KR101586517B1 - 고분자 및 이를 포함하는 유기 발광 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 고분자의 제조방법, 이를 통해 제조된 고분자 및 이를 포함하는 유기 발광 장치에 관한 것이다. 본 발명에 따른 고분자를 포함하는 감광성 수지 조성물은 다양한 감광재로 적용할 수 있으며, 특히 백색 유기 발광 소자 (WOLED)용 컬러 필터 패턴의 제조시 적용할 수 있다.

Description

고분자 및 이를 포함하는 유기 발광 장치{POLYMER AND ORGANIC LIGHT-EMITTING APPARATUS USING THE SAME}
본 발명은 고분자 및 이를 포함하는 유기 발광 장치에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 고분자를 포함하는 컬러필터 및 이를 포함하는 유기 발광 장치에 관한 것이다.
최근 디스플레이 시장에서 가장 큰 비중을 차지하고 있는 액정표시장치(LCD) 및 발광다이오드(LED)의 백라이트유닛(BLU)을 이용한 액정표시장치(LCD)에 이어 유기 발광 소자(OLED)를 이용한 유기 발광 장치에 대한 관심이 점점 커지고 있다. 통상 유기 발광 소자(OLED)는 박막으로 제조할 수 있을 뿐만 아니라 향상된 색 특성을 얻을 수 있고 응답 속도가 액정 구동을 이용하는 액정표시장치(LCD)보다 현저히 빠르기 때문에 3D TV 제품에는 더 적합하다는 장점을 가지고 있다.
현재 소형 모바일 시장에서는 이미 AMOLED 제품이 상용화되어 출시되고 있고, 대형 TV에 대해서도 다양한 방식과 기술이 시도되고 있다. 이 중에서도 백색 유기 발광 소자 (WOLED)는 유기 발광 소자(OLED)를 이용하는 대형 디스플레이 제품에 좀 더 용이하게 적용할 수 있는 기술로 각 화소별로 컬러를 구현하기 위해서는 별도의 칼라 필터 층을 필요로 하게 된다.
본 발명자는 바인더 수지의 방출가스(out-gassing)는 감소되면서도 재용해성과 공정 특성은 저하되지 않는 고분자 및 이를 포함하는 유기 발광 장치에 대한 연구를 거듭한 끝에 본 발명에 이르렀다.
본 발명은 벤질메타크릴레이트; 에폭시기 및 에틸렌성 불포화 결합을 함유한 모노머; 불포화 카르복시산 에스테르류, 방향족 비닐 단량체류, 불포화 에테르류, N-비닐 3차 아민류, 및 불포화 이미드류로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 모노머; 산기를 함유한 모노머; 및 산 무수물을 포함하는 고분자이고, 상기 고분자 내에서 벤질메타크릴레이트의 함량이 0 초과 13 몰% 이하인 것인 고분자를 제공한다.
또한, 본 발명은 상기 고분자를 포함하는 바인더 수지, 에틸렌성 불포화 결합을 포함하는 중합성 화합물, 광개시제, 녹색 안료 및 용매를 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공한다.
또한, 본 발명은 1) 벤질메타크릴레이트; 불포화 카르복시산 에스테르류, 방향족 비닐 단량체류, 불포화 에테르류, N-비닐 3차 아민류, 및 불포화 이미드류로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 모노머; 에폭시기 및 에틸렌성 불포화 결합을 함유한 모노머; 및 개시제를 반응시키는 단계,
2) 상기 1) 단계의 생성물과 산기를 함유한 모노머를 반응시키는 단계, 및
3) 상기 2) 단계의 생성물과 산 무수물을 반응시키는 단계를 포함하며,
상기 3) 단계의 생성물의 전체 몰비를 기준으로, 상기 벤질메타크릴레이트의 몰비는 중 0 초과 13 몰% 이하인 것인 고분자의 제조방법을 제공한다.
또한, 본 발명은 상기 감광성 수지 조성물을 포함하는 감광재를 제공한다.
또한, 본 발명은 상기 감광재로 제조된 컬러필터, 블랙 매트릭스, 오버코트층, 컬럼 스페이서 및 인쇄배선반으로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나를 포함하는 유기 발광 장치를 제공한다.
본 발명의 일 실시상태는 바인더 수지의 방출가스(out-gassing)는 감소시키는 장점이 있다.
본 발명의 일 실시상태는 재용해성과 공정 특성은 저하되지 않는 장점이 있다.
이하 본 발명을 보다 상세히 설명한다.
본 발명은 벤질메타크릴레이트; 에폭시기 및 에틸렌성 불포화 결합을 함유한 모노머; 불포화 카르복시산 에스테르류, 방향족 비닐 단량체류, 불포화 에테르류, N-비닐 3차 아민류, 및 불포화 이미드류로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 모노머; 산기를 함유한 모노머; 및 산 무수물을 포함하는 고분자이고, 상기 고분자 내에서 벤질메타크릴레이트의 함량이 0 초과 13 몰% 이하인 것인 고분자를 제공한다.
상기 고분자 내에서 벤질메타크릴레이트의 함량이 0 몰%인 경우에는 현상시 기판과의 접착력이 약해져서 미세 패턴이 탈락되는 현상이 발생할 수 있으며, 13 몰% 초과인 경우에는 방출가스(out-gassing)가 다량으로 방출된다.
유기 발광 소자(OLED)는 미세한 양의 유기물 성분이나 수분에 의해 쉽게 열화되어 수명이 단축될 가능성이 있다. 이 때문에, 칼라 필터를 형성하는데 사용되는 재료들 중에서 방출가스(out-gassing)를 방출하는 재료가 많으면, 유기 발광 소자 (OLED)의 기능에 안 좋은 영향을 끼칠 수 있다.
또한, 유기 발광 소자 특히 백색 유기 발광 소자 (WOLED) 에 사용되는 재료들로부터 방출가스(out-gassing)를 줄이기 위한 연구가 필요한 실정이다.
상기 고분자의 산가는 50 ~ 130 KOH mg/g이고, 중량 평균 분자량은 1, 000 ~ 40,000일 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.
상기 에폭시기 및 에틸렌성 불포화 결합을 함유한 모노머로는 알릴 글리시딜에테르, 글리시딜 (메타)아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸 (메타)아크릴레이트, 글리시딜 5-노보넨-2-메틸-2-카복실레이트(엔도, 엑소 혼합물), 1,2-에폭시-5-헥센 및 1,2-에폭시-9-데센으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 종 이상의 화합물을 사용할 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
상기 불포화 카르복시산 에스테르류의 구체적인 예로는, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, 이소부틸(메타)아크릴레이트, t-부틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 이소보닐(메타)아크릴레이트, 에틸헥실(메타)아크릴레이트, 2-페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 테트라히드로퍼프릴(메타)아크릴레이트, 히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-클로로프로필(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 아실옥틸옥시-2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 글리세롤(메타)아크릴레이트, 2-메톡시에틸(메타)아크릴레이트, 3-메톡시부틸(메타)아크릴레이트, 에톡시디에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 메톡시트리프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 폴리(에틸렌 글리콜) 메틸에테르(메타)아크릴레이트, 페녹시디에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, p-노닐페녹시폴리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, p-노닐페녹시폴리프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 테트라플루오로프로필(메타)아크릴레이트, 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로이소프로필 (메타)아크릴레이트, 옥타플루오로펜틸(메타)아크릴레이트, 헵타데카플루오로데실(메타)아크릴레이트, 트리브로모페닐(메타)아크릴레이트, 메틸 α-히드록시메틸 아크릴레이트, 에틸 α-히드록시메틸 아크릴레이트, 프로필 α-히드록시메틸 아크릴레이트 및 부틸 α-히드록시메틸 아크릴레이트로 이루어진 그룹으로부터 선택될 수 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
상기 방향족 비닐 단량체류의 구체적인 예로는, 스티렌, α-메틸스티렌, (o,m,p)-비닐 톨루엔, (o,m,p)-메톡시 스티렌, 및 (o,m,p)-클로로 스티렌으로 이루어진 그룹으로부터 선택될 수 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
상기 불포화 에테르류의 구체적인 예로는, 비닐 메틸 에테르, 비닐 에틸 에테르, 및 알릴 글리시딜 에테르로 이루어진 그룹으로부터 선택될 수 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
상기 N-비닐 3차 아민류의 구체적인 예로는, N-비닐 피롤리돈, N-비닐 카바졸, 및 N-비닐 모폴린으로 이루어진 그룹으로부터 선택될 수 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
상기 불포화 이미드류의 구체적인 예로는, N-페닐 말레이미드, N-(4-클로로페닐) 말레이미드, N-(4-히드록시페닐) 말레이미드, 및 N-시클로헥실 말레이미드로 이루어진 그룹으로부터 선택될 수 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
상기 산기를 함유한 모노머는 (메트)아크릴산, 크로톤산, 이타콘산, 말레인산, 푸마르산, 모노메틸 말레인산, 이소프렌 술폰산, 스티렌 술폰산, 5-노보넨-2-카복실산 등으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 것을 이용할 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
상기 산 무수물로는 무수 말레인산, 무수 메틸 말레인산, 테트라하이드로 프탈산 무수물 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
본 발명은 1) 벤질메타크릴레이트; 불포화 카르복시산 에스테르류, 방향족 비닐 단량체류, 불포화 에테르류, N-비닐 3차 아민류, 및 불포화 이미드류로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 모노머; 에폭시기 및 에틸렌성 불포화 결합을 함유한 모노머; 및 개시제를 반응시키는 단계,
2) 상기 1) 단계의 생성물과 산기를 함유한 모노머를 반응시키는 단계, 및
3) 상기 2) 단계의 생성물과 산 무수물을 반응시키는 단계를 포함하며,
상기 3) 단계의 생성물의 전체 몰비를 기준으로, 상기 벤질메타크릴레이트의 몰비는 중 0 초과 13 몰% 이하인 것인 고분자의 제조방법을 제공한다.
본 발명의 고분자는 상기와 같이 3단계의 반응을 통하여 합성할 수 있다. 기본 아크릴 바인더 수지 합성 단계인 1) 단계, 상기 1) 단계의 기본 아크릴 바인더 수지에 불포화 결합을 도입하는 2) 단계, 상기 불포화 결합이 도입된 아크릴 바인더 수지에 산기를 부여하는 3) 단계로 구분된다.
상기 1) 단계에서는 에폭시기 및 에틸렌성 불포화 결합을 함유한 모노머 및 이와 공중합 가능한 모노머를 반복단위로 포함하여 합성한다.
상기 1) 단계의 에폭시기 및 에틸렌성 불포화 결합을 함유한 모노머와 공중합 가능한 모노머로는 불포화 카르복시산 에스테르류; 방향족 비닐 단량체류; 불포화 에테르류; N-비닐 3차 아민류; 불포화 이미드류로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
상기 1) 단계의 생성물을 기준으로, 벤질메타크릴레이트의 함량은 5 ~ 20 몰%이고, 에폭시기 및 에틸렌성 불포화 결합을 함유한 모노머의 함량은 30 ~ 90 몰%이며, 상기 에폭시기 및 에틸렌성 불포화 결합을 함유한 모노머와 공중합 가능한 모노머의 함량은 5 ~ 60 몰%일 수 있다.
상기 1) 단계에서 사용되는 개시제와 중합조건은 통상의 라디칼 중합에 사용되는 것이면 특별히 한정되지 않는다.
상기 2) 단계에서는 상기 1) 단계의 기본 아크릴 바인더 수지의 측쇄에 불포화 결합을 도입하는 단계로서 상기 1) 단계의 기본 아크릴 바인더 수지 내에 함유되어 있는 에폭시기를 산기를 함유한 모노머의 산기와 반응시켜 얻을 수 있다.
상기 3) 단계는 상기 2) 단계의 불포화 결합이 함유된 바인더 수지에 산기를 부여하는 반응으로 상기 2) 단계의 에폭시기와 산기 함유 모노머의 산기와의 반응을 통해 생성되는 히드록시기를 산 무수물과 반응시켜 얻을 수 있다.
상기 3) 단계에서 사용될 수 있는 산 무수물로는 무수 말레인산, 무수 메틸 말레인산, 테트라하이드로 프탈산 무수물 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
상기 3) 단계의 생성물인 고분자를 기준으로, 상기 벤질메타크릴레이트의 몰비는 중 0 초과 13 몰% 이하 인 것인 고분자를 제공한다.
이때, 벤질메타크릴레이트의 함량이 0 몰%인 경우에는 현상시 기판과의 접착력이 약해져서 미세 패턴이 탈락되는 현상이 발생할 수 있으며, 13 몰% 초과인 경우에는 방출가스(out-gassing)가 다량으로 방출된다.
한편, 본 발명에 따른 감광성 수지 조성물은 상기 고분자를 포함하는 바인더 수지, 에틸렌성 불포화 결합을 포함하는 중합성 화합물, 광개시제, 녹색 안료 및 용매를 포함한다.
본 발명에 따른 감광성 수지 조성물에 있어서, 상기 바인더 수지는 본 발명에 따른 고분자를 단독으로 구성될 수 있고, 상기 고분자 이외에 당 기술분야에 알려진 바인더 수지를 추가로 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 감광성 수지 조성물에 있어서, 상기 바인더 수지의 함량은 감광성 수지 조성물 총중량을 기준으로 1~20 중량%인 것일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
본 발명에 따른 감광성 수지 조성물에 있어서, 상기 에틸렌성 불포화 결합을 포함하는 중합성 화합물로는 에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 에틸렌기 2∼14인 폴리에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 프로필렌기 2∼14인 프로필렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타(메트)아크릴레이트 및 디펜타에리스리톨 헥사(메트)아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택되는 다가 알코올과 α,β-불포화 카르복실산을 에스테르화하여 얻어지는 화합물; 트리메틸올프로판 트리글리시딜에테르아크릴산 부가물, 비스페놀 A 디글리시딜에테르아크릴산 부가물로 이루어진 군에서 선택되는 글리시딜기를 함유하는 화합물에 (메트)아크릴산을 부가하여 얻어지는 화합물; β-히드록시에틸(메트)아크릴레이트의 프탈산디에스테르, β-히드록시에틸(메트)아크릴레이트의 톨루엔 디이소시아네이트 부가물로 이루어진 군에서 선택되는 수산기 또는 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 화합물과 다가 카르복실산과의 에스테르 화합물, 또는 폴리이소시아네이트와의 부가물; 및 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 부틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택되는 (메트)아크릴산 알킬에스테르 중에서 선택되는 1 종 이상일 수 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
상기 에틸렌성 불포화 결합을 포함하는 중합성 화합물의 함량은 감광성 수지 조성물 총 중량을 기준으로 2 ~ 30 중량%일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
상기 광개시제는 아세토페논계 화합물; 비이미다졸계 화합물; 트리아진계 화합물; 및 옥심계 화합물 중 선택된 어느 하나 이상일 수 있다.
상기 아세토페논계 화합물로는 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-(4-이소프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 4-(2-히드록시에톡시)-페닐-(2-히드록시-2-프로필)케톤, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 벤조인메틸 에테르, 벤조인에틸 에테르, 벤조인이소부틸 에테르, 벤조인부틸 에테르, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 2-메틸-(4-메틸티오)페닐-2-몰폴리노-1-프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-몰폴리노페닐)-부탄-1-온, 또는 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-몰폴리노프로판-1-온 등이 있으나. 이에만 한정되는 것은 아니다.
상기 비이미다졸계 화합물로는 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐 비이미다졸, 2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(3,4,5-트리메톡시페닐)-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐 비이미다졸, 또는 2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸 등이 있으나. 이에만 한정되는 것은 아니다.
상기 트리아진계 화합물로는 3-{4-[2,4-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진-6-일]페닐티오}프로피오닉산, 1,1,1,3,3,3-헥사플로로이소프로필-3-{4-[2,4-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진-6-일]페닐티오}프로피오네이트, 에틸-2-{4-[2,4-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진-6-일]페닐티오}아세테이트, 2-에폭시에틸-2-{4-[2,4-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진-6-일]페닐티오}아세테이트, 시클로헥실-2-{4-[2,4-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진-6-일]페닐티오}아세테이트, 벤질-2-{4-[2,4-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진-6-일]페닐티오}아세테이트, 3-{클로로-4-[2,4-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진-6-일]페닐티오}프로피오닉산, 3-{4-[2,4-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진-6-일]페닐티오}프로피온아미드, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-p-메톡시스티릴-s-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(1-p-디메틸아미노페닐)-1,3,-부타디에닐-s-트리아진, 또는 2-트리클로로메틸-4-아미노-6-p-메톡시스티릴-s-트리아진 등이 있으나. 이에만 한정되는 것은 아니다.
상기 옥심계 화합물로는 일본 시바사의 CGI-242, CGI-124 등이 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
상기 광개시제의 함량은 감광성 수지 조성물 총 중량을 기준으로 0.1 ~ 5 중량%일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
상기 안료로는 녹색용 감광성 조성물에 사용되는 안료로서 색 특성을 나타내기 위해 녹색 안료 단독으로 사용하거나, 녹색 안료와 노란색 안료를 혼용하여 사용할 수 있다.
상기 녹색 안료로는 트리아릴카보늄계인 Pig.Green#1(C.I.42040:1), Pig.Green#2(C.I.42040:1), Pig.Green#4(C.I.42000:2); Cu 프탈로시아닌계인 Pig.Green#7(C.I.74260), Pig.Green#36(C.I.74265); Zn 프탈로시아닌계인 Pig.Green#58, 메탈 복합체인 Pig.Green#8(C.I.10006), Pig.Green#10(C.I.12775) 등이 사용될 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
상기 노란색 안료로는 모노아조계인 Pig.Yellow#1(C.I.11680), Pig.Yellow#2(C.I.11730), Pig.Yellow#3(C.I.11710), Pig.Yellow#5(C.I.11660), Pig.Yellow#6(C.I.11670), Pig.Yellow#10(C.I.12710), Pig.Yellow#49(C.I.11765), Pig.Yellow#65(C.I.11740), Pig.Yellow#73(C.I.11738), Pig.Yellow#74(C.I.11741), Pig.Yellow#75(C.I.11770), Pig.Yellow#97(C.I.11767), Pig.Yellow#98(C.I.11727), Pig.Yellow#111(C.I.11745), Pig.Yellow#116(C.I.11790), Pig.Yellow#167(C.I.11737); 모노아조계 금속 복합체인 Pig.Yellow#61(C.I.13880), Pig.Yellow#62:1(C.I.13940:1), Pig.Yellow#100(C.I.19140:1), Pig.Yellow#168(C.I.13960), Pig.Yellow#169(C.I.13955), Pig.Yellow#183(C.I.18792); 비스아세토아세트아릴라이드계인 Pig.Yellow#16(C.I.20040); 디아릴라이드계인 Pig.Yellow#12(C.I.21090), Pig.Yellow#13(C.I.21100), Pig.Yellow#14(C.I.21095), Pig.Yellow#17(C.I.21105), Pig.Yellow#55(C.I.21096), Pig.Yellow#63(C.I.21091), Pig.Yellow#81(C.I.21127), Pig.Yellow#83(C.I.21108), Pig.Yellow#87(C.I.21107:1), Pig.Yellow#113(C.I.21126), Pig.Yellow#114(C.I.21092), Pig.Yellow#124(C.I.21107), Pig.Yellow#126(C.I.21101), Pig.Yellow#127(21102), Pig.Yellow#152(C.I.21111), Pig.Yellow#170(C.I.21104), Pig.Yellow#171(C.I.21106), Pig.Yellow#172(C.I.21109), Pig.Yellow#174(C.I.21098); 플라반스론계인 Pig.Yellow#24(C.I.70600); 디아조계 축합물인 Pig.Yellow#93(C.I.20710), Pig.Yellow#94(C.I.20038), Pig.Yellow#95(C.I.20034), Pig.Yellow#128(C.I.20037), Pig.Yellow#166(C.I.20035); 안스라퀴논계인 Pig.Yellow#123(C.I.65049), Pig.Yellow#147(C.I.60645); 알다진계인 Pig.Yellow#101(C.I.48052); 나프탈렌 술폰산 금속 복합체인 Pig.Yellow#104(C.I.15985:1); 안스라피리미딘계인 Pig.Yellow#108(C.I.68420); 이소인돌리논계인 Pig.Yellow#109(C.I.56284), Pig.Yellow#110(C.I.56280), Pig.Yellow#139(C.I.56298), Pig.Yellow#185(C.I.56290); 벤즈이미다졸론계인 Pig.Yellow#123(C.I.11783), Pig.Yellow#154(C.I.13980), Pig.Yellow#175(C.I.11784), Pig.Yellow#180(C.I.21290), Pig.Yellow#181(C.I.11777); 퀴노프탈론계인 Pig.Yellow#138(C.I.56300); 금속복합체인 Pig.Yellow#117(C.I.48043), Pig.Yellow#129(C.I.48042), Pig.Yellow#150(C.I.12764), Pig.Yellow#153(C.I.48545), Pig.Yellow#177(C.I.48120), Pig.Yellow#179(C.I.48125) 등이 사용될 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
상기 안료의 함량은 감광성 수지 조성물 총 중량을 기준으로 1 ~ 50 중량%일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
상기 녹색 안료와 노란색 안료를 혼용하여 사용하는 경우, 안료 총 중량을 기준으로 녹색 안료와 노란색 안료의 비율은 40:60 ~ 90:10 일 수 있다. 상기 전체 안료 내에서 녹색 안료의 함량이 90 중량%를 초과하는 경우 색재현율은 증가하지만 휘도가 감소하여 WOLED 패널의 효율이 떨어질 수 있다. 상기 전체 안료 내에서 녹색 안료의 함량이 40 중량% 미만인 경우에는 휘도는 상승하나, 색재현율이 감소하여 고색재현율 유기 발광 장치를 구현하는데 어려움이 있을 수 있다.
투과율 스펙트럼 상에서, 상기 녹색용 감광성 조성물의 피크의 범위는 470 ~ 610nm이다.
상기 용매는 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 메틸 이소부틸 케톤, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 테트라히드로퓨란, 1,4-디옥산, 에틸렌글리콜 디메틸 에테르, 에틸렌글리콜 디에틸 에테르, 프로필렌글리콜 디메틸 에테르, 프로필렌글리콜 디에틸 에테르, 디에틸렌글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 디에틸에테르, 디에틸렌글리콜 메틸 에틸 에테르, 클로로포름, 염화메틸렌, 1,2-디클로로에탄, 1,1,1-트리클로로에탄, 1,1,2-트리클로로에탄, 1,1,2-트리클로로에텐, 헥산, 헵탄, 옥탄, 시클로헥산, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 프로판올, 부탄올, t-부탄올, 2-에톡시 프로판올, 2-메톡시 프로판올, 3-메톡시 부탄올, 시클로헥사논, 시클로펜타논, 프로필렌글리콜 메틸 에테르 아세테이트, 프로펠렌글리콜 에틸 에테르 아세테이트, 3-메톡시부틸 아세테이트, 에틸 3-에톡시프로피오네이트, 에틸 셀로솔브아세테이트, 메틸 셀로솔브아세테이트, 부틸 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 및 디프로필렌글리콜 모노메틸에테르로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
상기 용매의 함량은 감광성 수지 조성물 총 중량을 기준으로 45 ~ 95 중량%일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
상기 감광성 수지 조정물은 광가교증감제, 경화촉진제, 분산제, 계면활성제, 밀착촉진제, 산화방지제, 열중합억제제, 자외선흡수제로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상의 첨가제를 추가로 포함할 수 있다.
상기 광가교증감제는 벤조페논, 4,4-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4-비스(디에틸아미노)벤조페논, 2,4,6-트리메틸아미노벤조페논, 메틸-o-벤조일벤조에이트, 3,3-디메틸-4-메톡시벤조페논 또는 3,3,4,4-테트라(t-부틸퍼옥시카보닐)벤조페논 등의 벤조페논계 화합물; 9-플로레논, 2-크로로-9-프로레논, 2-메틸-9-플로레논 등의 플로레논계 화합물; 티옥산톤, 2,4-디에틸 티옥산톤, 2-클로로 티옥산톤, 1-클로로-4-프로필옥시 티옥산톤, 이소프로필티옥산톤 또는 디이소프로필티옥산톤 등의 티옥산톤계 화합물; 크산톤 또는 2-메틸크산톤 등의 크산톤계 화합물; 안트라퀴논, 2-메틸 안트라퀴논, 2-에틸 안트라퀴논, t-부틸 안트라퀴논 또는 2,6-디클로로-9,10- 안트라퀴논 등의 안트라퀴논계 화합물; 9-페닐아크리딘, 1,7-비스(9-아크리디닐)헵탄, 1,5-비스(9-아크리디닐펜탄) 또는 1,3-비스(9-아크리디닐)프로판 등의 아크리딘계 화합물; 벤질, 1,7,7-트리메틸-비시클로[2,2,1]헵탄-2,3-디온, 9,10-펜안트렌퀴논 등의 디카보닐 화합물; 2,4,6-트리메틸벤조일 디페닐포스핀 옥사이드 또는 비스(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸 포스핀 옥사이드 등의 포스핀 옥사이드계 화합물; 메틸-4-(디메틸아미노)벤조에이트, 에틸-4-(디메틸아미노)벤조에이트 또는 2-n-부톡시에틸-4-(디메틸아미노)벤조에이트 등의 벤조페논계 화합물; 2,5-비스(4-디에틸아미노벤잘)시클로펜타논, 2,6-비스(4-디에틸아미노벤잘)시클로헥사논 또는, 2,6-비스(4-디에틸아미노벤잘)-4-메틸-시클로펜타논 등의 아미노 시너지스트; 3,3-카본닐비닐-7-(디에틸아미노)쿠마린, 3-(2-벤조티아졸일)-7-(디에틸아미노)쿠마린, 3-벤조일-7-(디에틸아미노)쿠마린, 3-벤조일-7-메톡시-쿠마린 또는 10,10'-카르보닐비스[1,1,7,7-테트라메틸-2,3,6,7-테트라히드로-1H,5H,11H-C1]-벤조피라노[6,7,8-ij]-퀴놀리진-11-온 등의 쿠마린계 화합물; 4-디에틸아미노 칼콘, 4-아지드벤잘아세토페논 등의 칼콘 화합물; 2-벤조일메틸렌, 또는 3-메틸-b-나프토티아졸린 등을 사용할 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
또한, 상기 경화촉진제로는 2-머캅토벤조이미다졸, 2-머캅토벤조티아졸, 2-머캅토벤조옥사졸, 2,5-디머캅토-1,3,4-티아디아졸, 2-머캅토-4,6-디메틸아미노피리딘, 펜타에리스리톨-테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 펜타에리스리톨-트리스(3-머캅토프로피오네이트), 펜타에리스리톨-테트라키스(2-머캅토아세테이트), 펜타에리스리톨-트리스(2-머캅토아세테이트), 트리메틸올프로판-트리스(2-머캅토아세테이트), 또는 트리메틸올프로판-트리스(3-머캅토프로피오네이트) 등을 사용할 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
상기 분산제는 미리 안료를 표면 처리하는 형태로 안료에 내부 첨가시키는 방법, 또는 안료에 외부 첨가시키는 방법으로 사용할 수 있다. 상기 분산제로는 고분자형, 비이온성, 음이온성, 또는 양이온성 분산제를 사용할 수 있으며, 그 예로는 폴리알킬렌글리콜 및 이의 에스테르, 폴리옥시알킬렌 다가 알콜, 아크릴계 분산제, 에스테르알킬렌 옥사이드 부가물, 알코올알킬렌옥사이드 부가물, 설폰산 에스테르, 설폰산염, 카르복실산에스테르, 카르복실산염, 알킬아미드알킬렌옥사이드 부가물, 및 알킬아민으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 계면활성제는 실리콘계 계면활성제 또는 불소계 계면활성제일 수 있으며, 구체적으로, 실리콘계 계면활성제는 BYK-Chemie 사의 BYK-077, BYK-085, BYK-300, BYK-301, BYK-302, BYK-306, BYK-307, BYK-310, BYK-320, BYK-322, BYK-323, BYK-325, BYK-330, BYK-331, BYK-333, BYK-335, BYK-341v344, BYK-345v346, BYK-348, BYK-354, BYK-355, BYK-356, BYK-358, BYK-361, BYK-370, BYK-371, BYK-375, BYK-380 또는 BYK-390 등을 사용할 수 있으며, 불소계 계면활성제로는 DIC(DaiNippon Ink & Chemicals) 사의 F-114, F-177, F-410, F-411, F-450, F-493, F-494, F-443, F-444, F-445, F-446, F-470, F-471, F-472SF, F-474, F-475, F-477, F-478, F-479, F-480SF, F-482, F-483, F-484, F-486, F-487, F-172D, MCF-350SF, TF-1025SF, TF-1117SF, TF-1026SF, TF-1128, TF-1127, TF-1129, TF-1126, TF-1130, TF-1116SF, TF-1131, TF1132, TF1027SF, TF-1441 또는 TF-1442 등을 사용할 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
상기 밀착촉진제는 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)-실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에톡시 시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 또는 3-머캅토프로필트리메톡시실란 등을 사용할 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
상기 산화방지제는 2,2'-티오비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 또는 2,6-g,t-부틸페놀 등을 사용할 수 있고, 상기 자외선 흡수제는 2-(3-t-부틸-5-메틸-2-히드록시페닐)-5-클로로-벤조트리아졸, 또는 알콕시 벤조페논 등을 사용할 수 있다. 또한 상기 열중합방지제는 히드로퀴논, p-메톡시페놀, 디-t-부틸-p-크레졸, 피로가롤, t-부틸카테콜, 벤조퀴논, 4,4'-티오비스(3-메틸-6-t-부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 또는 2-머캅토이미다졸 등을 사용할 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
상기 열중합억제제는 예컨대 p-아니솔, 히드로퀴논, 피로카테콜(pyrocatechol), t-부틸카테콜(t-butyl catechol), N-니트로소페닐히드록시아민 암모늄염, N-니트로소페닐히드록시아민 알루미늄염 및 페노티아진(phenothiazine)으로 이루어진 군으로부터 선택된 1 종 이상을 포함할 수 있으나, 이들로만 한정되는 것은 아니며 당 기술분야에 일반적으로 알려져 있는 것들을 포함할 수 있다.
상기 자외선흡수제, 가소제, 충전제 등도 종래의 감광성 수지 조성물에 포함될 수 있는 모든 화합물이 사용될 수 있다.
상기 첨가제의 함량은 각각 독립적으로 감광성 수지 조성물 총 중량을 기준으로 0.01 ~ 5 중량%일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
한편, 본 발명에 따른 감광성 수지 조성물은 롤 코터(roll coater), 커튼 코터(curtain coater), 스핀 코터(spin coater), 슬롯 다이 코터, 각종 인쇄, 침적 등에 사용되며, 금속, 종이, 유리 플라스틱 기판 등의 지지체 상에 적용될 수 있다. 또한, 필름 등의 지지체 상에 도포한 후 기타 지지체 상에 전사하거나 제1의 지지체에 도포한 후 블랭킷 등에 전사, 다시 제2의 지지체에 전사하는 것도 가능하며, 그 적용방법은 특별히 한정되지 않는다.
본 발명에 따른 감광성 수지 조성물을 경화시키기 위한 광원으로는, 예컨대 파장이 250 내지 450㎚의 광을 발산하는 수은 증기 아크(arc), 탄소 아크, Xe 아크 등이 있으나 반드시 이에 국한되지는 않는다.
본 발명에 따른 고분자를 포함하는 감광성 수지 조성물은 감광도 및 현상성이 우수할 뿐만 아니라, 테이퍼 각도가 높고 접착력이 우수한 특징이 있다. 따라서, 본 발명에 따른 고분자를 포함하는 감광성 수지 조성물은 다양한 감광재로 적용할 수 있으며, 특히 백색 유기 발광 소자 (WOLED)용 컬러 필터 패턴의 제조시 적용할 수 있다.
또한, 본 발명은 상기 감광성 수지 조성물을 포함하는 감광재를 제공한다.
본 발명에 따른 감광성 수지 조성물은 유기 발광 소자 특히 백색 유기 발광 소자 (WOLED)를 포함하는 유기 발광 장치의 컬러필터 제조용 안료분산형 감광재, 백색 유기 발광 소자 (WOLED)의 블랙 매트릭스 형성용 감광재, 오버코트층 형성용 감광재, 컬럼 스페이서 감광재에 사용될 수 있으나, 광경화성 도료, 광경화성 잉크, 광경화성 접착제, 인쇄판, 인쇄배선반용 감광재, 기타 투명 감광재, 및 PDP 제조 등에도 사용할 수 있으며, 그 용도에 제한을 특별히 두지는 않는다.
또한, 본 발명은 상기 감광재로 제조된 컬러필터, 블랙 매트릭스, 오버코트층, 컬럼 스페이서 및 인쇄배선반으로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나를 포함하는 유기 발광 장치를 제공한다.
상기 유기 발광 장치는 유기 발광 소자(OLED, Organic Light Emitting Diodes)를 이용한 장치이다. 상기 유기 발광 장치는 본 발명의 감광재로 제조된 컬러필터, 블랙 매트릭스, 오버코트층, 컬럼 스페이서 및 인쇄배선반 등을 포함하는 패널 및 백라이트유닛(BLU)을 포함한다.
이하, 본 발명을 실시예를 들어 상세하게 설명한다. 하기 실시예는 본 발명을 설명하기 위한 것으로, 본 발명의 범위는 하기의 특허청구범위에 기재된 범위 및 그 치환 및 변경을 포함하며, 실시예의 범위로 한정되지 않는다.
[합성예 1] 본 발명의 실시예에 따른 바인더 수지의 합성
(1) 1단계 : 기본 아크릴 바인더 수지 중합 단계
벤질메타크릴레이트와 N-페닐 말레이미드, 스티렌의 몰비가 약 1:2:2가 되도록 각각의 모노머인 벤질메타크릴레이트 10.3 g, N-페닐 말레이미드 23.8 g, 스티렌 14.0 g을 혼합하고, 여기에 글리시딜 메타크릴레이트 71.9 g, 사슬 이동제인 1-도데칸티올 4 g, 용매인 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트(PGMEA) 480 g을 기계적 교반기(mechanical stirrer)로 질소 분위기 하에서 30 분간 혼합하였다. 질소 분위기 하에서 반응기의 온도를 60 ℃로 높이고 혼합물의 온도가 60 ℃가 되었을 때 열중합 개시제인 V-65 용액 5g을 넣고 15 시간 동안 교반하였다. (Mw 6000, Av 0)
(2) 2단계 : 불포화 결합 도입
상기 1단계 고분자를 중합한 반응기의 온도를 80 ℃로 높이고, 테트라에틸암모늄 브로마이드 0.5 g과 열중합 금지제인 4-메톡시 페놀 0.1 g를 넣고 공기 분위기 하에서 3시간동안 교반한 후, 메타아크릴산 26.1 g를 넣고 100 ℃로 반응기 온도를 높이고 24 시간 동안 교반하였다. (Mw 8000, Av 5)
(3) 3단계 : 산기 부여
2단계에서 만들어진 고분자 용액의 온도를 70 ℃로 낮추고, 30.8 g의 테트라하이드로 프탈산 무수물을 넣고 80 ℃에서 24시간 추가로 교반하여 원하는 바인더 수지를 합성하였다. (Mw 10100, AV 75)
[합성예 2]
상기 합성예 1의 합성 단계 1에서 벤질메타크릴레이트와 N-페닐 말레이미드, 스티렌의 몰비가 약 1:1:1이 되도록 각각의 모노머인 벤질메크릴레이트 17.1 g, N-페닐 말레이미드 19.8 g, 스티렌 11.7 g, 글리시딜 메타크릴레이트 71.9 g를 사용한 것을 제외하고는 동일하게 3단계까지 반응시켜 바인더 수지를 합성하였다.(Mw 10700, AV 79)
[합성예 3]
상기 합성예 1의 합성 단계 1에서 벤질메타아크릴레이트와 N-페닐 말레이미드, 스티렌의 몰비가 약 6:1:1이 되도록 각각의 모노머인 벤질메타크릴레이트 38.5 g, N-페닐 말레이미드 7.4 g, 스티렌 4.4 g, 글리시딜 메타크릴레이트 71.9 g를 사용한 것을 제외하고는 동일하게 3단계까지 반응시켜 바인더 수지를 합성하였다. (Mw 10300, AV 76)
[합성예 4]
상기 합성예 1의 합성 단계 1에서 벤질메타크릴레이트 대신 메틸메타크릴레이트를 사용하여 메틸메타크릴레이트와 N-페닐 말레이미드, 스티렌의 몰비가 약 1:2:2가 되도록 각각의 모노머인 메틸메타크릴레이트 6.8 g, N-페닐 말레이미드 23.8 g, 스티렌 14.0g, 글리시딜 메타크릴레이트 71.9 g를 사용한 것을 제외하고는 동일하게 3단계까지 반응시켜 바인더 수지를 합성하였다.(Mw 10000, AV 80)
[실시예 1]
안료로서 피그먼트 Green 7, 5.08 중량부, 피그먼트 yellow 185, 0.85 중량부, 상기 합성예 1에서 제조된 바인더 수지 2.0 중량부, 에틸렌성 불포화 중합성 화합물로 디펜타에리스리톨 펜타(메트)아크릴레이트 3.18중량부, 광개시제로 I-907(BASF社) 0.26중량부, I-369 ((BASF社) 0.39중량부, CGI-124(BASF社) 0.65중량부, 첨가제로 분산제인 아크릴계 분산제 3.62 중량부, 밀착촉진제로 3-메타아크릴옥시프로필트리메톡시실란 0.13 중량부, 계면활성제로 F-475 (DaiNippon Ink & Chemicals) 0.04 중량부, 용매로 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트 83.8 중량부를 혼합하였으며, 상기 혼합물을 5시간 동안 교반하여 유기 발광 장치의 녹색 감광성 조성물을 제조하였다.
[실시예 2]
상기 실시예 1에서 바인더 수지로 합성예 2의 바인더 수지를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여 유기 발광 장치의 녹색 감광성 조성물을 제조하였다.
[비교예 1]
상기 실시예 1에서 바인더 수지로 합성예 3의 바인더 수지를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여 유기 발광 장치의 녹색 감광성 조성물을 제조하였다
[비교예 2]
상기 실시예 1에서 바인더 수지로 합성예 4의 바인더 수지를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여 유기 발광 장치의 녹색 감광성 조성물을 제조하였다.
[실험예]
1. 방출가스(out-gassing) 평가
상기 실시예 및 비교예의 녹색 감광성 수지 조성물을 유리 위에 스핀코팅하여 핫플레이트에서 100도 80초간 프리베이크(pre-bake)를 실시하고, 40mJ/cm2로 마스크 없이 전면으로 노광을 실시한 뒤 230도 컨벡션 오븐(convection oven)에서 20분간 소성을 실시하였다. 상기의 녹색 감광성 수지 조성물이 도포된 기판을 1cmX5cm의 크기로 잘라서 230도 30분간 퍼지와 트랩(Purge & Trap) 방식으로 가스 크로마토그래피(GC)/질량분석기(Mass spectroscopy)를 이용하여 방출가스(out-gassing)를 평가하였다.
2. 재용해성 평가
상기 실시예 및 비교예의 녹색 감광성 수지 조성물을 유리 위에 스핀코팅하여 100도의 핫플레이트에서 2분, 5분, 10분간 프리베이크(pre-bake)를 실시한 뒤 1cmX5cm의 크기로 잘라서 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트(PGMEA) 용매에 침지시켜 코팅 및 건조된 녹색 감광성 조성물이 용해되어 나오는 특성을 관찰하였다.
3. 공정 특성 평가
상기 실시예 및 비교예의 녹색 감광성 수지 조성물을 유리 위에 스핀코팅하여 핫플레이트에서 100도 80초간 프리베이크(pre-bake)를 실시하고, 크기 별로 사각형(square) 모양의 패턴이 있는 마스크를 이용하여 40mJ/cm2로 노광을 실시한 뒤 수산화칼륨(KOH) 0.04% 알칼리 현상액으로 25도에서 70초간 현상을 실시한 뒤 작은 크기의 사각형(square) 모양의 패턴의 현상 공정에 의해 제거되지 않고 남아 있는 정도를 관찰하였다.
방출가스(out-gassing)함량 재용해 특성 공정 특성(패턴크기)
실시예 1 0.15 μg/g 10분 용해 > 10μm
실시예 2 0.18 μg/g 10분 용해 > 10μm
비교예 1 0.47 μg/g 10분 용해 > 10μm
비교예 2 0.23 μg/g 10분 용해 > 20μm
상기 표 1의 결과에서 확인할 수 있는 바와 같이, 본 발명과 같이 벤질메타크릴레이트(benzyl methacrylate)의 함량을 줄인 경우(실시예 1 및 실시예 2) 방출가스(out-gassing)의 성분의 양이 비교예 1과 비교하여 크게 감소하는 효과를 관찰하였으나, 기판 접착력에 효과가 있는 벤질메타크릴레이트(benzyl methacrylate)를 완전 제거하는 경우(비교예 2)에는 현상 공정 특성이 좋지 못하여 미세 패턴이 탈락하게 된다.

Claims (9)

  1. 벤질메타크릴레이트로부터 유래된 반복단위; 에폭시기 및 에틸렌성 불포화 결합을 함유한 모노머로부터 유래된 반복단위; N-페닐 말레이미드, N-(4-클로로페닐) 말레이미드, N-(4-히드록시페닐) 말레이미드, 및 N-시클로헥실 말레이미드로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 불포화 이미드류로부터 유래된 반복단위; 스티렌, α-메틸스티렌, (o,m,p)-비닐 톨루엔, (o,m,p)-메톡시 스티렌, 및 (o,m,p)-클로로 스티렌로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 방향족 비닐 단량체류로부터 유래된 반복단위; 산기를 함유한 모노머로부터 유래된 반복단위; 및 산 무수물로부터 유래된 반복단위로 이루어진 고분자이고,
    상기 고분자 내에서 벤질메타크릴레이트로부터 유래된 반복단위의 함량이 0 초과 13 몰% 이하인 것인 고분자.
  2. 청구항 1에 있어서, 상기 고분자의 산가는 50 ~ 130 KOH mg/g이고, 중량 평균 분자량은 1, 000 ~ 40,000인 것을 특징으로 하는 고분자.
  3. 청구항 1 또는 청구항 2의 고분자를 포함하는 바인더 수지, 에틸렌성 불포화 결합을 포함하는 중합성 화합물, 광개시제, 녹색 안료 및 용매를 포함하는 감광성 수지 조성물.
  4. 청구항 3에 있어서, 상기 녹색 안료는 노란색 안료와 혼합된 것인 감광성 수지 조성물.
  5. 청구항 4에 있어서, 상기 녹색 안료 총 중량을 기준으로 녹색 안료와 노란색 안료의 혼합 비율은 40:60 ~ 90:10인 것인 감광성 수지 조성물.
  6. 청구항 3에 있어서, 상기 감광성 수지 조정물은 광가교증감제, 경화촉진제, 분산제, 계면활성제, 밀착촉진제, 산화방지제, 열중합억제제, 자외선흡수제로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상의 첨가제를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물.
  7. 1) 벤질메타크릴레이트; N-페닐 말레이미드, N-(4-클로로페닐) 말레이미드, N-(4-히드록시페닐) 말레이미드, 및 N-시클로헥실 말레이미드로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 모노머; 스티렌, α-메틸스티렌, (o,m,p)-비닐 톨루엔, (o,m,p)-메톡시 스티렌, 및 (o,m,p)-클로로 스티렌로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 모노머; 에폭시기 및 에틸렌성 불포화 결합을 함유한 모노머; 및 개시제를 반응시키는 단계,
    2) 상기 1) 단계의 생성물과 산기를 함유한 모노머를 반응시키는 단계, 및
    3) 상기 2) 단계의 생성물과 산 무수물을 반응시키는 단계를 포함하며,
    상기 3) 단계의 생성물의 전체 몰비를 기준으로, 상기 벤질메타크릴레이트로부터 유래된 반복단위의 몰비는 중 0 초과 13 몰% 이하인 것인 고분자의 제조방법.
  8. 청구항 3의 감광성 수지 조성물을 포함하는 감광재.
  9. 청구항 8의 감광재로 제조된 컬러필터, 블랙 매트릭스, 오버코트층, 컬럼 스페이서 및 인쇄배선반으로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나를 포함하는 유기 발광 장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR100996591B1 (ko) * 2006-12-26 2010-11-25 주식회사 엘지화학 액정 디스플레이용 블랙 매트릭스 고감도 감광성 수지조성물 및 이를 이용하여 제조되는 블랙 매트릭스
KR20090042341A (ko) * 2007-10-26 2009-04-30 주식회사 엘지화학 알칼리 가용성 수지, 및 이를 포함하는 네가티브형 감광성수지 조성물

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004361455A (ja) * 2003-06-02 2004-12-24 Sumitomo Chem Co Ltd 着色感光性樹脂組成物

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