KR101613915B1 - 축광 장식품의 제조 방법 및 그 방법에 의해 제조된 축광장식품 - Google Patents

Abstract

축광 장식품의 제조 방법이 개시된다. 본 발명의 축광 장식품 제조 방법은 석재에 음각의 문양을 새겨 베이스 채색층을 형성하고, 형성된 베이스 채색층에 1차 베이스 기초색으로 도색하고, 석재 표면에 샌딩지를 부착한 다음, 축광도료로 채색할 면의 샌딩지를 절단하고, 샌딩지가 절단된 면을 샌드블라스트 기법으로 음각 문양을 형성하여, 축광도료를 도색한 다음 석재 표면의 잔여 샌딩지를 제거하는 단계를 수행함으로써, 석재 표면 전체에 야광 채색 기술과 일반 채색기술을 도입하여 축광장식품으로 활용할 수 있고 주변 환경과의 친화력 및 야간경관 효과, 주/야간 작품감상의 기회를 제공할 수 있는 효과가 있다.

Description

축광 장식품의 제조 방법 및 그 방법에 의해 제조된 축광장식품{THE PRODUCT METHOD THEREOF LUMINOUS DECORATION AND LUMINOUS DECORATION MANUFACTURED BY THE SAME}

본 발명은 축광장식품에 관한 것으로, 보다 상세하게는 석재를 비롯한 다양한 재료에 샌드블라스트 기법 및 소프트 에칭을 이용하여 야광 채색 기술이 적용된 축광 장식품의 제조 방법 및 그 방법에 의해 제조된 축광장식품에 관한 것이다.

최근에는 실내 또는 야외를 장식하기 위하여 벽면 또는 바닥을 이용하여 정보를 전달하거나 장식을 하는 건축물이 증가하고 있다. 건축물의 벽면 또는 바닥면의 장식을 위하여 수작업으로 문양을 새겼으나 최근 기술의 발달로 레이저가공, 워터젯 상감 기법 및 샌드 블라스팅을 이용한 가공방법이 발달하고 있다.

레이저가공된 석재로써는 한국 공개특허 제2001-0054712호에 석재판의 표면을 매끄럽고 평평하게 가공하여 작업대에 설치한 다음, 이 석재판에 조각해야 할 사진 등의 그림을 선정하여 스캐너로 스캐닝한다. 상기 스캐닝된 그림 등은 컴퓨터에 전송되고 이 전송된 그림을 바탕으로 명암 상태와 그림의 형태에 따라 조각할 수 있도록 위치와 깊이를 설정하게 되고 이 설정된 데이터를 레이저 가공기로 전달하게 된다. 레이저 가공기는 입력된 가공데이터에 의해 석재판에 원하는 이미지를 조각하는 것에 관하여 기재하고 있다.

이러한 기존 장식품은 주간에만 뚜렷한 이미지를 보여주고 야간경관은 별도로 조명 설치를 해야만 하며, 함께 구성된 장식품이더라도 재질과 소재가 판이하여 이질감을 보일 수 있고, 제품 이미지와의 자연스런 연결과 친밀감이 떨어지며 부자연스럽다.

야간 장식재로 사용되는 각종 조명기구 및 LED제품, 광섬유 등은 자체적으로 자유로운 문양과 형상 표현은 한계가 있으며 전력을 필요로 하며 복잡한 구조로 이루어진다.

한편, 축광이란 태양광, 형광등 및 각종 전구류의 빛에 포함되어 있는 자외선을 흡수하여 저장하였다가 광원이 없어지면 어두운 상태에서 빛을 발산하는 것을 말하는 것으로, 빛의 흡수와 발광을 반복하게 된다.

이러한 축광을 이용한 제품은 비상구나 방향지시 표시는 물론이고, 구조물의 통로나 도로 등의 경계, 인조석, 가정의 문짝고리, 전기의 스위치 박스 등 어두인 곳에서 사물의 식별을 용이하게 할 필요가 있는 물체에 사용되고, 인테리어 효과를 위해 각종 장식물에 사용되기도 한다.

자연광 및 인공광을 흡수 및 채광하여 축적, 방출, 발광으로 이루어지는 축광 물질은 인체에 해로운 방사능 물질이 발생하지 않는 무해한 물질로서 작업이 간편하고 용이하게 사용할 수 있으며, 이를 이용한 벽화나 상징물, 아트월, 조경시설물 등 건축 및 조경 시장에서 친환경적이고 기능성과 심미성을 고려하여 주/야간용 감상 기회가 함께 제공되는 축광 장식품의 제품개발은 필요하나, 자체적으로 발광하고 정밀한 이미지 및 야광도료를 이용한 제품은 표현이 어렵고 단조롭다는 것이 문제이다.

따라서, 미려함을 살리기 위해 축광안료를 이용한 인조석을 제조하여 내, 외장용 건축자재로 사용할 경우, 축광안료를 표면에 층을 이루도록 도포하거나 인조석 모르타르와 전체적으로 균일하게 혼합하여 제조하게 되는데, 이와 같이 축광안료가 표면에 도포된 인조석은 디자인이 단조로울 뿐만 아니라 축광안료가 낭비되는 단점이 있었고, 축광안료를 소정배합비로 다른 원료와 같이 배합하여 생산된 인조석은 축광안료를 모르타르원료와 전체적으로 혼합됨으로써 미세한 축광안료의 축광효과를 분산시킴으로써 축광효과를 제대로 발휘하지 못하는 단점이 있었다.

타사 제품들은 비교적 기능적인 측면만 고려하여 단조로운 색상표현으로 이루어지고 단순하다. 또한 기존 야광은 장시간 빛을 받아야 하고 단시간 빛을 내보내며 물에 약하고 내구성이 취약하다.

한국 공개특허 제2001-0054712호(2001.07.02)

이러한 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 제1 목적은 석재에 축광도료를 이용하여 문양형성 및 표현방법에 있어서, 가시성과 야간의 발광력을 증대하기 위해 레이저 에칭 및 샌드블라스트 기법을 포함하고, 2차 이상의 채색을 통하여 주간과 야간의 색상대비와 반전에 의한 장식효과를 가지는 축광 장식품의 제조 방법 및 그 방법에 의해 제조된 축광장식품을 제공하는 것이다.

또한, 본 발명의 제2 목적은 석재와 같은 다양한 재료에 무늬와 문양을 형성함에 있어서, 정밀표현 및 다양한 형태로 재료가 갖는 무늬 모양을 표현하여 주/야간에도 작품을 감상할 수 있는 축광 장식품의 제조 방법 및 그 방법에 의해 제조된 축광장식품을 제공하는 것이다.

또한, 본 발명의 제3 목적은 축광안료로서 희토산화물의 축광 안료를 사용한 축광 장식품의 제조 방법 및 그 방법에 의해 제조된 축광장식품을 제공하는 것이다.

그리고, 본 발명의 제4 목적은 석재의 표면을 축광도료층과 일반 채색층을 단독 또는 혼합하여 무늬와 문양을 형성한 축광 장식품의 제조 방법 및 그 방법에 의해 제조된 축광장식품을 제공하는 것이다.

이러한 과제를 해결하기 위한 본 발명의 일실시예에 의한 축광 장식품의 제조 방법은 (a)석재에 음각의 문양을 새겨 베이스 채색층을 형성하는 1차 레이저 에칭 음각 가공 단계와, (b)상기 베이스 채색층을 도색하는 1차 기초색 도색 단계와, (c)상기 석재의 표면에 샌딩지를 부착하는 단계와, (d)축광도료로 채색할 면의 샌딩지를 절단하는 2차 레이저 에칭단계와, (e)상기 (d)단계에서 샌딩지가 절단된 면을 샌드블라스트 기법으로 음각 문양을 형성하는 2차 음각 가공단계와, (f)상기 2차 가공된 음각 문양에 축광도료를 도색하는 단계, 및 (e)석재 표면의 잔여 샌딩지를 제거하는 단계를 포함하여 이루어질 수 있다.

또한, 상기 베이스 채색층에 백색 또는 칼라의 우레탄계 페인트를 이용하되 주제인 페인트와 부주제인 경화제를 중량비로 10:1의 비율로 혼합하여 채색하고, 상기 (d)단계에서 레이저 에칭으로 샌딩지를 절단하는 부분은 상기 베이스 채색층의 일부 또는 석재면의 일부 중 어느 하나 이상의 부분으로 이루어진다.

또한, 축광도료를 1회 이상 도포하고, 도포된 축광도료의 상층에 클리어 투명 코팅층을 형성하고, 베이스 채색층이 형성되지 않은 석재면에 2차 가공된 음각 문양이 형성되는 경우에는 축광도료 또는 비축광도료 중 어느 하나를 선택하여 도색할 수 있다.

따라서, 본 발명의 축광 장식품의 제조 방법 및 그 방법에 의해 제조된 축광장식품에 의하면, 석재에 축광도료를 이용하여 문양을 형성하거나 표현할 때, 레이저 에칭 및 샌드블라스트 기법을 포함하고, 1차 내지 3차 도색을 통하여 주간과 야간의 색상대비와 반전에 의한 장식효과를 부여할 수 있다.

또한, 본 발명의 축광 장식품의 제조 방법 및 그 방법에 의해 제조된 축광장식품에 의하면, 나노 입자의 희토산화물을 함유한 축광안료를 이용하여 주간과 야간의 색상대비 및 반전에 의한 장식 효과와 장식품 표현의 다양성을 부여할 수 있다.

또한, 본 발명의 축광 장식품의 제조 방법 및 그 방법에 의해 제조된 축광장식품에 의하면, 석재를 비롯하여 다양한 재료에 야광 채색 기술을 도입하여 상감장식품으로 활용할 수 있고 주변 환경과의 친화력 및 야간경관 효과, 주/야간 작품감상의 기회를 제공할 수 있는 효과가 있다.

또한, 본 발명의 축광 장식품의 제조 방법 및 그 방법에 의해 제조된 축광장식품에 의하면 외부벽화, 실내 아트월, 조형물 등 조경 시설물에도 활용할 수 있으며 내/외부용 적용이 가능하다.

또한, 본 발명의 축광 장식품의 제조 방법 및 그 방법에 의해 제조된 축광장식품에 의하면, 야광도료를 이용하여 별도로 야간에 조명을 설치할 필요가 없고, 레이저에 의한 정밀 가공된 음각면에 도색을 하기 때문에 이미지와의 친밀감 및 친화력을 높여줄 수 있는 효과가 있다.

또한, 본 발명의 축광 장식품의 제조 방법 및 그 방법에 의해 제조된 축광장식품에 의하면, 고객 취향에 맞게 다양한 문양을 통해 제품구성 및 분위기를 연출할 수 있으며, 상감형 야광채색 기술을 도입한 독보적 제품으로 지위를 확보할 수 있다.

또한, 본 발명의 축광 장식품의 제조 방법 및 그 방법에 의해 제조된 축광장식품에 의하면, 색상의 발광효과는 밝은 면과 샌딩 깊이가 깊을수록 휘도가 높아지며. 두꺼울수록 휘도가 뛰어나기 때문에 원하는 부분들을 조절하여 표현이 가능하다.

또한, 본 발명의 축광 장식품의 제조 방법 및 그 방법에 의해 제조된 축광장식품에 의하면, 주간뿐 아니라 야광도료를 이용한 제품은 지역 상징물로서의 효과가 기대되며 제품의 신비감을 높여줄 수 있고, 아트월, 벽화, 조경시설물 등 지역특화사업, 공원화사업, 기타 경관시설등 조성사업 활성화에 기대가 되며 지역상징물로 기능이 가능하다.

또한, 본 발명의 축광 장식품의 제조 방법 및 그 방법에 의해 제조된 축광장식품에 의하면, 100% 내수성 야광도료를 이용하여 영롱한 빛을 발산하는 채색기술로 고객 호응도와 만족도를 높이고, 다양하게 활용할수 있는 효과가 있다.

또한, 본 발명의 축광 장식품의 제조 방법 및 그 방법에 의해 제조된 축광장식품에 의하면, 지금까지 야광제품은 물과 섞이면 하얗게 변색되고, 야광성능이 사라지기 때문에 수용성, 지용성이 아닌 우레탄계 합성수지 도료로서 채색용으로 다양하게 사용할 수 있는 획기적인 재료이며 안전하고 표현이 쉽고 간편하다.

또한, 본 발명의 축광 장식품의 제조 방법 및 그 방법에 의해 제조된 축광장식품에 의하면, 야광문양 형성된 채색층은 주/야간 시간의 흐름을 통하여 시각적으로 자연스런 발색력 및 발광효과를 기대할 수 있고, 주야간용의 제품 감상의 기회를 제공하며 2중효과를 반복, 유지할 수 있는 효과가 있다.

또한, 본 발명의 축광 장식품의 제조 방법 및 그 방법에 의해 제조된 축광장식품에 의하면, 전기 및 조명을 별도로 설치하지 않아도 일체화된 주/야간용 제품감상을 반복, 유지할 수 있도록 하여 입체적인 조형미와 시각적인 경관미를 더 하는 효과가 있다.

또한, 본 발명의 축광 장식품의 제조 방법 및 그 방법에 의해 제조된 축광장식품에 의하면, 신소재 도입 및 피가공재 음각면에 도장이 아닌 조색을 통한 야광도색을 함으로써 내외부의 벽화시장, 조경시설물 등에 대한 활용 및 파급효과가 기대되며 새로운 스톤아트 건축 시장의 패러다임이 열릴 것으로 기대가 된다.

또한, 본 발명의 축광 장식품의 제조 방법 및 그 방법에 의해 제조된 축광장식품에 의하면, 피가공재에 문양 형성된 본 제품은 야광도료 장식품을 통하여 주간에는 현실감과 입체감을 야간에는 수려한 경관미와 발광미를 함께 제공하는 효과가 있다.

그리고, 본 발명의 축광 장식품의 제조 방법 및 그 방법에 의해 제조된 축광장식품에 의하면, 피가공재의 표면 전체에 축광도료층과 일반 채색층을 단독 또는 혼합하여 무늬와 문양을 형성할 수 있기 때문에 전체적인 이미지를 부각시킬 수 있을 뿐만 아니라, 주야간 다른 경관미와 발광미를 증대할 수 있는 효과가 있다.

도 1은 본 발명의 일실시예에 의한 축광 장식품의 제조 방법을 설명하기 위한 흐름도이다.
그리고, 도 2 내지 도 9는 본 발명의 축광 장식품의 제조 과정을 설명하기 위한 각 단계별 예시 도면이다.
도 10은 본 발명의 일실시예에 의한 축광 장식품의 주간이미지를 일례로 도시한 도면이다.
그리고,
도 11은 본 발명의 일실시예에 의한 축광 장식품의 야간 이미지를 일례로 도시한 도면이다.

본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정 해석되지 아니하며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.

각 단계들에 있어 식별부호(예를 들어, a, b, c, ...)는 설명의 편의를 위하여 사용되는 것으로 식별부호는 각 단계들의 순서를 설명하는 것이 아니며, 각 단계들은 문맥상 명백하게 특정 순서를 기재하지 않은 이상 명기된 순서와 다르게 일어날 수 있다. 즉, 각 단계들은 명기된 순서와 동일하게 일어날 수도 있고 실질적으로 동시에 수행될 수도 있으며 반대의 순서대로 수행될 수도 있다.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 일실시예에 대하여 설명한다.

본 발명의 축광 장식품은 주재료로 연/경질의 목재료가 아닌 강도와 경도가 우수한 석재에 레이저장비, 샌드블라스트장비, 우레탄 페인트 및 축광도료를 사용하고 보조재료로 바인더, 붓/스프레이. 신너, 코팅제, 가열기(드라이기). 스크래퍼 공구, 고무 시트 등을 사용하여 샌드블라스터 기법 및 소프트에칭(SE;Soft Eching) 기법으로 석재의 표면 전체에 끊어짐이 없이 문양을 연속적으로 형성한 축광 장식품을 제조하는 것을 특징으로 한다.

이를 위하여 도 1의 본 발명의 일실시예에 의한 축광 장식품 제조 방법을 설명하기 위한 흐름도를 참고하면, 원자재를 준비하는 원자재준비단계(S110), 베이스면 채색부위를 음각가공하는 1차 레이저 에칭 음각 가공단계(S120), 음각면에 기초색을 도색하는 1차 기초색 도색단계(S130), 마스킹 처리용 고무시트 부착단계(S140), 가공면의 고무시트를 절단하는 2차 레이저 에칭단계(S150), 채색면을 음각 가공하는 샌드블라스트 기법을 이용한 2차 음각 가공단계(S160), 이후 2차 축광도료 도색단계(S170), 건조 및 경화단계(S180)와 고무시트 제거단계(S190)를 거쳐 축광 장식품이 제조된다.

원자재준비단계(S110)는 피가공재인 석재에 가공할 문양을 검토하여, 디자인을 편집하고, 적용할 이미지를 가공하는 단계로서, 먼저 원자재의 품질을 확인하고 육안검사를 통하여 표면습기와 이물질을 제거하는 단계(S111)와, 레이저 SE용과 HE용의 편집디자인 및 가공파일작업단계(S112)를 포함하여 이루어진다.

본 발명에서는 가공할 문양이 석재 표면 전체를 형성하도록 하는 것에 특징을 두고 있으므로, 주야간 이미지를 고려하여 디자인이나 이미지가 석재의 전체 표면에 형성할 수 있도록 편집되어야 한다.

단계 S111은 일정한 크기로 가공된 석재 표면의 침착된 습기와 얼룩, 불순물을 제거하기 위해 스크래퍼 공구(스킴용 칼날공구)와 에어 건을 사용하여 스킴(skim)방식으로 표면처리를 행한다.

단계 S111에서 육안검사를 통하여 원자재의 품질을 확인하고 나면, 편집 디자인/ 가공파일작업 단계(S112)에서는 피가공재에 적용할 문양 및 적용이미지 부위면을 확인하고, 제품 적용공간에 대하여 사전 검토를 진행하는 것을 의미한다.

이때도 석재 표면 중 문양이 형성되지 않는 석재면은 테두리를 제외하고는 최소가 되게 하여 문양이나 이미지가 연속성을 갖도록 하여야 한다.

또한, 제품 종류와 컨셉을 검토함과 아울러 석종 및 재질 사전검토 및 제작기법 확인과정을 수행하고, 제품 내/외부 용도 및 주변환경 사전 검토를 진행하여 제품적용공간, 석종, 용도, 주변환경 등 복합적으로 판단하여 적용할 이미지에 대한 가공파일을 생성하는 단계로, 구성재료, 치수, 색상, 기법 등을 재확인하는 단계이다.

결국 단계 S110의 원자재준비과정은 문양으로 이루어지는 작품과 디자인의 시안을 검토하여 이미지와 가공 기법, 치수, 두께, 색상, 설치 공간, 위치 등을 결정하여 원자재를 구성하고, 원자재에 편집할 디자인과 가공파일을 만들어 검토하고 확인을 하게 된다.

이러한 원자재준비 과정을 수행한 석재(110)가 도 2에 도시되어 있다.

단계 S110에서 원자재인 석재(110)가 준비되면, 음각 문양을 형성하는 1차 레이저 에칭 음각 가공단계를 수행한다(S120).

단계 S120의 1차 레이저 에칭 음각 가공단계는 가공파일을 기준으로 레이저를 이용하여 석재의 표면을 식각하여 베이스 채색층을 형성하는 단계이다.

레이저 에칭은 SE(Soft Eching) 기법을 이용하여 문양을 음각가공하는 열처리 기법으로 홈폭, 에칭의 깊이와 이미지의 높이 조절 등을 고려여 레이저의 파워나 스피드 등을 결정한다.

SE(Soft Eching) 기법은 레이저 빔을 주사하여 평균 0.1mm이하의 점으로 이미지 형태를 전체적으로 표현하는 기법을 말하며, 단순한 내부 형상을 균일하게 가공하는 방식과(원형, 삼각/사각형, 다각형, 곡선형, 비정형 등) 사진 이미지 등 음각깊이의 차이를 주어 가공하는 방식으로, 입자가 곱고 표면광택 연마를 한 석재(오석 등) 표현이 적합하고 사실감 있는 사진 이미지 표현에 적합하다.

구체적으로 레이저 가공기에 기 결정된 이미지를 입력하여 규격화된 석재상에 에칭을 통하여 음각을 형성하되 색상이나 발색도 등을 고려하여 깊이, 파워나 스피드 등을 판단하여 에칭의 깊이는 1mm 내외가 되도록 한다.

음각 가공 깊이가 1mm 내외가 되어야 베이스 채색층의 발색력이 고조되기 때문이다.

단계 S120에서의 1차 레이저 에칭 음각 가공단계는 도료 접착 결함을 최소화하고, 품질 향상을 위하여 1차 레이저 음각 가공 후 발생하는 석재표면의 침착된 그을음, 얼룩, 먼지와 조각 부스러기(chip,particle), 찌꺼기 등을 제거하기 위해 천이나 화장지를 신너에 묻혀 문지르며 다양한 방향에서 에어 건으로 불순물을 제거하는 불순물 제거 공정과 스크래퍼 공구를 이용하여 표면마감 정리를 하며 음각에 표현된 채색면은 바탕면과 균일한 높이와 깔끔한 면의 상태를 갖도록 하여 채색을 원활하게 수행하기 위한 표면의 면고르기 공정을 수행할 수 있다.

도 3의 본 발명의 축광 장식품의 제조 과정을 설명하기 위한 각 단계별 예시 도면을 참고하면, 석재(110)에 레이저로 식각을 통하여 형성된 베이스면 음각문양(120)이 도시되어 있다.

이러한 베이스면 음각문양은 석재 표면 전체에 형성할 수도 있으나, 본 발명에서는 베이스면 중 일부에 축광도료를 도색함과 동시에, 잔여 석재표면에 베이스면이 없이 직접 석재에 축광도료 또는 일반 채색을 할 수 있는 음각 가공면을 형성하는 것으로 설명하기로 한다.

단계 S120에서 레이저 음각 가공을 통하여 베이스면 가공이 완료되면 단계 S130에서는 음각으로 가공된 베이스면에 1차로 기초색으로 도색을 진행한다(S130).

즉, SE기법으로 레이저 음각 가공이 완료된 후 디자인된 원본색상을 채색한다.

즉, 바탕면의 문양에 우레탄 페인트를 이용하여 1차 도색하여 베이스 채색층(130)을 형성하는 것이다.

1차 기초색 도색 단계는 음각 문양(120)이 형성된 베이스 채색층(130)에 주간용 가시성을 위한 것으로 에칭면을 베이스 색상처리하는 단계이다.

이러한 베이스 채색층(130)에 채색되는 색상은 백색과 칼라 색상의 우레탄계 페인트를 이용하되 주제인 페인트와 경화제의 비율을 10:1로 사용한다. 신너와 같은 희석재를 사용하는 경우는 페인트와 경화제 그리고 희석재의 비율을 10:1:5로 희석하여 사용할 수 있다.

모든 이미지와 문양의 색상을 표현할 수 있으며 우레탄계 페인트로 백색을 포함하여 칼라 색상으로 표현이 이루어진다.

이러한 베이스 색상으로는 백색의 페인트를 사용하는 것이 바람직하다.

이러한 채색단계는 붓과 스프레이로 침착할 수 있고 건조나 경화단계를 거칠 수 있음은 물론이다.

채색은 다채색 기법 및 상감장식(다중채색) 기법으로 세필을 이용하여 작은 면에서 큰면 순서로 채색한다.

또한, 주조 색상, 바탕색, 배경색 등은 계획과 순서에 맞게 표현할 수 있도록 하고, 면적이 넓은 색상 처리는 칼, 붓, 스프레이 등 선택해서 단순면에서 복잡한면 순서로 처리하는 것이 바람직하다.

또한, 적용현장의 주변 환경과의 조화 및 설치 공간 등을 고려하여 색상과 표현기법으로 처리하고, 문양 표현의 그리드 및 연결부위면 처리는 자연스런 흐름의 전개표현이 되도록 한다.

이러한 베이스 채색층(130)은 비축광도료층을 형성하는 단계로 1차 내지 3차 도색작업을 통하여 진행할 수도 있다.

즉, 1차로 에폭시 계열의 투명 프라이머로 하도 처리를 하고, 2차로 우레탄계열의 페인트로 중도 도색하고, 3차로 우레탄 투명 클리어를 코팅하여 상도처리할 수도 있는 것이다.

상도 처리시의 투명 클리어는 유광 또는 무광을 선택하여 진행할 수 있음은 당연하다.

도색 후 스킴 방식의 융장착용 전동공구와 스크래퍼 칼날 공구를 이용하여 불필요한 석재 표면의 도료 뭉침 제거 및 채색면이 균일하도록 표면 정리 단계를 더 수행할 수도 있다.

이러한 표면 정리단계는 채색층과 석재면의 균일한 면을 유지하기 위한 것으로, 피가공재의 불순물 안착 및 이물질 침투 등을 사전에 차단 및 방지하는데 도움이 된다.

도 4의 본 발명의 축광 장식품의 제조 과정을 설명하기 위한 각 단계별 예시 도면을 참고하면, 음각문양(120)에 도색 및 표면정리가 된 석재가 도시되어 있다.

단계 S130에서 베이스 채색층(130)에 1차 기초색 도색작업이 완료되면, 단계 S140에서는 샌딩지를 부착하는 마스킹(Masking)단계를 수행한다.

고무시트로 된 샌딩지가 잘 부착되도록 먼지와 이물질을 제거한 후 마스킹 처리하는 이유는, 선 기법처리 된 베이스 채색층과 석재표면을 보호하기 위함이며, 디자인된 2차 가공(HE 기법과 샌딩 기법 포함)을 원활하게 수행하기 위해서이다.

샌딩 가공이 고압으로 분사되기 때문에 들뜨지 않고 부착력이 우수한 고무시트 사용이 바람직하다.

샌딩지는 고무판 또는 고무시트로 원활한 작업성과 가공면 즉 베이스 채색층(130)을 보호하기 위하여 석재(100)의 표면 전체에 부착한다.

도 5의 본 발명의 축광 장식품의 제조 과정을 설명하기 위한 각 단계별 예시 도면을 참고하면, 석재(100)와 베이스 채색층(130)의 표면 전체에 부착된 샌딩지(140)가 도시되어 있다.

채색된 베이스 채색층(130)은 주간용 가시성을 위한 것이므로, 야간용 축광 도료를 채색하기 위한 부분만 마스킹을 절단하여 샌드블라스트 기법으로 음각가공하고, 채색된 베이스면에서 축광도료를 채색하기 위한 부분을 제외한 부분을 보호하기 위하여 샌딩지를 석재의 표면 전체에 부착하는 것이다.

단계 S140에서 석재(100)의 표면 전체에 샌딩지가 부착되면, 2차 레이저 에칭단계를 수행하여 가공면 즉 축광 도료를 채색할 면의 샌딩지를 절단하는 2차 레이저 에칭단계를 수행한다(S150).

2차 레이저 에칭단계는 HE(Hard Eching)기법을 이용하여 레이저 음각 가공하는 단계로 HE(Hard Eching)기법은 원자재 표면에 고무시트를 부착한 후 레이저 빔을 이용하여 지정도면을(절취선) 컷팅하는 기법이다.

즉, 원하는 도안에 맞게 고무시트를 떼어낸 후 샌드블라스트기를 이용하여 음각 표현 및 붓질이나 스프레이 방식으로 채색이 이루어지도록 하기 위함이다.

사진 이미지 표현은 한계가 있으며 비교적 단순면 가공에 적합한 기법이며, 샌딩된 표면은 SE 기법에 비해 거친 요철면을 형성할 수 있으며, 깊이 조절과 함께 1mm 이상의 입체감(오목, 볼록)있는 표현에 적합하다.

이때, 문양부와 가공 부위 Out line의 샌딩지는 절단하여 제거하도록 한다.

도 6의 본 발명의 축광 장식품의 제조 과정을 설명하기 위한 각 단계별 예시 도면을 참고하면, 베이스 채색층(130)의 일부(a)와 석재면(b)에 샌딩지가 절단되어 있다.

이러한 샌딩지의 절단은 베이스 채색층의 일부 또는 석재면에 각각 또는 채색층의 일부와 석재면을 포함하여 진행할 수 있음은 물론이다.

또한, 샌딩지의 절단은 형성될 음각 문양이 베이스 채색층을 포함하여 석재의 표면에서 문양이나 이미지가 끊어짐이 없이 연속적으로 형성될 수 있도록 샌딩지를 절단하여야 한다.

도 6에서는 베이스 채색층의 일부와 석재면에 각각 "a"와 "b"의 폭으로 샌딩지가 절단되어 있다.

단계 S150에서 레이저 에칭으로 고무시트가 절단된 가공면을 샌드블라스트 기법을 이용하여 축광 도료 또는 일반 도료로 채색할 음각 문양을 가공하는 2차 음각 가공 단계를 수행한다(S160).

2차 음각 가공 단계에서는 축광도료 또는 일반도료 채색층을 형성하는 단계이나, 본 발명에서는 베이스 채색층(130)과 석재면에 각각 음각 가공면(121,122)을 형성하는 것으로 설명한다.

즉, 121의 음각가공면에는 베이스 채색층 상에 형성되는 것이므로, 주간용 베이스 채색층과는 달리 야간용 축광 도료 채색층을 형성하는 것이나, 122의 음각가공면은 축광도료 또는 일반 채색으로 채색층을 형성할 수 있음은 당연하다.

샌드블라스트(Sand Blast) 기법은 요철면을 형성하여 접착성이 강화되도록 처리하는 과정으로, 노즐에서 연마재를 분사하여 소재 표면을 다듬거나 절삭하는 가공 방법을 말하며, 기존에는 주로 녹 제거, 표면의 오염 제거, 돌출부 제거, 접착 또는 도금의 전처리 등에 사용된 기술이나, 현재는 알루미나(산화 알루미늄) 또는 탄화 규소 등의 세라믹 분말, 글래스 비드, 플라스틱 파우더 등을 연삭재로 사용할 수도 있다.

샌드블라스트의 종류에는 연마재와 물을 혼합한 뒤 노즐에서 분사하여 가공하는 습식 샌드블라스트(Wet blast)와 에어를 이용해 연마재만 노즐에서 분사하여 가공하는 건식 샌드블라스트(Air blast)가 있다.

습식 샌드블라스트와 건식 샌드블라스트의 차이를 살펴보면, 습식 샌드블라스트의 경우에는 연마재 주변에 물이 존재하기 때문에 정전기가 발생하지 않는다는 점과 연마재가 물을 통과해서 소재 표면에 닿기 때문에 건식 샌드블라스트에 비해 표면이 매끄럽게 다듬어진다는 특징이 있으나, 그만큼 습식 샌드블라스트는 건식 샌드블라스트에 비해 가공 능력이 떨어지게 된다.

샌드블라스트의 장치를 살펴보면 연마재가 들어있는 탱크를 가압시킨 뒤 고압 에어를 이용하여 연마재를 직접 노즐로 보내 노즐에서 분사시키는 직압식 샌드블라스트 장치와 일반적인 도료 등의 스프레이와 마찬가지로 노즐 안에서 고압 에어를 분사시켰을 때 발생하는 부압을 이용해 연마재를 노즐 안으로 흡입한 뒤 분사시키는 석션식 샌드블라스트 장치가 있다.

이러한 샌드블라스트기법은 채색면이나 석재면에 각각 또는 동시에 진행할 수 있다.

이때도 음각의 깊이는 축광 장식을 위해 음각 가공은 1mm 이상 기준으로 홈폭 가공이 적합하다.

희토산화물 축광안료는 0.3mm정도에서 포화 상태가 되며 축광층이 과대하게 두껍다고 발광효과가 높아지는 것은 아니다. 축광안료와 바인더(우레탄계), 경화제, 희석제의 혼합물로 이루어진 액상의 축광도료는 완전건조 및 완전경화 결과 최초 중량대비 50% 이내로 수축/감소하기 때문에 최소한의 음각가공 깊이는 홈폭 1mm 이상의 수치가 적합함(표준 수치)을 얻었다. 이는 베이스채색층과 축광도료, 코팅층을 포함해야 하기 때문에 깊이가 너무 얕으면 도색 시 액상의 도료 조성물이 넘치게 되거나, 건조경화 후 축광안료층 두께가 0.3mm를 갖지 못하면 발광력이 떨어지기 때문이다. 또한 홈폭 가공이 너무 깊으면 발광력 차이는 없으나 먼지, 이물질 침착이 많아지기 때문에 가공깊이를 선택하여 가공함이 바람직하다.

1mm 이상의 홈폭을 갖도록 음각가공하는 단계이며, 기초색(하도) 및 축광도료의 접착력을 강화하기 위해 거친 요철면을 형성하는 샌드블라스트 기법 단계이다.

샌딩 처리 후에는 에어 건을 이용하여 먼지, 이물질을 완전 제거하여 도색을 위한 준비를 할 수 있도록 한다.

즉, 샌드브라스트 가공으로 발생된 피가공재의 이물질 제거 및 피가공재 면고르기 작업을 수행하여 이물질, 불순물 제거 및 표면 정리하는 단계를 더 포함할 수 있다.

이때, 음각 가공 후 우레탄 신너와 브러쉬로 이물질을 제거할 수 있다.

도 7의 본 발명의 축광 장식품의 제조 과정을 설명하기 위한 각 단계별 예시 도면을 참고하면, 베이스 채색층의 일부(a)와 석재면(b)에 음각 가공된 문양이 도시되어 있다.

도면에서 샌드블라스트기법은 샌딩지(140)가 절단된 부분만 시행하기 때문에 축광 도료 채색면(a)의 주위에는 단계 S130에서 진행한 채색된 베이스면의 일부가 샌딩지(140)로 보호되어 주간용 가시성을 확보할 수가 있는 것이다.

이물질이 제거되면 축광도료를 도색하도록 한다(S170).

축광도료 도색단계는 음각 깊이와 축광 도료의 도료량과 도막 두께의 차이, 조색제의 투명도에 따라 시감휘도 및 발광정도에 차이를 보일 수 있다.

따라서, 음각의 깊이는 1mm이상으로 하고 최적의 시감휘도 및 발광을 확보하기 위하여 본 발명에서는 축광도료의 조성비를 다음과 같은 사항을 고려하여 결정한다.

본 발명의 축광장식품은 실내 사용은 물론이고, 직사광선 및 기온과 온도 변화, 습기, 풍화 작용 등의 노출에도 잘 견뎌내고 외부 사용에 적합한 동질의 우레탄계 수지를 포함하는 조성물질로 이루어지게 하는 것이 바람직하다.

또한 기존 야광은 장시간 빛을 받아야만 하며 단시간 빛을 내보내며, 물에 약하고 내구성이 취약했기에 이러한 단점을 개선하기 위해 희토산화물을 이용한 축광 안료는, 단시간 빛을 받아도 장시간 발광하는 물질이며 물속에서도 성능을 발휘할 수 있고 방사능 물질이 발생하지 않는 무해 물질로서 자연광, 인공광 등 빛을 축적하여 발광할 수 있어야 하며, 사용수명 또한 오래가야 한다.

이러한 희토산화물을 함유한 분말축광 안료와 우레탄계인 바인더와 조성되는 축광도료는 경화제와 혼합 사용할 때 산소와 결합하여 화학 작용에 의해 건조/경화 진행 된다.

축광 도료(축광안료+바인더)와 경화제 혼합사용 시 건조/경화가 순조롭게 이루어지고, 경화 후 축광 장식된 표면이 외부환경에서도 발광력과 접착력 그리고 도료의 보존성, 강도와 경도, 내구력 등과 함께 품질이 보장되어야 함은 마땅하다 하겠다.

이때 바인더 함량이 과도하게 초과 혼합조성 시에는 축광 안료가 빛-흡수-축적-방출-발광 과정을 진행하는데 있어 너무 많은 투명 조색제인 바인더의 방해와 분산으로 발광효과가 떨어지며 미약하다.

또한 축광 안료의 함량이 너무 적어도 발광력이 현저히 떨어져 야간의 축광 장식을 100% 발휘할 수 없다.

반대로 조색제인 바인더 함량이 너무 적거나 축광 안료가 과도하게 많았을 때는 점성이 적어 경화제와 만나 축광 도료의 건조/경화가 이루어지더라도 접착력이 떨어져 파단 및 탈락 현상이 잘 일어나며 내구력이 떨어진다.

또한 바인더 함량과 축광 안료 함량을 1:1의 혼합조성으로 이루어졌다 하더라도 경화제와 10:1의 혼합조성 비율을 맞추지 않는다면 건조/경화와 품질에 이상이 생긴다.

다시 말해 축광 도료(바인더+축광 안료) 함량이 과도하게 많거나 경화제 함량이 너무 적으면 건조/경화가 늦거나 연성재질의 무른 강도로 경화가 되고 접착력이 떨어져 내구력도 떨어진다.

또한 경화제 함량이 너무 많거나 분말축광 안료가 너무 많으면 단단하게 굳는 것 같으나 푸석푸석하고 혼탁해지며 외부충격 및 영향에 의한 파단이 잘 이루어지며, 이색 현상(백화현상 및 기포 발생)과 함께 접착성이 떨어져 축광/발광력에 영향을 주며 내구성에 영향을 미친다.

바인더와 축광 안료의 조성비율은 축광 도료 속 축광 안료가 흡수/축적/발광력을 100% 발휘되게 하고 이러한 축광도료의 접착과 함께 오랫동안 유지되어야 함에 있어 매우 중요하며 1:1의 혼합조성 비율은 최적의 조성비라 하겠다.

또한 바인더 함량과 분말축광 안료 함량은 1:1정도의 조성비로 적절한 혼합이 이루어져야 하고, 액상으로 이루어지는 분말축광 도료는 축광 및 발광력을 위해 지장이 없어야 하며, 건조/경화 후 결과물(축광장식면)은 오래 토록 유지되어야 한다.

따라서 적합한 표준비율인 주제와(축광도료) 부주제(경화제)의 혼합조성비는 10:1의 비율이라는 최적의 혼합조성 수치를 얻었고, 적합한 표준비율과 기법에 따르는 고점도와 조성비는 축광 장식품을 표현하는데 있어서 중요한 수치임에는 틀림이 없다 하겠다.

이에 앞서 도안에 맞게 석재원자재의 축광 도료층을 표현하기 위해서는 접착력을 증진하기 위한 적절한 깊이 조절과 접착력을 위해 거친 요철 면을 형성할 수 있는 샌드블라스트 공법이 바람직하다.

따라서, 본 발명에서는 주제인 축광도료의 조색비율은 바인더 중량 100을 기준으로 45%이상 함량기준과 축광분말안료를 40~45%함량기준으로 1:1 비율로 혼합하여 사용한다.

축광안료의 채색은 담황 ~ 황녹색으로 발광색은 황녹색으로 인간의 눈에 가장 밝게 느끼는 색(530nm전후의 파장)으로 발광한다. 또한 칼라축광 안료의 발광색은 체상에 거의 가까운 색으로 발광하지만, 시감휘도는 저하된다.

본 발명의 희토산화물을 함유한 축광 안료는 방사성물질 및 중금속을 포함한 위험, 유해성 물질을 포함하고 있지 않으므로 인체에 무해하며 어떠한 빛이라도 흡수, 저장하여 방출하는 높은 발광성을 가진 반영구적으로 사용 가능한 제품이다.

고온에서 형성된 화학적으로 극히 안정된 결정체로 내열성 및 내한성이 뛰어나 고온(1,200), 저온(-20)에서도 축광성이 보전되며, 내약품성이 우수하고, 축광과 발광의 기능을 반영구적으로 보전하며 태양광하에서도 물성의 변화가 없다.

축광안료는 자연광, 백열등, 형광등과 같은 불빛을 채광하여 축적한 에너지를 야간 또는 빛이 차단된 상태에서 오랫동안 천천히 빛에너지를 방출 발광하는 성질을 가진 안료로서 흡수축적발광 과정이 제한 없이 가능하기 때문에 지하철, 터널, 공공건물 등 안전관리 대상지역, 유도, 안전, 도로, 위치, 비상등에 사용하는 각종표지, 안전용품, 일반제품, 장식품류 등에 사용된다.

축광안료의 채색(주간에 보여지는 색상)은 담황색~연두색이 있으나, 주간색상의 가시효과를 위해 안료 및 바인더와 동일한 성분의 우레탄계 페인트(칼라색상)를 혼합, 조색하여 칼라축광안료를 만들어 사용할 수 있다.

이때 불투명한 칼라색상 비중이 바인더의 25% 내외를 가지는 축광안료의 비율을 초과하지 않는 것이 바람직하다. 불투명한 칼라색상 때문에 축광 및 발광력이 차단되어 야간에 발광성능이 떨어지기 때문이다.

기초색(하도/백색~칼라)을 도색하고 바인더와 혼합된 축광도료를 장식하여 주간의 가시성과 야간의 발광차이로 다양한 색상 대비와 장식 효과를 표현할 수 있다.

바인더와 혼합된 축광도료는 반투명의 재질을 가지며, 기초색상 표면에 도색 시 베이스 색상과 축광도료가 조합되어 밑색이 보일 정도의 은은한 파스텔 색상으로 발현된다.

명도가 가장 높은 기초색을 백색 처리로 할 경우에는 축광 도료(건조,경화 후 0.3mm이상의 도막 두께)의 발광휘도가 가장 높고 효과적이다. 또한 잔광시간이 증대되며 가장 높은 발광장식 효과를 보여줄 수 있다.

예를 들어 0.3mm 도장에서 백색시료의 감소율을 0(임의 단위)으로 하면, 은빛에서 10~15%, 녹색에서 30~35%, 흑색에 있어서는 45~50% 정도 휘도가 감소한다.

또한 축광의 체색도 기초의 색에 영향을 받는다.

이러한 희토산화물이 함유된 축광안료는 밀가루 사이즈 정도의 분말 (25um~45um 이내)을 사용하는 것이 본 발명의 축광도료 제조 및 사용함이 적합하다.

300um가 모래알 크기 정도이며 입자가 굵으면 균일한 조색과 깨끗한 표면을 표현하기가 어렵고, 또한 너무 작은 입자(25um이내)이면 혼합 사용 시 가루가 많이 날린다.

세밀한 밀도와 점성을 유지하여 균일한 도포면을 유지하고 액상의 도료 사용에 적합한 25um~45um 크기 사용이 바람직하다.

이러한 축광원료의 분자화학식은 방사능 물질을 포함하지 않는 크리스탈 구조의 분자로 "(Sr-aEua) AlO (Sr-aEua) O.n (Al-a-bBbDya) O"이고 비중은 3.6g/cm³ 이다.

발광휘도(mcd/m2)는 27W 조명(램프)으로 30분 빛을 흡수 시 최고휘도는 8300(mcd/m2)를 가진다.

감쇠시간(hours)은 발광색(녹색, 파랑, 보라, 노랑, 빨강)의 5~12시간으로 평균 10시간의 잔광시간을 가진다.

축광도료 도색 시 1mm가 표준이며, 건조/경화 결과 50% 이내로 수축/감소한다.

단위 면적당 축광안료를 최대한 많이 투입하는 것이 높은 휘도를 유지하는 비결이지만, 1mm 이상은 빛의 투과를 방해하기 때문에 휘도가 증가하지 않고 더 이상 밝아지지 않는다(축광안료 0.3mm 포함).

따라서 중량대비 축광도료 혼합적정비율(100기준)은 바인더(45% 이상의 함량기준)와 희토산화물이 첨가된 축광안료(40~45% 이내의 함량기준)를 1:1로 혼합 조색하여, 도색 시에 경화제(10% 내외 함량기준)와 10:1 중량비율로 혼합 사용함이 가장 적합함을 얻었다.

이때 축광안료와 경화제 혼합 시 10:1 비율은 정량비율이며, 경화제 비율이 높으면 도료의 겔화현상, 갈라짐, 이색현상 등이 발생할 수 있으며, 정량비율 보다 낮으면 내구성 및 접착력이 떨어지게 되므로 반드시 정량비로 사용함이 바람직하다.

희석재는 휘발성으로 도료의 농도와 분사량 조절을 위해 스프레이 작업 시에만 사용하고 축광 도료 도색 시 50% 내외로 혼합하여 희석 사용한다.

축광도료는 장시간 잔광 특성을 갖고 화학적으로 안정하며 내광성, 발광력을 보충할 수 있는 바인더와 축광안료, 경화제, 희석재로 이루어지는 것을 특징으로 한다.

축광도료는 잔광 시간과 경시 안정성이 우수한 축광 도료 조성물이어야 한다.

즉, 단계 S170에서의 2차 축광 도료 도색 작업은 베이스 채색층 윗면에 축광도료를 도색할 수도 있으며, 우레탄 페인팅을 하거나 석재면위에 축광도료와 비축광도료인 페인트를 선택 지정하여 표현할 수 있다.

문양 표현의 그리드 및 연결부위면 처리는 자연스런 흐름의 전개표현이 적합하다.

도 8의 본 발명의 축광 장식품의 제조 과정을 설명하기 위한 각 단계별 예시 도면을 참고하면, 채색면(a)과 석재면(b)에 1회 이상의 채색을 통하여 축광도료가 채색된 것이 도시되어 있다.

도면을 참고하면, 우레탄 페인트(백색 혹은 칼라 색상)로 일차 채색된 하도(도색)층(151) 윗면에 2차의 축광도료로 중도층(152)을 형성할 수도 있으며, 우레탄 페인팅을 하거나 석재면위에 축광도료와 비축광도료인 페인트를 선택 지정하여 표현할 수도 있으며, 또한, 3차로 우레탄계 투명 클리어 코팅층(필수 유광처리함)(153)을 포함할 수도 있다.

무광처리는 투명도를 떨어뜨려 축광/발광력에 영향을 주기 때문에 유광처리를 하여야 한다.

코팅층을 형성할 경우에는 클리어 투명 코팅 작업을 수행하는 데, 클리어 투명 코팅 작업은 투명도가 좋고 축광도료의 보존과 내광성, 내열성, 내한성, 축광성 등을 보충할 수 있어야 한다. 축광장식 표면에 투명 클리어를 도장하면 축광 장식 보존 및 내광성이 높아지고 오염이 방지가 된다.

축광장식 표면에 사용하는 코팅제는 투명도(여기도 및 축광 발광의 투과율)가 좋을수록 고휘도가 된다.

적정도막두께는 40~60um이며, 43이상의 고형분(wt%)으로 사용한다.

본 발명의 실시예에서는 베이스 채색층(130)의 일부(a)와 석재면(b)에 모두 축광 도료를 채색하는 것으로 설명하였으나, 베이스 채색층(130)의 일부(a) 또는 석재면(b) 중 어느 하나면 이상에 축광도료를 채색하여 야간용으로 사용할 수도 있고, 또한, 석재면(b)은 주간용으로 사용할 수도 있다.

주간용으로 채색할 경우에는 1차로 투명한 에폭시 프라이머로 하도를 형성하게 하고, 2차로 칼라의 우레탄 페인트를 체색하고, 3차로 우레탄 코팅 처리할 수도 있다.

단계 S170에서 2차 축광도료 도색단계가 완료되면, 도막층 강화 및 경화시간/작업시간 단축, 그리고 작업성 향상을 위하여 코팅층 건조/경화단계를 수행한다(S180).

자연건조경화는 25℃ 건조 시 4시간 소요되고, 강제건조경화는 가열기로 60℃ 가열 시 10분 건조한다.

단계 S180에서 건조 및 경화가 완료되면, 마스킹제거 단계 즉 샌딩지인 고무시트를 제거하고, 칼날공구를 이용하여 이물질과 돌출된 페인트 잔여물을 제거하여 표면을 깨끗하게 정리하는 단계를 수행하여 본 발명의 축광 장식품을 완성한다(S190).

도 9의 본 발명의 축광 장식품의 제조 과정을 설명하기 위한 각 단계별 예시 도면을 참고하면, 샌딩지가 제거된 축광 장식품이 도시되어 있다.

도면을 참고하면, 석재의 표면에 베이스 채색층(130) 사이에 축광 채색층(150)이 형성되고, 다른 축광 채색층이 베이스 채색층에 연속하여 이미지가 형성되어 주야간 문양이나 이미지가 연속적으로 표현될 수 있어 석재 표면 전체를 효율적으로 사용할 수 있을 뿐만 아니라, 소망하는 이미지 표출이나, 문양을 전체적으로 표현할 수 있다는 것을 알 수 있다.

상술한 단계로 제작되는 축광 장식품은 제1 음각의 문양(120)에 채색된 베이스 채색층(130)과 베이스 채색층(130) 또는 석재(110)에 형성된 제2 음각 문양(121,122)을 포함하고, 베이스 채색층(130)상에 형성된 제2 음각 문양(121)은 축광도료로 채색되고, 석재(110)에 형성된 제2 음각 문양(122)에는 축광도료층 또는 일반도료층으로 채색될 수 있다.

이러한 축광도료층은 우레탄 페인트로 채색된 하도층(151)과, 하도층(151)상에 축광도료로 채색된 축광도료층(152), 그리고 축광도료층(152)상에 우레탄계 투명 클리어로 코팅된 코팅층(153)으로 형성된다.

또한, 제1 음각 문양과 제2 음각 문양은 상기 석재 표면에 끊어짐이 없이 연속적으로 형성되어 전체적으로 심미감을 줄 수 있도록 형성한다.

상술한 단계로 제작된 축광 장식품이 도 10과 도 11에 예시되어 있다.

도 10은 본 발명의 일실시예에 의한 축광 장식품의 주간이미지를 일례로 도시한 도면이고, 도 11은 본 발명의 일실시예에 의한 축광 장식품의 야간 이미지를 일례로 도시한 도면이다.

도면을 참고하면, 본 발명은 석재 표면 전체에 연속적인 이미지를 구성한 것으로, 주간에는 원자재인 석재를 비롯한 석재 표면 전체에 형성된 이미지를 볼 수 있으며, 야간에는 축광 도료가 도색된 부분이 채색된 색상으로 발광하고 있어, 주간과 야간의 색상대비와 반전에 의한 장식효과를 부여할 수 있다.

즉, 야간용 축광도료는 베이스면의 SE기법으로 음각 가공하여 비축광으로 채색 후 HE기법으로 마스킹을 절단한 다음 샌딩가공을 하여 축광도료를 채색하거나 또는 석재표면에 HE기법으로 마스킹을 절단한 다음 샌딩가공 후 축광도료를 채색한 것이고, 주간용은 석재표면에 HE기법으로 마스킹을 절단한 다음 우레탄 페인트와 같은 비축광도료를 채색하거나 또는 석재표면에 SE기법으로 음각가공하여 비축광으로 채색한 것이다.

이러한 본 발명의 축광 장식품은 외부 공원장식용이나 건축물 벽체 등의 스톤벽화에 이용하거나, 실내 로비, 현관, 거실 , 침실 등과 같은 아트월로 사용할 수 있을 뿐만 아니라, 조형물/조경시설물/수중 제품과 기타 장식품으로 적용가능하다.

이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대하여 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허 청구범위에 속함은 당연한 것이다.

110 : 석재 120 : 음각 문양
130 : 베이스 채색층 140 : 샌딩지
150 : 축광도료층

Claims (10)

1. (a)석재에 음각의 문양을 새겨 베이스 채색층을 형성하는 1차 레이저 에칭 음각 가공 단계;
   (b)상기 베이스 채색층을 도색하는 기초색 도색 단계;
   (c)상기 석재의 표면에 샌딩지를 부착하는 단계;
   (d)축광도료로 채색할 면의 샌딩지를 절단하는 2차 레이저 에칭단계;
   (e)상기 (d)단계에서 샌딩지가 절단된 면을 샌드블라스트 기법으로 음각 문양을 형성하는 2차 음각 가공단계;
   (f)상기 2차 가공된 음각 문양에 축광도료를 도색하는 단계; 및
   (e)석재 표면의 잔여 샌딩지를 제거하는 단계;
   를 포함하는 축광 장식품의 제조 방법.
   
2. 제 1항에 있어서,
   상기 (a)단계는
   석재에 적용할 이미지를 가공하여 레이저에 적용할 가공파일을 생성하고, 석재를 가공 및 연마하여 소정 크기로 절단하고, 표면의 습기,먼지,이물질 등을 제거하는 원자재 준비단계;와
   상기 가공파일을 이용하여 레이저로 석재의 표면을 에칭으로 식각하여 베이스면 채색부위를 음각 가공하여 베이스 채색층을 형성하는 단계;
   를 포함하는 축광 장식품의 제조 방법.
   
3. 제 1항에 있어서,
   상기 (b)단계는
   상기 베이스 채색층에 백색 또는 칼라의 우레탄계 페인트를 이용하되 주제인 페인트 10중량부에 부주제인 경화제를 1중량비로 혼합하여 사용하는 축광 장식품의 제조 방법.
   
4. 제 1항에 있어서,
   상기 (d)단계는
   레이저 에칭으로 샌딩지를 절단하는 부분은 상기 베이스 채색층의 일부 또는 석재면의 일부 중 어느 하나 이상의 부분인 축광 장식품의 제조 방법.
   
5. 제 1항에 있어서,
   상기 (f)단계는
   상기 축광도료를 1회 이상 도포하고, 도포된 축광도료의 상층에 클리어 투명 코팅층을 형성하는 축광 장식품의 제조 방법.
   
6. 제 1항에 있어서,
   상기 (f)단계는
   베이스 채색층이 형성되지 않은 석재면에 2차 가공된 음각 문양이 형성되는 경우에는 축광도료 또는 비축광도료 중 어느 하나를 선택하여 도색하는 축광 장식품의 제조 방법.
   
7. 삭제
8. 석재에 형성된 제1 음각의 문양에 채색된 베이스 채색층;및
   상기 베이스 채색층 또는 상기 석재에 형성된 제2 음각 문양;
   을 포함하고,
   상기 제1 음각 문양과 제2 음각 문양은
   상기 석재 표면에 끊어짐이 없이 연속적으로 형성되고, 상기 제2 음각 문양에는 축광도료로 채색되며,
   상기 제1 음각 문양은 레이저 에칭으로 문양을 형성하고,
   상기 제2 음각 문양은
   상기 베이스 채색층을 포함한 석재의 표면을 샌딩지로 마스킹한 다음 레이저 에칭을 이용하여 샌딩지를 절단하고, 샌딩지가 절단된 면을 샌드블라스트 기법으로 음각 문양을 형성하는 축광 장식품.
   
9. 제 8항에 있어서,
   상기 제2음각문양은
   우레탄 페인트로 채색된 하도층;
   상기 하도층상에 축광도료로 채색된 축광도료층;
   상기 축광도료층상에 우레탄계 투명 클리어로 코팅된 코팅층;
   을 포함하는 축광 장식품.
   
   
   
   
   
   
10. 삭제

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