KR101561222B1 - Apparatus for rotating substrate - Google Patents

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Abstract

기판 회전 장치가 개시된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 회전 장치는, 기판의 회전이 진행되도록 마련되는 공정챔버; 공정챔버 내부에 배치되며 기판이 안착되는 경우 기판을 회전시키는 기판플립유닛; 및 기판플립유닛에 유동(遊動)가능하게 결합되며, 기판이 기판플립유닛에 안착되도록 기판을 가압하는 클램프유닛을 포함한다.A substrate rotating apparatus is disclosed. According to an aspect of the present invention, there is provided a substrate rotating apparatus including: a process chamber in which rotation of a substrate is advanced; A substrate flip unit disposed within the process chamber and rotating the substrate when the substrate is seated; And a clamping unit coupled to the substrate flip unit movably so as to press the substrate such that the substrate is seated on the substrate flip unit.

Description

기판 회전 장치{APPARATUS FOR ROTATING SUBSTRATE}[0001] APPARATUS FOR ROTATING SUBSTRATE [0002]

본 발명은, 기판 회전 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 기판을 회전시키는 기판플립유닛에 클램프유닛이 유동가능하게 결합되어 기판을 기판플립유닛에 용이하게 안착시킬 수 있는 기판 회전 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate rotating apparatus, and more particularly, to a substrate rotating apparatus capable of easily clamping a substrate to a substrate flip unit by clamping a clamp unit to a substrate flip unit for rotating the substrate .

일반적으로 기판이라 함은, 플라즈마 디스플레이(PDP, Plasma Display Panel), 액정디스플레이(LCD, Liquid Crystal Display) 및 유기EL(OLED, Organic Light Emitting Diodes)과 같은 평판표시소자(FPD, Flat Panel Display), 반도체용 웨이퍼(wafer), 포토 마스크용 글라스(glass) 등을 가리킨다.In general, the substrate refers to a flat panel display (FPD) such as a plasma display panel (PDP), a liquid crystal display (LCD), and organic light emitting diodes (OLED) Semiconductor wafers, photomask glass, and the like.

여기서, 평판표시소자(FPD)로서의 기판과, 반도체용 웨이퍼로서의 기판은 상호간 재질적인 면이나, 용도 등에서 차이가 있지만, 기판들에 대한 일련의 처리 공정, 예를 들어 노광, 현상, 에칭, 스트립, 린스, 세정 등의 공정은 실질적으로 매우 흡사하며, 이 공정들이 순차적으로 진행됨으로써 기판이 제조된다.Here, the substrate as the flat panel display element (FPD) and the substrate as the wafer for semiconductor are different from each other in terms of material, use, and the like, but a series of processing steps for the substrates, for example, exposure, development, etching, strip, The processes such as rinsing, cleaning and the like are substantially very similar, and the substrates are produced by sequentially progressing these processes.

그리고, 평판표시소자(FPD) 중에서 요즘에 각광받고 있는 유기전계발광표시장치(OLED, Organic Light Emitting Display)는 유기물의 자체 발광에 의해 컬러 화상을 구현하는 초경박형 표시장치로서, 낮은 전압에서 구동이 가능하고 얇은 박형으로 만들 수 있으며, 넓은 시야각과 빠른 응답 속도를 갖고 있고, 그 구조가 간단하면서 광효율이 높다는 점에서 차세대의 유망 디스플레이 장치로서 주목받고 있다. An organic light emitting display (OLED), which is currently popular among flat panel display devices (FPDs), is a cemented carbide type display device that implements a color image by self-emission of organic materials. And has a wide viewing angle and a fast response speed, and has been attracting attention as a next-generation promising display device because of its simple structure and high light efficiency.

이러한 OLED는 애노드와 캐소드 그리고, 애노드와 캐소드 사이에 개재된 유기막들을 포함하고 있는데, 여기서, 유기막들은 최소한 발광층을 포함하며, 발광층 이외에도 정공 주입층, 정공 수송층, 전자 수송층, 전자주입층을 더 포함할 수 있다.The OLED includes an anode, a cathode, and organic layers interposed between the anode and the cathode. Here, the organic layers include at least a light emitting layer, and a hole injecting layer, a hole transporting layer, an electron transporting layer, .

그리고, OLED는 유기막 특히, 발광층을 이루는 물질에 따라서 고분자 유기발광소자와 저분자 유기발광소자로 나누어질 수 있다. The OLED can be divided into a polymer organic light emitting device and a low molecular weight organic light emitting device depending on an organic film, especially a material forming the light emitting layer.

또한, OLED에서 풀 칼라(full color)를 구현하기 위해서는 발광층을 패터닝해야 하는데, 대형 OLED를 제작하는 방식으로는 FMM(Fine Metal Mask, 이하 마스크라 함)을 이용한 직접 패터닝 방식과 LITI(Laser Induced Thermal Imaging) 공법을 적용한 방식, 컬러 필터(color filter)를 이용하는 방식 등이 있다.In order to realize a full color in an OLED, a light emitting layer must be patterned. As a method of manufacturing a large OLED, a direct patterning method using a fine metal mask (hereinafter referred to as FMM) and a laser induced thermal Imaging method, and a method using a color filter.

그리고, OLED의 제조공정은 크게 패턴(Pattern) 형성 공정, 증착공정, 봉지 공정, 그리고 증착된 기판과 봉지 공정을 거친 기판을 붙이는 합착 공정이 있다. 여기서, 증착공정은 증착원에 구비된 증착물질을 기판에 부착시키는 공정이다.The manufacturing process of the OLED includes a pattern forming process, a deposition process, an encapsulating process, and a laminating process in which a substrate having undergone a deposited substrate and an encapsulating process is attached. Here, the deposition process is a process of attaching the deposition material provided in the evaporation source to the substrate.

한편, 증착공정이 진행되기 전, 다양한 경우의 필요에 따라 기판의 상판과 하판의 위치가 서로 변경되도록 기판을 회전시키는 경우가 있다.On the other hand, before the deposition process is performed, the substrate may be rotated so that the positions of the upper and lower substrates of the substrate are changed according to various needs.

예를 들어, 증착공정의 이전단계의 공정에서 기판의 상판과 하판이 뒤집혀진 상태, 즉, 상판이 아랫부분에 위치하고 하판이 윗부분에 위치하는 경우, 기판의 증착면 변경을 위해 기판의 상판이 윗부분에 위치하고 하판이 아랫부분에 위치하도록 기판 전체를 회전시키게 된다.For example, in the process of the previous step of the deposition process, when the upper and lower substrates of the substrate are turned upside down, that is, when the upper and lower substrates are positioned on the lower and upper sides, And the entire substrate is rotated so that the lower plate is positioned at the lower part.

이를 위해, 증착공정의 진행 전 기판의 상판과 하판의 위치가 상호 변경되도록 회전하는 기판의 플립공정이 실시될 수 있다.For this purpose, a flip process may be performed on the substrate that is rotated so that the positions of the upper and lower substrates of the substrate are changed before proceeding with the deposition process.

여기서, 종래의 경우, 기판의 회전시 기판을 고정하는 클램프가 플립장치와 별개로 배치되어 기판 고정시 플립장치로 이동하게 되는데, 클램프를 이동하는 데 필요한 시간이 증대되어 택트타임(Tact Time)이 증가하는 문제점이 있었다.Here, in the conventional case, the clamp for fixing the substrate when the substrate is rotated is disposed separately from the flip device, and is moved to the flip device when the substrate is fixed. However, since the time required for moving the clamp is increased and the tact time There was an increasing problem.

또한, 클램프를 이동시키는 클램프구동유닛이 공정챔버 내부에 배치되면 회전반경이 커지게 되어 공정챔버 사이즈가 증가하고, 이로 인해, 전체 공정에 필요한 비용이 증가하는 문제점이 있었다.Further, when the clamp driving unit for moving the clamp is disposed inside the process chamber, the turning radius is increased, which increases the size of the process chamber, thereby increasing the cost required for the entire process.

대한민국등록특허 등록번호:제10-1314540호(공고일자:2013년10월04일)Korea Registered Patent Registration No: 10-1314540 (Date of Notification: October 04, 2013)

따라서 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 기판을 회전시키는 기판플립유닛에 클램프유닛이 유동가능하게 결합되어 기판을 기판플립유닛에 용이하게 안착시킬 수 있으며, 이로 인해, 클램프 이동시간이 단축되어 택트타임이 감소되고, 회전반경이 줄어 공정챔버의 사이즈 감소에 따라 비용이 감소될 수 있는 기판 회전 장치를 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to provide a substrate flip unit in which a clamp unit is movably coupled to a substrate flip unit for rotating a substrate, thereby easily mounting the substrate on the substrate flip unit, Is reduced, and the turning radius is reduced, so that the cost can be reduced as the size of the process chamber is reduced.

본 발명의 일 측면에 따르면, 기판의 회전이 진행되도록 마련되는 공정챔버; 상기 공정챔버 내부에 배치되며 상기 기판이 안착되는 경우 상기 기판을 회전시키는 기판플립유닛; 및 상기 기판플립유닛에 유동(遊動)가능하게 결합되며, 상기 기판이 상기 기판플립유닛에 안착되도록 상기 기판을 가압하는 클램프유닛을 포함하는 기판 회전 장치가 제공될 수 있다.According to an aspect of the present invention, there is provided a plasma processing apparatus comprising: a processing chamber in which rotation of a substrate is advanced; A substrate flip unit disposed within the process chamber and rotating the substrate when the substrate is seated; And a clamping unit coupled to the substrate flip unit movably so as to press the substrate so that the substrate is seated on the substrate flip unit.

또한, 상기 클램프유닛에 접촉 또는 접촉해제되어 상기 클램프유닛을 구동시키는 클램프구동유닛을 더 포함할 수 있다.The clamp unit may further include a clamp driving unit for contacting or releasing the clamp unit to drive the clamp unit.

그리고, 상기 클램프유닛에 결합되며, 상기 클램프유닛에 탄성력을 제공하는 탄성유닛을 더 포함할 수 있다.The clamp unit may further include an elastic unit coupled to the clamp unit and providing an elastic force to the clamp unit.

또한, 상기 클램프유닛은, 상기 기판에 접촉되어 상기 기판을 가압하도록 마련되는 기판가압유닛; 상기 기판가압유닛에 접촉되어 상기 기판가압유닛에 구동력을 전달하는 구동력전달유닛을 포함할 수 있다.Further, the clamp unit may further include: a substrate pressing unit which is brought into contact with the substrate to press the substrate; And a driving force transmitting unit for contacting the substrate pressing unit and transmitting a driving force to the substrate pressing unit.

그리고, 상기 구동력전달유닛은, 상기 기판가압유닛에 접촉되는 기판가압유닛구동부재; 상기 기판가압유닛구동부재에 결합되며, 회동축을 중심으로 회동가능하게 마련되는 회동부재; 및 상기 회동부재에 결합되며, 상기 클램프구동유닛이 접촉되도록 마련되는 구동력전달부재를 포함할 수 있다.The driving force transmitting unit includes: a substrate pressing unit driving member which is brought into contact with the substrate pressing unit; A pivoting member coupled to the substrate pressing unit driving member and rotatable about a pivot axis; And a driving force transmitting member coupled to the pivoting member and adapted to be brought into contact with the clamp driving unit.

또한, 상기 탄성유닛은 코일스프링으로 마련되며, 상기 코일스프링의 일측이 상기 기판플립유닛에 결합되고, 상기 코일스프링의 타측이 상기 기판가압유닛에 결합될 수 있다.Further, the elastic unit may be a coil spring, one side of the coil spring may be coupled to the substrate flip unit, and the other side of the coil spring may be coupled to the substrate pressing unit.

그리고, 상기 기판가압유닛에 결합되어 상기 기판가압유닛의 상하방향 이동을 가이드하는 상하이동가이드를 더 포함할 수 있다.The apparatus may further include a vertical movement guide coupled to the substrate pressing unit to guide the vertical movement of the substrate pressing unit.

또한, 상기 상하이동가이드는 LM가이드(Linear Motion Guide)로 마련될 수 있다.In addition, the up-and-down movement guide may be provided by an LM guide (Linear Motion Guide).

그리고, 상기 기판가압유닛구동부재는, 상기 회동부재에 결합되는 회동부재결합부; 상기 회동부재결합부로부터 이격되어 배치되며, 상기 기판가압유닛을 가압하는 기판가압유닛가압부; 및 상기 회동부재결합부와 상기 기판가압유닛가압부를 연결하는 중간연결부를 포함할 수 있다.The substrate pressing unit driving member may include: a rotating unit recombining unit coupled to the rotating member; A substrate pressing unit pressing part which is disposed apart from the rotary part recombining part and which presses the substrate pressing unit; And an intermediate connection part connecting the pivotal part recombination part and the substrate pressing unit pressing part.

또한, 상기 기판가압유닛은 상기 기판의 하측에서 상측방향으로 상기 기판을 가압하도록 마련될 수 있다.Further, the substrate pressing unit may be arranged to press the substrate upward from the lower side of the substrate.

그리고, 상기 기판플립유닛은, 하측에 배치되는 바닥플레이트; 상기 바닥플레이트의 측면에 결합되는 측면플레이트; 및 상기 측면플레이트에 결합되며 상기 기판이 안착되는 기판안착플레이트를 포함할 수 있다.The substrate flip unit may include: a bottom plate disposed on the lower side; A side plate coupled to a side surface of the bottom plate; And a substrate mount plate coupled to the side plate and on which the substrate is mounted.

또한, 상기 기판은 상기 기판안착플레이트의 하측에 안착될 수 있다.In addition, the substrate may be seated below the substrate seating plate.

그리고, 상기 기판 안착시의 충격을 완화하기 위해 상기 기판안착플레이트의 하측에 결합되는 충격완화유닛을 더 포함할 수 있다.The apparatus may further include an impact mitigation unit coupled to a lower side of the substrate seating plate to mitigate an impact upon the substrate.

또한, 상기 충격완화유닛은 폴리에텔에텔 케톤(Polyetherether Ketone,PEEK)으로 마련될 수 있다.In addition, the shock-absorbing unit may be formed of a polyetheretherketone (PEEK).

그리고, 상기 기판을 상기 공정챔버 내부로 인입시키도록 마련되는 기판인입유닛을 더 포함할 수 있다.Further, the apparatus may further include a substrate inlet unit provided to draw the substrate into the process chamber.

또한, 상기 기판인입유닛은, 상기 기판을 지지하는 기판지지플레이트; 및 상기 기판지지플레이트에 결합되며 상기 기판이 올려지는 기판로딩부재를 포함할 수 있다.The substrate drawing unit may further include: a substrate supporting plate for supporting the substrate; And a substrate loading member coupled to the substrate support plate and on which the substrate is loaded.

그리고, 상기 클램프유닛은 복수로 마련되며, 상기 기판로딩부재는, 제1클램프유닛과, 상기 제1클램프유닛으로부터 이웃하게 배치되는 제2클램프유닛의 사이로 이동가능하게 마련될 수 있다.The plurality of clamp units may be provided, and the substrate loading member may be movable between a first clamp unit and a second clamp unit disposed adjacent to the first clamp unit.

또한, 상기 클램프구동유닛은, 상기 공정챔버의 외부에 배치되는 실린더유닛; 및 상기 실린더유닛에 결합되고, 상기 공정챔버 내부의 상기 클램프유닛에 접촉되어 상기 클램프유닛을 가압하는 푸시유닛을 포함할 수 있다.The clamp drive unit may further include: a cylinder unit disposed outside the process chamber; And a push unit coupled to the cylinder unit and contacting the clamp unit inside the process chamber to press the clamp unit.

그리고, 상기 푸시유닛은, 상기 실린더유닛에 결합되는 연결패킷; 및 상기 연결패킷에 결합되며, 상기 클램프유닛을 가압하도록 마련되는 돌출부를 포함할 수 있다.The push unit includes: a connection packet coupled to the cylinder unit; And a protrusion coupled to the connection packet and adapted to press the clamp unit.

또한, 상기 돌출부는 한 쌍으로 마련되어 상기 연결패킷의 상측과 하측에 각각 결합될 수 있다.In addition, the protrusions may be coupled to the upper and lower sides of the connection packet, respectively.

본 발명의 실시예들은, 기판을 회전시키는 기판플립유닛에 클램프유닛이 유동가능하게 결합되어 기판을 기판플립유닛에 용이하게 안착시킬 수 있으며, 이로 인해, 클램프 이동시간이 단축되어 택트타임이 감소되고, 회전반경이 줄어 공정챔버의 사이즈 감소에 따라 비용이 감소될 수 있는 효과가 있다.Embodiments of the present invention allow a clamp unit to be fluidly coupled to a substrate flip unit that rotates the substrate to easily seat the substrate on the substrate flip unit, thereby reducing clamp time and reducing tact time , The turning radius is reduced, and the cost can be reduced as the size of the process chamber is reduced.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 회전 장치의 평면도이다.
도 2 내지 도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 회전 장치의 작동과정에 대한 정면도이다.
1 is a plan view of a substrate rotating apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIGS. 2 to 7 are front views of the operation of the substrate rotating apparatus according to the embodiment of the present invention.

본 발명과 본 발명의 동작상의 이점 및 본 발명의 실시에 의하여 달성되는 목적을 충분히 이해하기 위해서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 첨부 도면 및 첨부 도면에 기재된 내용을 참조하여야만 한다.In order to fully understand the present invention, operational advantages of the present invention, and objects achieved by the practice of the present invention, reference should be made to the accompanying drawings and the accompanying drawings which illustrate preferred embodiments of the present invention.

이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명함으로써, 본 발명을 상세히 설명한다. 각 도면에 제시된 동일한 참조부호는 동일한 부재를 나타낸다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Like reference symbols in the drawings denote like elements.

본 명세서에서 사용되는 '일측'과 '타측'의 용어는 특정된 측면을 의미할 수도 있고, 또는, 특정된 측면을 의미하는 것이 아니라 복수의 측면 중 임의의 측면을 일측이라 지칭하면, 이에 대응되는 다른 측면을 타측이라 지칭하는 것으로 이해되어질 수 있음을 밝혀 둔다.The terms " one side " and " other side " used in this specification may mean a specified side, or do not mean a specified side, but any side of a plurality of sides may be referred to as one side, And the other side is referred to as the other side.

또한, 본 명세서에서 사용되는 '연결'이라는 용어는, 하나의 부재와 다른 부재를 직접 연결하는 경우뿐만 아니라 하나의 부재가 이음부재를 통해 다른 부재에 간접적으로 연결되는 경우도 포함됨을 밝혀 둔다.Further, it is to be noted that the term " connection " as used herein includes not only a case where one member is directly connected to another member but also a case where one member is indirectly connected to another member through a coupling member.

그리고, 본 명세서에서 사용되는 '플립공정'은 증착공정의 진행 전 기판의 상판과 하판의 위치가 상호 변경되도록 회전하는 공정을 의미한다.As used herein, the term 'flip process' refers to a process of rotating the substrate so that the positions of the upper and lower substrates of the substrate are changed before proceeding with the deposition process.

본 명세서에서 사용되는 기판은 평면디스플레이용 기판을 의미하는데, 평면디스플레이란 LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel) 및 OLED(Organic Light Emitting Diodes) 중 어떠한 것이 적용되어도 좋다. As used herein, the substrate refers to a substrate for a flat display. The flat display may be an LCD (Liquid Crystal Display), a PDP (Plasma Display Panel), or an OLED (Organic Light Emitting Diodes).

다만, 본 실시예에서는 설명의 편의를 위해, OLED(Organic Light Emitting Diodes)용 유리기판을 단순히 기판으로 설명하도록 한다.However, in this embodiment, for convenience of explanation, a glass substrate for OLED (Organic Light Emitting Diodes) will be simply described as a substrate.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 회전 장치의 평면도이고, 도 2 내지 도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 회전 장치의 작동과정에 대한 정면도이다.FIG. 1 is a plan view of a substrate rotating apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 2 to 7 are front views illustrating operations of a substrate rotating apparatus according to an embodiment of the present invention.

이들 도면을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 회전 장치(100)는, 기판(700)의 회전이 진행되도록 마련되는 공정챔버(200)와, 공정챔버(200) 내부에 배치되며 기판(700)이 안착되는 경우 기판(700)을 회전시키는 기판플립유닛(300)과, 기판플립유닛(300)에 유동(遊動)가능하게 결합되며, 기판(700)이 기판플립유닛(300)에 안착되도록 기판(700)을 가압하는 클램프유닛(400)을 포함한다.Referring to these drawings, a substrate rotating apparatus 100 according to an embodiment of the present invention includes a process chamber 200 in which rotation of a substrate 700 is progressed, A substrate flip unit 300 for rotating the substrate 700 when the substrate 700 is mounted on the substrate flip unit 300, And a clamp unit 400 for pressing the substrate 700 to be seated.

도 1을 참조하면, 공정챔버(200)는 기판(700)의 회전이 진행되도록 마련되며, 전술한 바와 같이, 필요에 따라, 공정챔버(200) 내부에서 기판(700)의 상판과 하판이 뒤집어지도록 회전될 수 있다.Referring to FIG. 1, the process chamber 200 is provided to advance the rotation of the substrate 700. As described above, if necessary, the upper and lower plates of the substrate 700 are turned upside down in the process chamber 200 As shown in FIG.

이는, 증착공정에 선행하는 다른 공정에서 기판(700)의 상판과 하판이 뒤집어진 경우 이를 바로잡기 위해 플립공정을 통해 기판(700)을 회전할 수도 있고, 또는, 현재 배열되어 있는 기판(700)의 대향되는 방향의 증착면을 증착하기 위해 기판(700)을 회전할 수도 있다.This may be accomplished by rotating the substrate 700 through a flip process to correct it when the top and bottom plates of the substrate 700 are inverted in another process preceding the deposition process, The substrate 700 may be rotated to deposit the deposition surface in the opposite direction of the substrate 700. [

즉, 증착공정의 진행 전, 플립공정을 위해 마련되는 공정챔버(200) 내부에 기판(700)이 인입된 후, 기판(700)의 상판과 하판의 위치가 상호 변경되도록 기판(700)이 회전되며, 회전된 기판(700)이 증착공증을 위한 증착공정챔버로 이동되어져 증착공정이 진행된다.That is, before the deposition process, the substrate 700 is drawn into the process chamber 200 provided for the flip process, and then the substrate 700 is rotated (rotated) so that the positions of the upper and lower plates of the substrate 700 are changed And the rotated substrate 700 is moved to a deposition process chamber for deposition notarization and the deposition process proceeds.

여기서, 공정챔버(200) 내부는 기판(700)에 대한 플립공정이 신뢰성 있게 진행될 수 있도록 진공 분위기가 형성될 수 있다. Here, the inside of the process chamber 200 may be formed with a vacuum atmosphere so that the flip process for the substrate 700 can be performed reliably.

이를 위해, 공정챔버(200)의 일측에는 공정챔버(200)의 내부를 진공 분위기로 유지하기 위한 수단으로서 진공 펌프(미도시)가 연결될 수 있다. 여기서, 진공 펌프(미도시)는 소위, 터보 펌프일 수 있다.To this end, a vacuum pump (not shown) may be connected to one side of the process chamber 200 as a means for maintaining the inside of the process chamber 200 in a vacuum atmosphere. Here, the vacuum pump (not shown) may be a so-called turbo pump.

도 2 내지 도 7을 참조하면, 기판플립유닛(300)은 공정챔버(200) 내부에 배치되며 기판(700)이 기판플립유닛(300)에 안착되는 경우 기판(700)을 회전시키도록 마련된다.2 to 7, a substrate flip unit 300 is disposed inside the process chamber 200 and is provided to rotate the substrate 700 when the substrate 700 is mounted on the substrate flip unit 300 .

여기서, 기판플립유닛(300)은 하측에 배치되는 바닥플레이트(310)와, 바닥플레이트(310)의 측면에 결합되는 측면플레이트(320)와, 측면플레이트(320)에 결합되며 기판(700)이 안착되는 기판안착플레이트(330)를 포함하여 구성될 수 있다.The substrate flip unit 300 includes a bottom plate 310 disposed on the lower side, a side plate 320 coupled to a side surface of the bottom plate 310, And a substrate mounting plate 330 on which the substrate is mounted.

즉, 기판(700)이 기판안착플레이트(330)의 하측으로부터 상측으로 가압되면서 기판안착플레이트(330)의 하측에 안착되면, 기판플립유닛(300)이 180°회전하게 되며, 이에 의해, 기판안착플레이트(330)에 안착되어 있는 기판(700)이 뒤집어져 기판(700)의 상판과 기판(700)의 하판의 위치가 상호 변경될 수 있다.That is, when the substrate 700 is mounted on the lower side of the substrate seating plate 330 while being pressed upward from the lower side of the substrate seating plate 330, the substrate flip unit 300 is rotated by 180 °, The substrate 700 mounted on the plate 330 may be inverted and the positions of the upper plate of the substrate 700 and the lower plate of the substrate 700 may be mutually changed.

그리고, 기판플립유닛(300)에는 개폐부재(350)가 결합될 수 있는데, 여기서, 개폐부재(350)는 기판플립유닛(300) 내부로 기판(700)을 인입시킬 수 있도록 기판플립유닛(300)을 개방하고, 기판(700)이 기판플립유닛(300) 내부로 인입되면 기판(700)을 회전시키기 위해 기판플립유닛(300)을 폐쇄하도록 마련된다(도 6 및 도 7 참조).The opening and closing member 350 may be coupled to the substrate flip unit 300 so that the substrate 700 can be drawn into the substrate flip unit 300. [ And to close the substrate flip unit 300 to rotate the substrate 700 when the substrate 700 is drawn into the substrate flip unit 300 (see FIGS. 6 and 7).

즉, 개폐부재(350)가 기판플립유닛(300)을 개방하면, 기판(700)은 후술하는 기판인입유닛(900)에 올려진 채 도 2 내지 도 5의 개방공간(S)을 통해 기판플립유닛(300) 내부로 인입될 수 있다.That is, when the open / close member 350 opens the substrate flip unit 300, the substrate 700 is loaded on the substrate take-in unit 900 to be described later, Unit 300, as shown in FIG.

그리고, 도 4를 참조하면, 기판플립유닛(300) 내부로 인입된 기판(700)이 기판안착플레이트(330)의 하측에 안착되도록 마련될 수 있다. 4, the substrate 700, which is drawn into the substrate flip unit 300, may be placed on the lower side of the substrate seating plate 330.

즉, 기판(700)이 기판인입유닛(900)에 의해 기판플립유닛(300) 내부로 인입되면(도 3 참조), 기판인입유닛(900)이 상측으로 이동하여 기판안착플레이트(330)의 하측에 안착되는데, 여기서, 후술하는 바와 같이, 클램프유닛(400)의 기판가압유닛(410)이 기판(700)의 하측에서 상측방향으로 기판(700)을 가압하게 된다.3), the substrate inlet unit 900 is moved upward and the lower side of the substrate receiving plate 330 is moved to the upper side of the substrate receiving plate 900. In other words, when the substrate 700 is drawn into the substrate flip unit 300 by the substrate inlet unit 900 The substrate pressing unit 410 of the clamp unit 400 presses the substrate 700 upward from the lower side of the substrate 700 as will be described later.

그리고, 기판(700)은 기판안착플레이트(330)와 기판가압유닛(410)의 사이에 위치하여 기판안착플레이트(330)에 안착되며, 이후, 기판플립유닛(300)에 결합된 회전구동유닛(340, 도 1 참조)에 의해 기판플립유닛(300)이 회전하게 되면, 기판안착플레이트(330)에 안착되어 있는 기판(700)도 회전하게 된다.The substrate 700 is positioned between the substrate seating plate 330 and the substrate pressing unit 410 and is mounted on the substrate seating plate 330 and is thereafter rotated by a rotation driving unit 340, Fig. 1) rotates the substrate flip unit 300, the substrate 700 mounted on the substrate mounting plate 330 is also rotated.

도 2 내지 도 6을 참조하면, 충격완화유닛(331)은 기판(700)이 기판안착플레이트(330)에 안착되는 경우 발생되는 충격을 완화하기 위해 기판안착플레이트(330)의 하측에 결합될 수 있다.2 to 6, the shock-absorbing unit 331 can be coupled to the underside of the substrate seating plate 330 to mitigate the impact generated when the substrate 700 is seated on the substrate seating plate 330 have.

즉, 전술한 바와 같이, 기판(700)은 기판인입유닛(900)을 통해 기판안착플레이트(330)의 하측으로 상승하면서 기판안착플레이트(330)의 하측에서 기판안착플레이트(330)에 안착되는데, 이 경우, 기판(700)에는 기판안착플레이트(330)에 안착될 때의 충격으로 인해 손상이 발생될 수 있다.That is, as described above, the substrate 700 is mounted on the substrate seating plate 330 at a lower side of the substrate seating plate 330 while rising toward the lower side of the substrate seating plate 330 through the substrate inlet unit 900, In this case, the substrate 700 may be damaged due to an impact when the substrate 700 is seated on the substrate seating plate 330.

이를 방지하기 위해, 기판안착플레이트(330)의 하측에는 충격완화유닛(331)이 결합되어 있는데, 기판(700)이 기판안착플레이트(330)에 안착되기 위해 상승하는 경우 기판(700)은 충격완화유닛(331)에 접촉되어 충격이 완화되므로, 이에 의해, 기판(700) 손상 발생이 방지될 수 있는 효과가 있다.In order to prevent this, an impact relaxation unit 331 is coupled to the lower side of the substrate seating plate 330. When the substrate 700 rises to be seated on the substrate seating plate 330, The unit 331 is contacted and the impact is relieved, whereby the damage of the board 700 can be prevented.

여기서, 충격완화유닛(331)은 충격을 흡수할 수 있는 각종의 합성고무로 마련될 수도 있고, 또는, 다양한 종류의 복합수지로 마련될 수도 있다. 또한, 충격완화유닛(331)은 예를 들어, 내충격성이 뛰어난 폴리에텔에텔 케톤(Polyetherether Ketone,PEEK)으로 마련될 수도 있다.Here, the shock absorbing unit 331 may be made of various synthetic rubbers capable of absorbing impact, or may be made of various kinds of composite resins. Further, the shock absorbing unit 331 may be provided with, for example, a polyetheretherketone (PEEK) having excellent impact resistance.

여기서, 폴리에텔에텔 케톤은 내마모성이 우수하므로 교체비용이 감소되는 효과도 있다.Here, the polyetherketone has an excellent abrasion resistance and thus has an effect of reducing the replacement cost.

도 2 내지 도 7을 참조하면, 클램프유닛(400)은 기판플립유닛(300)에 유동(遊動)가능하게 결합되며, 기판(700)이 기판안착플레이트(330)에 안착되도록 기판(700)을 가압한다.2 to 7, the clamp unit 400 is movably coupled to the substrate flip unit 300, and the substrate 700 is fixed to the substrate mounting plate 330 Pressure.

즉, 전술한 바와 같이, 기판(700)이 기판안착플레이트(330)의 하측에 접촉하게 되면, 클램프유닛(400)이 기판(700)의 하측에서 상측방향으로 기판(700)을 가압하여 기판(700)이 기판안착플레이트(330)에 안착된다.That is, as described above, when the substrate 700 comes into contact with the lower side of the substrate seating plate 330, the clamp unit 400 presses the substrate 700 upward from the lower side of the substrate 700, 700 are seated on the substrate seating plate 330.

여기서, 클램프유닛(400)은 기판가압유닛(410)과, 구동력전달유닛(420)을 포함하여 구성될 수 있다.Here, the clamp unit 400 may be configured to include a substrate pressing unit 410 and a driving force transmitting unit 420.

기판가압유닛(410)은 기판(700)에 접촉되어 기판(700)을 가압하도록 마련된다. The substrate pressing unit 410 is provided to contact the substrate 700 to press the substrate 700.

도 2를 참조하면, 기판가압유닛(410)은 후술하는 기판가압유닛구동부재(421)의 하측에 접촉되어 상하방향으로 이동가능하게 마련되는데, 기판가압유닛구동부재(421)가 클램프구동유닛(500)으로부터 구동력을 전달받아 시계방향으로 회동하게 되면, 기판가압유닛구동부재(421)의 하측에 접촉되어 있는 기판가압유닛(410)은 기판가압유닛구동부재(421)로부터 가압되어 하측방향으로 이동하게 된다.Referring to FIG. 2, the substrate pressing unit 410 is provided so as to be movable in the up and down direction in contact with the lower side of the substrate pressing unit driving member 421 to be described later. The substrate pressing unit driving member 421 is connected to the clamp driving unit The substrate pressing unit 410 which is in contact with the lower side of the substrate pressing unit driving member 421 is pressed from the substrate pressing unit driving member 421 and moved in the downward direction .

여기서, 기판가압유닛(410)에는 탄성유닛(600)이 결합되어 있으므로, 기판가압유닛(410)이 하측방향으로 이동하면, 탄성유닛(600)이 하측방향으로 팽창된다(도 3 참조).Here, since the elastic unit 600 is coupled to the substrate pressing unit 410, when the substrate pressing unit 410 moves downward, the elastic unit 600 is expanded in the downward direction (see FIG. 3).

그리고, 클램프구동유닛(500)이 구동력전달부재(429)로부터 접촉해제되면 탄성유닛(600)의 탄성회복력에 의해 탄성유닛(600)은 상측방향으로 수축하게 되고, 탄성유닛(600)에 연결된 기판가압유닛(410) 역시 상측방향으로 이동하게 된다(도 4 참조).When the clamp driving unit 500 is released from the driving force transmitting member 429, the elastic unit 600 contracts upward due to the elastic recovery force of the elastic unit 600, The pressurizing unit 410 also moves upward (refer to Fig. 4).

그리고, 도 1을 참조하면, 기판가압유닛(410)은 상하방향으로 직선경로를 따라 이동가능하게 마련될 수 있는데, 이러한 기판가압유닛(410)의 상하방향 이동을 가이드하기 위해 상하이동가이드(800)가 기판가압유닛(410)에 결합될 수 있다.1, the substrate pressing unit 410 may be provided so as to be movable along a linear path in a vertical direction. To guide the upward and downward movement of the substrate pressing unit 410, May be coupled to the substrate pressurizing unit 410.

다만, 도 2 내지 도 7에서는 설명의 편의를 위해, 상하이동가이드(800)이 도시되어 있지 않지만, 도 1에서와 같이, 도 2 내지 도 7에서도 기판가압유닛(410)에 상하이동가이드(800)가 결합될 수 있다.2 to 7 do not show the up-and-down movement guide 800, but as shown in Fig. 1, the up-and-down movement guide 800 ) Can be combined.

여기서, 상하이동가이드(800)는 기판가압유닛(410)이 직선형태로 이동가능하도록 LM가이드(Linear Motion Guide)로 마련될 수 있다.Here, the vertical movement guide 800 may be provided as an LM guide (Linear Motion Guide) so that the substrate pressing unit 410 can move linearly.

한편, 탄성유닛(600)은 코일스프링으로 마련될 수 있다. 다만, 이에 한정되는 것은 아니며, 탄성을 가지고 탄성회복력을 제공할 수 있는 다양한 종류의 스프링이 포함될 수 있다.Meanwhile, the elastic unit 600 may be provided by a coil spring. However, the present invention is not limited thereto, and various kinds of springs capable of providing resilient resilience can be included.

여기서, 코일스프링은 일측이 기판플립유닛(300)에 결합되고, 타측이 기판가압유닛(410)에 결합되어 기판가압유닛(410)에 탄성회복력을 제공하도록 마련될 수 있다.Here, the coil spring may be provided such that one side is coupled to the substrate flip unit 300 and the other side is coupled to the substrate pressing unit 410 to provide the substrate pressing unit 410 with an elastic recovery force.

구동력전달유닛(420)은 기판가압유닛(410)에 접촉되어 기판가압유닛(410)에 구동력을 전달하도록 마련된다.The driving force transmitting unit 420 is provided to contact the substrate pressing unit 410 and to transmit the driving force to the substrate pressing unit 410. [

도 2 내지 도 6을 참조하면, 구동력전달유닛(420)은 기판가압유닛구동부재(421)과, 회동부재(427)와, 구동력전달부재(429)를 포함하여 구성될 수 있다.2 to 6, the driving force transmitting unit 420 may be configured to include a substrate pressing unit driving member 421, a rotating member 427, and a driving force transmitting member 429.

기판가압유닛구동부재(421)는 기판가압유닛(410)에 접촉되어 기판가압유닛(410)의 하측방향 이동을 위한 구동력을 제공한다. 즉, 전술한 바와 같이, 기판가압유닛구동부재(421)가 기판가압유닛(410)에 접촉되어 시계방향으로 회동하게 되면, 도 3을 기준으로 기판가입유닛(410)이 하측으로 이동하게 된다.The substrate pressing unit driving member 421 contacts the substrate pressing unit 410 to provide a driving force for the downward movement of the substrate pressing unit 410. That is, as described above, when the substrate pressing unit driving member 421 contacts the substrate pressing unit 410 and rotates in the clockwise direction, the substrate joining unit 410 moves downward with reference to FIG.

그리고, 회동부재(427)는 기판가압유닛구동부재(421)에 결합되며, 회동축을 중심으로 회동가능하게 마련된다. 즉, 회동부재(427)가 회동축을 중심으로 회동하게 되면, 회동부재(427)에 결합되어 있는 기판가압유닛구동부재(421)가 이에 연동되어 회동하면서 기판가압유닛(410)에 구동력을 제공한다.The pivoting member 427 is coupled to the substrate pressing unit driving member 421, and is rotatable around the pivot axis. That is, when the tiltable member 427 rotates about the rotation axis, the substrate pressing unit driving member 421 coupled to the tiltable member 427 rotates and rotates to provide the driving force to the substrate pressing unit 410 do.

또한, 구동력전달부재(429)는 회동부재(427)에 결합되어 회동부재(427)에 구동력을 전달하도록 마련된다.The driving force transmitting member 429 is coupled to the tiltable member 427 and is provided to transmit the driving force to the tiltable member 427.

즉, 클램프구동유닛(500)이 구동력전달부재(429)에 접촉되어 구동력을 전달하면, 구동력전달부재(429)가 회동부재(427)에 구동력을 전달하게 되며, 구동력을 전달받은 회동부재(427)가 회동하게 된다.That is, when the clamp driving unit 500 contacts the driving force transmitting member 429 to transmit the driving force, the driving force transmitting member 429 transmits the driving force to the rotating member 427 and the rotating member 427 ).

이를 설명하면, 클램프구동유닛(500)이 구동력전달부재(429)에 접촉되어 가압하면 구동력전달부재(429)에 결합된 회동부재(427)가 도 3을 기준으로 시계방향으로 회동하게 되며, 회동부재(427)에 결합된 기판가압유닛구동부재(421)가 회동부재(427)의 회동에 연동되어 시계방향으로 회동하게 된다.When the clamp drive unit 500 contacts and presses the driving force transmitting member 429, the pivoting member 427 coupled to the driving force transmitting member 429 rotates in the clockwise direction with reference to Fig. 3, The substrate pressing unit driving member 421 coupled to the member 427 rotates in a clockwise direction in conjunction with the rotation of the rotating member 427. [

그리고, 코일스프링 등으로 마련되는 탄성유닛(600)이 기판가압유닛(410)에 결합되어 기판가압유닛(410)에 탄성력을 제공할 수 있는데, 여기서, 클램프구동유닛(500)에 의해 회동부재(427)가 도 3을 기준으로 시계방향으로 회동 후, 기판(700)이 기판안착플레이트(330)에 안착되면, 도 4에서처럼 클램프구동유닛(500)이 구동력전달부재(429)로부터 접촉을 해제하게 된다.The elastic unit 600 provided by a coil spring or the like may be coupled to the substrate pressing unit 410 to provide an elastic force to the substrate pressing unit 410. Here, The clamp drive unit 500 releases the contact from the drive force transmitting member 429 as shown in FIG. 4 when the substrate 700 is mounted on the substrate mount plate 330 after the drive shaft 427 is rotated in the clockwise direction with reference to FIG. do.

이 경우, 코일스프링 등의 탄성유닛(600)이 기판가압유닛(410)에 탄성회복력을 제공하게 되는데, 여기서, 회동부재(427)는 도 4를 기준으로 반시계방향으로 회동하게 되고, 기판가압유닛(410)은 상측으로 이동하면서 기판(700)에 접촉되어 기판(700)을 가압하게 된다.In this case, the elastic unit 600 such as a coil spring provides an elastic restoring force to the substrate pressing unit 410, wherein the rotating member 427 is rotated in the counterclockwise direction with reference to Fig. 4, The unit 410 moves upward and contacts the substrate 700 to press the substrate 700.

여기서, 도 3을 참조하면, 기판가압유닛구동부재(421)는 회동부재결합부(422)와, 기판가압유닛가압부(423)와, 중간연결부(424)를 포함하여 구성될 수 있다.3, the substrate pressing unit driving member 421 may include a rotating unit recombination unit 422, a substrate pressing unit pressing unit 423, and an intermediate connection unit 424. [

도 2 및 도 3의 확대도를 참조하면, 회동부재결합부(422)는 길이방향부재로 형성될 수 있으며, 볼트 등의 체결부재에 의해 회동부재(427)에 결합된다. Referring to the enlarged view of FIG. 2 and FIG. 3, the rotary part recombination part 422 can be formed of a longitudinal member and is coupled to the pivoting member 427 by a fastening member such as a bolt.

그리고, 중간연결부(424)는 일측이 회동부재결합부(422)와 소정 범위의 각도가 형성되도록 회동부재결합부(422)에 결합되고, 타측이 기판가압유닛가압부(423)에 결합되는 길이방향부재로 형성될 수 있다.The intermediate connection portion 424 is coupled to the rotary portion recombination portion 422 so that one side thereof is at an angle with the rotary portion recombination portion 422 and the other side is connected to the substrate pressing unit pressing portion 423 Directional member.

또한, 기판가압유닛가압부(423)는 중간연결부(424)에 결합되고 회동부재결합부(422)로부터 이격되도록 배치되는 길이방향부재로 마련되며, 기판가압유닛(410)의 상측에서 기판가압유닛(410)을 가압하도록 마련될 수 있다.The substrate pressing unit pressing portion 423 is provided as a longitudinal member which is coupled to the intermediate connecting portion 424 and spaced apart from the rotary portion recombining portion 422, (Not shown).

한편, 기판가압유닛가압부(423)는 기판(700)을 가압하도록 마련될 수도 있다. 즉, 기판가압유닛가압부(423)가 도 3을 기준으로 반시계방향으로 회동하여 기판(700)에 접촉되도록 마련될 수 있다.On the other hand, the substrate pressing unit pressing portion 423 may be provided to press the substrate 700. That is, the substrate pressing unit pressing portion 423 may be provided so as to contact the substrate 700 by rotating in the counterclockwise direction with reference to FIG.

이 경우, 기판가압유닛가압부(423)와 기판가압유닛(410)이 함께 기판(700)을 가압하도록 마련될 수 있고, 또는, 기판가압유닛가압부(423)와 기판가압유닛(410) 중 하나가 기판(700)을 가압하도록 마련될 수도 있다.In this case, the substrate pressing unit pressing portion 423 and the substrate pressing unit 410 together can be provided to press the substrate 700, or the substrate pressing unit pressing portion 423 and the substrate pressing unit 410 One may be provided to press the substrate 700.

도 1 및 도 2를 참조하면, 클램프구동유닛(500)은 실린더유닛(510)과, 푸시유닛(520)을 포함하여 구성될 수 있다.Referring to FIGS. 1 and 2, the clamp drive unit 500 may include a cylinder unit 510 and a push unit 520.

여기서, 실린더유닛(510)은 공정챔버(200)의 외부, 즉, 대기압으로 마련되는 영역에 배치되어 푸시유닛(520)에 구동력을 제공한다.Here, the cylinder unit 510 is disposed outside the process chamber 200, that is, at an area provided at atmospheric pressure, to provide a driving force to the push unit 520.

그리고, 푸시유닛(520)은 실린더유닛(510)에 결합되어 실린더유닛(510)으로부터 구동력을 제공받아 구동하며, 공정챔버(200) 내부의 구동력전달부재(429)에 접촉되어 구동력전달부재(429)를 가압한다(도 3 참조).The pushing unit 520 is coupled to the cylinder unit 510 and is driven by receiving a driving force from the cylinder unit 510. The pushing unit 520 is in contact with the driving force transmitting member 429 in the process chamber 200, (See Fig. 3).

여기서, 도 2를 참조하면, 푸시유닛(520)은 실린더유닛(510)에 결합되는 연결패킷(521)과, 연결패킷(521)에 결합되는 돌출부(522)를 포함하여 구성될 수 있으며, 도 3을 참조하면, 돌출부(522)가 구동력전달부재(429)를 가압하도록 마련된다.2, the push unit 520 may include a connection packet 521 coupled to the cylinder unit 510 and a protrusion 522 coupled to the connection packet 521, 3, the projecting portion 522 is provided so as to press the driving force transmitting member 429.

그리고, 돌출부(522)는 하나로 마련되어 구동력전달부재(429)를 가압할 수도 있고, 또는, 도 2 내지 도 7에 도시된 바와 같이, 한 쌍으로 마련되어 연결패킷(521)의 상측과 하측에 각각 결합될 수 있다. As shown in FIGS. 2 to 7, the protrusions 522 may be provided as a pair and may be coupled to the upper and lower sides of the connection packet 521, respectively, .

여기서, 도 3을 참조하면, 상측돌출부(522a)는 구동력전달부재(429)를 가압하지만 하측돌출부(522b)는 구동력전달부재(429)에 접촉되지 않는다. 3, the upper projecting portion 522a presses the driving force transmitting member 429, but the lower projecting portion 522b does not contact the driving force transmitting member 429. As shown in Fig.

다만, 돌출부(522)가 상측돌출부(522a)와 하측돌출부(522b)의 한 쌍으로 마련되는 경우, 상측돌출부(522a)가 구동력전달부재(429)를 가압하는 동안 하측돌출부(522b)는 회동부재(427)의 하측에 위치하게 되는데, 상측돌출부(522a)와 하측돌출부(522b)에 의해 회동부재(427)가 감싸지게 되므로, 돌출부(522)의 구동력전달부재(429) 가압시 구조적으로 안정적인 효과가 있다.When the projecting portion 522 is provided as a pair of the upper projecting portion 522a and the lower projecting portion 522b, the lower projecting portion 522b, while the upper projecting portion 522a presses the driving force transmitting member 429, Since the tilting member 427 is wrapped by the upper projecting portion 522a and the lower projecting portion 522b when the driving force transmitting member 429 of the projecting portion 522 is pressed, .

한편, 도 1 및 도 3을 참조하면, 기판인입유닛(900)은 기판(700)을 공정챔버(200) 내부로 인입시키도록 마련된다.1 and 3, a substrate drawing unit 900 is provided to draw the substrate 700 into the process chamber 200. [

즉, 기판(700)이 기판인입유닛(900)의 상부에 올려지면 기판인입유닛(900)이 공정챔버(200) 내부로 이동 후 기판안착플레이트(330)측으로 상승하여 기판(700)이 기판안착플레이트(330)에 안착되고, 기판(700)이 클램프유닛(400)에 의해 가압되면, 기판인입유닛(900)이 기판안착플레이트(330)의 하측으로 하강 후 공정챔버(200) 외부로 이동하게 된다.That is, if the substrate 700 is placed on the upper part of the substrate inlet unit 900, the substrate inlet unit 900 moves into the process chamber 200 and moves up to the substrate receiving plate 330 side, When the substrate 700 is placed on the plate 330 and the substrate 700 is pressed by the clamp unit 400, the substrate drawing unit 900 moves down to the lower side of the substrate placing plate 330 and moves to the outside of the process chamber 200 do.

여기서, 기판인입유닛(900)은 구동로봇(미도시)에 결합될 수 있도록 구동로봇결합부재(930)가 마련되어 있다. 즉, 구동로봇(미도시)이 기판인입유닛(900)의 구동로봇결합부재(930)에 결합되어 전후좌우상하 방향으로 이동하는 것을 통해 기판인입유닛(900)의 이동이 제어될 수 있다.Here, the substrate inlet unit 900 is provided with a driving robot engagement member 930 so as to be coupled to a driving robot (not shown). That is, the movement of the substrate inlet unit 900 can be controlled by moving the driving robot (not shown) to the driving robot engagement member 930 of the substrate inlet unit 900 and moving in the front, rear, left, right, and up and down directions.

그리고, 도 1을 참조하면, 기판인입유닛(900)은 기판(700)을 지지하는 기판지지부재(910)와, 기판지지부재(910)에 결합되며 기판(700)이 올려지는 기판로딩부재(920)를 포함하여 구성될 수 있다. 1, the substrate drawing unit 900 includes a substrate supporting member 910 for supporting a substrate 700, a substrate loading member 910 which is coupled to the substrate supporting member 910 and on which the substrate 700 is mounted 920).

여기서, 기판지지부재(910)는, 기판(700)이 올려지는 기판로딩부재(920)의 일측에서 기판로딩부재(920)에 결합되어 기판로딩부재(920)와 기판(700)을 지지하도록 마련된다.Herein, the substrate supporting member 910 is coupled to the substrate loading member 920 at one side of the substrate loading member 920 on which the substrate 700 is mounted, and is configured to support the substrate loading member 920 and the substrate 700 do.

그리고, 도 1을 참조하면, 전술한 클램프유닛(400)은 복수로 마련될 수 있는데, 이 경우, 기판로딩부재(920)는 제1클램프유닛(400a)과, 제1클램프유닛(400a)으로부터 이웃하게 배치되는 제2클램프유닛(400b)의 사이로 이동가능하게 마련될 수 있다.1, a plurality of the clamp units 400 may be provided. In this case, the substrate loading member 920 includes a first clamp unit 400a, a second clamp unit 400b, And may be provided so as to be movable between the adjacent second clamp units 400b.

즉, 도 1에 도시된 바와 같이, 기판로딩부재(920)가 복수의 클램프유닛(400a,400b) 사이를 통해 이동가능하도록 마련되는데, 이에 의해, 기판가압유닛(410)이 유동하는 경우나, 기판로딩부재(920)가 상승 또는 하강하는 경우, 기판로딩부재(920)와 기판가압유닛(410)이 상호 부딪혀 간섭되는 것을 방지하게 된다.That is, as shown in FIG. 1, a substrate loading member 920 is provided to be movable through a plurality of clamp units 400a and 400b. In this case, when the substrate pressing unit 410 flows, When the substrate loading member 920 is raised or lowered, the substrate loading member 920 and the substrate pressing unit 410 are prevented from interfering with each other.

이하, 도면을 참조하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 회전 장치(100)에서 기판(700)을 회전시키는 기판플립유닛(300)에 클램프유닛(400)이 유동가능하게 결합되어 기판(700)이 기판플립유닛(300)에 안착된 후 회전하는 것을 통해 플립공정이 진행되는 플립공정의 작용 및 효과에 대해 설명한다A clamp unit 400 is movably coupled to a substrate flip unit 300 that rotates a substrate 700 in a substrate rotating apparatus 100 according to an embodiment of the present invention to form a substrate 700 ) Is mounted on the substrate flip unit 300, and then the flip process is performed through the rotation of the substrate flip unit 300

도 2를 참조하면, 기판(700)이 기판플립유닛(300) 내부로 인입되기 전, 클램프구동유닛(500)은 구동력전달부재(429)에 접촉 해제되어 있고, 기판가압유닛(410)은 기판안착플레이트(330)의 하부에 위치될 수 있다. 여기서, 개폐부재(도 2 내지 도 5에는 미도시)는 기판플립유닛(300)을 개방하도록 마련된다.2, before the substrate 700 is drawn into the substrate flip unit 300, the clamp driving unit 500 is released from the driving force transmitting member 429, And may be located at the bottom of the seating plate 330. Here, the opening and closing member (not shown in FIGS. 2 to 5) is provided to open the substrate flip unit 300.

그리고, 도 3을 참조하면, 클램프구동유닛(500)이 구동력전달부재(429)에 접촉되어 구동력전달부재(429)를 가압하게 되고, 구동력전달부재(429)에 결합된 회동부재(427)가 도 3을 기준으로 시계방향으로 회동하며, 회동부재(427)에 결합되는 기판가압유닛구동부재(421)도 이에 연동되어 시계방향으로 회동하게 된다.3, the clamp driving unit 500 contacts the driving force transmitting member 429 to press the driving force transmitting member 429, and the pivoting member 427 coupled to the driving force transmitting member 429 And the substrate pressing unit driving member 421 coupled to the pivoting member 427 rotates in a clockwise direction in association with the rotation.

여기서, 기판가압유닛구동부재(421)의 하측에는 기판가압유닛(410)이 접촉되어 있으므로, 기판가압유닛구동부재(421)가 시계방향으로 회동하면서 기판가압유닛(421)을 가압하게 된다.Since the substrate pressing unit 410 is in contact with the lower side of the substrate pressing unit driving member 421, the substrate pressing unit driving member 421 rotates in the clockwise direction to press the substrate pressing unit 421.

그리고, 기판가압유닛(421)은 상하이동가이드(800)를 따라 하측으로 이동하게 된다.Then, the substrate pressing unit 421 moves downward along the up-and-down movement guide 800. [

여기서, 기판(700)이 로딩되어 있는 기판인입유닛(900)에 결합되는 구동로봇(미도시)이 작동하여, 기판인입유닛(900)이 도 3의 개방공간(S)을 통해 기판플립유닛(300)의 내부로 이동하게 되고, 기판안착플레이트(330)가 배치되어 있는 상측방향으로 이동하게 된다.Here, a driving robot (not shown) coupled to the substrate drawing unit 900 on which the substrate 700 is loaded is operated so that the substrate drawing unit 900 is moved to the substrate flip unit 300, and moves in the upward direction in which the substrate seating plate 330 is disposed.

이때, 기판인입유닛(900)의 기판로딩부재(920)는 복수의 클램프유닛(400a,400b) 사이를 통해 상측방향으로 이동하므로(도 1 참조), 기판로딩부재(920)와 기판가압유닛(410)은 상호 간섭되지 않게 된다.At this time, the substrate loading member 920 of the substrate loading unit 920 moves upward through the plurality of clamp units 400a and 400b (see FIG. 1), so that the substrate loading member 920 and the substrate pressing unit 920 410 are not interfered with each other.

그리고, 도 4를 참조하면, 기판안착플레이트(330)의 하측에 결합되어 있는 충격완화유닛(331)에 의해, 기판(700)은 파손없이 기판안착플레이트(330)에 안착될 수 있게 되고, 이후, 클램프구동유닛(500)이 구동력전달부재(429)로부터 접촉 해제된다.4, the substrate 700 can be seated on the substrate seating plate 330 without being damaged by the shock absorbing unit 331 coupled to the lower side of the substrate seating plate 330, , The clamp drive unit 500 is released from the drive force transmitting member 429.

이 경우, 코일스프링이 기판가압유닛(410)에 탄성회복력을 제공하면 기판가압유닛(410)이 상하이동가이드(800)를 따라 상측으로 이동하면서 기판가압유닛(410)에 접촉되는 기판(700)을 상측으로 가압하게 된다.In this case, when the coil spring provides elastic restoring force to the substrate pressing unit 410, the substrate pressing unit 410 moves upward along the up-and-down moving guide 800 and moves to the substrate pressing unit 410, As shown in Fig.

즉, 기판가압유닛(410)은 코일스프링의 작용에 의해 도 4를 기준으로 상측으로 이동하게 되고, 기판안착플레이트(330)에 안착되어 있는 기판(700)의 하측에 접촉되어 기판(700)을 상측방향으로 가압하게 된다.4 by the action of the coil spring and is brought into contact with the lower side of the substrate 700 which is seated on the substrate seating plate 330 to move the substrate 700 And pressurized in the upward direction.

그리고, 도 5를 참조하면, 기판인입유닛(900)이 하강하게 되고 기판인입유닛(900)에 로딩된 기판(700)이 기판인입유닛(900)으로부터 떨어지게 된다.5, the substrate pull-in unit 900 is lowered and the substrate 700 loaded into the substrate pull-in unit 900 is separated from the substrate pull-in unit 900.

이에 의해, 기판(700)은 기판안착플레이트(330)와 기판가압유닛(410) 사이에서 지지되어 고정될 수 있게 된다.Thereby, the substrate 700 can be supported and fixed between the substrate seating plate 330 and the substrate pressing unit 410.

그리고, 도 6을 참조하면, 기판인입유닛(900)이 구동로봇(미도시)의 작동에 의해 기판플립유닛(300)의 외부로 이동하게 되고, 이후, 개폐부재(350)가 기판플립유닛(300)을 폐쇄하게 된다.6, the substrate inlet unit 900 is moved to the outside of the substrate flip unit 300 by the operation of a driving robot (not shown), and then the opening and closing member 350 is moved to the substrate flip unit 300 are closed.

다음, 도 7을 참조하면, 공정챔버(200) 내부에서 기판플립유닛(300)이 회전구동유닛(340, 도 1 참조)에 의해 180°회전하는 플립공정이 수행되며, 이에 의해, 기판(700)의 상판과 하판의 상호 위치가 변경되어질 수 있게 된다.7, a flip process is performed in which the substrate flip unit 300 is rotated 180 ° by the rotation drive unit 340 (see FIG. 1) within the process chamber 200, whereby the substrate 700 The mutual position of the upper plate and the lower plate can be changed.

그리고, 플립공정이 완료된 후 기판(700)은 증착공정이 진행되는 증착공정챔버로 이동되어지며, 이후, 증착공정이 진행된다.After the flip process is completed, the substrate 700 is moved to the deposition process chamber where the deposition process is performed, and then the deposition process is performed.

이와 같이 본 발명은 기재된 실시예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형할 수 있음은 이 기술의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명하다. 따라서 그러한 수정예 또는 변형예들은 본 발명의 특허청구범위에 속한다 하여야 할 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention. Accordingly, such modifications or variations are intended to fall within the scope of the appended claims.

100 : 기판 회전 장치 200 : 공정챔버
300 : 기판플립유닛 310 : 바닥플레이트
320 : 측면플레이트 330 : 기판안착플레이트
331 : 충격완화유닛 340 : 회전구동유닛
350 : 개폐부재 400 : 클램프유닛
410 : 기판가압유닛 420 : 구동력전달유닛
421 : 기판가압유닛구동부재 422 : 회동부재결합부
423 : 기판가압유닛가압부 424 : 중간연결부
427 : 회동부재 429 : 구동력전달부재
500 : 클램프구동유닛 510 : 실린더유닛
520 : 푸시유닛 521 : 연결패킷
522 : 돌출부 600 : 탄성유닛
700 : 기판 800 : 상하이동가이드
900 : 기판인입유닛 910 : 기판지지부재
920 : 기판로딩부재 930 : 구동로봇결합부재
100: substrate rotating device 200: process chamber
300: substrate flip unit 310: bottom plate
320: side plate 330: substrate seating plate
331: shock-absorbing unit 340: rotation driving unit
350: opening / closing member 400: clamp unit
410: substrate pressing unit 420: driving force transmitting unit
421: Substrate pressing unit driving member 422: Pivoting unit recombination unit
423: substrate pressing unit pressing portion 424: intermediate connecting portion
427: rotating member 429: driving force transmitting member
500: clamp drive unit 510: cylinder unit
520: push unit 521: connection packet
522: protrusion 600: elastic unit
700: substrate 800: up-and-down guide
900: substrate inlet unit 910: substrate support member
920: substrate loading member 930: driving robot joining member

Claims (20)

기판의 회전이 진행되도록 마련되는 공정챔버;
상기 공정챔버 내부에 배치되며 상기 기판이 안착되는 경우 상기 기판을 회전시키는 기판플립유닛;
상기 기판플립유닛에 유동(遊動)가능하게 결합되며, 상기 기판이 상기 기판플립유닛에 안착되도록 상기 기판을 가압하는 클램프유닛; 및
상기 클램프유닛에 접촉 또는 접촉해제되어 상기 클램프유닛을 구동시키는 클램프구동유닛을 포함하며,
상기 클램프구동유닛은,
상기 공정챔버의 외부에 배치되는 실린더유닛; 및
상기 실린더유닛에 결합되고, 상기 공정챔버 내부의 상기 클램프유닛에 접촉되어 상기 클램프유닛을 가압하는 푸시유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 회전 장치.
A process chamber in which the rotation of the substrate is advanced;
A substrate flip unit disposed within the process chamber and rotating the substrate when the substrate is seated;
A clamp unit coupled to the substrate flip unit movably so as to press the substrate such that the substrate is seated on the substrate flip unit; And
And a clamp drive unit for contacting or releasing the clamp unit to drive the clamp unit,
The clamp drive unit includes:
A cylinder unit disposed outside the process chamber; And
And a pushing unit coupled to the cylinder unit, the pushing unit contacting the clamping unit inside the process chamber to press the clamping unit.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 클램프유닛에 결합되며, 상기 클램프유닛에 탄성력을 제공하는 탄성유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 회전 장치.
The method according to claim 1,
Further comprising an elastic unit coupled to the clamp unit and providing an elastic force to the clamp unit.
제3항에 있어서,
상기 클램프유닛은,
상기 기판에 접촉되어 상기 기판을 가압하도록 마련되는 기판가압유닛;
상기 기판가압유닛에 접촉되어 상기 기판가압유닛에 구동력을 전달하는 구동력전달유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 회전 장치.
The method of claim 3,
The clamp unit includes:
A substrate pressing unit which is brought into contact with the substrate to press the substrate;
And a driving force transmitting unit for contacting the substrate pressing unit and transmitting a driving force to the substrate pressing unit.
제4항에 있어서,
상기 구동력전달유닛은,
상기 기판가압유닛에 접촉되는 기판가압유닛구동부재;
상기 기판가압유닛구동부재에 결합되며, 회동축을 중심으로 회동가능하게 마련되는 회동부재; 및
상기 회동부재에 결합되며, 상기 클램프구동유닛이 접촉되도록 마련되는 구동력전달부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 회전 장치.
5. The method of claim 4,
The driving force transmitting unit includes:
A substrate pressing unit driving member contacting the substrate pressing unit;
A pivoting member coupled to the substrate pressing unit driving member and rotatable about a pivot axis; And
And a driving force transmitting member coupled to the pivoting member and adapted to be brought into contact with the clamp driving unit.
제5항에 있어서,
상기 탄성유닛은 코일스프링으로 마련되며,
상기 코일스프링의 일측이 상기 기판플립유닛에 결합되고, 상기 코일스프링의 타측이 상기 기판가압유닛에 결합되는 것을 특징으로 하는 기판 회전 장치.
6. The method of claim 5,
The elastic unit is provided with a coil spring,
Wherein one side of the coil spring is coupled to the substrate flip unit, and the other side of the coil spring is coupled to the substrate pressing unit.
제6항에 있어서,
상기 기판가압유닛에 결합되어 상기 기판가압유닛의 상하방향 이동을 가이드하는 상하이동가이드를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 회전 장치.
The method according to claim 6,
Further comprising an up-and-down movement guide coupled to the substrate pressurizing unit for guiding the up-and-down movement of the substrate pressurizing unit.
제7항에 있어서,
상기 상하이동가이드는 LM가이드(Linear Motion Guide)로 마련되는 것을 특징으로 하는 기판 회전 장치.
8. The method of claim 7,
Wherein the up-and-down movement guide is provided by an LM guide (Linear Motion Guide).
제5항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 기판가압유닛구동부재는,
상기 회동부재에 결합되는 회동부재결합부;
상기 회동부재결합부로부터 이격되어 배치되며, 상기 기판가압유닛을 가압하는 기판가압유닛가압부; 및
상기 회동부재결합부와 상기 기판가압유닛가압부를 연결하는 중간연결부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 회전 장치.
9. The method according to any one of claims 5 to 8,
Wherein the substrate pressing unit driving member comprises:
A rotating unit recombining unit coupled to the rotating member;
A substrate pressing unit pressing part which is disposed apart from the rotary part recombining part and which presses the substrate pressing unit; And
And an intermediate connection part for connecting the rotary part recombination part and the substrate pressing unit pressing part.
제9항에 있어서,
상기 기판가압유닛은 상기 기판의 하측에서 상측방향으로 상기 기판을 가압하도록 마련되는 것을 특징으로 하는 기판 회전 장치.
10. The method of claim 9,
Wherein the substrate pressing unit is arranged to press the substrate upward from the lower side of the substrate.
제1항에 있어서,
상기 기판플립유닛은,
하측에 배치되는 바닥플레이트;
상기 바닥플레이트의 측면에 결합되는 측면플레이트; 및
상기 측면플레이트에 결합되며 상기 기판이 안착되는 기판안착플레이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 회전 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the substrate flip unit comprises:
A bottom plate disposed on the lower side;
A side plate coupled to a side surface of the bottom plate; And
And a substrate mounting plate coupled to the side plate and on which the substrate is mounted.
제11항에 있어서,
상기 기판은 상기 기판안착플레이트의 하측에 안착되는 것을 특징으로 하는 기판 회전 장치.
12. The method of claim 11,
Wherein the substrate is seated below the substrate seating plate.
제11항 또는 제12항에 있어서,
상기 기판 안착시의 충격을 완화하기 위해 상기 기판안착플레이트의 하측에 결합되는 충격완화유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 회전 장치.
13. The method according to claim 11 or 12,
Further comprising an impact damping unit coupled to a lower side of the substrate seating plate to mitigate an impact upon seating the substrate.
제13항에 있어서,
상기 충격완화유닛은 폴리에텔에텔 케톤(Polyetherether Ketone,PEEK)으로 마련되는 것을 특징으로 하는 기판 회전 장치.
14. The method of claim 13,
Wherein the shock absorbing unit is provided with a polyetherether ketone (PEEK).
제1항에 있어서,
상기 기판을 상기 공정챔버 내부로 인입시키도록 마련되는 기판인입유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 회전 장치.
The method according to claim 1,
Further comprising a substrate pull-in unit configured to pull the substrate into the process chamber.
제15항에 있어서,
상기 기판인입유닛은,
상기 기판을 지지하는 기판지지플레이트; 및
상기 기판지지플레이트에 결합되며 상기 기판이 올려지는 기판로딩부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 회전 장치.
16. The method of claim 15,
The substrate withdrawing unit includes:
A substrate support plate for supporting the substrate; And
And a substrate loading member coupled to the substrate support plate and onto which the substrate is loaded.
제16항에 있어서,
상기 클램프유닛은 복수로 마련되며,
상기 기판로딩부재는,
제1클램프유닛과, 상기 제1클램프유닛으로부터 이웃하게 배치되는 제2클램프유닛의 사이로 이동가능하게 마련되는 것을 특징으로 하는 기판 회전 장치.
17. The method of claim 16,
The clamp unit may include a plurality of clamp units,
Wherein the substrate loading member comprises:
Wherein the first clamping unit is movable between a first clamping unit and a second clamping unit disposed adjacent to the first clamping unit.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 푸시유닛은,
상기 실린더유닛에 결합되는 연결패킷; 및
상기 연결패킷에 결합되며, 상기 클램프유닛을 가압하도록 마련되는 돌출부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 회전 장치.
The method according to claim 1,
The push unit includes:
A connection packet coupled to the cylinder unit; And
And a protrusion coupled to the connection packet, the protrusion being adapted to press the clamp unit.
제19항에 있어서,
상기 돌출부는 한 쌍으로 마련되어 상기 연결패킷의 상측과 하측에 각각 결합되는 것을 특징으로 하는 기판 회전 장치.
20. The method of claim 19,
Wherein the protrusions are provided in pairs and are coupled to the upper and lower sides of the connection packet, respectively.
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