KR101644224B1 - 세정 용이성 코팅물로 코팅하기 위한 기판 부재 - Google Patents

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Abstract

세정 용이성 코팅물(easy-to-clean coating)로 코팅하기 위한 기판 부재, 상기 세정 용이성 코팅물의 효과는 그의 소수성 및 소유성 특성 및 또한, 보다 특히는, 그의 장기간 안정성 면에서 기판 부재에 의해 개선된다. 상기 기판 부재는 특히 유리 또는 유리-세라믹의 지지체 물질 및 세정 용이성 코팅물과 상호작용할 수 있고, 혼합 산화물, 보다 특히는 규소 혼합 산화물을 포함하는 접착촉진제 층(adhesion promoter layer)을 포함한다.

Description

세정 용이성 코팅물로 코팅하기 위한 기판 부재{SUBSTRATE ELEMENT FOR COATING WITH AN EASY-TO-CLEAN COATING}
본 발명은 지지체 플레이트 및 지지체 플레이트 위에 배치된 접촉촉진제 층을 포함하고, 접착촉진제 층은, 세정 용이성(easy-to-clean) 코팅물로 코팅하기 위한 기판 부재에 관한 것이다. 본 발명은 상기 기판 부재의 제조 방법 및 상기 기판 부재의 용도에 관한 것이다.
보다 특히는 투명 물질(예: 유리 또는 유리-세라믹)의 표면 처리는 예를 들면, 대화식 입력(interative input)이 있는 터치 패널용(touch panel application) 영역에서와 같이, 특히 접촉 또는 센서 이미지 스크린(터치스크린)에 대한 강력히 성장하는 시장 때문에, 훨씬 더 큰 중요성이 부여된다. 여기서 접촉 표면은, 예를 들면, 멀티터치(multitouch) 응용 단편에서 훨씬 더 정확해져 가는, 투명도 및 작용성의 요건에 부합될 필요가 있다. 터치스크린은, 예를 들면, 스마트폰 작동 수단으로서, 현금자동 입출금기, 또는 철도역에서 기차 시간 정보를 위한 것과 같은 용도가 발견되고 있다. 터치스크린은 또한 더욱이 게임기에서 또는, 예를 들면, 공업용 기기(공업용 PC)의 제어를 위해 사용되고 있다. 투명 유리 또는 유리-세라믹 표면의 처리는 모든 커버 스크린에 대해, 특히 모빌 전자 제품의 커버 스크린에 대해, 예를 들면, 노트북, 랩탑 컴퓨터, 시계 또는 휴대폰의 디스플레이를 위해 주목받고 있다. 그러나 예를 들면, 냉장 유닛, 디스플레이 윈도우, 키오스크(kiosk) 또는 마찬가지로 유리 캐비넷의 유리 또는 유리-세라믹 표면의 경우, 표면 처리가 점차 중요해지고 있다. 모든 응용시, 그 목적은 양호하고 위생적인 기능성이, 예를 들면, 먼지에 의해 그리고 손가락으로부터의 잔사에 의해 손상되는 어떤 것을, 높은 미적 효과와 함께 효과적인 투명도와 결합되어 높은 세정 노력 없이 보증함을 보장하는 것이다.
한 표면 처리는, 예를 들면, 안티글래어(antiglare) 스크린에 대해 공지된 바와 같은 유리 표면의 에칭이다. 그러나, 여기서 단점은 투명도 및 영상 해상도(image resolution)의 급격한 강하로, 이는 구조화 표면이 디바이스로부터 관측자로 화상광(imaging light)이 디스플레이 스크린에 의해 또한 굴절되고 산란됨을 의미하기 때문이다. 높은 영상 해상도를 성취하기 위하여, 추가의 가능한 해결책은 표면을 세정 용이성 코팅물로 코팅하는 영역에서 얻어진다.
특히 터치스크린용으로 요구되는 특성 중, 전면에 놓이는 것은 특히 멀티터치 응용을 위해 매끄러워야 하는, 접촉 표면의 촉각(tactile) 및 햅틱(haptic) 인지도이다. 여기서 주요 요인은 임의의 측정 가능한 조도가 덜하고, 사용자에 의한 촉각 인지도가 더 큰 것이다. 또한, 전면에 낮은 굴절 거동과 함께 높은 투명도; 높은 수준의 방오성(dirt repellence) 및 세정 용이성, 특히 사용 후 및 수많은 세정 주기 후 세정 용이성 코팅물의 장기간 내구성; 입력 펜을 사용하는 경우에, 내스크래치성 및 내마모성, 예를 들면, 염 및 지방을 함유하는, 손가락 발한을 통한 화학적 노출에 대한 내성; 및 또한 심지어 기후 및 UV 노출하에 임의의 코팅의 내구성이 있다. 세정 용이성 효과는 환경 때문에 또는 그 밖에 자연스런 사용의 결과로서 표면에 생긴 오염이 다시 용이하게 제거될 수 있거나, 또는 표면에 부착된 나머지로부터 견제되어 짐을 보장한다. 이 경우에, 세정 용이성 표면은, 예를 들면, 지문으로 인한 오염이 아주 크게 더 이상 보이지 않음으로써, 사용중인 표면은 심지어 세정 없이도 깨끗하게 보이는 특성을 갖는다. 이어서, 이 경우는 세정 용이성 표면의 특별한 경우이다: 지문 방지 표면. 접촉 표면은, 예를 들면, 지문의 잔사로부터 사용자에 의한 사용시 발생되는, 물, 염 및 지방의 부착에 대해 내성이어야 한다. 접촉 표면의 습윤 특성은 표면이 소수성 및 소유성(olephobic)이 모두 되도록 해야한다.
공지된 세정 용이성 코팅물의 대부분은 필수적으로 물에 대해 높은 접촉각을 갖는 유기불소 화합물이다. 따라서, DE 198 48 591은 이러한 종류의 보호층의 제조시, 담체 액체에 유기불소 화합물을 포함하는 액체 시스템의 형태인 화학식 Rf-V의 유기불소 화합물의 사용을 기술하고 있는데, 화학식 Rf-V에서, Rf는 부분적으로 또는 완전히 플루오르화될 수 있고, 직쇄, 분지쇄 또는 환형일 수 있는 지방족 탄화수소기를 나타내며, 탄화수소기는 하나 이상의 산소, 질소 또는 황 원자에 의해 차단될 수 있다. V는 -COOR, -COR, -COF, -CH2OR, -OCOR, -CONR2, -CN, -CONH-NR2, -CON=C(NH2)2, -CH=NOR, -NRCONR2, -NR2COR, NRw, -SO3R, -OSO2R, -OH, -SH, ≡B, -OP(OH)2, -OPO(OH)2, -OP(ONH4)2, -OPO(ONH4)2, -CO-CH=CH2로부터 선택되는 극성 또는 이극성 그룹을 나타내고, 그룹 V에서 R은 동일하거나 상이할 수 있으며, 수소, 페닐기, 또는 12개 이하, 바람직하게는 8개 이하의 탄소 원자를 갖고, 부분적으로 또는 완전히 플루오르화 또는 클로로플루오르화될 수 있는 직쇄 또는 분지쇄 알킬 또는 알킬 에테르기를 나타내며, w는 2 또는 3이거나, -RvV-를 나타낸다. 화학식 -Rv-V-에서, V는 상기 제시된 극성 또는 이극성 그룹을 나타내고, Rv는 1 내지 12개, 바람직하게는 8개 이하의 탄소 원자를 갖고, 부분적으로 또는 완전히 플루오르화 또는 클로로플루오르화될 수 있는 직쇄 또는 분지쇄 알킬렌기를 나타낸다.
EP　0　844　265는 더욱이 표면에 충분하고 오래-지속되는 방오(antifouling) 특성, 충분한 내후성, 윤활성, 논스틱 특성(nonstick qualities), 발수성 및 유성 오염과 지문에 대한 내성을 부여하기 위하여 금속, 유리 및 플라스틱 물질의 것들과 같은 기판 표면 코팅용 실리콘-함유 유기 불소 폴리머를 기술하고 있다. 또한, 실리콘-함유 유기 불소 폴리머, 불소-함유 유기 용매 및 실란 화합물을 포함하는, 표면 처리 공정용 처리 용액이 명시되어 있다. 이러한 종류의 유기불소 폴리머로 코팅하기 위한 기판 표면의 적합성에 관해서는 어떠한 언급도 없다.
US 2010/0279068은 지문방지 코팅용 플루오로폴리머 또는 플루오로실란을 기술하고 있다. 이와 관련하여, US 2010/0279068은 이미 상기 코팅물 단독에 의한 표면의 코팅이 지문방지 코팅을 위해 필요한 표면 특성을 제공하기에 불충분하다고 지적하고 있다. 상기 문제점을 해결하기 위하여, US 2010/0279068은 유리 제품의 표면이 그 안에 엠보싱된 구조 또는 그것으로 압착된 입자를 갖는 것을 제안하고 있다. 이러한 지문방지 코팅물에 의한 코팅용 표면의 제조는 매우 복잡하고 비용이 많이 들며, 필요한 열 작업으로 인하여 유리 제품에 원치않는 응력이 발생된다.
US 2010/0285272는 안티핑거 코팅을 위해, 표면장력이 낮은 폴리머 또는 올리고머(예: 플루오로폴리머 또는 플루오로실란)를 기술하고 있다. 지문방지 코팅물로 코팅하기 위한 표면을 제조하기 위하여, 유리 표면을 샌드블라스트(sandblast)하고, 물리적 또는 화학적 기체상 증착에 의해 그 위에 금속 또는 금속 산화물(예: 산화주석, 산화아연, 산화세륨, 알루미늄 또는 지르코늄)을 도포하는 것이 제안되었다. 지문방지 코팅용 표면을 제조하기 위하여, 스퍼터링에 의해 도포된 금속 산화물 필름을 에칭(etched)하거나, 증착에 의해 도포된 금속 필름을 엘록스(eloxed)하는 것이 추가로 제안되었다. 그 목적은 두 개의 위상학적 평면을 갖는 계단형(stepped) 표면 구조를 제공하는 것이다. 그 다음에, 지문방지 코팅은 추가의 계단형 위상학적 구조를 구성한다. 이들 공정은 마찬가지로 복잡하고 비용이 많이 들며, 요구되는 다른 특성을 취하는 것의 충분한 고려 없이, 구조화된 표면에 의해 폴리머의 기계적 정착(mechanical anchoring)을 특징으로 하는 소수성 및 소유성 표면만을 유도한다.
US 2009/0197048은 불소 말단 그룹(예: 퍼플루오로카르본기 또는 퍼플루오로카르본-함유 기)을 갖는 외부 코팅의 형태인 유리 커버 위에 지문방지 코팅 또는 세정 용이성 코팅물을 기술하고 있는데, 이는 유리 커버에 소수성 및 소유성도를 제공함으로써, 물 및 오일에 의한 유리 표면의 습윤화를 최소화한다. 이 코팅물을 유리 표면에 응용시, 표면은 이온 교환에 의해, 특히 나트륨 이온 및/또는 리튬 이온 대신에 칼륨 이온의 삽입(intercalation)에 의해 화학적으로 경화시키는 것이 제안되고 있다. 더욱이, 지문방지 또는 세정 용이성 코팅물 밑에 유리 커버는 이산화규소, 자기질 실리카, 불소-도핑 이산화규소, 불소-도핑 자기질 실리카, MgF2, HfO2, TiO2, ZrO2, Y2O3 또는 Gd2O3으로 구성된 반사방지 층을 포함할 수 있다. 텍스쳐 또는 패턴이 에칭, 리소그래피(lithography) 또는 입자 코팅에 의해 지문방지 코팅 전에 유리 표면에 생성되는 것이 또한 제안된다. 다른 제안은 유리 표면을 이온교환 경화 후, 단 지문방지 코팅 전에 산 처리에 적용시키는 것이다. 이들 공정도 마찬가지로 복잡하고, 요구되는 특성의 전체를 만족하는 세정 용이성 코팅물을 생성하지 못한다.
선행 기술에 따르는 상기 세정 용이성 층의 특별한 단점은 층의 제한된 장기간 내구성으로, 세정 용이성 특성의 신속한 감소가 화학적 및 물리적 공격의 결과로서 관찰됨을 의미한다. 이러한 단점은 세정 용이성 코팅물의 특성뿐만 아니라, 그것이 도포되는 기판 표면의 특성에 따라 좌우된다.
따라서, 본 발명의 목적은 세정 용이성 코팅물의 특성이 개선되고, 접촉 표면은 필요한 특성을 충분한 정도로 갖도록 하는 방법으로 다수의 세정 용이성 코팅물과 상호작용하기에 적합한 특정 표면을 갖는 기판 부재를 제공하는 것으로, 상기 기판의 제조는 비용이 비싸지 않고 간단하다.
본 발명은 특허청구범위 제1항, 제15항, 제20항 및 제22항 내지 제24항의 특징을 사용하여 놀랍게도 간단한 방법으로 이 문제점을 해결한다. 본 발명의 추가로 유용한 양태가 종속항 제2항 내지 제14항, 제16항 내지 제19항 및 제21항에 기술되어 있다.
본 발명자는 필요한 특성을 모두 만족하는 세정 용이성 코팅물의 경우, 특별한 접착촉진제 층이 코팅되어야 하는 기판 부재 위에 제공되어야 함을 발견하였고, 이 접착촉진제 층이 지지체 기판 위에 배치되고, 혼합 산화물로 이루어지며, 이후에 도포될 세정 용이성 코팅물과 상호작용하는 특성을 갖는다.
상호작용은 본 발명의 기판의 접착촉진제 층과 이후에 도포될 세정 용이성 코팅물 사이에 화학적 결합, 보다 특히는 공유결합으로, 세정 용이성 코팅물의 장기간 안정성의 증가 효과를 갖는다.
보다 특히는 지문방지(AFP; antifingerprint) 코팅과 같은 세정 용이성(ETC; easy-to-clean) 코팅물은 높은 방오성을 가지고, 용이하게 세정 가능하며, 낙서방지 효과(antigraffiti effect)를 또한 나타낼 수 있는 코팅이다. 상기 세정 용이성 코팅물에서 물질 표면은, 예를 들면, 액체, 염, 지방, 먼지 및 다른 물질과 같은 지문으로부터의 침착에 대한 내성을 나타낸다. 이는 상기 침착에 대한 화학적 내성 및 또한 상기 침착에 대한 낮은 습윤 거동을 모두 의미한다. 더욱이, 그것은 사용자에 의한 접촉시 지문 형성의 억제, 방지 또는 감소를 의미한다. 지문은 특히 염, 아미노산 및 지방, 물질(예: 탈크), 발한, 각질, 향장류 및 로션의 잔사, 및 어떤 경우에, 액체 또는 매우 광범위하고 다양한 종류 중 임의의 것의 입자 형태인 먼지를 함유한다.
따라서, 이러한 종류의 세정 용이성 코팅물은 염을 함유하는 물뿐만 아니라, 지방성 및 유성 침착물에 대해 내성이어야 하고, 모두에 대해 낮은 습윤 거동을 가져야 한다. 특히 염수 분무 미스트 시험(salt water spray mist test)에서 높은 내성에 주의를 기울여야 한다. 세정 용이성 코팅물을 갖는 표면의 습윤 특성은 표면이 소수성 - 즉 표면과 물 사이에 접촉각이 90°보다 큼- 및 소유성 - 즉 표면과 오일 사이에 접촉각이 50°보다 큼 - 임을 모두 입증하도록 해야한다.
선행 기술의 해결책은 특히 접촉각을 증가시키기 위하여, 로터스 효과(lotus effect)로서 공지된 효과를 사용한다. 이는 표면의 이중 구조를 근거로 하며, 이의 결과로서 접촉면 및 이에 따른 표면과 그 위에 놓인 입자 및 물방울 사이에 접착력은 상당히 감소된다. 이러한 이중 구조는 약 10 내지 20 ㎛ 범위인 독특한 형태의 표면 구조, 및 상기 구조에 도포된 세정 용이성 코팅물에 의해 형성된다. 고체의 거친 표면 위에 액체의 습윤 거동은, 예를 들면, US 2010/0285272에 제시된 바와 같이, 낮은 접촉각의 경우, 웬젤(Wenzel) 모델에 의해, 또는 높은 접촉각의 경우, 카지-박스터(Cassie-Baxter) 모델에 의해 기술될 수 있다. 이 구조적 효과와 대조적으로, 본 발명은 화학적 기반 경로에 의해 문제점을 해결한다.
한 바람직한 양태로, 접착촉진제 층은 액상 코팅, 보다 특히는 열적 고화된 졸-겔 층이다. 접착촉진제 층은 이와 달리, 예를 들면 PECVD, PICVD, 저압 CVD, 또는 대기압에서 화학적 증착에 의해 제조되는 CVD 코팅(플라즈마-보조 화학적 증착에 의한 층 도포)일 수 있다. 접착촉진제 층은 이와 달리, 예를 들면, 스퍼터링, 열적 증착(thermal vaporization) 또는 레이저 비임, 전자-비임, 또는 광-아크 증착(light-arc vaporization)에 의해 제조되는 PVD 코팅(플라즈마-보조 물리적 증착에 의한 층 도포)일 수 있다. 접착촉진제 층은 이와 달리 플레임 열분해(flame pyrolysis) 층일 수 있다.
한 바람직한 양태로, 접착촉진제 층은 규소 혼합 산화물 층으로, 혼합물은 바람직하게는 원소 알루미늄, 주석, 마그네슘, 인, 세륨, 지르코늄, 티탄, 세슘, 바륨, 스트론튬, 니오븀, 아연, 붕소 하나 이상의 산화물 및/또는 마그네슘 플루오라이드이며, 바람직하게는 원소 알루미늄의 하나 이상의 산화물을 포함한다. 규소-알루미늄 혼합 산화물 층의 경우에, 혼합 산화물 중 알루미늄 대 규소의 몰비는 약 3 내지 약 30%, 바람직하게는 약 5 내지 약 20%, 보다 바람직하게는 약 7 내지 약 12%이다.
본 발명의 목적을 위해 산화규소는 일산화규소와 이산화규소 사이에 임의의 산화규소이다. 본 발명의 목적을 위해 규소는 금속으로서 및 반금속으로서 이해된다. 규소 혼합 산화물은 산화규소와 하나 이상의 다른 원소의 산화물과의 혼합물이고, 균질하거나 비균질하고, 화학양론적이거나 비화학양론적일 수 있다.
이러한 종류의 접착촉진제 층은 1 ㎚보다 큰, 바람직하게는 10 ㎚보다 큰, 보다 바람직하게는 20 ㎚보다 큰 층 두께를 갖는다. 여기서 중요한 요인은 세정 용이성 코팅물과의 상호작용 깊이를 고려할 때, 층의 접착촉진제 기능을 완전히 이용할 수 있다는 것이다.
이러한 종류의 접착촉진제 층은 굴절률이 1.35 내지 1.7의 범위, 바람직하게는 1.35 내지 1.6의 범위, 보다 바람직하게는 1.35 내지 1.56의 범위(588 ㎚ 기준파장에 대해)이다.
본 발명의 접착촉진제 층은 바람직하게는 졸-겔 공정에 의해 또는 그 밖의 화학적 또는 물리적 증착을 포함하는 공정에 의해, 보다 특히는 스퍼터링에 의해 도포할 수 있다.
기판이 유리로 이루어지거나 유리를 포함한다면, 마찬가지로 이 유리도 또한 열적으로 프리스트레스(prestressed)될 수 있고, 이에 따라 코팅 후 결과적으로 주목할 만한 손상으로 문제가 되는 코팅 없이, 열경화가 일어나는 것이 본 발명의 큰 이점이다. 열경화는 바람직하게는 유리의 두께의 따라, 경화될 유리의 적어도 그 영역을, 예를 들면, 약 2 내지 6분, 바람직하게는 4분의 기간 동안 약 600 내지 약 750℃의 온도로, 바람직하게는 약 670 ℃의 온도로 가져감으로써 성취한다.
본 발명의 추가 최대 장점은 액상 코팅, 보다 특히는 졸-겔 코팅에 의해 접착촉진제 층의 제조 경우, 코팅물의 열적 고화가 지지체 물질의 열 처리에 의해 계 내에서 일어날 수 있다는 사실에 있다. 이는 비용 효율적인 생산을 의미한다.
지지체 물질 표면이 접촉촉진제 층이, 보다 특히는 졸-겔 층으로서 도포되기 전에 활성화된다면, 도포된 층의 접착력은 결과적으로 개선될 수 있다. 처리는 세척 작업에 의해 또는 그 밖에 코로나 방전, 불꽃 처리, UV 처리, 플라즈마 활성화 및/또는 기계적 방법(예: 조도화(roughening), 샌드블라스팅 및/또는 에칭과 같은 화학적 방법)에 의한 활성화 형태로 유용하게 일어날 수 있다.
한 양태에 있어서, 접촉촉진제 층과 지지체 물질 사이에 배치된 적어도 하나의 차단층(barrier layer)이 존재하며, 차단층은 알칼리 금속 차단층, 보다 특히 나트륨 차단층의 형태를 갖는다. 상기 차단층의 두께는 3 내지 100 ㎚, 바람직하게는 5 내지 50 ㎚ 및 보다 특히는 10 내지 35 ㎚의 범위이다. 차단층은 바람직하게는 금속 산화물 및/또는 반금속 산화물을 포함한다. 보다 특히, 차단층은 실질적으로 산화규소 및/또는 산화티탄 및/또는 산화주석으로 형성된다. 이러한 종류의 차단층은 플레임 열분해에 의해, 물리적 공정(PVD)에 의해 또는 화학적 증착 공정(CVD)에 의해, 또는 그 밖의 졸-겔 공정에 의해 도포된다. 상기 차단층은 바람직하게는 실질적으로 유리 층의 형태로 존재한다.
또한, 본 발명의 일부는 하나 이상의 매우 얇은 중간층에 의해 서브층으로 분할되는 접촉촉진제 층이다. 이는 특히 접촉촉진제 층 내에 응력을 방지하기 위해 사용된다. 예를 들면, 하나 이상의 순수한 산화규소 중간층에 의해 분할될 수 있다. 상기 중간층의 두께는 0.3 내지 10 ㎚, 바람직하게는 1 내지 3 ㎚, 보다 바람직하게는 1.5 내지 2.5 ㎚이다.
한 양태에 있어서, 접착촉진제 층은 외부층(outer layer)이 제공될 수 있다. 이러한 종류의 외부층은 외부층을 통해 접착촉진제 층과 세정 용이성 층 사이에 상호작용; 환언하면, 접착촉진제 층과 이후에 응용하기 위한 세정 용이성 코팅물 사이에 화학결합, 보다 특히는 공유결합의 충분한 가능성이 존재하도록 구체화되어야 한다. 이러한 종류의 층은, 예를 들면, 다공성 졸-겔 층 또는 플레임 열분해에 의해 도포되는 얇고, 부분적으로 투과성인 산화물 층이다. 층은 또한 이후에 도포될 수 있는 세정 용이성 코팅물을 위해 지지해주는 구조-부여 층일 수 있다. 이러한 종류의 외부층은 미립자 또는 다공성 층으로서 형성될 수 있다. 특히 산화규소로부터 상기 외부층을 제조하는 것이 유용하며, 이 경우에 산화규소는 또한 규소 혼합 산화물, 보다 특히는 원소 알루미늄, 주석, 마그네슘, 인, 세륨, 지르코늄, 티탄, 세슘, 바륨, 스트론튬, 니오븀, 아연, 붕소 중 하나 이상의 산화물과, 또는 마그네슘 플루오라이드와 혼합된 산화규소일 수 있다. 예를 들면, 플레임 열분해, 다른 열적 코팅 방법, 냉기체 분무 또는 그 밖의 스퍼터링에 의한 코팅이 상기 외부층을 제조하기에 적합하다.
본 발명의 접착촉진제 층의 응용을 위해 적합한 지지체 물질은 주로 금속, 플라스틱, 결정, 세라믹 또는 복합체 물질과 같은 모든 적합한 물질이다. 그러나, 유리 또는 유리-세라믹이 바람직하다. 여기서 특히 바람직하게는, 그의 사용을 위해 프리스트레스된 유리가 사용된다. 이 유리는 이온 교환에 의해 화학적으로 또는 열적으로 프리스트레스시킬 수 있었다. 예를 들면, 드로윙 방법(drawing method)[예: 업드로우(updraw) 또는 다운드로우(downdraw) 방법], 오버플로우 용융(overflow fusion), 플로트 기술(float technology)에 의해, 또는 주조(cast) 또는 롤드(rolled) 유리로부터 수득되는, 저-철(low-iron) 소다석회 유리, 보로실리케이트 유리, 알루미늄 실리케이트 유리, 리튬 알루미늄 실리케이트 유리 및 유리-세라믹이 특히 바람직하다. 특히 주조 또는 롤링 공정의 경우에 또는 플로트 유리의 경우에, 예를 들면, 디스플레이 프론트 스크린에 대해 필요한 바와 같이, 표면의 요구되는 광학 특성은 연마 기술(polishing technology)에 의해 수득될 수 있다.
보다 특히 Fe2O3 함량이 0.05중량% 미만, 바람직하게는 0.03중량% 미만인 저-철 또는 철-비함유(iron-free) 유리가 유용하게 사용될 수 있는데, 이는 이 유리가 감소된 흡수율을 가짐으로써, 특히 개선된 투명도를 허용하기 때문이다.
그러나, 다른 응용을 위해, 회색 유리 또는 착색 유리가 또한 바람직하다. 지지체 물질, 보다 특히 유리는 투명, 반투명 또는 그 밖에 불투명할 수 있다. 화이트보드 배치를 위해, 예를 들면, 우유빛 외관을 갖는 유리(예: Opalika®로서 Schott AG, Mainz에서 이용가능한 것)의 사용이 바람직하다.
자외선 스펙트럼 범위에서 두드러진 광학 특성은 지지체 물질이 유리질 실리카인 경우 성취될 수 있다. 또한 헤비 플린트(heavy flint) 유리, 헤비 란타넘 플린트 유리(heavy lanthanum flint glass), 플린트 유리, 경량 플린트 유리, 크라운 유리, 보로실리케이트 크라운 유리, 바륨 크라운 유리, 헤비 크라운(heavy crown) 유리 또는 불소 크라운 유리와 같은 광학 유리가 지지체 물질로서 사용될 수 있다.
지지체 물질로서, 다음으로 이루어진(중량%), 하기 유리 조성의 리튬 알루미늄 실리케이트 유리의 사용이 바람직하게 제시된다:
SiO2 55-69
Al2O3 19-25
Li2O 3-5
총 Na2O　+　K2O 0-3
총 MgO　+　CaO　+　SrO　+　BaO: 0-5
ZnO 0-4
TiO2 0-5
ZrO2 0-3
총 TiO2　+　ZrO2　+　SnO2 2-6
P2O5 0-8
F 0-1
B2O3 0-2,
및 또한, 임의로, 0 내지 1중량%의 양인, 예를 들면, Nd2O3, Fe2O3, CoO, NiO, V2O5, Nd2O3, MnO2, TiO2, CuO, CeO2, Cr2O3, 희토류 산화물과 같은 착색 산화물, 및 또한 0 내지 2중량%의 As2O3, Sb2O3, SnO2, SO3, Cl, F, CeO2와 같은 청징제(refining agent)의 부가.
지지체 물질로서, 다음으로 이루어진(중량%), 하기 유리 조성의 소다석회 실리케이트 유리를 사용하는 것이 또한 바람직하다:
SiO2 40-80
Al2O3 0-6
B2O3 0-5
총 Li2O　+　Na2O　+　K2O 5-30
총 MgO　+　CaO　+　SrO　+　BaO　+　ZnO: 5-30
총 TiO2 +　ZrO2 0-7
P2O5 0-2
및 또한, 임의로, 0 내지 5중량%의 양인, 예를 들면, Nd2O3, Fe2O3, CoO, NiO, V2O5, Nd2O3, MnO2, TiO2, CuO, CeO2, Cr2O3, 희토류 산화물과 같은 착색 산화물, 또는 0 내지 15중량%의 "블랙 유리(black glass)", 및 또한 0 내지 2중량%의 As2O3, Sb2O3, SnO2, SO3, Cl, F, CeO2와 같은 청징제의 부가.
지지체 물질로서, 다음으로 이루어진(중량%), 하기 유리 조성의 보로실리케이트 유리를 사용하는 것이 또한 바람직하다:
SiO2 60-85
Al2O3 1-10
B2O3 5-20
총 Li2O　+　Na2O　+　K2O 2-16
총 MgO　+　CaO　+　SrO　+　BaO　+　ZnO: 0-15
총 TiO2 +　ZrO2 0-5
P2O5 0-2
및 또한, 임의로, 0 내지 5중량%의 양인, 예를 들면, Nd2O3, Fe2O3, CoO, NiO, V2O5, Nd2O3, MnO2, TiO2, CuO, CeO2, Cr2O3, 희토류 산화물과 같은 착색 산화물, 또는 0 내지 15중량%의 "블랙 유리", 및 또한 0 내지 2중량%의 As2O3, Sb2O3, SnO2, SO3, Cl, F, CeO2와 같은 청징제의 부가.
지지체 물질로서, 다음으로 이루어진(중량%), 하기 유리 조성의 알칼리 금속 알루미노실리케이트 유리를 사용하는 것이 또한 바람직하다:
SiO2 40-75
Al2O3 10-30
B2O3 0-20
총 Li2O　+　Na2O　+　K2O 4-30
총 MgO　+　CaO　+　SrO　+　BaO　+　ZnO: 0-15
총 TiO2 +　ZrO2 0-15
P2O5 0-10
및 또한, 임의로, 0 내지 5중량%의 양인, 예를 들면, Nd2O3, Fe2O3, CoO, NiO, V2O5, Nd2O3, MnO2, TiO2, CuO, CeO2, Cr2O3, 희토류 산화물과 같은 착색 산화물, 또는 0 내지 15중량%의 "블랙 유리", 및 또한 0 내지 2중량%의 As2O3, Sb2O3, SnO2, SO3, Cl, F, CeO2와 같은 청징제의 부가.
지지체 물질로서, 다음으로 이루어진(중량%), 하기 유리 조성의 알칼리 금속-비함유 알루미노실리케이트 유리를 사용하는 것이 또한 바람직하다:
SiO2 50-75
Al2O3 7-25
B2O3 0-20
총 Li2O　+　Na2O　+　K2O 0-0.1
총 MgO　+　CaO　+　SrO　+　BaO　+　ZnO: 5-25
총 TiO2 +　ZrO2 0-10
P2O5 0-5
및 또한, 임의로, 0 내지 5중량%의 양인, 예를 들면, Nd2O3, Fe2O3, CoO, NiO, V2O5, Nd2O3, MnO2, TiO2, CuO, CeO2, Cr2O3, 희토류 산화물과 같은 착색 산화물, 또는 0 내지 15중량%의 "블랙 유리", 및 또한 0 내지 2중량%의 As2O3, Sb2O3, SnO2, SO3, Cl, F, CeO2와 같은 청징제의 부가.
지지체 물질로서, 다음으로 이루어진(중량%), 하기 유리 조성의 알칼리-금속 알루미노실리케이트 유리를 사용하는 것이 또한 바람직하다:
SiO2 50-75
Al2O3 7-25
B2O3 0-20
총 Li2O　+　Na2O　+　K2O 0-4
총 MgO　+　CaO　+　SrO　+　BaO　+　ZnO: 5-25
총 TiO2 +　ZrO2 0-10
P2O5 0-5
및 또한, 임의로, 0 내지 5중량%의 양인, 예를 들면, Nd2O3, Fe2O3, CoO, NiO, V2O5, Nd2O3, MnO2, TiO2, CuO, CeO2, Cr2O3, 희토류 산화물과 같은 착색 산화물, 또는 0 내지 15중량%의 "블랙 유리", 및 또한 0 내지 2중량%의 As2O3, Sb2O3, SnO2, SO3, Cl, F, CeO2와 같은 청징제의 부가.
디스플레이 유리 응용, 특히 스몰 포맷(small format)인 터치 패널 또는 터치스크린을 위해, 기판은 두께가 ≤ 1 ㎜이고, 보다 특히는 초박판(ultrathin) 기판인 것이 바람직하다. 예를 들면, 표시 D263, B270, Borofloat, Xensation Cover, 또는 Xensation cover 3D하에 스코트 에이지(Schott AG)에서 판매중인 종류의 박판 유리 및 초박판 유리가 특히 바람직하다. 초박판 유리는 두께가 0.02 내지 1.3 ㎜이다. 0.03 mm, 0.05　mm, 0.07　mm, 0.1　mm, 0.145　mm, 0.175　mm, 0.21　mm, 0.3　mm, 0.4　mm, 0.55　mm, 0.7　mm, 0.9　mm, 1.1　mm, 1.2　mm 또는 1.3　mm의 두께가 바람직하다.
디스플레이용 커버 스크린에 대해 의도되는 응용의 경우에, 예를 들면, 1 ㎡ 초과의 면적과 같은, 보다 확장된 영역에 대한 터치 패널 또는 터치스크린으로서, 두께가 3 내지 6 ㎜인 지지체 물질을 사용함으로써, 디스플레이의 기계적 보호 기능의 일부를 취하는 것이 바람직하다.
지지체 물질은 단일 시트 또는 복합 시트일 수 있다. 복합 시트는, 예를 들면, PVB 필름에 의해 결합된 제1 및 제2 시트를 포함한다. 복합 시트의 외부로 향하는 표면 중, 하나 이상의 표면은 본 발명의 접착촉진제 층이 제공된다. 예를 들면, 디스플레이의 편광판에 직접 라미네이션의 응용이 특히 바람직하다.
지지체 물질 표면은 양호한 촉각 특성의 요건에 부합되기 위하여 필요한 표면 특성에 따라, 예를 들면, 에칭에 의해서와 같이, 연마하거나 또는 그 밖에 텍스쳐화할 수 있었다.
추가로 적절한 지지체 물질은 부분적으로 또는 완전히 거울 같은(mirrored) 표면이다. 이 경우에, 장기간 안정성을 갖는 세정 용이성 또는 지문방지 코팅의 효과는 특별한 정도로 확대된다.
더욱이, 지지체 물질의 표면은 또한 내스크래치성 코팅(예: 실리콘 니트리트 코팅)을 가질 수 있다.
더욱이, 지지체 물질, 보다 특히 지지체 물질의 표면은 또한, 예를 들면, 정전용량 기준으로 작동하는 터치스크린의 경우에서와 같이, 다양한 응용에 유용한 종류의 전기전도성 코팅을 가질 수 있다. 상기 코팅물은 특히 하나 이상의 금속 산화물, 예를 들면, ZnO:Al, ZnO:B, ZnO:Ga, ZnO:F, SnOx:F, SnOx:Sb, 및 ITO(In2O3:SnO2)를 갖는 코팅물이다. 그러나, 하나 이상의 박판 금속 층이, 예를 들면, 알루미늄, 은, 금, 닉켈 또는 크롬과 같은, 지지체 물질 위에 전도성 코팅물로서 또한 도포될 수 있다.
본 발명은 또한 세정 용이성 코팅물로 코팅하기 위한 기판의 제조 방법을 제공한다. 이러한 종류의 방법은 다음 단계를 포함한다: 무엇보다도, 보다 특히 유리 또는 유리-세라믹으로 구성된 지지체 물질이 제공된다. 그러나, 금속, 플라스틱 또는, 코팅 공정의 요건에 부합되는 임의 물질을 또한 제공할 수 있다. 코팅할 면들의 표면을 세정한다. 액체에 의한 세정은 유리 기판과 관련된 널리 퍼진 방법이다. 예를 들면, 탈염수 또는 수성 시스템(예: 희석 알칼리(pH > 9) 및 산), 세제 용액 또는 비수성 용매(예: 알콜 또는 케톤)와 같은 다양한 세정 액체가 여기에 사용된다.
본 발명의 추가 양태에 있어서, 지지체 물질은 또한 코팅 전에 활성화시킬 수 있다. 이러한 종류의 활성화 방법은 산화, 코로나 방전, 불꽃 처리, UV 처리, 플라즈마 활성화 및/또는 기계적 방법(예: 조도화, 샌드블라스팅, 및 또한 산 및/또는 알칼리에 의한 활성화를 위한 기판 표면의 플라즈마 처리 또는 그 밖의 처리)을 포함한다.
접착촉진제 층은 플레임 열분해 또는 졸-겔 공정에 의한, 물리적 또는 화학적 증착 방법에 의해 도포된다. 여기서 마찬가지로 반사방지 코팅물 및 접착촉진제 층을 위한 응용 방법을 서로 조합할 수 있다. 예를 들면, 반사방지 코팅물은 스퍼터링에 의해, 그리고 접착촉진제 층은 졸-겔 공정에 의해 도포할 수 있다. 후자의 경우에, 접착촉진제 층은 침지, 증기 코팅, 분무, 프린팅, 로울러 응용, 와이핑 공정(wiping process), 스프레딩 공정(spreading process) 또는 로울링 공정 및/또는 나이프코팅 공정(knifecoating process)으로, 또는 다른 적합한 방법에 의해 표면에 도포할 수 있다. 침지 및 분무가 바람직하다.
바람직한 졸-겔 공정은 층을 형성하기 위하여 용해된 상태에서 금속-유기 출발 물질의 반응을 이용한다. 금속-유기 출발 물질의 조절된 가수분해 및 축합 반응의 결과로서, 금속 산화물 네크워크 구조, 즉 금속 원자가 반응 생성물(예: 알콜 및 물)의 제거와 연계되어, 산소 원자에 의해 서로에 결합된 구조를 형성한다. 여기서 가수분해 반응은 촉매의 첨가에 의해 가속화시킬 수 있다.
한 바람직한 양태로, 졸-겔 코팅 도중 지지체 물질은 약 200 내지 약 900 ㎜/분, 바람직하게는 약 300 ㎜/분의 드로윙 속도로 용액으로부터 회수되며, 대기의 수분 함량은 약 4 내지 약 12 g/㎥, 보다 바람직하게는 약 8 g/㎥이다.
졸-겔 코팅액을 연장된 기간 동안 저장하거나 그밖에 이용한다면, 하나 이상의 착화제를 가하여 용액을 안정화시키는 것이 유용하다. 이들 착화제는 침지액에 가용성이어야 하고, 유용하게 침지액의 용매에 관련되어야 한다. 동시에 착화합물-형성 특성을 갖는 유기 용매, 예를 들면, 메틸 아세테이트, 에틸 아세테이트, 아세틸아세톤, 에틸 아세토아세테이트, 에틸 메틸 케톤, 아세톤 및 유사한 화합물이 바람직하게 제공된다. 이들 안정화제는 1 내지 1.5 ㎖/l의 양으로 용액에 가한다.
기판 부재(11)의 제조를 위해 예를 들어 도 1에 상응하는 한 바람직한 형태에 있어서, 이러한 종류의 접착촉진제 층(3)은 졸-겔 원칙에 따라 침지 코팅에 의해 도포한다. 이 경우에, 제조된 세척 지지체 물질(2), 예를 들어 유리 시트의 하나 이상의 표면(20) 상에 접착촉진제 층(3)으로서 규소 혼합 산화물 층의 제조를 위해, 상기 지지체 물질은 규소의 가수분해성 화합물을 함유하는 유기 용액으로 침지시킨다. 그 후 지지체 물질은 균일한 속도로 습기-포함 대기로 이 용액으로부터 회수한다. 형성된 규소 혼합 산화물 접착촉진제 전구체 층의 층 두께는 침지액 중 규소 출발 화합물의 농도에 의해 및 드로윙 속도에 의해 결정한다. 층은 고온 오븐으로 전달시 더 높은 기계적 강도를 성취하기 위하여 응용 후 건조시킬 수 있다. 이러한 건조는 광범위한 온도 범위에서 일어날 수 있다. 그것은 통상 200 ℃의 영역인 온도에서 수 분의 건조 시간을 요한다. 보다 낮은 온도는 더 긴 건조 시간을 야기한다. 고온 오븐에서 층의 응용으로부터 열적 고정의 공정 단계까지 또한 바로 진행할 수 있다. 그 경우에 건조 단계는 코팅물의 기계적 안정화를 위해 작용한다. 도포된 겔 필름으로부터 실질적으로 산화 접착촉진제 층의 형성은 고온 단계에서 일어나며, 이 과정에서 겔의 유기 구성성분은 다 타버리게 된다. 이때 이어서, 접착촉진제 층으로서 실제 규소 혼합 산화물 층 또는 혼합 산화물 층을 제조하기 위하여, 접착촉진제 전구체 층은 지지체 물질의 연화 온도 미만인 온도에서, 바람직하게는 550℃ 미만, 보다 특히는 350 내지 500℃의 온도에서, 매우 바람직하게는 400 내지 500℃ 기판 표면 온도에서 베이킹한다. 유리 기재의 연화 온도에 따라, 550℃보다 높은 온도가 또한 사용될 수 있다. 그러나, 상기 온도는 접착 강도의 추가 증가에 기여하지 못한다.
유기 용액으로부터 얇은 산화물 층의 제조는 여러 해 동안 잘 알려져 왔다 - 이와 관련하여, 참조, 예를 들면, B.H.　Schroder, Physics of Thin Films 5, Academic Press New York and London(1967, pages 87 - 141) 또는 그 밖의 US-PS　4,568,578.
졸-겔 층이 제조되는 무기 졸-겔 물질은 바람직하게는 보다 특히 하나 이상의 가수분해성 및 축합 가능하거나 축합된 실란 및/또는 바람직하게는 Si, Ti, Zr, Al, Nb, Hf 및/또는 Ge의 금속 알콕시드를 포함하는 축합물이다. 바람직하게, 무기 가수분해 및/또는 축합에 의해 졸-겔 공정에서 가교결합된 그룹은, 예를 들면, 하기의 작용성 그룹일 수 있다: TiR4, ZrR4, SiR4, AlR3, TiR3(OR), TiR2(OR)2, ZrR2(OR)2, ZrR3(OR), SiR3(OR), SiR2(OR)2, TiR(OR)3, ZrR(OR)3, AlR2(OR), AlR1(OR)2, Ti(OR)4, Zr(OR)4, Al(OR)3, Si(OR)4, SiR(OR)3 및/또는 Si2(OR)6, 및/또는 하기 물질 또는 OR을 갖는 물질 그룹 중 하나: 알콕시, 예를 들면, 바람직하게는, 메톡시, 에톡시, n-프로폭시, 이소프로폭시, 부톡시, 이소프로폭시에톡시, 메톡시프로폭시, 펜옥시, 아세톡시, 프로피오닐옥시, 에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민, 메타크릴로일옥시프로필, 아크릴레이트, 메타크릴레이트, 아세틸아세톤, 에틸 아세토아세테이트, 에톡시아세테이트, 메톡시아세테이트, 메톡시에톡시아세테이트 및/또는 메톡시에톡시에톡시아세테이트, 및/또는 하기의 물질 또는 R을 갖는 물질 그룹 중 하나: Cl, Br, F, 메틸, 에틸, 페닐, n-프로필, 부틸, 알릴, 비닐, 글리시딜프로필, 메타크릴로일옥시프로필, 아미노프로필 및/또는 플루오르옥틸.
모든 졸-겔 반응의 통상적인 특징은 분자 분산 전구체가 먼저 가수분해, 축합 및 중합 반응을 수행하여 특히 분산 또는 콜로이드 시스템을 형성한다는 것이다. 선택된 조건에 따라, 먼저 형성된 "1차 입자(primary particles)"는 더 성장하거나, 클러스터(cluster)를 형성하기 위하여 응집되거나, 보다 직쇄를 형성할 수 있다. 생성된 단위는 용매의 제거로 인하여 발생되는 마이크로구조를 야기한다. 이상적인 경우에, 물질은 열적으로 완전히 치밀화시킬 수 있지만, 실제로 종종 어느 정도로 - 어떤 경우에, 상당한 정도로 - 잔류 다공성이 남아있다. 따라서, 졸 제조 도중 화학적 조건은 문헌(P.　Lmann, "Sol-Gel-Beschichtungen", Fortbildungskurs 2003 "Oberflaen Veredelung von Glas" Huttentechnische Vereinigung der deutschen Glasindustrie)에 기술된 바와 같이 졸-겔 코팅의 특성에 중요한 영향을 준다.
Si 출발 물질은 지금까지 매우 잘 연구되어 왔다; 이와 관련하여, 참조: C.　Brinker, G.　Scherer, "Sol-Gel-Science - The Physics and Chemistry of Sol-Gel Processing(Academic Press, Boston 1990), R. Iller, The Chemistry of Silica(Wiley, New York, 1979). 가장 많이 사용된 Si 출발 물질은 화학식 Si(OR)4의 실리콘 알콕시드로, 이것은 물의 부가시 가수분해된다. 산성 조건하에, 선형 조립체가 우선적으로 형성된다. 염기성 조건하에, 실리콘 알콕시드는 보다 상당히 가교결합된 "구상(globular)" 입자를 형성하기 위하여 반응한다. 졸-겔 코팅은 미리 농축시킨 입자 및 클러스터를 함유한다.
산화규소 침지액의 제조를 위해, 통상 사용되는 출발 물질은 테트라에틸 실리케이트 또는 메틸 실리케이트이다. 이 실리케이트는 언급된 순서로 유기 용매(예: 에탄올)와, 가수분해수와, 및 촉매로서 산과 혼합하고, 성분들은 철저히 혼합한다. 가수분해수는 바람직하게는 무기산(예: HNO3, HCl 또는 H2SO4) 또는 유기산[예: 아세트산, 에톡시 아세트산, 메톡시 아세트산, 폴리에테르카르복실산(예: 에톡시에톡시아세트산), 시트르산, 파라-톨루엔설폰산, 락트산, 메타크릴산 또는 아크릴산]과 혼합한다. 한 특별한 양태에 있어서, 가수분해는, 예를 들면, NH4OH 및/또는 테트라메틸암모늄 히드록시드 및/또는 NaOH의 사용과 함께 알칼리성 범위에서 전체적으로 또는 부분적으로 수행한다.
본 발명의 기판을 위한 접착촉진제 층을 제조하기 위하여, 침지액은 다음과 같이 제조한다: 규소 출발 화합물을 유기 용매에 용해시킨다. 사용된 용매는 규소 출발 화합물을 용해하고, 규소 출발 화합물의 가수분해에 필요한 충분한 양의 물을 또한 용해시킬 수 있는 모든 유기 용매일 수 있다. 적합한 용매는, 예를 들면, 톨루엔, 시클로헥산 또는 아세톤이되, 특히 C1-C6 알콜이고, 그 예는 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 펜탄올, 헥산올 또는 이의 이성체이다. 저급 알콜, 특히 메탄올 및 에탄올을 사용하는 것이 통상적인데, 이는 그들이 다루기 쉽고, 비교적 낮은 증기압을 갖기 때문이다.
사용된 규소 출발 화합물은 특히 규산의 C1-C4 알킬 에스테르, 즉 메틸 실리케이트, 에틸 실리케이트, 프로필 실리케이트 또는 부틸 실리케이트이다. 메틸 실리케이트가 바람직하다.
유기 용매 중 규소 출발 화합물의 농도는 통상 약 0.05 내지 1 mol/liter이다. 규소 출발 화합물의 가수분해를 위해, 이 용액은 0.05 내지 12중량%의 물, 바람직하게는 증류수 및 0.01 내지 7중량%의 산성 촉매와 혼합한다. 여기에 바람직하게는 유기산[예: 아세트산, 에톡시 아세트산, 메톡시 아세트산, 폴리에테르카르복실산(예: 에톡시에톡시아세트산), 시트르산, 파라-톨루엔설폰산, 락트산, 메타크릴산 또는 아크릴산] 또는 무기산(예: 예: HNO3, HCl 또는 H2SO4)을 가한다.
용액의 pH 값은 대략 pH 0.5 내지 3이어야 한다. 용액이 충분히 산성이 아니면(pH > 3), 더 커지게 되는 중축합/클러스터의 위험이 존재한다. 용액이 너무 산성이면, 용액의 겔화가 위험으로 존재한다.
추가의 양태에 있어서, 용액은 2단계로 제조할 수 있다. 제1 단계는 상기 기술한 바와 같이 일어난다. 그 다음에, 이 용액은 방치(숙성)시킨다. 숙성 시간은 숙성된 용액을 추가의 용매로 희석하고, 용액의 pH를 강산성 범위로 이동시킴으로써 숙성을 멈추게 하여 성취한다. 1.5 내지 2.5의 pH 범위로 이동이 바람직하다. 강산성 범위로 pH의 이동은 바람직하게는 무기산의 부가에 의해, 보다 특히는 염산, 질산, 황산 또는 인산이나, 그 밖의 유기산(예: 옥살산) 등의 부가에 의해 성취한다. 강산은 바람직하게는 유기 용매에, 보다 특히는 규소 출발 화합물이 또한 용해되는 용매로 가한다. 또한 여기서 출발 용액의 희석 및 정지가 1단계로 일어나도록, 충분한 양의 용매에, 보다 특히는 다시 알콜성 용액에 산을 가할 수 있다.
한 특별한 양태에 있어서, 가수분해는, 예를 들면, NH4OH 및/또는 테트라메틸암모늄 히드록시드 및/또는 NaOH의 사용과 함께 알칼리성 범위에서 전체적으로 또는 부분적으로 수행한다.
졸-겔 코팅은 다양한 구조를 가질 수 있는, 미리 축합된 입자 및 클러스터를 포함한다. 이들 구조는 실제로 산란 광 실험을 사용하여 검출할 수 있다. 작동 매개변수(예: 단 특히 pH 값을 통해, 온도, 계량 속도, 교반 속도)에 의해, 이들 구조는 졸로 제조될 수 있다. 직경이 20 ㎚ 이하, 바람직하게는 4 ㎚ 이하 및 보다 바람직하게는 1 내지 2 ㎚의 범위인 작은 산화규소 중축합물/클러스터를 사용하여, 통상적으로 산화규소 층보다 농축되게 충전된 침지 층을 제조할 수 있음이 밝혀졌다. 심지어 이것은 화학적 안정성의 개선을 유도한다.
화학적 안정성 및 접착촉진제 층 기능에 있어서의 추가 개선은 용액에 균질하게 분산되고, 혼합 산화물을 형성하는 이후 층에서 또한 분산되는 소량의 혼화제로 용액을 처리함으로써 성취된다. 적합한 혼화제는 임으로 주석, 알루미늄, 인, 붕소, 세륨, 지르코늄, 티탄, 세슘, 바륨, 스트론튬, 니오븀 또는 마그네슘의 결정수와의 가수분해 가능하거나 해리되는 무기 염, 예를 들면, SnCl4, SnCl2, AlCl3, Al(NO3)3, Mg(NO3)2, MgCl2, MgSO4, TiCl4, ZrCl4, CeCl3, Ce(NO3)3 등이다. 이들 무기 염은 수화 형태로 및 결정수와 함께 모두 사용될 수 있다. 그들은 일반적으로 그들의 낮은 비용 때문에 바람직하다.
본 발명에 따르는 추가의 양태에 있어서, 사용된 혼화제는 주석, 알루미늄, 인, 붕소, 세륨, 지르코늄, 티탄, 세슘, 바륨, 스트론튬, 니오븀 또는 마그네슘, 바람직하게는 티탄, 지르코늄, 알루미늄 또는 니오븀의 금속 알콕시드 중 하나 이상일 수 있다. 또한, 인산 에스테르(예: 메틸 포스페이트 또는 에틸 포스페이트), 인 할리이드(예: 클로라이드 및 브로마이드), 붕산 에스테르(예: 에틸, 메틸, 부틸 또는 프로필 에스테르), 붕산 무수물, BBr3, BCl3, 마그네슘 메톡시드 또는 에톡시드 등이 적합하다.
이들 하나 이상의 혼화제는, 예를 들면, SiO'로서 계산된 용액의 규소 함량을 기준으로 하여, 산화물로서 계산된, 약 0.5 내지 20중량%의 농도로 부가된다.
혼화제는 각 경우에 서로 임의의 원하는 조합으로 또한 사용될 수 있다.
침지액을 연장된 기간에 걸쳐 저장하거나 또는 그 밖에 사용한다면, 용액은 하나 이상의 착화제를 가하여 안정화되었는 지가 유용할 수 있다. 이들 착화제는 침지액에 가용성이어야 하고, 유용하게 침지액의 용매에 관련되어야 한다.
사용될 수 있는 착화제는, 예를 들면, 에틸 아세토아세테이트, 2,4-펜탄디온(아세틸아세톤), 3,5-헵탄디온, 4,6-노난디온 또는 3-메틸-2,4-펜탄디온, 2-메틸아세틸아세톤, 트리에탄올아민, 디에탄올아민, 에탄올아민, 1,3-프로판디올, 1,5-펜탄디올, 카르복실산(예: 아세트산, 프로피온산, 에톡시 아세트산, 메톡시 아세트산), 폴리에테르카르복실산(예: 에톡시에톡시 아세트산), 시트르산, 락트산, 메틸아크릴산 및 아크릴산을 포함한다. 반금속 산화물 전구체 및/또는 금속 산화물 전구체에 대한 착화제의 몰 비는 0.1 내지 5이다.
실시예:
완성된 층은 다음과 같이 제조했다: 10 x 20 ㎝ 포맷인, 세척 작업으로 용의주도하게 세정한 플로트 유리 시트를 각각의 침지액에 침지시켰다. 그 다음에, 시트를 6 ㎜/sec의 속도로 다시 회수했고, 주위 대기의 수분 함량은 4 내지 12 g/㎥, 바람직하게는 8 g/㎥이다. 용매는 이어서 90 내지 100℃에서 증발시킨 다음, 층을 20분 동안 450℃의 온도에서 베이킹했다. 이 방법으로 제조된 층의 두께는 약 90 ㎚였다.
실시예 용액의 제조:
1st 침지액
에탄올 125 ml를 도입시킨다. 교반하에 여기에 메틸 실리케이트 45 ml, 증류수 48 ml 및 빙초산 6 ml를 가한다. 물 및 아세트산의 부가에 이어서, 용액을 4시간 동안 교반하고, 이 동안 온도는 40℃를 초과하지 않아야 한다. 용액을 냉각시키는 것이 필요할 수 있다. 이어서 반응 용액은 에탄올 675 ml로 희석하고, HCl 1 ml와 혼합한다. 그 다음에, 이 용액에 에탄올 95 ml 및 아세틸아세톤 5 ml의 용액 중 SnCl4 x 6 H2O 10 g을 가한다.
2nd 침지액
에탄올 125 ml를 도입시킨다. 교반하에 여기에 메틸 실리케이트 45 ml, 증류수 48 ml 및 37% 농도의 HCl 1.7 g을 가한다. 물 및 염산의 부가에 이어서, 용액을 10분 동안 교반하고, 이 동안 온도는 40℃를 초과하지 않아야 한다. 용액을 냉각시키는 것이 필요할 수 있다. 이어서 반응 용액은 에탄올 675 ml로 희석한다. 그 다음에, 이 용액에 에탄올 95 ml 및 아세틸아세톤 5 ml의 용액 중 SnCl4 x 6 H2O 10 g을 가한다.
3rd 침지액
교반하에 에탄올 125 ml에 테트라에틸 실리케이트 60.5 ml, 증류수 30 ml 및 1N 질산 11.5 g을 가한다. 물 및 질산의 부가에 이어서, 용액을 10분 동안 교반하고, 이 동안 온도는 40℃를 초과하지 않아야 한다. 용액을 냉각시키는 것이 필요할 수 있다. 이어서 용액은 에탄올 675 ml로 희석한다. 24시간 후에, 이 용액에 에탄올 95 ml 및 아세틸아세톤 5 ml의 용액 중 Al(NO3)3 x 9 H2O 10.9 g을 가한다.
4th 침지액
교반하에 에탄올 125 ml에 테트라에틸 실리케이트 60.5 ml, 증류수 30 ml 및 1N 질산 11.5 g을 가한다. 물 및 질산의 부가에 이어서, 용액을 10분 동안 교반하고, 이 동안 온도는 40℃를 초과하지 않아야 한다. 용액을 냉각시키는 것이 필요할 수 있다. 이어서 용액은 에탄올 675 ml로 희석한다. 이 용액에 에탄올 95 ml 및 에틸 아세테이트 4 g의 용액 중 테트라부틸 오르토티타네이트 9.9 g을 가한다.
추가의 바람직한 양태에 있어서, 규소 혼합 산화물의 용액을 지지체 기판에 도포하고, 열적 프리스트레싱 작업의 과정으로 열적으로 고정시킨다. 졸-겔 층의 열적 고정화는 계 내에서(in situ) 일어나고, 500℃보다 높은 기판 표면 온도에서 기판을 후속적으로 열적 프리스트레싱시킨다. 이는 매우 비용-효과적인 제조방법을 수반하는데, 이는 접착촉진제 층의 프리스트레싱 및 열적 고정이 한 작업으로 일어나기 때문이다. 여기서 오븐 온도는 온도-시간 곡선에 따라, 약 650℃이다. 온도 처리는 쇽 냉각(shock cooling)에 의해 이어진다.
상기 언급한 해결책에 의해, 접착촉진제 층으로서 화학적으로 및 기계적으로 안정한 혼합 산화물 층이 수득되고, 알루미늄-규소 혼합 산화물 층을 형성하기 위한 혼합물의 경우에, 혼합 산화물에서 규소에 대한 알루미늄의 몰 비는 약 3 내지 약 30%, 바람직하게는 약 5 내지 약 20%, 보다 바람직하게는 약 7 내지 약 12%이다.
본 발명의 추가 양태에 있어서, 예를 들어 도 1에 상응하는 실시예에 추가로, 도 2에 의해 도시된 기판 부재(12)의 제조를 위해, 외부층(4)이 미립자 또는 다공성 층의 형태로 접촉촉진제 층(3)에 도포된다. 이는 보다 특히는 플레임 열분해에 의한, 열코팅 공정, 냉-기체 분무 또는 스퍼터링에 의한 코팅에 의해 일어나며, 외부층(4)은 바람직하게는 산화규소로 이루어진다. 이 외부층은 또한 규소 혼합 산화물로 이루어질 수 있다. 적절한 혼합물의 한 예는 원소 알루미늄, 주석, 마그네슘, 인, 세륨, 지르코늄, 티탄, 세슘, 바륨, 스트론튬, 니오븀, 아연, 붕소 중 하나 이상의 산화물, 또는 마그네슘 플루오라이드이다.
외부층(4)의 충분한 개방 다공성으로 인하여, 세정 용이성 층의 응용시, 기판 부재(12)를 사용하는 경우에, 거기에 세정 용이성 코팅물과 접착촉진제 층의 분자 사이에 상호작용이 존재하여, 세정 용이성 코팅물의 보다 큰 장기간 안정성을 보장할 수 있다.
본 발명은 또한 세정 용이성 코팅물로, 보다 특히는 유기불소 화합물로 코팅하기 위한 본 발명의 기판 부재의 용도를 제공한다. 상기 기판 부재는 보다 특히 유리 또는 유리-세라믹의 지지체 플레이트 및 혼합 산화물, 바람직하게는 규소 혼합 산화물, 보다 바람직하게는 원소 알루미늄, 주석, 마그네슘, 인, 세륨, 지르코늄, 티탄, 세슘, 바륨, 스트론튬, 니오븀, 아연, 붕소 중 하나 이상의 산화물, 또는 마그네슘 플루오라이드와 혼합된 산화규소를 포함하는 접착촉진제 층을 포함하며, 바람직하게는 원소 알루미늄의 하나 이상의 산화물이 포함된다.
세정 용이성 코팅물로 코팅하기 위한 본 발명의 기판 부재의 용도 양태에 있어서, 외부층은 접착촉진제 층 위에 배치된다. 이 외부층은 보다 특히는 산화규소의 미립자 또는 다공성 층이고, 산화규소는 또한 규소 혼합 산화물일 수 있다.
이런 종류의 본 발명의 기판은 세정 용이성 코팅물로 코팅하기 위한 용도가 발견되었다. 이러한 세정 용이성 코팅물은 보다 특히 지문방지 코팅 또는 스틱방지 코팅일 수 있다. 스틱방지 코팅의 경우에, 층은 매우 매끄러운 효과를 가지며, 그래서 기계적 표면 보호가 성취된다. 하기에 통상 언급되는 층은 세정 용이성, 스틱방지, 지문방지, 안티글래어 또는 매끄러운 표면의 범위로부터의 둘 이상의 특성을 갖는다. 각각의 생성물은 한 영역에서 더 적합하므로, 본 발명의 기판 부재와 관련하여 세정 용이성 코팅물의 정확한 형태의 선택을 통해, 특별한 장기간 내구성을 갖는 최적화된 세정 용이성 특성을 갖는 생성물이 수득될 수 있다.
세정 용이성 코팅물은 시장에서 다양하게 이용가능하다. 특히, 예를 들면, DE 198 48 591에 기술된 바와 같은 유기불소 화합물이 있다. 공지된 세정 용이성 코팅물은 명칭 "Fluorolink® PFPE", 예를 들면, "Fluorolink® S10"(제조원: Solvay Solexis) 또는 그 밖의 "OptoolTM DSX" 또는 "OptoolTM AES4-E"(제조원: Daikin Industries Ltd), "Hymocer® EKG 6000N"(제조원: ETC Products GmbH) 하에 퍼플루오로폴리에테르를 기본으로 하는 생성물, 또는 명칭 "FSD", 예를 들면, "FSD 2500" 또는 "FSD 4500"(제조원: Cytonix LLC) 또는 Easy Clean Coating "ECC" 생성물, 예를 들면, "ECC 3000" 또는 "ECC 4000"(제조원: 3M Deutschland GmbH) 하에 플루오로실란이다. 이들은 액체 형태로 도포되는 층이다. 예를 들면, 물리적 증착에 의해 도포되는, 나노 층 시스템의 형태인 지문방지 코팅물은, 예를 들면, 명칭 "DURALON UltraTec"(제조원: Cotec GmbH) 하에 이용가능하다.
본 발명의 지속에 있어서, 생성물로 코팅된 기판은 본 발명의 기판 부재에 도포하는 경우에 보다 우수한 특성, 특히 장기간 특성을 갖는다. 하기의 실시예는 이를 설명하고자 하는 것이다. 코팅물의 응용에 이어서, 시험 기판은 하기 시험에 적용시킴으로써 특성화하였다:
1. DIN EN 1096-2:2001-05에 대한 중성 염 분무(Neutral salt spray) 시험(NSS 시험)
특별히 챌린징하는 시험은 중성 염 분무 시험으로서 나타났고, 여기서 코팅된 유리 샘플은 일정한 온도에서 21일 동안 중성 염수 대기에 노출시킨다. 염수 분무 미스트의 효과는 코팅에 스트레스 주는 것이다. 유리 샘플은 그들이 수직으로 15 ± 5°의 각도를 형성하도록 샘플 홀더에 세운다. 중성 염액은 순수한 NaCl을 탈이온수에 용해시켜(25 ± 2)℃에서(50 ± 5) g/l의 농도를 제공함으로써 제조한다. 염액은 적절한 노즐을 통해 분무하여 염 분무 미스트를 생성하도록 한다. 시험 챔버에서 작업 온도는 35 ± 2℃여야 한다.
물과의 접촉각은 소수성 특성의 안정성을 특성화하기 위하여 시험 전 및 또한, 168시간, 336시간 및 504시간의 시험 시간 후 측정한다. 접촉각이 60°미만으로 떨어지면, 시험을 중단했는데, 이는 이것이 소수성 특성의 손실과 상관관계가 있기 때문이다.
2. 접촉각 측정
접촉각 측정은 PCA100 기구를 사용하여 수행했는데, 이는 상이한 액체와의 접촉각 및 표면 에너지의 측정을 허용한다.
측정 범위는 접촉각의 경우 10 내지 150°이고, 표면 에너지의 경우는 1 x 10-2 내지 2 x 103 mN/m이다. 표면의 특성(세정도, 표면 균일성)에 따라, 접촉각은 1°의 정확도로 측정할 수 있다. 표면 에너지의 정확도는 개별 접촉각이 오웬스-벤트-카엘블레(Owens-Wendt-Kaelble)의 방법에 의해 계산된 회귀 플롯 위에 위치하는 정밀도에 따라 좌우되고, 회귀값으로서 리포트에 포함된다.
임의 크기의 샘플을 측정할 수 있는데, 이는 기구가 휴대용이고, 측정을 목적으로 큰 시트 위에 놓을 수 있기 때문이다. 샘플은 최소한 샘플의 엣지로 고생하지 않으면서, 액적이 도포될 수 있도록 하기에 충분히 커야한다. 프로그램은 상이한 액적법(droplet method)으로 작업할 수 있다. 이 경우에, 고착 액적법(sessile drop method)이 이용되며, 타원 근사법(ellipse fitting method)을 사용하여 평가한다.
측정 전에, 샘플 표면은 에탄올로 세정한다. 그 다음에, 샘플을 배치하고, 측정 액체는 액적 형태로 도포하며, 접촉각을 측정한다. 표면 에너지(극성 및 분산 성분)는 오웬스-벤트-카엘블레 방법에 의해 채택된 회귀선으로부터 측정한다.
장기간 내구성의 측정치를 수득하기 위하여, 접촉각 측정은 장기-지속 NSS 시험 후에 수행한다.
여기 보고된 측정 결과에 대해, 사용된 측정 액체는 탈이온수였다. 측정 결과의 오차 허용은 ± 4°이다.
3. 지문 시험
지문 시험이 기판 표면에 대한 지문의 재생 응용을 위해, 그리고 청정도(cleanability)를 평가하기 위하여 사용된다.
시험은 상응하는 샘플 표면 위에 지문의 세기를 나타낸다. 스탬프를 사용하여, 모방, 재생 가능한 지문을 도포하여 지문 마킹에 대한 기판 표면의 감수성(susceptability)을 평가한다. 내용매성 물질로부터 제조된 스탬프 판을 갖는, 스탬프는 기재 면적이 3.5 x 3.9 ㎠이고, 동심 환의 구조를 갖는데, 라인 간격은 약 1.2 ㎜이고, 라인 깊이는 약 0.5 ㎜이다. 하기의 3개 시험 매질이 스탬프 영역에 도포된다:
프린트 매질로서, DIN ISO 105-E04에 따라 인공 알칼리성 발한 50 g, 액체 파라핀 2 g, 레시틴(Fluidlecithin Super, from Brennnessel, Munich) 1.5 g 및 겔-형성제(PNC400, from Brennnessel, Munich) 0.3　g으로부터 제조된, BMW 시험 사양 506에 대한 손의 발한 용액이 이용되었다.
시험 매질을 도포하기 위하여, 펠트를 페트리 디시에 매질로 함침시키고, 스탬프를 1 ㎏의 중량으로 함침된 펠트 위로 누른다. 이어서, 스탬프는 찍어낼 기판 영역 위로 3 ㎏으로 누른다. 시험 시작 전에, 기판 표면은 먼지 및 그리스(grease)가 없어야 하고, 건조해야 한다. 개별 환의 형태인 함몰부로서 스탬프 상은 이어서 얼룩져서는 안 된다. 적어도 3개의 지문을 찍는다. 평가 전에, 지문은 약 12시간 동안 건조시킨다. 프린트의 평가시, 얼마나 많은 프린트 매질이 샘플 표면에 남는 지 및 2차원으로 얼마나 퍼질 수 있는 지를 확인해야 한다. 이를 위해, 프린트는 카메라 측정 지점에서 환상형 고리 조명을 갖는 KL 1500LCD 콜드-라이트(cold-light) 램프(제조원: Schott)로 비추고, 사진을 찍어, NI 비젼 영상 분석 소프트웨어를 갖는 영상 분석을 사용하여 처리한다. 프린트는 영상 분석을 할 수 있도록 오로지 광택 없이 기록한다. 지문에 의해 산란된 빛, 산란광의 세기 값으로 측정하고, 스캐터의 평균 및 너비를 계산한다. 스캐터의 너비는 0.065 이하여야 한다.
제조 시험편 실시예 샘플 1 - 도 1에 상응하는 본 발명의 기판 부재
침지액을 제조하기 위하여, 테트라에틸 실리케이트 60.5 ml, 증류수 30 ml 및 1N 질산 11.5 g을 교반하에 에탄올 125 ml에 가한다. 물 및 질산의 부가에 이어서, 용액을 10분 동안 교반하고, 이 동안 온도는 40℃를 초과하지 않아야 한다. 용액을 냉각시키는 것이 필요할 수 있다. 이어서 용액은 에탄올 675 ml로 희석한다. 24시간 후에, 이 용액에 에탄올 95 ml 및 아세틸아세톤 5 ml의 용액 중 Al(NO3)3 x 9 H2O 10.9 g을 가한다.
용의주도하게 세정한 10 x 20 cm 포맷의 보로실리케이트 플로트 유리 시트(2)를 침지액으로 침지시켰다. 시트를 6 ㎜/sec의 속도로 다시 회수했으며, 주위 대기의 수분 함량은 5 내지 12 g/㎥, 바람직하게는 8 g/㎥이다. 그 다음에, 용매를 90 내지 100℃에서 증발시켰고, 그 후 층은 20분 동안 450℃의 온도에서 베이킹하였다. 이 방법으로 제조된 접촉촉진제 층의 두께는 약 90 ㎚이다.
제조 시험편 실시예 샘플 2 - 비교용 샘플
비교를 위해, 통상적인 규소 코팅물이 졸-겔 침지법에 의한 접촉촉진제 층으로서, 선행 기술에 따라 사용되었다.
침지액을 제조하기 위하여, 에탄올 125 ml를 먼저 도입시킨다. 여기에 교반하에 메틸 실리케이트 45 ml, 증류수 40 ml 및 빙초산 5 ml를 가한다. 물 및 아세트산의 부가에 이어서, 용액을 4시간 동안 교반하고, 이 동안 온도는 40℃를 초과하지 않아야 한다. 용액을 냉각시키는 것이 필요할 수 있다. 이어서 반응 용액은 에탄올 790 ml로 희석시키고, HCl 1 ml와 혼합한다.
용의주도하게 세정한 10 x 20 cm 포맷의 보로실리케이트 플로트 유리 시트(2)를 침지액으로 침지시켰다. 시트를 6 ㎜/sec의 속도로 다시 회수했으며, 주위 대기의 수분 함량은 5 내지 10 g/㎥, 바람직하게는 8 g/㎥이다. 그 다음에, 용매를 90 내지 100℃에서 증발시켰고, 그 후 층은 20분 동안 450℃의 온도에서 베이킹하였다. 이 방법으로 제조된 층의 두께는 약 90 ㎚이다.
생성 시편 실시예 샘플 3 - 비교 샘플:
접촉촉진제 층이 없는 보로실리케이트 플로트 유리의 세정 시트를 세정 용이성 코팅믈로 코팅을 위한 기판으로서 제조하였다.
이 방법으로 제조된 기판은 각각 하기의 세정 용이성 코팅물로 코팅하였다. 시험편 샘플 1의 본 발명의 기판은 명칭 샘플 1-1 내지 1-4를 포함하며; 비교용 기판은 명칭 샘플 2-1 내지 2-4 및 샘플 3-1 내지 3-4를 포함한다.
샘플 1-1, 2-1 및 3-1:
"OptoolTM AES4-E"(제조원: Daikin Industries Ltd.), 말단 실란 라디칼을 갖는 퍼플루오로에테르
샘플 1-2, 2-2 및 3-2:
"Fluorolink® S10"(제조원: Solvay Solexis), 2개의 말단 실란 라디칼을 갖는 퍼플루오로에테르
샘플 1-3, 2-3 및 3-3:
세정 용이성 코팅물로 코팅하기 위한 본 발명의 기판 부재의 시험을 위해, 전구체로서 Dynasylan® F　8261(제조원: Evonik)를 사용하는 명칭 "F5"를 갖는 자체개발(in-house) 코팅물 제형이 또한 사용되었다. 농축물은 Dynasylan® F　8261 전구체 5 g, 에탄올 10　g, H2O 2.5　g 및 HCl 0.24　g을 혼합하고, 2분 동안 교반하여 제조하였다. 농축물 3.5　g을 에탄올 500　ml와 혼합하여 코팅물 제형 F5를 수득하였다.
샘플 1-4 , 2-4 및 3-4:
"Duralon UltraTec"(제조원: Cotec GmbH, Frankenstrassse 19, 0-63791 Karlstein)
이러한 코팅 작업에서, 유리 기판은 진공 작업으로 처리한다. 각각의 접착촉진제 층으로 코팅된 유리 기판을 압축(underpressure) 용기로 도입시키고, 이는 이어서 낮은 진공으로 배기시킨다. 정제 형태(직경 14 ㎜, 높이 5 ㎜)로 결합된, "Duralon UltraTec"이 압축 용기에 위치한 증발기로 삽입된다. 이어서, 코팅 물질은 100 내지 400℃의 온도에서 이 증발기로부터 정제의 내용물로부터 증발시키고, 기판 위에 접착촉진제 층의 표면에 증착시킨다. 시간 및 온도 프로필은 "Duralon UltraTec" 물질 정제의 증발에 대해 Cotec GmbH가 지시한 방법으로 셋팅한다.
작업시, 기판은 300 내지 370K의 범위인, 다소 증가되는 온도를 수득한다.
시험 결과
샘플은 중성 염 분무 시험(NSS 시험) 및 일정 조건 시험(CC 시험) 전, 도중 및 후에 조사하였다. 샘플은 중성 염 분무 시험(NSS 시험) 전 및 도중에 수접촉각 및 지문 특성에 대해 측정하였다. 결과는 표 1 내지 3에 제시되어 있다.
중성 염 분무 시험(NSS 시험) 후 결과
명칭: 접착촉진제 층이 있는 샘플 1-X, 선행 기술 분야에 따라 산화규소 층을 갖는 샘플 2-X, 코팅물이 없는 샘플 3-X
명칭 코팅
(단일-면)		 기간
(h)		 공격 색상 변화
샘플 1-1 OptoolTM AES4-E 504　h 만족함,
공격없음		 경미함
샘플 2-1 OptoolTM AES4-E 168　h 후 만족스럽지 못함,
공격		 심함
샘플 3-1 OptoolTM AES4-E 168　h 후 만족스럽지 못함,
공격		 심함
샘플 1-2 Fluorolink® S10 504　h 만족함,
공격없음		 경미함
샘플 2-2 Fluorolink® S10 168　h 후 만족스럽지 못함,
공격		 심함
샘플 3-2 Fluorolink® S10 168　h 후 만족스럽지 못함,
공격		 심함
샘플 1-3 F5 504　h 만족함,
공격없음		 경미함
샘플 2-3 F5 168　h 후 만족스럽지 못함,
공격		 심함
샘플 3-3 F5 168　h 후 만족스럽지 못함,
공격		 심함
샘플 1-4 Duralon UltraTec 504　h 만족함,
공격없음		 경미함
샘플 2-4 Duralon UltraTec 168　h 후 만족스럽지 못함,
공격		 심함
샘플 3-4 Duralon UltraTec 168　h 후 만족스럽지 못함,
공격		 심함
시간의 함수로서 중성 염 분무 시험(NSS 시험) 전 및 과정 중 수접촉각 측정
명칭: 접착촉진제 층이 있는 샘플 1-X, 선행 기술 분야에 따라 산화규소 층을 갖는 샘플 2-X, 코팅물이 없는 샘플 3-X
명칭 코팅
(단일-면)		 접촉각 측정[°]
시험 전 168　h 후 336　h 후 504　h 후
샘플 1-1 OptoolTM AES4-E 102 95 93 90
샘플 2-1 OptoolTM AES4-E 100 58 - -
샘플 3-1 OptoolTM AES4-E 104 67 - -
샘플 1-2 Fluorolink® S10 102 100 97 98
샘플 2-2 Fluorolink® S10 103 56 - -
샘플 3-2 Fluorolink® S10 105 63 - -
샘플 1-3 F5 103 89 81 79
샘플 2-3 F5 103 59 - -
샘플 3-3 F5 101 51 - -
샘플 1-4 Duralon UltraTec 106 104 102 101
샘플 2-4 Duralon UltraTec 109 32 - -
샘플 3-4 Duralon UltraTec 104 45 - -
중성 염 분무 미스트에 의한 3주 노출 전 및 후 매질 7 손 발한 용액 BMW에 의한 지문 시험(NSS 시험) 후 결과
명칭: 접착촉진제 층이 있는 샘플 1-X, 선행 기술 분야에 따라 산화규소 층을 갖는 샘플 2-X, 코팅물이 없는 샘플 3-X
명칭 코팅
(단일-면)		 매질 7 손 발한 용액 BMW
시험 전 평가 영역에 대한 평균 세기 NSS 시험에서 405시간 노출 후 평가 영역에 대한 평균 세기
샘플 1-1 OptoolTM AES4-E 0.05 0.20
샘플 2-1 OptoolTM AES4-E 0.06 0.25
샘플 3-1 OtoolTM AES4-E 0.07 0.26
샘플 1-2 Fluorolink® S10 0.06 0.13
샘플 2-2 Fluorolink® S10 0.06 0.25
샘플 3-2 Fluorolink® S10 0.06 0.25
샘플 1-3 F5 0.06 0.17
샘플 2-3 F5 0.06 0.25
샘플 3-3 F5 0.06 0.23
샘플 1-5 Duralon Ultratec 0.08 0.06
샘플 2-5 Duralon Ultratec 0.05 0.09
샘플 3-5 Duralon UltraTec 0.07 0.10
세정 용이성 코팅물에 대한 기재로서 본 발명의 접착촉진제 층을 갖는 샘플은 심지어 504시간의 시험 시간 후에도 다소 경미한 색상 변화와 함께, 인식할 수 있는 공격을 나타내지 않는다(OK = 만족함). 대조적으로, 세정 용이성 코팅물에 대한 기재로서 선행 기술의 졸-겔 산화규소 코팅물은 단지 168시간의 시험 시간 후에 심한 색상 변화와 함께, 심한 공격을 나타낸다(not OK = 만족스럽지 못함). NSS 시험에서 ETC 층의 안정성은 본 발명의 기판에 대한 응용의 결과로서 가시적 공격 없이 21일을 초과하도록 연장될 수 있다.
이들 모든 경우에, 상이한 세정 용이성 코팅물에 대한 기재로서 기판 위에 본 발명의 접착촉진제 층은 그들의 장기간 안정성에 상당한 개선을 부여한다. 비교로, 접착촉진제 층이 없는 기판 위에 세정 용이성 코팅물은 NSS 시험에서 단지 168시간 후 모든 경우에 소수성 특성의 손실을 나타낸다. 높은 접촉각의 유지를 위해, 실제로 관련되는 세정 용이성 특성에 대해, 상기 각도는 80°를 초과해야 한다. 이는 노출 시험 후 특성의 유지를 측정하기 위한 양호한 척도로서 제시되었다. 광범위하게 알려진 시험으로서, NSS 시험은 이런 종류의 코팅물에 대한 중요한 시험 중 하나이다. 그것은 예를 들면, 지문과 접촉의 결과로서 발생되는 노출을 반영한다. 손가락 발한의 염 함량은 코팅 손상시 통상적인 영향을 주는 요인이다. 장기간 안정성은 중요한 특성으로 고려된다. 전반적으로, 안정성이 더 긴 낮은 지문방지 특성은 장기간 안정성이 결핍된 매우 양호한 지문방지 특성보다 더 양호하게 분류된다. NSS 시험은, 예를 들면, 터치 패널 및 터치스크린의 실제 터치 응용 및 외부 응용과 관련하여 상당한 관련성을 갖는다.
본 발명의 접착촉진제 층에 대한 세정 용이성 코팅물의 응용에 이어서, 세정 용이성 코팅물에 대한 수접촉각은 중성 염 분무 시험에서 3배 초과 더 긴 노출 후에, 중성 염 분무 시험에서 상응하게 더 짧은 노출을 갖는 접착촉진제 층이 없이 도포된 동일한 세정 용이성 코팅물의 경우보다 더 높다. 10% 이하의 장기간 NSS 시험에서 수접촉각의 강하에 있어서, 세정 용이성 코팅은 아직까지는 실질적으로 공격받지 않으며; 50°미만으로 수접촉각의 강하에 있어서, 세정 용이성 층은 더 이상 존재하지 않거나, 단지 강하게 손상된 형태로 존재하고, 그의 효과는 절충된다는 결론을 끌어낼 수 있다.
예를 들면, 깨끗한 유리 표면 상 또는 선행 기술에 따른 산화규소 코팅물 상의 다양한 세정 용이성 코팅물 모두에 대한 표 2의 측정 결과는 단지 7일 후 세정 용이성 또는 지문방지 특성의 실질적인 완전한 절충을 나타내는 반면에, 본 발명의 접착촉진제 층 위에 동일한 코팅물은 심지어 21일 후에도, 어떤 경우에 완전히, 그들의 활성을 보유했다.
결과로부터, 조사한 모든 유기불소 화합물의 경우, 접착촉진제 층을 갖는 본 발명의 기판 부재는 안정성의 상당한 연장을 일으킴이 명확하다.
이것에도 불구하고, 다양한 세정 용이성 시스템 사이에 자연스럽게 차이를 관찰할 수 있는데, 이는 접착촉진제 층 이외에, 세정 용이성 층의 기본 내성이 또한 안정성에 영향을 주기 때문이다. 그러나, 특별한 유기불소 화합물과 무관하게, 특히 세정 용이성 코팅물의 장기간 효과에 대한 상당한 개선을 일으키는 일관된 효과가 관찰된다. 이 효과는 세정 용이성 코팅물과 접착촉진제 층 사이에 상호작용을 통해 일어난다.
지문방지 시험 결과는 세정 용이성 코팅물에 대한 기재로서 본 발명의 기판 부재의 이점을 확인한다. 중성 염 분무 시험(NSS 시험)에서 17-일 노출 전 및 후에 접착촉진제 층이 있고, 없는 샘플에 대해, 표 3은 도포된 표준 지문의 산란된 빛의 세기 분석을 나타낸다. ETC 코팅물의 특성에 따라, 결과는 심지어 직접 코팅 후에도 지문방지 특성의 개선을 나타낸다. 그러나, 특히 결과는 NSS 시험에서 장기간 노출 후에 AFP 특성의 상당한 개선을 나타내며; 환언하면, ETC 코팅물의 AFP 효과는 접착촉진제 층 없는 통상적인 기판의 경우보다 코팅물에 대해 본 발명의 기판 부재를 사용하는 경우에 상당히 더 큰 장기간 안정성을 갖는다.
세정 용이성 코팅물로 코팅된 본 발명의 기판 부재는 보호 기능과 함께, 커버링으로서 사용된다. 이와 관련하여, 통상적인 커버링 및 보호 장치의 모든 기재 물질은 본 발명의 기판 부재를 위한 지지체 물질로서 사용될 수 있으며, 접착촉진제 층 및 세정 용이성 코팅물과 함께 반사방지 층을 제공할 수 있다.
세정 용이성 코팅물로 코팅된 본 발명의 기판 부재는 또한 터치 기능을 갖는 기판으로서 또한 사용된다. 시도된 지지체 물질은 금속, 플라스틱, 유리 또는 터치 기능과 함께 장착되는 복합체 물질과 같은 모든 적합한 물질을 포함한다. 여기서 압도적인 위치는 특히 터치스크린 기능을 갖는 디스플레이에 의해 차지된다. 여기서 특히 강조될 만한 것은 손가락 발한의 형태(예: 염 및 지방)인 마모 및 화학적 공격에 대한 장기간 안정성이다.
응용의 예는 임의로 라미네이션에 의해 삽입된 편광기와 함께, 에어 갭을 갖는 전면 스크린으로서 또는 디스플레이 스크린에 직접 결합되는 전면 스크린으로서 각 경우에 사용되는, 모니터 또는 디스플레이 전면 스크린의 디스플레이 스크린이다.
세정 용이성 코팅물로 코팅되는 본 발명의 기판 부재는 싱글-터치(single-touch), 듀얼 터치(dual-touch) 또는 멀티터치(multitouch) 디스플레이, 3D 디스플레이 또는 플렉서블(flexible) 디스플레이와 같은 터치스크린 기능이 있는 디스플레이 응용과 같이, 모든 종류의 디스플레이 응용에 사용될 수 있다.
세정 용이성 코팅물로 코팅된 본 발명의 기판 부재는 모든 종류의 대화식 입력 부재를 위한 기판으로서, 특히 터치 기능을 갖도록, 바람직하게는 저항, 정전용량, 광학적 또는 적외선 또는 표면 탄성파(surface acoustic wave) 터치 기술을 갖도록 구성된 것들로서 사용된다. 특히 적외선 또는 광학적 터치 기술과 같은 빛의 인커플링(incoupling)으로 작동하는 시스템은 먼지의 존재하에 민감하게 반응하여 접촉 표면에 침착되는데, 이는 여기서 침착이 바람직하지 않은 반사를 일으킬 수 있기 때문이다. 세정 용이성 코팅물로 코팅된 본 발명의 기판 부재의 사용은 여기서 특별한 이점을 갖는다.
장기간 안정한 ETC 또는 AFP 특성을 갖는 다른 응용은 내부 및 외부 건축용 스크린, 예를 들면, 디스플레이 윈도우, 그림, 샵 프론트(shop front), 키오스크, 냉장 가구의 창유리(glazing) 또는 세정하기 위해 접근이 어려운 창유리이다. 건축 분야에서, 높은 접착력, 내스크래치성 및 장기간 안정성뿐만 아니라, ETC 층의 UV 안정성이 또한 중요하다.
다른 응용은, 예를 들면, 오븐 프론트 플레이트, 특히 부엌, 침실 또는 실험실과 같이 오염의 위험이 비교적 높은 노출된 영역에서의 장식용 유리 부재, 또는 그 밖의 태양광 모듈 커버이다.
세정 용이성 코팅물로, 어떤 경우에는 또한 에칭된 지지체 물질 표면으로 코팅된 본 발명의 기판은 지문방지, 낙서방지 또는 안티글래어 특성을 갖는 유틸리티(utility) 표면으로서의 용도를 발견했다.
특히 유리의 반대에 프린팅을 갖거나 미러 코팅(mirror coating)을 갖는 장식용 부재는 특히 세정 용이성 코팅물로부터 이익을 갖는다. 예를 들면, 오븐 프론트 플레이트로서 또는 다른 부엌 설비에 사용되는 이들 부재는 사용 도중, 지문 또는 지방성 물질과 계속해서 접하게 된다. 상기 경우에, 표면은 매우 신속히 불쾌하고 비위생적으로 보이게 된다. 세정 용이성 코팅물은 이미 여기서 억제에 대한 양호한 가시적 결과를 생성하고, 보다 용이하게 세정될 수 있다. 상기 응용에 본 발명의 기판 때문에, 효과의 긴 수명이 상당히 신장될 수 있고, 제품의 유용성 가치도 증가된다.
본 발명은 상기 기술한 특징의 조합으로 한정되지 않지만, 대신에 숙련가는 본 발명의 모든 특징을 임의로 조합할 것이되, 단 그것이 그렇게 하기에 합리적이어야 함을 이해하게 될 것이다.

Claims (47)

  1. 지지체 물질(2) 및 코팅물(coating)(3)을 포함하는 유기불소 화합물로 코팅하기 위한 기판 부재(11, 12)로서, 코팅물(3)이 유기불소 화합물과 화학 결합되는 혼합 산화물을 포함하는 접착촉진제 층(adhesion promoter layer)으로 이루어지고, 상기 화학 결합은 공유 결합이고, 상기 접착촉진제 층은 원소 알루미늄의 하나 이상의 산화물과 혼합된 산화규소를 포함하고,
    유기불소 화합물을 갖는 표면은, 표면과 물 사이의 접촉각이 90°보다 큰 소수성이고, 표면과 오일 사이에 접촉각이 50°보다 큰 소유성인 것인 기판 부재.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서, 상기 접착촉진제 층(3)이 액상(liquid-phase) 코팅물인 것인 기판 부재.
  4. 제1항에 있어서, 상기 접착촉진제 층(3)이 열적 고화된(thermally consolidated) 졸-겔 층인 것인 기판 부재.
  5. 제1항에 있어서, 상기 접착촉진제 층(3)이 CVD 코팅물 또는 플레임 열분해(flame pyrolysis) 층인 것인 기판 부재.
  6. 제1항에 있어서, 상기 접착촉진제 층(3)이 PVD 코팅물인 것인 기판 부재.
  7. 제1항에 있어서, 상기 접착촉진제 층(3)이 스퍼터링된(sputtered) 층인 것인 기판 부재.
  8. 제1항 및 제3항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 접착촉진제 층(3)은 하나 이상의 중간층(interlayer)에 의해 서브층(sublayer)으로 분할되며, 하나 이상의 중간층은 두께가 0.3 내지 10 nm인 것인 기판 부재.
  9. 제1항 및 제3항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 접착촉진제 층(3)은 하나 이상의 중간층에 의해 서브층으로 분할되며, 하나 이상의 중간층은 두께가 1 내지 3 nm인 것인 기판 부재.
  10. 제1항 및 제3항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 접착촉진제 층(3)이 1.35 내지 1.7의 범위인 굴절률을 갖는 것인 기판 부재.
  11. 제1항 및 제3항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 접착촉진제 층(3)이 1.35 내지 1.6의 범위인 굴절률을 갖는 것인 기판 부재.
  12. 제1항 및 제3항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 접착촉진제 층(3)이 1.35 내지 1.56의 범위인 굴절률을 갖는 것인 기판 부재.
  13. 제1항 및 제3항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 접착촉진제 층(3)이 1 ㎚보다 큰 두께에 이르는 것인 기판 부재.
  14. 제1항 및 제3항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 접착촉진제 층(3)이 10 ㎚보다 큰 두께에 이르는 것인 기판 부재.
  15. 제1항 및 제3항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 접착촉진제 층(3)이 20 ㎚ 보다 큰 두께에 이르는 것인 기판 부재.
  16. 제1항 및 제3항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 외부층(4)이 상기 접착촉진제 층(3) 위에 배치되며, 이 외부층(4)은 미립자 층인 것인 기판 부재.
  17. 제16항에 있어서, 상기 외부층(4)이 산화규소 또는 규소 혼합 산화물로 이루어지는 것인 기판 부재.
  18. 제1항 및 제3항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 지지체 물질(2)이 금속, 플라스틱, 결정, 세라믹, 유리, 유리-세라믹 또는 복합 물질인 것인 기판 부재.
  19. 제1항 및 제3항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 지지체 물질(2)이 리튬 알루미늄 실리케이트 유리, 소다석회 실리케이트 유리, 보로실리케이트 유리, 알칼리 금속 알루미노실리케이트 유리, 또는 알칼리-금속-비함유 또는 저-알칼리-금속 알루미노실리케이트 유리인 것인 기판 부재.
  20. 제1항 및 제3항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 지지체 물질(2)이 구조화된 표면(20)을 갖는 것인 기판 부재.
  21. 제1항 및 제3항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 지지체 물질(2)이 에칭된 표면을 갖는 것인 기판 부재.
  22. 제1항 및 제3항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 접착촉진제 층(3)에 유기불소 화합물 코팅의 도포 후, 상기 유기불소 화합물 코팅에 대한 수접촉각이 - 중성 염 분무 시험(neutral salt spray test)에서 1.5배 초과로 길게 노출 후 - 중성 염 분무 시험에서 상응하게 더 짧은 노출에 대해 접착촉진제 층이 없이 도포된 동일한 유기불소 화합물 코팅의 경우보다 더 높은 것인 기판 부재.
  23. 제1항 및 제3항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 접착촉진제 층(3)에 유기불소 화합물 코팅의 도포 후, 상기 유기불소 화합물 코팅에 대한 수접촉각이 - 중성 염 분무 시험에서 2배 초과로 길게 노출 후 - 중성 염 분무 시험에서 상응하게 더 짧은 노출에 대해 접착촉진제 층이 없이 도포된 동일한 유기불소 화합물의 경우보다 더 높은 것인 기판 부재.
  24. 제1항 및 제3항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 접착촉진제 층(3)에 유기불소 화합물 코팅의 도포 후, 상기 유기불소 화합물 코팅에 대한 수접촉각이 - 중성 염 분무 시험에서 3배 초과로 길게 노출 후 - 중성 염 분무 시험에서 상응하게 더 짧은 노출에 대해 접착촉진제 층이 없이 도포된 동일한 유기불소 화합물의 경우보다 더 높은 것인 기판 부재.
  25. - 지지체 물질(2)을 제공하는 단계,
    - 상기 지지체 물질의 하나 이상의 표면(20)을 졸-겔 도포 기술에 의해 접착촉진제 전구체 층으로 코팅하는 단계,
    - 상기 접착촉진제 전구체 층을 열적 고화하고, 접착촉진제 전구체 층을 상기 접착촉진제 층(3)으로 전환시키며, 상기 접착촉진제 전구체 층은 원소 알루미늄의 하나 이상의 산화물과 혼합된 산화규소를 포함하는 것인 단계를 포함하는,
    유기불소 화합물로 코팅하기 위한 제1항에 따른 기판 부재(11, 12)의 제조 방법.
  26. 제25항에 있어서, 상기 지지체 물질(2)은 하나 이상의 표면(20)을 갖는 유리 또는 유리-세라믹으로 제조된 것인 기판 부재(11, 12)의 제조 방법.
  27. 제25항에 있어서, 상기 지지체 물질(2) 위에서 상기 접착촉진제 전구체 층의 열적 고화 및 상기 접착촉진제 전구체 층의 접착촉진제 층(3)으로의 전환이 지지체 물질의 연화 온도 미만에서 일어나는 것인 기판 부재(11, 12)의 제조 방법.
  28. 제25항에 있어서, 상기 지지체 물질(2) 위에서 상기 접착촉진제 전구체 층의 열적 고화 및 상기 접착촉진제 전구체 층의 접착촉진제 층(3)으로의 전환이 550℃ 미만의 기판 표면 온도에서 일어나는 것인 기판 부재(11, 12)의 제조 방법.
  29. 제25항에 있어서, 상기 지지체 물질(2) 위에서 상기 접착촉진제 전구체 층의 열적 고화 및 상기 접착촉진제 전구체 층의 접착촉진제 층(3)으로의 전환이 350 내지 500℃의 기판 표면 온도에서 일어나는 것인 기판 부재(11, 12)의 제조 방법.
  30. 제25항에 있어서, 상기 지지체 물질(2) 위에서 상기 접착촉진제 전구체 층의 열적 고화 및 상기 접착촉진제 전구체 층의 접착촉진제 층(3)으로의 전환이 400 내지 500℃ 기판 표면 온도에서 일어나는 것인 기판 부재(11, 12)의 제조 방법.
  31. 제25항에 있어서, 상기 접착촉진제 전구체 층의 열적 고화 및 상기 접착촉진제 전구체 층의 접착촉진제 층으로의 전환이 지지체 물질의 열 처리에 의해 계 내(in situ)에서 일어나는 것인 기판 부재의 제조 방법.
  32. 제25항 내지 제31항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 접착촉진제 전구체 층의 열적 고화 및 상기 접착촉진제 전구체 층의 접착촉진제 층(3)으로의 전환에 접착촉진제 전구체 층의 건조가 선행되는 것인 기판 부재(11, 12)의 제조 방법.
  33. 제25항 내지 제31항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 접착촉진제 전구체 층의 열적 고화 및 상기 접착촉진제 전구체 층의 접착촉진제 층(3)으로의 전환에 300℃ 미만의 온도에서 접착촉진제 전구체 층의 건조가 선행되는 것인 기판 부재(11, 12)의 제조 방법.
  34. 제25항 내지 제31항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 접착촉진제 전구체 층의 열적 고화 및 상기 접착촉진제 전구체 층의 접착촉진제 층(3)으로의 전환에 200℃ 미만의 온도에서 접착촉진제 전구체 층의 건조가 선행되는 것인 기판 부재(11, 12)의 제조 방법.
  35. 제25항 내지 제31항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 접착촉진제 전구체 층의 열적 고화 및 상기 접착촉진제 전구체 층의 접착촉진제 층(3)으로의 전환 후, 상기 접착촉진제 층(3) 위에 외부층(6)의 도포가 이어지고, 상기 외부층(6)은 산화규소 또는 규소 혼합 산화물로 이루어지며, 이 외부층은 미립자 층인 기판 부재(12)의 제조 방법.
  36. 제25항 내지 제31항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 접착촉진제 전구체 층의 열적 고화 및 상기 접착촉진제 전구체 층의 접착촉진제 층(3)으로의 전환 후, 상기 접착촉진제 층(3) 위에 플레임 열분해에 의해 외부층(6)의 도포가 이어지고, 상기 외부층(6)은 산화규소 또는 규소 혼합 산화물로 이루어지며, 이 외부층은 미립자 층인 기판 부재(12)의 제조 방법.
  37. 유기불소 화합물 또는 나노 층 시스템으로 코팅하기 위한, 지지체 플레이트(2) 및 접착촉진제 층(3)을 포함하는 제1항 및 제3항 내지 제7항 중 어느 한 항에 따른 기판 부재(11, 12)를 사용하는 방법으로서, 상기 접착촉진제 층은 원소 알루미늄의 하나 이상의 산화물과 혼합된 산화규소를 포함하는 것인 방법.
  38. 유기불소 화합물 또는 나노 층 시스템으로 코팅하기 위한, 유리 또는 유리-세라믹의 지지체 플레이트(2) 및 접착촉진제 층(3)을 포함하는 제1항 및 제3항 내지 제7항 중 어느 한 항에 따른 기판 부재(11, 12)를 사용하는 방법으로서, 상기 접착촉진제 층은 원소 알루미늄의 하나 이상의 산화물과 혼합된 산화규소를 포함하는 것인 방법.
  39. 제37항에 있어서, 외부층(6)은 상기 접착촉진제 층(3) 위에 배치되고, 이 외부층은 미립자 층이며 산화규소 또는 규소 혼합 산화물로 이루어지는 것인, 유기불소 화합물 또는 나노 층 시스템으로 코팅하기 위한 기판 부재(11, 12)를 사용하는 방법.
  40. 커버로서, 모니터의 디스플레이 스크린 또는 보조 디스플레이 스크린으로서, 내부 및 외부 건축 분야의 창유리(glazing)로서, 그림, 유리 캐비넷, 카운터, 냉장 유닛이나, 또는 세정에 접근성 문제가 있는 창유리로서, 오븐 프론트 스크린으로서, 장식용 유리 부재로서, 또는 태양광 모듈 커버로서, 제1항 및 제3항 내지 제7항 중 어느 한 항에 따른 유기불소 화합물로 코팅된 기판 부재(11, 12)를 사용하는 방법.
  41. 제40항에 있어서, 상기 모니터의 디스플레이 스크린 또는 보조 디스플레이 스크린이 3D 디스플레이 또는 플렉서블(flexible) 디스플레이인 것인 유기불소 화합물로 코팅된 기판 부재(11, 12)를 사용하는 방법.
  42. 대화식 입력 부재(interactive input element)를 위한 기판으로서, 제1항 및 제3항 내지 제7항 중 어느 한 항에 따른 유기불소 화합물로 코팅된 기판 부재(11, 12)를 사용하는 방법.
  43. 제42항에 있어서, 상기 대화식 입력 부재를 위한 기판은 터치 기능에 의해 형성되는 것인 유기불소 화합물로 코팅된 기판 부재(11, 12)를 사용하는 방법.
  44. 제42항에 있어서, 상기 대화식 입력 부재를 위한 기판은 저항적으로, 정전용량으로, 광학적으로, 또는 적외선이나 표면 탄성파(surface acoustic wave)에 의해 작용하는 터치 기술에 의해 형성되는 것인 유기불소 화합물로 코팅된 기판 부재(11, 12)를 사용하는 방법.
  45. 터치스크린 기능이 있는 디스플레이 스크린으로서, 제1항 및 제3항 내지 제7항 중 어느 한 항에 따른 유기불소 화합물로 코팅된 기판 부재(11, 12)를 사용하는 방법.
  46. 제45항에 있어서, 상기 터치스크린 기능이 있는 디스플레이 스크린은 싱글-터치(single-touch), 듀얼 터치(dual-touch) 또는 멀티터치(multitouch) 디스플레이인 것인 유기불소 화합물로 코팅된 기판 부재(11, 12)를 사용하는 방법.
  47. 제1항 및 제3항 내지 제7항 중 어느 한 항에 따른 기판 부재를 포함하는 디스플레이 부재(display element) 또는 작동 부재(operating element)를 갖는 디바이스.
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Families Citing this family (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6011364B2 (ja) * 2013-01-28 2016-10-19 旭硝子株式会社 撥水膜付き基体および輸送機器用物品
WO2015042335A1 (en) * 2013-09-23 2015-03-26 Apple Inc. Electronic component embedded in ceramic material
US10068683B1 (en) 2014-06-06 2018-09-04 Southwire Company, Llc Rare earth materials as coating compositions for conductors
KR20170040262A (ko) * 2014-07-30 2017-04-12 코닝 인코포레이티드 고대비 유리계 쓰기/지우기 가능 전면 투사 스크린
DE102014013528B4 (de) 2014-09-12 2022-06-23 Schott Ag Beschichtetes Glas-oder Glaskeramiksubstrat mit beständigen multifunktionellen Oberflächeneigenschaften, Verfahren zu dessen Herstellung und dessen Verwendung
DE102014013527A1 (de) 2014-09-12 2016-03-17 Schott Ag Verfahren zur Herstellung eines beschichteten, chemisch vorgespannten Glassubstrats mit Antifingerprint-Eigenschaften sowie das hergestellte Glassubstrat
DE102014013550A1 (de) * 2014-09-12 2016-03-31 Schott Ag Beschichtetes chemisch vorgespanntes flexibles dünnes Glas
CN104310789A (zh) * 2014-09-28 2015-01-28 中国建材国际工程集团有限公司 氧化锌基透明导电膜玻璃的制备方法
US9850172B2 (en) 2014-10-23 2017-12-26 Industrial Technology Research Institute Ceramic powder, method of manufacturing the same, and method for laser sinter molding
DE102015213075A1 (de) 2015-07-13 2017-01-19 Schott Ag Asymmetrisch aufgebaute, auf beiden Oberflächenseiten chemisch vorgespannte Dünnglasscheibe, Verfahren zu deren Herstellung sowie deren Verwendung
KR102398357B1 (ko) * 2015-10-29 2022-05-13 오브쉬체스트보 에스 오그라니첸노이 오트베트스트벤노스트유 이조바크 테크놀로지 결합 광학 코팅 및 그 제조 방법(변형들)
JP2017165612A (ja) * 2016-03-16 2017-09-21 Ｔｏｗａ株式会社 透光性材料、低密着性材料及び成形用部材
US20170267581A1 (en) * 2016-03-18 2017-09-21 Apple Inc. Bond layer between a coating and a substrate
RU172702U1 (ru) * 2016-07-04 2017-07-19 Олег Александрович Чичигин Интерактивное зеркало
TWI613167B (zh) * 2016-11-18 2018-02-01 宏益玻璃科技股份有限公司 一種抗眩光強化抗菌及抗指紋之玻璃面板製作方法
WO2018237242A1 (en) * 2017-06-23 2018-12-27 Corning Incorporated COATED ARTICLES COMPRISING EASY-TO-CLEAN COATINGS
BR112020010252B1 (pt) * 2017-12-08 2023-05-16 Apogee Enterprises, Inc Substrato revestido, laminado transmissor de luz, e, método para preparar um substrato revestido
DE102017223680A1 (de) * 2017-12-22 2019-06-27 BSH Hausgeräte GmbH Gegenstand mit einer hochtemperaturbeständigen omniphoben Antihaftbeschichtung, sowie Verfahren zur Herstellung des Gegenstands
WO2020073254A1 (en) * 2018-10-10 2020-04-16 Schott Glass Technologies (Suzhou) Co. Ltd. Ultrathin glass ceramic article and method for producing an ultrathin glass ceramic article
CN109382305A (zh) * 2018-10-16 2019-02-26 合肥培恩电器有限公司 一种纳米涂层在集成灶上的应用方法
FR3099475B1 (fr) * 2019-08-01 2021-10-29 Univ Aix Marseille Revêtement multicouche pour vitrage, procédé de réalisation d’un tel revêtement et vitrage pourvu dudit revêtement
FR3100139B1 (fr) * 2019-08-27 2021-10-15 Safran Procédé de revêtement d’un substrat en composite
JP7545251B2 (ja) 2020-07-14 2024-09-04 日本板硝子株式会社 撥水膜付きガラス物品及びその製造方法
EP4201904A1 (en) 2020-08-21 2023-06-28 Nippon Sheet Glass Company, Limited Glass article with easy-to-clean coating
CN112363640A (zh) * 2020-11-12 2021-02-12 业成科技（成都）有限公司 触控感测模组与形成其之方法
CN116589193A (zh) 2021-01-29 2023-08-15 重庆鑫景特种玻璃有限公司 憎水憎油性优异的镀膜微晶玻璃及其制法
CN113487965B (zh) * 2021-06-22 2022-12-23 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 支撑构件及其制作方法、显示模组
CN118451153A (zh) 2021-12-21 2024-08-06 美国圣戈班性能塑料公司 多层膜及其形成方法
JP2023102989A (ja) 2022-01-13 2023-07-26 日本板硝子株式会社 イージークリーンコーティング付きガラス物品

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006114321A1 (de) 2005-04-28 2006-11-02 Schott Ag Entspiegelungsschicht und verfahren zu deren aufbringung

Family Cites Families (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3300589A1 (de) 1983-01-11 1984-07-12 Schott Glaswerke, 6500 Mainz Verfahren zur herstellung von indiumoxid-zinnoxid-schichten
EP0166363B1 (en) * 1984-06-26 1991-08-07 Asahi Glass Company Ltd. Low reflectance transparent material having antisoiling properties
JPS61241143A (ja) * 1985-04-19 1986-10-27 旭硝子株式会社 防汚性を有する低反射性プラスチツク
JPS6110043A (ja) * 1984-06-26 1986-01-17 Asahi Glass Co Ltd 防汚性を有する低反射率ガラス
JP2716315B2 (ja) * 1992-06-01 1998-02-18 セントラル硝子株式会社 低反射ガラス
EP0956783B1 (en) * 1994-09-07 2006-03-08 British American Tobacco (Investments) Limited Smoking articles
FR2730990B1 (fr) * 1995-02-23 1997-04-04 Saint Gobain Vitrage Substrat transparent a revetement anti-reflets
WO1997007155A1 (fr) 1995-08-11 1997-02-27 Daikin Industries, Ltd. Fluoropolymeres organiques au silicium et leur emploi
US5851674A (en) * 1997-07-30 1998-12-22 Minnesota Mining And Manufacturing Company Antisoiling coatings for antireflective surfaces and methods of preparation
DE19848591A1 (de) 1998-04-15 1999-10-21 United Technology Research & E Beladen einer optischen Scheibe mit einer fluororganischen Verbindung
WO2000010934A1 (en) * 1998-08-18 2000-03-02 Ppg Industries Ohio, Inc. Process for producing durable antireflective surfaces and antireflective articles
JP2000068536A (ja) * 1998-08-26 2000-03-03 Dainippon Printing Co Ltd 太陽電池モジュール
JP3847048B2 (ja) * 1999-03-17 2006-11-15 株式会社Ｉｎａｘ 微細多孔防汚層を持つ建築物外壁及び微細多孔防汚層を形成する塗布液
JP2000336334A (ja) * 1999-05-31 2000-12-05 Nippon Sheet Glass Co Ltd シリカ系膜被覆物品および機能性膜被覆物品を製造する方法
US20020192472A1 (en) * 2001-05-25 2002-12-19 Bernd Metz Easily cleanable coating
JP2003201154A (ja) * 2001-10-23 2003-07-15 Nippon Sheet Glass Co Ltd 光学部品の接合方法
JP2003236977A (ja) * 2002-02-19 2003-08-26 Matsushita Electric Works Ltd 防汚性部材
DE10236728A1 (de) * 2002-08-09 2004-02-26 Schott Glas Reinigungsfreundliche Vorrichtung
EP2782337A3 (en) * 2002-10-15 2014-11-26 Verance Corporation Media monitoring, management and information system
DE10351467B4 (de) * 2003-11-04 2011-07-07 Schott Ag, 55122 Gegenstand mit leicht reinigbarer Oberfläche und Verfahren zu seiner Herstellung
DE102004053706A1 (de) * 2004-11-03 2006-05-04 Schott Ag Gegenstand mit Barrierebeschichtung und Verfahren zur Herstellung eines solchen Gegenstandes
DE102005018246A1 (de) * 2005-04-19 2006-10-26 Schott Ag Glas- oder Glaskeramik-Artikel mit dekorativer Beschichtung
DE102005036427A1 (de) * 2005-08-03 2007-02-08 Schott Ag Substrat, umfassend zumindest eine voll- oder teilflächige makrostrukturierte Schicht, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung
KR20090092273A (ko) * 2006-12-27 2009-08-31 아사히 가라스 가부시키가이샤 반사 방지체 및 디스플레이 장치
WO2009099615A1 (en) 2008-02-05 2009-08-13 Corning Incorporated Damage resistant glass article for use as a cover plate in electronic devices
TW201002462A (en) * 2008-07-03 2010-01-16 Advanced Semiconductor Eng Wafer laser-marking method and die fabricated using the same
US20100279068A1 (en) 2009-05-04 2010-11-04 Glen Bennett Cook Embossed glass articles for anti-fingerprinting applications and methods of making
US20100285272A1 (en) 2009-05-06 2010-11-11 Shari Elizabeth Koval Multi-length scale textured glass substrates for anti-fingerprinting
DE102009050568A1 (de) * 2009-10-23 2011-04-28 Schott Ag Einrichtung mit verminderten Reibeigenschaften
EP2688971A1 (en) * 2011-03-21 2014-01-29 Avery Dennison Corporation Non-flowing silicone adhesive
DE102011076754A1 (de) * 2011-05-31 2012-12-06 Schott Ag Substratelement für die Beschichtung mit einer Easy-to-clean Beschichtung
CN109384399A (zh) * 2011-11-30 2019-02-26 康宁股份有限公司 具有光学涂层和易清洁涂层的玻璃制品的制备方法
US9197027B2 (en) * 2012-07-05 2015-11-24 C2C Link Corporation Method for making laser module

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006114321A1 (de) 2005-04-28 2006-11-02 Schott Ag Entspiegelungsschicht und verfahren zu deren aufbringung

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