KR101539301B1 - 프로세스 챔버의 순환식 정제장치 - Google Patents

프로세스 챔버의 순환식 정제장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 프로세스 챔버의 순환식 정제장치에 관한 것으로, 기판을 적재하고 비활성 분위기에서 상기 기판을 처리하는 프로세스 챔버와, 상기 프로세스 챔버에 비활성 가스를 공급하는 비활성 가스 공급관과, 상기 프로세스 챔버로부터 가스를 외부로 배기하는 배기관과, 상기 비활성 가스 공급관에 마련되어 상기 프로세스 챔버로 공급되는 비활성 가스를 가열하여 수분 제거 효율을 높이는 가열부와, 상기 배기관을 통해 배기되는 가스에서 수분농도를 검출하여 상기 프로세스 챔버의 내부 분위기를 확인하는 센서부와, 상기 배기관에 마련되어 가스를 냉각하여 순환시키는 블로워부와, 상기 블로워부를 통해 순환되는 가스에서 수분과 이물을 제거하여 상기 비활성 가스 공급관으로 공급하는 정제컬럼을 포함한다. 본 발명은 프로세스 챔버의 가스 및 그 가스와 함께 배출되는 비활성 가스를 정제시켜 재순환시킴으로써, 비활성 가스의 소모량을 최소화할 수 있는 효과가 있다.

Description

프로세스 챔버의 순환식 정제장치{Circulation type refining device for process chamber}
본 발명은 프로세스 챔버의 순환식 정제장치에 관한 것으로, 더 상세하게는 비활성가스 분위기에서 처리가 이루어지는 챔버에 적용하여 챔버 내의 수분 배출을 보다 신속하게 할 수 있는 프로세스 챔버의 순환식 정제장치에 관한 것이다.
최근 평판 디스플레이(FPD) 또는 유기발광다이오드(OLED)의 제조과정에서 특정한 제조공정은 디스플레이 발광소자 제조과정의 수분이 수명과 밀접한 관계로 인하여 외기와는 다른 비활성 분위기에서 처리될 필요가 있다. 따라서 외기와 단절된 분위기를 제공할 수 있는 대형의 프로세스 챔버가 제안되었다.
이러한 프로세스 챔버의 예로는 공개특허 10-2008-0048666호(프로세스 챔버 및 이의 형성방법, 2008년 6월 3일 공개) 등 다수의 예들이 있다. 이러한 프로세스 챔버들은 개폐가 가능한 도어를 가지고 있으며, 그 도어를 통해 대형의 유리기판을 챔버 내에 적재와 이송 등을 하고 처리하게 된다.
이때, 챔버의 내부를 비활성 분위기로 만들기 위하여 그 챔버 내에 비활성가스를 주입하는 과정이 요구된다.
상기 기판의 적재 또는 프로세스 챔버의 유지 보수를 위하여 프로세스 챔버의 도어가 열린 상태가 되면 그 챔버의 내부에는 외기가 유입되며, 적재 또는 유지 보수가 끝난 후 다시 비활성 분위기로 유지하여야 하며, 생산성을 고려하여 빠른 시간 안에 외기에 포함된 수분을 적정한 수준 이하가 되도록 적당량의 비활성가스를 주입시켜 프로세스 챔버 내부를 비활성 분위기로 만들 필요가 있다.
도 1은 종래 프로세스 챔버 정제장치의 일례를 보인 구성도이다.
도 1을 참조하면 프로세스 챔버(1)와, 상기 프로세스 챔버(1)에 비활성가스를 공급하는 비활성 가스 공급관(2)과, 상기 챔버(1)에 유입된 외기를 배출하는 배기관(3)과, 상기 배기관(3)을 통해 배기 가스에서 수분을 검출하는 수분센서(4)를 포함하여 구성된다.
상기 수분센서(4)에서 검출된 수분이 설정된 값 이하인 경우에 프로세스 챔버(1)의 내부가 기판의 처리에 적당한 수준의 비활성 분위기인 것으로 판단하여 상기 비활성 가스 공급관(2)을 통해 공급되는 비활성가스의 공급을 중단하고, 배기관(3)을 통한 가스의 배기를 중단하고, 그 챔버(1)를 이용하여 기판을 처리하게 된다.
기판의 처리가 완료되면 다시 챔버(1)의 도어를 열고 처리된 기판을 챔버(1) 외부로 인출하며, 다시 새롭게 처리될 기판을 챔버(1) 내에 적재하게 된다. 이 과정에서 다시 챔버(1)의 내부에는 외부 가스가 유입되며, 다시 프로세스 챔버(1)를 비활성 분위기로 만들기 위하여 비활성 가스 공급관(2)을 통해 비활성 가스를 프로세스 챔버(1)의 내부로 공급해야 한다.
이처럼 기판(1)의 처리과정에서는 프로세스 챔버(1)의 내부에 기판을 적재할 때는 그 시간이 상대적으로 짧으며, 프로세스 챔버(1)의 내부에 소정 압력의 비활성 가스가 잔류하기 때문에 상대적으로 비활성 가스의 공급량이 적어도 프로세스 챔버(1)의 내부를 비활성 분위기로 만들 수 있게 된다.
그러나 프로세스 챔버(1)의 유지 보수를 수행하는 경우에는 프로세스 챔버(1)의 도어를 개방하는 시간이 상대적으로 길기 때문에, 프로세스 챔버(1)를 유지 보수 후 재가동하기 위해서는 비활성가스의 공급량이 상대적으로 더 많아야 하며, 그 프로세스 챔버(1)의 내부를 비활성 분위기로 만드는데 더 많은 시간이 소요되어, 생산성이 저하되며 비용이 증가하는 문제점이 있었다.
또한 배기관(3)을 통해 배기 되는 가스에는 상기 프로세스 챔버(1)의 내부로 공급된 비활성 가스를 포함하고 있기 때문에 비활성 가스의 사용량이 더욱 증가하게 되는 문제점이 있었다.
아울러 프로세스 챔버(1)에 비활성가스를 공급함과 아울러 배기관(3)을 통해 배기를 수행하게 되는데, 상기 프로세스 챔버(1)의 내부 분위기의 상태를 확인하기 위하여 상기 수분센서(4)로 배기되는 가스의 수분농도를 검출한다. 즉, 수분센서(4)에서 검출된 수분농도가 설정된 농도 이하인 경우에 프로세스 챔버(1)의 내부가 공정에 적당한 정도의 비활성 분위기가 된 것으로 판단한다.
이때 배기되는 가스에는 다량의 수분을 포함하고 있으며, 그 수분센서(4)에 수분이 흡착되고, 그 흡착된 수분에 의하여 실제 배기관(3)을 통해 배기 되는 가스의 수분량에 비하여 더 높은 수분이 검출될 수 있으며, 매우 낮은 기준 값 이하의 수분이 측정되기 위해서는 그 수분센서(4)에 흡착된 수분이 건조된 이후가 되기 때문에 측정 시간이 길어지는 문제점이 있었다.
즉, 챔버(1)의 내부 수분량이 매우 낮은 값으로 유지되어야 하지만, 수분센서 자체에 흡착된 수분이 제거되어 실제 챔버(1)의 수분량을 검출하는데 까지 소요되는 시간이 필요하기 때문에 공정 대기시간이 상대적으로 길게 되며, 따라서 생산성이 저하되며, 상기 비활성 가스 공급관(2)을 통해 공급되는 비활성 가스의 소비량이 더욱 증가하게 되는 문제점이 있었다.
상기와 같은 문제점을 감안한 본 발명이 해결하고자 하는 과제는, 더 적은 비활성 가스의 공급으로도 더 빨리 프로세스 챔버를 비활성 분위기로 만들 수 있는 프로세스 챔버의 순환식 정제장치를 제공함에 있다.
아울러 본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는, 비활성 가스의 소모량을 최소화할 수 있는 프로세스 챔버의 순환식 정제장치를 제공함에 있다.
또한 본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는 수분센서의 검출대기 시간을 줄일 수 있는 프로세스 챔버의 순환식 정제장치를 제공함에 있다.
상기와 같은 과제를 해결하기 위한 본 발명 프로세스 챔버의 순환식 정제장치는, 기판을 적재하고 비활성 분위기에서 상기 기판을 처리하는 프로세스 챔버와, 상기 프로세스 챔버에 비활성 가스를 공급하는 비활성 가스 공급관과, 상기 프로세스 챔버로부터 가스를 외부로 배기하는 배기관과, 상기 비활성 가스 공급관에 마련되어 상기 프로세스 챔버로 공급되는 비활성 가스를 가열하여 수분 제거 효율을 높이는 가열부와, 상기 배기관을 통해 배기되는 가스에서 수분농도를 검출하여 상기 프로세스 챔버의 내부 분위기를 확인하는 센서부와, 상기 배기관에 마련되어 가스를 냉각하여 순환시키는 블로워부와, 상기 블로워부를 통해 순환되는 가스에서 수분과 이물을 제거하여 상기 비활성 가스 공급관으로 공급하는 정제컬럼을 포함한다.
본 발명 프로세스 챔버의 순환식 정제장치는, 프로세스 챔버의 가스 및 그 가스와 함께 배출되는 비활성 가스를 정제시켜 재순환시킴으로써, 비활성 가스의 소모량을 최소화할 수 있는 효과가 있다.
아울러 본 발명은 프로세스 챔버에 공급되는 비활성 가스를 가열하여 공급함으로써, 프로세스 챔버 내의 수분 제거효율을 높여, 상대적으로 비활성 가스의 소모량을 줄이며, 정제 시간을 단축하여 생산성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
또한 본 발명은 프로세스 챔버 내부 분위기를 검출하는 수단으로 수분센서와 산소센서를 함께 사용하고, 검출된 산소의 농도에 따라 수분센서의 동작을 결정하여 수분센서가 높은 농도의 수분에 노출되는 것을 차단함으로써, 수분센서에 흡착되는 수분의 양을 줄여 검출대기시간을 최소화하여 기판 처리 생산성을 향상시킴과 아울러 비활성가스의 사용량을 줄일 수 있는 효과가 있다.
도 1은 종래 프로세스 챔버의 정제장치의 일례를 보인 구성도이다.
도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 프로세스 챔버의 순환식 정제장치의 블록 구성도이다.
도 3은 본 발명의 바람직한 실시예에 적용되는 센서부의 상세 구성도이다.
도 4는 본 발명에 적용되는 센서부의 다른 실시예의 구성도이다.
도 5는 본 발명에 적용되는 센서부의 다른 실시예의 구성도이다.
이하, 본 발명 프로세스 챔버의 순환식 정제장치에 대하여 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 프로세스 챔버의 순환식 정제장치의 구성도이다.
도 2를 참조하면 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 프로세스 챔버의 순환식 정제장치는, 적재된 기판을 비활성 분위기에서 처리하는 프로세스 챔버(1)와, 상기 프로세스 챔버(1)에 비활성 가스를 공급하는 비활성 가스 공급관(2)과, 상기 비활성 가스 공급관(2)을 통해 공급되는 비활성 가스를 가열하는 가열부(300)와, 상기 프로세스 챔버(1)에서 가스를 배출하는 배기관(3)과, 상기 배기관(3)의 일부에 마련되어 원활한 배기가 이루어지도록 하는 블로워부(400)와, 상기 배기관(3)을 통해 순환되는 가스를 정화시켜 상기 비활성 가스 공급관(2)으로 재순환 공급하는 정제컬럼(500)과, 상기 배기관(3)을 통해 배기 되는 가스의 수분을 검출하여 상기 프로세스 챔버(1)의 상태를 확인할 수 있는 센서부(100)와, 상기 프로세스 챔버(1) 내의 비활성 가스의 농도가 설정 농도보다 낮을 때 상기 비활성 가스 공급관(2)에 추가로 비활성 가스를 공급하는 비활성 가스 공급부(600)를 포함하여 구성된다.
이하, 상기와 같이 구성되는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 프로세스 챔버의 순환식 정제장치의 구성과 작용에 대하여 보다 상세히 설명한다.
먼저, 프로세스 챔버(1)에 기판이 적재된 상태에서 비활성 가스 공급관(2)을 통해 프로세스 챔버(1)의 내부로 비활성 가스를 공급한다. 이때 상기 비활성 가스 공급관(2)의 일부 외면에는 가열부(300)가 마련되어 있으며, 그 가열부(300)에 의하여 상기 프로세스 챔버(1)로 공급되는 비활성 가스는 가열된다.
상기 프로세스 챔버(1)에 기판이 적재되었다는 상태는 기판의 처리가 반복적으로 수행되고 있는 과정 중 또는 프로세스 챔버(1)를 유지 및 보수 한 후 기판의 처리를 다시 시작하기 위한 과정으로 이해될 수 있다.
상기 가열부(300)는 상기 비활성 가스 공급관(2)의 일부를 감싸는 자켓형 히터일 수 있으며, 비활성 가스 공급관(2)에 삽입되는 전열히터일 수 있다. 상기 가열부(300)에 의해 가열된 비활성 가스의 온도는 상온 이상이며, 기판의 처리온도 이하의 온도로 가열된다.
상기 비활성 가스 공급관(2)을 통해 가열된 비활성 가스를 공급받은 프로세스 챔버(1)는 그 내부 온도가 상승하게 되며, 기판의 적재과정 또는 프로세스 챔버(1)의 유지 및 보수 과정에서 유입된 외부 가스에 포함된 수분의 배기를 더 빠르게 할 수 있다.
상기 비활성 가스의 공급과 아울러 배기관(3)의 일부에 마련된 블로워부(400)는 배기관(3)을 통해 프로세스 챔버(1)의 내에서 가스 및 비활성 가스가 인출되도록 한다. 상기 블로워부(400)는 블로워(410)와, 상기 블로워(410)를 밀폐시키는 밀폐부(420) 및 상기 밀폐부(420)에 설치 되는 냉각부(430)를 포함하여 구성된다.
상기 배기관(3)을 통해 배기 되는 가스에는 앞서 설명한 바와 같이 다량의 수분을 포함하고 있으며, 상기 가열된 비활성 가스의 공급에 따라 그 가스 및 그 가스와 함께 순환 배출되는 비활성 가스의 온도도 상승하게 되며, 그 가스에 포함된 습도의 농도는 센서부(100)에서 검출된다.
상기 센서부(100)의 습도농도 검출결과에 따라 상기 블로워부(400)의 블로워(410) 동작과 비활성 가스의 공급 여부가 결정되며, 센서부(100)의 상세한 구성과 동작은 이후에 다시 설명하기로 한다.
상기 블로워부(400)는 상기 블로워(410)는 회전날개를 포함하여 가스를 배기할 수 있는 구성이나, 자체의 구조상 가스가 일부 외부로 누설될 수 있는 구조이며, 이러한 가스의 누설을 완전히 차단하기 위하여 밀폐부(420)를 두어 그 밀폐부(420) 내에 블로워(410)를 위치시키고, 그 밀폐부(420)의 내부로 배기관(3)이 삽입되도록 하며, 그 배기관(3)의 삽입부분도 실링하여 완전히 외기와 밀폐될 수 있도록 한다.
또한 상기 밀폐부(420)의 외면에는 냉각부(430)가 마련되어 있으며, 상기 냉각부(430)는 냉각수와 상기 밀폐부(420)의 열교환을 통해 상기 배기관(3)을 통해 순환하는 가스 및 그 가스에 일부 포함되는 비활성 가스의 온도를 낮추는 역할을 한다.
또한 상기 블로워(410)가 회전하면서 발생하는 열도 냉각시킬 수 있어, 블로워(410)의 수명이 단축되는 것을 방지할 수 있다.
상기 블로워(410)를 통해 상기 가스는 정제컬럼(500)으로 공급된다. 상기 정제컬럼(500)은 공급된 가스에서 수분과 이물을 분리 제거하는 구성이면, 그 구성에 무관하게 본 발명에 적용할 수 있다.
상기 정제컬럼(500)을 통해 수분과 이물이 제거된 가스는 비활성 가스 공급관(2)을 통해 다시 프로세스 챔버(1)로 공급된다.
상기 순환되는 가스에 의하여 비활성 가스의 농도가 낮아지는 경우에는 비활성 가스 공급부(600)를 통해 비활성 가스를 상기 비활성 가스 공급관(2)으로 더 공급한다.
이처럼 본 발명은 비활성 가스를 순환시켜 사용함으로써, 비활성 가스의 사용량을 최소화할 수 있게 된다.
도 3은 상기 센서부(100)의 일실시 구성도이다.
도 3을 참조하면 상기 센서부(100)는, 제어부(200)의 제어에 따라 배기관(3)을 통해 배기되는 가스의 일부를 분기하여 그 분기 된 가스의 수분을 검출하는 수분센서부(110)와, 상기 수분센서부(110)를 경유한 가스의 출구를 가변하는 선택공급부(120)와, 상기 선택공급부(120)로부터 상기 수분센서부(110)를 경유한 가스를 공급받아 산소농도를 측정하여, 그 결과를 상기 제어부(200)로 제공하여 상기 수분센서부(110)의 동작여부를 결정하는 산소센서부(130)와, 상기 산소센서부(130)의 후단에서 상기 가스를 상기 배기관(3)으로 공급하는 펌프부(140)를 포함하여 구성된다.
상기 수분센서부(110)는 배기관(3)을 통해 배기 되는 가스의 일부를 분기하는 분기관(111)과, 상기 분기관(111)에 마련된 밸브(112)와, 상기 분기관(111)을 통해 분기된 가스의 수분을 검출하여 상기 제어부(200)에 그 검출결과를 인지시키는 수분센서(113)를 포함하여 구성된다.
상기 선택공급부(120)는 제어부(200)의 제어에 따라 상기 수분센서(110)를 경유한 가스의 배출 방향을 결정하는 삼방밸브(121)와, 상기 삼방밸브(121)의 제1출구단과 상기 배기관(3)을 연결하는 밸브(122)로 구성된다.
상기 산소센서부(130)는 상기 삼방밸브(121)의 제2출구단에 연결되어 상기 수분센서(113)를 경유한 가스의 산소농도를 검출하여 상기 제어부(200)로 전달하는 산소센서(131)로 구성되며, 상기 펌프부(140)는 상기 산소센서(131)를 경유한 가스에 압력을 제공하는 샘플링펌프(141)와, 상기 샘플링펌프(141)의 출구단의 가스를 상기 배기관(3)에 공급하는 밸브(142)로 구성된다.
이와 같은 구성의 센서부(100)의 구성을 상세히 설명하면, 상기 배기관(3)을 통해 배기 되는 가스는 배기의 초기에 수분의 함량이 더 높게 되며, 이전의 기판 처리 과정 또는 프로세스 챔버(1)의 유지 및 보수 과정에 유입된 가스에 포함된 수분을 검출하면서 수분센서부(110)의 수분센서(113)에는 수분이 흡착된 상태일 수 있다.
이를 고려하여 배기의 초기 단계에서는 상기 수분센서(113)를 사용하지 않고, 분기관(111)과 밸브(112)를 통해 상기 배기관(3)에서 분기 된 가스는 그 수분센서(113)를 단순 경유하여 선택공급부(120)로 공급된다.
상기 선택공급부(120)의 삼방밸브(121)는 입구단을 통해 공급된 배기관(3)에서 분기되고, 수분센서(113)를 단순 경유한 가스를 제2출구단을 통해 산소센서부(130)의 산소센서(131)로 공급한다.
상기 산소센서(131)는 수분의 함량이 많은 가스의 산소농도를 검출하게 된다. 통상 산소센서(131)는 수분센서(113)에 비하여 민감도가 낮으며, 수분에 의한 오차의 발생이 없기 때문에 배기관(3)을 통해 배기 되는 가스의 산소농도를 정확하게 측정이 가능하게 된다.
이때 산소센서(131)에서 검출된 산소농도의 정보는 제어부(200)에 전달되어 인식되고, 설정된 값 이하의 산소농도가 검출될 때까지 상기 제어부(200)는 수분센서(113)의 동작을 정지시키고, 상기 삼방밸브(121)의 제2출구단으로의 개방상태를 유지하게 된다.
상기 산소센서(131)에서 산소농도가 검출된 가스는 펌프부(140)의 샘플링펌프(141)와 밸브(142)를 통해 배기관(3)으로 공급되어 분기 되지 않고 그 배기관(3)을 통해 배기 되는 가스에 합류된다.
이와 같은 상태가 유지되면서, 상기 수분센서(113)에 흡착되었던 수분이 건조되며, 상기 챔버(1)의 가스는 외부로 배기되고, 챔버(1)로 비활성 가스가 비활성 가스 공급관(2)을 통해 공급되어 상기 산소센서(131)에서 검출되는 산소농도는 점차 낮아지게 된다.
상기 산소농도가 점차 낮아져 상기 산소센서(131)에서 검출된 산소농도가 기준농도 이하가 되면, 상기 제어부(200)는 챔버(1)의 내부 분위기의 정확한 검출을 위하여 습도센서(113)를 동작시키며, 상기 삼방밸브(121)의 상태를 변경하여 그 삼방밸브(121)의 제1출구단과 밸브(122)를 통해 가스가 배기관(3)으로 유입되게 한다.
즉, 배기관(3)을 통해 배기 되는 가스 중 분기 된 일부의 가스는 수분센서부(110)와 선택공급부(120)를 통과하여 다시 배기관(3)에 합류된다.
이때 수분센서부(110)의 수분센서(113)는 상기 분기 된 가스에서 수분을 검출하여 현재 챔버(1)의 내부가 공정에 적당한 정도로 비활성 분위기가 되었는지 판단할 수 있도록 한다.
앞서 설명한 바와 같이 수분센서(113)는 배기의 초기 동작에서 산소센서(131)가 산소농도를 검출하는 동안 내부에 흡착된 수분이 건조된 것으로, 흡착된 수분에 의한 오검출 없이 정확하게 미량의 수분농도를 검출할 수 있게 된다.
상기 수분센서부(110)의 습도센서(113)에서 검출된 수분농도가 설정 값 이하인 경우 상기 챔버(1)에 비활성 가스의 공급과 배기를 중단하고, 기판을 처리하게 된다.
이와 같은 과정을 통하여 수분센서(113)에 잔류하는 수분을 제거한 후 배기 가스의 수분농도를 검출하기 때문에, 공정 대기시간을 단축할 수 있으며, 비활성가스의 공급량을 더욱 줄일 수 있게 된다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 가스배기관의 습도 검출장치의 상세 구성도이다.
도 4를 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 가스배기관의 습도 검출장치는 앞서 설명한 도 3의 구성에 건조부(150)를 더 포함하여 구성될 수 있다.
상기 건조부(150)는 비활성가스를 상기 수분센서부(110)의 수분센서(113)에 공급하여 흡착된 수분을 더 빨리 건조시킬 수 있도록 하며, 필요에 따라서 상기 산소센서(131), 샘플링펌프(141) 등을 퍼지(purge) 할 수 있게 된다.
상기 건조부(150)는 상기 수분센서부(110)의 출구단과 상기 삼방밸브(121)의 입구단측에 질소 가스를 공급하는 밸브(151)를 포함하여 구성되고, 공급된 질소가스는 수분센서(113), 밸브(112), 분기관(111)을 통해 배기관(3)으로 유입되어 외부로 배출될 수 있으며, 삼방밸브(131)의 제2출구단을 통해 산소센서(131), 샘플링펌프(141), 밸브(142)를 통해 배기관(3)으로 유입된 후 외부로 배출될 수 있다.
이처럼 건조부(150)를 더 포함하여 상기 습도센서(113)에 흡착된 수분을 더 빨리 건조시킴으로써 습도센서(113)의 검출 정확도를 보다 높일 수 있게 된다.
전술한 바와 같이 본 발명에 대하여 바람직한 실시예를 들어 상세히 설명하였지만, 본 발명은 전술한 실시예들에 한정되는 것이 아니고, 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명에 속한다.
1:프로세스 챔버 2:비활성 가스 공급관
3:배기관 100:센서부
110:수분센서부 111:분기관
112,122,142,151:밸브 113:습도센서
120:선택공급부 121:삼방밸브
130:산소센서부 131:산소센서
140:펌프부 141:샘플링펌프
150:건조부 200:제어부
300:가열부 400:블로워부
410:블로워 420:밀폐부
430:냉각부 500:정제컬럼

Claims (7)

  1. 기판을 적재하고 비활성 분위기에서 상기 기판을 처리하는 프로세스 챔버;
    상기 프로세스 챔버에 비활성 가스를 공급하는 비활성 가스 공급관;
    상기 프로세스 챔버로부터 가스를 외부로 배기하는 배기관;
    상기 비활성 가스 공급관에 마련되어 상기 프로세스 챔버로 공급되는 비활성 가스를 가열하여 수분 제거 효율을 높이는 가열부;
    상기 배기관을 통해 배기되는 가스에서 수분농도를 검출하여 상기 프로세스 챔버의 내부 분위기를 확인하는 센서부;
    상기 배기관에 마련되어 가스를 냉각하여 순환시키는 블로워부; 및
    상기 블로워부를 통해 순환되는 가스에서 수분과 이물을 제거하여 상기 비활성 가스 공급관으로 공급하는 정제컬럼을 포함하되,
    상기 센서부는,
    상기 배기관의 가스의 수분농도를 검출하는 수분센서부;
    상기 수분센서부를 경유한 가스를 상기 배기관으로 합류시키거나 다른 경로로 공급경로를 가변하는 선택공급부;
    상기 선택공급부를 통해 상기 가스를 공급받아 산소농도를 검출하는 산소센서부;
    상기 산소센서부의 가스를 상기 배기관에 공급하는 펌프부; 및
    상기 산소센서부에서 검출된 산소농도가 설정 농도 이하일 때 상기 수분센서부를 동작시켜 수분농도를 검출하도록 하며, 상기 선택공급부를 통해 상기 수분센서부를 경유한 가스를 상기 배기관으로 합류시키도록 상태를 변경하는 제어부를 포함하는 프로세스 챔버의 순환식 정제장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 블로워부는,
    블로워와, 상기 블로워를 밀폐하는 밀폐부와, 상기 밀폐부에 마련되어 상기 순환되는 가스를 냉각하는 냉각부를 포함하는 프로세스 챔버의 순환식 정제장치.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 프로세스 챔버의 비활성 가스 농도가 기준값 이하일 때 상기 비활성 가스 공급관에 비활성 가스를 추가 공급하는 비활성 가스 공급부를 더 포함하는 프로세스 챔버의 순환식 정제장치.
  4. 삭제
  5. 제1항에 있어서,
    상기 수분센서부는,
    복수로 마련된 것을 특징으로 하는 프로세스 챔버의 순환식 정제장치.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 수분센서부는,
    상기 배기관에 연결되는 분기관;
    상기 분기관에 마련된 밸브; 및
    상기 분기관과 상기 밸브를 통해 공급된 가스의 수분농도를 검출하는 수분센서를 포함하는 프로세스 챔버의 순환식 정제장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 수분센서에 비활성가스를 공급하여 상기 수분센서에 흡착된 수분을 건조시키는 건조부를 더 포함하는 프로세스 챔버의 순환식 정제장치.
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