KR101475701B1 - 미세패턴 형성 시스템 및 미세패턴 형성방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 미세패턴 형성 시스템에 관한 것이며, 본 발명의 미세패턴 형성 시스템은 음각패턴이 형성된 기재를 연속적으로 이송시키는 이송부; 상기 기재로 충진물을 공급하는 공급부; 상기 기재의 이송방향을 따라 상기 공급부의 후방에 마련되고, 상기 기재와 접촉한 상태에서 회전하여 공급되는 충진물을 상기 음각패턴 내로 충진하는 회전충진부;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
따라서, 본 발명에 의하면, 기재와 접촉하여 회전하는 회전체를 통하여 미세 선폭의 음각패턴 내로의 충진물 충진효율을 향상시킴으로써, 미세패턴을 용이하게 제작할 수 있는 미세패턴 형성 시스템 및 미세패턴 형성방법을 제공함이 제공된다.

Description

미세패턴 형성 시스템 및 미세패턴 형성방법{SYSTEM AND METHOD FOR MAKING FINE PATTERN}
본 발명은 미세패턴 형성 시스템 및 미세패턴 형성방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 미세 선폭의 음각패턴 내에 충진물이 균일하게 충진되는 형태의 미세패턴을 용이하게 제작할 수 있는 미세패턴 형성 시스템 및 미세패턴 형성방법에 관한 것이다.
최근, 전자제품의 경박 단소화 추세로 디스플레이 또는 트랜지스터 등의 전자 소자들은 공통적으로 고밀도, 고집적의 형태로 제작 될 것이 요구됨에 따라 전극 또는 배선(metallization lines)용에 사용할 수 있는 미세한 금속 패턴을 형성하는 기술이 주목되고 있다. 지금까지 널리 알려져 있는 금속의 미세패턴 제작기술은 통상적으로, 박막의 진공 증착과 포토리소그라피 공정을 거쳐 형성된다.
기재에 도전성 소재를 증착 한 후 미세패턴 회로를 형성하기 위해 드라이 필름(Dry Film) 또는 감광액을 도전성 소재 표면에 도포한 다음 자외선(UV)을 조사 하여 경화 시킨 후, 현상액을 이용하여 현상하고, 이어서 화학 부식액을 이용하여 구현 하고자하는 미세패턴을 형성하는 방법이다.
포토리소그라피 공정은 고 해상도(resolution)를 갖는 패터닝을 할 수 있는 장점이 있지만, 고가의 장비, 복잡한 생산 공정, 에칭공정의 반복으로 인한 과량의 화학 폐기물이 배출되는 단점을 가지고 있다. 또한 최근에는 플렉서블 전자소자의 도래와 더불어 저온에서 대면적화가 가능한 패터닝 공정의 중요성이 제기되고 있어 고가의 장비와 고비용으로 대표되는 기존의 포토리소그라피 공정을 대체하는 대안을 찾고자 하는 많은 연구 개발이 진행되고 있다.
예컨대, 잉크젯 프린팅, 그라비아 옵셋 프린팅, 리버스 옵셋, 레이저 식각 패터닝등이 있다. 이와 같은 방식들은 직법 패터닝 방식 이라는 장점이 있고 일부는 상당한 기술적 진보를 보이기도 하였으나 미세선폭 구현성, 신뢰성, 생산 공정 속도에 있어서 각각의 한계로 인해 여전히 포토리소그라피 공정을 많이 대체하지 못하고 있다.
나노 임프린트 기술은 상기의 직접 패터닝 방식의 단점을 보완하고 포토리소그래프 공정의 문제점을 위하여 제시된 것으로서, 기재위에 광경화성 수지 또는 열경화성 수지를 도포한 후, 나노에서 마이크론 크기의 요철을 포함하는 몰드를 상기 도포된 수지층 상에 가압하고, 자외선 또는 열을 가하여 이를 경화시킴으로써 패턴을 기재에 전사하는 기술이다. 이러한 현재의 나노임프린팅 기술은 수십 마이크로미터um 선폭의 라인을 형성하는 기술로 이용되고 있는 직접 패터닝 형성 방법과 포토리소그래피 방법과 비교할 때, 제조단가와 해상도 측면에서 이들의 중간 정도 수준이며, 나노와 마이크로 분야의 교량 역할을 하는 동시에 부분적으로 이들 기술을 점진적으로 대체해 나가고 있다.
그러나 최근에 이러한 임프린팅 방식으로 금속패턴을 형성하는 기술들이 소개되고 있으나, 금속 패턴 형성을 위해 음각의 홈에 충전물을 채우는 공정에서 충전 효율성의 문제로 충전물을 반복적으로 채우는 공정이 필요하여 생산성과 고가 금속 원료의 폐기에 대한 문제점을 가지고 있다.
또한, 일정한 방향이나 배열을 포함하지 않은 복잡한 패턴 형성시 충전물의 충진성 저하로 수율 및 특성 저하의 문제점이 있어 복잡하고 미세한 전극 또는 배선용으로 사용하기 위한 저 저항의 금속패턴 형성 기술은 아직까지도 기술개발이 필요한 상황이다.
한편, 한국특허 공개번호 제 10-2011-0100034에서는 임프린팅 공정으로 미세 홈을 형성하고 금속층을 그 홈에 충진하여 금속 미세선폭을 형성하는 방법을 개시하고 있으나 충전물의 충전 효율성 및 서브 마이크론의 선폭을 구현하는데 문제가 있고 또한 저 저항의 전극을 형성하는 데는 한계를 가지고 있어 이러한 문제를 해결하기 위한 대안이 절실한 상황이다.
따라서, 본 발명의 목적은 이와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 기재와 접촉하여 회전하는 회전체를 통하여 미세 선폭의 음각패턴 내로의 충진물의 충진효율을 향상시킴으로써, 미세패턴을 용이하게 제작할 수 있는 미세패턴 형성 시스템 및 미세패턴 형성방법을 제공함에 있다.
상기 목적은, 본 발명에 따라, 음각패턴이 형성된 기재를 연속적으로 이송시키는 이송부; 상기 기재로 충진물을 공급하는 공급부; 상기 기재의 이송방향을 따라 상기 공급부의 후방에 마련되고, 상기 기재와 접촉한 상태에서 회전하여 공급되는 충진물을 상기 음각패턴 내로 충진하는 회전충진부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세패턴 형성 시스템에 의해 달성된다.
또한, 상기 기재의 이송방향을 따라 상기 회전충진부의 후방에 마련되고, 상기 음각패턴 내에 충진된 충진물을 건조하는 제1건조부를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 회전충진부는 상기 기재의 폭방향을 따라 길게 배치되며, 상기 기재와 접촉하여 충진물을 음각패턴 내로 안내하는 제1롤러를 포함할 수 있다.
또한, 상기 제1롤러는 외면에 회전축과 사선을 이루며 형성되는 제1충진패턴을 구비할 수 있다.
또한, 상기 회전충진부는 상기 기재의 이송방향을 따라 상기 제1롤러의 후방에 마련되고, 상기 제1롤러를 통과한 기재 상에 잔류하는 충진물이 음각패턴 내로 충진되도록 외면에 제2충진패턴을 구비하여 회전하는 제2롤러를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 제2충진패턴과 상기 제2충진패턴은 서로 평행하지 않을 수 있다.
또한, 상기 기재에 접촉된 상태의 회전충진부를 진동시키는 진동인가부를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 회전충진부와 상기 제1건조부의 사이에 배치되며, 이송되는 기재와 접촉하여 상기 기재 상에 잔류하는 충진물을 상기 음각패턴 내로 충진시키는 제1블레이드를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 기재의 이송방향을 따라 상기 제1건조부의 후방에 마련되고, 음각패턴 내에 충진되지 못하고 기재 상에 잔류한 상태로 건조된 충진물이 용해되도록 에천트를 도포하는 에천트 도포부; 상기 기재 상에서 용해된 충진물을 음각패턴 내로 재충진시키는 제2블레이드; 상기 제2블레이드를 통과한 기재의 음각패턴 내의 충진물을 건조시키는 제2건조부;를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 목적은, 본 발명에 따라, 음각패턴이 형성되는 기재을 준비하는 기재 준비단계; 상기 기재 상에 충진물을 공급하는 충진물 공급단계; 회전충진부를 상기 기재와 접촉한 상태에서 회전시켜 상기 충진물 공급단계에서 기재 상에 공급된 충진물을 상기 음각패턴 내로 충진하는 회전충진단계; 상기 음각패턴 내의 충진물을 건조시키는 제1건조단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세패턴 형성방법에 의해 달성된다.
또한, 상기 회전충진단계는 외면에 회전축과 사선을 이루는 제1충진패턴을 구비하는 제1롤러를 상기 기재와 접촉한 상태에서 회전시켜 충진물을 음각패턴 내로 충진하는 단계; 외면에 회전축과 사선을 이루되 상기 제1충진패턴과 평행하지 않는 제2충진패턴을 구비하는 제2롤러를 상기 기재와 접촉한 상태에서 회전시켜 충진물을 음각패턴 내로 충진하는 단계;를 포함할 수 있다.
또한, 회전충진단계에서 상기 회전충진부는 상기 기재와 접촉한 상태에서 회전함과 동시에 상기 기재의 길이방향 또는 상기 기재의 폭방향을 따라 진동할 수 있다.
또한, 상기 회전충진단계와 상기 제1건조단계의 사이에서 수행되며, 블레이드를 기재와 접촉시켜 상기 회전충진단계에서 충진되지 못하고 기재에 잔류한 충진물을 상기 음각패턴 내로 충진하는 제1충진단계를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 제1건조단계를 통과한 후에 상기 기재 상에 에천트를 도포하여 음각패턴 내에 충진되지 못하고 상기 기재 상에서 건조된 충진물을 용해하는 용해단계; 용해된 기재 상의 충진물을 블레이드를 기재와 접촉시켜 음각패턴 내로 충진하는 제2충진단계; 상기 음각패턴 내에 충진된 충진물을 건조하는 제2건조단계;를 더 포함할 수 있다.
본 발명에 따르면, 기재와 접촉하여 회전하는 회전체인 회전충진부를 이용하여 기재 상에 형성되는 미세선폭의 음각패턴 내에 충진물을 균일하게 충진할 수 있는 미세패턴 형성 시스템이 제공된다.
또한, 회전충진부를 복수개의 롤러로 설계하여, 충진효율을 더욱 향상시킬 수 있다.
또한, 회전충진부를 구성하는 롤러의 외주면에 사선방향의 충진패턴을 형성하여, 기재 상에 도포되는 충진물을 음각패턴 내로 쉽게 유인할 수 있다.
또한, 복수개의 롤러의 외주면에 형성되는 충진패턴이 서로 다른 사선방향을 갖도록 함으로써, 충진물이 편향되어 충진되는 현상을 배제하고 보다 균일한 충진성능을 구현할 수 있다.
또한, 회전충진부의 후단에 블레이드를 이용하여 충진물을 재충진함으로써 충진효율을 높일 수 있다.
또한, 건조된 충진물을 재용해하고 충진하는 과정을 반복하여 충진효율을 향상시킬 수 있다.
도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 미세패턴 형성 시스템의 개략적인 사시도이고,
도 2는 도 1의 미세패턴 형성 시스템의 회전충진부를 개략적으로 도시한 것이고,
도 3은 도 1의 미세패턴 형성 시스템을 이용한 미세패턴 형성방법 공정을 개략적으로 도시한 것이고,
도 4는 본 발명의 제2실시예에 따른 미세패턴 형성 시스템의 개략적인 사시도이고,
도 5는 도 4의 미세패턴 형성 시스템의 진동인가부와 회전충진부를 개략적으로 도시한 것이고,
도 6은 본 발명의 제3실시예에 따른 미세패턴 형성 시스템의 개략적인 사시도이고,
도 7은 도 6의 미세패턴 형성 시스템을 이용한 미세패턴 형성방법 공정을 개략적으로 도시한 것이고,
도 8은 본 발명의 제4실시예에 따른 미세패턴 형성 시스템의 개략적인 사시도이고,
도 9는 도 8의 미세패턴 형성 시스템을 이용한 미세패턴 형성방법 공정을 개략적으로 도시한 것이다.
설명에 앞서, 여러 실시예에 있어서, 동일한 구성을 가지는 구성요소에 대해서는 동일한 부호를 사용하여 대표적으로 제1실시예에서 설명하고, 그 외의 실시예에서는 제1실시예와 다른 구성에 대해서 설명하기로 한다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 제1실시예에 따른 미세패턴 형성 시스템(100)에 대하여 상세하게 설명한다.
도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 미세패턴 형성 시스템의 개략적인 사시도이다.
도 1을 참조하여 설명하면, 본 발명의 제1실시예에 따른 미세패턴 형성 시스템(100)은 기재(10) 상에 형성되는 음각패턴(11) 내부에 충진물을 충진하여 미세패턴(P)을 최종 제작하기 위한 시스템에 관한 것으로서, 이송부(110)와 공급부(120)와 회전충진부(130)와 제1건조부(140)를 포함한다.
상기 이송부(110)는 기재(10)를 연속적으로 이송시켜 인라인 시스템을 구축하기 위한 장비로서, 다수개의 일반적인 이송롤러를 포함한다. 이송부를 구성하는 이러한 이송롤러는 기술분야에서 널리 알려진 구성이므로 설명은 생략한다.
한편, 본 실시예에서는 음각패턴(11)이 형성된 상태의 기재(10)가 연속적으로 이송된다.
여기에서 이용되는 기재로는 음각패턴(11)을 형성하는 방법 등을 종합적으로 고려하여 결정되며, 폴리이미드(PI), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylene terephthalate, PET), 폴리에틸렌 나프탈레이트(polyethylenenaphthalate, PEN), 폴리에테르술폰(PES), 나일론(Nylon), 폴리테트라 플루오로에틸렌(Polytetrafluoroethylene, PTFE), 폴리에텔에텔 케톤(polyetherether ketone, PEEK), 폴리카보네이트(PC), 또는 폴리아릴레이트(polyarylate, PAR) 등의 투명한 기재가 이용될 수 있으며, 표면이 절연 처리된 금속제 플레이트, 불투명한 플라스틱 필름, 불투명한 글라스 또는 불투명한 유리 섬유재 등의 불투명한 기재가 이용될 수도 있다.
상기 공급부(120)는 상술한 이송부(110)에 의하여 연속적으로 이송되는 기재(10) 상에 충진물을 공급하기 위한 것이다. 본 실시예에서 공급부(120)는 기재(10)의 폭방향을 따라서 배치되는 노즐을 통하여 충진물을 분사함으로서, 기재(10)의 전면에 충진물이 분사될 수 있도록 한다. 다만, 공급부(120)가 반드시 노즐을 구비하여야 하는 것은 아니고, 기재(10) 상에 충진물을 분사, 도포할 수 있는 구조라면 제한되는 것은 아니다.
본 실시예에서 공급부(120)로부터 분사되는 충진물로는 최종 형성되는 미세패턴(P)이 전극패턴을 형성할 수 있도록 우수한 전기적 전도성 특성을 가지는 잉크가 사용되는 것으로 설명하나, 충진물의 소재가 이에 제한되는 것은 아니다.
즉, 본 실시예에서 사용되는 충진물은 전도성 금속 조성물로서 음각패턴(11) 내로의 충진성을 향상시키기 위하여 용제에 용해가 가능하거나 팽윤이 되고, 열이나 환원제 등의 후처리 공정으로 쉽게 환원되는 금속 착체 화합물 또는 금속 전구체가 이용될 수 있다.
또한, 금속 착체 화합물 또는 금속 전구체를 환원시켜 금속입자를 제조하여 혼합물로도 사용할 수 있으며, 이들 혼합물 외에도, 필요에 따라, 용매, 안정제, 분산제, 바인더 수지(binder resin), 이형제, 환원제, 계면활성제(surfactant), 습윤제(wetting agent), 칙소제(thixotropic agent) 또는 레벨링(levelling)제, 증점제와 같은 첨가제가 포함될 수 있다.
도 2는 도 1의 미세패턴 형성 시스템의 회전충진부를 개략적으로 도시한 것이다.
도 2를 참조하여 설명하면, 상기 회전충진부(130)는 기재(10)에 연속적으로 공급, 도포되는 전도성 충진물을 음각패턴 내로 충진하는 역할을 하는 것으로서, 제1롤러(131)와 제2롤러(132)를 포함한다.
상기 제1롤러(131)는 기재(10)의 폭방향을 따라 길게 마련되며, 기재(10)와 접촉한 상태로 회전하여 충진물을 음각패턴(12) 내로 유인하여 강제 충진하기 위한 부재이다.
제1롤러(131)의 외면에는 기재(10)와 직접적으로 접촉하여 충진물의 유동을 안내하는 제1충진패턴(132)이 외측으로 돌출 형성되며, 제1충진패턴(132)은 복수개의 스트라이프 형상으로 제1롤러(131)의 회전축과 사선을 이루는 형태를 갖는다.
이때, 사선방향을 따라 형성되는 제1충진패턴(132)의 각도 및 이웃하는 제1충진패턴(312) 사이의 간격은 기재(10)가 이송되는 속도, 공급부(120)로부터 공급되는 충진물의 점성, 음각패턴(12)의 깊이 등을 종합적으로 고려하여 결정되는 것이 바람직하다.
상기 제2롤러(133)는 제1롤러(131)와 후술하는 제1건조부(140)의 사이에 배치되어, 기재(10)의 폭방향을 따라 길게 설치되며, 제1롤러(131)와 마찬가지로 기재(10)와 접촉한 상태로 회전하여 충진물을 기재(10)의 음각패턴(11) 내로 강제 충진하는 장비이다.
제2롤러(133)의 외면에는 기재(10)와 직접적으로 접촉하여 충진물의 유동을 안내하는 제2충진패턴(134)이 외측으로 돌출 형성되며, 제2충진패턴(134)은 복수개의 스트라이프 형상으로 제2롤러(133)의 외주면을 감싸며 사선방향을 따라 형성된다.
또한, 전체적인 충진물의 충진효율을 향상시키기 위하여 제2충진패턴(134)은 제1충진패턴(132)과 서로 다른 방향을 갖도록 형성된다. 즉, 제1롤러(131)에 구비되는 제1충진패턴(132)과 제2롤러(133)에 구비되는 제2충진패턴(134)은 각각의 롤러의 회전축과 사선을 이루되, 서로가 평행하지 않는 구조로 구성되어 다른 방향의 사선을 갖는다.
한편, 상술한 본 실시예의 제1충진패턴(132)과 제2충진패턴(134)은 각 롤러의 외주면을 사선방향을 따라 직선으로 형성되는 것으로 설명하였으나, 이에 제한되는 것은 아니고, 본 실시예의 변형례에서 각 충진패턴의 형상은 각 롤러의 외주면의 사선방향을 따라서 곡선으로 형성될 수도 있고, 파선(波線)의 형태 또는 지그재그 형태의 선이 반복되는 구조일 수도 있다.
또한, 본 실시예에의 다른 변형례에서는 각 충진패턴은 롤러의 사선방향을 따라 형성되지 않고 충진패턴의 회전축과 평행한 방향으로 직선, 곡선, 파선, 지그재그 형태를 가질 수도 있다. 뿐만 아니라, 제1충진패턴(132)과 제2충진패턴(134)은 제1롤러(131) 및 제2롤러(133)의 횡단면의 형상이 사각, 마름모, 프리즘 형상 또는 소정의 곡률을 가지는 곡선의 형상을 가질 수도 있으며, 제1충진패턴(132)과 제2충진패턴(134)은 이에 제한되지 않고 다양한 형태로 형성될 수 있다.
한편, 본 발명의 다른 변형례에서는 회전충진부(130)에 대응되는 기재(10)의 하부에는 지지구조물(미도시)이 설치되어, 작동시 하측으로 가압되는 회전충진부(130) 및 기재(10)를 상측으로 지지한 상태에서 안정적인 공정이 진행되도록 할 수 있다.
또한, 상술한 회전충진부(130)의 소재는 제한되지 않고, 강성을 가지는 단단한 소재로 마련될 수도 있고, 탄성을 가지는 소재로 마련될 수도 있다.
상기 제1건조부(140)는 제2롤러(133)로부터 기재(10)의 이송방향을 따라 이격되며, 회전충진부(130)를 통과하면서 기재(10)의 음각패턴 내에 충진되는 충진물을 건조함으로써 최종 미세패턴(P)을 형성하기 위한 장비이다.
지금부터는 상술한 미세패턴 형성 시스템(100)의 제1실시예을 이용한 미세패턴 형성방법(S100)에 대하여 설명한다.
도 3은 도 1의 미세패턴 형성 시스템을 이용한 미세패턴 형성방법 공정을 개략적으로 도시한 것이다.
도 3을 참조하면, 본 발명의 제1실시예에 따른 미세패턴 형성 시스템을 이용한 미세패턴 형성방법(S100)은 기재 준비단계(미도시)와 충진물 공급단계(S110)와 회전충진단계(S120)와 제1건조단계(S130)를 포함한다.
상기 기재 준비단계(S110)는 유연한(flexible) 특성의 기재(10) 상에 미세 선폭의 음각패턴(11)을 형성하여 기재(10)를 준비하는 동시에, 준비된 기재(10)를 이송부(110)를 통하여 연속적으로 이송시키는 단계이다.
본 실시예에서 기재(10)에 홈 형태의 음각패턴(11)을 형성하는 것은 임프린팅 공정을 이용하는 방법, 레이저로 직접 기재를 식각하는 방법, 포토리소그래피 방식을 이용하는 방법 등을 이용할 수 있으며, 전술한 방법외에도 기술분야에서 널리 알려진 공정 중 형성하고자하는 음각패턴(11)의 선폭, 깊이 등을 고려하여 결정하는 것이 바람직하다.
상기 충진물 공급단계(S110)는 공급부(120)를 통하여 충진물을 기재(10) 상에 공급, 도포하는 단계이다.
상기 회전충진단계(S120)는 제1롤러(131)와 제2롤러(133)를 포함하는 회전충진부(130)를 이용하여 기재(10) 상에 비교적 균일하게 도포된 상태의 충진물을 금속패턴(11) 내로 충진하는 단계이다.
먼저, 제1롤러(131)에 의하여 진행되는 충진공정에 대해서 설명하면, 공급부(120)로부터 충진물이 균일하게 도포된 상태에서 이송되는 기재(10)와 접촉한 상태의 제1롤러(131)가 소정의 방향을 따라 회전한다.
이때, 제1롤러(131)의 외면에 형성되는 사선방향의 제1충진패턴(132)이 기재(10)와 직접적으로 접촉하여 회전하면서 기재(10)에 도포된 충진물을 음각패턴(11) 내로 유인하여 충진한다.
다음으로, 제1롤러(131)를 통과한 기재(10)가 제2롤러(133)를 통과하면, 제2롤러(133)의 외면에 형성되는 사선방향의 제2충진패턴(134)이 기재(10)와 접촉하여 회전하면서 충진물을 음각패턴(11) 내로 유인하여 충진한다.
이때, 제1충진패턴(132)과 제2충진패턴(134)은 서로 다른 방향의 사선으로 형성되므로, 충진물이 어느 한쪽으로만 편중되어 유인되는 것을 방지할 수 있으며, 전체적으로 음각패턴(11) 내에 균일하게 충진물을 충진할 수 있다.
상기 제1건조단계(S130)는 회전충진단계(S120) 이후에 음각패턴(11)에 충진된 충진물을 건조하여 최종적으로 미세패턴(P)을 형성하는 단계이다.
제1건조단계(S130)에서의 건조는 80℃ 내지 400℃ 로 진행하는 것이 바람직하나, 이에 제한되는 것은 아니다.
한편, 최종 형성되는 미세패턴(P)의 충진물의 두께는 제한되는 것은 아니나, 10 마이크론 이하일 수 있으며, 0.1 마이크론 이상 5 마이크론 이하인 것이 보다 바람직하다.
따라서, 본 실시예에 의하면, 연속적으로 이송되는 기재(10)에 접촉하는 회전체의 회전회동을 이용하여 기재(10) 상에 도포되는 충진물을 음각패턴(11) 내부로 균일하고 정확하게 유인, 충진하여 미세패턴(P)을 형성할 수 있다.
다음으로 본 발명의 제2실시예에 따른 미세패턴 형성 시스템(200)에 대해 설명한다.
도 4는 본 발명의 제2실시예에 따른 미세패턴 형성 시스템의 개략적인 사시도이다.
도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제2실시예에 따른 미세패턴 형성 시스템(200)은 기재(10) 상에 형성되는 음각패턴(11) 내에 충진물을 충진하여 미세패턴(P)을 최종 형성하기 위한 시스템에 관한 것으로서, 이송부(110)와 공급부(120)와 회전충진부(130)와 제1건조부(140)와 진동인가부(250)를 포함한다.
다만, 상기 이송부(110)와 상기 공급부(120)와 상기 회전충진부(130)와 상기 제1건조부(140)는 제1실시예에서 상술한 구성과 동일한 것이므로 중복 설명은 생략한다.
도 5는 도 4의 미세패턴 형성 시스템의 진동인가부와 회전충진부를 개략적으로 도시한 것이다.
도 5에 도시된 바와 같이, 상기 진동인가부(250)는 기재와 접촉하는 회전충진부(130)가 소정의 방향을 따라 진동하도록 구동력을 인가하는 것이다. 이때, 회전충진부(130)은 기재(10)의 길이방향 또는 폭방향을 중 어느 하나의 방향을 따라 진동할 수 있고, 길이방향 및 폭방향을 따라 복합적으로 진동할 수도 있고, 원운동을 하며 진동할 수도 있다.
이하, 본 발명의 제2실시예에 따른 미세패턴 형성 시스템을 이용한 미세패턴 형성방법(S200)에 대해서 설명한다.
본 발명의 제2실시예에 따른 미세패턴 형성 시스템을 이용한 미세패턴 형성방법(S200)은 기재 준비단계와 충진물 공급단계(S110)와 회전충진단계(S120)와 제1건조단계(S130)를 포함하며, 기재 준비단계와 충진물 공급단계(S110)와 제1건조단계(S130)는 제1실시예에서 상술한 공정과 동일한 것이므로 중복설명은 생략한다.
본 실시예의 회전충진단계(S120)에서는 제1실시예와 마찬가지로 제1롤러(131)와 제2롤러(133)를 회전시켜 기재(10) 상에 도포된 충진물을 음각패턴(11) 내로 충진시킨다. 이와 동시에, 음각패턴(11) 내로의 충진물 충진효율 향상을 위하여 본 실시예에서는 진동인가부(250)가 회전충진부(130), 즉, 제1롤러(131)와 제2롤러(133)가 진동하도록 구동력을 인가한다.
이때, 제1롤러(131)와 제2롤러(133)는 기재(10)와 접촉한 상태에서 전후방향, 좌우방향 또는 이들을 복합한 형태로 진동할 수 있으며, 진동방향, 진동폭, 진동수 등은 기재 상에 형성되는 음각패턴의 깊이, 선폭, 기재의 이송속도 등을 종합적으로 고려하여 결정된다.
따라서, 본 실시예에 의하면, 회전충진부(130)가 회전함과 동시에 소정의 방향을 따라 진동하므로, 음각패턴(11) 내로의 충진물 충진효율이 더욱 향상될 수 있다.
다음으로 본 발명의 제3실시예에 따른 미세패턴 형성 시스템(300)에 대해 설명한다.
도 6은 본 발명의 제3실시예에 따른 미세패턴 형성 시스템의 개략적인 사시도이다.
도 6을 참조하여 설명하면, 본 발명의 제3실시예에 따른 미세패턴 형성 시스템(300)은 기재(10) 상에 형성되는 음각패턴(11) 내에 충진물을 충진하여 미세패턴(P)을 최종 형성하기 위한 시스템에 관한 것으로서, 이송부(110)와 공급부(120)와 회전충진부(130)와 제1블레이드(360)와 제1건조부(140)를 포함하며, 이송부(110)와 공급부(120)와 회전충진부(130)와 제1건조부(140)는 제1실시예에서 상술한 구성과 동일한 것이므로 중복설명은 생략한다.
상기 제1블레이드(360)는 회전충진부(130)와 제1건조부(140)의 사이에 배치되어 기재(10)의 폭방향을 따라 길게 장착되는 것으로, 회전충진부(130)를 통과한 후에도 기재(10) 상에서 음각패턴(11) 내로 충진되지 못하고 잔류되는 충진물을 음각패턴(11) 내로 충진하는 부재이다.
즉, 회전충진부(130)로부터 처리가 완료되지 못한 기재(10) 상의 충진물을 제1블레이드(360)를 이용하여 음각패턴(11) 내로 재충전한다.
이하, 본 발명의 제3실시예에 따른 미세패턴 형성 시스템(300)을 이용한 미세패턴 형성방법(S300)에 대해서 설명한다.
도 7은 도 6의 미세패턴 형성 시스템을 이용한 미세패턴 형성방법 공정을 개략적으로 도시한 것이다.
도 7을 참조하여 설명하면, 본 발명의 제3실시예에 따른 미세패턴 형성 시스템(300)을 이용한 미세패턴 형성방법(S300)은 기재 준비단계와 충진물 공급단계(S110)와 회전충진단계(S120)와 제1충진단계(S340)와 제1건조단계(S130)를 포함하며, 기재 준비단계와 충진물 공급단계(S110)와 회전충진단계(S120)와 제1건조단계(S130)는 제1실시예에서 상술한 공정과 동일한 것이므로 중복설명은 생략한다.
상기 제1충진단계(S340)에서는 회전충진단계(S120)에서 완벽하게 처리되지 못하고 기재(10) 상에 잔류하는 충진물을 제1블레이드(360)를 이용하여 음각패턴(11) 내에 재충진한다. 따라서, 본 실시예에서는 회전충진부(130)의 회전회동과 동시에 고정된 상태의 제1블레이드(360)를 통하여 충진공정을 반복하여 수행함으로써, 충진 효율이 더욱 향상될 수 있다.
다음으로 본 발명의 제4실시예에 따른 미세패턴 형성 시스템에 대해 설명한다.
도 8은 본 발명의 제4실시예에 따른 미세패턴 형성 시스템의 개략적인 사시도이다.
도 8을 참조하여 설명하면, 본 발명의 제4실시예에 따른 미세패턴 형성 시스템(400)은 기재(10) 상에 형성되는 음각패턴(11) 내에 충진물을 충진하여 미세패턴(P)을 최종 형성하기 위한 시스템에 관한 것으로서, 이송부(110)와 공급부(120)와 회전충진부(130)와 제1블레이드(360)와 제1건조부(140)와 에천트 도포부(470)와 제2블레이드(480)와 제2건조부(490)를 포함하며, 이송부(110)와 공급부(120)와 회전충진부(130)와 제1블레이드(360)와 제1건조부(140)는 제1실시예 내지 제3실시예에서 설명한 구성과 동일한 것이므로 중복설명은 생략한다.
상기 에천트 도포부(470)는 제1건조부(140)의 후단에 설치되며, 전술한 회전충진부(130)와 제1블레이드(360)를 통과한 후에도 기재(10) 상에 잔류하는 충진물의 최종 충전공정을 수행하기 위하여, 에천트를 도포하여 기재(10) 상에 건조된 상태로 잔류하는 충진물을 용해시키는 구성이다.
본 발명에서 사용하는 에천트는 음각패턴(11) 내에 충진되는 충진물의 종류에 따라 결정되나, 산화제와 금속 화합물을 용해 시킬 수 있는 암모늄 카바메이트계열, 암모늄 카보네이크계열, 암모늄 바이카보네이트계열, 카르복실산 계열, 락톤 계열, 릭탐 계열, 환상 산 무수물 계열 화합물,산-염기 염복합체, 산-염기-알코올 계 복합체, 머켑토 계열 화합물 등이 에천트로 이용될 수 있다.
또한, 상기의 에천트는 기재 표면의 미 충진된 금속층을 효과적으로 용해하고 미세한 음각패턴으로 금속의 재 충진성을 높이기 위하여 에칭액 조성물에 친수 특성을 부여하는 것이 바람직하다. 에칭액 화합물 성분의 탄소수를 조절하여 선택해 친수 특성의 정도를 조절하는 것이 바람직하다.
상기 제2블레이드(480)는 에천트 도포부(470)의 후단에 설치되며, 에천트 도포부(470)로부터 도포된 에천트에 의하여 용해되는 충진물을 음각패턴(11) 내로 최종 충진시키기 위한 구성이다.
상기 제2건조부(490)는 제2블레이드(480)의 후단에 설치되는 것으로, 제2블레이드(480)에 의하여 음각패턴(11) 내로 최종 충진되는 충진물을 건조함으로써, 미세패턴(P)을 최종 형성하기 위한 구성이다.
이하, 본 발명의 제4실시예에 따른 미세패턴 형성 시스템(400)을 이용한 미세패턴 형성방법(S400)에 대해서 설명한다.
도 9는 도 8의 미세패턴 형성 시스템을 이용한 미세패턴 형성방법 공정을 개략적으로 도시한 것이다.
도 9를 참조하여 설명하면, 본 발명의 제4실시예에 따른 미세패턴 형성 시스템(400)을 이용한 미세패턴 형성방법(S400)은 기재 준비단계와 충진물 공급단계(S110)와 회전충진단계(S120)와 제1충진단계(S340)와 제1건조단계(S130)와 용해단계(S450)와 제2충진단계(S460)와 제2건조단계(S470)를 포함하며, 기재 준비단계와 충진물 공급단계(S110)와 회전충진단계(S120)와 제1충진단계(S340)와 제1건조단계(S130)는 제1실시예 내지 제3실시예에서 상술한 공정과 동일한 것이므로 중복설명은 생략한다.
상기 용해단계(S450)는 에천트 도포부(470)를 통하여 기재(10) 상에 에천트를 도포하여 음각패턴(11) 내로 충진되지 못하고 제1건조부(140)에 의하여 건조된 기재(10) 상의 충진물을 재용해하는 단계이다.
즉, 본 단계에서는 제1건조부(140)에 의하여 건조됨으로써 유동성을 잃은 기재(10)의 잔류충진물의 유동성을 되살려 후술하는 제2충진단계(S460)를 통하여 음각패턴(11) 내에 최종 충진시킬 수 있도록 재용해한다.
상기 제2충진단계(S460)는 용해단계(S450)에서 용해된 상태의 기재(10) 상의 충진물을 제2블레이드(480)를 이용하여 음각패턴(11) 내로 재충진하는 단계이다.
상기 제2건조단계(S470)는 제2충진단계(S460)에서 최종적으로 충진되는 음각패턴(11) 내의 충진물을 최종 건조하여, 미세패턴(P)을 형성한다.
따라서, 본 실시예에 의하면, 제2블레이드(480)를 통한 충진물 충진공정을 반복 수행함으로써, 충진효율 및 성능을 향상시킬 수 있다.
본 발명의 권리범위는 상술한 실시예에 한정되는 것이 아니라 첨부된 특허청구범위 내에서 다양한 형태의 실시예로 구현될 수 있다. 특허청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 변형 가능한 다양한 범위까지 본 발명의 청구범위 기재의 범위 내에 있는 것으로 본다.
110 : 이송부 120 : 공급부
130 : 회전충진부 131 : 제1롤러
132 : 제1충진패턴 133 : 제2롤러
134 : 제2충진패턴 140 : 제1건조부
250 : 진동인가부 360 : 제1블레이드
470 : 에천트 도포부 480 : 제2블레이드
490 : 제2건조부

Claims (19)

  1. 음각패턴이 형성된 기재를 연속적으로 이송시키는 이송부;
    상기 기재로 충진물을 공급하는 공급부;
    상기 기재의 이송방향을 따라 상기 공급부의 후방에 마련되고, 상기 기재와 접촉한 상태에서 회전하여 공급되는 충진물을 상기 음각패턴 내로 충진하는 회전충진부;를 포함하며,
    상기 회전충진부는 상기 기재의 폭방향을 따라 길게 배치되며, 상기 기재와 접촉하여 충진물을 음각패턴 내로 안내하는 제1롤러를 포함하고,
    상기 제1롤러는 외면에 회전축과 사선을 이루며 형성되는 제1충진패턴을 구비하는 것을 특징으로 하는 미세패턴 형성 시스템.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 기재의 이송방향을 따라 상기 회전충진부의 후방에 마련되고, 상기 음각패턴 내에 충진된 충진물을 건조하는 제1건조부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미세패턴 형성 시스템.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 회전충진부는 상기 기재의 이송방향을 따라 상기 제1롤러의 후방에 마련되고, 상기 제1롤러를 통과한 기재 상에 잔류하는 충진물이 음각패턴 내로 충진되도록 외면에 제2충진패턴을 구비하여 회전하는 제2롤러를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미세패턴 형성 시스템.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 제1충진패턴과 상기 제2충진패턴은 서로 평행하지 않는 것을 특징으로 하는 미세패턴 형성 시스템.
  5. 제2항에 있어서,
    상기 기재에 접촉된 상태의 회전충진부를 진동시키는 진동인가부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미세패턴 형성 시스템.
  6. 제2항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 회전충진부와 상기 제1건조부의 사이에 배치되며, 이송되는 기재와 접촉하여 상기 기재 상에 잔류하는 충진물을 상기 음각패턴 내로 충진시키는 제1블레이드를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미세패턴 형성 시스템.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 기재의 이송방향을 따라 상기 제1건조부의 후방에 마련되고, 음각패턴 내에 충진되지 못하고 기재 상에 잔류한 상태로 건조된 충진물이 용해되도록 에천트를 도포하는 에천트 도포부;
    상기 기재 상에서 용해된 충진물을 음각패턴 내로 재충진시키는 제2블레이드;
    상기 제2블레이드를 통과한 기재의 음각패턴 내의 충진물을 건조시키는 제2건조부;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미세패턴 형성 시스템.
  8. 음각패턴이 형성된 기재를 연속적으로 이송시키는 이송부;
    상기 기재로 충진물을 공급하는 공급부;
    상기 기재의 이송방향을 따라 상기 공급부의 후방에 마련되고, 상기 기재와 접촉한 상태에서 회전하여 공급되는 충진물을 상기 음각패턴 내로 충진하는 회전충진부;
    상기 기재의 이송방향을 따라 상기 회전충진부의 후방에 마련되고, 상기 음각패턴 내에 충진된 충진물을 건조하는 제1건조부; 및,
    상기 기재에 접촉된 상태의 회전충진부를 진동시키는 진동인가부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세패턴 형성 시스템.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 회전충진부는 상기 기재의 폭방향을 따라 길게 배치되며, 상기 기재와 접촉하여 충진물을 음각패턴 내로 안내하는 제1롤러를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세패턴 형성 시스템.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 제1롤러는 외면에 회전축과 사선을 이루며 형성되는 제1충진패턴을 구비하는 것을 특징으로 하는 미세패턴 형성 시스템.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 회전충진부는 상기 기재의 이송방향을 따라 상기 제1롤러의 후방에 마련되고, 상기 제1롤러를 통과한 기재 상에 잔류하는 충진물이 음각패턴 내로 충진되도록 외면에 제2충진패턴을 구비하여 회전하는 제2롤러를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미세패턴 형성 시스템.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 제1충진패턴과 상기 제2충진패턴은 서로 평행하지 않는 것을 특징으로 하는 미세패턴 형성 시스템.
  13. 제8항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 회전충진부와 상기 제1건조부의 사이에 배치되며, 이송되는 기재와 접촉하여 상기 기재 상에 잔류하는 충진물을 상기 음각패턴 내로 충진시키는 제1블레이드를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미세패턴 형성 시스템.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 기재의 이송방향을 따라 상기 제1건조부의 후방에 마련되고, 음각패턴 내에 충진되지 못하고 기재 상에 잔류한 상태로 건조된 충진물이 용해되도록 에천트를 도포하는 에천트 도포부;
    상기 기재 상에서 용해된 충진물을 음각패턴 내로 재충진시키는 제2블레이드;
    상기 제2블레이드를 통과한 기재의 음각패턴 내의 충진물을 건조시키는 제2건조부;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미세패턴 형성 시스템.
  15. 음각패턴이 형성되는 기재를 준비하는 기재 준비단계;
    상기 기재 상에 충진물을 공급하는 충진물 공급단계;
    외면에 회전축과 사선을 이루는 제1충진패턴을 구비하는 제1롤러를 포함한 회전충진부를 상기 기재와 접촉한 상태에서 회전시켜 상기 충진물 공급단계에서 기재 상에 공급된 충진물을 상기 음각패턴 내로 충진하는 회전충진단계; 및,
    상기 음각패턴 내의 충진물을 건조시키는 제1건조단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세패턴 형성방법.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 회전충진단계는,
    외면에 회전축과 사선을 이루는 제1충진패턴을 구비하는 제1롤러를 상기 기재와 접촉한 상태에서 회전시켜 충진물을 음각패턴 내로 충진하는 단계;
    상기 기재의 이송방향을 따라 상기 제1롤러의 후방에 마련되고, 외면에 회전축과 사선을 이루되 상기 제1충진패턴과 평행하지 않는 제2충진패턴을 구비하는 제2롤러를 상기 기재와 접촉한 상태에서 회전시켜, 상기 제1롤러를 통과한 기재 상에 잔류하는 충진물을 음각패턴 내로 충진하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세패턴 형성방법.
  17. 제16항에 있어서,
    회전충진단계에서 상기 회전충진부는 상기 기재와 접촉한 상태에서 회전함과 동시에 상기 기재의 길이방향 또는 상기 기재의 폭방향을 따라 진동하는 것을 특징으로 하는 미세패턴 형성방법.
  18. 제15항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 회전충진단계와 상기 제1건조단계의 사이에서 수행되며, 블레이드를 기재와 접촉시켜 상기 회전충진단계에서 충진되지 못하고 기재에 잔류한 충진물을 상기 음각패턴 내로 충진하는 제1충진단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미세패턴 형성방법.
  19. 제18항에 있어서,
    상기 제1건조단계를 통과한 후에 상기 기재 상에 에천트를 도포하여 음각패턴 내에 충진되지 못하고 상기 기재 상에서 건조된 충진물을 용해하는 용해단계;
    용해된 기재 상의 충진물을 블레이드를 기재와 접촉시켜 음각패턴 내로 충진하는 제2충진단계;
    상기 음각패턴 내에 충진된 충진물을 건조하는 제2건조단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미세패턴 형성방법.
KR1020130029936A 2013-03-20 2013-03-20 미세패턴 형성 시스템 및 미세패턴 형성방법 KR101475701B1 (ko)

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