KR101643390B1 - 전기강판의 산화정보 측정장치 및 측정방법 - Google Patents

전기강판의 산화정보 측정장치 및 측정방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 엑스선을 전기강판에 조사하는 조사부, 상기 전기강판에 발생한 형광엑스선을 검출하는 수신부, 및 상기 형광엑스선에서 타겟 원소의 피크강도를 이용하여 산화정보를 산출하는 분석부를 포함하는 전기강판의 산화정보 측정장치 및 측정방법을 개시한다.

Description

전기강판의 산화정보 측정장치 및 측정방법{APPARATUS AND METHOD FOR MEASURING OXIDE INFORMATION OF ELECTRICAL STEEL}
본 발명은 형광엑스선을 이용하여 전기강판의 산화량 또는 산화층 두께를 측정하는 장치 및 방법에 관한 것이다.
일반적으로 냉연강판을 소둔 처리하는 공정에서는 표면에 산화물이 농축되어 일정한 두께를 가지는 박막 형태로 형성된다. 이러한 경우에는 종래의 반사분광 분석법을 사용하여 표면에 농축된 산화물의 양(혹은 두께)을 정량할 수 있다.
도 1은 종래의 반사분광 분석법에 의한 산화층 두께 측정방법을 보여주는 도면이다. 도 1을 참고하면, 광대역 광원(1)에서 빛이 강판(3)의 표면으로 수직으로 입사하고 반사된 빛은 분광기(2)로 향한다.
이때 강판표면으로 입사한 빛은 산화층(3a)의 윗면과 아랫면의 두 지점에서 반사하게 된다. 두 가지 반사광은 서로 보강간섭이나 상쇄간섭을 일으키는데 산화층(3a)의 두께에 따라 보강간섭이나 상쇄간섭을 일으키는 파장이 달라진다. 따라서 분광기(2)에서 반사광의 스펙트럼을 분석하면 산화층 정보를 얻을 수 있다.
전기강판은 FeSiO3 -I, Fe2SiO4와 같은 페이알라이트(fayalite), SiO2, FeO의 크게 세 종류의 산화물을 갖는다. 도 2를 참고하면, 이러한 산화물은 강판표면에만 존재할 뿐 아니라 표면 하부의 수 마이크로 미터 깊이까지 산화물이 분포한다. 즉, 전기강판의 산화물은 층상이 아니라 망상으로 분포하여 산화물과 기저금속이 혼재되어 있는 양상을 보인다.
따라서, 산화층의 윗면과 아랫면의 두 지점에서의 반사광을 이용하는 반사분광법은 전기강판의 전체 산화량을 정확히 측정할 수 없는 문제가 있다.
본 발명의 일 실시예는 전기강판의 산화량 및 산화층 두께를 산출할 수 있는 측정장치 및 측정방법을 제공한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 전기강판의 산화정보 측정장치는, 엑스선을 전기강판에 조사하는 조사부; 상기 전기강판에 발생한 형광엑스선을 검출하는 수신부; 및 상기 형광엑스선에서 타겟 원소의 피크강도를 이용하여 산화정보를 산출하는 분석부를 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 전기강판의 산화정보 측정장치에서, 상기 타겟 원소는 Si, Al, Mn, P, N, S 중 어느 하나 이상일 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 전기강판의 산화정보 측정장치에서, 상기 분석부는 하기 관계식 1을 이용하여 전기강판의 산화량을 측정할 수 있다.
[관계식 1]
Y1=-12×X1/A1+C1
여기서, X1은 전기강판(3)의 산화량(ppm)이고, Y1은 타겟 원소의 피크강도(a.u)이고, A1은 30≤C1≤40을 만족하고, C1은 2300≤C1≤4300을 만족하는 상수이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 전기강판의 산화정보 측정장치에서, 상기 분석부는 산화량과 산화층 두께의 관계식을 이용하여 산화층의 두께를 산출할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 전기강판의 산화정보 측정방법은, 전기강판에 엑스선을 조사하여 타겟 원소의 형광엑스선 피크강도를 산출하는 단계; 및 타겟 원소의 피크강도와 산화량 사이의 회귀식을 이용하여 산화량을 산출하는 단계를 포함한다.
본 발명의 다른 실시예에 따른 전기강판의 산화정보 측정방법은, 타겟 원소의 형광엑스선 피크강도를 이용하여 전기강판의 제1산화량을 측정하고, 상기 타겟 원소의 산화물과 대비 원소의 산화물간의 성분비를 이용하여 전기강판의 제2산화량을 측정하는 단계; 및 상기 제1산화량과 제2산화량을 이용하여 최종 산화량을 산출하는 단계를 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 산화물이 망상으로 분포하는 전기강판의 산화량을 산출할 수 있다.
또한, 전기강판의 산화층 두께를 산출할 수 있다.
도 1은 종래 반사분광법을 이용하여 산화층의 두께를 측정하는 방법을 설명하기 위한 도면이고,
도 2는 전기강판의 단면 이미지이고,
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 전기강판의 산화정보 측정장치의 개념도이고,
도 4a와 도 4b는 본 발명의 일 실시예에 따라 측정된 Si와 Fe의 형광엑스선 피크 강도를 보여주는 그래프이고,
도 5a는 본 발명의 일 실시예에 따라 측정된 Si의 형광엑스선 강도와 전기강판의 산화량의 관계를 보여주는 그래프이고,
도 5b는 본 발명의 일 실시예에 따라 측정된 Si의 형광엑스선 강도와 전기강판의 산화층 두께와의 관계를 보여주는 그래프이고,
도 6은 전기강판의 SEM 이미지이고,
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따라 측정된 전기강판의 산화량과 산화층 두께의 관계를 보여주는 그래프이고,
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 전기강판의 산화정보 측정방법의 흐름도이고,
도 9는 본 발명의 다른 실시예에 따른 전기강판의 산화정보 측정장치의 개념도이고,
도 10은 본 발명의 다른 실시예에 따라 측정된 SiO2와 Fe2SiO4의 흡수스펙트럼을 보여주는 그래프이고,
도 11a는 본 발명의 일 실시예에 따라 측정된 성분비와 전기강판의 산화량의 관계를 보여주는 그래프이고,
도 11b는 본 발명의 다른 실시예에 따라 측정된 성분비와 전기강판의 산화층 두께와의 관계를 보여주는 그래프이고,
도 12는 본 발명의 다른 실시예에 따른 전기강판의 산화정보 측정방법의 흐름도이고,
도 13은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 전기강판의 산화정보 측정방법의 흐름도이다.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다.
그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
본 발명에서, "포함한다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
또한 본 발명에서 첨부된 도면은 설명의 편의를 위하여 확대 또는 축소하여 도시된 것으로 이해되어야 한다.
이제 본 발명에 대하여 도면을 참고하여 상세하게 설명하고, 도면 부호에 관계없이 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 참조 번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 전기강판의 산화정보 측정장치의 개념도이고, 도 4a와 도 4b는 본 발명의 일 실시예에 따라 측정된 Fe와 Si의 형광엑스선 피크 강도를 보여주는 그래프이고, 도 5a는 본 발명의 일 실시예에 따라 측정된 Si의 형광엑스선 강도와 전기강판의 산화량의 관계를 보여주는 그래프이고, 도 5b는 본 발명의 일 실시예에 따라 측정된 Si의 형광엑스선 강도와 전기강판의 산화층 두께와의 관계를 보여주는 그래프이다.
도 3을 참고하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 산화정보 측정장치는, 엑스선을 전기강판(3)에 조사하는 조사부(10)와, 전기강판(3)에 발생한 형광엑스선을 검출하는 수신부(11), 및 형광엑스선에서 타겟 원소의 피크강도를 이용하여 산화정보를 산출하는 분석부(12)를 포함한다.
조사부(10)에 의해 전기강판(3)에 조사된 엑스선은 전기강판(3)의 표면의 산화층(3a) 및 표면 하부에 농축된 합금원소에 의해 일부 흡수되고, 엑스선을 흡수한 합금원소는 형광엑스선을 방출한다. 수신부(11)는 전기강판에서 방출된 형광 스펙트럼을 검출한다.
전기강판(3)은 무방향성과 방향성 전기강판으로 분류될 수 있고, 기저금속인 Fe과, 합금원소인 Si, C, Mn, Al, N, P, S등을 포함한다. 이중 Si는 합금원소 중 대표적인 원소이다. 도 4a와 도 4b를 참고하면, Si는 약 1.7eV에서 피크가 나타나며, Fe는 6.4eV에서 피크가 나타남을 알 수 있다.
Si의 피크강도는 강판표면과 표면하부에 Si성분이 많을수록 높아진다. 그러나, 도 5a를 참고하면, 산화량이 증가할수록 Si의 피크강도가 감소함을 알 수 있다. 또한, 도 5b를 참조하면, 산화층의 두께가 증가할수록 Si 피크강도가 감소함을 알 수 있다. 이는 표면에 생성되는 산화물들이 Si에서 방출되는 형광엑스선을 재흡수하기 때문인 것으로 추측된다. Si 이외에 다른 합금원소도 동일한 결과를 가질 수 있다.
따라서, Si, C, Mn, Al, N, P, S 중에서 선택될 수 있는 타겟 원소의 형광엑스선 피크강도를 이용하면 전기강판(3)의 산화정보(산화량, 산화층의 두께)를 산출할 수 있다.
전기강판(3)의 표면에 형성되는 산화층(3a)은 최종제품의 품질에 영향을 미치므로 정밀하게 제어하는 것이 중요하다. 이하에서는 타겟 원소를 Si로 예를 들어 설명한다.
다시 도 3을 참고하면, 분석부(12)는 수신부(11)가 검출한 형광 스펙트럼을 이용하여 Si의 형광엑스선 피크강도를 산출하고, 이를 이용하여 전기강판(3)의 산화정보를 산출한다. 분석부(12)는 전기강판의 산화정보를 디스플레이부(14)에 출력할 수 있다.
구체적으로 분석부(12)는 하기 관계식 1을 이용하여 전기강판(3)의 산화량을 측정할 수 있다. 이러한 관계식 정보는 메모리(13)에 저장되고 갱신될 수 있다.
[관계식 1]
Y1=-12×X1/A1+C1
여기서, X1은 전기강판(3)의 산화량(ppm)이고, Y1은 타겟 원소의 피크강도(a.u)이고, A1은 30≤C1≤40을 만족하고, C1은 2300≤C1≤4300을 만족하는 상수이다. 일 예로, A1은 33이고, C1은 3300일 수 있다. A1의 단위는 ppm/a.u이다.
도 6은 전기강판의 SEM 이미지이고, 도 7은 본 발명의 일 실시예에 따라 측정된 전기강판의 산화량과 산화층 두께의 관계를 보여주는 그래프이다.
하기 표 1은 복수 개의 시편의 산화량과 산화층 두께를 측정한 표이다. 도 6과 같이 시편의 SEM 이미지를 이용하여 각 시편의 산화층 두께와 산화량을 측정할 수 있다.
표 1과 도 6을 참고하면, 산화층의 두께와 산화량은 정비례 관계가 있는 것을 알 수 있다. 일 예로, 산화층의 두께가 3.19um에서 3.76um으로 증가하는 경우 산화량도 797ppm에서 1084ppm으로 증가함을 알 수 있다.
No 시편명 산화량(ppm) 산화층두께(um) 비고
1 S0928 797 3.19 1DNL 0.27t
2 T0666 955 4.15 1DNL 0.27t
3 T0671 868 3.86 1DNL 0.27t
4 T0674 836 3.83 1DNL 0.27t
5 EAS0155-1 752 3.23 1DNL 0.27t
6 EAS0155-2 835 3.21 1DNL 0.27t
7 EAS0919B 717 3.24 1DNL 0.27t
8 EAT0004 1084 3.76 1DNL 0.27t
9 EAT654 818 3.15 1DNL 0.27t
10 EAT662 928 3.85 1DNL 0.27t
11 EAT676 904 4.01 1DNL 0.27t
12 EAT678 883 3.5 1DNL 0.27t
13 EAT682 829 3.06 1DNL 0.27t
14 EAT685 944 4.08 1DNL 0.27t
15 ES690 936 4.31 1DNL 0.27t
분석부(12)는 산출된 산화량 정보와 상기 표1과 도 6을 정량화한 관계식 2를 이용하여 산화층 두께를 산출한 수 있다.
[관계식 2]
산화층의 두께(um)=A2×산화량(ppm)/C2
여기서 A2는 0.5≤A2≤2를 만족하고, C2는 230≤C2≤240을 만족하는 상수이고, 단위는 ppm/um이다.
그러나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니고, 분석부(12)는 Si의 형광엑스선 피크강도를 이용하여 직접 산화층 두께를 연산할 수도 있다. 일 예로, 도 5b의 Si의 형광엑스선 강도와 산화층의 두께 관계를 이용하여 산출할 수도 있다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 전기강판의 산화정보 측정방법의 흐름도이다.
도 8을 참고하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 전기강판의 산화정보 측정방법은, 전기강판에 엑스선을 조사하여 타겟 원소의 형광엑스선 피크강도를 산출하는 단계(S11)와, 타겟 원소의 피크강도와 산화량 사이의 회귀식을 이용하여 산화량을 산출하는 단계(S12), 및 산출된 산화량을 이용하여 산화층의 두께를 산출하는 단계(S13)를 포함한다.
타겟 원소의 형광엑스선 피크강도를 측정하는 단계(S11)는, 전기강판(3)의 탈탄 소둔 라인에서 실시될 수 있다. 구체적으로 전기강판(3)에 엑스선을 조사하여 전기강판(3)의 형광엑스선 스펙트럼을 획득하고, Si의 형광엑스선 피크강도를 추출한다. Si의 피크강도는 강판표면과 표면하부에 Si성분이 많을수록 높아진다.
산화량을 산출하는 단계(S12)는 산화량과 Si 형광엑스선의 피크강도가 반비례함을 이용한다. 구체적으로 전술한 관계식 1을 이용하여 전기강판의 산화량을 산출한다.
산화층의 두께를 산출하는 단계(S13)는, 산화량과 산화층의 두께가 정비례함을 이용한다. 구체적으로 전술한 관계식 2를 이용하여 전기강판의 산화층 두께를 산출한다.
도 9는 본 발명의 다른 실시예에 따른 전기강판의 산화정보 측정장치의 개념도이고, 도 10은 본 발명의 다른 실시예에 따라 측정된 SiO2와 Fe2SiO4의 흡수스펙트럼을 보여주는 그래프이고, 도 11a는 본 발명의 일 실시예에 따라 측정된 성분비와 전기강판의 산화량의 관계를 보여주는 그래프이고, 도 11b는 본 발명의 다른 실시예에 따라 측정된 성분비와 전기강판의 산화층 두께와의 관계를 보여주는 그래프이다.
도 9를 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 전기강판의 산화정보 측정장치는, 적외선을 전기강판(3)에 조사하는 광원(20)과, 전기강판(3)에서 방출된 흡수 스펙트럼을 검출하는 분광기(21), 및 타겟 원소의 산화물과 대비 원소의 산화물간의 성분비를 이용하여 전기강판(3)의 산화정보를 산출하는 분석부(22)를 포함한다.
광원(20)은 800cm-1 내지 1500 cm-1의 적외선을 전기강판(3)에 조사한다. 조사된 적외선 광은 산화층(3a)의 상부와 하부에서 반사하게 된다. 산화층(3a)의 하부에서 반사된 광은 흡수에 의해 강도가 약해진다. 또한, 특정 산화물에 따라 강도 저하가 발생하는 특수 파장대가 존재한다. 분광기(21)는 반사된 광의 흡수 스펙트럼을 검출한다.
이때, 산화층 표면에서 반사되는 광을 제거하여야 산화층을 투과하고 반사되는 광의 강도 저하를 정확하게 측정할 수 있다. 따라서, 광원의 전방에는 편광필터(20a)가 배치되어 S편광 또는 P편광을 브루스터 각으로 입사시킴으로써 표면에서 반사되는 반사광을 제거할 수 있다.
전기강판(3)은 무방향성과 방향성 전기강판으로 분류될 수 있고, 전기강판(3)은 기저금속인 Fe과, 합금원소인 Si, C, Mn, Al, N, P, S을 포함한다. 이중 Si는 가장 대표적인 합금원소이다. 도 10을 참고하면, fayalite(Fe2SiO4)는 약 약 10um(wavenumber 1000cm-1) 파장대에서 주된 흡수피크가 나타나며, silica(SiO2)는 약 약 8um(wavenumber 1250cm-1) 파장대에서 흡수피크가 존재한다. 따라서, fayalite(Fe2SiO4)와 silica(SiO2)의 피크 강도를 비교하면 성분비를 산출할 수 있다.
도 11a를 참고하면, Fe2SiO4/SiO2의 성분비는 전체 산화량과 반비례하는 관계를 갖는 것을 알 수 있다. 또한, 11b를 참고하면, Fe2SiO4/SiO2의 성분비는 산화량의 두께와도 반비례하는 관계임을 알 수 있다. 도 11a와 도 11b는 복수 개의 시편의 산화량을 각각 측정하여 분석한 결과이다.
분석부(12)는 분광기에서 검출한 스펙트럼을 이용하여 silica(SiO2)와 fayalite(Fe2SiO4)의 피크를 각각 검출한다. 이후 피크의 크기를 비교하여 두 가지 산화물의 성분비를 구한다. 구체적으로 분석부(12)는 하기 관계식 3을 이용하여 전기강판(3)의 산화량을 측정할 수 있다. 이러한 관계식 정보는 메모리(13)에 저장되고 갱신될 수 있다.
[관계식 3]
Y3=-X3/A3+C3
여기서, Y3은 대비 원소의 산화물/타겟 원소 산화물의 성분비고, X3은 전기강판(3)의 산화량(ppm)이고, A3은 100≤A3≤200을 만족하고 단위는 1/ppm이고, C3는 1≤C3≤10을 만족한다.
이때, 대비 원소의 산화물은 Fe2SiO4, FeSiO3 -I, FeO와 같은 철계 산화물 중 어느 하나 이상이 선택될 수 있고, 타겟 원소의 산화물은 SiO2일 수 있다.
분석부(12)는 산화량의 정보를 산출한 후 전술한 관계식 2를 이용하여 산화층의 두께를 산출한 수 있다.
도 12는 본 발명의 다른 실시예에 따른 전기강판의 산화정보 측정방법의 흐름도이다.
도 12를 참고하면, 전기강판의 산화정보 측정방법은, 전기강판에 적외선을 조사하여 타겟 원소의 산화물과 대비 원소의 산화물간의 성분비를 산출하는 단계(S21)와, 성분비와 산화량 사이의 회귀식을 이용하여 산화량을 산출하는 단계(S22), 및 산출된 산화량을 이용하여 산화층의 두께를 산출하는 단계(S23)를 포함한다.
성분비를 산출하는 단계(S21)는 전기강판에 800cm-1 내지 1500cm-1의 파수(wavenumber)를 갖는 적외선을 조사하여 흡수 스펙트럼을 검출한다. 이후, Fe2SiO4와 SiO2의 피크를 비교하여 성분비를 산출한다. 그러나, 이외에 다양한 철계 산화물을 이용할 수 있으며, 3가지 이상의 산화물의 성분비를 다중회귀방법으로 산출할 수도 있다.
산화량을 산출하는 단계(S22)는 산출된 성분비를 전술한 관계식 3에 대입하여 산화량을 산출할 수 있다. 관계식 3은 시료를 채취하여 특정한 두 가지 또는 세가지 이상의 산화물들 사이의 성분비와 산화량과의 관계를 도출할 수 있다.
산화층의 두께를 산출하는 단계(S23)는 산출된 산화량을 전술한 관계식 2에 대입하여 산화층의 두께를 산출할 수 있다.
도 13은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 전기강판의 산화정보 측정방법의 흐름도이다.
도 13을 참고하면, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 전기강판의 산화정보 측정방법은, 타겟 원소의 형광엑스선 피크강도를 이용하여 전기강판의 제1산화량을 측정하고, 타겟 원소의 산화물과 대비 원소의 산화물간의 비를 이용하여 전기강판의 제2산화량을 측정하는 단계(S31)와, 제1산화량과 제2산화량을 이용하여 최종 산화량을 산출하는 단계(S34), 및 최종 산화량을 이용하여 산화층의 두께를 산출하는 단계(S35)를 포함한다.
전기강판의 제1산화량을 측정하는 단계(S32)는 전술한 형광분석법에 의해 산화량을 측정하는 방법이 그대로 적용된다. 이 단계에서는 표층 하부에 존재하는 Si의 성분 분포도 측정 가능하므로 전체 산화물의 정보를 얻을 수 있는 장점이 있다.
전기강판의 제2산화량을 측정하는 단계(S33)는, 전술한 적외선 흡수 분광법을 이용하여 전기강판(3)의 산화량을 측정할 수 있다. 이 단계에서는 산화물의 성분비를 알 수 있는 장점이 있다.
최종 산화량을 산출하는 단계는, 측정된 제1산화량과 제2산화량의 평균값을 이용하여 최종 산화량을 산출할 수 있다. 제1산화량은 표층 및 표면하의 산화량을 모두 측정할 수 있으나 정확도가 떨어지고, 제2산화량은 표층의 산화량에 대해서는 정확도 있는 값을 얻을 수 있으나 표면 하부의 산화량에 대한 정보를 얻을 수 없는 단점이 있어 평균값을 구하는 것이 실제 값과 더 근사하다.
이후, 산화층의 두께를 산출하는 단계는 전술한 관계식 2에 의해 최종 산화층의 두께를 산출할 수 있다.
10: 조사부
11: 수신부
12: 분석부
14: 디스플레이부

Claims (13)

  1. 엑스선을 전기강판에 조사하는 조사부;
    상기 전기강판에 발생한 형광엑스선을 검출하는 수신부; 및
    상기 형광엑스선에서 타겟 원소의 피크강도를 이용하여 상기 전기강판의 산화정보를 산출하는 분석부를 포함하고,
    상기 분석부는 상기 타겟 원소의 피크강도와 상기 산화정보가 반비례하는 관계를 이용하여 상기 산화정보를 산출하고,
    상기 분석부는 하기 관계식 1을 이용하여 전기강판의 산화량을 측정하는 전기강판의 산화정보 측정장치.
    [관계식 1]
    Y1=-12×X1/A1+C1
    여기서, X1은 전기강판의 산화량(ppm)이고, Y1은 타겟 원소의 피크강도(a.u)이고, A1은 33이고, C1은 3300이며, A1의 단위는 ppm/a.u이다.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 타겟 원소는 Si, Al, Mn, P, N, S 중 어느 하나 이상인 전기강판의 산화정보 측정장치.
  3. 삭제
  4. 제1항에 있어서,
    상기 분석부는 산화량과 산화층 두께의 관계식을 이용하여 산화층의 두께를 산출하는 전기강판의 산화정보 측정장치.
  5. 전기강판에 엑스선을 조사하여 타겟 원소의 형광엑스선 피크강도를 산출하는 단계; 및
    타겟 원소의 피크강도와 산화량 사이의 회귀식을 이용하여 산화량을 산출하는 단계를 포함하고,
    상기 산화량을 산출하는 단계는 상기 타겟 원소의 피크강도와 상기 산화량이 반비례하는 관계를 이용하여 산화량을 산출하고,
    상기 회귀식은 하기 관계식 1을 만족하는 전기강판의 산화정보 측정방법.
    [관계식 1]
    Y1=-12×X1/A1+C1
    여기서, X1은 전기강판의 산화량(ppm)이고, Y1은 타겟 원소의 피크강도(a.u)이고, A1은 33이고, C1은 3300이며, A1의 단위는 ppm/a.u이다.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 타겟 원소는 Si, Al, Mn, P, N, S 중 어느 하나 이상인 전기강판의 산화정보 측정방법.
  7. 삭제
  8. 제5항에 있어서,
    상기 산화량을 산출하는 단계 이후에,
    상기 산출된 산화량을 이용하여 산화층의 두께를 산출하는 단계를 포함하는 전기강판의 산화정보 측정방법.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 산화층의 두께를 산출하는 단계는 하기 관계식 2를 이용하여 산화층의 두께를 산출하는 전기강판의 산화정보 측정방법.
    [관계식 2]
    산화층의 두께(um)=A2×산화량(ppm)/C2
    여기서 A2는 0.5≤A2≤2를 만족하고, C2는 230≤C2≤240을 만족하는 상수이고, 단위는 ppm/um이다.
  10. 삭제
  11. 삭제
  12. 삭제
  13. 삭제
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