JPH11347506A - Ｕｖ洗浄装置 - Google Patents
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- JPH11347506A JPH11347506A JP10157786A JP15778698A JPH11347506A JP H11347506 A JPH11347506 A JP H11347506A JP 10157786 A JP10157786 A JP 10157786A JP 15778698 A JP15778698 A JP 15778698A JP H11347506 A JPH11347506 A JP H11347506A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 周囲にオゾン雰囲気を漏らさずに、従来より
も高いオゾン濃度とすることができ、洗浄力を向上でき
る画期的なＵＶ洗浄装置を提供すること。 【解決手段】 被洗浄物１を搬入する洗浄室２内に紫外
線ランプ３を設け、この紫外線ランプ３の紫外線（Ｕ
Ｖ）照射によって有機物の分子鎖を分断し、ついでこの
紫外線ランプ３の紫外線（ＵＶ）照射によって洗浄室２
内にオゾンを発生させ、このオゾンの分解・生成反応過
程の酸化力の強い発生期の酸素（Ｏ）と有機物との反応
により被洗浄物１の表面有機物を除去するように構成し
たＵＶ洗浄装置ａにおいて、前記洗浄室２を覆う又は前
記洗浄室２の被洗浄物１の搬入口４若しくは搬出口５を
覆う補助室としての外装室６を設け、この外装室６に排
気部７を設けて前記洗浄室２内からこの外装室６内へ漏
れ出るオゾン雰囲気を本装置ａの設置周囲より外方部へ
排出するように構成して、本装置ａの設置周囲のオゾン
雰囲気漏れを防止した上で、前記洗浄室２内のオゾン濃
度を高く保持し得るように構成したＵＶ洗浄装置。
も高いオゾン濃度とすることができ、洗浄力を向上でき
る画期的なＵＶ洗浄装置を提供すること。 【解決手段】 被洗浄物１を搬入する洗浄室２内に紫外
線ランプ３を設け、この紫外線ランプ３の紫外線（Ｕ
Ｖ）照射によって有機物の分子鎖を分断し、ついでこの
紫外線ランプ３の紫外線（ＵＶ）照射によって洗浄室２
内にオゾンを発生させ、このオゾンの分解・生成反応過
程の酸化力の強い発生期の酸素（Ｏ）と有機物との反応
により被洗浄物１の表面有機物を除去するように構成し
たＵＶ洗浄装置ａにおいて、前記洗浄室２を覆う又は前
記洗浄室２の被洗浄物１の搬入口４若しくは搬出口５を
覆う補助室としての外装室６を設け、この外装室６に排
気部７を設けて前記洗浄室２内からこの外装室６内へ漏
れ出るオゾン雰囲気を本装置ａの設置周囲より外方部へ
排出するように構成して、本装置ａの設置周囲のオゾン
雰囲気漏れを防止した上で、前記洗浄室２内のオゾン濃
度を高く保持し得るように構成したＵＶ洗浄装置。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば液晶，カラ
ーフィルタ，ＰＤＰなどの基板を洗浄するＵＶ洗浄装置
に関するものである。
ーフィルタ，ＰＤＰなどの基板を洗浄するＵＶ洗浄装置
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】電子機器部品などでは非常に高い洗浄度
が要求されている。汚れを大別すると塵，切粉などの無
機質と、切削油，フラックス，指紋などの有機質とに分
けられ、この無機質の汚れは、主に水洗浄によって取り
除くことができるが、有機質の汚れは、水洗浄では完全
に取り除けないため、水，溶剤などで事前に洗浄してか
ら紫外線洗浄による精密洗浄が行われている。
が要求されている。汚れを大別すると塵，切粉などの無
機質と、切削油，フラックス，指紋などの有機質とに分
けられ、この無機質の汚れは、主に水洗浄によって取り
除くことができるが、有機質の汚れは、水洗浄では完全
に取り除けないため、水，溶剤などで事前に洗浄してか
ら紫外線洗浄による精密洗浄が行われている。
【０００３】即ち、この紫外線洗浄を行うＵＶ洗浄装置
を、例えば製作ラインに配置し、精密洗浄を行ってい
る。
を、例えば製作ラインに配置し、精密洗浄を行ってい
る。
【０００４】従来のこのようなＵＶ洗浄装置は、例えば
図３に示すように、被洗浄物１（例えばカラーフィルタ
などの基板）を搬入口４から紫外線ランプ３を複数並設
したＵＶ洗浄室２内に搬入し、洗浄後反対側の搬出口５
より搬出する構成で、順次搬送機構により被洗浄物たる
基板を送り込み紫外線洗浄するように構成している。
図３に示すように、被洗浄物１（例えばカラーフィルタ
などの基板）を搬入口４から紫外線ランプ３を複数並設
したＵＶ洗浄室２内に搬入し、洗浄後反対側の搬出口５
より搬出する構成で、順次搬送機構により被洗浄物たる
基板を送り込み紫外線洗浄するように構成している。
【０００５】この紫外線洗浄は、簡単に説明すると、こ
の紫外線ランプ３の紫外線（ＵＶ）照射によって有機物
の分子鎖を分断し、ついでこの紫外線ランプ３の紫外線
（ＵＶ）照射によって洗浄室２内にオゾンを発生させ、
このオゾンの分解・生成反応過程の酸化力の強い発生期
の酸素（Ｏ）と有機物との反応により被洗浄物１の表面
有機物を蒸発気化させて洗浄するもので、乾式洗浄とも
称されている。
の紫外線ランプ３の紫外線（ＵＶ）照射によって有機物
の分子鎖を分断し、ついでこの紫外線ランプ３の紫外線
（ＵＶ）照射によって洗浄室２内にオゾンを発生させ、
このオゾンの分解・生成反応過程の酸化力の強い発生期
の酸素（Ｏ）と有機物との反応により被洗浄物１の表面
有機物を蒸発気化させて洗浄するもので、乾式洗浄とも
称されている。
【０００６】一方、従来のＵＶ洗浄装置は、洗浄室２内
のオゾン濃度を調整すると共に、洗浄室２の搬入口４や
搬出口５から本装置ａの周囲にオゾン雰囲気が漏れ出な
いように洗浄室２内に排気部15を設けて、常時洗浄室２
内のオゾン雰囲気をダクトを介して外方部へ排気してい
る。
のオゾン濃度を調整すると共に、洗浄室２の搬入口４や
搬出口５から本装置ａの周囲にオゾン雰囲気が漏れ出な
いように洗浄室２内に排気部15を設けて、常時洗浄室２
内のオゾン雰囲気をダクトを介して外方部へ排気してい
る。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、本来洗
浄力を高めるには洗浄室内のオゾン濃度を高くする必要
があるが、従来のＵＶ洗浄装置では、例えば図３に示す
前述のような構成のため、オゾン濃度を高めようとする
と、それだけ高濃度のオゾン雰囲気が本装置周囲に漏れ
出るおそれがあり、安全許容値を超えたり悪臭を放つな
ど周囲環境を悪化させる。
浄力を高めるには洗浄室内のオゾン濃度を高くする必要
があるが、従来のＵＶ洗浄装置では、例えば図３に示す
前述のような構成のため、オゾン濃度を高めようとする
と、それだけ高濃度のオゾン雰囲気が本装置周囲に漏れ
出るおそれがあり、安全許容値を超えたり悪臭を放つな
ど周囲環境を悪化させる。
【０００８】また、被洗浄物を搬入搬出する必要のある
洗浄室内を気密保持することは容易ではない。
洗浄室内を気密保持することは容易ではない。
【０００９】そのため、従来のＵＶ洗浄装置において
は、図３に示すようにオゾンを多量に発生させつつも本
装置ａ周囲にオゾン雰囲気が漏れ出ないように、排気部
15より常時多量にオゾン雰囲気を排気して、搬入口４，
搬出口５から外気を吸引してオゾン雰囲気の漏気を完全
に防止しなければならない。そのために結局、洗浄室２
内のオゾン濃度は十分に高い濃度とすることができず、
また、オゾン濃度も不均一となり易く、洗浄力はまだま
だ十分とはいえない。
は、図３に示すようにオゾンを多量に発生させつつも本
装置ａ周囲にオゾン雰囲気が漏れ出ないように、排気部
15より常時多量にオゾン雰囲気を排気して、搬入口４，
搬出口５から外気を吸引してオゾン雰囲気の漏気を完全
に防止しなければならない。そのために結局、洗浄室２
内のオゾン濃度は十分に高い濃度とすることができず、
また、オゾン濃度も不均一となり易く、洗浄力はまだま
だ十分とはいえない。
【００１０】本発明は、従来のＵＶ洗浄装置にこのよう
な問題点を見い出し、従来通りオゾン雰囲気が周囲に完
全に漏れないようにして周囲環境を悪化させずに、洗浄
室内は従来よりも高いオゾン濃度とすることができ、洗
浄力を向上できる画期的なＵＶ洗浄装置を提供すること
を目的としている。
な問題点を見い出し、従来通りオゾン雰囲気が周囲に完
全に漏れないようにして周囲環境を悪化させずに、洗浄
室内は従来よりも高いオゾン濃度とすることができ、洗
浄力を向上できる画期的なＵＶ洗浄装置を提供すること
を目的としている。
【００１１】
【課題を解決するための手段】添付図面を参照して本発
明の要旨を説明する。
明の要旨を説明する。
【００１２】被洗浄物１を搬入する洗浄室２内に紫外線
ランプ３を設け、この紫外線ランプ３の紫外線（ＵＶ）
照射によって有機物の分子鎖を分断し、ついでこの紫外
線ランプ３の紫外線（ＵＶ）照射によって洗浄室２内に
オゾンを発生させ、このオゾンの分解・生成反応過程の
酸化力の強い発生期の酸素（Ｏ）と有機物との反応によ
り被洗浄物１の表面有機物を除去するように構成したＵ
Ｖ洗浄装置ａにおいて、前記洗浄室２を覆う又は前記洗
浄室２の被洗浄物１の搬入口４若しくは搬出口５を覆う
補助室としての外装室６を設け、この外装室６に排気部
７を設けて前記洗浄室２内からこの外装室６内へ漏れ出
るオゾン雰囲気を本装置ａの設置周囲より外方部へ排出
するように構成して、本装置ａの設置周囲のオゾン雰囲
気漏れを防止した上で、前記洗浄室２内のオゾン濃度を
高く保持し得るように構成したことを特徴とするＵＶ洗
浄装置に係るものである。
ランプ３を設け、この紫外線ランプ３の紫外線（ＵＶ）
照射によって有機物の分子鎖を分断し、ついでこの紫外
線ランプ３の紫外線（ＵＶ）照射によって洗浄室２内に
オゾンを発生させ、このオゾンの分解・生成反応過程の
酸化力の強い発生期の酸素（Ｏ）と有機物との反応によ
り被洗浄物１の表面有機物を除去するように構成したＵ
Ｖ洗浄装置ａにおいて、前記洗浄室２を覆う又は前記洗
浄室２の被洗浄物１の搬入口４若しくは搬出口５を覆う
補助室としての外装室６を設け、この外装室６に排気部
７を設けて前記洗浄室２内からこの外装室６内へ漏れ出
るオゾン雰囲気を本装置ａの設置周囲より外方部へ排出
するように構成して、本装置ａの設置周囲のオゾン雰囲
気漏れを防止した上で、前記洗浄室２内のオゾン濃度を
高く保持し得るように構成したことを特徴とするＵＶ洗
浄装置に係るものである。
【００１３】また、前記洗浄室２内に前記被洗浄物１を
搬入搬出する搬入口４と搬出口５とを設け、この搬入口
４と搬出口５とを覆う前記外装室６を設け、この外装室
６に搬入口４Ａ若しくは搬出口５Ａを設けて、前記被洗
浄物１を前記洗浄室２内に前記搬入口４Ａ，４を順次通
過して搬入し、前記搬出口５，５Ａを順次通過させて搬
出し得るように構成し、前記洗浄室２の搬入口４若しく
は搬出口５から前記外装室６内に前記洗浄室２内から漏
れ出るオゾン雰囲気を排気する前記排気部７を外装室６
に設けたことを特徴とする請求項１記載のＵＶ洗浄装置
に係るものである。
搬入搬出する搬入口４と搬出口５とを設け、この搬入口
４と搬出口５とを覆う前記外装室６を設け、この外装室
６に搬入口４Ａ若しくは搬出口５Ａを設けて、前記被洗
浄物１を前記洗浄室２内に前記搬入口４Ａ，４を順次通
過して搬入し、前記搬出口５，５Ａを順次通過させて搬
出し得るように構成し、前記洗浄室２の搬入口４若しく
は搬出口５から前記外装室６内に前記洗浄室２内から漏
れ出るオゾン雰囲気を排気する前記排気部７を外装室６
に設けたことを特徴とする請求項１記載のＵＶ洗浄装置
に係るものである。
【００１４】また、搬入口４Ａと搬出口５Ａとを有する
搬入収納部内に前記搬入口４と搬出口５とを残して仕切
区画する仕切部10を設けて、この搬入収納部内に前記洗
浄室２と前記外装部６とを設けたことを特徴とする請求
項２記載のＵＶ洗浄装置に係るものである。
搬入収納部内に前記搬入口４と搬出口５とを残して仕切
区画する仕切部10を設けて、この搬入収納部内に前記洗
浄室２と前記外装部６とを設けたことを特徴とする請求
項２記載のＵＶ洗浄装置に係るものである。
【００１５】また、前記外装室６の前記排気部７からの
排気によって前記外装室６の搬入口４Ａ若しくは搬出口
５Ａから外気が吸入されるように構成して、前記外装室
６外の前記本装置ａの設置周囲へこの搬入口４Ａ若しく
は搬出口５Ａから外装室６内のオゾン雰囲気が漏れ出な
いように構成したことを特徴とする請求項１〜３のいず
れか１項に記載のＵＶ洗浄装置に係るものである。
排気によって前記外装室６の搬入口４Ａ若しくは搬出口
５Ａから外気が吸入されるように構成して、前記外装室
６外の前記本装置ａの設置周囲へこの搬入口４Ａ若しく
は搬出口５Ａから外装室６内のオゾン雰囲気が漏れ出な
いように構成したことを特徴とする請求項１〜３のいず
れか１項に記載のＵＶ洗浄装置に係るものである。
【００１６】
【発明の実施の形態】好適と考える本発明の実施の形態
（発明をどのように実施するか）を、図面に基づいてそ
の作用効果を示して簡単に説明する。
（発明をどのように実施するか）を、図面に基づいてそ
の作用効果を示して簡単に説明する。
【００１７】洗浄室２を覆う又は前記洗浄室２の被洗浄
物１の搬入口４若しくは搬出口５を覆う補助室としての
外装室６を設け、この外装室６に排気部７を設けて前記
洗浄室２内からこの外装室６内へ漏れ出るオゾン雰囲気
を排気部７によって本装置ａの設置周囲より外方部へ排
出する。
物１の搬入口４若しくは搬出口５を覆う補助室としての
外装室６を設け、この外装室６に排気部７を設けて前記
洗浄室２内からこの外装室６内へ漏れ出るオゾン雰囲気
を排気部７によって本装置ａの設置周囲より外方部へ排
出する。
【００１８】従って、本装置ａの周囲に漏れ出ないよう
に洗浄室２の外側の外装室６から排気するため、紫外線
ランプ３によって生じるオゾン雰囲気が洗浄室２を充満
した上で洗浄室２外の外装室６へ漏れ出て、本装置ａ周
囲に漏らすことなくこの外装室６内で排気するため、本
装置ａの設置周囲に漏れ出ないように洗浄室２内から直
接強力に排気する従来例とは異なり、洗浄室２内のオゾ
ン濃度を高く保持することができることとなる。
に洗浄室２の外側の外装室６から排気するため、紫外線
ランプ３によって生じるオゾン雰囲気が洗浄室２を充満
した上で洗浄室２外の外装室６へ漏れ出て、本装置ａ周
囲に漏らすことなくこの外装室６内で排気するため、本
装置ａの設置周囲に漏れ出ないように洗浄室２内から直
接強力に排気する従来例とは異なり、洗浄室２内のオゾ
ン濃度を高く保持することができることとなる。
【００１９】即ち、本装置ａの設置周囲のオゾン雰囲気
漏れを従来例よりも完全に防止できる上、前記洗浄室２
内のオゾン濃度は、従来例に比して同じＵＶ照射量であ
っても高く保持できることとなる。
漏れを従来例よりも完全に防止できる上、前記洗浄室２
内のオゾン濃度は、従来例に比して同じＵＶ照射量であ
っても高く保持できることとなる。
【００２０】尚、後述する実施例においては、洗浄室２
内にオゾン濃度検知装置８（オゾンチェックポート）を
複数設け、このオゾン濃度検知装置８に基づき、洗浄室
２内のオゾン濃度調整や不均一な場合の濃度分布調整の
ために、外装室６だけでなく洗浄室２内にもオゾン雰囲
気を排気する（主に濃度分布調整用の）排気部９を設け
ている。
内にオゾン濃度検知装置８（オゾンチェックポート）を
複数設け、このオゾン濃度検知装置８に基づき、洗浄室
２内のオゾン濃度調整や不均一な場合の濃度分布調整の
ために、外装室６だけでなく洗浄室２内にもオゾン雰囲
気を排気する（主に濃度分布調整用の）排気部９を設け
ている。
【００２１】即ち、本発明は、洗浄室２内に一切排気部
を設けない発想に限定される創作ではない。
を設けない発想に限定される創作ではない。
【００２２】
【実施例】本発明の具体的な実施例について図面に基づ
いて説明する。
いて説明する。
【００２３】本実施例は、紫外線ランプ３を多数並設し
た洗浄室２の両端に、（被洗浄物１としての）薄板状の
大型基板１を多数並設したローラ11上に水平架設状態に
して送り込み搬送する搬入口４と搬出口５とを設け、こ
の洗浄室２はこの搬入口４と搬出口５を残して封止状態
に構成している。
た洗浄室２の両端に、（被洗浄物１としての）薄板状の
大型基板１を多数並設したローラ11上に水平架設状態に
して送り込み搬送する搬入口４と搬出口５とを設け、こ
の洗浄室２はこの搬入口４と搬出口５を残して封止状態
に構成している。
【００２４】この搬入口４と搬出口５とを覆う外装室６
を夫々搬送方向に沿って連設状態に設け、この外装室６
に夫々搬入口４Ａ，搬出口５Ａを設け、被洗浄物１が前
記洗浄室２に搬入される場合は、搬入口４Ａ，外装室
６，搬入口４を順次通過して搬入され、紫外線洗浄後搬
出される場合は、搬出口５，外装室６，搬出口５Ａを順
次通過して搬出されるように構成している。
を夫々搬送方向に沿って連設状態に設け、この外装室６
に夫々搬入口４Ａ，搬出口５Ａを設け、被洗浄物１が前
記洗浄室２に搬入される場合は、搬入口４Ａ，外装室
６，搬入口４を順次通過して搬入され、紫外線洗浄後搬
出される場合は、搬出口５，外装室６，搬出口５Ａを順
次通過して搬出されるように構成している。
【００２５】更に具体的に説明すれば、本実施例では、
搬入口４Ａと搬出口５Ａとを有する（開閉上蓋13によっ
て開放可能な）搬入収納部内に前記搬入口４と搬出口５
とを残して仕切区画する仕切部10を突設して、この搬入
収納部内に前記洗浄室２とその左右に夫々前記外装部６
とを設けた構成とし、いわば従来の洗浄室２の搬入口４
と搬出口５の夫々の外側に更に補助室として外装室６を
連設し、いわゆる全体として二重室構造に構成してい
る。
搬入口４Ａと搬出口５Ａとを有する（開閉上蓋13によっ
て開放可能な）搬入収納部内に前記搬入口４と搬出口５
とを残して仕切区画する仕切部10を突設して、この搬入
収納部内に前記洗浄室２とその左右に夫々前記外装部６
とを設けた構成とし、いわば従来の洗浄室２の搬入口４
と搬出口５の夫々の外側に更に補助室として外装室６を
連設し、いわゆる全体として二重室構造に構成してい
る。
【００２６】そしてこのような二重室構造とした上で従
来例のように搬入搬出口４，５から外部へ多量に漏れる
ことを恐れて洗浄室２からオゾン雰囲気を直接強力に排
気する構成とせずに、洗浄室２はあくまでオゾン雰囲気
が十分に充満できる構成とし、この洗浄室２の搬入口
４，搬出口５から一旦必ず外装室６に漏れ出るオゾン雰
囲気を排気するように外装室６に排気部７を設けてい
る。
来例のように搬入搬出口４，５から外部へ多量に漏れる
ことを恐れて洗浄室２からオゾン雰囲気を直接強力に排
気する構成とせずに、洗浄室２はあくまでオゾン雰囲気
が十分に充満できる構成とし、この洗浄室２の搬入口
４，搬出口５から一旦必ず外装室６に漏れ出るオゾン雰
囲気を排気するように外装室６に排気部７を設けてい
る。
【００２７】従って、本装置ａの周囲に漏れ出ないよう
に洗浄室２の外側の外装室６から排気するため、紫外線
ランプ３によって生じるオゾン雰囲気が洗浄室２を充満
した上で洗浄室２外の外装室６へ漏れ出て、本装置ａ周
囲に漏らすことなくこの外装室６内で排気するため、本
装置ａの設置周囲に漏れ出ないように洗浄室２内から直
接強力に排気する従来例とは異なり、洗浄室２内のオゾ
ン濃度を高く保持することができることとなる。
に洗浄室２の外側の外装室６から排気するため、紫外線
ランプ３によって生じるオゾン雰囲気が洗浄室２を充満
した上で洗浄室２外の外装室６へ漏れ出て、本装置ａ周
囲に漏らすことなくこの外装室６内で排気するため、本
装置ａの設置周囲に漏れ出ないように洗浄室２内から直
接強力に排気する従来例とは異なり、洗浄室２内のオゾ
ン濃度を高く保持することができることとなる。
【００２８】即ち、本装置ａの設置周囲のオゾン雰囲気
漏れを従来例よりも完全に防止できる上、前記洗浄室２
内のオゾン濃度は、従来例に比して同じＵＶ照射量であ
っても高く保持できることとなる。
漏れを従来例よりも完全に防止できる上、前記洗浄室２
内のオゾン濃度は、従来例に比して同じＵＶ照射量であ
っても高く保持できることとなる。
【００２９】本実施例においては、洗浄室２内にオゾン
濃度検知装置８（オゾンチェックポート）を所定間隔を
置いて多数並設し、このオゾン濃度検知装置８に基づ
き、洗浄室２内のオゾン濃度の微調整や不均一な場合の
濃度分布調整のために、外装室６だけでなく洗浄室２内
にもオゾン雰囲気を排気する濃度分布調整用の排気部９
を複数か所に配設し、この各排気部９を前記オゾン濃度
検知装置８に基づきコンピュータ制御作動させてオゾン
濃度が洗浄室２内で均一となるように構成している。
濃度検知装置８（オゾンチェックポート）を所定間隔を
置いて多数並設し、このオゾン濃度検知装置８に基づ
き、洗浄室２内のオゾン濃度の微調整や不均一な場合の
濃度分布調整のために、外装室６だけでなく洗浄室２内
にもオゾン雰囲気を排気する濃度分布調整用の排気部９
を複数か所に配設し、この各排気部９を前記オゾン濃度
検知装置８に基づきコンピュータ制御作動させてオゾン
濃度が洗浄室２内で均一となるように構成している。
【００３０】即ち、本発明は、この実施例のように洗浄
室２内に一切排気部を設けない発想に限定される創作で
はない。
室２内に一切排気部を設けない発想に限定される創作で
はない。
【００３１】また、前記外装室６の前記排気部７からの
排気によって前記外装室６の搬入口４Ａ並びに搬出口５
Ａから外気が吸入されるため、いわゆるエアカーテンが
生じて、前記外装室６外の前記本装置ａの設置周囲へこ
の搬入口４Ａ並びに搬出口５Ａから外装室６内のオゾン
雰囲気が確実にシャットアウトされる。
排気によって前記外装室６の搬入口４Ａ並びに搬出口５
Ａから外気が吸入されるため、いわゆるエアカーテンが
生じて、前記外装室６外の前記本装置ａの設置周囲へこ
の搬入口４Ａ並びに搬出口５Ａから外装室６内のオゾン
雰囲気が確実にシャットアウトされる。
【００３２】以上のように本実施例では、二重室構造ゆ
えにＵＶ洗浄装置ａの周囲へのオゾン雰囲気漏れを防止
でき周囲環境を悪化させることない上、図３に示すよう
な本実施例での仕切部10を有しなく外装室６を有しない
従来例では、洗浄室２内のオゾン濃度が２０〜４０ＰＰ
Ｍでしかも不均一であるのに対し、図１，図２に示す本
実施例では同じ紫外線の累積照度に対して１００〜１５
０ＰＰＭと洗浄室２内を高いオゾン濃度に保持でき、接
触角を約１.５倍小さくでき、しかも均一な濃度となり
洗浄効果が飛躍的に向上したことが確認できた。しか
も、前述のように本実施例ではオゾン濃度検知装置８に
よって検知しつつ複数配設した洗浄室２内の排気部９に
よる排気調整によって一層洗浄室２内のオゾン濃度分布
を均一化できるため、極めて高い洗浄能力が発揮される
こととなる。
えにＵＶ洗浄装置ａの周囲へのオゾン雰囲気漏れを防止
でき周囲環境を悪化させることない上、図３に示すよう
な本実施例での仕切部10を有しなく外装室６を有しない
従来例では、洗浄室２内のオゾン濃度が２０〜４０ＰＰ
Ｍでしかも不均一であるのに対し、図１，図２に示す本
実施例では同じ紫外線の累積照度に対して１００〜１５
０ＰＰＭと洗浄室２内を高いオゾン濃度に保持でき、接
触角を約１.５倍小さくでき、しかも均一な濃度となり
洗浄効果が飛躍的に向上したことが確認できた。しか
も、前述のように本実施例ではオゾン濃度検知装置８に
よって検知しつつ複数配設した洗浄室２内の排気部９に
よる排気調整によって一層洗浄室２内のオゾン濃度分布
を均一化できるため、極めて高い洗浄能力が発揮される
こととなる。
【００３３】また、そのため高価な大出力ランプや紫外
線照射時間を長くする必要がないため、製作コストやラ
ンニングコストの削減を図ることも可能となる。
線照射時間を長くする必要がないため、製作コストやラ
ンニングコストの削減を図ることも可能となる。
【００３４】また、本実施例の紫外線ランプ３は、低圧
水銀ランプを使用し、処理温度をＩＲヒータによって１
００〜２５０℃とし、洗浄室２内のオゾン濃度を５００
〜１０００ＰＰＭとし、例えば数百ｍｍ角の大型基板を
ＵＶ照射，高濃度オゾン，温度加熱の相乗効果によって
良好な乾式洗浄ができるように構成している。
水銀ランプを使用し、処理温度をＩＲヒータによって１
００〜２５０℃とし、洗浄室２内のオゾン濃度を５００
〜１０００ＰＰＭとし、例えば数百ｍｍ角の大型基板を
ＵＶ照射，高濃度オゾン，温度加熱の相乗効果によって
良好な乾式洗浄ができるように構成している。
【００３５】尚、図中符号12は温度検知装置（温度チェ
ックポート）である。
ックポート）である。
【００３６】
【発明の効果】本発明は上述のように構成したから、本
装置の周囲に漏れ出ないように洗浄室の外側の外装室か
ら排気するため、紫外線ランプによって生じるオゾン雰
囲気が洗浄室を充満した上で洗浄室外の外装室へ漏れ出
てこの外装室で排気するため、本装置の設置周囲に漏れ
出ないように洗浄室内から直接強力に排気する従来例と
は異なり、周囲にはオゾン雰囲気を漏らすことなく洗浄
室内のオゾン濃度を高く保持することができる画期的な
ＵＶ洗浄装置となる。
装置の周囲に漏れ出ないように洗浄室の外側の外装室か
ら排気するため、紫外線ランプによって生じるオゾン雰
囲気が洗浄室を充満した上で洗浄室外の外装室へ漏れ出
てこの外装室で排気するため、本装置の設置周囲に漏れ
出ないように洗浄室内から直接強力に排気する従来例と
は異なり、周囲にはオゾン雰囲気を漏らすことなく洗浄
室内のオゾン濃度を高く保持することができる画期的な
ＵＶ洗浄装置となる。
【００３７】また、請求項２記載の発明においては、簡
易な構成で前記作用効果を確実に発揮する実用性に秀れ
たＵＶ洗浄装置となる。
易な構成で前記作用効果を確実に発揮する実用性に秀れ
たＵＶ洗浄装置となる。
【００３８】また、請求項３記載の発明においては、一
層簡易な構成で前記作用効果を確実に発揮するＵＶ洗浄
装置を容易に実現できる極めて実用性に秀れたＵＶ洗浄
装置となる。
層簡易な構成で前記作用効果を確実に発揮するＵＶ洗浄
装置を容易に実現できる極めて実用性に秀れたＵＶ洗浄
装置となる。
【００３９】また、請求項４記載の発明においては、本
装置の設置周囲にオゾン雰囲気が漏れ出ることが確実に
防止でき一層秀れたＵＶ洗浄装置となる。
装置の設置周囲にオゾン雰囲気が漏れ出ることが確実に
防止でき一層秀れたＵＶ洗浄装置となる。
【図１】本実施例の概略構成説明断面図である。
【図２】本実施例の洗浄室並びに外装室を蓋を持ち上げ
て開放した状態での説明斜視図である。
て開放した状態での説明斜視図である。
【図３】従来例の概略構成説明断面図である。
１ 被洗浄物（大型基板） ２ 洗浄室 ３ 紫外線ランプ ４ 搬入口 ４Ａ 搬入口 ５ 搬出口 ５Ａ 搬出口 ６ 外装室 ７ 排気部 10 仕切部 ａ ＵＶ洗浄装置（本装置）
Claims (4)
- 【請求項１】 被洗浄物を搬入する洗浄室内に紫外線ラ
ンプを設け、この紫外線ランプの紫外線（ＵＶ）照射に
よって有機物の分子鎖を分断し、ついでこの紫外線ラン
プの紫外線（ＵＶ）照射によって洗浄室内にオゾンを発
生させ、このオゾンの分解・生成反応過程の酸化力の強
い発生期の酸素（Ｏ）と有機物との反応により被洗浄物
の表面有機物を除去するように構成したＵＶ洗浄装置に
おいて、前記洗浄室を覆う又は前記洗浄室の被洗浄物の
搬入口若しくは搬出口を覆う補助室としての外装室を設
け、この外装室に排気部を設けて前記洗浄室内からこの
外装室内へ漏れ出るオゾン雰囲気を本装置の設置周囲よ
り外方部へ排出するように構成して、本装置の設置周囲
のオゾン雰囲気漏れを防止した上で、前記洗浄室内のオ
ゾン濃度を高く保持し得るように構成したことを特徴と
するＵＶ洗浄装置。 - 【請求項２】 前記洗浄室内に前記被洗浄物を搬入搬出
する搬入口と搬出口とを設け、この搬入口と搬出口とを
覆う前記外装室を設け、この外装室に搬入口若しくは搬
出口を設けて、前記被洗浄物を前記洗浄室内に前記搬入
口を順次通過して搬入し、前記搬出口を順次通過させて
搬出し得るように構成し、前記洗浄室の搬入口若しくは
搬出口から前記外装室内に前記洗浄室内から漏れ出るオ
ゾン雰囲気を排気する前記排気部を外装室に設けたこと
を特徴とする請求項１記載のＵＶ洗浄装置。 - 【請求項３】 搬入口と搬出口とを有する搬入収納部内
に前記搬入口と搬出口とを残して仕切区画する仕切部を
設けて、この搬入収納部内に前記洗浄室と前記外装部と
を設けたことを特徴とする請求項２記載のＵＶ洗浄装
置。 - 【請求項４】 前記外装室の前記排気部からの排気によ
って前記外装室の搬入口若しくは搬出口から外気が吸入
されるように構成して、前記外装室外の前記本装置の設
置周囲へこの搬入口若しくは搬出口から外装室内のオゾ
ン雰囲気が漏れ出ないように構成したことを特徴とする
請求項１〜３のいずれか１項に記載のＵＶ洗浄装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15778698A JP4014729B2 (ja) | 1998-06-05 | 1998-06-05 | Ｕｖ洗浄装置 |
| TW088206734U TW407531U (en) | 1998-06-05 | 1999-04-29 | Ultraviolet cleaning device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15778698A JP4014729B2 (ja) | 1998-06-05 | 1998-06-05 | Ｕｖ洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11347506A true JPH11347506A (ja) | 1999-12-21 |
| JP4014729B2 JP4014729B2 (ja) | 2007-11-28 |
Family
ID=15657272
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15778698A Expired - Fee Related JP4014729B2 (ja) | 1998-06-05 | 1998-06-05 | Ｕｖ洗浄装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4014729B2 (ja) |
| TW (1) | TW407531U (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002055224A1 (fr) * | 2001-01-15 | 2002-07-18 | Japan Storage Battery Co., Ltd. | Dispositif de traitement optique |
| JP2008069390A (ja) * | 2006-09-13 | 2008-03-27 | Seiko Epson Corp | 表面改質方法及び表面改質装置 |
| KR100831293B1 (ko) * | 2000-02-24 | 2008-05-22 | 엘지디스플레이 주식회사 | 드라이 세정기 인라인 반송 시스템 |
| JP2010075888A (ja) * | 2008-09-27 | 2010-04-08 | Gs Yuasa Corporation | 紫外線照射処理装置 |
| CN103128080A (zh) * | 2011-11-25 | 2013-06-05 | 优志旺电机株式会社 | 光照射装置 |
| KR20130069549A (ko) * | 2010-04-12 | 2013-06-26 | 가부시끼가이샤 니혼 세이꼬쇼 | 레이저 처리 장치 |
| EP2705858A1 (en) | 2012-08-09 | 2014-03-12 | Pol-Pack Service S.A. | Disinfection tunnel, in particular for surface disinfection of objects |
| CN113041370A (zh) * | 2021-03-02 | 2021-06-29 | 张德明 | 隧道输送式紫外线新冠病毒杀菌消毒设备 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103464424B (zh) * | 2013-08-28 | 2015-12-02 | 西安耀北光电科技有限公司 | 紫外辐射臭氧光清洗机 |
-
1998
- 1998-06-05 JP JP15778698A patent/JP4014729B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1999
- 1999-04-29 TW TW088206734U patent/TW407531U/zh not_active IP Right Cessation
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100831293B1 (ko) * | 2000-02-24 | 2008-05-22 | 엘지디스플레이 주식회사 | 드라이 세정기 인라인 반송 시스템 |
| WO2002055224A1 (fr) * | 2001-01-15 | 2002-07-18 | Japan Storage Battery Co., Ltd. | Dispositif de traitement optique |
| CN1321756C (zh) * | 2001-01-15 | 2007-06-20 | 株式会社杰士汤浅 | 光处理装置 |
| JP2008069390A (ja) * | 2006-09-13 | 2008-03-27 | Seiko Epson Corp | 表面改質方法及び表面改質装置 |
| JP2010075888A (ja) * | 2008-09-27 | 2010-04-08 | Gs Yuasa Corporation | 紫外線照射処理装置 |
| KR20130069549A (ko) * | 2010-04-12 | 2013-06-26 | 가부시끼가이샤 니혼 세이꼬쇼 | 레이저 처리 장치 |
| CN103128080A (zh) * | 2011-11-25 | 2013-06-05 | 优志旺电机株式会社 | 光照射装置 |
| EP2705858A1 (en) | 2012-08-09 | 2014-03-12 | Pol-Pack Service S.A. | Disinfection tunnel, in particular for surface disinfection of objects |
| CN113041370A (zh) * | 2021-03-02 | 2021-06-29 | 张德明 | 隧道输送式紫外线新冠病毒杀菌消毒设备 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW407531U (en) | 2000-10-01 |
| JP4014729B2 (ja) | 2007-11-28 |
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