KR101490190B1

KR101490190B1 - 기판 처리 장치

Info

Publication number: KR101490190B1
Application number: KR20130149874A
Authority: KR
Inventors: 이재준; 김태환
Original assignee: 주식회사 에스에프에이
Priority date: 2013-12-04
Filing date: 2013-12-04
Publication date: 2015-02-05

Abstract

본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 기판을 처리하는 진공 챔버 및 증발원의 내부 상황을 용이하게 확인할 수 있는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 기판 처리 장치는, 기판을 처리하기 위한 반응 공간을 형성하는 진공 챔버; 상기 진공 챔버 내부에 배치되어 증착 물질을 증발시키는 증발원; 상기 진공 챔버의 일면을 관통하여 형성되는 뷰 포트; 및 상기 진공 챔버 및 상기 증발원 내부의 이미지를 상기 뷰 포트로 반사하는 반사 유닛;을 포함한다.

Description

기판 처리 장치{Substrate processing apparatus}

본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 기판을 처리하는 진공 챔버 및 증발원의 내부 상황을 용이하게 확인할 수 있는 기판 처리 장치에 관한 것이다.

기판에 박막을 형성하는 일반적인 방법으로는 진공 증착법, 이온 플래이팅법(ion-plating), 스퍼터링(sputtering)법, CVD법 등이 있다. 이 중, 유기 전계 발광 소자의 유기 박막 및 음극의 증착에는 진공 증착법이 주로 사용되고 있다.

일반적으로 유기 전계 발광 소자는, 기판 상부에 소정 패턴의 양극이 형성되어 있고, 이 양극층 상부에는 발광층이 적어도 형성되며, 발광층의 상부에는 소정 패턴의 음극이 형성되어 있다. 여기에서 발광층 외에 홀 수송층 및 전자 수송층 등을 더 구비할 수 있으며 이때 발광층, 홀 수송층 및 전자 수송층은 유기 화합물로 이루어진 유기 박막이다.

이러한 유기 전계 발광 소자를 제작함에 있어서, 기판 상에 유기 재료로서 내부 절연막, 양극, 음극 및 유기 발광층 등 여러 박막들을 형성하여야 한다. 이러한 박막층들은 통상 진공 챔버 내에 기판을 장착하고, 진공 챔버 내에 배치된 증발원에 의하여 기판의 표면에 장착시키려는 증착 물질을 기화시켜, 이 기화된 증착 물질이 기판의 표면에서 응축해 장착되는 방식의 진공 증착법에 의해 형성된다.

이때, 진공 챔버의 측벽에는 뷰 포트가 구비되는데, 뷰 포트는 진공 챔버의 내부에서 기판에 대하여 소정의 처리가 수행되는 중에 기판의 처리 상태 또는 증발원 내부 상태 등의 진공 챔버 내부의 상황을 진공 챔버의 외부에서 관찰할 수 있도록 하는 역할을 수행한다.

그러나, 대한민국 등록특허 제10-0783072호에 기재된 바와 같이 종래의 기판 처리 장치의 뷰 포트는 단순히 진공 챔버의 측벽을 관통하고 감시창을 부착시킨 구조로 이루어지기 때문에 진공 챔버의 내부에 대한 시야각이 제한된다. 즉, 뷰 포트를 통하여 진공 챔버의 내부를 육안으로 본 경우, 시야각이 진공 챔버의 전부에 미치지 못하고 뷰 포트의 인접된 부위에서 진공 챔버 또는 증발원의 내부 상태를 관찰할 수 없는 사각 지대가 발생하게 된다. 따라서, 상기 뷰 포트만으로는 진공 챔버 내부 특히 증발원의 내부를 관찰할 수 없다는 문제점이 있다.

이에, 진공 챔버 및 증발원의 내부 상태를 관찰하기 위하여 뷰 포트를 진공 챔버의 측벽 상부에 설치하는 경우, 상기 뷰 포트의 위치는 증착되는 기판의 위치와 인접하게 되어 기판에 증착 물질을 증착할 시 상기 뷰 포트의 감시창에 많은 양의 증착 물질이 증착되어 시야를 확보하기 어려워진다. 또한, 감시창에 증착된 증착 물질을 제거하거나 상기 감시창을 교체하기 위하여는 진공 챔버를 분리하여 진공 상태를 해제하여야 하므로 전체적인 공정 수율을 저하시키는 문제점이 있었다.

KR

10-0783072

B1

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 기판을 처리하는 진공 챔버 및 증발원의 내부 상황을 용이하게 확인할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하는 데에 있다.

또한, 본 발명의 목적은 진공 챔버의 내부 상황을 확인하기 위하여 상기 진공 챔버의 일면에 형성되는 뷰 포트에 증착 물질이 증착되는 것을 최소화할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하는 데에 있다.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 기판 처리 장치는, 기판을 처리하기 위한 반응 공간을 형성하는 진공 챔버; 상기 진공 챔버 내부에 배치되어 증착 물질을 증발시키는 증발원; 상기 진공 챔버의 일면을 관통하여 형성되는 뷰 포트; 및 상기 진공 챔버 및 상기 증발원 내부의 이미지를 상기 뷰 포트로 반사하는 반사 유닛;을 포함한다.

상기 반사 유닛은, 적어도 일면에 반사면이 형성되는 반사판; 상기 반사판을 직선 또는 회전 이동하기 위한 구동축; 및 상기 구동축에 동력을 전달하는 구동원;을 포함할 수 있으며,

상기 반사판은 회전축을 중심으로 연장되는 복수 개의 면으로 형성될 수 있으며,

상기 반사면은 볼록형, 오목형 또는 평면형 중에서 선택된 어느 하나의 형상을 가질 수 있으며,

상기 구동축은 상기 진공 챔버의 측벽에 설치될 수 있으며,

상기 뷰 포트는 상기 증발원의 상단으로부터 수평 방향으로 연장되는 면 하부의 상기 진공 챔버의 일면에 배치될 수 있으며,

상기 반사 유닛은 상기 진공 챔버 내에서 상기 증발원과 상기 기판의 가장자리를 연결하는 영역의 외부에 배치될 수 있으며,

상기 뷰 포트에 설치되어 상기 반사 유닛으로부터 반사된 이미지로부터 광학적 특성을 측정하는 광학 측정기를 더 포함할 수 있으며,

상기 뷰 포트가 형성된 진공 챔버의 내부에 설치되어 상기 뷰 포트를 개폐하는 셔터를 더 포함할 수 있다.

본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치에 의하면, 진공 챔버 및 증발원 내부의 이미지를 뷰 포트로 반사하는 반사 유닛을 구비하여 진공 챔버 내부 특히 증발원의 내부를 실시간으로 용이하게 확인할 수 있다.

또한, 반사 유닛은 진공 챔버 내에서 직선 또는 회전 이동이 가능하도록 설치되어 상기 반사 유닛을 직선 또는 회전 이동함으로써 뷰 포트에 획득되는 이미지를 통하여 진공 챔버 내부를 전체적으로 확인할 수 있다.

뿐만 아니라, 이미지를 반사하는 반사 유닛을 구비하여 증착 물질의 농도가 현저히 낮은 진공 챔버의 일면 특히, 진공 챔버의 저면에 뷰 포트를 형성할 수 있게 되고, 뷰 포트에 증착 물질이 증착되는 것을 최대한 방지하여 뷰 포트의 교체 주기를 증가시키고 전체적인 공정 수율을 향상시킬 수 있다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 구성을 개략적으로 나타내는 도면.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 반사 유닛의 개략적인 구성을 나타내는 측면도.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 반사 유닛의 개략적인 구성을 나타내는 측면도.

본 발명에 따른 기판 처리 장치는 기판을 처리하는 진공 챔버 및 증발원의 내부 상황을 용이하게 확인할 수 있는 기술적 특징을 제시한다.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예들을 상세히 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시 예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 발명의 실시 예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. 도면상에서 동일 부호는 동일한 요소를 지칭한다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 구성을 개략적으로 나타내는 도면이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 반사 유닛의 개략적인 구성을 나타내는 측면도이다. 또한, 도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 반사 유닛의 개략적인 구성을 나타내는 측면도이다. 도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치는 기판(10)을 처리하기 위한 반응 공간을 형성하는 진공 챔버(100), 상기 진공 챔버(100) 내부에 배치되어 증착 물질을 증발시키는 증발원(200), 상기 진공 챔버(100)의 일면을 관통하여 형성되는 뷰 포트(300) 및 상기 진공 챔버(100)와 상기 증발원(200) 내부의 이미지를 상기 뷰 포트(300)로 반사하는 반사 유닛(400)을 포함한다.

진공 챔버(100)는 기판(10)을 처리하기 위한 반응 공간을 형성한다. 진공 챔버(100)는 원통형 또는 사각 박스 형상으로 형성되며, 내부에는 기판(10)을 고정하여 지지할 수 있도록 기판 고정 장치(미도시)가 구비된다. 기판 고정 장치에 의하여 기판(10)이 지지되는 예는 클램프를 이용한 지지, 진공 흡착을 이용한 지지, 접착제를 이용한 지지 등 다양하게 구성될 수 있다.

또한, 진공 챔버(100)는 기판(10)을 처리할 수 있도록 소정의 반응 공간이 마련되며, 진공 상태에서 상기 기판(10)에 증착 물질을 증착시키기 위해 상기 진공 챔버(100)의 일측에는 진공 펌프와 연결되는 배기부(미도시)가 마련된다.

증발원(200)은 상기 진공 챔버(100)의 내부에 배치되어 증착 물질을 증발시킨다. 증발원(200)은 기판(10)에 대향하도록 진공 챔버(100)의 하부에 구비되며 기판(10)에 증착 물질을 증발시켜 공급하는 역할을 한다. 증발원(200)은 원통형 구조, 직사각형 구조 등과 같이 다양한 형태로 마련될 수 있으며, 본 발명의 실시예에서는 하나의 증발원(200)을 포함하는 기판 처리 장치에 대하여 설명하고 있으나, 상기 기판 처리 장치는 다수 개의 증발원(200)을 포함할 수도 있다. 상기 증발원(200)은 내부가 증착 물질로 채워지고, 그 외부에는 상기 증착 물질을 가열시켜 기판(10)으로 기화 또는 승화시키기 위한 가열 장치(미도시)가 구비된다.

뷰 포트(300)는 기판(10) 처리 공정시 진공 챔버(100)의 외부에서 진공 챔버(100) 내부를 육안으로 관찰하기 위하여 진공 챔버(100)의 일면을 관통하여 형성된다. 도면에 상세하게 도시되지는 않았으나, 뷰 포트(300)는 진공 챔버(100)의 일면의 소정 부분을 관통하여 형성되는 관통홀과 상기 관통홀에 설치되어 진공 챔버(100)의 내부를 관찰할 수 있도록 빛이 투과될 수 있는 재질로 된 감시창을 포함한다. 감시창은 진공 챔버(100)의 외부에서 진공 챔버(100)의 내부를 관찰할 수 있도록 하는 역할을 수행하는 한편 진공 챔버(100)의 기밀을 유지하여야 한다.

또한, 뷰 포트(300)가 형성된 진공 챔버(100)의 내부에는 상기 뷰 포트(300)를 개폐하는 셔터(미도시)가 설치될 수 있다. 상기 셔터는 뷰 포트(300)를 통해 진공 챔버(100)의 내부를 확인하는 경우에는 뷰 포트(300)를 개방시키고, 확인을 하지 않는 경우에는 뷰 포트(300)를 폐쇄시켜 증착 물질이 상기 뷰 포트(300)의 감시창에 증착되는 것을 방지할 수 있다.

바람직하게는, 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치는 뷰 포트(300)에 설치되어 상기 반사 유닛(400)으로부터 반사된 이미지로부터 광학적 특성을 측정하는 광학 측정기(미도시)를 더 포함할 수 있다. 광학 측정기는 광학 측정 방식에 의하여 증발원(200) 내부의 증착 물질의 잔여 상황, 증발원(200) 내부의 온도 분포 등을 모니터링하는 기기를 말한다. 상기 광학 측정기는 촬상용 카메라일 수 있으며, 뷰 포트(300)에 상기 광학 측정기를 설치하여 반사 유닛(400)으로부터 반사된 이미지에 의하여 증발원(200) 내부 상황을 정확하게 확인할 수 있다.

반사 유닛(400)은 진공 챔버(100) 및 증발원(200) 내부의 이미지를 뷰 포트(300)로 반사한다. 바람직하게는, 상기 반사 유닛(400)은 적어도 일면에 반사면(425)이 형성되는 반사판(420), 상기 반사판(420)을 직선 또는 회전 이동하기 위한 구동축(440) 및 상기 구동축(440)에 동력을 전달하는 구동원(460)을 포함할 수 있다.

반사판(420)은 적어도 일면에 반사면(425)이 형성되고, 직선 또는 회전 이동이 가능하도록 구동축(440)에 연결되어 진공 챔버(100) 및 증발원(200) 내부의 이미지를 뷰 포트(300)로 반사한다. 반사판(420)은 거울과 같은 별도의 부재가 상기 반사판(420)의 적어도 일면에 부착되어 반사면(425)을 형성하는 것으로 이루어질 수 있으며, 반사성 물질로 이루어진 반사층이 상기 반사판(420)의 적어도 일면에 코팅되어 반사면(425)을 형성할 수도 있다. 또한 바람직하게는, 반사 효율 및 내부식성이 높은 금속, 예를 들면 알루미늄 및 스테인레스 스틸을 표면 처리하여 사용할 수도 있다.

반사판(420)은 회전축(430)을 중심으로 연장되는 복수 개의 면으로 형성할 수 있다. 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따라 반사판(420)이 회전축(430)을 중심으로 연장되는 두 개의 면으로 형성되는 모습을 도시한 도면이고, 도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따라 반사판(420)이 회전축(430)을 중심으로 연장되는 세 개의 면으로 형성되는 모습을 도시한 도면이다.

또한, 도시되지는 않았으나 상기 반사판(420)의 복수 개의 면 중 적어도 하나 이상의 면에는 볼록형, 오목형 또는 평면형 중에서 선택된 어느 하나의 형상을 갖는 반사면(425)이 형성될 수 있다.

도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치는 반사판(420)을 회전축(430)을 중심으로 연장되는 두 개의 면으로 형성하고, 증발원(200)에 대향하는 일면에 반사면(425)을 형성한다. 반사판(425)은 진공 챔버(100) 내부를 용이하게 확인하기 위하여 다양한 각도로 구성될 수 있다.

반사판(420)을 회전축(430)을 중심으로 연장되는 두 개의 면으로 형성하는 경우, 반사되는 광의 경로를 보다 효율적으로 변경할 수 있게 된다. 뿐만 아니라, 반사판(420)의 적어도 하나 이상의 면을 볼록 또는 오목 형상으로 형성하여 상기 반사판(420)에 의하여 뷰 포트(300)로 반사되는 이미지를 확대하여 관찰하거나 축소하여 진공 챔버(100) 내부를 폭넓게 관찰하는 것으로 구성할 수도 있다.

또한, 도 3을 참조하면 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 처리 장치는 반사판(420)을 회전축(430)을 중심으로 연장되는 세 개 이상의 면으로 형성하고, 연장된 각각의 면의 양면에 반사면(425)를 형성한다. 이 경우, 반사판(420)의 연장된 각각의 면 중에서 증발원(200)에 대향하여 노출되는 한 쌍의 반사면(425)에 증착 물질이 소정 이상의 두께로 증착되어 반사 효율이 저하되면 반사판(420)을 일정 각도로 회전하여 다른 한 쌍의 반사면(425)으로 교체하여 사용할 수 있기 때문에 진공 챔버(100)를 개방하지 않고서도 오랜 시간 동안 증착 공정을 수행할 수 있게 된다.

또한, 상기 반사판(420)의 복수 개의 면 중 적어도 하나 이상의 면에는 볼록형, 오목형 또는 평면형 중에서 선택된 어느 하나의 형상을 갖는 반사면(425)이 형성될 수 있으며, 도 3에서는 회전축(430)을 중심으로 연장되는 세 개의 면으로 형성되는 반사판(420)을 도시하였으나 반사판(420)을 구성하는 면의 개수 및 형상은 다양하게 변경할 수 있음은 전술한 바와 같다.

구동축(440)은 반사판(420)에 결합되어 상기 반사판(420)을 수평 방향으로 직선 이동시키거나, 진공 챔버(100) 내부의 다양한 영역을 관찰하기 위하여 회전축(430)을 중심으로 회전 이동시킨다. 상기 구동축(440)은 진공 챔버(100)의 측벽을 관통하여 설치될 수 있으며, 이 경우 실(seal) 등의 밀봉 부재(445)로 진공 챔버(100)의 진공을 유지한다.

구동원(460)은 구동축(440)에 연결되어 상기 구동축(440)에 동력을 전달한다. 구동원(460)은 작업자가 수동으로 구동축(440)에 동력을 전달하는 것으로 구성할 수 있으며, 모터 또는 실린더를 포함하는 것으로 구성할 수도 있다. 또한, 구동축(440)이 진공 챔버(100)의 측벽을 관통하여 설치되는 경우 구동원(460)은 진공 챔버(100)의 외부에 위치하여 상기 구동원(460)에 증착 물질이 증착되는 것을 방지할 수 있다.

이하에서, 도 1을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 뷰 포트(300) 및 반사 유닛(400)이 배치되는 위치를 상세히 설명한다.

도 1에 도시된 바와 같이, 증착 과정에서 진공 챔버(100) 내부는 증발되는 증착 물질의 농도 분포에 따라 크게 세 개의 영역으로 분류할 수 있다. A 영역은 증발원(200)과 기판(10)의 가장자리를 연결하는 영역의 내부로서 증발되는 증착 물질의 농도가 가장 높다. B 영역은 증발원(200)과 기판(10)의 가장자리를 연결하는 영역의 외부에서 증발원(200)의 상단으로부터 수평 방향으로 연장되는 면의 상부로서 A 영역보다 증착 물질의 농도가 낮다. 또한, C 영역은 증발원(200)의 상단으로부터 수평 방향으로 연장되는 면의 하부로서 증착 물질의 농도가 가장 낮다.

종래의 경우, 진공 챔버(100)의 내부를 확인하기 위하여 B 영역의 진공 챔버(100)의 측벽에 뷰 포트(300)를 배치하였다. 그러나, 상기의 경우 진공 챔버(100) 내부의 농도 분포상 뷰 포트(300)에 증발 물질이 증착되는 것을 최소화할 수 없어 뷰 포트(300)의 투명도가 쉽게 저하된다. 또한, 뷰 포트(300)의 시야각은 한정되어 있어 진공 챔버(100)의 내부를 전부 확인할 수 없으며, 증발원(200)의 내부 또한 용이하게 확인할 수 없는 문제점이 있었다.

이에, 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치에서 뷰 포트(300)는 증착 물질의 농도가 가장 낮은 영역 즉, 증발원(200)의 상단으로부터 수평 방향으로 연장되는 면 하부(C 영역)의 진공 챔버(100)의 일면에 배치할 수 있다. 또한, 반사 유닛(400)은 증착 물질이 기판(10)에 증착되는 경로에 간섭을 발생시키지 않으면서 진공 챔버(100)의 하부 및 증발원(200) 내부의 이미지를 상기 뷰 포트(300)로 반사하기 위하여, 비교적 증착 물질의 농도가 낮은 증발원(200)과 기판(10)의 가장자리를 연결하는 영역의 외부(B 영역)에 배치될 수 있다.

따라서, 뷰 포트(300)는 C 영역의 진공 챔버(100)의 일면에 배치되어 증착 과정에서 뷰 포트(300)에 증발 물질이 증착되는 것을 최소화할 수 있다. 또한, 뷰 포트(300)를 C 영역의 진공 챔버(100)의 일면에 배치하는 경우, 반사 유닛(400)에 의하여 반사된 상기 진공 챔버(100)의 하부 및 증발원(200) 내부의 이미지를 얻을 수 있게 되고, 상기 반사 유닛(400)을 직선 또는 회전 운동하여 진공 챔버(100) 내부를 전체적으로 확인할 수 있게 된다. 바람직하게는, 상기 뷰 포트(300)는 증착 물질의 농도가 가장 낮은 진공 챔버(100)의 저면에 배치될 수 있다.

증착 물질의 종류에 따라 상기 뷰 포트(300) 및 반사 유닛(400)의 위치를 보다 상세히 설명하면, 먼저 증착 물질이 투명 물질인 경우 뷰 포트(300)는 B 영역 또는 C 영역에 배치될 수 있으며, 반사 유닛(400)은 진공 챔버(100) 및 증발원(200) 내부의 이미지를 상기 뷰 포트(300)로 반사하도록 B 영역에 배치될 수 있다. 즉, 증착 물질이 투명 물질인 경우, 뷰 포트(300)는 상기 증착 물질이 감시창에 어느 정도 증착되는 경우에도 투명도가 쉽게 저하되지 않으므로 B 영역 또는 C 영역의 진공 챔버(100)의 일면에 배치될 수 있다. 반사 유닛(400)의 경우 투명 물질이 증착되는 경우 반사 효율이 저하될 수 있으므로 B 영역에서 증발원(200)으로부터의 거리 및 증착 방향을 고려하여 증착 물질의 농도가 낮은 위치에 배치함이 바람직하다.

또한, 증착 물질이 금속이거나 이와 유사한 반사 효율, 불투명도를 갖는 물질인 경우 뷰 포트(300)는 증착 물질의 농도가 가장 낮은 C 영역에 배치될 수 있으며, 반사 유닛(400)은 진공 챔버(100) 및 증발원(200) 내부의 이미지를 상기 뷰 포트(300)로 반사하도록 B 영역에 배치될 수 있다. 즉, 증착 물질이 반사 효율이 높은 불투명 물질인 경우, 뷰 포트(300)는 감시창에 상기 증착 물질이 증착되는 것을 방지하기 위하여 C 영역의 진공 챔버(100)의 일면, 바람직하게는 진공 챔버(100)의 저면에 배치될 수 있다. 반사 유닛(400)의 경우에는 상기 증착 물질이 증착되어도 반사 효율을 유지할 수 있으므로 B 영역 내의 어느 곳에라도 배치 가능하다.

상기에서, 본 발명의 바람직한 실시예가 특정 용어들을 사용하여 설명 및 도시되었지만 그러한 용어는 오로지 본 발명을 명확하게 설명하기 위한 것일 뿐이며, 본 발명의 실시예 및 기술된 용어는 다음의 청구범위의 기술적 사상 및 범위로부터 이탈되지 않고서 여러가지 변경 및 변화가 가해질 수 있는 것은 자명한 일이다. 이와 같이 변형된 실시예들은 본 발명의 사상 및 범위로부터 개별적으로 이해되어져서는 안되며, 본 발명의 청구범위 안에 속한다고 해야 할 것이다.

10: 기판 100: 진공 챔버
200: 증발원 300: 뷰 포트
400: 반사 유닛 420: 반사판
425: 반사면 430: 회전축
440: 구동축 445: 밀봉 부재
460: 구동원

Claims

기판을 처리하기 위한 반응 공간을 형성하는 진공 챔버;
상기 진공 챔버 내부에 배치되어 증착 물질을 증발시키는 증발원;
상기 진공 챔버의 일면을 관통하여 형성되는 뷰 포트; 및
상기 진공 챔버 및 상기 증발원 내부의 이미지를 상기 뷰 포트로 반사하는 반사 유닛;을 포함하고,
상기 반사 유닛은,
적어도 일면에 반사면이 형성되는 반사판;
상기 반사판을 직선 또는 회전 이동하기 위한 구동축; 및
상기 구동축에 동력을 전달하는 구동원;을 포함하고,
상기 반사판은 회전축을 중심으로 연장되는 복수 개의 면으로 형성되는 기판 처리 장치.
삭제
삭제
청구항 1에 있어서,
상기 반사면은 볼록형, 오목형 또는 평면형 중에서 선택된 어느 하나의 형상을 갖는 기판 처리 장치.
청구항 1에 있어서,
상기 구동축은 상기 진공 챔버의 측벽에 설치되는 기판 처리 장치.
청구항 1에 있어서,
상기 뷰 포트는 상기 증발원의 상단으로부터 수평 방향으로 연장되는 면 하부의 상기 진공 챔버의 일면에 배치되는 기판 처리 장치.
청구항 1에 있어서,
상기 반사 유닛은 상기 진공 챔버 내에서 상기 증발원과 상기 기판의 가장자리를 연결하는 영역의 외부에 배치되는 기판 처리 장치.
청구항 1에 있어서,
상기 뷰 포트에 설치되어 상기 반사 유닛으로부터 반사된 이미지로부터 광학적 특성을 측정하는 광학 측정기를 더 포함하는 기판 처리 장치.
청구항 1에 있어서,
상기 뷰 포트가 형성된 진공 챔버의 내부에 설치되어 상기 뷰 포트를 개폐하는 셔터를 더 포함하는 기판 처리 장치.