KR101475568B1 - 비대칭성 중공사막의 제조방법 및 이에 의해 제조된 비대칭성 중공사막 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 삼중 구금을 사용하여 복합 중공사를 제막하는 방법으로 지지층은 열유도 상분리법(TIPS, thermally induced phase separation)을 이용하여 폴리비닐리덴플로라이드, 빈용매, 첨가제를 혼합하여 고분자 용액을 제조하고 코팅층은 비용매유도 상분리법(NIPS, non-solvent induced phase separation)을 이용하여 폴리비닐리덴플로라이드, 양용매, 빈용매, 첨가제를 혼합하여 고분자 용액을 제조한 후 삼중구금을 통해 두 종류의 고분자 용액을 동시에 토출하여 방사 공정 및 상전이 공정, 후처리 공정을 거쳐 비대칭성 중공사막을 제조하는 방법 및 이에 의해 제조된 바이러스 제거용으로 사용할 수 있는 비대칭성 중공사막에 관한 것이다.
Description
본 발명은 비대칭성 중공사막의 제조방법 및 이에 의해 제조된 비대칭성 중공사막에 관한 것으로, 보다 상세하게는 삼중 구금을 사용하여 복합 중공사를 제막하는 방법으로 지지층은 열유도 상분리법(TIPS, thermally induced phase separation)을 이용하여 폴리비닐리덴플로라이드, 빈용매, 첨가제를 혼합하여 고분자 용액을 제조하고 코팅층은 비용매유도 상분리법(NIPS, non-solvent induced phase separation)을 이용하여 폴리비닐리덴플로라이드, 양용매, 빈용매, 첨가제를 혼합하여 고분자 용액을 제조한 후 삼중구금을 통해 두 종류의 고분자 용액을 동시에 토출하여 방사 공정 및 상전이 공정, 후처리 공정을 거쳐 비대칭성 중공사막을 제조하는 방법 및 이에 의해 제조된 바이러스 제거용으로 사용할 수 있는 비대칭성 중공사막에 관한 것이다.
최근에 에너지 절약 및 환경보호를 주목적으로 하여 여러 응용분야에 걸쳐 다양한 분리막 및 이를 이용한 막분리 공정이 활발히 전개되고 있다. 특히 한외여과막 및 정밀여과막 등의 분리막은 수백나노미터에서 수십마이크로 미터 크기의 기공을 가지기 때문에 오폐수처리, 용수제조, 식품 및 의료공업 등을 포함한 여러 분야에 적용되고 있으며, 최근 먹는 물에 대한 관심이 증가함에 따라 그 활용이 점차 증가하고 있는 추세이다.
한편, 음료수 제조, 의약품 제조, 식품 공업 분야에서는 제조 공정 내에 바이러스 등의 병원체가 혼입되면 제조 라인이 오염되고, 제품 중에 바이러스 등의 병원체가 혼입되어 최종 소비자의 집단 감염을 야기할 위험이 있기 때문에, 제조 라인이나 제품에는 다양한 살균 기술이 적용되고 있다. 그 살균 방법으로서는 가열 처리나 염소 등의 화학 약품에 의한 처리를 들 수 있지만, 열 내성이나 약품 내성을 갖는 바이러스에는 효과가 희박하다. 따라서, 바이러스를 물리적으로 제거하는 방법으로서 분리막을 이용한 막 여과가 주목을 모으게 되었다. 막 여과에 의하면, 바이러스의 열적 성질이나 화학적 성질에 관계없이 바이러스를 크기에 따라 판별하여 분리 제거할 수 있다.
이와 같은 분리막에는 우수한 분리 성능, 화학적 강도(특히 내약품성), 물리적 강도, 및 투과 성능이 요구된다. 따라서, 화학적 강도(특히 내약품성)와 물리적 강도를 겸비하는 폴리불화비닐리덴계 수지를 이용한 분리막이 많은 분야에서 사용되게 되었다.
폴리불화비닐리덴계 수지를 이용하여 분리여과막을 제조하는 방법 중 열유도 상분리법(TIPS)은 고온에서 용해된 고분자 용액을 저온의 매체와 접촉시켜 액체-고체 상분리 및 고화가 발생함으로써 다공성 분리막을 달성하는 방법이며, 비용매유도 상분리법(NIPS)은 고분자를 용해시킬 수 있는 용매에 고분자를 용해시켜 용매와 비용매가 고분자 용액 내에서 상호교환이 이루어짐으로써 액체-고체 상분리 및 고화를 유도하여 다공성 분리막을 달성하는 방법이다. 비용매유도 상분리법은 보다 경제적으로 막을 제조할 수는 있으나, 기계적 강도가 충분하지 않은 문제가 있으며, 열유도 상 분리법은 균질한 고강도 막을 얻을 수 있지만, 매크로보이드가 형성되고 핀홀과 같은 결함이 생길 가능성이 있다.
폴리불화비닐리덴계 수지를 이용하여 분리여과막으로 제조한 종래의 예로, 대한민국 특허공개 제10-2010-0007245호에는 중공사 제막시 삼중 구금을 이용하여 중공사 표면에 분리활성층을 도입하여 제조하는 방법이 개시되어 있다. 그러나 이러한 방법은 종래의 TIPS를 이용한 중공사막에 비하여 높은 저지율은 지닐 수 있으나 표면의 기공 사이즈 제어가 힘든 문제점과 순수투과수량이 적은 단점이 있다.
특히, 바이러스 제거의 경우에는 얇은 치밀층에 핀홀이나 균열과 같은 결점이 존재하면, 바이러스가 이 결점으로부터 거대 공극(macrovoid)을 통과하여 뒤로 빠지므로, 바이러스를 완전히 제거할 수 없다는 문제점이 있다. 따라서, 핀홀이나 균열이 생기더라도 바이러스가 뒤로 빠지지 않기 위해서는, 분리막이 거대 공극을 포함하지 않는 치밀층을 갖고 있거나, 또는 거대 공극을 갖고 있더라도 치밀층의 막 두께에 대하여 충분히 작은 거대 공극일 것이 요구된다.
또한 종래 기술에 있어서는, 바이러스 제거가 가능한 정도의 표면 공경 및 막 두께를 가지면서, 거대 공극을 포함하지 않는 치밀층을 형성시킨 분리막의 경우, 실용적인 물리적 강도가 되는 막 두께로 하면 투수 성능이 현저히 저하되고, 반대로 실용적인 투수성능으로 하면 물리적 강도가 현저히 저하된다는 문제점이 있어, 물리적 강도와 투수성능을 함께 실용화 가능한 수준으로 하는 것이 곤란한 문제점이 있었다.
본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 하나의 목적은 TIPS와 NIPS를 이용하여 화학적 강도와 물리적 강도를 겸비하고 내구성을 구비한 구상 구조층과 거대 공극을 함유하지 않는 스폰지 구조층을 가짐으로써 바이러스 제거용 여과막으로 사용할 수 있는 비대칭성 중공사막의 제조방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 하나의 목적은 상기와 같은 본 발명에 따른 비대칭성 중공사막의 제조방법을 이용하여 제조되는 비대칭성 중공사막을 제공하는 것이다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 하나의 양상은, 삼중 구금을 사용하여 비대칭성 중공사막을 제조하는 방법으로서 상기 방법은 상중 구금의 내부 노즐로 중공형성제를 토출시키고, 외부 노즐로 코팅층을 형성하는 고분자 용액을 토출시키며, 내부와 외부 사이의 노즐로 지지층을 형성하는 고분자 용액을 토출시키는 비대칭성 중공사막의 제조방법에 관한 것이다.
본 발명의 일 구현예에 따른 비대칭성 중공사막의 제조방법에 있어서, 상기 방법은 지지층이 열유도 상분리법(TIPS)에 의해 상분리가 일어나며, 코팅층이 비용매유도 상분리법(NIPS)에 의해 상분리가 일어나는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 일 구현예에 따른 비대칭성 중공사막의 제조방법에 있어서, 상기 지지층을 형성하는 고분자 용액은 폴리비닐리덴플로라이드, 빈용매 및 첨가제를 포함하며, 코팅층을 형성하는 고분자 용액은 폴리비닐리덴플로라이드, 양용매, 빈용매 및 첨가제를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 일 구현예에 따른 비대칭성 중공사막의 제조방법에 있어서, 상기 지지층을 형성하는 고분자 용액은 폴리비닐리덴플로라이드 25~44 중량%, 빈용매 55~70 중량%, 첨가제 1~10 중량%를 포함하며, 코팅층을 형성하는 고분자 용액은 폴리비닐리덴플로라이드 10~20 중량%, 양용매 40~70 중량%, 빈용매 10~40 중량%, 첨가제 0.1~10 중량%를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 일 구현예에 따른 비대칭성 중공사막의 제조방법은, 코팅층을 형성하는 고분자 용액의 양용매로서 트리에틸포스페이트(TEP)를 사용하는 것을 특징으로 한다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 또 하나의 양상은, 상기와 같은 본 발명의 방법에 의해 제조되는 비대칭성 중공사막에 관한 것이다.
본 발명의 일 구현예에 따른 상기 비대칭성 중공사막은, 내부 지지층과 외부 코팅층을 가지는 중공사로 이루어지며, 상기 지지층은 평균직경 0.1 내지 5 ㎛ 범위의 구상형 고형분으로 이루어진 구상 구조의 층이며, 상기 코팅층은 직경 5 ㎛의 거대공극을 실질적으로 함유하지 않는 스폰지 구조층인 것을 특징으로 한다.
본 발명의 일 구현예에 따른 상기 비대칭성 중공사막은, 상기 스폰지 구조층의 두께가 30 내지 100 ㎛ 범위인 것을 특징으로 한다.
본 발명의 일 구현예에 따른 상기 비대칭성 중공사막은, 분자량 7.5만의 덱스트란 제거율이 80% 이상으로 표시되는 여과성능을 갖는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 비대칭성 중공사막의 제조방법은 TIPS와 NIPS를 이용하여 고강도, 고투수성의 기공제어가 용이한 중공사막을 제막할 수 있으며 삼중구금을 통해 지지층과 코팅층 용액을 동시에 방사함으로써 중공사를 제막한 후에도 균일한 두께를 지니고 코팅층이 박리가 되지 않는 비대칭성 중공사막을 제조할 수 있는 효과가 있다.
특히 본 발명의 제조방법에 의해 제조된 비대칭성 중공사막은, 코팅층을 형성하는 고분자 용액의 양용매로서 트리메틸포스페이트(TEP)를 사용함으로써 코팅층이 거대 공극을 함유하지 않는 하는 스폰지 구조층으로 이루어지며, 지지층이 물리적 강도와 화학적 강도를 겸비하며 내구성을 구비한 구상 구조층으로 이루어짐으로서 바이러스 제거성, 투수 성능, 화학적 강도, 물리적 강도, 내오염성의 여러 성능이 우수하고, 신뢰성이 높은 바이러스 제거용 여과막으로서 장기간 사용이 가능한 효과가 있다.
이하, 본 발명의 바람직한 구현예에 대하여 실시예 등을 참조하여 더욱 상세히 설명한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지의 범용적인 기능 또는 구성에 대한 상세한 설명은 생략한다.
본 발명은 삼중 구금을 사용하여 비대칭성 중공사막을 제조하는 방법으로서 상기 방법은 상중 구금의 내부 노즐로 중공형성제를 토출시키고, 외부 노즐로 코팅층을 형성하는 고분자 용액을 토출시키며, 내부와 외부 사이의 노즐로 지지층을 형성하는 고분자 용액을 토출시키는 비대칭성 중공사막의 제조방법에 관한 것이다.
이하에서, 본 발명의 중공사 분리막의 제조공정을 더욱 상세하게 설명한다.
지지층을 형성하는 고분자 용액의 제조공정 ;
본 발명의 일 구현예에 따른 비대칭성 중공사막의 제조방법에 있어서, 지지층을 형성하는 고분자 용액은 폴리비닐리덴플로라이드, 빈용매 및 첨가제를 포함한다. 이때 각 성분의 함량비는 폴리비닐리덴플로라이드 25~44 중량%, 빈용매 55~70 중량%, 첨가제 1~10 중량%로 이루어지는 것이 바람직하다.
본 발명에서 중공사막을 형성하는 폴리비닐리덴플루오라이드 고분자는 중량평균 분자량 100,000 달톤 내지 700,000만 달톤으로, 단독 혹은 2종이상 혼합물로 구성될 수 있다. 본 발명의 제조방법에서 빈용매로는 감마-부티로락톤(γ-butyrolactone), 디메틸프탈산(Dimethyl phthalate), 디부틸프탈산(Dibutyl phthalate), 디옥틸프탈산(Dioctyl phthalate), 사이클로헥사논(Cyclohexanone) 등을 사용할 수 있으며, 바람직하게는 감마-부티로락톤을 사용하는 것이 좋다.
첨가제의 구체적인 예로는 중량평균분자량 15,000달톤 내지 90,000달톤의 폴리비닐피롤리돈, 중량평균분자량이 200 내지 20,000 달톤의 폴리에틸렌글리콜, 폴리비닐알콜, 및 무수말레인산, 계면활성제 등 물에 쉽게 용해되는 친수성 고분자 혹은 유기물로서 단독 혹은 2종이상 혼합물로서 폴리비닐리덴플루오라이드 고분자 용액에 첨가하여 사용할 수 있으며, 바람직하게는 폴리비닐피롤리돈을 사용하는 것이 좋다. 이러한 폴리비닐피롤리돈, 폴리에틸렌글리콜, 폴리비닐알콜, 및 무수말레인산, 계면활성제는 기핵제로 작용하여 작은 기공을 다수 형성하여 강도 및 투수량을 향상시키는 역할을 한다.
본 발명에서 지지층 형성용 고분자용액은 섭씨 120 내지 200도에서 제조되는 것이 바람직하고, 또한 용액 중에 존재하는 기포를 제거하기 위하여 반드시 탈포공정으로 거쳐야 한다. 일반적으로 섭씨 120도 이하의 온도에서 고화되어 중공사막을 형성하거나, 섭씨 120도 이하인 비용매와의 접촉시 상분리에 의하여 중공사 분리막이 형성된다. 따라서, 폴리비닐리덴플루오라이드 중공사막의 제조를 위해 적어도 섭씨 120 도 이상, 바람직하게는 섭씨 130 내지 180 도의 온도를 유지하는 방사 노즐을 통해 고분자용액을 응고액으로 토출시키는 것이 바람직하다.
코팅층을 형성하는 고분자 용액의 제조공정 ;
본 발명의 일 구현예에 따른 비대칭성 중공사막의 제조방법에 있어서, 코팅층을 형성하는 고분자 용액은 폴리비닐리덴플로라이드, 양용매, 빈용매 및 첨가제를 포함한다. 이때 각 성분의 함량비는 폴리비닐리덴플로라이드 10~20 중량%, 양용매 40~70 중량%, 빈용매 10~40 중량%, 첨가제 0.1~10 중량%를 사용하는 것이 바람직하다.
일반적으로 폴리비닐리덴플로라이드 수지계 양용매로는 메틸피롤리돈(N,N-methyl-2-pyrrolidone), 디메틸술폭시드(Dimethylsulfoxide), 디메틸아세트아미드(Dimethylacetamide), 디메틸포름아미드(Dimethylformamide), 아세톤(Acetone) 등이 알려져 있다. 그러나 메틸피롤리돈 또는 디메틸아세트아미드를 코팅층의 양용매로 사용하는 경우에는 거대 공극이 발생하는 경우가 많다. 따라서 본 발명에 따른 제조방법에서는 거대 공극의 발생을 제어하기 위하여 코팅층의 양용매로서 트리에틸포스페이트(TEP)를 사용하는 것이 바람직하다.
한편 빈용매에 대하여는 전술한 바와 같다.
코팅층을 형성하는 고분자 용액은 첨가제로 리튬 클로라이드, 폴리비닐피롤리돈, 아세틸레이티드메틸셀룰로오스 등을 사용할 수 있으나 반드시 이에 한정되는 것은 아니며 목적에 따라 적절한 첨가제를 선택하여 사용할 수 있다.
중공형성제
제조공정;
중공형성제는 비용매로서 물 또는 에틸렌글리콜을 주로 사용하고, 혼합시 혼합 양용매로서 디메틸 피롤리돈 혹은 디메틸아세테이트, 디메틸포름아미드, 디메틸설퍼옥사이드 등을 상온에서 비용매에 대한 양용매의 비를 2대 8 내지 8대 2로 상온에서 제조하여 탈포하고, 삼중방사노즐로 이송시 온도는 섭씨 1도 내지 80도를 유지한다.
중공사막의 제조;
본 발명에서는 상기에서 제조된 지지층을 형성하는 고분자 용액, 코팅층을 형성하는 고분자 용액 및 중공형성제를 삼중 구금을 이용하여 응고액으로 동시에 토출하여 구상 구조의 지지층 및 다수의 기공을 포함하는 코팅층을 갖는 중공사 막을 제조한다. 이때, 상중 구금의 내부 노즐로는 중공형성제를 토출시키고, 외부 노즐로는 코팅층을 형성하는 고분자 용액을 토출시키며, 내부와 외부 사이의 노즐로는 지지층을 형성하는 고분자 용액을 토출시키게 된다.
본 발명에서 사용하는 응고액은 비용매인 순수한 물 또는 일정량의 양용매를 함유한 비용매로 구성되며, 방사용액이 방사되면서 내부에서 접촉하는 중공형성제에 의해 내부에는 거대 기공을 갖는 내부 표면이 형성되기 시작한다.
이와 같이 본 발명에 따른 비대칭성 중공사막의 제조방법은 지지층은 TIPS를 이용하고 코팅층은 NIPS를 이용하여 상분리를 시킴으로써, 고강도, 고투수성의 기공제어가 용이한 중공사막을 제막할 수 있다. 특히 삼중 구금을 통해 지지층과 코팅층 용액을 동시에 방사함으로써 중공사를 제막한 후에도 균일한 두께를 지니고 코팅층이 박리가 되지 않는 비대칭성 중공사막을 제조할 수 있게 된다.
세척과정;
또한, 본 발명에서는 응고액으로부터 대기중으로 이송된 중공사막의 막내외에 잔존하는 용매를 포함한 유기물을 제거하기 위해 세척과정을 더욱 포함할 수 있다. 세척액으로 물의 사용이 바람직하며, 세척시간은 특별히 한정되지는 않으나, 적어도 1일 이상, 5일 이하가 바람직하다.
본 발명의 또 하나의 양상은, 상기와 같은 본 발명의 방법에 의해 제조되는 비대칭성 중공사막에 관한 것이다.
상기와 같은 본 발명의 제조방법에 의해 제조된 비대칭성 중공사막은, 코팅층을 형성하는 고분자 용액의 양용매로서 트리에틸포스페이트(TEP)를 사용함으로써 코팅층이 거대 공극을 함유하지 않는 하는 스폰지 구조층으로 이루어진다. 또한 지지층은 열유도 상분리법에 의해 물리적 강도와 화학적 강도를 겸비하며 내구성을 구비한 구상 구조층으로 이루어지게 된다.
본 발명에 따른 상기 비대칭성 중공사막에 있어서, 상기 구상 구조층은 평균직경 0.1 내지 5 ㎛ 범위의 구상형 고형분으로 이루어지며, 상기 스폰지 구조층은 직경 5 ㎛의 거대공극을 실질적으로 함유하지 않는 층으로 이루어질 수 있다. 상기 스폰지 구조층은 두께가 30 내지 100 ㎛ 범위인 것이 바람직하다. 스폰지 구조층의 두께가 30 ㎛ 이하이면 너무 얇아 벗겨지기 쉽고 스폰지 구조층의 두께가 100 ㎛ 이상이면 너무 두꺼워 투수량이 떨어지는 것이 단점이다.
본 발명의 일 구현예에 따른 상기 비대칭성 중공사막은, 분자량 7.5만의 덱스트란 제거율이 80% 이상으로 표시되는 여과성능을 가지며, 바이러스 제거성, 투수 성능, 화학적 강도, 물리적 강도, 내오염성의 여러 성능이 우수하고, 신뢰성이 높은 바이러스 제거용 여과막으로서 장기간 사용이 가능한 효과가 있다.
이하에서 실시예를 통하여 본 발명을 구체적으로 설명하기로 한다. 그러나 하기의 실시예는 오로지 본 발명을 구체적으로 설명하기 위한 것으로 이들 실시예에 의해 본 발명의 범위를 한정하는 것은 아니다.
실시예
폴리불화비닐리덴 비대칭 중공사막을 제조하기 위하여, 열유도 상분리법을 이용하여 지지층을 제조하고, 비용매 상분리법을 이용하여 코팅층을 제조하는데 있어서,
상기 지지층은 빈용매인 감마-부티로락톤 57 중량%를 용해조에 장입하고 섭씨 50도로 가온한 후, 유기 첨가제인 무게 평균분자량이 19,000 달톤인 폴리비닐피롤리돈을 3 중량%를 첨가하여 섭씨 150도까지 가온한 후 40 중량%의 중량 평균 분자량 440,000 달톤인 폴리불화비닐리덴 고분자를 서서히 첨가한 후 섭씨 180도까지 승온하여 균일한 방사 용액을 제조하였다.
상기 코팅층은 양용매인 트리에틸포스페이트 45 중량%와 빈용매인 감마부티로락톤 30 중량%, 첨가제로 리튬 클로라이드 3 중량%와, 폴리비닐피롤리돈 4 중량%와 및 아세틸레이티드메틸셀룰로오스 1 중량%를 첨가한 후 섭씨 60 도로 가온한 후 17 중량%의 폴리불화비닐리덴 고분자를 서서히 첨가하여 방사용액을 제조하였다.
이어서 지지층 형성용 방사용액은 섭씨 150도의 삼중 구금의 중간노즐로 흘려보내고, 내부에는 디메틸아세테이트와 물이 6대 4로 혼합된 상온의 중공형성제를 흘려서 중공이 형성되도록 하였으며, 바깥으로는 코팅층 형성용 방사용액을 섭씨 5도로 흘려보냈다. 상기 세 용액은 모두 섭씨 5도의 물로 이루어진 응고조로 방사되어 최종적으로 고화되었다.
제조된 중공사막은 내경 0.7 밀리미터이고 외부직경이 1.3 밀리미터였으며, 인장강도가 단위 중공사막당 1,250 그램이었고, 신도는 45 퍼센트였다. 50 킬로 파스칼의 막투과 압력 및 섭씨 25도에서 투과수 플럭스는 단위시간 단위면적당 400 리터였다. 100 나노미터의 폴리스티렌 입자의 저지율은 99 퍼센트였다.
이상에서 본 발명의 바람직한 구현예를 들어 본 발명을 상세하게 설명하였으나 본 발명은 상술한 구현예에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에서 본 발명이 속하는 기술분야의 당업자에 의해 많은 변형이 가능함은 자명할 것이다.
Claims (7)
- 삼중 구금을 사용하여 비대칭성 중공사막을 제조하는 방법으로서,
상기 방법은 삼중 구금의 내부 노즐로 중공형성제를 토출시키고, 외부 노즐로 코팅층을 형성하는 고분자 용액을 토출시키며, 내부와 외부 사이의 노즐로 지지층을 형성하는 고분자 용액을 토출시키되,
상기 지지층을 형성하는 고분자 용액은 폴리비닐리덴플로라이드, 빈용매 및 첨가제를 포함하며, 코팅층을 형성하는 고분자 용액은 폴리비닐리덴플로라이드, 양용매, 빈용매 및 첨가제를 포함하며,
상기 코팅층을 형성하는 고분자 용액의 양용매로는 트리에틸포스페이트(TEP)를 사용하는 것을 특징으로 하는 비대칭성 중공사막의 제조방법. - 제1항에 있어서, 상기 방법은 지지층이 열유도 상분리법(TIPS)에 의해 상분리가 일어나며, 코팅층이 비용매유도 상분리법(NIPS)에 의해 상분리가 일어나는 것을 특징으로 하는 비대칭성 중공사막의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 지지층을 형성하는 고분자 용액은 폴리비닐리덴플로라이드 25~44 중량%, 빈용매 55~70 중량%, 첨가제 1~10 중량%를 포함하며, 코팅층을 형성하는 고분자 용액은 폴리비닐리덴플로라이드 10~20 중량%, 양용매 40~70 중량%, 빈용매 10~40 중량%, 첨가제 0.1~10 중량%를 포함하는 것을 특징으로 하는 비대칭성 중공사막의 제조방법.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항의 방법에 의해 제조되는 것을 특징으로 하는 비대칭성 중공사막.
- 제4항에 있어서, 상기 비대칭성 중공사막은 내부 지지층과 외부 코팅층을 가지는 중공사로 이루어지며, 상기 지지층은 평균직경 0.1 내지 5 ㎛ 범위의 구상형 고형분으로 이루어진 구상 구조의 층이며, 상기 코팅층은 직경 5 ㎛의 거대공극을 실질적으로 함유하지 않는 스폰지 구조층인 것을 특징으로 하는 비대칭성 중공사막.
- 제5항에 있어서, 상기 스폰지 구조층은 그 두께가 30 내지 100 ㎛ 범위인 것을 특징으로 하는 비대칭성 중공사막.
- 제4항에 있어서, 상기 비대칭성 중공사막은 분자량 7.5만의 덱스트란 제거율이 80% 이상으로 표시되는 여과성능을 갖는 것을 특징으로 하는 비대칭성 중공사막.
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