 제1 냉각수단(300)의 상부에 위치되는 기판(미도시)측으로 증착 물질을 증발시켜주는 도가니(120)가 설치된다. 여기서, 이와 같은 도가니(120)의 내부에는 증착 물질이 채워지고, 증착 물질로는 예를 들면, 유기 화합물 등이 사용될 수 있다.
몸체부(200)는 상기 베이스 플레이트(100)의 상면에 결합되고, 내부에 수용 공간을 가지는 상측이 개방된 형태로, 몸체부(200)의 개방된 상측에는 제1 냉각 수단(300)이 설치되고, 또한 이와 같은 몸체부(200)의 내부 수용 공간에는 제2 냉각 수단(220)이 설치된다. 여기서, 상기 몸체부(200)는 상면이 개방된 대략 사각 박스 형태로 구성되고, 몸체의 벽면 소정 부위에는 도가니(120)로부터의 증착 물질의 증발량을 측정하기 위한 복수의 센서(260)가 설치된다.
여기서, 상기 제1 냉각 수단(300)은 증착 공정 시 상기 도가니(120)로부터 증발된 증착 물질이 제1 냉각 수단(300)을 통과하여 기판의 표면에 증착될 수 있도록, 도 1에 도시된 바와 같이 중앙부가 개방된 형태를 갖는다.
또한, 상기 제1 냉각 수단(300)의 내부에는, 바람직하게는 증착 공정 시 기판의 온도 상승을 억제하기 위해 냉각제가 순환하는 냉각 유로(240)가 형성된다.
그리고, 상기 제1 냉각 수단(300)은 양단부에 위치하는 냉각 플레이트(301)와 그 냉각 플레이트(301)들을 서로 연결하는 연결부재(302)로 구성되며, 상기 히터와 도가니(120)의 보수 관리가 용이하도록 바람직하게는 도어식 개폐가 가능한 형태로 힌지식 연결 부재(340)에 의해 몸체부(200)에 설치된다. 이와 같이, 몸체부(200)의 개방된 상측에 제1 냉각 수단(300)이 설치됨으로써, 도 6에 도시된 바와 같이 종래 화학 기상 증착 장치 몸체부(200)의 상부에 냉각 유로가 설치되지 않은 쉴드 플레이트(Shield Plate)를 배치하거나, 도가니 상측 히터 부위에 쉴드 플레이트를 부착하는 방식에 비해 히터의 열에 의해 기판의 온도가 상승하는 것을 한층 더 효과적으로 억제할 수 있게 된다.
도 3에 도시된 바와 같이, 상기 제2 냉각 수단(220)은 상기 몸체부(200)의 내부 수용 공간의 소정의 위치에 설치되는 것이 바람직하다. 예를 들면, 제2 냉각 수단(220)은, 상기 몸체부(200)의 내벽 높이의 1/2지점과 2/3지점 사이의 영역에 설치되는 것이 바람직하다. 이는 증착 물질의 증발량을 측정하기 위해 몸체부(200)의 벽면에 설치된 센서(260)의 상측에 설치되고, 최대의 냉각 성능을 발휘할 수 있도록 제2 냉각 수단(220)의 폭을 가능한 넓게 하기 위한 것이다.
또한, 상기 제2 냉각 수단(220)은 상기 히터와 도가니(120)의 보수 관리를 편리하게 하도록 하고, 도가니(120)로부터 증발된 증착 물질이 상기 제1 냉각 수단(300) 위에 놓이는 기판(미도시)측으로 향하는 경로와 간섭을 일으키지 않도록 하는 소정의 폭을 갖는 것이 바람직하다. 예를 들면, 제2 냉각 수단(220)의 폭은 전체 몸체부(200)의 폭의 3/20을 넘지 않는 것이 바람직하다. 이는 상기 도가니(120)의 탈착이 가능하도록 하고, 최대의 냉각 성능을 발휘할 수 있도록 가능한 넓은 폭을 갖도록 하기 위한 것이다.
이와 같은 제2 냉각 수단(220)은 증착 공정 시 기판과 상기 화학 기상 증착 장치의 온도 상승을 억제하기 위해 냉각제가 순환하는 냉각 유로(240)가 내부에 형성되는 것이 바람직하다. 이와 같이, 도 6에 도시된 바와 같이 종래 화학 기상 증착 장치에서 몸체부(200)와 베이스 플레이트(100)에 냉각 유로가 설치되는 방식에 비해 몸체부(200)의 내부 수용 공간에도 냉각 유로(240)가 내부에 설치된 제2 냉각 수단(220)을 추가로 설치함으로써, 화학 기상 증착 장치와 기판의 온도가 상승하는 것을 한층 더 효과적으로 억제할 수 있게 된다.
도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 제1 냉각 수단(300)은 몸체부(200)의 상측에 소정의 연결부재(340)로 결합되어 외력에 의해 개폐된다. 즉, 종래 화학 기상 증착 장치에서는 도 6에 도시된 바와 같이 히터와 도가니(120)로부터 전달되는 열이 기판으로 전달되는 것을 차단하기 위해 쉴드 플레이트(320)가 화학 기상 증착 장치 몸체부(200)의 상부에 볼트(310)로 체결되어 설치되었다. 따라서 종래 화학 기상 증착 장치에서는 보수 관리 작업을 위해서는 상기 볼트의 체결을 해체해야 하는 불편함이 있었다. 반면에 본 발명에서는, 제1 냉각 수단(300)을 개방한 상태에서 화학 기상 증착 장치의 보수 관리 작업이 가능하게 되었다. 다만, 이상과 같은 제1 실시 예는 제1 냉각 수단(300)을 개폐하는 일 실시 예를 예시적으로 설명한 것으로, 제1 냉각 수단(300)의 개방 형태 및 제1 냉각 수단(300)과 몸체부(200)의 결합 형태는 본 실시 예에 한정되는 것은 아니다. 구체적으로는, 도 2에서 제1 냉각 수단(300)이 고정된 몸체부의 일면과 직각으로 만나는 양 측면에 제1 냉각수단(300)을 고정하고, 마찬가지고 힌지식으로 구성될 수 있다.
한편, 도 4 및 도 5는 본 발명의 제2 실시 예에 따른 화학 기상 증착 장치를 나타낸 것으로서, 도 4는 제1 냉각 수단이 닫힌 상태를 나타낸 도면이고, 도 5는 제1 냉각 수단이 개방된 상태를 나타낸 도면이다.
도 4 및 도 5를 참조하면, 본 발명의 제2 실시 예는 상기 제1 실시 예와 그 구성에 있어서 전체적으로 유사하나, 도 2에 도시된 제1 실시 예의 경우와 같이 제1 냉각 수단(300)을 모양과 크기가 같은 두 개의 분할 몸체로 구성하여 개폐하도록 구성하지 않고, 제1 냉각 수단(300)을 "ㅁ"자 형태의 단일 몸체로 구성하여 몸체부의 어느 일면에 고정하고 개폐되도록 구성되는 점에서 제1 실시 예와 차이가 있다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시 예들은 모든 면에서 예시적인 것이며, 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
100 : 베이스 플레이트 120 : 도가니
200 : 몸체부 220 : 제2 냉각 수단
240 : 냉각 유로 260 : 센서
300 : 제1 냉각 수단 301 : 냉각 플레이트
302, 340 : 연결 부재 310 : 볼트
320 : 쉴드 플레이트

Claims (8)

  1. 내부에 냉각제가 순환하는 냉각 유로가 설치되고, 히터에 의해 가열되어 상부로 증착 물질을 증발시켜주는 도가니가 설치되는 베이스 플레이트(Base Plate)와,상기 베이스 플레이트의 상면에 결합되고, 벽체 내부에는 냉각제가 순환하는 냉각 유로가 설치되며, 4면의 벽체로 이루어지는 수용 공간을 가지는 상측이 개방된 형태의 몸체부를 구비하는 화학 기상 증착 장치에 있어서,
    상기 몸체부의 개방된 상측에는 상기 몸체부의 가장자리를 따라 위치하여 상기 몸체부와 함께 상기 몸체부의 상기 가장자리를 완전히 차폐시키며 상기 몸체부에 힌지 결합되는 제1 냉각 수단이 설치되고,
    상기 몸체부의 상기 수용 공간의 내부 소정 부위에는 적어도 두 개의 인접하는 도가니 상에서 상기 적어도 두 개의 인접하는 도가니의 증착 물질의 교차 영역 바로 근처에 위치하여 상기 교차 영역으로부터 상기 몸체부의 상기 상측을 향해 방사 형태로 증발되는 경로와 비간섭하도록 상기 몸체부의 내벽 높이의 1/2 과 2/3 지점 사이의 영역에 위치되어 상기 몸체부의 폭의 3/20 이하로 폭을 가지면서 상기 몸체부의 상기 내벽으로부터 돌출하는 제2 냉각 수단이 설치되는 것을 특징으로 하는 화학 기상 증착 장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 제1 냉각 수단은 증착 공정 시 상기 도가니로부터 증발된 증착 물질이 상기 제1 냉각 수단의 상측에 위치되는 기판의 표면에 증착될 수 있도록, 중앙부가 개방된 형태를 갖는 것을 특징으로 하는 화학 기상 증착 장치.
  3. 제 2항에 있어서,
    상기 제1 냉각 수단에는 증착 공정 시 상기 기판의 온도 상승을 억제하기 위해 냉각제가 순환하는 냉각 유로가 내부에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 화학 기상 증착 장치.
  4. 제 3항에 있어서,
    상기 제1 냉각 수단은 양단부에 위치하는 냉각 플레이트와, 상기 냉각 플레이트들을 서로 연결하는 연결 부재로 구성되는 것을 특징으로 하는 화학 기상 증착 장치.
  5. 제 4항에 있어서,
    상기 제1 냉각 수단은 상기 히터와 상기 도가니의 보수 관리를 용이하게 수행할 수 있도록 도어식 개폐가 가능한 형태로 상기 몸체부에 설치되는 것을 특징으로 하는 화학 기상 증착 장치.
  6. 제 3항에 있어서,
    상기 제1 냉각 수단은 "ㅁ"자 형태의 단일 몸체로 구성되며, 상기 몸체부의 어느 일면에 도어식 개폐가 가능하도록 설치되는 것을 특징으로 하는 화학 기상 증착 장치.
  7. 제 1항에 있어서,
    상기 제2 냉각 수단은 상기 도가니로부터 증발되는 증착 물질의 증발 경로에 간섭하지 않도록 상기 몸체부의 내부 수용 공간의 소정의 위치에 설치되는 것을 특징으로 하는 화학 기상 증착 장치.
  8. 제 7항에 있어서,
    상기 제2 냉각 수단에는 증착 공정 시 기판과 상기 화학 기상 증착 장치의 온도 상승을 억제하기 위해 냉각제가 순환하는 냉각 유로가 내부에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 화학 기상 증착 장치.
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