CN205666228U - 微细图案形成系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种微细图案形成系统，本实用新型的微细图案形成系统包括：输送部，连续输送形成有阴刻图案的衬底；供给部，向所述衬底供给填料；和旋转填充部，沿所述衬底的输送方向设置在所述供给部的后方，在与所述衬底接触的状态下进行旋转，从而将所供给的填料填充到所述阴刻图案内。

Description

微细图案形成系统

技术领域

本实用新型涉及一种微细图案形成系统及微细图案形成方法，更为详细地涉及一种能够易于制作在微细线宽的阴刻图案内均匀地填充有填料的形式的微细图案的微细图案形成系统及微细图案形成方法。

背景技术

最近，随着电子产品的轻量薄型及小型化趋势，共同要求以高密度、高集成形式制作显示器或晶体管等的电子元件，随之，用于形成能够用于电极或布线(metallization lines)的微细金属图案的技术备受关注。迄今广为人知的金属的微细图案制作技术通常经过薄膜的真空沉积和光刻工序而形成。

上述方法为，在衬底上沉积导电材料后，为了形成微细图案电路，在导电材料表面上涂敷干膜(Dry Film)或感光液之后，照射紫外线(UV)使之固化，然后使用显影液进行显影，接下来使用化学蚀刻液形成需要实现的微细图案的方法。

光刻工序虽然具有能够形成高分辨率(resolution)图案的优点，但具有设备昂贵、生产工艺复杂、因蚀刻工序的反复进行而排出过量的化学废物的缺点。而且在最近，随着柔性电子元件的出现，提出有在低温下能够进行大面积化的构图工序的重要性，于是正在蓬勃开展寻找代替以往的光刻工序的诸多研究开发。该光刻工序为典型的需要高额设备及高额成本的工序。

例如有喷墨印刷(ink jet printing)、凹版胶印(gravure offset printing)、反向胶印(reverse offset)和激光蚀刻构图等。这种方式的优点是其为直接构图方式这一点，部分技术还表现出相当高的技术进步，但由于在微细线宽的实现性、可靠性和生产工艺速度上分别具有局限性，因此还不能代替光刻工序的大多部分。

纳米压印(nano imprint)技术是为了弥补上述直接构图方式的缺点，并解决照相平版印刷工艺的问题而提出的，该技术是在衬底上涂敷光固性树脂或热固性树脂后，将包含纳米至微米大小凹凸的模具加压于所述被涂敷的树脂层上，并且施加紫外线或 热量来使该树脂层固化，从而将图案转印到衬底的技术。这种以往的纳米压印技术与作为形成几十微米(μm)线宽的线的技术来应用的直接构图方法和照相平版印刷方法相比较时，其技术水平在制造单价和分辨率方面上为后两种技术的中间程度，其起到纳米和微米领域的桥梁作用的同时，部分地逐步取代后两种技术。

然而，最近虽有使用这种压印方式形成金属图案的技术，但在为了形成金属图案而在阴刻槽中填充填料的工序中，因填充有效性的问题，需要有反复填充填料的工序，因此具有生产效率问题和高额金属原料废弃的问题。

此外，在形成不具有规定方向或排列的复杂图案时，由于填料的填充性的下降，具有收率及特性下降的问题，因此用于复杂而微细的电极或布线用的低电阻金属图案的形成技术尚处于需要技术开发的状况。

另一方面，韩国专利公开第10-2011-0100034号中公开了通过压印工序形成微槽，并在该槽中填充金属层而形成金属微细线宽的方法，但在填料的填充效率性及实现亚微米线宽上有问题，并且在形成低电阻电极上有局限性，因此迫切需要用于解决这种问题的对策。

实用新型内容

因此，本实用新型是为了解决这种以往问题而提出的，其目的是提供一种微细图案形成系统及微细图案形成方法，该系统及方法通过与衬底接触旋转的旋转体提高填料对微细线宽阴刻图案的填充效率，从而能够易于制作微细图案。

上述目的通过本实用新型的微细图案形成系统来实现，该微细图案形成系统的特征在于，包括：输送部，用于使用多个输送辊连续输送形成有阴刻图案的衬底；供给部，用于在所述衬底的上部使用喷嘴向所述衬底供给填料；和旋转填充部，沿所述衬底的输送方向设置在所述供给部的后方，在所述衬底的上部与所述衬底接触的状态下进行旋转，从而将被供给到所述衬底的填料填充到所述阴刻图案内。

此外，可进一步包括第一干燥部，所述第一干燥部沿所述衬底的输送方向配置在所述旋转填充部的后方，用于使填充在所述阴刻图案内的填料干燥。

此外，所述旋转填充部可包括第一辊，所述第一辊沿所述衬底的宽度方向较长地配置，与所述衬底接触而将填料引导至阴刻图案内。

此外，所述第一辊可在外表面上具备第一填充图案，所述第一填充图案与转轴构 成斜线而形成。

此外，所述旋转填充部可进一步包括第二辊，所述第二辊沿所述衬底的输送方向设置在所述第一辊的后方，在外表面上具备第二填充图案并且旋转，使得在通过所述第一辊的衬底上残留的填料填充到阴刻图案内。

此外，所述第一填充图案和所述第二填充图案可以互不平行。

此外，可进一步包括振动施加部，所述振动施加部用于使与所述衬底接触的状态的旋转填充部振动。

此外，可进一步包括第一刀片，所述第一刀片配置在所述旋转填充部和所述第一干燥部之间，与被输送的衬底接触，并将残留在所述衬底上的填料填充到所述阴刻图案内。

此外，可进一步包括：蚀刻剂涂敷部，沿所述衬底的输送方向设置在所述第一干燥部的后方，用于涂敷蚀刻剂，以使未被填充到阴刻图案内并在残留于衬底上的状态下干燥的填料溶解；第二刀片，用于将在所述衬底上溶解的填料再次填充到阴刻图案内；和第二干燥部，用于使通过所述第二刀片的衬底的阴刻图案内的填料干燥。

附图说明

图1为本实用新型的第一实施例的微细图案形成系统的示意的立体图；

图2为示意地表示图1的微细图案形成系统中的旋转填充部的图；

图3为示意地表示使用图1的微细图案形成系统的微细图案形成方法工序的图；

图4为本实用新型的第二实施例的微细图案形成系统的示意的立体图；

图5为示意地表示图4的微细图案形成系统中的振动施加部和旋转填充部的图；

图6为本实用新型的第三实施例的微细图案形成系统的示意的立体图；

图7为示意地表示使用图6的微细图案形成系统的微细图案形成方法工序的图；

图8为本实用新型的第四实施例的微细图案形成系统的示意的立体图；

图9为示意地表示使用图8的微细图案形成系统的微细图案形成方法工序的图。

具体实施方式

在进行本实用新型的说明之前需要说明的是，在多个实施例中，对具有相同结构 的结构要素使用相同的附图标记并在第一实施例中进行代表性的说明，并且在其他实施例中说明与第一实施例不同的结构。

下面，参照附图对本实用新型的第一实施例的微细图案形成系统100进行详细的说明。

图1为本实用新型的第一实施例的微细图案形成系统的示意的立体图。

参照图1说明如下。本实用新型的第一实施例的微细图案形成系统100涉及一种用于在形成于衬底10上的阴刻图案11的内部填充填料而最终制作微细图案P的系统，包括输送部110、供给部120、旋转填充部130和第一干燥部140。

所述输送部110为用于连续输送衬底10而构建直列系统的设备，包括多个常规的输送辊。构成输送部的这种输送辊为本领域中广为人知的结构，因此省略说明。

另一方面，在本实施例中，连续输送形成有阴刻图案11的状态的衬底10。

在此使用的衬底综合考虑形成阴刻图案11的方法等而决定，可使用聚酰亚胺(PI)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(polyethylene terephthalate，PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(polyethylenenaphthalate，PEN)、聚醚砜(PES)、尼龙(Nylon)、聚四氟乙烯(Polytetrafluoroethylene，PTFE)、聚醚醚酮(PEEK)、聚碳酸盐(PC)或聚芳酯(polyarylate，PAR)等透明衬底，也可使用表面经绝缘处理的金属制板材、不透明的塑胶胶片、不透明的玻璃或不透明的玻璃纤维材料等不透明的衬底。

所述供给部120为用于向通过输送部110被连续输送的衬底10上供给填料的构件。在本实施例中供给部120通过沿衬底10的宽度方向配置的喷嘴喷射填料，从而能够使填料喷射到衬底10的整个表面上。但是，供给部120不一定必须具备喷嘴，只要是能够在衬底10上喷射和涂敷填料的结构，就不受限制。

在本实施例中，以作为从供给部120喷射的填料使用具有优异的导电特性的油墨从而使最终形成的微细图案P能够形成电极图案的情况为例进行了说明，但填料材料并不限于此。

即，在本实施例中使用的填料作为导电金属组合物，为了提高向阴刻图案11内部的填充性，可使用能够溶解于溶剂中或者能够膨润，并且通过使用热或还原剂等的后处理工序中容易还原的金属络合物或者金属前体。

此外，也可将金属络合物或金属前体还原而制备金属粒子，并将其作为混合物来使用，除了这些混合物之外，也可根据需要包含溶剂、稳定剂、分散剂、粘合剂树脂 (binder resin)、离型剂、还原剂、表面活性剂(surfactant)、润湿剂(wetting agent)、触变剂(thixotropic agent)、均化剂或增粘剂等添加剂等。

图2为示意地表示图1的微细图案形成系统中的旋转填充部的图。

参照图2说明如下。所述旋转填充部130起到将被连续供给并被涂敷于衬底10的导电填料填充于阴刻图案内的作用，包括第一辊131和第二辊133。

所述第一辊131为沿着衬底10的宽度方向较长地设置，并且在与衬底10接触的状态下进行旋转，从而将填料引导至阴刻图案11内并进行填充的部件。

在第一辊131的外表面向外突出形成有第一填充图案132，所述第一填充图案132直接与衬底10接触并导向填料的流动，第一填充图案132为多个条纹状，具有与第一辊131的转轴构成斜线的形状。

此时，沿斜线方向形成的第一填充图案132的角度及与相邻的第一填充图案312之间的间隔优选综合考虑衬底10的输送速度、从供给部120供给的填料的粘性和阴刻图案11的深度等决定。

所述第二辊133配置在第一辊131和后述的第一干燥部140之间，沿衬底10的宽度方向较长地设置，与第一辊131同样地在与衬底10接触的状态下进行旋转，从而将填料强制地填充于衬底10的阴刻图案11内的设备。

在第二辊133的外表面上向外突出形成有第二填充图案134，所述第二填充图案134直接与衬底10接触并导向填料的流动，第二填充图案134为多个条纹状，围绕第二辊133的外周面并沿斜线方向形成。

此外，为了提高填料的整体填充效率，第二填充图案134形成为具有与第一填充图案132不同的方向。即，第一辊131所具备的第一填充图案132和第二辊133所具备的第二填充图案134与各自的转轴构成斜线，并且构成为互不平行的结构，具有不同方向的斜线。

另一方面，以上述本实施例的第一填充图案132和第二填充图案134在各辊的外周面上沿斜线方向形成为直线的情况为例进行了说明，但并不限于此，在本实施例的变形例中，各填充图案的形状可以沿各辊的外周面的斜线方向形成为曲线，也可为波纹线形状或锯齿形状的线条反复的结构。

此外，在本实施例的另一变形例中，各填充图案也可以不沿辊的斜线方向形成，而是沿与填充图案的转轴平行的方向具有直线、曲线、波纹线或锯齿状结构。不仅如 此，关于第一填充图案132和第二填充图案134，第一辊131及第二辊133的横截面形状也可具有四边形、菱形、棱镜形或具有规定的曲率的曲线形状，第一填充图案132和第二填充图案134可以不局限于上述形状，而可以形成为多种形状。

另一方面，在本实用新型的另一变形例中，在与旋转填充部130对应的衬底10的下部设置有支撑结构(未图示)，在工作时，能够在向上支撑被向下加压的旋转填充部130及衬底10的状态下，使工序稳定地进行。

此外，上述旋转填充部130的材料不受到限制，可由具有刚性的坚实的材料构成，也可由具有弹性的材料构成。

所述第一干燥部140为沿着衬底10的输送方向与第二辊133隔开，用于干燥在通过旋转填充部130的过程中被填充到衬底10的阴刻图案内的填料，从而形成最终的微细图案P的设备。

下面对使用上述微细图案形成系统100的第一实施例的微细图案形成方法S100进行说明。

图3为示意地表示使用图1的微细图案形成系统的微细图案形成方法工序的图。

参照图3，使用本实用新型的第一实施例的微细图案形成系统的微细图案形成方法S100包括衬底准备步骤(未图示)、填料供给步骤S110、旋转填充步骤S120和第一干燥步骤S130。

所述衬底准备步骤S110为在柔性(flexible)衬底10上形成微细线宽的阴刻图案11而准备衬底10，并且通过输送部110连续输送所准备的衬底10的步骤。

在本实施例中，在衬底10上形成槽形状的阴刻图案11时可使用利用压印工序的方法、利用激光直接蚀刻衬底的方法、利用光刻方式的方法等，在前述方法之外，也可在本领域中广为人知的工序中，优选考虑所要形成的阴刻图案11的线宽、深度等来决定。

所述填料供给步骤S110为通过供给部120将填料供给并涂敷于衬底10上的步骤。

所述旋转填充步骤S120为使用包括第一辊131和第二辊133的旋转填充部130，将在衬底10上比较均匀涂敷的状态下的填料填充于金属图案11内的步骤。

首先，对通过第一辊131进行的填充工序说明如下。与衬底10接触的状态下的第一辊131沿规定的方向旋转，其中所述衬底10在均匀涂敷有填料的状态下从供给部120被输送。

此时，在第一辊131的外表面上形成的斜线方向的第一填充图案132直接与衬底10接触并旋转，并且将涂敷于衬底10上的填料引导并填充于阴刻图案11内。

接下来，当通过第一辊131的衬底10通过第二辊133时，在第二辊133的外表面上形成的斜线方向的第二填充图案134与衬底10接触并旋转，并且将填料引导并填充于阴刻图案11内。

此时，由于第一填充图案132和第二填充图案134以彼此不同的方向的斜线形成，因此能够防止填料偏向于某一侧而被引导，整体上能够将填料均匀地填充于阴刻图案11内。

所述第一干燥步骤S130为在旋转填充步骤S120以后，使填充于阴刻图案11的填料干燥，从而最终形成微细图案P的步骤。

在第一干燥步骤S130中的干燥优选在80℃～400℃的温度下进行，但并不限于此。

另一方面，最终形成的微细图案P的填料厚度不受到限制，可为10μm以下，更加优选为0.1μm以上且5μm以下。

因此，根据本实施例，利用与连续输送的衬底10接触的旋转体的旋转转动，能够将涂敷于衬底10上的填料均匀而准确地引导并填充于阴刻图案11的内部，从而形成微细图案P。

接下来，说明本实用新型的第二实施例的微细图案形成系统200。

图4为本实用新型的第二实施例的微细图案形成系统的示意的立体图。

如图4所示，本实用新型的第二实施例的微细图案形成系统200涉及一种向形成在衬底10上的阴刻图案11内填充填料，从而最终形成微细图案P的系统，包括输送部110、供给部120、旋转填充部130、第一干燥部140和振动施加部250。

不过，所述输送部110、所述供给部120、所述旋转填充部130和所述第一干燥部140的结构与在第一实施例中所述的结构相同，因此省略重复说明。

图5为示意地表示图4的微细图案形成系统中的振动施加部和旋转填充部的图。

如图5所示，所述振动施加部250为用于施加驱动力，以使与衬底接触的旋转填充部130沿规定的方向振动。此时，旋转填充部130可沿衬底10的长度方向或宽度方向中的任一方向振动，也可沿长度方向及宽度方向复合振动，也可做圆周运动而振动。

下面，对使用本实用新型的第二实施例的微细图案形成系统的微细图案形成方法S200进行说明。

使用本实用新型的第二实施例的微细图案形成系统的微细图案形成方法S200包括衬底准备步骤、填料供给步骤S110、旋转填充步骤S120和第一干燥步骤S130，衬底准备步骤、填料供给步骤S110和第一干燥步骤S130与在第一实施例中所述的工序相同，因此省略重复说明。

在本实施例的旋转填充步骤S120中与第一实施例同样地使第一辊131和第二辊133旋转，从而将涂敷于衬底10上的填料填充于阴刻图案11内。与此同时，为了提高填料向阴刻图案11内的填充效率，在本实施例中，振动施加部250施加驱动力，以使旋转填充部130即第一辊131和第二辊133振动。

此时，第一辊131和第二辊133可在与衬底10接触的状态下以前后方向、左右方向或将这些方向复合的形式振动，至于振动方向、振幅、振动次数等，则综合考虑在衬底上形成的阴刻图案的深度、线宽和衬底的输送速度等决定。

因此，根据本实施例，旋转填充部130在旋转的同时沿规定的方向振动，于是能够进一步提高填料向阴刻图案11内的填充效率。

接下来，说明本实用新型的第三实施例的微细图案形成系统300。

图6为本实用新型的第三实施例的微细图案形成系统的示意的立体图。

参照图6说明如下。本实用新型的第三实施例的微细图案形成系统300涉及一种在衬底10上形成的阴刻图案11内填充填料，从而最终形成微细图案P的系统，包括输送部110、供给部120、旋转填充部130、第一刀片360和第一干燥部140，输送部110、供给部120、旋转填充部130和第一干燥部140与在第一实施例中所述的结构相同，因此省略重复说明。

所述第一刀片360配置在旋转填充部130和第一干燥部140之间，沿着衬底10的宽度方向较长地安装，用于向阴刻图案11内填充在通过旋转填充部130之后在衬底10上仍没有填充到阴刻图案11内而残留的填料的部件。

即，使用第一刀片360将未被旋转填充部130处理好的衬底10上的填料再次填充于阴刻图案11内。

下面，对使用本实用新型的第三实施例的微细图案形成系统300的微细图案形成方法S300进行说明。

图7为示意地表示使用图6的微细图案形成系统的微细图案形成方法工序的图。

参照图7说明如下。使用本实用新型的第三实施例的微细图案形成系统300的微 细图案形成方法S300包括衬底准备步骤、填料供给步骤S110、旋转填充步骤S120、第一填充步骤S340和第一干燥步骤S130，衬底准备步骤、填料供给步骤S110、旋转填充步骤S120和第一干燥步骤S130与第一实施例中所述的工序相同，因此省略重复说明。

在所述第一填充步骤S340中，使用第一刀片360将在旋转填充步骤S120中未完全处理而残留在衬底10上的填料填充于阴刻图案11内。因此在本实施例中，通过旋转填充部130的旋转转动，并且通过固定状态的第一刀片360反复进行填充工序，从而能够进一步提高填充效率。

接下来，说明本实用新型的第四实施例的微细图案形成系统400。

图8为本实用新型的第四实施例的微细图案形成系统的示意的立体图。

参照图8说明如下。本实用新型的第四实施例的微细图案形成系统400涉及一种在衬底10上形成的阴刻图案11内填充填料，从而最终形成微细图案P的系统，包括输送部110、供给部120、旋转填充部130、第一刀片360、第一干燥部140、蚀刻剂涂敷部470、第二刀片480和第二干燥部490，输送部110、供给部120、旋转填充部130、第一刀片360和第一干燥部140与在第一实施例至第三实施例中说明的结构相同，因此省略重复说明。

所述蚀刻剂涂敷部470设置在第一干燥部140的后端，所述蚀刻剂涂敷部470是为了执行将通过前述的旋转填充部130和第一刀片360之后仍然残留在衬底10上的填料最终填充的工序，涂敷蚀刻剂，从而使以干燥状态残留在衬底10上的填料溶解的结构。

在本实用新型中使用的蚀刻剂根据填充到阴刻图案11内的填料种类来决定，但优选使用氧化剂和能够溶解金属化合物的氨基甲酸铵系、碳酸铵系、碳酸氢铵系、羧酸系、内酯系、内酰胺系、环状酸酐系化合物、酸-碱盐复合物、酸-碱-醇复合物或巯基系化合物等蚀刻剂。

此外，为了有效地溶解未被填充到衬底的槽中的金属层，并且提高金属向微细的阴刻图案的再填充性，优选对上述蚀刻剂赋予亲水特性。优选调节蚀刻液化合物成分的碳原子数来调节亲水特性的程度。

所述第二刀片480设置在蚀刻剂涂敷部470的后端，所述第二刀片480是用于将 通过由蚀刻剂涂敷部470涂敷的蚀刻剂而溶解的填料最终填充于阴刻图案11内的结构。

所述第二干燥部490设置在第二刀片480的后端，所述第二干燥部490是用于使通过第二刀片480最终填充到阴刻图案11内的填料干燥，从而最终形成微细图案P的结构。

下面，对使用本实用新型的第四实施例的微细图案形成系统400的微细图案形成方法S400进行说明。

图9为示意地表示使用图8的微细图案形成系统的微细图案形成方法工序的图。

参照图9说明如下。使用本实用新型的第四实施例的微细图案形成系统400的微细图案形成方法S400包括衬底准备步骤、填料供给步骤S110、旋转填充步骤S120、第一填充步骤S340、第一干燥步骤S130、溶解步骤S450、第二填充步骤S460和第二干燥步骤S470，衬底准备步骤、填料供给步骤S110、旋转填充步骤S120、第一填充步骤S340和第一干燥步骤S130与在第一实施例至第三实施例中所述的工序相同，因此省略重复说明。

所述溶解步骤S450为通过蚀刻剂涂敷部470在衬底10上涂敷蚀刻剂，从而使未被填充到阴刻图案11内并且通过第一干燥部140干燥的在衬底10上的填料再次溶解的步骤。

即在本步骤中，使通过第一干燥部140干燥，从而失去流动性的在衬底10上残留的填料再次溶解，从而对该残留的填料重新赋予流动性，使之能够通过后述的第二填充步骤S460最终填充到阴刻图案11内。

所述第二填充步骤S460为使用第二刀片480将在溶解步骤S450中溶解的状态的在衬底10上的填料再次填充到阴刻图案11内的步骤。

在所述第二干燥步骤S470中，使在第二填充步骤S460中最终填充的阴刻图案11内的填料最终干燥，从而形成微细图案P。

因此，根据本实施例，通过反复执行使用第二刀片480的填料填充工序，能够提高填充效率及性能。

本实用新型的权利范围并不局限于上述实施例，而在所附的权利要求书中记载的范围内能够实现为多种形式的实施例。在不脱离权利要求书所要求保护的本实用新型精神的范围内，本领域技术人员均能变形的各种范围也应属于本实用新型的保护范围。

工业应用可行性

提供一种微细图案形成系统及微细图案形成方法，该系统及方法通过与衬底接触旋转的旋转体提高填料对微细线宽阴刻图案的填充效率，从而能够易于制作微细图案。

Claims (9)

1.一种微细图案形成系统，包括：

输送部，用于使用多个输送辊连续输送形成有阴刻图案的衬底；

供给部，用于在所述衬底的上部使用喷嘴向所述衬底供给填料；和

旋转填充部，沿所述衬底的输送方向设置在所述供给部的后方，在所述衬底的上部与所述衬底接触的状态下进行旋转，从而将被供给到所述衬底的填料填充到所述阴刻图案内，

其中，所述旋转填充部包括第一辊，所述第一辊沿所述衬底的宽度方向较长地配置，与所述衬底接触而将填料引导至阴刻图案内。

2.根据权利要求1所述的微细图案形成系统，其中，

进一步包括第一干燥部，所述第一干燥部沿所述衬底的输送方向配置在所述旋转填充部的后方，用于使填充在所述阴刻图案内的填料干燥。

3.根据权利要求2所述的微细图案形成系统，其中，

所述第一辊在外表面上具备第一填充图案，所述第一填充图案与转轴构成斜线而形成。

4.根据权利要求3所述的微细图案形成系统，其中，

所述旋转填充部进一步包括第二辊，所述第二辊沿所述衬底的输送方向设置在所述第一辊的后方，在外表面上具备第二填充图案并且旋转，使得在通过所述第一辊的衬底上残留的填料填充到阴刻图案内。

5.根据权利要求4所述的微细图案形成系统，其中，

所述第一填充图案和所述第二填充图案互不平行。

6.根据权利要求2所述的微细图案形成系统，其中，

进一步包括振动施加部，所述振动施加部用于使与所述衬底接触的状态的旋转填充部振动。

7.根据权利要求2至6中的任一项所述的微细图案形成系统，其中，

进一步包括第一刀片，所述第一刀片配置在所述旋转填充部和所述第一干燥部之间，与被输送的衬底接触，并将残留在所述衬底上的填料填充到所述阴刻图案内。

8.根据权利要求7所述的微细图案形成系统，其中，

进一步包括：

蚀刻剂涂敷部，沿所述衬底的输送方向设置在所述第一干燥部的后方，用于涂敷蚀刻剂，以使未被填充到阴刻图案内并在残留于衬底上的状态下干燥的填料溶解；

第二刀片，用于将在所述衬底上溶解的填料再次填充到阴刻图案内；和

第二干燥部，用于使通过所述第二刀片的衬底的阴刻图案内的填料干燥。

9.根据权利要求6所述的微细图案形成系统，其中，

所述振动施加部使所述旋转填充部沿所述衬底的长度方向或沿所述衬底的宽度方向振动。